JP7427888B2 - Prism, optical device, prism manufacturing method, and package device manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、プリズム、光デバイス、プリズムの製造方法及びパッケージデバイスの製造方法に関する。 The present invention relates to a prism, an optical device, a method for manufacturing a prism, and a method for manufacturing a package device.
近年、ディスプレイ、自動車のヘッドランプやプロジェクタ等の用途において、光源からの光を反射させまたは屈折させるためのプリズムが広く用いられている。このようなプリズムを含む光デバイスの一例が下記の特許文献1に開示されている。特許文献1においては、半導体ディスクからなる実装基板上に、レーザーチップ及びプリズムが配置されている。レーザーチップ及びプリズムは、はんだにより実装基板に接合されている。
In recent years, prisms for reflecting or refracting light from a light source have been widely used in applications such as displays, automobile headlamps, and projectors. An example of an optical device including such a prism is disclosed in
光デバイスにおいては、光路の方向を高い精度で調整することが必要であるため、プリズムの接合配置には高い位置精度が要求される。しかしながら、プリズムに光を出射する光源に高出力なLD(Laser Diode)等を用いる場合、樹脂からなる接着剤を用いてプリズムを実装基板等に接合配置すると、接着剤が軟化し、プリズムの位置ずれが生じるおそれがある。一方で、特許文献1に記載のようなはんだを用いた実装は、はんだ全体の溶融流動を伴うことから、実装の前後においてプリズムの高さ方向の位置ずれが生じるおそれがある。そのため、特許文献1に記載のようなプリズムでは、実装基板等に接合配置した場合に位置精度を十分に高めることは困難であった。また、組立の作業性やコスト等の観点でも課題がある。
In optical devices, it is necessary to adjust the direction of the optical path with high precision, so high positional precision is required for the joining arrangement of prisms. However, when using a high-output LD (Laser Diode) or the like as a light source that emits light to the prism, if the prism is bonded to a mounting board using a resin adhesive, the adhesive will soften and the position of the prism will change. Misalignment may occur. On the other hand, since mounting using solder as described in
本発明は、光デバイスにおける位置精度を効果的に高めることができる、プリズム及び該プリズムを用いた光デバイス並びにプリズムの製造方法及びパッケージデバイスの製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a prism, an optical device using the prism, a method for manufacturing a prism, and a method for manufacturing a package device, which can effectively improve positional accuracy in an optical device.
本発明のプリズムは、底面及び底面に接続されている斜面を有するプリズム本体と、底面に設けられている密着膜とを備え、密着膜が、プリズム本体側に位置する第1の層部分と、第1の層部分上に直接的または間接的に積層された第2の層部分とを有し、第2の層部分がAu層及びSn層のうち少なくとも一方の層を含むことを特徴とする。 The prism of the present invention includes a prism main body having a bottom surface and a slope connected to the bottom surface, an adhesive film provided on the bottom surface, and a first layer portion where the adhesive film is located on the prism main body side; and a second layer portion laminated directly or indirectly on the first layer portion, and the second layer portion includes at least one of an Au layer and a Sn layer. .
第2の層部分において、Au層及びSn層が交互に積層されていることが好ましい。 In the second layer portion, it is preferable that Au layers and Sn layers are alternately stacked.
第2の層部分がAu層及びSn層の双方を有し、Au層とSn層との間に、Au及びSnの合金からなるAu-Sn層が設けられていることが好ましい。 Preferably, the second layer portion has both an Au layer and a Sn layer, and an Au--Sn layer made of an alloy of Au and Sn is provided between the Au layer and the Sn layer.
密着膜の積層方向において、プリズム本体から離れる側を外側としたときに、第2の層部分の最外層がAu層であることが好ましい。 In the stacking direction of the adhesive film, when the side away from the prism body is defined as the outside, it is preferable that the outermost layer of the second layer portion is an Au layer.
第2の層部分が複数のAu層及び複数のSn層の双方を有し、Au層及びSn層が交互に積層されており、第2の層部分が応力緩和層を有し、応力緩和層が複数のAu層のうちの一層である場合には、応力緩和層の厚みが、他のAu層の平均の厚みと異なり、応力緩和層が複数のSn層のうちの一層である場合には、応力緩和層の厚みが、他のSn層の平均の厚みと異なることが好ましい。この場合、応力緩和層の厚みが、他のAu層または他のSn層の平均の厚みの1/2以上、5倍以下であることがより好ましい。または、応力緩和層の厚みが、他のAu層または他のSn層の平均の厚みの1/5以上、1/2以下であることがより好ましい。 The second layer portion has both a plurality of Au layers and a plurality of Sn layers, the Au layers and the Sn layers are laminated alternately, the second layer portion has a stress relaxation layer, and the stress relaxation layer When is one of the plurality of Au layers, the thickness of the stress relaxation layer is different from the average thickness of the other Au layers, and when the stress relaxation layer is one of the plurality of Sn layers, The thickness of the stress relaxation layer is preferably different from the average thickness of the other Sn layers. In this case, the thickness of the stress relaxation layer is more preferably 1/2 or more and 5 times or less of the average thickness of other Au layers or other Sn layers. Alternatively, the thickness of the stress relaxation layer is more preferably 1/5 or more and 1/2 or less of the average thickness of other Au layers or other Sn layers.
密着膜の積層方向において、プリズム本体から離れる側を外側としたときに、第2の層部分の最外層が、第2の層部分において最も薄い層であることが好ましい。この場合、第2の層部分において、外側に位置する層ほど薄いことがより好ましい。 In the stacking direction of the adhesive film, the outermost layer of the second layer portion is preferably the thinnest layer in the second layer portion, when the side away from the prism body is defined as the outside. In this case, in the second layer portion, it is more preferable that the outer layer is thinner.
第2の層部分が複数のAu層及び複数のSn層の双方を有し、複数のAu層の厚みが互いに同一であり、且つ複数のSn層の厚みが外側に位置するほど厚いことが好ましい。 It is preferable that the second layer portion has both a plurality of Au layers and a plurality of Sn layers, the thicknesses of the plurality of Au layers are the same, and the thickness of the plurality of Sn layers is thicker as they are located on the outer side. .
第2の層部分が複数のAu層及び複数のSn層の双方を有し、複数のAu層の厚みが外側に位置するほど薄く、且つ複数のSn層の厚みが互いに同一であることが好ましい。 It is preferable that the second layer portion has both a plurality of Au layers and a plurality of Sn layers, the thickness of the plurality of Au layers is thinner toward the outer side, and the thickness of the plurality of Sn layers is preferably the same. .
第2の層部分におけるAu層及びSn層の合計の層数が3層以上、99層以下であることが好ましい。この場合、第2の層部分におけるAu層及びSn層の合計の層数が15層以上、35層以下であることがより好ましい。 It is preferable that the total number of Au layers and Sn layers in the second layer portion is 3 or more and 99 or less. In this case, it is more preferable that the total number of Au layers and Sn layers in the second layer portion is 15 or more and 35 or less.
密着膜の全体の厚みが1μm以上、10μm以下であることが好ましい。 It is preferable that the total thickness of the adhesive film is 1 μm or more and 10 μm or less.
第2の層部分がAu層及びSn層の双方を有し、第2の層部分におけるAuの重量の合計をMA、Snの重量の合計をMS、Au及びSnの重量の合計に対するAuの重量の比率をMA/(MA+MS)としたときに、比率MA/(MA+MS)が0.65以上、0.78以下であることが好ましく、0.60以上、0.75以下であることがより好ましい。 The second layer portion has both an Au layer and a Sn layer, M A is the sum of the weights of Au in the second layer portion, M S is the sum of the weights of Sn, and Au is the sum of the weights of Au and Sn. When the ratio of the weight of is M A /(M A + M S ), the ratio M A /(M A + M S ) is preferably 0.65 or more and 0.78 or less, and 0.60 or more, More preferably, it is 0.75 or less.
