JP7427888B2 - Prism, optical device, prism manufacturing method, and package device manufacturing method - Google Patents

Prism, optical device, prism manufacturing method, and package device manufacturing method Download PDF

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Description

本発明は、プリズム、光デバイス、プリズムの製造方法及びパッケージデバイスの製造方法に関する。 The present invention relates to a prism, an optical device, a method for manufacturing a prism, and a method for manufacturing a package device.

近年、ディスプレイ、自動車のヘッドランプやプロジェクタ等の用途において、光源からの光を反射させまたは屈折させるためのプリズムが広く用いられている。このようなプリズムを含む光デバイスの一例が下記の特許文献1に開示されている。特許文献1においては、半導体ディスクからなる実装基板上に、レーザーチップ及びプリズムが配置されている。レーザーチップ及びプリズムは、はんだにより実装基板に接合されている。 In recent years, prisms for reflecting or refracting light from a light source have been widely used in applications such as displays, automobile headlamps, and projectors. An example of an optical device including such a prism is disclosed in Patent Document 1 below. In Patent Document 1, a laser chip and a prism are arranged on a mounting board made of a semiconductor disk. The laser chip and prism are bonded to the mounting board using solder.

特開2000-091688号公報Japanese Patent Application Publication No. 2000-091688

光デバイスにおいては、光路の方向を高い精度で調整することが必要であるため、プリズムの接合配置には高い位置精度が要求される。しかしながら、プリズムに光を出射する光源に高出力なLD(Laser Diode)等を用いる場合、樹脂からなる接着剤を用いてプリズムを実装基板等に接合配置すると、接着剤が軟化し、プリズムの位置ずれが生じるおそれがある。一方で、特許文献1に記載のようなはんだを用いた実装は、はんだ全体の溶融流動を伴うことから、実装の前後においてプリズムの高さ方向の位置ずれが生じるおそれがある。そのため、特許文献1に記載のようなプリズムでは、実装基板等に接合配置した場合に位置精度を十分に高めることは困難であった。また、組立の作業性やコスト等の観点でも課題がある。 In optical devices, it is necessary to adjust the direction of the optical path with high precision, so high positional precision is required for the joining arrangement of prisms. However, when using a high-output LD (Laser Diode) or the like as a light source that emits light to the prism, if the prism is bonded to a mounting board using a resin adhesive, the adhesive will soften and the position of the prism will change. Misalignment may occur. On the other hand, since mounting using solder as described in Patent Document 1 involves melting and flowing of the entire solder, there is a risk that the prism will be misaligned in the height direction before and after mounting. Therefore, with the prism described in Patent Document 1, it is difficult to sufficiently improve the positional accuracy when the prism is bonded to a mounting board or the like. Further, there are also problems in terms of assembly workability and cost.

本発明は、光デバイスにおける位置精度を効果的に高めることができる、プリズム及び該プリズムを用いた光デバイス並びにプリズムの製造方法及びパッケージデバイスの製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a prism, an optical device using the prism, a method for manufacturing a prism, and a method for manufacturing a package device, which can effectively improve positional accuracy in an optical device.

本発明のプリズムは、底面及び底面に接続されている斜面を有するプリズム本体と、底面に設けられている密着膜とを備え、密着膜が、プリズム本体側に位置する第1の層部分と、第1の層部分上に直接的または間接的に積層された第2の層部分とを有し、第2の層部分がAu層及びSn層のうち少なくとも一方の層を含むことを特徴とする。 The prism of the present invention includes a prism main body having a bottom surface and a slope connected to the bottom surface, an adhesive film provided on the bottom surface, and a first layer portion where the adhesive film is located on the prism main body side; and a second layer portion laminated directly or indirectly on the first layer portion, and the second layer portion includes at least one of an Au layer and a Sn layer. .

第2の層部分において、Au層及びSn層が交互に積層されていることが好ましい。 In the second layer portion, it is preferable that Au layers and Sn layers are alternately stacked.

第2の層部分がAu層及びSn層の双方を有し、Au層とSn層との間に、Au及びSnの合金からなるAu-Sn層が設けられていることが好ましい。 Preferably, the second layer portion has both an Au layer and a Sn layer, and an Au--Sn layer made of an alloy of Au and Sn is provided between the Au layer and the Sn layer.

密着膜の積層方向において、プリズム本体から離れる側を外側としたときに、第2の層部分の最外層がAu層であることが好ましい。 In the stacking direction of the adhesive film, when the side away from the prism body is defined as the outside, it is preferable that the outermost layer of the second layer portion is an Au layer.

第2の層部分が複数のAu層及び複数のSn層の双方を有し、Au層及びSn層が交互に積層されており、第2の層部分が応力緩和層を有し、応力緩和層が複数のAu層のうちの一層である場合には、応力緩和層の厚みが、他のAu層の平均の厚みと異なり、応力緩和層が複数のSn層のうちの一層である場合には、応力緩和層の厚みが、他のSn層の平均の厚みと異なることが好ましい。この場合、応力緩和層の厚みが、他のAu層または他のSn層の平均の厚みの1/2以上、5倍以下であることがより好ましい。または、応力緩和層の厚みが、他のAu層または他のSn層の平均の厚みの1/5以上、1/2以下であることがより好ましい。 The second layer portion has both a plurality of Au layers and a plurality of Sn layers, the Au layers and the Sn layers are laminated alternately, the second layer portion has a stress relaxation layer, and the stress relaxation layer When is one of the plurality of Au layers, the thickness of the stress relaxation layer is different from the average thickness of the other Au layers, and when the stress relaxation layer is one of the plurality of Sn layers, The thickness of the stress relaxation layer is preferably different from the average thickness of the other Sn layers. In this case, the thickness of the stress relaxation layer is more preferably 1/2 or more and 5 times or less of the average thickness of other Au layers or other Sn layers. Alternatively, the thickness of the stress relaxation layer is more preferably 1/5 or more and 1/2 or less of the average thickness of other Au layers or other Sn layers.

密着膜の積層方向において、プリズム本体から離れる側を外側としたときに、第2の層部分の最外層が、第2の層部分において最も薄い層であることが好ましい。この場合、第2の層部分において、外側に位置する層ほど薄いことがより好ましい。 In the stacking direction of the adhesive film, the outermost layer of the second layer portion is preferably the thinnest layer in the second layer portion, when the side away from the prism body is defined as the outside. In this case, in the second layer portion, it is more preferable that the outer layer is thinner.

第2の層部分が複数のAu層及び複数のSn層の双方を有し、複数のAu層の厚みが互いに同一であり、且つ複数のSn層の厚みが外側に位置するほど厚いことが好ましい。 It is preferable that the second layer portion has both a plurality of Au layers and a plurality of Sn layers, the thicknesses of the plurality of Au layers are the same, and the thickness of the plurality of Sn layers is thicker as they are located on the outer side. .

第2の層部分が複数のAu層及び複数のSn層の双方を有し、複数のAu層の厚みが外側に位置するほど薄く、且つ複数のSn層の厚みが互いに同一であることが好ましい。 It is preferable that the second layer portion has both a plurality of Au layers and a plurality of Sn layers, the thickness of the plurality of Au layers is thinner toward the outer side, and the thickness of the plurality of Sn layers is preferably the same. .

第2の層部分におけるAu層及びSn層の合計の層数が3層以上、99層以下であることが好ましい。この場合、第2の層部分におけるAu層及びSn層の合計の層数が15層以上、35層以下であることがより好ましい。 It is preferable that the total number of Au layers and Sn layers in the second layer portion is 3 or more and 99 or less. In this case, it is more preferable that the total number of Au layers and Sn layers in the second layer portion is 15 or more and 35 or less.

密着膜の全体の厚みが1μm以上、10μm以下であることが好ましい。 It is preferable that the total thickness of the adhesive film is 1 μm or more and 10 μm or less.

第2の層部分がAu層及びSn層の双方を有し、第2の層部分におけるAuの重量の合計をM、Snの重量の合計をM、Au及びSnの重量の合計に対するAuの重量の比率をM/(M+M)としたときに、比率M/(M+M)が0.65以上、0.78以下であることが好ましく、0.60以上、0.75以下であることがより好ましい。 The second layer portion has both an Au layer and a Sn layer, M A is the sum of the weights of Au in the second layer portion, M S is the sum of the weights of Sn, and Au is the sum of the weights of Au and Sn. When the ratio of the weight of is M A /(M A + M S ), the ratio M A /(M A + M S ) is preferably 0.65 or more and 0.78 or less, and 0.60 or more, More preferably, it is 0.75 or less.

本発明の他の局面におけるプリズムは、パッケージに実装されるプリズムであって、底面及び底面に接続されている斜面を有するプリズム本体と、底面に設けられている密着膜とを備え、密着膜が、プリズム本体側に位置する第1の層部分と、第1の層部分上に直接的または間接的に積層された第2の層部分とを有し、第2の層部分がAu及びSnの合金からなるAu-Sn層であり、密着膜の第2の層部分の厚みが2.5μm以上、5.9μm以下である。 A prism according to another aspect of the present invention is a prism that is mounted in a package, and includes a prism body having a bottom surface and an inclined surface connected to the bottom surface, and an adhesive film provided on the bottom surface. , has a first layer portion located on the prism body side, and a second layer portion laminated directly or indirectly on the first layer portion, and the second layer portion is made of Au and Sn. It is an Au-Sn layer made of an alloy, and the thickness of the second layer portion of the adhesive film is 2.5 μm or more and 5.9 μm or less.

密着膜の積層方向において、プリズム本体から離れる側を外側としたときに、密着膜が、密着膜の最外層であり、第2の層部分上に積層されている最外層部分を有し、最外層部分がAu層であることが好ましい。 In the stacking direction of the adhesive film, when the side away from the prism body is defined as the outer side, the adhesive film is the outermost layer of the adhesive film, has an outermost layer portion laminated on the second layer portion, and has an outermost layer portion laminated on the second layer portion. It is preferable that the outer layer portion is an Au layer.

密着膜の積層方向において、プリズム本体から離れる側を外側としたときに、密着膜の最外層の算術平均粗さRaが0.20μm以下であることが好ましい。 In the stacking direction of the adhesive film, the outermost layer of the adhesive film preferably has an arithmetic mean roughness Ra of 0.20 μm or less, when the side away from the prism body is defined as the outside.

第1の層部分がCr層またはTi層またはTa膜であることが好ましい。 Preferably, the first layer portion is a Cr layer, a Ti layer, or a Ta film.

密着膜が、第1の層部分と第2の層部分との間に積層された中間層部分をさらに有することが好ましい。この場合、中間層部分がNi層、Pt層、Pd層、Ni-Cr混合層またはこれらを組み合わせた合金層であることがより好ましい。 Preferably, the adhesive film further includes an intermediate layer portion laminated between the first layer portion and the second layer portion. In this case, it is more preferable that the intermediate layer portion is a Ni layer, a Pt layer, a Pd layer, a Ni--Cr mixed layer, or an alloy layer that is a combination of these.

プリズム本体が、上面を有し、上面は、底面に対向し、かつ斜面に接続されていることが好ましい。 Preferably, the prism body has a top surface, the top surface facing the bottom surface and connected to the slope.

プリズム本体の斜面に反射膜が設けられていることが好ましい。また、プリズム本体の斜面及び上面に反射膜が設けられていることが好ましい。 Preferably, a reflective film is provided on the slope of the prism body. Further, it is preferable that a reflective film is provided on the slope and the upper surface of the prism body.

本発明の光デバイスは、上記プリズムと、プリズムに光を出射し、またはプリズムからの光を受光する光学素子と、プリズム及び光学素子を収容するパッケージとを備え、パッケージにプリズムが密着膜により接合されていることを特徴とする。 The optical device of the present invention includes the above prism, an optical element that emits light to the prism or receives light from the prism, and a package that houses the prism and the optical element, and the prism is bonded to the package by an adhesive film. It is characterized by being

本発明のプリズムの製造方法は、底面及び底面に接続されている斜面を有するプリズム本体の、底面に密着膜を設ける工程を備えたプリズムの製造方法であって、密着膜を設ける工程は、底面に金属材料からなる第1の層部分を形成する工程と、第1の層部分上に直接的または間接的に金属材料からなる第2の層部分を積層する工程とを含み、第1の層部分と第2の層部分とは互いに異なる成分の金属材料から構成され、第2の層部分がAu層及びSn層のうち少なくとも一方の層を含むことを特徴とする。 The prism manufacturing method of the present invention is a prism manufacturing method comprising a step of providing an adhesive film on the bottom surface of a prism body having a bottom surface and an inclined surface connected to the bottom surface, the step of providing the adhesive film includes the step of providing an adhesive film on the bottom surface. forming a first layer portion made of a metal material; and laminating a second layer portion made of a metal material directly or indirectly on the first layer portion; The first layer portion and the second layer portion are made of metal materials having different components, and the second layer portion includes at least one of an Au layer and a Sn layer.

