CN115775487A - 在至少部分透明的物体中构建防伪标记的方法以及包含防伪标记的至少部分透明的物体 - Google Patents
在至少部分透明的物体中构建防伪标记的方法以及包含防伪标记的至少部分透明的物体 Download PDFInfo
- Publication number
- CN115775487A CN115775487A CN202211087692.9A CN202211087692A CN115775487A CN 115775487 A CN115775487 A CN 115775487A CN 202211087692 A CN202211087692 A CN 202211087692A CN 115775487 A CN115775487 A CN 115775487A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- partially transparent
- transparent object
- top surface
- shutter
- built
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 53
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 23
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 47
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 40
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 37
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 8
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims description 8
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims description 6
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 6
- 238000012216 screening Methods 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002181 crystalline organic material Substances 0.000 claims description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 claims description 3
- 239000010979 ruby Substances 0.000 claims description 3
- 229910001750 ruby Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 claims description 3
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 17
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 17
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 229940127554 medical product Drugs 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229940043397 deconex Drugs 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M3/00—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
- B41M3/14—Security printing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/0055—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by ion implantation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/006—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by plasma or corona discharge
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/008—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments comprising a lixiviation step
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D1/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0641—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/34—Nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/513—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using plasma jets
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B39/00—Watch crystals; Fastening or sealing of crystals; Clock glasses
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B39/00—Watch crystals; Fastening or sealing of crystals; Clock glasses
- G04B39/002—Watch crystals; Fastening or sealing of crystals; Clock glasses made of glass
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04D—APPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
- G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
- G04D3/0069—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for working with non-mechanical means, e.g. chemical, electrochemical, metallising, vapourising; with electron beams, laser beams
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
Abstract
本发明涉及在由至少部分透明的无定形、半结晶或结晶材料制成的物体(1)的厚度中构建防伪标记(18)的方法，物体(1)包括顶表面(2)和与顶表面(2)相距一定距离的底表面(4)，此方法包括以下连续步骤：得到裸露的至少部分透明的物体(1)；向物体(1)的顶表面(2)或底表面(4)之一提供界定至少一个开口(8)的遮蔽体(6)，此开口的轮廓对应于待构建的防伪标记(18)外形，遮蔽体(6)覆盖在此物体中不需要构建图案的区域的表面；用单电荷或多电荷态离子束(14)经由遮蔽体(6)的至少一个开口(8)轰击物体(1)以构建防伪标记(18)，遮蔽体(6)的机械性能足以防止离子束(14)的离子蚀刻在物体(1)表面(2)中已被遮蔽体(6)覆盖的区域的表面；去除遮蔽体(6)；将此物体置于具有碱性pH的浴(16)中。
Description
技术领域
本发明涉及在至少部分透明的物体中构建具有技术或装饰功能的图案的方法。本发明特别涉及使用单电荷或多电荷态离子束进行的这种构建方法。更具体而言，本发明涉及在由至少部分透明的无定形、半结晶或结晶材料制成的物体中构建图案的方法。
背景技术
特别在钟表制造行业的领域中，抵制假冒品是日益增长的需求。因此，标记技术是在抵制假冒品方面有价值的技术。关于在钟表制造领域中的防伪标记，用于标记的技术与用于读取这些标记的技术相差两个级别：实际上，必须能成功地区分真品和假冒品。
第一个防伪标记级别对应于任何人在不需要使用任何读取装置的情况下就能确认的标记。虽然这种防伪标记可以被任何人识别，但是这些标记、例如全息图像起到警示作用，因为它们的复制是复杂的。这些防伪标记也可以对使用它们的物体的美观性产生影响。级别1的防伪标记通常可以用肉眼识别。但是，这种防伪标记可以涉及其他感觉，例如触觉，例如浮凸印刷品。
第二个标记级别对应于仅能用读取装置识别的标记。有两种可能的选择：标记，例如条形码，是肉眼可见的，但是其解码需要读取器。这些标记可以用于标记单独的批次、产品和包含许多其它信息项目。或者，这些标记是不可见的。在这种情况下，这种标记仅仅能用读取装置显示，例如采用在光波长下起作用的红外线或紫外线。
互相矛盾的是，可看见或容易看见的防伪标记的重新确认性可能被假冒者所利用，这会影响消费者的信任。已经报道包含全息图像的假冒医用产品的销售好于不含全息图像的原始医用产品的情况。可由消费者在不需要读取装置的帮助下识别的防伪标记的主要缺点是可能立即确认要假冒的产品。由此，假冒者能容易地用其产品模仿原产品。也可能存在问题的是在不损害美观性的同时将可见的防伪标记固定于物体上。肉眼不可见的防伪标记本身更难以被假冒，因为假冒者需要首先确认在物体上是否存在防伪标记。但是，制造这些标记的方法通常是耗时且昂贵的。此外，为了显示存在这种肉眼不可见的标记，在大多数情况下通常必须配备特定的解码器。所以，这有时可能需要可观的投资，特别是在期望检测来自不同制造者和使用互相不同的防伪标记技术的物体的情况下。所以，通常在大多数情况下无法保证在期望确保指定产品的真实性时能具备合适的解码器。
发明内容
本发明的目的是提供可靠且可重现的用于在至少部分透明的物体中构建(structuring)防伪标记的方法。
为此目的，本发明涉及在由至少部分透明的无定形、半结晶或结晶材料制成的物体的厚度中构建防伪标记的方法，所述至少部分透明的物体包括顶表面和在与所述顶表面相距一定距离处延伸的底表面，此方法包括以下连续步骤：