本発明の他の局面におけるプリズムは、パッケージに実装されるプリズムであって、底面及び底面に接続されている斜面を有するプリズム本体と、底面に設けられている密着膜とを備え、密着膜が、プリズム本体側に位置する第1の層部分と、第1の層部分上に直接的または間接的に積層された第2の層部分とを有し、第2の層部分がAu及びSnの合金からなるAu-Sn層であり、密着膜の第2の層部分の厚みが2.5μm以上、5.9μm以下である。 A prism according to another aspect of the present invention is a prism that is mounted in a package, and includes a prism body having a bottom surface and an inclined surface connected to the bottom surface, and an adhesive film provided on the bottom surface. , has a first layer portion located on the prism body side, and a second layer portion laminated directly or indirectly on the first layer portion, and the second layer portion is made of Au and Sn. It is an Au-Sn layer made of an alloy, and the thickness of the second layer portion of the adhesive film is 2.5 μm or more and 5.9 μm or less.
密着膜の積層方向において、プリズム本体から離れる側を外側としたときに、密着膜が、密着膜の最外層であり、第2の層部分上に積層されている最外層部分を有し、最外層部分がAu層であることが好ましい。 In the stacking direction of the adhesive film, when the side away from the prism body is defined as the outer side, the adhesive film is the outermost layer of the adhesive film, has an outermost layer portion laminated on the second layer portion, and has an outermost layer portion laminated on the second layer portion. It is preferable that the outer layer portion is an Au layer.
密着膜の積層方向において、プリズム本体から離れる側を外側としたときに、密着膜の最外層の算術平均粗さRaが0.20μm以下であることが好ましい。 In the stacking direction of the adhesive film, the outermost layer of the adhesive film preferably has an arithmetic mean roughness Ra of 0.20 μm or less, when the side away from the prism body is defined as the outside.
第1の層部分がCr層またはTi層またはTa膜であることが好ましい。 Preferably, the first layer portion is a Cr layer, a Ti layer, or a Ta film.
密着膜が、第1の層部分と第2の層部分との間に積層された中間層部分をさらに有することが好ましい。この場合、中間層部分がNi層、Pt層、Pd層、Ni-Cr混合層またはこれらを組み合わせた合金層であることがより好ましい。 Preferably, the adhesive film further includes an intermediate layer portion laminated between the first layer portion and the second layer portion. In this case, it is more preferable that the intermediate layer portion is a Ni layer, a Pt layer, a Pd layer, a Ni--Cr mixed layer, or an alloy layer that is a combination of these.
プリズム本体が、上面を有し、上面は、底面に対向し、かつ斜面に接続されていることが好ましい。 Preferably, the prism body has a top surface, the top surface facing the bottom surface and connected to the slope.
プリズム本体の斜面に反射膜が設けられていることが好ましい。また、プリズム本体の斜面及び上面に反射膜が設けられていることが好ましい。 Preferably, a reflective film is provided on the slope of the prism body. Further, it is preferable that a reflective film is provided on the slope and the upper surface of the prism body.
本発明の光デバイスは、上記プリズムと、プリズムに光を出射し、またはプリズムからの光を受光する光学素子と、プリズム及び光学素子を収容するパッケージとを備え、パッケージにプリズムが密着膜により接合されていることを特徴とする。 The optical device of the present invention includes the above prism, an optical element that emits light to the prism or receives light from the prism, and a package that houses the prism and the optical element, and the prism is bonded to the package by an adhesive film. It is characterized by being
本発明のプリズムの製造方法は、底面及び底面に接続されている斜面を有するプリズム本体の、底面に密着膜を設ける工程を備えたプリズムの製造方法であって、密着膜を設ける工程は、底面に金属材料からなる第1の層部分を形成する工程と、第1の層部分上に直接的または間接的に金属材料からなる第2の層部分を積層する工程とを含み、第1の層部分と第2の層部分とは互いに異なる成分の金属材料から構成され、第2の層部分がAu層及びSn層のうち少なくとも一方の層を含むことを特徴とする。 The prism manufacturing method of the present invention is a prism manufacturing method comprising a step of providing an adhesive film on the bottom surface of a prism body having a bottom surface and an inclined surface connected to the bottom surface, the step of providing the adhesive film includes the step of providing an adhesive film on the bottom surface. forming a first layer portion made of a metal material; and laminating a second layer portion made of a metal material directly or indirectly on the first layer portion; The first layer portion and the second layer portion are made of metal materials having different components, and the second layer portion includes at least one of an Au layer and a Sn layer.
本発明のパッケージデバイスの製造方法は、上記プリズムを準備する工程と、プリズムとの接着面を有するパッケージを準備する工程と、密着膜がパッケージの接着面に当接するよう、プリズムとパッケージとを当接させる工程と、密着膜を加熱し、プリズムとパッケージとを接合させる工程とを備えることを特徴とする。 The method for manufacturing a packaged device of the present invention includes the steps of preparing the prism, preparing a package having an adhesive surface for contacting the prism, and applying the prism and the package so that the adhesive film contacts the adhesive surface of the package. The method is characterized by comprising a step of bringing the prism into contact with the package, and a step of heating the adhesive film to join the prism and the package.
パッケージの接着面には、Au膜が形成されており、密着膜全体が溶融しない温度で加熱を行い、プリズムとパッケージとを接合させることが好ましい。 An Au film is formed on the adhesive surface of the package, and it is preferable to heat the prism and the package at a temperature at which the entire adhesive film does not melt.
本発明のプリズム、光デバイス、プリズムの製造方法及びパッケージデバイスの製造方法によれば、プリズムの位置精度を効果的に高めることができる。 According to the prism, optical device, prism manufacturing method, and package device manufacturing method of the present invention, the positional accuracy of the prism can be effectively improved.
以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。また、各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照する場合がある。 Preferred embodiments will be described below. However, the following embodiments are merely illustrative, and the present invention is not limited to the following embodiments. Further, in each drawing, members having substantially the same function may be referred to by the same reference numerals.
(プリズム)
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係るプリズムの断面図である。図1に示すように、プリズム1はプリズム本体2と、密着膜3と、反射膜4とを備える。プリズム本体2は、略台形の断面形状を有する。プリズム本体2は、底面2aと、底面2aに接続されている斜面2bと、底面2aに対向し、かつ斜面2bに接続されている上面2cとを有する。なお、プリズム本体2の断面形状は略台形には限定されず、略三角形等であってもよい。本実施形態においては、プリズム本体2は適宜のガラス材料からなる。
(prism)
(First embodiment)
FIG. 1 is a sectional view of a prism according to a first embodiment of the invention. As shown in FIG. 1, the
プリズム本体2の底面2aに密着膜3が設けられている。プリズム本体2の斜面2bに反射膜4が設けられている。プリズム1は、密着膜3により、光デバイスやパッケージデバイスにおける実装基板やパッケージ等に接合される。
An
図2は、第1の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。図2に示すように、密着膜3は、複数の金属層の積層体である。具体的には、密着膜3は、最もプリズム本体2側に位置する第1の層部分5と、第1の層部分5上に積層された第2の層部分6とを有する。本実施形態では、第2の層部分6は、第1の層部分5上に直接的に積層されている。なお、第2の層部分6は、第1の層部分5上に、他の層を介して間接的に積層されていてもよい。
FIG. 2 is an enlarged sectional view showing the vicinity of the adhesive film of the prism according to the first embodiment. As shown in FIG. 2, the
第1の層部分5はCr層である。もっとも、第1の層部分5は、密着膜3の各層において相対的にプリズム本体2との密着性が高ければよく、Cr層には限定されない。例えば、第1の層部分5はTi層もしくはTa層であってもよい。
The
なお、本発明において各金属層には少量の不純物や添加物が許容される。具体的には、Cr層は、Crを95重量%以上含む金属層である。また、Ti層は、Tiを95重量%以上含む金属層である。また、Ta層は、Taを95重量%以上含む金属層である。Cr、Ti、Taはガラスとの密着層として機能するが、Cr、Ti、Taの含有量が上記範囲であれば本発明の効果を損なわない。 Note that in the present invention, a small amount of impurity or additive is allowed in each metal layer. Specifically, the Cr layer is a metal layer containing 95% by weight or more of Cr. Further, the Ti layer is a metal layer containing 95% by weight or more of Ti. Further, the Ta layer is a metal layer containing 95% by weight or more of Ta. Cr, Ti, and Ta function as an adhesion layer with glass, but as long as the content of Cr, Ti, and Ta is within the above range, the effects of the present invention are not impaired.
