JP7419566B2 - スペクトル・フィルタリングのためのシステム、機器、及び方法 - Google Patents
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Description
A.スペクトル・データの処理方法であって、(1)時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルを受信するステップと、(2)時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルのうちの中間の1つにおける1つ又は複数の異常信号を、スペクトル・データ・サンプルのうちの少なくとも1つの先行するものと少なくとも1つの後続するものとに基づいて識別するステップとを含む、スペクトル・データの処理方法。
B.スペクトル・データを処理するための機器であって、(1)1つ又は複数の異常信号を識別するためのアルゴリズムに対応する動作命令を有するメモリと、(2)動作命令に従って1つ又は複数の動作を実行するように構成された、1つ又は複数のプロセッサとを備え、動作命令が、時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルを受信するステップと、時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルのうちの中間の1つにおける1つ又は複数の異常信号をスペクトル・データ・サンプルのうちの少なくとも1つの先行するものと、少なくとも1つの後続するものとに基づいて識別するステップとを含む、機器。
C.異常信号を識別するためのシステムであって、(1)処理ツールと、(2)処理ツール内で実行される半導体プロセスから光学データを受信し、光学データをスペクトル・データに変換する機器とを備え、機器は、(2A)1つ又は複数の異常信号を識別するためのアルゴリズムに対応する動作命令を有するメモリと、(2B)動作命令に従って1つ又は複数の動作を実行するように構成された1つ又は複数のプロセッサとを備え、動作命令は、時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルを受信するステップと、時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルのうちの中間の1つにおける1つ又は複数の異常信号を、スペクトル・データ・サンプルのうちの少なくとも1つの先行するものと、少なくとも1つの後続するものとに基づいて識別するステップとを含む、システム。
D.非一時的なコンピュータ可読媒体に記憶されたコンピュータ・プログラム製品であって、それによって開始されたときに、1つ又は複数のプロセッサに、(1)時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルを受信するステップと、(2)時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルのうちの中間の1つにおける1つ又は複数の異常信号を、スペクトル・データ・サンプルのうちの少なくとも1つの先行するものと、少なくとも1つの後続するものとに基づいて識別するステップとを含む動作を実行することによってスペクトル・データを処理することを指示する一連の動作命令を含む、コンピュータ・プログラム製品。
Claims (23)
- スペクトル・データを処理する方法であって、
時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルを受信するステップと、
前記時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルのうちの中間の1つにおける1つ又は複数の異常信号を、前記スペクトル・データ・サンプルのうちの少なくとも1つの先行するものと少なくとも1つの後続するものとに基づいて識別するステップと
を含み、
前記識別するステップが、前記時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルの要素におけるスペクトル・データの幅カウントを、カウント数に対応する幅カウント限界と比較するステップ、及び前記時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルのうちの前記中間の1つの要素と、前記スペクトル・データ・サンプルのうちの前記少なくとも1つの先行するもの及び前記少なくとも1つの後続するものの対応する要素の平均との間にある差を、強度しきい値と比較するステップを含む、方法。 - 時間的に分離した3つのスペクトル・データ・サンプルがあり、前記中間の1つは前記3つのうちの中央のものである、請求項1に記載の方法。
- 前記スペクトル・データ・サンプルのうちの前記少なくとも1つの先行するものと前記少なくとも1つの後続するものとは、前記中間の1つにおける前記1つ又は複数の異常信号をブラケティングする、請求項1に記載の方法。
- 前記強度しきい値が予め決定される、請求項1に記載の方法。
- 前記強度しきい値が動的に設定される、請求項1に記載の方法。
- 前記差が前記強度しきい値より大きい場合に、前記幅カウントをインクリメントするステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記1つ又は複数の識別された異常信号を処理するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記処理するステップが、異常信号を含むと識別された前記時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルの要素の前記1つ又は複数のカウント値のうちの少なくとも1つを修正するステップを含む、請求項7に記載の方法。
- 前記処理するステップが、前記異常信号を含むと識別された前記時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルの要素に近接する追加の要素の少なくとも1つ又は複数のカウント値を修正するステップを含む、請求項8に記載の方法。
- 前記処理するステップが、異常信号を含むと識別された前記時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルの要素の前記1つ又は複数のカウント値のうちの少なくとも1つを修正しないステップを含む、請求項7に記載の方法。
- 前記修正するステップが、前記時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルのうちの前記中間の1つの要素と、前記スペクトル・データ・サンプルの前記少なくとも1つの先行するもの及び少なくとも1つの後続するものの対応する要素の平均との間にある差を、強度しきい値と比較するステップに基づいて実行される、請求項8に記載の方法。
- 前記方法のための少なくとも一部の論理が、組み込みプロセッサ、フィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ(FPGA)、又は両方の組み合わせにコードとして記憶される、請求項1に記載の方法。
- スペクトル・データを処理するための機器であって、
1つ又は複数の異常信号を識別するためのアルゴリズムに対応する動作命令を有するメモリと、
前記動作命令に従って1つ又は複数の動作を実行するように構成された1つ又は複数のプロセッサと
を備え、前記動作が、
時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルを受信するステップと、
前記時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルのうちの中間の1つにおける前記1つ又は複数の異常信号を、前記スペクトル・データ・サンプルのうちの少なくとも1つの先行するものと少なくとも1つの後続するものとに基づいて識別するステップと