-得到裸露的至少部分透明的物体；
-向所述至少部分透明的物体的顶表面或底表面之一提供界定至少一个开口的遮蔽体，其中所述开口的轮廓对应于待构建的防伪标记的外形，所述遮蔽体覆盖在所述至少部分透明的物体中不需要构建图案的区域的表面；
-通过用单电荷或多电荷态离子束经由遮蔽体的至少一个开口轰击至少部分透明的物体而构建防伪标记，所述遮蔽体的机械性能足以防止来自离子束的离子蚀刻在至少部分透明的物体中已被遮蔽体覆盖的区域的表面；
-去除遮蔽体；
-将至少部分透明的物体置于具有碱性pH的浴中。
基于这些特征，本发明提供用于在至少部分透明的物体的厚度中形成防伪标记的方法，此方法是可靠且可重现的。这种不能被肉眼感知的标记可以非常简单地通过用宽谱光源照射来显示，例如发光二极管类型的光源。实际上，通过遵循本发明方法的步骤，获得了至少部分透明的物体，在其中已构建防伪标记的区域中显示反射率的变化，虽然这种变化非常小，但是足以使得在照射时能检测到所述防伪标记。所以，本发明的优点之一是不需要使用特定的和通常昂贵的装置就能确保如本发明所述标记的物体的真实性。仅仅普通的市售宽谱光源就已足够。此外，通过本发明方法获得的防伪标记是防篡改的。例如在由蓝宝石制成的手表玻璃(watch crystal)中构建这种标记的情况下，改变此标记的唯一方式是使用钻石糊料抛光此玻璃或熔化此玻璃。
根据本发明方法的一个具体实施方案，在所述物体的顶表面或底表面的至少一个上沉积至少一个防反射涂层。
根据本发明方法的另一个具体实施方案，所述至少部分透明的物体是由蓝宝石、红宝石或钻石制成，优选由合成的材料制成。
根据本发明方法的另一个具体实施方案，所述至少部分透明的物体是由半结晶有机材料制成。
根据本发明方法的另一个具体实施方案，所述至少部分透明的物体是由矿物玻璃或无定形有机材料制成。
根据本发明方法的另一个具体实施方案，所述至少部分透明的物体经过预先洗涤。
根据本发明方法的另一个具体实施方案，所述单电荷或多电荷态离子束是通过ECR电子回旋共振类型的单电荷或多电荷态离子源而产生。
根据本发明方法的另一个具体实施方案，所述至少部分透明的物体是使用氮N、氧O、氦He、碳C、氩Ar、氙Xe、四氟化碳CF4或甲烷CH4的离子进行轰击。
根据本发明方法的另一个具体实施方案，所述离子在10kV至40kV的电压下进行加速，并且离子注入剂量是3·1016至6·1016个离子/cm2。
根据本发明方法的另一个具体实施方案，所述至少部分透明的物体是使用在28kV电压下加速1.53s/cm2时间的氮N离子进行轰击，离子注入剂量是3.5·1016个离子/cm2，并且离子束强度是5.5mA。
根据本发明方法的另一个具体实施方案，所述遮蔽体是片状材料，其中已经空余出防伪标记的轮廓，随后将此片状材料固定到至少部分透明的物体的待构建图案的顶表面上。
根据本发明方法的其它具体实施方案：
-沉积在所述至少部分透明的物体的表面上的遮蔽体是通过金属镀敷形成的金属涂层；
-所述金属镀敷是通过气相沉积经由以下技术之一进行：物理气相沉积(PVD)，化学气相沉积(CVD)，等离子体增强化学气相沉积；
-所述金属涂层是氮化铬CrN的涂层，其厚度为1至1500nm；
-在金属涂层中通过光刻法布置至少一个开口，所述开口的轮廓对应于在至少部分透明的物体中待构建的防伪标记的外形。
根据本发明方法的另一个具体实施方案，所述至少部分透明的物体是手表玻璃。
附图说明
下面参考附图通过本发明方法的一个实施方案示例的详细描述进一步阐明本发明的其它特征和优点，此示例仅仅用于说明目的，且不起任何限制作用，在附图中：
-图1是手表玻璃的剖面图，在其顶表面上沉积遮蔽性涂层；
-图2是如图1所示的手表玻璃的剖面图，其中遮蔽性涂层被光敏性树脂涂层覆盖；
-图3是如图2所示的手表玻璃的剖面图，其中光敏性树脂涂层暴露于光，此光敏性树脂涂层的仅仅一部分暴露于光聚合；
-图4是如图3所示的手表玻璃的剖面图，其中显示光敏性树脂涂层的显影，此光敏性树脂涂层的仅仅暴露于光的部分保留下来，而未暴露于光的部分已被去除；
-图5是如图4所示的手表玻璃的剖面图，其中在遮蔽性涂层中的没有被已暴露于光的光敏性树脂涂层所覆盖的那些部分被去除；
-图6是如图5所示的手表玻璃的剖面图，其中光敏性树脂涂层的剩余部分进而被去除，其中手表玻璃的顶表面被遮蔽性涂层的区域覆盖，这形成遮蔽体，其中开口的轮廓对应于要在手表玻璃的厚度中构建的防伪标记的外形；
-图7是如图6所示的手表玻璃的剖面图，其中通过用离子束经由遮蔽体的开口轰击手表玻璃而形成手表玻璃的防伪标记；
-图8是如图7所示的手表玻璃的剖面图，其中将手表玻璃置于具有碱性pH的浴中；
-图9显示使用光源检测防伪标记；
-图10是手表玻璃的剖面图，在其前表面和后表面上已经沉积防反射涂层。
具体实施方式
本发明基于总体的发明概念，这包括对至少部分透明的物体进行防伪标记的方法，此方法能毫无困难地整合到大规模生产循环中。此外，通过本发明方法构建的标记是肉眼不可见的，并可以由任何人可获得的宽谱光源检测到。所以，根据本发明标记的物体的真实性不需要通过特定的解码器来识别，解码器通常是昂贵的，并且要实施观测的场所并不总能确保配备解码器。相似地，根据本发明获得的防伪标记基本上是不能改变的，去除这些标记的唯一方式通常是破坏被标记的物体。
在以下示例中，描述根据本发明方法在蓝宝石手表玻璃中构建防伪标记的方法。显然，此示例仅仅用于说明目的，不起任何限制作用，并且本发明方法可以应用于标记任何由无定形、半结晶或结晶材料制成的至少部分透明的物体。