第2の層部分6は、本実施形態では、第1の層6a、第2の層6b、第3の層6c、第4の層6d及び第5の層6eがこの順序で積層された積層体である。ここで、密着膜3の積層方向において、プリズム本体2側を内側とし、プリズム本体2から離れる側を外側とする。第2の層部分6において、第5の層6eが最外層である。
In this embodiment, the
第1の層6aはAu層であり、第2の層6bはSn層であり、第3の層6cはAu層であり、第4の層6dはSn層であり、最外層である第5の層6eはAu層である。第2の層部分6において、Au層及びSn層が交互に積層されている。なお、第2の層部分6はAu層及びSn層のうち少なくとも一方の層を含んでいればよく、層数は上記に限定されない。
The
なお、本発明においては、Au層は、Auを95重量%以上含む金属層である。また、Sn層はSnを95重量%以上含む金属層である。AuやSnの精製の度合いにより、金属層に不純物の混入は起こり得る。不純物としては、例えばFe、Cr、Ni等が代表的であるが、Au及びSn各々の含有量が上記範囲であれば、本発明の効果を損なわない。 Note that in the present invention, the Au layer is a metal layer containing 95% by weight or more of Au. Further, the Sn layer is a metal layer containing 95% by weight or more of Sn. Depending on the degree of purification of Au or Sn, impurities may be mixed into the metal layer. Typical impurities include, for example, Fe, Cr, Ni, etc., but as long as the content of each of Au and Sn is within the above range, the effects of the present invention will not be impaired.
反射膜4は、例えば、高屈折率膜及び低屈折率膜が交互に積層された誘電体多層膜からなる。高屈折率膜の材料としては、例えば、TiO2、Ta2O5、ZrO2またはHfO2を挙げることができる。低屈折率膜の材料としては、例えば、SiO2またはMgF2を挙げることができる。また、反射膜4として金属膜を用いても良い。反射膜4は、プリズム本体2の斜面2bの少なくとも一部に設けられていればよく、例えば、斜面2bの全面に設けられていてもよい。斜面2bに反射膜4が設けられていることにより、光源から出射された光を好適に反射させることができる。なお、プリズム1は必ずしも反射膜4を有していなくともよい。
The
密着膜3及び反射膜4は、例えば、スパッタリング法や真空蒸着法等により、各層を積層することによって形成することができる。
The
本実施形態の特徴は、プリズム本体2の底面2aに設けられた密着膜3が、第1の層部分5と、Au層及びSn層のうち少なくとも一方の層を含む第2の層部分6とを有することにある。それによって、光デバイスにおけるプリズム1の位置精度を効果的に高めることができる。この詳細を以下において説明する。
The feature of this embodiment is that the
本実施形態のプリズム1は、密着膜3全体の溶融流動を伴わずにパッケージ等に接合することができる。具体的には、図9に示すように、まず、パッケージ等にプリズム1を載置する。具体的には、パッケージ等における、プリズム1を接着させる接着面に、プリズム1を載置する。このとき、プリズム1を載置する部分(本実施形態においてはパッケージの内面)にはAu膜等の金属膜が、密着膜3との接合を補助するための補助層として設けられていることが好ましい。次に、プリズム1の密着膜3を、密着膜3全体が溶融しない温度において加熱する。加熱の温度は特に限定されないが、例えば、300℃以上、350℃以下で加熱すればよい。密着膜3の加熱により、Au層及びSn層において金属を相互拡散させ、密着膜3を合金化させる。このとき、パッケージ内面の金属膜であるAu膜と密着膜3の最外層のAu層とが相互拡散して接着し、密着膜3を構成するAu層及びSn層も相互拡散して合金化する。これにより、密着膜3とパッケージ等の金属膜とを一体化させ、プリズム1をパッケージ等に接合する。このようにして、例えばパッケージデバイス等を好適に製造することができる。あるいは、光デバイスに用いるプリズム1をパッケージ等に搭載することができる。
The
このように、密着膜3全体の溶融を伴わないため、プリズム1の接合の前後において密着膜3の厚みが変化し難く、プリズム本体2の高さ方向の位置ずれが生じ難い。同様に、密着膜3全体の溶融を伴わないため、プリズム1の接合の前後において、プリズム本体2の水平方向の位置ずれも生じ難い。従って、プリズム1の位置精度を効果的に高めることができる。また、パッケージの組立工程において、従来のはんだの塗布工程を省略できるため、すなわち密着膜3を有するプリズム1をパッケージ等に載置するだけで良いため、作業性やコスト効率を向上できる。
In this way, since the entire
さらに、樹脂からなる接着剤とは異なり、密着膜3は金属からなる。よって、水分や酸素による劣化や光による劣化が生じ難く、信頼性を高めることができる。加えて、プリズム1とパッケージ等との接合後においてガスが生じないため、反射膜4や後述の光学素子74に不純物が付着し難く、反射率や透過率の劣化が生じ難い。
Furthermore, unlike adhesives made of resin, the
なお、上記では、パッケージにプリズム1を載置した状態で加熱し、接合する場合を例示したが、プリズム1の密着膜3がパッケージの接着面と当接した状態であれば、接合時のパッケージおよびプリズム1の姿勢や状態は上記に限られない。例えば、プリズム1上にパッケージを載置する態様であってもよいし、当接状態のプリズム1とパッケージとをクランプ装置等で挟持した状態であってもよい。
In the above example, the
密着膜3においてはAu層及びSn層が交互に積層されていることが好ましい。それによって、実装に際し、Au層及びSn層においてより確実に金属を相互拡散させることができ、Au層及びSn層をより確実に合金化させることができる。よって、パッケージ等にプリズム1を実装するに際し、密着膜3による接合力をより確実に高めることができる。
In the
密着膜3の全体の厚みは1μm以上であることが好ましく、3μm以上であることがより好ましい。これによって、接合力をより十分に高めることができる。密着膜3の全体の厚みは10μm以下であることが好ましく、5μm以下であることがより好ましい。この場合には、実装に際し金属が相互拡散する各層を薄くすることができる。それによって、密着膜3の各層において金属が剥離を起こさない程度に相互拡散するために要する時間を短縮することができ、密着膜3の合金化の時間を短縮することができる。従って、生産性をより高めることができる。また、用いる密着膜3が薄いことにより、プリズム本体2の高さ方向の位置ずれが小さくなるため、プリズム1の位置精度をより一層効果的に高めることができる。
The total thickness of the
密着膜3の第2の層部分6におけるAu層及びSn層の合計の層数は3層以上であることが好ましく、15層以上であることがより好ましい。それによって、第2の層部分6における各層の厚みをより一層薄くすることができる。従って、実装に際し、密着膜3の合金化の時間をより一層短縮することができ、より一層生産性を高めることができる。
The total number of Au layers and Sn layers in the
第2の層部分6におけるAu層及びSn層の合計の層数は、99層以下であることが好ましい。生産性を考慮すると39層以下であることがより好ましく、35層以下であることがさらに好ましい。第2の層部分6の層数が多すぎる場合には、各層が薄くなりすぎるため、各層の形成が困難となるおそれがある。
The total number of Au layers and Sn layers in the
第2の層部分6は、Au層とSn層との間に積層されており、かつAu及びSnの合金からなるAu-Sn層を有していてもよい。この場合には、実装に際し、密着膜3の合金化の時間をより一層効果的に短縮することができ、生産性をより一層効果的に高めることができる。なお、Au-Sn層は、真空蒸着法やスパッタ法を用いて2源蒸着や2源スパッタにより短時間で形成することができる。
The
なお、Au-Sn層は、密着膜3の形成に際し、隣接するAu層及びSn層の一部を合金化することにより形成することができる。例えば、スパッタリング法または真空蒸着法等の適宜の条件下において、Au層とSn層とを積層したときのエネルギーにより、Au層及びSn層の一部を合金化し、Au-Sn層を形成することができる。
Note that the Au-Sn layer can be formed by alloying parts of the adjacent Au layer and Sn layer when forming the
第2の層部分6における最外層はAu層であることが好ましい。それによって、実装に際しパッケージ等に接する最外層が酸化し難く、接合力をより確実に高めることができる。
The outermost layer in the
ここで、密着膜3におけるAuの重量の合計をMA、Snの重量の合計をMS、Au及びSnの重量の合計に対するAuの重量の比率をMA/(MA+MS)とする。このとき、比率MA/(MA+MS)が0.78より大きく、0.82より小さいことが好ましく、0.8であることが特に好ましい。この場合には、Au及びSnの融点(共晶温度)を280℃程度とすることができ、低温で密着膜3を合金化することができる。よって、パッケージ等にプリズム1を低温で接合することができる。
Here, the total weight of Au in the
ここで、上述したように、プリズム1を実装するパッケージ等には、Au膜等の金属膜が形成されていることが好ましい。パッケージ等のAu膜が形成された部分にプリズム1を接合するときには、当該Au膜から密着膜3へのAuの持ち込みが生じる。そのため、合金化後における密着膜3のAuの重量の比率MA/(MA+MS)は、合金化前よりも大きくなる。したがって、このような場合には、密着膜3におけるAuの重量の比率MA/(MA+MS)は、0.60以上、0.78以下であることが好ましく、0.68以上、0.75以下であることがより好ましい。合金化前の密着膜3の比率MA/(MA+MS)を上記範囲内とすることにより、Au膜及び密着膜3の合金化後の密着膜3の比率MA/(MA+MS)を、0.78より大きく、0.82より小さい範囲内とすることができる。それによって、Au及びSnの融点(共晶温度)を280℃程度とすることができ、低温で密着膜3を合金化することができる。よって、パッケージ等にプリズム1を低温でより確実に接合することができる。