を含み、
前記識別するステップが、前記時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルのうちの前記中間の1つの要素と、前記スペクトル・データ・サンプルのうちの前記少なくとも1つの先行するもの及び少なくとも1つの後続のものの対応する要素の平均との間にある差を、カウント数に対応する強度しきい値と比較するステップを含む、機器。 - 前記機器が分光器である、請求項13に記載の機器。
- 前記識別するステップが、前記差が前記強度しきい値より大きい場合に、前記時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルの要素におけるスペクトル・データの幅カウントをインクリメントするステップをさらに含む、請求項13に記載の機器。
- 前記識別するステップが、前記幅カウントをカウント数に対応する幅カウント限界と比較するステップをさらに含む、請求項15に記載の機器。
- 前記動作が、前記1つ又は複数の識別された異常信号を処理するステップをさらに含む、請求項16に記載の機器。
- 前記処理するステップが、異常信号を含むと識別された前記時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルの要素の前記1つ又は複数のカウント値のうちの少なくとも1つを修正するステップを含む、請求項17に記載の機器。
- 前記処理するステップが、前記異常信号を含むと識別された前記時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルの要素に近接する追加の要素の少なくとも1つ又は複数のカウント値を修正するステップをさらに含む、請求項18に記載の機器。
- 前記修正するステップが、前記差に基づいて実行される、請求項18に記載の機器。
- 前記1つ又は複数のプロセッサのうちの少なくとも1つが、フィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ(FPGA)を備える、請求項13に記載の機器。
- 異常信号を識別するためのシステムであって、
処理ツールと、
前記処理ツール内で実行される半導体プロセスから光学データを受信し、前記光学データをスペクトル・データに変換する機器と
を備え、前記機器は、
1つ又は複数の異常信号を識別するためのアルゴリズムに対応する動作命令を有するメモリと、
前記動作命令に従って1つ又は複数の動作を実行するように構成された1つ又は複数のプロセッサと
を備え、前記動作は、
時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルを受信するステップと、
前記時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルのうちの中間の1つにおける前記1つ又は複数の異常信号を、前記スペクトル・データ・サンプルのうちの少なくとも1つの先行するものと少なくとも1つの後続するものとに基づいて識別するステップと
を含み、
前記識別するステップが、前記時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルのうちの前記中間の1つの要素と、前記スペクトル・データ・サンプルのうちの前記少なくとも1つの先行するもの及び少なくとも1つの後続のものの対応する要素の平均との間にある差を、カウント数に対応する強度しきい値と比較するステップを含む、システム。 - 非一時的なコンピュータ可読媒体に記憶されたコンピュータ・プログラム製品であって、前記非一時的なコンピュータ可読媒体が、1つ又は複数のプロセッサに、それによって開始された場合に、
時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルを受信するステップと、
前記時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルのうちの中間の1つにおける1つ又は複数の異常信号を、前記スペクトル・データ・サンプルのうちの少なくとも1つの先行するものと少なくとも1つの後続するものとに基づいて識別するステップと
を含む動作を実行することによって、スペクトル・データを処理するように指示する一連の動作命令を含み、
前記識別するステップが、前記時間的に分離したスペクトル・データ・サンプルのうちの前記中間の1つの要素と、前記スペクトル・データ・サンプルのうちの前記少なくとも1つの先行するもの及び少なくとも1つの後続のものの対応する要素の平均との間にある差を、カウント数に対応する強度しきい値と比較するステップを含む、コンピュータ・プログラム製品。
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001284322A (ja) | 2000-03-30 | 2001-10-12 | Sharp Corp | プラズマプロセス装置、プラズマプロセス装置の制御方法および不良品判定方法 |
US6564114B1 (en) | 1999-09-08 | 2003-05-13 | Advanced Micro Devices, Inc. | Determining endpoint in etching processes using real-time principal components analysis of optical emission spectra |
JP2003287499A (ja) | 2001-11-29 | 2003-10-10 | Hitachi Ltd | 発光分光処理装置及びプラズマ処理方法 |
US20040045934A1 (en) | 2002-08-28 | 2004-03-11 | Harvey Kenneth C. | System and method for determining endpoint in etch processes using partial least squares discriminant analysis in the time domain of optical emission spectra |
JP2004253813A (ja) | 1996-11-11 | 2004-09-09 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理の終点検出方法およびその装置 |
CN101355012A (zh) | 2007-07-24 | 2009-01-28 | 显示器生产服务株式会社 | 端点检测装置和方法以及具有该装置的等离子体反应器 |
WO2010106712A1 (ja) | 2009-03-17 | 2010-09-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | エッチング装置、分析装置、エッチング処理方法、およびエッチング処理プログラム |
JP2020513647A (ja) | 2016-11-18 | 2020-05-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 製造プロセスにおける粒子によって誘発されるアークの検出のための組成発光分光分析 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0756318A1 (en) * | 1995-07-24 | 1997-01-29 | International Business Machines Corporation | Method for real-time in-situ monitoring of a trench formation process |