本発明のパッケージデバイスの製造方法は、上記プリズムを準備する工程と、プリズムとの接着面を有するパッケージを準備する工程と、密着膜がパッケージの接着面に当接するよう、プリズムとパッケージとを当接させる工程と、密着膜を加熱し、プリズムとパッケージとを接合させる工程とを備えることを特徴とする。 The method for manufacturing a packaged device of the present invention includes the steps of preparing the prism, preparing a package having an adhesive surface for contacting the prism, and applying the prism and the package so that the adhesive film contacts the adhesive surface of the package. The method is characterized by comprising a step of bringing the prism into contact with the package, and a step of heating the adhesive film to join the prism and the package.

パッケージの接着面には、Au膜が形成されており、密着膜全体が溶融しない温度で加熱を行い、プリズムとパッケージとを接合させることが好ましい。 An Au film is formed on the adhesive surface of the package, and it is preferable to heat the prism and the package at a temperature at which the entire adhesive film does not melt.

本発明のプリズム、光デバイス、プリズムの製造方法及びパッケージデバイスの製造方法によれば、プリズムの位置精度を効果的に高めることができる。 According to the prism, optical device, prism manufacturing method, and package device manufacturing method of the present invention, the positional accuracy of the prism can be effectively improved.

本発明の第1の実施形態に係るプリズムの断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a prism according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of the adhesive film of the prism according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第2の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。FIG. 7 is an enlarged sectional view showing the vicinity of the adhesive film of the prism according to the second embodiment of the present invention. 本発明の第3の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of an adhesive film of a prism according to a third embodiment of the present invention. 本発明の第4の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of an adhesive film of a prism according to a fourth embodiment of the present invention. 本発明の第5の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of an adhesive film of a prism according to a fifth embodiment of the present invention. 本発明の第6の実施形態に係るプリズムの断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a prism according to a sixth embodiment of the present invention. 本発明の第6の実施形態の変形例に係るプリズムの断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a prism according to a modification of the sixth embodiment of the present invention. 本発明の第7の実施形態に係る光デバイスの断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of an optical device according to a seventh embodiment of the present invention. 本発明の第8の実施形態に係るプリズムの断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a prism according to an eighth embodiment of the present invention. 本発明の第9の実施形態に係るプリズムの断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a prism according to a ninth embodiment of the present invention. 本発明の第10の実施形態に係るプリズムの断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of a prism according to a tenth embodiment of the present invention. 本発明の第11の実施形態に係るプリズムの断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a prism according to an eleventh embodiment of the present invention. 本発明の第12の実施形態に係るプリズムの断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a prism according to a twelfth embodiment of the present invention. 本発明の第13の実施形態に係るプリズムの断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a prism according to a thirteenth embodiment of the present invention. 応力の評価に用いたプリズムの母材の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the base material of the prism used for stress evaluation.

以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。また、各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照する場合がある。 Preferred embodiments will be described below. However, the following embodiments are merely illustrative, and the present invention is not limited to the following embodiments. Further, in each drawing, members having substantially the same function may be referred to by the same reference numerals.

(プリズム)
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係るプリズムの断面図である。図1に示すように、プリズム1はプリズム本体2と、密着膜3と、反射膜4とを備える。プリズム本体2は、略台形の断面形状を有する。プリズム本体2は、底面2aと、底面2aに接続されている斜面2bと、底面2aに対向し、かつ斜面2bに接続されている上面2cとを有する。なお、プリズム本体2の断面形状は略台形には限定されず、略三角形等であってもよい。本実施形態においては、プリズム本体2は適宜のガラス材料からなる。
(prism)
(First embodiment)
FIG. 1 is a sectional view of a prism according to a first embodiment of the invention. As shown in FIG. 1, the prism 1 includes a prism body 2, an adhesive film 3, and a reflective film 4. The prism body 2 has a substantially trapezoidal cross-sectional shape. The prism body 2 has a bottom surface 2a, a slope 2b connected to the bottom surface 2a, and a top surface 2c facing the bottom surface 2a and connected to the slope 2b. Note that the cross-sectional shape of the prism body 2 is not limited to a substantially trapezoidal shape, but may be substantially triangular or the like. In this embodiment, the prism body 2 is made of a suitable glass material.

プリズム本体2の底面2aに密着膜3が設けられている。プリズム本体2の斜面2bに反射膜4が設けられている。プリズム1は、密着膜3により、光デバイスやパッケージデバイスにおける実装基板やパッケージ等に接合される。 An adhesive film 3 is provided on the bottom surface 2a of the prism body 2. A reflective film 4 is provided on the slope 2b of the prism body 2. The prism 1 is bonded to a mounting board, a package, etc. in an optical device or a package device through an adhesive film 3.

図2は、第1の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。図2に示すように、密着膜3は、複数の金属層の積層体である。具体的には、密着膜3は、最もプリズム本体2側に位置する第1の層部分5と、第1の層部分5上に積層された第2の層部分6とを有する。本実施形態では、第2の層部分6は、第1の層部分5上に直接的に積層されている。なお、第2の層部分6は、第1の層部分5上に、他の層を介して間接的に積層されていてもよい。 FIG. 2 is an enlarged sectional view showing the vicinity of the adhesive film of the prism according to the first embodiment. As shown in FIG. 2, the adhesive film 3 is a laminate of a plurality of metal layers. Specifically, the adhesive film 3 includes a first layer portion 5 located closest to the prism body 2 and a second layer portion 6 laminated on the first layer portion 5 . In this embodiment, the second layer part 6 is laminated directly onto the first layer part 5. Note that the second layer portion 6 may be laminated indirectly on the first layer portion 5 via another layer.

第1の層部分5はCr層である。もっとも、第1の層部分5は、密着膜3の各層において相対的にプリズム本体2との密着性が高ければよく、Cr層には限定されない。例えば、第1の層部分5はTi層もしくはTa層であってもよい。 The first layer portion 5 is a Cr layer. However, the first layer portion 5 only needs to have relatively high adhesion to the prism body 2 in each layer of the adhesive film 3, and is not limited to a Cr layer. For example, the first layer portion 5 may be a Ti layer or a Ta layer.

なお、本発明において各金属層には少量の不純物や添加物が許容される。具体的には、Cr層は、Crを95重量%以上含む金属層である。また、Ti層は、Tiを95重量%以上含む金属層である。また、Ta層は、Taを95重量%以上含む金属層である。Cr、Ti、Taはガラスとの密着層として機能するが、Cr、Ti、Taの含有量が上記範囲であれば本発明の効果を損なわない。 Note that in the present invention, a small amount of impurity or additive is allowed in each metal layer. Specifically, the Cr layer is a metal layer containing 95% by weight or more of Cr. Further, the Ti layer is a metal layer containing 95% by weight or more of Ti. Further, the Ta layer is a metal layer containing 95% by weight or more of Ta. Cr, Ti, and Ta function as an adhesion layer with glass, but as long as the content of Cr, Ti, and Ta is within the above range, the effects of the present invention are not impaired.

第2の層部分6は、本実施形態では、第1の層6a、第2の層6b、第3の層6c、第4の層6d及び第5の層6eがこの順序で積層された積層体である。ここで、密着膜3の積層方向において、プリズム本体2側を内側とし、プリズム本体2から離れる側を外側とする。第2の層部分6において、第5の層6eが最外層である。 In this embodiment, the second layer portion 6 is a laminated layer in which a first layer 6a, a second layer 6b, a third layer 6c, a fourth layer 6d, and a fifth layer 6e are laminated in this order. It is the body. Here, in the stacking direction of the adhesive film 3, the side facing the prism body 2 is defined as the inside, and the side away from the prism body 2 is defined as the outside. In the second layer portion 6, the fifth layer 6e is the outermost layer.

第1の層6aはAu層であり、第2の層6bはSn層であり、第3の層6cはAu層であり、第4の層6dはSn層であり、最外層である第5の層6eはAu層である。第2の層部分6において、Au層及びSn層が交互に積層されている。なお、第2の層部分6はAu層及びSn層のうち少なくとも一方の層を含んでいればよく、層数は上記に限定されない。 The first layer 6a is an Au layer, the second layer 6b is an Sn layer, the third layer 6c is an Au layer, the fourth layer 6d is an Sn layer, and the outermost layer is the fifth layer. The layer 6e is an Au layer. In the second layer portion 6, Au layers and Sn layers are alternately stacked. Note that the second layer portion 6 only needs to include at least one of the Au layer and the Sn layer, and the number of layers is not limited to the above.

なお、本発明においては、Au層は、Auを95重量%以上含む金属層である。また、Sn層はSnを95重量%以上含む金属層である。AuやSnの精製の度合いにより、金属層に不純物の混入は起こり得る。不純物としては、例えばFe、Cr、Ni等が代表的であるが、Au及びSn各々の含有量が上記範囲であれば、本発明の効果を損なわない。 Note that in the present invention, the Au layer is a metal layer containing 95% by weight or more of Au. Further, the Sn layer is a metal layer containing 95% by weight or more of Sn. Depending on the degree of purification of Au or Sn, impurities may be mixed into the metal layer. Typical impurities include, for example, Fe, Cr, Ni, etc., but as long as the content of each of Au and Sn is within the above range, the effects of the present invention will not be impaired.

反射膜4は、例えば、高屈折率膜及び低屈折率膜が交互に積層された誘電体多層膜からなる。高屈折率膜の材料としては、例えば、TiO、Ta、ZrOまたはHfOを挙げることができる。低屈折率膜の材料としては、例えば、SiOまたはMgFを挙げることができる。また、反射膜4として金属膜を用いても良い。反射膜4は、プリズム本体2の斜面2bの少なくとも一部に設けられていればよく、例えば、斜面2bの全面に設けられていてもよい。斜面2bに反射膜4が設けられていることにより、光源から出射された光を好適に反射させることができる。なお、プリズム1は必ずしも反射膜4を有していなくともよい。 The reflective film 4 is made of, for example, a dielectric multilayer film in which high refractive index films and low refractive index films are alternately laminated. Examples of the material of the high refractive index film include TiO 2 , Ta 2 O 5 , ZrO 2 or HfO 2 . Examples of the material for the low refractive index film include SiO 2 or MgF 2 . Furthermore, a metal film may be used as the reflective film 4. The reflective film 4 only needs to be provided on at least a portion of the slope 2b of the prism body 2, and may be provided on the entire surface of the slope 2b, for example. By providing the reflective film 4 on the slope 2b, the light emitted from the light source can be appropriately reflected. Note that the prism 1 does not necessarily have to include the reflective film 4.

密着膜3及び反射膜4は、例えば、スパッタリング法や真空蒸着法等により、各層を積層することによって形成することができる。 The adhesive film 3 and the reflective film 4 can be formed by laminating each layer by, for example, a sputtering method, a vacuum evaporation method, or the like.

本実施形態の特徴は、プリズム本体2の底面2aに設けられた密着膜3が、第1の層部分5と、Au層及びSn層のうち少なくとも一方の層を含む第2の層部分6とを有することにある。それによって、光デバイスにおけるプリズム1の位置精度を効果的に高めることができる。この詳細を以下において説明する。 The feature of this embodiment is that the adhesive film 3 provided on the bottom surface 2a of the prism body 2 has a first layer portion 5 and a second layer portion 6 including at least one of an Au layer and a Sn layer. It consists in having the following. Thereby, the positional accuracy of the prism 1 in the optical device can be effectively improved. Details of this will be explained below.

本実施形態のプリズム1は、密着膜3全体の溶融流動を伴わずにパッケージ等に接合することができる。具体的には、図9に示すように、まず、パッケージ等にプリズム1を載置する。具体的には、パッケージ等における、プリズム1を接着させる接着面に、プリズム1を載置する。このとき、プリズム1を載置する部分(本実施形態においてはパッケージの内面)にはAu膜等の金属膜が、密着膜3との接合を補助するための補助層として設けられていることが好ましい。次に、プリズム1の密着膜3を、密着膜3全体が溶融しない温度において加熱する。加熱の温度は特に限定されないが、例えば、300℃以上、350℃以下で加熱すればよい。密着膜3の加熱により、Au層及びSn層において金属を相互拡散させ、密着膜3を合金化させる。このとき、パッケージ内面の金属膜であるAu膜と密着膜3の最外層のAu層とが相互拡散して接着し、密着膜3を構成するAu層及びSn層も相互拡散して合金化する。これにより、密着膜3とパッケージ等の金属膜とを一体化させ、プリズム1をパッケージ等に接合する。このようにして、例えばパッケージデバイス等を好適に製造することができる。あるいは、光デバイスに用いるプリズム1をパッケージ等に搭載することができる。 The prism 1 of this embodiment can be bonded to a package or the like without melting and flowing the entire adhesive film 3. Specifically, as shown in FIG. 9, first, the prism 1 is placed on a package or the like. Specifically, the prism 1 is placed on an adhesive surface of a package or the like to which the prism 1 is to be adhered. At this time, a metal film such as an Au film may be provided as an auxiliary layer on the part where the prism 1 is placed (in this embodiment, the inner surface of the package) to assist in bonding with the adhesive film 3. preferable. Next, the adhesive film 3 of the prism 1 is heated at a temperature that does not melt the entire adhesive film 3. Although the heating temperature is not particularly limited, it may be heated at, for example, 300° C. or higher and 350° C. or lower. By heating the adhesive film 3, metals are interdiffused in the Au layer and the Sn layer, and the adhesive film 3 is alloyed. At this time, the Au film, which is a metal film on the inner surface of the package, and the outermost Au layer of the adhesive film 3 interdiffuse and adhere to each other, and the Au layer and the Sn layer that constitute the adhesive film 3 also interdiffuse and become alloyed. . Thereby, the adhesive film 3 and the metal film of the package or the like are integrated, and the prism 1 is bonded to the package or the like. In this way, for example, packaged devices and the like can be suitably manufactured. Alternatively, the prism 1 used in the optical device can be mounted on a package or the like.