Here, as described above, it is preferable that a metal film such as an Au film is formed on the package or the like in which the
本実施形態のように、プリズム本体2は、底面2aに対向し、かつ斜面2bに接続されている上面2cを有することが好ましい。この場合には、プリズム1を移動させる際にチャッキングし易いため、プリズム1を容易に実装することができる。なお、プリズム本体2は、必ずしも上面2cを有していなくともよく、断面形状が略三角形等であってもよい。
As in this embodiment, the
(第2の実施形態)
図3は、本発明の第2の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。図3に示すように、本実施形態のプリズム11は、密着膜13の第2の層部分16において外側に位置する層ほど薄い点で、第1の実施形態と異なる。具体的には、第1の層16aの厚みをTa、第2の層16bの厚みをTb、第3の層16cの厚みをTc、第4の層16dの厚みをTd、第5の層16eの厚みをTeとしたときに、Ta>Tb>Tc>Td>Teである。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム11は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(Second embodiment)
FIG. 3 is an enlarged sectional view showing the vicinity of the adhesive film of a prism according to the second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, the
本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、密着膜13の溶融を伴うことなくプリズム11をパッケージ等に接合することができる。従って、プリズム11の位置精度を効果的に高めることができる。
Also in this embodiment, as in the first embodiment, the
ところで、第5の層16eは最外層であるため、第5の層16eに隣接する層は、内側に位置する第4の層16dのみである。そのため、密着膜13の合金化に際し、第3の層16cや第4の層16dにおいては外側及び内側の両面を介した相互拡散が生じるが、第5の層16eにおいては内側の面のみを介した相互拡散が生じる。ここで、本実施形態においては、第5の層16eは第2の層部分16において最も薄い層である。よって、第5の層16eにおいて合金化に要する相互拡散の時間を効果的に短縮することができるため、第5の層16eをより確実に合金化することができ、かつ合金化の時間を短縮することができる。従って、密着膜13をより確実に合金化することができ、より確実に接合力を高めることができ、かつ生産性を高めることができる。
By the way, since the
加えて、密着膜13の第2の層部分16において外側に位置する層ほど薄い。それによって、第5の層16eを薄くしても、第5の層16e以外の層もより確実に合金化することができる。従って、密着膜13をより一層確実に合金化することができ、より一層確実に接合力を高めることができる。
In addition, the outer layer of the
なお、第2の層部分16において、第5の層16eが最も薄い層であり、かつ少なくとも2層が同じ厚みであってもよい。第2の層部分16の各層の厚みの関係は、Ta≧Tb≧Tc≧Td>Teであってもよい。
Note that in the
(第3の実施形態)
図4は、本発明の第3の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。密着膜の各層の厚みは、第1の実施形態における厚みから下記のように変更してもよい。例えば、本実施形態のプリズム21は、密着膜23の第2の層部分26において複数のAu層の厚みが互いに同一であり、かつ複数のSn層の厚みが外側に位置するほど厚い構成としてもよい。具体的には、第1の層26aの厚みをTa、第2の層26bの厚みをTb、第3の層26cの厚みをTc、第4の層26dの厚みをTd、第5の層26eの厚みをTeとしたときに、Au層の厚みはTa=Tc=Te、Sn層の厚みはTb<Tdである。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム21は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(Third embodiment)
FIG. 4 is an enlarged sectional view showing the vicinity of the adhesive film of a prism according to the third embodiment of the present invention. The thickness of each layer of the adhesive film may be changed from the thickness in the first embodiment as described below. For example, the
本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、密着膜23全体の溶融流動を伴うことなくプリズム21をパッケージ等に接合することができる。また、密着膜23が合金化された際に、内側に比べ外側におけるSnの重量比を高めることができ、プリズム21の位置精度をより一層効果的に高めることができる。
In this embodiment as well, as in the first embodiment, the
(第4の実施形態)
図5は、本発明の第4の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。密着膜の各層の厚みは、第1の実施形態における厚みから下記のように変更してもよい。例えば、本実施形態のプリズム31は、密着膜33の第2の層部分36において複数のAu層の厚みが外側に位置するほど薄く、かつ複数のSn層の厚みが互いに同一である構成としてもよい。具体的には、第1の層36aの厚みをTa、第2の層36bの厚みをTb、第3の層36cの厚みをTc、第4の層36dの厚みをTd、第5の層36eの厚みをTeとしたときに、Au層の厚みはTa>Tc>Te、Sn層の厚みはTb=Tdである。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム31は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(Fourth embodiment)
FIG. 5 is an enlarged sectional view showing the vicinity of the adhesive film of a prism according to the fourth embodiment of the present invention. The thickness of each layer of the adhesive film may be changed from the thickness in the first embodiment as described below. For example, the
本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、密着膜33全体の溶融流動を伴うことなくプリズム31をパッケージ等に接合することができる。また、密着膜33が合金化された際に、内側に比べ外側におけるSnの重量比を高めることができ、プリズム31の位置精度をより一層効果的に高めることができる。
In this embodiment, as in the first embodiment, the
(第5の実施形態)
図6は、本発明の第5の実施形態に係るプリズムの密着膜付近を示す拡大断面図である。図6に示すように、本実施形態のプリズム41は、密着膜43が、第1の層部分5と第2の層部分6との間に積層された中間層部分47を有する点において第1の実施形態と異なる。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム41は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(Fifth embodiment)
FIG. 6 is an enlarged sectional view showing the vicinity of the adhesive film of the prism according to the fifth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6, the
本実施形態においては、第2の層部分6は、第1の層部分5上に中間層部分47を介して間接的に積層されている。密着膜43が中間層部分47を有することにより、第1の層部分5に第2の層部分6の金属が拡散し難い。よって、プリズム本体2から密着膜43が剥離し難い。
In this embodiment, the
中間層部分47は、Ni層、Pt層、Pd層、Ni-Cr混合層またはこれらを組み合わせた合金層であることが好ましい。それによって、第1の層部分5に第2の層部分6の金属がより一層拡散し難く、プリズム本体2から密着膜43がより一層剥離し難い。
The
なお、本発明において、Ni層は、Niを90重量%以上含む金属層である。また、Pt層は、Ptを90重量%以上含む金属層である。また、Pd層は、Pdを90重量%以上含む金属層である。こちらはバリア層として機能するが、Ni、Pt、Pdもしくはその合金層が90重量%以上含まれることでバリア層としての機能を果たせると考えられる。 Note that in the present invention, the Ni layer is a metal layer containing 90% by weight or more of Ni. Further, the Pt layer is a metal layer containing 90% by weight or more of Pt. Further, the Pd layer is a metal layer containing 90% by weight or more of Pd. This functions as a barrier layer, but it is thought that it can function as a barrier layer by containing 90% by weight or more of Ni, Pt, Pd, or an alloy layer thereof.