在整体上由通用参考符号1表示由蓝宝石制成的手表玻璃，其包括顶表面2和在与顶表面2相距一定距离处延伸的底表面4。在此附图所示的示例中，在手表玻璃1的顶表面2中形成防伪标记。显然，此防伪标记同样能在手表玻璃1的底表面4中形成。
在得到这种手表玻璃1之后，先向其顶表面2配置遮蔽体6，遮蔽体6将界定至少一个开口8，所述开口的轮廓将对应于要在手表玻璃1的厚度中构建的防伪标记的外形。根据本发明的第一个实施方案(在附图中未显示)，遮蔽体6是单独的片状材料，其中已经空余出防伪标记的轮廓，随后将此片状材料固定到手表玻璃1的顶表面2上。
根据本发明方法的一个优选实施方案，遮蔽体6是通过直接在手表玻璃1的顶表面2上进行光刻蚀而形成。为此目的，先用由形成遮蔽体6所需的材料的遮蔽性涂层10覆盖手表玻璃1的顶表面2(参见图1)。遮蔽性涂层10的厚度优选是1至1500nm，遮蔽性涂层10可以通过金属材料的气相沉积来制备，例如氮化铬CrxNy，例如CrN，这通过以下技术之一进行：物理气相沉积或PVD，化学气相沉积或CVD，或等离子体增强化学气相沉积或PECVD。
在沉积遮蔽性涂层10之后，此层用光敏性树脂涂层12覆盖(参见图2)。然后，光敏性树脂涂层12暴露于光，以使光敏性树脂涂层12的仅仅一部分暴露于光聚合(参见图3)。然后，光敏性树脂涂层12显影，此光敏性树脂涂层12的仅仅已暴露于光的部分12a保留下来，而未暴露于光的部分12b被去除(参见图4)。最后，将遮蔽性涂层10的未被光敏性树脂涂层12覆盖的那部分去除，这例如通过化学蚀刻进行(参见图5)；随后进而将光敏性树脂涂层12的已暴露于光的部分12a去除。由此得到手表玻璃1，其中顶表面2被遮蔽性涂层10的区域覆盖，此区域形成遮蔽体6，其中一个或多个开口8的轮廓对应于要在手表玻璃1的厚度中构建的防伪标记的外形(参见图6)。
在通过光刻法合适地构建遮蔽性涂层10以形成遮蔽体6之后，对手表玻璃1进行防伪标记操作。为此目的(参见图7)，通过单电荷或多电荷态离子束14经由遮蔽体6的至少一个开口8轰击手表玻璃1，所述遮蔽体6的机械性能足以防止来自离子束14的离子蚀刻在手表玻璃1的顶表面2中已被遮蔽体6覆盖的区域。根据本发明方法的优选实施方案，使用氮N、氧O、氦He、碳C、氩Ar、氙Xe或者通过四氟化碳CF4或甲烷CH4电离得到的碳C的离子来轰击手表玻璃1。为了加速这些离子，可以使用ECR电子回旋共振类型的单电荷或多电荷态离子源。优选，离子在10kV至40kV的电压下加速，并且离子注入剂量是3·1016至6·1016个离子/cm2。在使用氮N离子轰击手表玻璃1的具体情况下，氮N离子在28kV的电压下加速1.53s/cm2的时间，其中离子注入剂量是3.5·1016个离子/cm2，并且离子束强度是5.5mA。
在手表玻璃1经过离子轰击以在其厚度中构建所需的防伪标记后，将遮蔽体6去除，随后将手表玻璃1置于具有碱性pH的浴16中(参见图8)。适合用于在构建防伪标记后放置手表玻璃1的浴的一个例子可以是来自Borer的名称为Deconex OP 141的产品。所述浴包括基于氢氧化钾的溶液，其中pH等于13。
通过本发明方法获得的防伪标记18是肉眼不可见的，但是可以非常简单地通过用宽谱光源20、例如发光二极管类型的光源照射来显示(参见图9)。实际上，通过遵循本发明的步骤获得了透明的手表玻璃1，在其中已构建防伪标记18的区域中显示反射率的变化，虽然这种变化很小，但是足以使得在用光源20照射时能检测到防伪标记18。所以，本发明的显著优点之一是不需要使用特定的和通常昂贵的装置就能确认根据本发明标记的物品的真实性。例如，适合用于本发明的光源20是由TANEO以STZL 24R销售的普通灯具，其中白色色温是4700至5300°K。
在构建防伪标记之前，手表玻璃1可以经过预先洗涤以使其脱脂。
在手表玻璃1的厚度中构建防伪标记之后，另外可以在手表玻璃1的顶表面2或底表面4之一或两者上沉积一个或多个防反射涂层22,24(参见图10)。防反射涂层22,24例如使用二氧化硅(SiO2)或氟化镁(MgF2)制得。可以组合由二氧化硅制成的涂层和由氟化镁制成的涂层。这些涂层的厚度各自独立地考虑为通常不超过150nm。其它材料也可以用于制备防反射涂层，例如钛、钽、锆、硅和铝的氧化物以及氮化硅。这些防反射涂层22,24可以通过气相沉积方式来沉积。在可考虑的沉积技术中，可以提到物理气相沉积(PVD)，化学气相沉积(CVD)，等离子体增强化学气相沉积(PECVD)，或原子层沉积或ALD。可以组合由二氧化硅制成的涂层和由氟化镁制成的涂层。这些涂层的厚度各自独立地考虑为通常不超过150nm。其它材料也可以用于制备防反射涂层，例如钛、钽、锆、硅和铝的氧化物以及氮化硅。
显然，本发明不限于上述实施方案，并且可以在不偏离如所附权利要求所定义的本发明范围的情况下预期各种改进和简单的变体形式。特别是，以由蓝宝石制成的手表玻璃作为示例来描述本发明。但是显然，本发明不限于此具体实施方案，并且可以应用于由蓝宝石、红宝石或钻石制成的任何类型的至少部分透明的物体，优选由合成的材料制成。本发明也能应用于由半结晶有机材料、例如矿物玻璃或无定形有机材料制成的至少部分透明的物体。
参考符号列表：
1.手表玻璃
2.顶表面
4.底表面
6.遮蔽体
8.开口
10.遮蔽性涂层
12.光敏性树脂涂层
12a.光敏性树脂涂层的已暴露于光的部分
12b.光敏性树脂涂层的未暴露于光的部分
14.离子束
16.浴
18.防伪标记
20.光源
22,24.防反射涂层。
Claims (17)