このように、密着膜3全体の溶融を伴わないため、プリズム1の接合の前後において密着膜3の厚みが変化し難く、プリズム本体2の高さ方向の位置ずれが生じ難い。同様に、密着膜3全体の溶融を伴わないため、プリズム1の接合の前後において、プリズム本体2の水平方向の位置ずれも生じ難い。従って、プリズム1の位置精度を効果的に高めることができる。また、パッケージの組立工程において、従来のはんだの塗布工程を省略できるため、すなわち密着膜3を有するプリズム1をパッケージ等に載置するだけで良いため、作業性やコスト効率を向上できる。 In this way, since the entire adhesive film 3 is not melted, the thickness of the adhesive film 3 is unlikely to change before and after the prism 1 is bonded, and displacement of the prism body 2 in the height direction is unlikely to occur. Similarly, since the entire adhesive film 3 is not melted, horizontal displacement of the prism body 2 is unlikely to occur before and after the prism 1 is bonded. Therefore, the positional accuracy of the prism 1 can be effectively improved. Further, in the package assembly process, the conventional solder application process can be omitted, that is, it is only necessary to place the prism 1 having the adhesive film 3 on the package, etc., so that workability and cost efficiency can be improved.

さらに、樹脂からなる接着剤とは異なり、密着膜3は金属からなる。よって、水分や酸素による劣化や光による劣化が生じ難く、信頼性を高めることができる。加えて、プリズム1とパッケージ等との接合後においてガスが生じないため、反射膜4や後述の光学素子74に不純物が付着し難く、反射率や透過率の劣化が生じ難い。 Furthermore, unlike adhesives made of resin, the adhesive film 3 is made of metal. Therefore, deterioration due to moisture or oxygen or deterioration due to light is less likely to occur, and reliability can be improved. In addition, since no gas is generated after the prism 1 is bonded to the package or the like, impurities are less likely to adhere to the reflective film 4 and the optical element 74, which will be described later, and deterioration of reflectance and transmittance is less likely to occur.

なお、上記では、パッケージにプリズム1を載置した状態で加熱し、接合する場合を例示したが、プリズム1の密着膜3がパッケージの接着面と当接した状態であれば、接合時のパッケージおよびプリズム1の姿勢や状態は上記に限られない。例えば、プリズム1上にパッケージを載置する態様であってもよいし、当接状態のプリズム1とパッケージとをクランプ装置等で挟持した状態であってもよい。 In the above example, the prism 1 is heated and bonded with the prism 1 placed on the package, but if the adhesive film 3 of the prism 1 is in contact with the adhesive surface of the package, the package at the time of bonding Also, the attitude and state of the prism 1 are not limited to the above. For example, the package may be placed on the prism 1, or the prism 1 and the package may be held in contact with each other by a clamp device or the like.

密着膜3においてはAu層及びSn層が交互に積層されていることが好ましい。それによって、実装に際し、Au層及びSn層においてより確実に金属を相互拡散させることができ、Au層及びSn層をより確実に合金化させることができる。よって、パッケージ等にプリズム1を実装するに際し、密着膜3による接合力をより確実に高めることができる。 In the adhesive film 3, it is preferable that Au layers and Sn layers are alternately laminated. Thereby, during mounting, metal can be more reliably interdiffused in the Au layer and the Sn layer, and the Au layer and the Sn layer can be alloyed more reliably. Therefore, when mounting the prism 1 on a package or the like, the bonding force by the adhesive film 3 can be more reliably increased.

密着膜3の全体の厚みは1μm以上であることが好ましく、3μm以上であることがより好ましい。これによって、接合力をより十分に高めることができる。密着膜3の全体の厚みは10μm以下であることが好ましく、5μm以下であることがより好ましい。この場合には、実装に際し金属が相互拡散する各層を薄くすることができる。それによって、密着膜3の各層において金属が剥離を起こさない程度に相互拡散するために要する時間を短縮することができ、密着膜3の合金化の時間を短縮することができる。従って、生産性をより高めることができる。また、用いる密着膜3が薄いことにより、プリズム本体2の高さ方向の位置ずれが小さくなるため、プリズム1の位置精度をより一層効果的に高めることができる。 The total thickness of the adhesive film 3 is preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm or more. This allows the bonding force to be increased more fully. The total thickness of the adhesive film 3 is preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less. In this case, each layer in which metal interdiffuses during mounting can be made thinner. Thereby, the time required for the metals to mutually diffuse in each layer of the adhesive film 3 to an extent that does not cause peeling can be shortened, and the time for alloying the adhesive film 3 can be shortened. Therefore, productivity can be further improved. Further, since the adhesive film 3 used is thin, the positional deviation of the prism body 2 in the height direction is reduced, so that the positional accuracy of the prism 1 can be further effectively improved.

密着膜3の第2の層部分6におけるAu層及びSn層の合計の層数は3層以上であることが好ましく、15層以上であることがより好ましい。それによって、第2の層部分6における各層の厚みをより一層薄くすることができる。従って、実装に際し、密着膜3の合金化の時間をより一層短縮することができ、より一層生産性を高めることができる。 The total number of Au layers and Sn layers in the second layer portion 6 of the adhesive film 3 is preferably 3 or more, more preferably 15 or more. Thereby, the thickness of each layer in the second layer portion 6 can be made even thinner. Therefore, during mounting, the time for alloying the adhesive film 3 can be further shortened, and productivity can be further improved.

第2の層部分6におけるAu層及びSn層の合計の層数は、99層以下であることが好ましい。生産性を考慮すると39層以下であることがより好ましく、35層以下であることがさらに好ましい。第2の層部分6の層数が多すぎる場合には、各層が薄くなりすぎるため、各層の形成が困難となるおそれがある。 The total number of Au layers and Sn layers in the second layer portion 6 is preferably 99 or less. In consideration of productivity, the number of layers is more preferably 39 or less, and even more preferably 35 or less. If the number of layers in the second layer portion 6 is too large, each layer becomes too thin, which may make it difficult to form each layer.

第2の層部分6は、Au層とSn層との間に積層されており、かつAu及びSnの合金からなるAu-Sn層を有していてもよい。この場合には、実装に際し、密着膜3の合金化の時間をより一層効果的に短縮することができ、生産性をより一層効果的に高めることができる。なお、Au-Sn層は、真空蒸着法やスパッタ法を用いて2源蒸着や2源スパッタにより短時間で形成することができる。 The second layer portion 6 is laminated between the Au layer and the Sn layer, and may include an Au--Sn layer made of an alloy of Au and Sn. In this case, during mounting, the time for alloying the adhesive film 3 can be further effectively shortened, and productivity can be further effectively increased. Note that the Au--Sn layer can be formed in a short time by two-source evaporation or two-source sputtering using a vacuum evaporation method or a sputtering method.

なお、Au-Sn層は、密着膜3の形成に際し、隣接するAu層及びSn層の一部を合金化することにより形成することができる。例えば、スパッタリング法または真空蒸着法等の適宜の条件下において、Au層とSn層とを積層したときのエネルギーにより、Au層及びSn層の一部を合金化し、Au-Sn層を形成することができる。 Note that the Au-Sn layer can be formed by alloying parts of the adjacent Au layer and Sn layer when forming the adhesive film 3. For example, under appropriate conditions such as a sputtering method or a vacuum evaporation method, a part of the Au layer and the Sn layer is alloyed by the energy when the Au layer and the Sn layer are laminated to form an Au-Sn layer. Can be done.

第2の層部分6における最外層はAu層であることが好ましい。それによって、実装に際しパッケージ等に接する最外層が酸化し難く、接合力をより確実に高めることができる。 The outermost layer in the second layer portion 6 is preferably an Au layer. Thereby, the outermost layer in contact with the package etc. during mounting is less likely to be oxidized, and the bonding strength can be increased more reliably.

ここで、密着膜3におけるAuの重量の合計をM、Snの重量の合計をM、Au及びSnの重量の合計に対するAuの重量の比率をM/(M+M)とする。このとき、比率M/(M+M)が0.78より大きく、0.82より小さいことが好ましく、0.8であることが特に好ましい。この場合には、Au及びSnの融点(共晶温度)を280℃程度とすることができ、低温で密着膜3を合金化することができる。よって、パッケージ等にプリズム1を低温で接合することができる。 Here, the total weight of Au in the adhesive film 3 is M A , the total weight of Sn is M S , and the ratio of the weight of Au to the total weight of Au and Sn is M A /(M A +M S ) . At this time, the ratio M A /(M A +M S ) is preferably larger than 0.78 and smaller than 0.82, and particularly preferably 0.8. In this case, the melting point (eutectic temperature) of Au and Sn can be set to about 280° C., and the adhesive film 3 can be alloyed at a low temperature. Therefore, the prism 1 can be bonded to a package or the like at a low temperature.

ここで、上述したように、プリズム1を実装するパッケージ等には、Au膜等の金属膜が形成されていることが好ましい。パッケージ等のAu膜が形成された部分にプリズム1を接合するときには、当該Au膜から密着膜3へのAuの持ち込みが生じる。そのため、合金化後における密着膜3のAuの重量の比率M/(M+M)は、合金化前よりも大きくなる。したがって、このような場合には、密着膜3におけるAuの重量の比率M/(M+M)は、0.60以上、0.78以下であることが好ましく、0.68以上、0.75以下であることがより好ましい。合金化前の密着膜3の比率M/(M+M)を上記範囲内とすることにより、Au膜及び密着膜3の合金化後の密着膜3の比率M/(M+M)を、0.78より大きく、0.82より小さい範囲内とすることができる。それによって、Au及びSnの融点(共晶温度)を280℃程度とすることができ、低温で密着膜3を合金化することができる。よって、パッケージ等にプリズム1を低温でより確実に接合することができる。 Here, as described above, it is preferable that a metal film such as an Au film is formed on the package or the like in which the prism 1 is mounted. When the prism 1 is bonded to a portion of a package or the like on which an Au film is formed, Au is brought into the adhesive film 3 from the Au film. Therefore, the weight ratio M A /(M A +M S ) of Au in the adhesive film 3 after alloying becomes larger than before alloying. Therefore, in such a case, the weight ratio M A /(M A +M S ) of Au in the adhesive film 3 is preferably 0.60 or more and 0.78 or less, and 0.68 or more and 0. More preferably, it is .75 or less. By setting the ratio M A /(M A +M S ) of the adhesive film 3 before alloying within the above range, the ratio M A /(M A +M S ) of the adhesive film 3 after alloying between the Au film and the adhesive film 3 S ) can be in the range greater than 0.78 and less than 0.82. Thereby, the melting point (eutectic temperature) of Au and Sn can be set to about 280° C., and the adhesive film 3 can be alloyed at a low temperature. Therefore, the prism 1 can be more reliably bonded to a package or the like at a low temperature.

本実施形態のように、プリズム本体2は、底面2aに対向し、かつ斜面2bに接続されている上面2cを有することが好ましい。この場合には、プリズム1を移動させる際にチャッキングし易いため、プリズム1を容易に実装することができる。なお、プリズム本体2は、必ずしも上面2cを有していなくともよく、断面形状が略三角形等であってもよい。 As in this embodiment, the prism body 2 preferably has an upper surface 2c that faces the bottom surface 2a and is connected to the slope 2b. In this case, since the prism 1 is easily chucked when moving, the prism 1 can be easily mounted. Note that the prism body 2 does not necessarily have the upper surface 2c, and may have a substantially triangular cross-sectional shape.

(第2の実施形態)
図3は、本発明の第2の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。図3に示すように、本実施形態のプリズム11は、密着膜13の第2の層部分16において外側に位置する層ほど薄い点で、第1の実施形態と異なる。具体的には、第1の層16aの厚みをT、第2の層16bの厚みをT、第3の層16cの厚みをT、第4の層16dの厚みをT、第5の層16eの厚みをTとしたときに、T>T>T>T>Tである。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム11は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(Second embodiment)
FIG. 3 is an enlarged sectional view showing the vicinity of the adhesive film of a prism according to the second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, the prism 11 of this embodiment differs from the first embodiment in that the outer layer of the second layer portion 16 of the adhesive film 13 is thinner. Specifically, the thickness of the first layer 16a is T a , the thickness of the second layer 16b is T b , the thickness of the third layer 16 c is T c , the thickness of the fourth layer 16 d is T d , and the thickness of the fourth layer 16 d is T d . When the thickness of the layer 16e of No. 5 is T e , Ta > T b > T c > T d > T e . In other respects than the above, the prism 11 of this embodiment has the same configuration as the prism 1 of the first embodiment.