加えて、第1の実施形態と同様に、密着膜43全体の溶融流動を伴うことなくプリズム41をパッケージ等に接合することができる。従って、プリズム41の位置精度を効果的に高めることができる。
In addition, as in the first embodiment, the
(第6の実施形態)
図7は、本発明の第6の実施形態に係るプリズムの断面図である。図7に示すように、本実施形態のプリズム51は、反射膜4がプリズム本体2の斜面2b及び上面2cに設けられている点において第1の実施形態と異なる。具体的には、反射膜4は斜面2bから上面2cにかけて連続的に設けられている。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム51は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(Sixth embodiment)
FIG. 7 is a sectional view of a prism according to a sixth embodiment of the invention. As shown in FIG. 7, the
本実施形態においても、第1の実施形態と同様の密着膜3を有するため、プリズム51の位置精度を効果的に高めることができる。
Also in this embodiment, since the same
プリズム51の実装は、カメラによりプリズム51の位置を視認しながら行われることが望ましい。それによって、プリズム51の位置精度を高めることができる。さらに、本実施形態においては、反射膜4がプリズム本体2の上面2cに設けられている。これにより、反射膜4によってカメラ側に光が反射される。よって、プリズム51の輝度を高めることができ、カメラによってプリズム51を視認し易くすることができる。従って、より確実にプリズム51の位置確認をすることができ、プリズム51の位置精度をより確実に高めることができる。
It is desirable that the
本実施形態においては、反射膜4はプリズム本体2の上面2cの全面に設けられている。もっとも、反射膜4は、上面2cの一部に設けられていてもよい。図8に示す第6の実施形態の変形例に係るプリズム61においては、反射膜4は、プリズム本体2の斜面から上面2cの一部に至っている。この場合においても、実装に際し、より確実に位置確認をすることができ、プリズム61の位置精度をより確実に高めることができる。
In this embodiment, the
図7に示すプリズム51においては、斜面2b及び上面2cの反射膜4は一体として設けられている。なお、斜面2bに設けられた反射膜4と上面2cに設けられた反射膜4とが別体であってもよい。
In the
(光デバイス)
(第7の実施形態)
図9は、本発明の第7の実施形態に係る光デバイスの断面図である。図9に示すように、光デバイス70は、第1の実施形態のプリズム1と、光学素子74と、プリズム1及び光学素子74を収容するパッケージ75とを備える。
(optical device)
(Seventh embodiment)
FIG. 9 is a cross-sectional view of an optical device according to a seventh embodiment of the present invention. As shown in FIG. 9, the
本実施形態では、光学素子74はプリズム1に光を出射する光源である。光源には、特に限定されないが、例えばLDやLED(Light Emitting Diode)等を用いることができる。なお、光学素子74は、プリズム1からの光を受光する受光素子であってもよい。
In this embodiment, the
パッケージ75は、底部76及び底部76上に配置された側壁部77を有する容器状の部材である。パッケージ75は、例えば、セラミック材料により構成され、具体的には、アルミナや窒化アルミニウム等により構成される。底部76は実装面76aを有する。底部76の実装面76a上に光学素子74及びプリズム1が配置されている。側壁部77は内面77a及び外面を有する。底部76の実装面76a及び側壁部77の内面77aには、金属膜78が設けられている。具体的には、本実施形態では、金属膜78はAu膜である。なお、金属膜78はAu膜には限定されない。
The
プリズム1は、密着膜3によりパッケージ75の実装面76aに接合されている。光学素子74は、特に限定されないが、例えばはんだ等により実装面76aに接合されていてもよい。
The
パッケージ75は、金属膜78を必ずしも有していなくともよい。もっとも、パッケージ75は、本実施形態のように金属膜78を有することが好ましい。プリズム1の密着膜3と金属膜78とを合金化することにより、プリズム1とパッケージ75との間の接合力をより確実に、かつ効果的に高めることができる。このような構成は、特に、プリズム1とパッケージ75との熱膨張率差が比較的大きい場合に有効である。
The
金属膜78はAu膜であることが好ましい。それによって、金属膜78が酸化し難い。従って、光デバイス70の製造に際し、プリズム1とパッケージ75との間の接合力をより確実に高めることができる。
Preferably, the
本実施形態では、底部76の実装面76aの全面及び側壁部77の内面77aに金属膜78が設けられている。もっとも、金属膜78は、少なくともプリズム1が配置される部分に設けられていればよい。
In this embodiment, a
パッケージ75の側壁部77上には、光学素子74及びプリズム1を封止するように、蓋体79が設けられている。蓋体79は、特に限定されないが、本実施形態ではガラス蓋である。
A
蓋体79とパッケージ75との接合の方法は特に限定されないが、本実施形態では、例えば、SnNi接合により接合されている。この場合には、接合後においてガスが生じないため、プリズム1の反射膜4に不純物が付着し難く、反射率の劣化が生じ難い。上記接合方法は一例であり、SnAg接合、SnAgCu接合により接合されてもよい。
Although the method of joining the
図9に示すように、光学素子74から出射した光Aは、プリズム1において反射され、蓋体79を通り、光デバイス70外に出射される。
As shown in FIG. 9, light A emitted from the
光デバイス70は第1の実施形態のプリズム1を有するため、光デバイス70におけるプリズム1の位置精度を効果的に高めることができる。
Since the
光デバイス70はマルチチップに用いてもよい。マルチチップは、例えば、実装基板と、実装基板上に配置された複数の光デバイス70とを備える。マルチチップの光デバイスは第1の実施形態のプリズム1を有するため、マルチチップにおいても、プリズム1の位置精度を効果的に高めることができる。
The
(プリズム)
(第8の実施形態)
図10は、第8の実施形態に係るプリズムの断面図である。図10に示すように、本実施形態のプリズムは、密着膜83Aの第2の層部分86Aが応力緩和層87Aを有する点において、第1の実施形態と異なる。具体的には、応力緩和層87Aは、複数のAu層のうちの一層である第3の層に相当する。上記以外の点においては、本実施形態のプリズムは第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(prism)
(Eighth embodiment)
FIG. 10 is a cross-sectional view of a prism according to the eighth embodiment. As shown in FIG. 10, the prism of this embodiment differs from the first embodiment in that the
応力緩和層87Aの厚みは、他のAu層である、第1の層6a及び第5の層6eの平均の厚みと異なる。より具体的には、応力緩和層87Aの厚みは、第2の層部分86Aにおける他のAu層の平均の厚みよりも厚い。
The thickness of the
ここで、Au層とSn層とは、互いに逆方向の応力を有する。第2の層部分におけるAu層及びSn層のうち一方の応力が他方の応力よりも大きい場合には、プリズムをパッケージに接合したときに、パッケージに応力が加わることとなる。第2の層部分におけるAu層及びSn層が多層になるほど、応力は大きくなる。 Here, the Au layer and the Sn layer have stresses in opposite directions. If the stress in one of the Au layer and the Sn layer in the second layer portion is greater than the stress in the other, stress will be applied to the package when the prism is joined to the package. As the number of Au layers and Sn layers in the second layer portion increases, the stress increases.