1.一种在由至少部分透明的无定形、半结晶或结晶材料制成的物体(1)的厚度中构建防伪标记(18)的方法，所述至少部分透明的物体(1)包括顶表面(2)和在与顶表面(2)相距一定距离处延伸的底表面(4)，此方法包括以下连续步骤：
-得到裸露的至少部分透明的物体(1)；
-向所述至少部分透明的物体(1)的顶表面(2)或底表面(4)之一提供界定至少一个开口(8)的遮蔽体(6)，其中所述开口的轮廓对应于待构建的防伪标记的外形，所述遮蔽体(6)覆盖在所述至少部分透明的物体(1)中不需要构建图案的区域的表面；
-通过用单电荷或多电荷态离子束(14)经由遮蔽体(6)的至少一个开口(8)轰击所述至少部分透明的物体(1)而构建防伪标记，所述遮蔽体(6)的机械性能足以防止来自离子束(14)的离子蚀刻在至少部分透明的物体(1)中已被遮蔽体(6)覆盖的区域的表面；
-去除遮蔽体(6)；
-将至少部分透明的物体(1)置于具有碱性pH的浴(16)中。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于在顶表面(2)或底表面(4)的至少一个上沉积至少一个防反射涂层(22,24)。
3.根据权利要求1和2中任一项所述的方法，其特征在于所述至少部分透明的物体(1)是由蓝宝石、红宝石或钻石制成，优选由合成的材料制成。
4.根据权利要求1和2中任一项所述的方法，其特征在于所述至少部分透明的物体(1)是由半结晶有机材料制成。
5.根据权利要求1和2中任一项所述的方法，其特征在于所述至少部分透明的物体(1)是由矿物玻璃或无定形有机材料制成。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其特征在于所述至少部分透明的物体(1)经过预先洗涤。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的方法，其特征在于所述单电荷或多电荷态离子束(14)是通过ECR电子回旋共振类型的单电荷或多电荷态离子源而产生。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于所述至少部分透明的物体(1)是使用氮N、氧O、氦He、碳C、氩Ar、氙Xe或通过将四氟化碳CF4或甲烷CH4电离所得的碳C的离子进行轰击。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于所述离子在10kV至40kV的电压下进行加速，并且离子注入剂量是3·1016至6·1016个离子/cm2。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于所述至少部分透明的物体(1)是使用在28kV的电压下加速1.53s/cm2时间的氮N离子进行轰击，离子注入剂量是3.5·1016个离子/cm2，并且离子束强度是5.5mA。
11.根据权利要求1-10中任一项所述的方法，其特征在于所述遮蔽体(6)是片状材料，其中已经空余出防伪标记的轮廓，随后将此片状材料固定到至少部分透明的物体(1)的待构建图案的顶表面(2)或底表面(4)上。
12.根据权利要求1-10中任一项所述的方法，其特征在于沉积在所述至少部分透明的物体(1)的顶表面(2)或底表面(4)上的遮蔽体(6)是通过金属镀敷形成的金属涂层。
13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于所述金属镀敷是通过气相沉积经由以下技术之一进行：物理气相沉积(PVD)，化学气相沉积(CVD)，等离子体增强化学气相沉积。
14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于所述金属涂层是氮化铬CrN的涂层，其厚度为1至1500nm。
15.根据权利要求12-14中任一项所述的方法，其特征在于在金属涂层中通过光刻法布置至少一个开口(14)，所述开口的轮廓对应于在至少部分透明的物体(1)中待构建的防伪标记的外形。
16.根据权利要求1-15中任一项所述的方法，其特征在于所述至少部分透明的物体(1)是手表玻璃。
17.至少部分透明的物体(1)，在其厚度中已构建防伪标记(18)，所述防伪标记(18)引起物体(1)的反射率变化，此变化是肉眼不能察觉的，但是能通过宽谱光源(20)检测到。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP21195595.0A EP4148026A1 (fr) | 2021-09-08 | 2021-09-08 | Procédé de structuration d'un marquage anti-contrefaçon dans un objet au moins partiellement transparent et objet au moins partiellement transparent comprenant un marquage anti-contrefaçon |
| EP21195595.0 | 2021-09-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN115775487A true CN115775487A (zh) | 2023-03-10 |
Family