本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、密着膜13の溶融を伴うことなくプリズム11をパッケージ等に接合することができる。従って、プリズム11の位置精度を効果的に高めることができる。 Also in this embodiment, as in the first embodiment, the prism 11 can be bonded to a package or the like without melting the adhesive film 13. Therefore, the positional accuracy of the prism 11 can be effectively improved.

ところで、第5の層16eは最外層であるため、第5の層16eに隣接する層は、内側に位置する第4の層16dのみである。そのため、密着膜13の合金化に際し、第3の層16cや第4の層16dにおいては外側及び内側の両面を介した相互拡散が生じるが、第5の層16eにおいては内側の面のみを介した相互拡散が生じる。ここで、本実施形態においては、第5の層16eは第2の層部分16において最も薄い層である。よって、第5の層16eにおいて合金化に要する相互拡散の時間を効果的に短縮することができるため、第5の層16eをより確実に合金化することができ、かつ合金化の時間を短縮することができる。従って、密着膜13をより確実に合金化することができ、より確実に接合力を高めることができ、かつ生産性を高めることができる。 By the way, since the fifth layer 16e is the outermost layer, the only layer adjacent to the fifth layer 16e is the fourth layer 16d located inside. Therefore, when alloying the adhesive film 13, mutual diffusion occurs through both the outer and inner surfaces in the third layer 16c and the fourth layer 16d, but in the fifth layer 16e, interdiffusion occurs only through the inner surface. mutual diffusion occurs. Here, in this embodiment, the fifth layer 16e is the thinnest layer in the second layer portion 16. Therefore, since the interdiffusion time required for alloying in the fifth layer 16e can be effectively shortened, the fifth layer 16e can be alloyed more reliably, and the alloying time can be shortened. can do. Therefore, the adhesive film 13 can be alloyed more reliably, the bonding force can be more reliably increased, and productivity can be increased.

加えて、密着膜13の第2の層部分16において外側に位置する層ほど薄い。それによって、第5の層16eを薄くしても、第5の層16e以外の層もより確実に合金化することができる。従って、密着膜13をより一層確実に合金化することができ、より一層確実に接合力を高めることができる。 In addition, the outer layer of the second layer portion 16 of the adhesive film 13 is thinner. Thereby, even if the fifth layer 16e is made thinner, layers other than the fifth layer 16e can be alloyed more reliably. Therefore, the adhesive film 13 can be alloyed more reliably, and the bonding strength can be increased even more reliably.

なお、第2の層部分16において、第5の層16eが最も薄い層であり、かつ少なくとも2層が同じ厚みであってもよい。第2の層部分16の各層の厚みの関係は、T≧T≧T≧T>Tであってもよい。 Note that in the second layer portion 16, the fifth layer 16e may be the thinnest layer, and at least two layers may have the same thickness. The thickness relationship of each layer of the second layer portion 16 may be T a ≧T b ≧T c ≧T d >T e .

(第3の実施形態)
図4は、本発明の第3の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。密着膜の各層の厚みは、第1の実施形態における厚みから下記のように変更してもよい。例えば、本実施形態のプリズム21は、密着膜23の第2の層部分26において複数のAu層の厚みが互いに同一であり、かつ複数のSn層の厚みが外側に位置するほど厚い構成としてもよい。具体的には、第1の層26aの厚みをT、第2の層26bの厚みをT、第3の層26cの厚みをT、第4の層26dの厚みをT、第5の層26eの厚みをTとしたときに、Au層の厚みはT=T=T、Sn層の厚みはT<Tである。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム21は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(Third embodiment)
FIG. 4 is an enlarged sectional view showing the vicinity of the adhesive film of a prism according to the third embodiment of the present invention. The thickness of each layer of the adhesive film may be changed from the thickness in the first embodiment as described below. For example, the prism 21 of the present embodiment may have a configuration in which the plurality of Au layers have the same thickness in the second layer portion 26 of the adhesive film 23, and the thickness of the plurality of Sn layers becomes thicker as they are located on the outer side. good. Specifically, the thickness of the first layer 26a is T a , the thickness of the second layer 26b is T b , the thickness of the third layer 26 c is T c , the thickness of the fourth layer 26 d is T d , and the thickness of the fourth layer 26 d is T d . When the thickness of the layer 26e of No. 5 is T e , the thickness of the Au layer is T a =T c =T e and the thickness of the Sn layer is T b <T d . In other respects than the above, the prism 21 of this embodiment has the same configuration as the prism 1 of the first embodiment.

本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、密着膜23全体の溶融流動を伴うことなくプリズム21をパッケージ等に接合することができる。また、密着膜23が合金化された際に、内側に比べ外側におけるSnの重量比を高めることができ、プリズム21の位置精度をより一層効果的に高めることができる。 In this embodiment as well, as in the first embodiment, the prism 21 can be bonded to a package or the like without melting and flowing the entire adhesive film 23. Further, when the adhesive film 23 is alloyed, the weight ratio of Sn on the outside can be increased compared to the inside, and the positional accuracy of the prism 21 can be further effectively improved.

(第4の実施形態)
図5は、本発明の第4の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。密着膜の各層の厚みは、第1の実施形態における厚みから下記のように変更してもよい。例えば、本実施形態のプリズム31は、密着膜33の第2の層部分36において複数のAu層の厚みが外側に位置するほど薄く、かつ複数のSn層の厚みが互いに同一である構成としてもよい。具体的には、第1の層36aの厚みをT、第2の層36bの厚みをT、第3の層36cの厚みをT、第4の層36dの厚みをT、第5の層36eの厚みをTとしたときに、Au層の厚みはT>T>T、Sn層の厚みはT=Tである。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム31は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(Fourth embodiment)
FIG. 5 is an enlarged sectional view showing the vicinity of the adhesive film of a prism according to the fourth embodiment of the present invention. The thickness of each layer of the adhesive film may be changed from the thickness in the first embodiment as described below. For example, the prism 31 of the present embodiment may have a structure in which the thickness of the plurality of Au layers is thinner toward the outer side in the second layer portion 36 of the adhesive film 33, and the thickness of the plurality of Sn layers is the same. good. Specifically, the thickness of the first layer 36a is T a , the thickness of the second layer 36b is T b , the thickness of the third layer 36 c is T c , the thickness of the fourth layer 36 d is T d , and the thickness of the fourth layer 36 d is T d . When the thickness of the layer 36e of No. 5 is T e , the thickness of the Au layer is T a > T c > T e and the thickness of the Sn layer is T b = T d . In other respects than the above, the prism 31 of this embodiment has the same configuration as the prism 1 of the first embodiment.

本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、密着膜33全体の溶融流動を伴うことなくプリズム31をパッケージ等に接合することができる。また、密着膜33が合金化された際に、内側に比べ外側におけるSnの重量比を高めることができ、プリズム31の位置精度をより一層効果的に高めることができる。 In this embodiment, as in the first embodiment, the prism 31 can be bonded to a package or the like without melting and flowing the entire adhesive film 33. Further, when the adhesive film 33 is alloyed, the weight ratio of Sn on the outside can be increased compared to the inside, and the positional accuracy of the prism 31 can be further effectively improved.

(第5の実施形態)
図6は、本発明の第5の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。図6に示すように、本実施形態のプリズム41は、密着膜43が、第1の層部分5と第2の層部分6との間に積層された中間層部分47を有する点において第1の実施形態と異なる。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム41は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(Fifth embodiment)
FIG. 6 is an enlarged sectional view showing the vicinity of the adhesive film of the prism according to the fifth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6, the prism 41 of this embodiment has a first layer in that the adhesive film 43 has an intermediate layer portion 47 laminated between the first layer portion 5 and the second layer portion 6. This embodiment differs from the embodiment of . In other respects than the above, the prism 41 of this embodiment has the same configuration as the prism 1 of the first embodiment.

本実施形態においては、第2の層部分6は、第1の層部分5上に中間層部分47を介して間接的に積層されている。密着膜43が中間層部分47を有することにより、第1の層部分5に第2の層部分6の金属が拡散し難い。よって、プリズム本体2から密着膜43が剥離し難い。 In this embodiment, the second layer portion 6 is laminated indirectly on the first layer portion 5 via the intermediate layer portion 47. Since the adhesive film 43 has the intermediate layer portion 47, the metal of the second layer portion 6 is difficult to diffuse into the first layer portion 5. Therefore, the adhesive film 43 is difficult to peel off from the prism body 2.

中間層部分47は、Ni層、Pt層、Pd層、Ni-Cr混合層またはこれらを組み合わせた合金層であることが好ましい。それによって、第1の層部分5に第2の層部分6の金属がより一層拡散し難く、プリズム本体2から密着膜43がより一層剥離し難い。 The intermediate layer portion 47 is preferably a Ni layer, a Pt layer, a Pd layer, a Ni--Cr mixed layer, or an alloy layer combining these layers. This makes it even more difficult for the metal of the second layer portion 6 to diffuse into the first layer portion 5, making it even more difficult for the adhesive film 43 to peel off from the prism body 2.

なお、本発明において、Ni層は、Niを90重量%以上含む金属層である。また、Pt層は、Ptを90重量%以上含む金属層である。また、Pd層は、Pdを90重量%以上含む金属層である。こちらはバリア層として機能するが、Ni、Pt、Pdもしくはその合金層が90重量%以上含まれることでバリア層としての機能を果たせると考えられる。 Note that in the present invention, the Ni layer is a metal layer containing 90% by weight or more of Ni. Further, the Pt layer is a metal layer containing 90% by weight or more of Pt. Further, the Pd layer is a metal layer containing 90% by weight or more of Pd. This functions as a barrier layer, but it is thought that it can function as a barrier layer by containing 90% by weight or more of Ni, Pt, Pd, or an alloy layer thereof.

加えて、第1の実施形態と同様に、密着膜43全体の溶融流動を伴うことなくプリズム41をパッケージ等に接合することができる。従って、プリズム41の位置精度を効果的に高めることができる。 In addition, as in the first embodiment, the prism 41 can be bonded to a package or the like without melting and flowing the entire adhesive film 43. Therefore, the positional accuracy of the prism 41 can be effectively improved.

(第6の実施形態)
図7は、本発明の第6の実施形態に係るプリズムの断面図である。図7に示すように、本実施形態のプリズム51は、反射膜4がプリズム本体2の斜面2b及び上面2cに設けられている点において第1の実施形態と異なる。具体的には、反射膜4は斜面2bから上面2cにかけて連続的に設けられている。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム51は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(Sixth embodiment)
FIG. 7 is a sectional view of a prism according to a sixth embodiment of the invention. As shown in FIG. 7, the prism 51 of this embodiment differs from the first embodiment in that the reflective film 4 is provided on the slope 2b and upper surface 2c of the prism body 2. Specifically, the reflective film 4 is continuously provided from the slope 2b to the upper surface 2c. In other respects than the above, the prism 51 of this embodiment has the same configuration as the prism 1 of the first embodiment.

本実施形態においても、第1の実施形態と同様の密着膜3を有するため、プリズム51の位置精度を効果的に高めることができる。 Also in this embodiment, since the same adhesive film 3 as in the first embodiment is provided, the positional accuracy of the prism 51 can be effectively improved.

プリズム51の実装は、カメラによりプリズム51の位置を視認しながら行われることが望ましい。それによって、プリズム51の位置精度を高めることができる。さらに、本実施形態においては、反射膜4がプリズム本体2の上面2cに設けられている。これにより、反射膜4によってカメラ側に光が反射される。よって、プリズム51の輝度を高めることができ、カメラによってプリズム51を視認し易くすることができる。従って、より確実にプリズム51の位置確認をすることができ、プリズム51の位置精度をより確実に高めることができる。 It is desirable that the prism 51 be mounted while visually checking the position of the prism 51 using a camera. Thereby, the positional accuracy of the prism 51 can be improved. Furthermore, in this embodiment, a reflective film 4 is provided on the upper surface 2c of the prism body 2. As a result, the light is reflected by the reflective film 4 toward the camera. Therefore, the brightness of the prism 51 can be increased, and the prism 51 can be easily recognized by a camera. Therefore, the position of the prism 51 can be confirmed more reliably, and the positional accuracy of the prism 51 can be improved more reliably.

本実施形態においては、反射膜4はプリズム本体2の上面2cの全面に設けられている。もっとも、反射膜4は、上面2cの一部に設けられていてもよい。図8に示す第6の実施形態の変形例に係るプリズム61においては、反射膜4は、プリズム本体2の斜面から上面2cの一部に至っている。この場合においても、実装に際し、より確実に位置確認をすることができ、プリズム61の位置精度をより確実に高めることができる。 In this embodiment, the reflective film 4 is provided on the entire upper surface 2c of the prism body 2. However, the reflective film 4 may be provided on a part of the upper surface 2c. In a prism 61 according to a modification of the sixth embodiment shown in FIG. 8, the reflective film 4 extends from the slope of the prism body 2 to a part of the upper surface 2c. Even in this case, the position can be confirmed more reliably during mounting, and the positional accuracy of the prism 61 can be more reliably improved.