これに対して、本実施形態においては、第2の層部分86Aは応力緩和層87Aを有する。これにより、複数のAu層の応力の合計と複数のSn層の応力の合計との大小関係を、等しい関係に近づけることができる。よって、プリズムを実装したときの、パッケージに加わる応力を緩和することができる。従って、プリズムがパッケージから剥離し難い。
In contrast, in this embodiment, the
密着膜83Aが応力緩和層87Aを有することにより、Au層の応力の合計を大きい方に調整することができるため、本実施形態はSn層の応力の合計が大きい場合に好適である。応力緩和層87Aの厚みは、他のAu層の厚みの平均の1/2以上、5倍以下であることが好ましい。それによって、プリズムをパッケージ等に実装した際、パッケージ等に加わる応力を効果的に緩和することができ、プリズムのパッケージ等からの剥離を効果的に抑制することができる。
Since the
例えば、応力緩和層87A以外の複数のAu層の厚みを均一とし、複数のSn層の厚みを均一としてもよい。この場合には、密着膜93の形成に際し、応力緩和層87Aの厚みのみを他のAu層の厚みと異ならせればよい。よって、製造工程を単純化することができる。従って、生産性を高めることができ、かつプリズムがパッケージ等から剥離し難い。もっとも、応力緩和層87A以外の複数のAu層の厚み及び複数のSn層の厚みは、均一ではなくともよい。
For example, the thicknesses of the plurality of Au layers other than the
さらに、本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、密着膜83Aの溶融を伴うことなくプリズムをパッケージ等に接合することができる。従って、プリズムの位置精度を効果的に高めることができる。
Furthermore, in this embodiment as well, as in the first embodiment, the prism can be bonded to a package or the like without melting the
以下において、本実施形態と応力緩和層の構成のみが異なる第9~第11の実施形態を示す。第9~第11の実施形態においても、本実施形態と同様に、プリズムの位置精度を効果的に高めることができ、かつパッケージ等からプリズムが剥離し難い。 Below, ninth to eleventh embodiments that differ from this embodiment only in the structure of the stress relaxation layer will be shown. In the ninth to eleventh embodiments, as in the present embodiment, the positional accuracy of the prism can be effectively improved, and the prism is difficult to peel off from the package or the like.
(第9の実施形態)
図11は、第9の実施形態に係るプリズムの断面図である。図11に示すように、本実施形態においても、密着膜83Bの第2の層部分86Bにおける応力緩和層87Bは、複数のAu層のうちの一層である第3の層に相当する。応力緩和層87Bの厚みは、第2の層部分86Aにおける、応力緩和層87B以外のAu層の厚みの平均よりも薄い。
(Ninth embodiment)
FIG. 11 is a sectional view of a prism according to the ninth embodiment. As shown in FIG. 11, also in this embodiment, the
密着膜83Bが応力緩和層87Bを有することにより、Au層の応力の合計を小さい方に調整することができるため、本実施形態はSn層の応力の合計が小さい場合に好適である。応力緩和層87Bの厚みは、他のAu層の厚みの平均の1/5以上、1/2以下であることが好ましく、1/5以上、1/4以下であることがより好ましい。それによって、プリズムをパッケージ等に実装した際、パッケージ等に加わる応力を効果的に緩和することができ、プリズムのパッケージ等からの剥離を効果的に抑制することができる。
Since the
(第10の実施形態)
図12は、第10の実施形態に係るプリズムの断面図である。図12に示すように、本実施形態の密着膜83Cの第2の層部分86Cにおける応力緩和層87Cは、複数のSn層のうちの一層である第4の層に相当する。応力緩和層87Cの厚みは、第2の層部分86Cにおける、応力緩和層87C以外のSn層の厚みの平均よりも厚い。
(Tenth embodiment)
FIG. 12 is a cross-sectional view of a prism according to the tenth embodiment. As shown in FIG. 12, the
密着膜83Cが応力緩和層87Cを有することにより、Sn層の応力の合計を大きい方に調整することができるため、本実施形態はAu層の応力の合計が大きい場合に好適である。応力緩和層87Cの厚みは、他のSn層の厚みの平均の1/2以上、5倍以下であることが好ましい。それによって、プリズムをパッケージ等に実装した際、パッケージ等に加わる応力を効果的に緩和することができ、プリズムのパッケージ等からの剥離を効果的に抑制することができる。
Since the
(第11の実施形態)
図13は、第11の実施形態に係るプリズムの断面図である。図13に示すように、本実施形態においても、密着膜83Dの第2の層部分86Dにおける応力緩和層87Dは、複数のSn層のうちの一層である第4の層に相当する。応力緩和層87Dの厚みは、第2の層部分86Dにおける、応力緩和層87D以外のSn層の厚みの平均よりも薄い。
(Eleventh embodiment)
FIG. 13 is a cross-sectional view of a prism according to the eleventh embodiment. As shown in FIG. 13, also in this embodiment, the
密着膜83Dが応力緩和層87Dを有することにより、Sn層の応力の合計を小さい方に調整することができるため、本実施形態はAu層の応力の合計が小さい場合に好適である。応力緩和層87Dの厚みは、他のSn層の厚みの平均の1/5以上、1/2以下であることが好ましく、1/5以上、1/3以下であることがより好ましい。それによって、プリズムをパッケージ等に実装した際、パッケージ等に加わる応力を効果的に緩和することができ、プリズムのパッケージ等からの剥離を効果的に抑制することができる。
Since the
上記各実施形態において、密着膜の第2の層部分がAu層及びSn層のうち少なくとも一方の層を有する例を示した。なお、密着膜の第2の層部分においては、Au層及びSn層が合金化されていてもよい。この例を以下において示す。 In each of the embodiments described above, examples have been given in which the second layer portion of the adhesive film includes at least one of the Au layer and the Sn layer. Note that in the second layer portion of the adhesive film, the Au layer and the Sn layer may be alloyed. An example of this is shown below.