ID=77666410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202211087692.9A Pending CN115775487A (zh) | 2021-09-08 | 2022-09-07 | 在至少部分透明的物体中构建防伪标记的方法以及包含防伪标记的至少部分透明的物体 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11938745B2 (zh) |
| EP (1) | EP4148026A1 (zh) |
| JP (1) | JP7430226B2 (zh) |
| KR (1) | KR20230036969A (zh) |
| CN (1) | CN115775487A (zh) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101398950A (zh) * | 2007-09-25 | 2009-04-01 | 中国印钞造币总公司 | 一种用于鉴定有价证券真伪的方法 |
| WO2015140731A1 (en) * | 2014-03-18 | 2015-09-24 | 3D-Oxides | Deposition process based on stencil mask and application to the fabrication of tags supporting multi-functional traceable codes |
| WO2017089857A1 (en) * | 2015-11-23 | 2017-06-01 | Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) | Method for labeling products with a transparent photoluminescent label, and transparent photoluminescent label |
| CN110385932A (zh) * | 2018-04-19 | 2019-10-29 | 柯马杜股份有限公司 | 在由至少部分透明非晶、半结晶或结晶材料制成物体中结构化装饰图案或技术图案的方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1032390C (zh) * | 1994-08-15 | 1996-07-24 | 孟武 | 一种双卡径迹激光全息防伪标识及其检验装置 |
| CN106977113A (zh) * | 2016-01-19 | 2017-07-25 | 精工爱普生株式会社 | 透光性部件、钟表及透光性部件的制造方法 |
| CN108375894A (zh) * | 2017-01-30 | 2018-08-07 | 精工爱普生株式会社 | 钟表用部件以及钟表 |
| JP7448916B2 (ja) * | 2020-05-26 | 2024-03-13 | 信越化学工業株式会社 | 個体認証方法 |
-
2021
- 2021-09-08 EP EP21195595.0A patent/EP4148026A1/fr active Pending
-
2022
- 2022-08-08 US US17/882,786 patent/US11938745B2/en active Active
- 2022-08-17 JP JP2022129838A patent/JP7430226B2/ja active Active
- 2022-08-19 KR KR1020220104286A patent/KR20230036969A/ko unknown
- 2022-09-07 CN CN202211087692.9A patent/CN115775487A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101398950A (zh) * | 2007-09-25 | 2009-04-01 | 中国印钞造币总公司 | 一种用于鉴定有价证券真伪的方法 |
| WO2015140731A1 (en) * | 2014-03-18 | 2015-09-24 | 3D-Oxides | Deposition process based on stencil mask and application to the fabrication of tags supporting multi-functional traceable codes |
| WO2017089857A1 (en) * | 2015-11-23 | 2017-06-01 | Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) | Method for labeling products with a transparent photoluminescent label, and transparent photoluminescent label |
| CN108699672A (zh) * | 2015-11-23 | 2018-10-23 | 瑞士联邦理工大学，洛桑(Epfl) | 用透明光致发光标签标记产品的方法和透明光致发光标签 |
| CN110385932A (zh) * | 2018-04-19 | 2019-10-29 | 柯马杜股份有限公司 | 在由至少部分透明非晶、半结晶或结晶材料制成物体中结构化装饰图案或技术图案的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20230070336A1 (en) | 2023-03-09 |