図7に示すプリズム51においては、斜面2b及び上面2cの反射膜4は一体として設けられている。なお、斜面2bに設けられた反射膜4と上面2cに設けられた反射膜4とが別体であってもよい。 In the prism 51 shown in FIG. 7, the reflective film 4 on the slope 2b and the upper surface 2c is provided as one piece. Note that the reflective film 4 provided on the slope 2b and the reflective film 4 provided on the upper surface 2c may be separate bodies.

(光デバイス)
(第7の実施形態)
図9は、本発明の第7の実施形態に係る光デバイスの断面図である。図9に示すように、光デバイス70は、第1の実施形態のプリズム1と、光学素子74と、プリズム1及び光学素子74を収容するパッケージ75とを備える。
(optical device)
(Seventh embodiment)
FIG. 9 is a cross-sectional view of an optical device according to a seventh embodiment of the present invention. As shown in FIG. 9, the optical device 70 includes the prism 1 of the first embodiment, an optical element 74, and a package 75 that accommodates the prism 1 and the optical element 74.

本実施形態では、光学素子74はプリズム1に光を出射する光源である。光源には、特に限定されないが、例えばLDやLED(Light Emitting Diode)等を用いることができる。なお、光学素子74は、プリズム1からの光を受光する受光素子であってもよい。 In this embodiment, the optical element 74 is a light source that emits light to the prism 1. Although the light source is not particularly limited, for example, an LD, an LED (Light Emitting Diode), or the like can be used. Note that the optical element 74 may be a light receiving element that receives light from the prism 1.

パッケージ75は、底部76及び底部76上に配置された側壁部77を有する容器状の部材である。パッケージ75は、例えば、セラミック材料により構成され、具体的には、アルミナや窒化アルミニウム等により構成される。底部76は実装面76aを有する。底部76の実装面76a上に光学素子74及びプリズム1が配置されている。側壁部77は内面77a及び外面を有する。底部76の実装面76a及び側壁部77の内面77aには、金属膜78が設けられている。具体的には、本実施形態では、金属膜78はAu膜である。なお、金属膜78はAu膜には限定されない。 The package 75 is a container-shaped member having a bottom portion 76 and a side wall portion 77 disposed on the bottom portion 76 . The package 75 is made of, for example, a ceramic material, and specifically, made of alumina, aluminum nitride, or the like. The bottom portion 76 has a mounting surface 76a. The optical element 74 and the prism 1 are arranged on the mounting surface 76a of the bottom part 76. The side wall portion 77 has an inner surface 77a and an outer surface. A metal film 78 is provided on the mounting surface 76a of the bottom portion 76 and the inner surface 77a of the side wall portion 77. Specifically, in this embodiment, the metal film 78 is an Au film. Note that the metal film 78 is not limited to an Au film.

プリズム1は、密着膜3によりパッケージ75の実装面76aに接合されている。光学素子74は、特に限定されないが、例えばはんだ等により実装面76aに接合されていてもよい。 The prism 1 is bonded to the mounting surface 76a of the package 75 via the adhesive film 3. The optical element 74 may be bonded to the mounting surface 76a by, for example, solder, although this is not particularly limited.

パッケージ75は、金属膜78を必ずしも有していなくともよい。もっとも、パッケージ75は、本実施形態のように金属膜78を有することが好ましい。プリズム1の密着膜3と金属膜78とを合金化することにより、プリズム1とパッケージ75との間の接合力をより確実に、かつ効果的に高めることができる。このような構成は、特に、プリズム1とパッケージ75との熱膨張率差が比較的大きい場合に有効である。 The package 75 does not necessarily have to include the metal film 78. However, it is preferable that the package 75 has the metal film 78 as in this embodiment. By alloying the adhesive film 3 of the prism 1 and the metal film 78, the bonding force between the prism 1 and the package 75 can be increased more reliably and effectively. Such a configuration is particularly effective when the difference in thermal expansion coefficient between the prism 1 and the package 75 is relatively large.

金属膜78はAu膜であることが好ましい。それによって、金属膜78が酸化し難い。従って、光デバイス70の製造に際し、プリズム1とパッケージ75との間の接合力をより確実に高めることができる。 Preferably, the metal film 78 is an Au film. Thereby, the metal film 78 is difficult to oxidize. Therefore, when manufacturing the optical device 70, the bonding force between the prism 1 and the package 75 can be increased more reliably.

本実施形態では、底部76の実装面76aの全面及び側壁部77の内面77aに金属膜78が設けられている。もっとも、金属膜78は、少なくともプリズム1が配置される部分に設けられていればよい。 In this embodiment, a metal film 78 is provided on the entire surface of the mounting surface 76a of the bottom portion 76 and on the inner surface 77a of the side wall portion 77. However, it is sufficient that the metal film 78 is provided at least in the portion where the prism 1 is arranged.

パッケージ75の側壁部77上には、光学素子74及びプリズム1を封止するように、蓋体79が設けられている。蓋体79は、特に限定されないが、本実施形態ではガラス蓋である。 A lid 79 is provided on the side wall portion 77 of the package 75 so as to seal the optical element 74 and the prism 1. Although the lid body 79 is not particularly limited, it is a glass lid in this embodiment.

蓋体79とパッケージ75との接合の方法は特に限定されないが、本実施形態では、例えば、SnNi接合により接合されている。この場合には、接合後においてガスが生じないため、プリズム1の反射膜4に不純物が付着し難く、反射率の劣化が生じ難い。上記接合方法は一例であり、SnAg接合、SnAgCu接合により接合されてもよい。 Although the method of joining the lid 79 and the package 75 is not particularly limited, in this embodiment, for example, they are joined by SnNi bonding. In this case, since no gas is generated after bonding, impurities are less likely to adhere to the reflective film 4 of the prism 1, and reflectance is less likely to deteriorate. The above bonding method is an example, and bonding may be performed by SnAg bonding or SnAgCu bonding.

図9に示すように、光学素子74から出射した光Aは、プリズム1において反射され、蓋体79を通り、光デバイス70外に出射される。 As shown in FIG. 9, light A emitted from the optical element 74 is reflected by the prism 1, passes through the lid 79, and is emitted to the outside of the optical device 70.

光デバイス70は第1の実施形態のプリズム1を有するため、光デバイス70におけるプリズム1の位置精度を効果的に高めることができる。 Since the optical device 70 includes the prism 1 of the first embodiment, the positional accuracy of the prism 1 in the optical device 70 can be effectively improved.

光デバイス70はマルチチップに用いてもよい。マルチチップは、例えば、実装基板と、実装基板上に配置された複数の光デバイス70とを備える。マルチチップの光デバイスは第1の実施形態のプリズム1を有するため、マルチチップにおいても、プリズム1の位置精度を効果的に高めることができる。 The optical device 70 may be used as a multi-chip. The multi-chip includes, for example, a mounting board and a plurality of optical devices 70 arranged on the mounting board. Since a multi-chip optical device includes the prism 1 of the first embodiment, the positional accuracy of the prism 1 can be effectively improved even in a multi-chip device.

(プリズム)
(第8の実施形態)
図10は、第8の実施形態に係るプリズムの断面図である。図10に示すように、本実施形態のプリズムは、密着膜83Aの第2の層部分86Aが応力緩和層87Aを有する点において、第1の実施形態と異なる。具体的には、応力緩和層87Aは、複数のAu層のうちの一層である第3の層に相当する。上記以外の点においては、本実施形態のプリズムは第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(prism)
(Eighth embodiment)
FIG. 10 is a cross-sectional view of a prism according to the eighth embodiment. As shown in FIG. 10, the prism of this embodiment differs from the first embodiment in that the second layer portion 86A of the adhesive film 83A includes a stress relaxation layer 87A. Specifically, the stress relaxation layer 87A corresponds to the third layer, which is one of the plurality of Au layers. In other respects than the above, the prism of this embodiment has the same configuration as the prism 1 of the first embodiment.

応力緩和層87Aの厚みは、他のAu層である、第1の層6a及び第5の層6eの平均の厚みと異なる。より具体的には、応力緩和層87Aの厚みは、第2の層部分86Aにおける他のAu層の平均の厚みよりも厚い。 The thickness of the stress relaxation layer 87A is different from the average thickness of the other Au layers, the first layer 6a and the fifth layer 6e. More specifically, the thickness of the stress relaxation layer 87A is thicker than the average thickness of the other Au layers in the second layer portion 86A.

ここで、Au層とSn層とは、互いに逆方向の応力を有する。第2の層部分におけるAu層及びSn層のうち一方の応力が他方の応力よりも大きい場合には、プリズムをパッケージに接合したときに、パッケージに応力が加わることとなる。第2の層部分におけるAu層及びSn層が多層になるほど、応力は大きくなる。 Here, the Au layer and the Sn layer have stresses in opposite directions. If the stress in one of the Au layer and the Sn layer in the second layer portion is greater than the stress in the other, stress will be applied to the package when the prism is joined to the package. As the number of Au layers and Sn layers in the second layer portion increases, the stress increases.

これに対して、本実施形態においては、第2の層部分86Aは応力緩和層87Aを有する。これにより、複数のAu層の応力の合計と複数のSn層の応力の合計との大小関係を、等しい関係に近づけることができる。よって、プリズムを実装したときの、パッケージに加わる応力を緩和することができる。従って、プリズムがパッケージから剥離し難い。 In contrast, in this embodiment, the second layer portion 86A has a stress relaxation layer 87A. Thereby, the magnitude relationship between the total stress of the plurality of Au layers and the total stress of the plurality of Sn layers can be brought close to being equal. Therefore, stress applied to the package when the prism is mounted can be alleviated. Therefore, the prism is difficult to peel off from the package.

密着膜83Aが応力緩和層87Aを有することにより、Au層の応力の合計を大きい方に調整することができるため、本実施形態はSn層の応力の合計が大きい場合に好適である。応力緩和層87Aの厚みは、他のAu層の厚みの平均の1/2以上、5倍以下であることが好ましい。それによって、プリズムをパッケージ等に実装した際、パッケージ等に加わる応力を効果的に緩和することができ、プリズムのパッケージ等からの剥離を効果的に抑制することができる。 Since the adhesive film 83A has the stress relaxation layer 87A, the total stress of the Au layer can be adjusted to a large value, so this embodiment is suitable when the total stress of the Sn layer is large. The thickness of the stress relaxation layer 87A is preferably 1/2 or more and 5 times or less of the average thickness of the other Au layers. Thereby, when the prism is mounted on a package or the like, stress applied to the package or the like can be effectively alleviated, and peeling of the prism from the package or the like can be effectively suppressed.

例えば、応力緩和層87A以外の複数のAu層の厚みを均一とし、複数のSn層の厚みを均一としてもよい。この場合には、密着膜93の形成に際し、応力緩和層87Aの厚みのみを他のAu層の厚みと異ならせればよい。よって、製造工程を単純化することができる。従って、生産性を高めることができ、かつプリズムがパッケージ等から剥離し難い。もっとも、応力緩和層87A以外の複数のAu層の厚み及び複数のSn層の厚みは、均一ではなくともよい。 For example, the thicknesses of the plurality of Au layers other than the stress relaxation layer 87A may be made uniform, and the thicknesses of the plurality of Sn layers may be made uniform. In this case, when forming the adhesive film 93, only the thickness of the stress relaxation layer 87A may be made different from the thickness of the other Au layers. Therefore, the manufacturing process can be simplified. Therefore, productivity can be increased, and the prism is less likely to peel off from the package or the like. However, the thicknesses of the plurality of Au layers and the thicknesses of the plurality of Sn layers other than the stress relaxation layer 87A may not be uniform.

さらに、本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、密着膜83Aの溶融を伴うことなくプリズムをパッケージ等に接合することができる。従って、プリズムの位置精度を効果的に高めることができる。 Furthermore, in this embodiment as well, as in the first embodiment, the prism can be bonded to a package or the like without melting the adhesive film 83A. Therefore, the positional accuracy of the prism can be effectively improved.

以下において、本実施形態と応力緩和層の構成のみが異なる第9~第11の実施形態を示す。第9~第11の実施形態においても、本実施形態と同様に、プリズムの位置精度を効果的に高めることができ、かつパッケージ等からプリズムが剥離し難い。 Below, ninth to eleventh embodiments that differ from this embodiment only in the structure of the stress relaxation layer will be shown. In the ninth to eleventh embodiments, as in the present embodiment, the positional accuracy of the prism can be effectively improved, and the prism is difficult to peel off from the package or the like.