(第12の実施形態)
図14は、第12の実施形態に係るプリズムの断面図である。図14に示すように、本実施形態は、第2の層部分96がAu及びSnの合金からなるAu-Sn層である点及び密着膜93が最外層部分98を有する点において、第1の実施形態と異なる。最外層部分98は第2の層部分96上に積層されている。最外層部分98はAu層である。上記以外の点においては、本実施形態のプリズム91は第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(12th embodiment)
FIG. 14 is a cross-sectional view of a prism according to the twelfth embodiment. As shown in FIG. 14, this embodiment is different from the first layer in that the
密着膜93の第2の層部分96の形成に際しては、例えば、Au層及びSn層を交互に積層し、次に、積層されたAu層及びSn層を加熱すればよい。これにより、Au層及びSn層を合金化することによって、第2の層部分96を形成することができる。
In forming the
本実施形態においては、最外層部分98が密着膜93の最外層である。最外層部分98は、例えば、スパッタリング法や真空蒸着法等により形成することができる。なお、密着膜93は最外層部分98を有しなくともよい。この場合には、他の第1の実施形態等と同様に、第2の層部分の最外層が密着膜の最外層である。なお、具体的には、本実施形態のように第2の層部分96がAu-Sn層であり、最外層部分98を有しない場合には、Au-Sn層が最外層である。
In this embodiment, the
プリズム91は、他の実施形態のプリズムと同様に、パッケージ等に実装される。本実施形態においても、密着膜93全体の溶融流動を伴わずに、プリズム91をパッケージ等に接合することができる。よって、プリズム91の位置精度を効果的に高めることができる。
The
密着膜93の第2の層部分96の厚みは、2.5μm以上、5.9μm以下であることが好ましい。それによって、パッケージ等にプリズム91を実装するに際し、密着膜93による接合力を十分に高めることができる。なお、第1の層部分の厚みは、0.1以上、0.5μm以下であることが好ましい。密着膜の全体の厚みは、3μm以上、6μm以下であることが好ましい。
The thickness of the
本実施形態のように、密着膜93は最外層部分98を有することが好ましい。本実施形態においては、Au-Sn層である第2の層部分96上に、Au層である最外層部分98が積層されている。この場合、実装に際しパッケージ等に接する部分は最外層部分98である。よって、実装に際し密着膜93が酸化し難く、密着膜93による接合力をより確実に高めることができる。
It is preferable that the
本実施形態においても、第5の実施形態と同様に、第1の層部分5と第2の層部分96との間に中間層部分が積層されていてもよい。これにより、第1の層部分5に第2の層部分96の金属が拡散し難い。よって、プリズム本体2から密着膜93が剥離し難い。
Also in this embodiment, as in the fifth embodiment, an intermediate layer portion may be laminated between the
(第13の実施形態)
図15は、第13の実施形態に係るプリズムの断面図である。図15に示すように、本実施形態は、プリズム本体2の底面2aと斜面2bとの稜線に、保護膜105が設けられている点において、第1の実施形態と異なる。上記以外の点においては、本実施形態のプリズムは第1の実施形態のプリズム1と同様の構成を有する。
(13th embodiment)
FIG. 15 is a cross-sectional view of a prism according to the thirteenth embodiment. As shown in FIG. 15, this embodiment differs from the first embodiment in that a
保護膜105は反射膜4と一体的に設けられている。保護膜105は、密着膜3に接続されている。なお、保護膜105は密着膜3に必ずしも接続されていなくともよい。保護膜105は、例えば、スパッタリング法または真空蒸着法等により形成することができる。本実施形態のように、保護膜105が反射膜4と一体である場合には、反射膜4と同時に保護膜105を形成することもできる。
The
もっとも、保護膜105は反射膜4と別体として設けられていてもよい。あるいは、保護膜105は密着膜3と一体的に設けられていてもよい。この場合には、保護膜105は、反射膜4に接続されていてもよく、または反射膜4に接続されていなくともよい。保護膜105が密着膜3と一体である場合には、保護膜105は、密着膜3と同様の複数の層のうち少なくとも一層を有する。
However, the
プリズムが保護膜105を有することにより、プリズム本体2に欠けが生じ難い。保護膜105は、反射膜4及び密着膜3の双方に接続されていることが好ましい。それによって、プリズム本体2に欠けがより一層生じ難い。
Since the prism has the
本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、密着膜3の溶融を伴うことなくプリズムをパッケージ等に接合することができる。従って、プリズムの位置精度を効果的に高めることができる。
Also in this embodiment, as in the first embodiment, the prism can be bonded to a package or the like without melting the
(接合力の評価)
図1に示す第1の実施形態のプリズム1において、密着膜3の最外層としての、第2の層部分6の最外層の算術平均粗さRaを異ならせて、パッケージとの接合性を確認した。なお、密着膜3の最外層はAu層とした。具体的には、最外層の算術平均粗さRaをRaとしたときに、Ra≦0.05、0.05<Ra≦0.09、0.09<Ra≦0.15、0.15<Ra≦0.20とした。なお、本明細書における算術平均粗さRaはJIS B 0601:2013に基づく。
(Evaluation of bonding force)
In the
接合性の確認においては、パッケージとして、Auめっきされた部分を有する窒化アルミニウム基板を用いた。プリズム1を窒化アルミニウム基板のAuめっきされた部分に、約320℃に加熱することにより接合した。その後、プリズム1の側面から力を加えた。具体的には、プリズム1の密着膜3が窒化アルミニウム基板から剥離するまで、またはプリズム本体2が密着膜3から剥離するまで、あるいは剥離が生じずプリズム本体2が破壊されるまで、プリズム1に力を加えた。接合性の確認は、算術平均粗さRaを異ならせた各場合において、それぞれ15回行った。結果を表1に示す。
In checking the bondability, an aluminum nitride substrate having an Au-plated portion was used as a package. The
表1において、接合性の評価は◎が最も高く、○が次に高く、△が最も低い。「剥離無し」とは、密着膜3がパッケージから剥離していないことをいい、プリズム本体2が破壊された場合またはプリズム本体2が密着膜3から剥離した場合を含む。「一部剥離」とは、密着膜3の一部がパッケージから剥離したこという。
In Table 1, the evaluation of bondability is the highest for ◎, the second highest for ○, and the lowest for Δ. "No peeling" means that the
表1に示すように、密着膜3の最外層の算術平均粗さRaを異ならせたいずれの場合においても、「剥離無し」または「一部剥離」であり、密着膜3はパッケージから完全に剥離していないことがわかる。さらに、最外層の算術平均粗さRaの値が小さいほど、「剥離無し」の割合が大きくなっていることがわかる。
As shown in Table 1, in all cases where the arithmetic mean roughness Ra of the outermost layer of the
密着膜3の最外層の算術平均粗さRaは、0.20.μm以下であることが好ましく、0.15μm以下であることがより好ましく、0.09μm以下であることがさらに好ましく、0.05μm以下であることが特に好ましい。それによって、実装に際し、パッケージ等と密着膜93との密着性をより一層効果的に高めることができる。従って、接合力をより一層効果的に高めることができる。
The arithmetic mean roughness Ra of the outermost layer of the
同様に、図14に示す第12の実施形態において、密着膜93が最外層部分98を有しない場合においても、密着膜93の最外層としての、第2の層部分96の算術平均粗さRaが上記範囲内であることが好ましい。それによって、接合力をより一層効果的に高めることができる。
Similarly, in the twelfth embodiment shown in FIG. 14, even when the
(応力の評価)
プリズム密着膜の、応力の大きさを評価した。図16に示す、両側面が対向する方向において延びているプリズムの母材91Aをダイシングシートに貼り付けた。次に、一点鎖線I-Iに沿ってプリズムの母材91Aを切断し、個片化した。なお、個片化後のプリズムは、図14に示す第12の実施形態のプリズムと同様の構成を有する。密着膜93のパッケージに対する応力が大きい場合には、個片化時に応力が解放されるときの衝撃が大きいため、プリズムが剥離し易い。よって、剥離する割合が大きいほど、密着膜93の応力が大きい。
(Evaluation of stress)
The magnitude of stress on the prism adhesion film was evaluated. A
応力の評価は、密着膜93の第2の層部分96の厚み等を異ならせて、条件1~条件4において行った。具体的には、条件1においては、第2の層部分96の厚みを3μmとし、条件2~4においては、第2の層部分96の厚みを6μmとした。さらに、条件3及び条件4においては、ダイシングシートにプリズムの母材91Aを貼り付ける前に加熱処理を行った。具体的には、条件3では、加熱処理を窒素雰囲気下200℃において2時間行った。条件4では、加熱処理を窒素雰囲気下200℃において5時間行った。応力の大きさの評価の結果を表2に示す。
The stress evaluation was performed under
表2において、◎の場合に応力は最も小さく、○が次に小さく、△が最も大きい。 In Table 2, the stress is the smallest in the case of ◎, the next smallest in the case of ◯, and the largest in the case of △.
表2に示すように、条件1~条件4においていずれも、プリズム91のパッケージからの剥離は50%以下に抑制されている。さらに、第2の層部分96の厚みが異なる条件1及び条件2を比較すると、第2の層部分96が薄い条件1において、応力はより一層小さい。このように、第2の層部分96が薄いほど、密着膜93の応力が小さくなることがわかる。密着膜93の第2の層部分96の厚みは、6μm以下であることが好ましく、3μm以下であることがより好ましい。それによって、応力をより一層小さくすることができる。
As shown in Table 2, under all
第2の層部分96の厚みが同じである条件2及び条件3を比較すると、プリズムの母材91Aをダイシングシートに貼り付ける前に加熱処理を行った条件3において、応力がより一層小さい。さらに、第2の層部分96の厚みが同じであり、上記加熱処理を行った条件3及び条件4を比較すると、上記加熱処理の時間が長い条件4において、応力がより一層小さい。このように、上記加熱処理の時間が長いほど応力を抑制できることがわかる。プリズムをダイシングシートに貼り付ける前に加熱処理を行うことが好ましく、上記加熱処理を2時間から5時間程度行うことが好ましい。それによって、応力をより一層効果的に抑制することができる。
Comparing
1,11,21,31,41,51,61,91…プリズム
2…プリズム本体
2a…底面
2b…斜面
2c…上面
3,13,23,33,43,83A~83D,93…密着膜
4…反射膜
5…第1の層部分
6,16,26,36,86A~86D,96…第2の層部分
6a,16a,26a,36a…第1の層
6b,16b,26b,36b…第2の層
6c,16c,26c,36c…第3の層
6d,16d,26d,36d…第4の層
6e,16e,26e,36e…第5の層
47…中間層部分
70…光デバイス
74…光学素子
75…パッケージ
76…底部
76a…実装面
77…側壁部
77a…内面
78…金属膜
79…蓋体
87A~87D…応力緩和層
98…最外層部分
91A…プリズムの母材
105…保護膜
1, 11, 21, 31, 41, 51, 61, 91...