KR100560886B1 (ko) * | 1997-09-17 | 2006-03-13 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 가스 플라즈마 프로세스를 감시 및 제어하기 위한 시스템및 방법 |
ATE541202T1 (de) * | 2002-01-24 | 2012-01-15 | Gen Hospital Corp | Vorrichtung und verfahren zur ortung und verminderung des rauschens von signalen in der niedrigkohärenzinterferometrie (lci) und der optische kohärenztomografie (oct) mittels paralleldetektion von spektralbändern |
US7049156B2 (en) * | 2003-03-19 | 2006-05-23 | Verity Instruments, Inc. | System and method for in-situ monitor and control of film thickness and trench depth |
US7324193B2 (en) * | 2006-03-30 | 2008-01-29 | Tokyo Electron Limited | Measuring a damaged structure formed on a wafer using optical metrology |
JP4886013B2 (ja) | 2009-09-10 | 2012-02-29 | 日本碍子株式会社 | 避雷器の劣化検出方法及び装置 |
US10460998B2 (en) * | 2010-11-09 | 2019-10-29 | Nikon Corporation | Method for inspecting substrate, substrate inspection apparatus, exposure system, and method for producing semiconductor device |
KR101324346B1 (ko) * | 2012-01-13 | 2013-10-31 | 명지대학교 산학협력단 | 반도체 공정에서 아크 검출 방법 및 시스템 |
CN108027313B (zh) * | 2015-08-26 | 2021-01-29 | 光子系统有限责任公司 | 谐振周期性结构以及使用它们作为滤光器和传感器的方法 |
JP6527808B2 (ja) * | 2015-10-27 | 2019-06-05 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査方法および検査装置 |
CN107664621B (zh) * | 2016-07-29 | 2020-02-11 | 上海创和亿电子科技发展有限公司 | 异常样本识别方法、系统、服务器及电子设备 |
US11002665B2 (en) * | 2016-11-29 | 2021-05-11 | Photothermal Spectroscopy Corp. | Method and apparatus for enhanced photo-thermal imaging and spectroscopy |
JP7150739B2 (ja) * | 2017-02-17 | 2022-10-11 | ライフ テクノロジーズ コーポレーション | サンプル分析機器の自動品質管理およびスペクトル誤差補正 |
US11424115B2 (en) | 2017-03-31 | 2022-08-23 | Verity Instruments, Inc. | Multimode configurable spectrometer |
KR102073406B1 (ko) * | 2017-10-30 | 2020-02-05 | 동국대학교 산학협력단 | 전기 아크 출현 위치를 검출하는 방법 및 시스템 |
US12112241B2 (en) * | 2018-09-20 | 2024-10-08 | Cable Television Laboratories, Inc. | Systems and methods for detecting and grouping anomalies in data |
KR20230175346A (ko) * | 2018-12-28 | 2023-12-29 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 프린트된 기판으로부터의 측정 피드백에 기초한 패턴 랭킹 결정 |
WO2020219433A1 (en) * | 2019-04-25 | 2020-10-29 | University Of Rochester | Driven-cavity femtosecond sources |
-
2022
- 2022-04-13 JP JP2022569492A patent/JP7419566B2/ja active Active
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004253813A (ja) | 1996-11-11 | 2004-09-09 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理の終点検出方法およびその装置 |
US6564114B1 (en) | 1999-09-08 | 2003-05-13 | Advanced Micro Devices, Inc. | Determining endpoint in etching processes using real-time principal components analysis of optical emission spectra |
JP2001284322A (ja) | 2000-03-30 | 2001-10-12 | Sharp Corp | プラズマプロセス装置、プラズマプロセス装置の制御方法および不良品判定方法 |
JP2003287499A (ja) | 2001-11-29 | 2003-10-10 | Hitachi Ltd | 発光分光処理装置及びプラズマ処理方法 |
US20040045934A1 (en) | 2002-08-28 | 2004-03-11 | Harvey Kenneth C. | System and method for determining endpoint in etch processes using partial least squares discriminant analysis in the time domain of optical emission spectra |
CN101355012A (zh) | 2007-07-24 | 2009-01-28 | 显示器生产服务株式会社 | 端点检测装置和方法以及具有该装置的等离子体反应器 |
WO2010106712A1 (ja) | 2009-03-17 | 2010-09-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | エッチング装置、分析装置、エッチング処理方法、およびエッチング処理プログラム |
JP2020513647A (ja) | 2016-11-18 | 2020-05-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 製造プロセスにおける粒子によって誘発されるアークの検出のための組成発光分光分析 |
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