(第9の実施形態)
図11は、第9の実施形態に係るプリズムの断面図である。図11に示すように、本実施形態においても、密着膜83Bの第2の層部分86Bにおける応力緩和層87Bは、複数のAu層のうちの一層である第3の層に相当する。応力緩和層87Bの厚みは、第2の層部分86Aにおける、応力緩和層87B以外のAu層の厚みの平均よりも薄い。
(Ninth embodiment)
FIG. 11 is a sectional view of a prism according to the ninth embodiment. As shown in FIG. 11, also in this embodiment, the stress relaxation layer 87B in the second layer portion 86B of the adhesive film 83B corresponds to the third layer, which is one of the plurality of Au layers. The thickness of the stress relaxation layer 87B is thinner than the average thickness of the Au layers other than the stress relaxation layer 87B in the second layer portion 86A.

密着膜83Bが応力緩和層87Bを有することにより、Au層の応力の合計を小さい方に調整することができるため、本実施形態はSn層の応力の合計が小さい場合に好適である。応力緩和層87Bの厚みは、他のAu層の厚みの平均の1/5以上、1/2以下であることが好ましく、1/5以上、1/4以下であることがより好ましい。それによって、プリズムをパッケージ等に実装した際、パッケージ等に加わる応力を効果的に緩和することができ、プリズムのパッケージ等からの剥離を効果的に抑制することができる。 Since the adhesion film 83B has the stress relaxation layer 87B, the total stress of the Au layer can be adjusted to a smaller value, so this embodiment is suitable when the total stress of the Sn layer is small. The thickness of the stress relaxation layer 87B is preferably 1/5 or more and 1/2 or less, more preferably 1/5 or more and 1/4 or less of the average thickness of the other Au layers. Thereby, when the prism is mounted on a package or the like, stress applied to the package or the like can be effectively alleviated, and peeling of the prism from the package or the like can be effectively suppressed.

(第10の実施形態)
図12は、第10の実施形態に係るプリズムの断面図である。図12に示すように、本実施形態の密着膜83Cの第2の層部分86Cにおける応力緩和層87Cは、複数のSn層のうちの一層である第4の層に相当する。応力緩和層87Cの厚みは、第2の層部分86Cにおける、応力緩和層87C以外のSn層の厚みの平均よりも厚い。
(Tenth embodiment)
FIG. 12 is a cross-sectional view of a prism according to the tenth embodiment. As shown in FIG. 12, the stress relaxation layer 87C in the second layer portion 86C of the adhesive film 83C of this embodiment corresponds to a fourth layer that is one of the plurality of Sn layers. The thickness of the stress relaxation layer 87C is thicker than the average thickness of the Sn layers other than the stress relaxation layer 87C in the second layer portion 86C.

密着膜83Cが応力緩和層87Cを有することにより、Sn層の応力の合計を大きい方に調整することができるため、本実施形態はAu層の応力の合計が大きい場合に好適である。応力緩和層87Cの厚みは、他のSn層の厚みの平均の1/2以上、5倍以下であることが好ましい。それによって、プリズムをパッケージ等に実装した際、パッケージ等に加わる応力を効果的に緩和することができ、プリズムのパッケージ等からの剥離を効果的に抑制することができる。 Since the adhesive film 83C has the stress relaxation layer 87C, the total stress of the Sn layer can be adjusted to be large, so this embodiment is suitable when the total stress of the Au layer is large. The thickness of the stress relaxation layer 87C is preferably 1/2 or more and 5 times or less of the average thickness of the other Sn layers. Thereby, when the prism is mounted on a package or the like, stress applied to the package or the like can be effectively alleviated, and peeling of the prism from the package or the like can be effectively suppressed.

(第11の実施形態)
図13は、第11の実施形態に係るプリズムの断面図である。図13に示すように、本実施形態においても、密着膜83Dの第2の層部分86Dにおける応力緩和層87Dは、複数のSn層のうちの一層である第4の層に相当する。応力緩和層87Dの厚みは、第2の層部分86Dにおける、応力緩和層87D以外のSn層の厚みの平均よりも薄い。
(Eleventh embodiment)
FIG. 13 is a cross-sectional view of a prism according to the eleventh embodiment. As shown in FIG. 13, also in this embodiment, the stress relaxation layer 87D in the second layer portion 86D of the adhesive film 83D corresponds to the fourth layer, which is one of the plurality of Sn layers. The thickness of the stress relaxation layer 87D is thinner than the average thickness of the Sn layers other than the stress relaxation layer 87D in the second layer portion 86D.

密着膜83Dが応力緩和層87Dを有することにより、Sn層の応力の合計を小さい方に調整することができるため、本実施形態はAu層の応力の合計が小さい場合に好適である。応力緩和層87Dの厚みは、他のSn層の厚みの平均の1/5以上、1/2以下であることが好ましく、1/5以上、1/3以下であることがより好ましい。それによって、プリズムをパッケージ等に実装した際、パッケージ等に加わる応力を効果的に緩和することができ、プリズムのパッケージ等からの剥離を効果的に抑制することができる。 Since the adhesion film 83D has the stress relaxation layer 87D, the total stress of the Sn layer can be adjusted to a smaller value, so this embodiment is suitable when the total stress of the Au layer is small. The thickness of the stress relaxation layer 87D is preferably 1/5 or more and 1/2 or less, more preferably 1/5 or more and 1/3 or less of the average thickness of the other Sn layers. Thereby, when the prism is mounted on a package or the like, stress applied to the package or the like can be effectively alleviated, and peeling of the prism from the package or the like can be effectively suppressed.

上記各実施形態において、密着膜の第2の層部分がAu層及びSn層のうち少なくとも一方の層を有する例を示した。なお、密着膜の第2の層部分においては、Au層及びSn層が合金化されていてもよい。この例を以下において示す。 In each of the embodiments described above, examples have been given in which the second layer portion of the adhesive film includes at least one of the Au layer and the Sn layer. Note that in the second layer portion of the adhesive film, the Au layer and the Sn layer may be alloyed. An example of this is shown below.

(第12の実施形態)
図14は、第12の実施形態に係るプリズムの断面図である。図14に示すように、本実施形態は、第2の層部分96がAu及びSnの合金からなるAu-Sn層である点及び密着膜93が最外層部分98を有する点において、第1の実施形態と異なる。最外層部分98は第2の層部分96上に積層されている。最外層部分98はAu層である。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム91は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(12th embodiment)
FIG. 14 is a cross-sectional view of a prism according to the twelfth embodiment. As shown in FIG. 14, this embodiment is different from the first layer in that the second layer portion 96 is an Au-Sn layer made of an alloy of Au and Sn and that the adhesive film 93 has an outermost layer portion 98. Different from the embodiment. The outermost layer portion 98 is laminated onto the second layer portion 96. The outermost layer portion 98 is an Au layer. In other respects than the above, the prism 91 of this embodiment has the same configuration as the prism 1 of the first embodiment.

密着膜93の第2の層部分96の形成に際しては、例えば、Au層及びSn層を交互に積層し、次に、積層されたAu層及びSn層を加熱すればよい。これにより、Au層及びSn層を合金化することによって、第2の層部分96を形成することができる。 In forming the second layer portion 96 of the adhesive film 93, for example, Au layers and Sn layers may be alternately stacked, and then the stacked Au layers and Sn layers may be heated. Thereby, the second layer portion 96 can be formed by alloying the Au layer and the Sn layer.

本実施形態においては、最外層部分98が密着膜93の最外層である。最外層部分98は、例えば、スパッタリング法や真空蒸着法等により形成することができる。なお、密着膜93は最外層部分98を有しなくともよい。この場合には、他の第1の実施形態等と同様に、第2の層部分の最外層が密着膜の最外層である。なお、具体的には、本実施形態のように第2の層部分96がAu-Sn層であり、最外層部分98を有しない場合には、Au-Sn層が最外層である。 In this embodiment, the outermost layer portion 98 is the outermost layer of the adhesive film 93. The outermost layer portion 98 can be formed by, for example, a sputtering method, a vacuum evaporation method, or the like. Note that the adhesive film 93 does not need to have the outermost layer portion 98. In this case, similarly to the other first embodiments, the outermost layer of the second layer portion is the outermost layer of the adhesive film. Specifically, when the second layer portion 96 is an Au-Sn layer and does not have the outermost layer portion 98 as in this embodiment, the Au-Sn layer is the outermost layer.

プリズム91は、他の実施形態のプリズムと同様に、パッケージ等に実装される。本実施形態においても、密着膜93全体の溶融流動を伴わずに、プリズム91をパッケージ等に接合することができる。よって、プリズム91の位置精度を効果的に高めることができる。 The prism 91 is mounted in a package or the like like the prisms of other embodiments. Also in this embodiment, the prism 91 can be bonded to a package or the like without melting and flowing the entire adhesive film 93. Therefore, the positional accuracy of the prism 91 can be effectively improved.

密着膜93の第2の層部分96の厚みは、2.5μm以上、5.9μm以下であることが好ましい。それによって、パッケージ等にプリズム91を実装するに際し、密着膜93による接合力を十分に高めることができる。なお、第1の層部分の厚みは、0.1以上、0.5μm以下であることが好ましい。密着膜の全体の厚みは、3μm以上、6μm以下であることが好ましい。 The thickness of the second layer portion 96 of the adhesive film 93 is preferably 2.5 μm or more and 5.9 μm or less. Thereby, when mounting the prism 91 on a package or the like, the bonding force of the adhesive film 93 can be sufficiently increased. Note that the thickness of the first layer portion is preferably 0.1 or more and 0.5 μm or less. The total thickness of the adhesive film is preferably 3 μm or more and 6 μm or less.

本実施形態のように、密着膜93は最外層部分98を有することが好ましい。本実施形態においては、Au-Sn層である第2の層部分96上に、Au層である最外層部分98が積層されている。この場合、実装に際しパッケージ等に接する部分は最外層部分98である。よって、実装に際し密着膜93が酸化し難く、密着膜93による接合力をより確実に高めることができる。 It is preferable that the adhesive film 93 has an outermost layer portion 98 as in this embodiment. In this embodiment, an outermost layer portion 98, which is an Au layer, is laminated on a second layer portion 96, which is an Au-Sn layer. In this case, the portion that comes into contact with the package etc. during mounting is the outermost layer portion 98. Therefore, the adhesive film 93 is less likely to be oxidized during mounting, and the bonding force of the adhesive film 93 can be increased more reliably.

本実施形態においても、第5の実施形態と同様に、第1の層部分5と第2の層部分96との間に中間層部分が積層されていてもよい。これにより、第1の層部分5に第2の層部分96の金属が拡散し難い。よって、プリズム本体2から密着膜93が剥離し難い。 Also in this embodiment, as in the fifth embodiment, an intermediate layer portion may be laminated between the first layer portion 5 and the second layer portion 96. This makes it difficult for the metal of the second layer portion 96 to diffuse into the first layer portion 5. Therefore, the adhesive film 93 is difficult to peel off from the prism body 2.

(第13の実施形態)
図15は、第13の実施形態に係るプリズムの断面図である。図15に示すように、本実施形態は、プリズム本体2の底面2aと斜面2bとの稜線に、保護膜105が設けられている点において、第1の実施形態と異なる。上記以外の点においては、本実施形態のプリズムは第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(13th embodiment)
FIG. 15 is a cross-sectional view of a prism according to the thirteenth embodiment. As shown in FIG. 15, this embodiment differs from the first embodiment in that a protective film 105 is provided on the ridgeline between the bottom surface 2a and the slope 2b of the prism body 2. In other respects than the above, the prism of this embodiment has the same configuration as the prism 1 of the first embodiment.

保護膜105は反射膜4と一体的に設けられている。保護膜105は、密着膜3に接続されている。なお、保護膜105は密着膜3に必ずしも接続されていなくともよい。保護膜105は、例えば、スパッタリング法または真空蒸着法等により形成することができる。本実施形態のように、保護膜105が反射膜4と一体である場合には、反射膜4と同時に保護膜105を形成することもできる。 The protective film 105 is provided integrally with the reflective film 4. The protective film 105 is connected to the adhesive film 3. Note that the protective film 105 does not necessarily have to be connected to the adhesive film 3. The protective film 105 can be formed by, for example, a sputtering method, a vacuum evaporation method, or the like. When the protective film 105 is integrated with the reflective film 4 as in this embodiment, the protective film 105 can be formed at the same time as the reflective film 4.

もっとも、保護膜105は反射膜4と別体として設けられていてもよい。あるいは、保護膜105は密着膜3と一体的に設けられていてもよい。この場合には、保護膜105は、反射膜4に接続されていてもよく、または反射膜4に接続されていなくともよい。保護膜105が密着膜3と一体である場合には、保護膜105は、密着膜3と同様の複数の層のうち少なくとも一層を有する。 However, the protective film 105 may be provided separately from the reflective film 4. Alternatively, the protective film 105 may be provided integrally with the adhesive film 3. In this case, the protective film 105 may or may not be connected to the reflective film 4. When the protective film 105 is integrated with the adhesive film 3, the protective film 105 has at least one layer among the plurality of layers similar to the adhesive film 3.