Claims (22)
前記底面に設けられている密着膜と、
を備え、
前記密着膜が、前記プリズム本体側に位置する第1の層部分と、前記第1の層部分上に直接的または間接的に積層された第2の層部分とを有し、
前記第1の層部分がCr層、Ti層またはTa層であり、
前記第2の層部分が複数のAu層及び複数のSn層の双方を有し、
前記密着膜の積層方向において、前記プリズム本体から離れる側を外側としたときに、前記第2の層部分の最外層が前記Au層であり、
前記Au層及び前記Sn層が交互に積層されており、前記Au層と前記Sn層との間に、Au及びSnの合金からなるAu-Sn層が設けられている、プリズム。 a prism body having a bottom surface and a slope connected to the bottom surface;
an adhesive film provided on the bottom surface;
Equipped with
The adhesive film has a first layer portion located on the prism body side and a second layer portion laminated directly or indirectly on the first layer portion,
The first layer portion is a Cr layer, a Ti layer or a Ta layer,
The second layer portion has both a plurality of Au layers and a plurality of Sn layers,
In the stacking direction of the adhesive film, when the side away from the prism body is defined as the outside, the outermost layer of the second layer portion is the Au layer ,
A prism , wherein the Au layer and the Sn layer are alternately stacked, and an Au-Sn layer made of an alloy of Au and Sn is provided between the Au layer and the Sn layer.
前記第2の層部分が応力緩和層を有し、
前記応力緩和層が前記複数のAu層のうちの一層である場合には、前記応力緩和層の厚みが、他の前記Au層の平均の厚みと異なり、
前記応力緩和層が前記複数のSn層のうちの一層である場合には、前記応力緩和層の厚みが、他の前記Sn層の平均の厚みと異なる、請求項1に記載のプリズム。 The second layer portion includes both the plurality of Au layers and the plurality of Sn layers, the Au layers and the Sn layers are alternately stacked,
the second layer portion has a stress relaxation layer;
When the stress relaxation layer is one of the plurality of Au layers, the thickness of the stress relaxation layer is different from the average thickness of the other Au layers,
The prism according to claim 1 , wherein when the stress relaxation layer is one of the plurality of Sn layers, the thickness of the stress relaxation layer is different from the average thickness of the other Sn layers.
前記複数のAu層の厚みが互いに同一であり、且つ前記複数のSn層の厚みが外側に位置するほど厚い、請求項1に記載のプリズム。 The second layer portion includes both the plurality of Au layers and the plurality of Sn layers,
The prism according to claim 1 , wherein the plurality of Au layers have the same thickness, and the thickness of the plurality of Sn layers increases as they are located on the outer side.
前記複数のAu層の厚みが外側に位置するほど薄く、且つ前記複数のSn層の厚みが互いに同一である、請求項1に記載のプリズム。 The second layer portion includes both the plurality of Au layers and the plurality of Sn layers,
The prism according to claim 1 , wherein the thickness of the plurality of Au layers is thinner toward the outer side, and the thickness of the plurality of Sn layers is the same.
前記第2の層部分におけるAuの重量の合計をMA、Snの重量の合計をMS、Au及びSnの重量の合計に対するAuの重量の比率をMA/(MA+MS)としたときに、比率MA/(MA+MS)が0.65以上、0.78以下である、請求項1~11のいずれか一項に記載のプリズム。 the second layer portion has both the Au layer and the Sn layer,
The total weight of Au in the second layer portion is M A , the total weight of Sn is M S , and the ratio of the weight of Au to the total weight of Au and Sn is M A /(M A +M S ). The prism according to any one of claims 1 to 11 , wherein the ratio M A /(M A +M S ) is 0.65 or more and 0.78 or less.
前記上面は、前記底面に対向し、かつ前記斜面に接続されている、請求項1~15のいずれか一項に記載のプリズム。 the prism body has an upper surface;
The prism according to any one of claims 1 to 15 , wherein the top surface faces the bottom surface and is connected to the slope.
前記プリズムに光を出射し、または前記プリズムからの光を受光する光学素子と、
前記プリズム及び前記光学素子を収容するパッケージと、
を備え、
前記パッケージに前記プリズムが前記密着膜により接合されている、光デバイス。 The prism according to any one of claims 1 to 18 ,
an optical element that emits light to the prism or receives light from the prism;
a package containing the prism and the optical element;
Equipped with
An optical device, wherein the prism is bonded to the package by the adhesive film.
前記密着膜を設ける工程は、前記底面に金属材料からなる第1の層部分を形成する工程と、前記第1の層部分上に直接的または間接的に金属材料からなる第2の層部分を積層する工程とを含み、
前記第1の層部分と前記第2の層部分とは互いに異なる成分の金属材料から構成され、
前記第1の層部分がCr層、Ti層またはTa層であり、
前記第2の層部分が複数のAu層及び複数のSn層の双方を有し、
前記密着膜の積層方向において、前記プリズム本体から離れる側を外側としたときに、前記第2の層部分の最外層が前記Au層であり、
前記Au層及び前記Sn層が交互に積層されており、前記Au層と前記Sn層との間に、Au及びSnの合金からなるAu-Sn層が設けられている、プリズムの製造方法。 A method for manufacturing a prism, comprising the step of providing an adhesive film on the bottom surface of a prism body having a bottom surface and a slope connected to the bottom surface,
The step of providing the adhesive film includes forming a first layer portion made of a metal material on the bottom surface, and directly or indirectly forming a second layer portion made of a metal material on the first layer portion. including a step of laminating,
The first layer portion and the second layer portion are made of metal materials with mutually different components,
The first layer portion is a Cr layer, a Ti layer or a Ta layer,
The second layer portion has both a plurality of Au layers and a plurality of Sn layers,
In the stacking direction of the adhesive film, when the side away from the prism body is defined as the outside, the outermost layer of the second layer portion is the Au layer ,
A method for manufacturing a prism , wherein the Au layer and the Sn layer are alternately stacked, and an Au--Sn layer made of an alloy of Au and Sn is provided between the Au layer and the Sn layer.
前記プリズムとの接着面を有するパッケージを準備する工程と、
前記密着膜が前記パッケージの前記接着面に当接するよう、前記プリズムと前記パッケージとを当接させる工程と、
前記密着膜を加熱し、前記プリズムと前記パッケージとを接合させる工程と、
を備える、パッケージデバイスの製造方法。 preparing a prism according to any one of claims 1 to 18 ;
preparing a package having an adhesive surface with the prism;
bringing the prism and the package into contact so that the adhesive film comes into contact with the adhesive surface of the package;
heating the adhesive film to bond the prism and the package;
A method for manufacturing a packaged device, comprising:
前記密着膜全体が溶融しない温度で前記加熱を行い、前記プリズムと前記パッケージとを接合させる、請求項21に記載のパッケージデバイスの製造方法。 An Au film is formed on the adhesive surface of the package,
22. The method for manufacturing a packaged device according to claim 21 , wherein the heating is performed at a temperature that does not melt the entire adhesive film to bond the prism and the package.
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