| US11938745B2 (en) | 2024-03-26 |
| JP7430226B2 (ja) | 2024-02-09 |
| KR20230036969A (ko) | 2023-03-15 |
| JP2023039413A (ja) | 2023-03-20 |
| EP4148026A1 (fr) | 2023-03-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6033778B2 (ja) | 無彩色の特徴を有するセキュリティエレメント | |
| JP6322568B2 (ja) | 表面レリーフ微細構造、関連するデバイスおよびそれらを作製する方法 | |
| JP4308020B2 (ja) | セキュリティー・ドキュメントおよびセキュリティー・ドキュメント用セキュリティー素子 | |
| CN101115627B (zh) | 包括衍射浮雕结构的多层体及其制备方法、用途 | |
| US11894215B2 (en) | Method for structuring a decorative of technical pattern in an object made of an at least partially transparent amorphous, semi-crystalline or crystalline material | |
| JP4611633B2 (ja) | 色遷移効果及び磁気特性を有するセキュリティ素子、そのようなセキュリティ素子を有する物体、及びそのようなセキュリティ素子及び物体を作成するための方法 | |
| US4425769A (en) | Method for treating a gem and gem treated with this method | |
| JP2006504545A (ja) | 薄膜層配列を備えた光学的に変化する素子 | |
| JP2005530187A (ja) | 局部的透明要素を備えた光学的に変化する素子 | |
| JP2012519610A (ja) | 改ざん検出システムを有するセキュリティーフィルム又はセキュリティーラベル | |
| CN115775487A (zh) | 在至少部分透明的物体中构建防伪标记的方法以及包含防伪标记的至少部分透明的物体 | |
| CN104647937B (zh) | 一种制备光学防伪元件的方法 | |
| KR101490396B1 (ko) | 이중층을 가진 홀로그램 패치 및 그 제조방법 | |
| US20230347680A1 (en) | Metallic sheet with security window and methods of manufacture | |
| JP6428134B2 (ja) | 偽造防止媒体 | |
| KR20040045270A (ko) | 광학 스펙트라 인코드와 디코드를 이용한 이중 보증위조방지 광학 필름 라벨링 시스템 | |
| WO2003097376A1 (en) | Optically variable devices | |
| WO1993022746A1 (en) | Optically variable coins, medals, tokens and other non-fibrous articles and method for making same | |
| KR20060105321A (ko) | 광디스크 제조 공정을 이용한 이동단말기용 플라스틱키패드 제조 방법 및 그 키패드 | |
| CN108130510B (zh) | 一种防伪标签的制作方法及防伪标签 | |
| KR20190069006A (ko) | 위변조 방지 기능을 갖는 용기의 제조방법 및 이러한 방법으로 제조된 위변조 방지 기능을 갖는 용기 | |
| EP2279878A1 (en) | Method of manufacturing an identification device, device obtained and reader for this device | |
| KR101704392B1 (ko) | 발색 미세 패턴판의 제조방법 및 그 제조물 | |
| CH718582B1 (fr) | Procédé de structuration d'un marquage anti-contrefaçon dans un objet au moins partiellement transparent et objet au moins partiellement transparent comprenant un marquage anti-contrefaçon. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| REG | Reference to a national code |
Ref country code: HK Ref legal event code: DE Ref document number: 40085012 Country of ref document: HK |