プリズムが保護膜105を有することにより、プリズム本体2に欠けが生じ難い。保護膜105は、反射膜4及び密着膜3の双方に接続されていることが好ましい。それによって、プリズム本体2に欠けがより一層生じ難い。 Since the prism has the protective film 105, the prism body 2 is less likely to be chipped. It is preferable that the protective film 105 is connected to both the reflective film 4 and the adhesive film 3. This makes it even more difficult for the prism body 2 to be chipped.

本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、密着膜3の溶融を伴うことなくプリズムをパッケージ等に接合することができる。従って、プリズムの位置精度を効果的に高めることができる。 Also in this embodiment, as in the first embodiment, the prism can be bonded to a package or the like without melting the adhesive film 3. Therefore, the positional accuracy of the prism can be effectively improved.

(接合力の評価)
図1に示す第1の実施形態のプリズム1において、密着膜3の最外層としての、第2の層部分6の最外層の算術平均粗さRaを異ならせて、パッケージとの接合性を確認した。なお、密着膜3の最外層はAu層とした。具体的には、最外層の算術平均粗さRaをRaとしたときに、Ra≦0.05、0.05<Ra≦0.09、0.09<Ra≦0.15、0.15<Ra≦0.20とした。なお、本明細書における算術平均粗さRaはJIS B 0601:2013に基づく。
(Evaluation of bonding force)
In the prism 1 of the first embodiment shown in FIG. 1, the arithmetic mean roughness Ra of the outermost layer of the second layer portion 6 as the outermost layer of the adhesive film 3 was varied to check the bondability with the package. did. Note that the outermost layer of the adhesive film 3 was an Au layer. Specifically, when the arithmetic mean roughness Ra of the outermost layer is Ra, Ra≦0.05, 0.05<Ra≦0.09, 0.09<Ra≦0.15, 0.15< Ra≦0.20. Note that the arithmetic mean roughness Ra in this specification is based on JIS B 0601:2013.

接合性の確認においては、パッケージとして、Auめっきされた部分を有する窒化アルミニウム基板を用いた。プリズム1を窒化アルミニウム基板のAuめっきされた部分に、約320℃に加熱することにより接合した。その後、プリズム1の側面から力を加えた。具体的には、プリズム1の密着膜3が窒化アルミニウム基板から剥離するまで、またはプリズム本体2が密着膜3から剥離するまで、あるいは剥離が生じずプリズム本体2が破壊されるまで、プリズム1に力を加えた。接合性の確認は、算術平均粗さRaを異ならせた各場合において、それぞれ15回行った。結果を表1に示す。 In checking the bondability, an aluminum nitride substrate having an Au-plated portion was used as a package. The prism 1 was bonded to the Au-plated portion of the aluminum nitride substrate by heating it to about 320°C. After that, force was applied from the side of prism 1. Specifically, the prism 1 is heated until the adhesive film 3 of the prism 1 peels off from the aluminum nitride substrate, or until the prism body 2 peels off from the adhesive film 3, or until no peeling occurs and the prism body 2 is destroyed. added force. Confirmation of bondability was performed 15 times in each case with different arithmetic mean roughness Ra. The results are shown in Table 1.

表1において、接合性の評価は◎が最も高く、○が次に高く、△が最も低い。「剥離無し」とは、密着膜3がパッケージから剥離していないことをいい、プリズム本体2が破壊された場合またはプリズム本体2が密着膜3から剥離した場合を含む。「一部剥離」とは、密着膜3の一部がパッケージから剥離したこという。 In Table 1, the evaluation of bondability is the highest for ◎, the second highest for ○, and the lowest for Δ. "No peeling" means that the adhesive film 3 has not peeled off from the package, and includes cases where the prism body 2 is destroyed or where the prism body 2 is peeled off from the adhesive film 3. "Partially peeled off" means that a part of the adhesive film 3 has peeled off from the package.

Figure 0007427888000001
Figure 0007427888000001

表1に示すように、密着膜3の最外層の算術平均粗さRaを異ならせたいずれの場合においても、「剥離無し」または「一部剥離」であり、密着膜3はパッケージから完全に剥離していないことがわかる。さらに、最外層の算術平均粗さRaの値が小さいほど、「剥離無し」の割合が大きくなっていることがわかる。 As shown in Table 1, in all cases where the arithmetic mean roughness Ra of the outermost layer of the adhesive film 3 was changed, there was "no peeling" or "partial peeling", and the adhesive film 3 was completely removed from the package. It can be seen that it has not peeled off. Furthermore, it can be seen that the smaller the value of the arithmetic mean roughness Ra of the outermost layer, the higher the percentage of "no peeling".

密着膜3の最外層の算術平均粗さRaは、0.20.μm以下であることが好ましく、0.15μm以下であることがより好ましく、0.09μm以下であることがさらに好ましく、0.05μm以下であることが特に好ましい。それによって、実装に際し、パッケージ等と密着膜93との密着性をより一層効果的に高めることができる。従って、接合力をより一層効果的に高めることができる。 The arithmetic mean roughness Ra of the outermost layer of the adhesive film 3 is 0.20. It is preferably at most μm, more preferably at most 0.15 μm, even more preferably at most 0.09 μm, particularly preferably at most 0.05 μm. Thereby, the adhesion between the package and the like and the adhesive film 93 can be further effectively increased during mounting. Therefore, the bonding force can be increased even more effectively.

同様に、図14に示す第12の実施形態において、密着膜93が最外層部分98を有しない場合においても、密着膜93の最外層としての、第2の層部分96の算術平均粗さRaが上記範囲内であることが好ましい。それによって、接合力をより一層効果的に高めることができる。 Similarly, in the twelfth embodiment shown in FIG. 14, even when the adhesive film 93 does not have the outermost layer portion 98, the arithmetic mean roughness Ra of the second layer portion 96 as the outermost layer of the adhesive film 93 is preferably within the above range. Thereby, the bonding force can be increased even more effectively.

(応力の評価)
プリズム密着膜の、応力の大きさを評価した。図16に示す、両側面が対向する方向において延びているプリズムの母材91Aをダイシングシートに貼り付けた。次に、一点鎖線I-Iに沿ってプリズムの母材91Aを切断し、個片化した。なお、個片化後のプリズムは、図14に示す第12の実施形態のプリズムと同様の構成を有する。密着膜93のパッケージに対する応力が大きい場合には、個片化時に応力が解放されるときの衝撃が大きいため、プリズムが剥離し易い。よって、剥離する割合が大きいほど、密着膜93の応力が大きい。
(Evaluation of stress)
The magnitude of stress on the prism adhesion film was evaluated. A prism base material 91A shown in FIG. 16 with both side surfaces extending in opposing directions was attached to a dicing sheet. Next, the prism base material 91A was cut along the dashed line II to separate the prism into individual pieces. Note that the prism after being singulated has the same configuration as the prism of the twelfth embodiment shown in FIG. 14. If the stress of the adhesive film 93 on the package is large, the prisms are likely to peel off because the impact when the stress is released during singulation is large. Therefore, the greater the rate of peeling, the greater the stress in the adhesive film 93.

応力の評価は、密着膜93の第2の層部分96の厚み等を異ならせて、条件1~条件4において行った。具体的には、条件1においては、第2の層部分96の厚みを3μmとし、条件2~4においては、第2の層部分96の厚みを6μmとした。さらに、条件3及び条件4においては、ダイシングシートにプリズムの母材91Aを貼り付ける前に加熱処理を行った。具体的には、条件3では、加熱処理を窒素雰囲気下200℃において2時間行った。条件4では、加熱処理を窒素雰囲気下200℃において5時間行った。応力の大きさの評価の結果を表2に示す。 The stress evaluation was performed under Conditions 1 to 4 while varying the thickness of the second layer portion 96 of the adhesive film 93. Specifically, in Condition 1, the thickness of the second layer portion 96 was 3 μm, and in Conditions 2 to 4, the thickness of the second layer portion 96 was 6 μm. Furthermore, under conditions 3 and 4, heat treatment was performed before attaching the prism base material 91A to the dicing sheet. Specifically, under condition 3, the heat treatment was performed at 200° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere. Under condition 4, heat treatment was performed at 200° C. for 5 hours under a nitrogen atmosphere. Table 2 shows the results of stress magnitude evaluation.

表2において、◎の場合に応力は最も小さく、○が次に小さく、△が最も大きい。 In Table 2, the stress is the smallest in the case of ◎, the next smallest in the case of ◯, and the largest in the case of △.

Figure 0007427888000002
Figure 0007427888000002

表2に示すように、条件1~条件4においていずれも、プリズム91のパッケージからの剥離は50%以下に抑制されている。さらに、第2の層部分96の厚みが異なる条件1及び条件2を比較すると、第2の層部分96が薄い条件1において、応力はより一層小さい。このように、第2の層部分96が薄いほど、密着膜93の応力が小さくなることがわかる。密着膜93の第2の層部分96の厚みは、6μm以下であることが好ましく、3μm以下であることがより好ましい。それによって、応力をより一層小さくすることができる。 As shown in Table 2, under all conditions 1 to 4, the peeling of the prism 91 from the package was suppressed to 50% or less. Furthermore, when comparing conditions 1 and 2 in which the second layer portion 96 has a different thickness, the stress is even smaller in condition 1 where the second layer portion 96 is thin. Thus, it can be seen that the thinner the second layer portion 96 is, the smaller the stress in the adhesive film 93 is. The thickness of the second layer portion 96 of the adhesive film 93 is preferably 6 μm or less, more preferably 3 μm or less. Thereby, stress can be further reduced.

第2の層部分96の厚みが同じである条件2及び条件3を比較すると、プリズムの母材91Aをダイシングシートに貼り付ける前に加熱処理を行った条件3において、応力がより一層小さい。さらに、第2の層部分96の厚みが同じであり、上記加熱処理を行った条件3及び条件4を比較すると、上記加熱処理の時間が長い条件4において、応力がより一層小さい。このように、上記加熱処理の時間が長いほど応力を抑制できることがわかる。プリズムをダイシングシートに貼り付ける前に加熱処理を行うことが好ましく、上記加熱処理を2時間から5時間程度行うことが好ましい。それによって、応力をより一層効果的に抑制することができる。 Comparing conditions 2 and 3 in which the thickness of the second layer portion 96 is the same, stress is even smaller in condition 3 in which heat treatment is performed before the prism base material 91A is attached to the dicing sheet. Furthermore, when comparing conditions 3 and 4 in which the thickness of the second layer portion 96 is the same and the heat treatment is performed, the stress is even smaller in condition 4 where the heat treatment takes a longer time. Thus, it can be seen that the longer the heat treatment time is, the more stress can be suppressed. It is preferable to perform heat treatment before pasting the prism on the dicing sheet, and it is preferable to perform the above heat treatment for about 2 to 5 hours. Thereby, stress can be suppressed even more effectively.

1,11,21,31,41,51,61,91…プリズム
2…プリズム本体
2a…底面
2b…斜面
2c…上面
3,13,23,33,43,83A~83D,93…密着膜
4…反射膜
5…第1の層部分
6,16,26,36,86A~86D,96…第2の層部分
6a,16a,26a,36a…第1の層
6b,16b,26b,36b…第2の層
6c,16c,26c,36c…第3の層
6d,16d,26d,36d…第4の層
6e,16e,26e,36e…第5の層
47…中間層部分
70…光デバイス
74…光学素子
75…パッケージ
76…底部
76a…実装面
77…側壁部
77a…内面
78…金属膜
79…蓋体
87A~87D…応力緩和層
98…最外層部分
91A…プリズムの母材
105…保護膜
1, 11, 21, 31, 41, 51, 61, 91... Prism 2... Prism body 2a... Bottom surface 2b... Slope 2c... Top surface 3, 13, 23, 33, 43, 83A to 83D, 93... Adhesive film 4... Reflective film 5...First layer portion 6, 16, 26, 36, 86A to 86D, 96...Second layer portion 6a, 16a, 26a, 36a...First layer 6b, 16b, 26b, 36b...Second Layers 6c, 16c, 26c, 36c... Third layer 6d, 16d, 26d, 36d... Fourth layer 6e, 16e, 26e, 36e... Fifth layer 47... Intermediate layer portion 70... Optical device 74... Optical Element 75...Package 76...Bottom 76a...Mounting surface 77...Side wall 77a...Inner surface 78...Metal film 79...Lid 87A to 87D...Stress relaxation layer 98...Outermost layer portion 91A...Prism base material 105...Protective film

Claims (22)

底面及び前記底面に接続されている斜面を有するプリズム本体と、
前記底面に設けられている密着膜と、
を備え、
前記密着膜が、前記プリズム本体側に位置する第1の層部分と、前記第1の層部分上に直接的または間接的に積層された第2の層部分とを有し、
前記第1の層部分がCr層、Ti層またはTa層であり、
前記第2の層部分が複数のAu層及び複数のSn層の双方を有し
前記密着膜の積層方向において、前記プリズム本体から離れる側を外側としたときに、前記第2の層部分の最外層が前記Au層であり、
前記Au層及び前記Sn層が交互に積層されており、前記Au層と前記Sn層との間に、Au及びSnの合金からなるAu-Sn層が設けられている、プリズム。
a prism body having a bottom surface and a slope connected to the bottom surface;
an adhesive film provided on the bottom surface;
Equipped with
The adhesive film has a first layer portion located on the prism body side and a second layer portion laminated directly or indirectly on the first layer portion,
The first layer portion is a Cr layer, a Ti layer or a Ta layer,
The second layer portion has both a plurality of Au layers and a plurality of Sn layers,
In the stacking direction of the adhesive film, when the side away from the prism body is defined as the outside, the outermost layer of the second layer portion is the Au layer ,
A prism , wherein the Au layer and the Sn layer are alternately stacked, and an Au-Sn layer made of an alloy of Au and Sn is provided between the Au layer and the Sn layer.
前記第2の層部分が複数の前記Au層及び複数の前記Sn層の双方を有し、前記Au層及び前記Sn層が交互に積層されており、
前記第2の層部分が応力緩和層を有し、
前記応力緩和層が前記複数のAu層のうちの一層である場合には、前記応力緩和層の厚みが、他の前記Au層の平均の厚みと異なり、
前記応力緩和層が前記複数のSn層のうちの一層である場合には、前記応力緩和層の厚みが、他の前記Sn層の平均の厚みと異なる、請求項に記載のプリズム。
The second layer portion includes both the plurality of Au layers and the plurality of Sn layers, the Au layers and the Sn layers are alternately stacked,
the second layer portion has a stress relaxation layer;
When the stress relaxation layer is one of the plurality of Au layers, the thickness of the stress relaxation layer is different from the average thickness of the other Au layers,
The prism according to claim 1 , wherein when the stress relaxation layer is one of the plurality of Sn layers, the thickness of the stress relaxation layer is different from the average thickness of the other Sn layers.
前記応力緩和層の厚みが、他の前記Au層または他の前記Sn層の平均の厚みの1/2以上、5倍以下である、請求項に記載のプリズム。 The prism according to claim 2 , wherein the stress relaxation layer has a thickness that is 1/2 or more and 5 times or less of the average thickness of the other Au layer or the other Sn layer. 前記応力緩和層の厚みが、他の前記Au層または他の前記Sn層の平均の厚みの1/5以上、1/2以下である、請求項に記載のプリズム。 The prism according to claim 2 , wherein the stress relaxation layer has a thickness that is 1/5 or more and 1/2 or less of the average thickness of the other Au layer or the other Sn layer. 前記密着膜の積層方向において、前記プリズム本体から離れる側を外側としたときに、前記第2の層部分の最外層が、前記第2の層部分において最も薄い層である、請求項1に記載のプリズム。 According to claim 1, the outermost layer of the second layer portion is the thinnest layer in the second layer portion when the side away from the prism body is defined as the outer side in the stacking direction of the adhesive film. prism. 前記第2の層部分において、外側に位置する層ほど薄い、請求項に記載のプリズム。 The prism according to claim 5 , wherein in the second layer portion, the outer layer is thinner. 前記第2の層部分が複数の前記Au層及び複数の前記Sn層の双方を有し、
前記複数のAu層の厚みが互いに同一であり、且つ前記複数のSn層の厚みが外側に位置するほど厚い、請求項1に記載のプリズム。
The second layer portion includes both the plurality of Au layers and the plurality of Sn layers,
The prism according to claim 1 , wherein the plurality of Au layers have the same thickness, and the thickness of the plurality of Sn layers increases as they are located on the outer side.
前記第2の層部分が複数の前記Au層及び複数の前記Sn層の双方を有し、
前記複数のAu層の厚みが外側に位置するほど薄く、且つ前記複数のSn層の厚みが互いに同一である、請求項1に記載のプリズム。
The second layer portion includes both the plurality of Au layers and the plurality of Sn layers,
The prism according to claim 1 , wherein the thickness of the plurality of Au layers is thinner toward the outer side, and the thickness of the plurality of Sn layers is the same.
前記第2の層部分における前記Au層及び前記Sn層の合計の層数が3層以上、99層以下である、請求項1~のいずれか一項に記載のプリズム。 The prism according to any one of claims 1 to 8 , wherein the total number of the Au layer and the Sn layer in the second layer portion is 3 or more and 99 or less. 前記第2の層部分における前記Au層及び前記Sn層の合計の層数が15層以上、35層以下である、請求項に記載のプリズム。 The prism according to claim 9 , wherein the total number of the Au layer and the Sn layer in the second layer portion is 15 or more and 35 or less. 前記密着膜の全体の厚みが1μm以上、10μm以下である、請求項1~10のいずれか一項に記載のプリズム。 The prism according to any one of claims 1 to 10, wherein the total thickness of the adhesive film is 1 μm or more and 10 μm or less. 前記第2の層部分が前記Au層及び前記Sn層の双方を有し、
前記第2の層部分におけるAuの重量の合計をM、Snの重量の合計をM、Au及びSnの重量の合計に対するAuの重量の比率をM/(M+M)としたときに、比率M/(M+M)が0.65以上、0.78以下である、請求項1~11のいずれか一項に記載のプリズム。
the second layer portion has both the Au layer and the Sn layer,
The total weight of Au in the second layer portion is M A , the total weight of Sn is M S , and the ratio of the weight of Au to the total weight of Au and Sn is M A /(M A +M S ). The prism according to any one of claims 1 to 11 , wherein the ratio M A /(M A +M S ) is 0.65 or more and 0.78 or less.
前記密着膜の積層方向において、前記プリズム本体から離れる側を外側としたときに、前記密着膜の最外層の算術平均粗さRaが0.20μm以下である、請求項1~12のいずれか一項に記載のプリズム。 Any one of claims 1 to 12 , wherein in the stacking direction of the adhesive film, the outermost layer of the adhesive film has an arithmetic mean roughness Ra of 0.20 μm or less, when the side away from the prism body is defined as the outside. The prism described in Section. 前記密着膜が、前記第1の層部分と前記第2の層部分との間に積層された中間層部分をさらに有する、請求項1~13のいずれか一項に記載のプリズム。 The prism according to any one of claims 1 to 13 , wherein the adhesive film further includes an intermediate layer portion laminated between the first layer portion and the second layer portion. 前記中間層部分がNi層、Pt層、Pd層、Ni-Cr混合層またはこれらを組み合わせた合金層である、請求項14に記載のプリズム。 The prism according to claim 14 , wherein the intermediate layer portion is a Ni layer, a Pt layer, a Pd layer, a Ni-Cr mixed layer, or an alloy layer combining these. 前記プリズム本体が、上面を有し、
前記上面は、前記底面に対向し、かつ前記斜面に接続されている、請求項1~15のいずれか一項に記載のプリズム。
the prism body has an upper surface;
The prism according to any one of claims 1 to 15 , wherein the top surface faces the bottom surface and is connected to the slope.
前記プリズム本体の前記斜面に反射膜が設けられている、請求項1~16のいずれか一項に記載のプリズム。 The prism according to any one of claims 1 to 16 , wherein a reflective film is provided on the slope of the prism body. 前記プリズム本体の前記斜面及び前記上面に反射膜が設けられている、請求項16に記載のプリズム。 The prism according to claim 16 , wherein a reflective film is provided on the slope and the upper surface of the prism body. 請求項1~18のいずれか一項に記載のプリズムと、
前記プリズムに光を出射し、または前記プリズムからの光を受光する光学素子と、
前記プリズム及び前記光学素子を収容するパッケージと、
を備え、
前記パッケージに前記プリズムが前記密着膜により接合されている、光デバイス。
The prism according to any one of claims 1 to 18 ,
an optical element that emits light to the prism or receives light from the prism;
a package containing the prism and the optical element;
Equipped with
An optical device, wherein the prism is bonded to the package by the adhesive film.
底面及び前記底面に接続されている斜面を有するプリズム本体の、前記底面に密着膜を設ける工程を備えたプリズムの製造方法であって、
前記密着膜を設ける工程は、前記底面に金属材料からなる第1の層部分を形成する工程と、前記第1の層部分上に直接的または間接的に金属材料からなる第2の層部分を積層する工程とを含み、
前記第1の層部分と前記第2の層部分とは互いに異なる成分の金属材料から構成され、
前記第1の層部分がCr層、Ti層またはTa層であり、
前記第2の層部分が複数のAu層及び複数のSn層の双方を有し
前記密着膜の積層方向において、前記プリズム本体から離れる側を外側としたときに、前記第2の層部分の最外層が前記Au層であり、
前記Au層及び前記Sn層が交互に積層されており、前記Au層と前記Sn層との間に、Au及びSnの合金からなるAu-Sn層が設けられている、プリズムの製造方法。
A method for manufacturing a prism, comprising the step of providing an adhesive film on the bottom surface of a prism body having a bottom surface and a slope connected to the bottom surface,
The step of providing the adhesive film includes forming a first layer portion made of a metal material on the bottom surface, and directly or indirectly forming a second layer portion made of a metal material on the first layer portion. including a step of laminating,
The first layer portion and the second layer portion are made of metal materials with mutually different components,
The first layer portion is a Cr layer, a Ti layer or a Ta layer,
The second layer portion has both a plurality of Au layers and a plurality of Sn layers,
In the stacking direction of the adhesive film, when the side away from the prism body is defined as the outside, the outermost layer of the second layer portion is the Au layer ,
A method for manufacturing a prism , wherein the Au layer and the Sn layer are alternately stacked, and an Au--Sn layer made of an alloy of Au and Sn is provided between the Au layer and the Sn layer.
請求項1~18のいずれか一項に記載のプリズムを準備する工程と、
前記プリズムとの接着面を有するパッケージを準備する工程と、
前記密着膜が前記パッケージの前記接着面に当接するよう、前記プリズムと前記パッケージとを当接させる工程と、
前記密着膜を加熱し、前記プリズムと前記パッケージとを接合させる工程と、
を備える、パッケージデバイスの製造方法。
preparing a prism according to any one of claims 1 to 18 ;
preparing a package having an adhesive surface with the prism;
bringing the prism and the package into contact so that the adhesive film comes into contact with the adhesive surface of the package;
heating the adhesive film to bond the prism and the package;
A method for manufacturing a packaged device, comprising:
前記パッケージの前記接着面には、Au膜が形成されており、
前記密着膜全体が溶融しない温度で前記加熱を行い、前記プリズムと前記パッケージとを接合させる、請求項21に記載のパッケージデバイスの製造方法。
An Au film is formed on the adhesive surface of the package,
22. The method for manufacturing a packaged device according to claim 21 , wherein the heating is performed at a temperature that does not melt the entire adhesive film to bond the prism and the package.
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Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001284696A (en) 2000-03-30 2001-10-12 Kyocera Corp Optically mounting board and optical module
JP2003014987A (en) 2001-06-28 2003-01-15 Kyocera Corp Optical path converting body and its packaging structure and optical module
JP2005217095A (en) 2004-01-29 2005-08-11 Kyocera Corp Submount for photo-semiconductor element
JP2007133375A (en) 2005-10-11 2007-05-31 Konica Minolta Opto Inc Non-polarizing beam splitter
JP2009045514A (en) 2007-08-14 2009-03-05 Stanley Electric Co Ltd Photocatalyst element
JP2013239614A (en) 2012-05-16 2013-11-28 Seiko Epson Corp Method of manufacturing light-emitting device
KR20140099399A (en) 2013-02-01 2014-08-12 삼성전자주식회사 Light source module and lighting device having the same
CN104364918A (en) 2012-06-08 2015-02-18 Lg伊诺特有限公司 Light-emitting device, light-emitting device package, and light unit
CN105304805A (en) 2014-05-29 2016-02-03 Lg伊诺特有限公司 Light emitting device package

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2841210B2 (en) * 1989-06-30 1998-12-24 株式会社トーキン Optical isolator and method of manufacturing the same
JPH0553033A (en) * 1991-08-27 1993-03-05 Mitsubishi Electric Corp Optical receiver

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001284696A (en) 2000-03-30 2001-10-12 Kyocera Corp Optically mounting board and optical module
JP2003014987A (en) 2001-06-28 2003-01-15 Kyocera Corp Optical path converting body and its packaging structure and optical module
JP2005217095A (en) 2004-01-29 2005-08-11 Kyocera Corp Submount for photo-semiconductor element
JP2007133375A (en) 2005-10-11 2007-05-31 Konica Minolta Opto Inc Non-polarizing beam splitter
JP2009045514A (en) 2007-08-14 2009-03-05 Stanley Electric Co Ltd Photocatalyst element
JP2013239614A (en) 2012-05-16 2013-11-28 Seiko Epson Corp Method of manufacturing light-emitting device
CN104364918A (en) 2012-06-08 2015-02-18 Lg伊诺特有限公司 Light-emitting device, light-emitting device package, and light unit
KR20140099399A (en) 2013-02-01 2014-08-12 삼성전자주식회사 Light source module and lighting device having the same
CN105304805A (en) 2014-05-29 2016-02-03 Lg伊诺特有限公司 Light emitting device package

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