JP7410121B2 - 2つのオフセットレーザビームを提供するための光学装置及び方法 - Google Patents
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Description
a.時間的に固定された偏光を有するように、上記入力レーザビームを生成するためのレーザ源を設ける工程と、
b.上記入力レーザビームに対してオフセットレーザビーム(例えば横方向オフセット)を提供するための空間オフセット部を設ける工程であって、
上記オフセットレーザビームが、主伝搬軸Aを有し、主伝搬軸Aに垂直な平面内に円を描くのに適し、上記空間オフセット部が、上記入力レーザビームと上記オフセットレーザビームとの間で同じ偏光を維持することができる、工程と、
c.上記オフセットレーザビームから
透過により、第1の主伝搬軸を有する第1の空間オフセットレーザビーム(例えば、横方向オフセット)と、
反射により、第2の主伝搬軸を有する第2の空間オフセットレーザビーム(例えば、横方向オフセット)と、
を得るための第1の偏光分離手段を含む分離部を設ける工程と、
を備え、
上記分離部が、上記第1及び第2の空間オフセットレーザビームが、それぞれ上記第1及び第2の主伝搬軸に垂直な平面に円を描くのに適するように構成されている。
好ましくは、本発明による方法は、(例えば、工程aの後に)コリメーション調整システムを設けることを更に含む(これにより、様々な厚さのターゲットサンプルに適合しやすくなる)。本発明による方法は、好ましくは、ワークピースのレーザ機械加工、より好ましくは、ワークピースのレーザ微細機械加工を目的とする。
好ましくは、上記偏光管理手段は、2つの遅延板、好ましくは2つの4分の1波長板を含み、2つの4分の1波長板のうちの少なくとも1つの回転により、上記第1の偏光分離手段による透過パワー及び反射パワーを調節する。
d.上記第1及び第2の空間オフセットレーザビームを少なくとも1つのワークピースに向けるために、上記分離部下流に位置決めされた第1及び第2の偏向手段を設ける工程と、
e.上記第1及び第2の空間オフセットレーザビームを上記少なくとも1つのワークピースに集束させるように、それぞれに集束するように、上記第1及び上記第2の偏向手段の下流にそれぞれ位置決めされた第1及び第2の集束手段を設ける工程と、
を更に含む。
入力レーザビームから、主伝搬軸Aを有し、上記主伝搬軸Aに垂直な平面に円を描くのに適したオフセットレーザビームを得るための空間オフセット部と、
上記オフセットレーザビームから
透過により、第1の主伝搬軸を有する第1の空間オフセットレーザビームと、
反射により、第2の主伝搬軸を有する第2の空間オフセットレーザビームと、
を得るための第1の偏光分離手段を含む第1の分離モジュールを含む分離部と、
を備え、
上記空間オフセット部が、上記入力レーザビームと上記オフセットレーザビームとの間で同じ偏光を維持することができ、
上記分離部が、上記第1及び第2の空間オフセットレーザビームがそれぞれ上記第1及び第2の主伝搬軸に垂直な平面に円を描くのに適するように構成されている、装置を提案する。
したがって、本発明に含まれる空間オフセット部のため、ビームをそれ自体回転させることなく、空間的に(例えば、横方向に)オフセットすることが可能であり、その結果、偏光は時間が経過しても一定である。
透過により、上記第1の空間オフセットレーザビームと、
反射により、上記第2の空間オフセットレーザビームと、
を得るための第1の偏光分離手段を備える。
偏光立方体と、
56度ブルースタープレートと、
45度偏光ミラーと、
の偏光手段のうちの1つから選択される。
上記主伝搬軸Aに垂直な平面に方向Xに沿ってオフセットレーザビームを得るための第1の横方向オフセット部と、
上記主伝搬軸Aに垂直な平面に方向Yに沿ってオフセットレーザビームを得るための第2の横方向オフセット部と、
を備え、
上記方向X及びYが互いに直交しており、
入力レーザビームをオフセットするのに適するように、上記第1及び上記第2の横方向オフセット部が光学的に結合されて、上記主伝搬軸Aに垂直な平面に円を描くのに適したオフセットレーザビームを得る。
法線が2次元空間の軌道を描くのに適した可動ミラーと、
上記可動ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して、方向X及びYに沿ってオフセットビームを得るように、上記可動ミラーからの上記レーザビームの第1の入力反射を上記可動ミラーに向け直すように構成された光学反射システムと、
を備える。
法線が2次元空間の軌道を描くのに適した可動ミラーと、
上記可動ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して、方向X又はYに沿ってオフセットビームを得るように、上記可動ミラーからの上記レーザビームの第1の入力反射を上記可動ミラーに向け直すように構成された光学反射システムと、
を備える。
法線が二次元空間内に軌道を描くのに適した可動ミラーと、
第1及び第2の固定ミラーであって、
レーザビームの可動ミラー上での第1の入力反射が第1の固定ミラーに向けられ、
第1の固定ミラー上での第2の反射が第2の固定ミラーに向けられ、
第2の固定ミラー上での第3の反射が可動ミラーに向けられ、
可動ミラー上での第4の出力反射により、可動ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して、方向X及び/又はYに沿ったオフセットビームを得ることができる、
ように構成されている第1及び第2の固定ミラーと、
を備える。
第1及び第2の固定ミラーであって、
レーザビームの可動ミラーからの第1の入力反射が第1の固定ミラーに向けられ、
第1の固定ミラー上での第2の反射が第2の固定ミラーに向けられ、
第2の固定ミラー上での第3の反射が可動ミラーに向けられ、
可動ミラー上での第4の出力反射により、可動ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して、方向X及び/又はYに沿ったオフセットビームを得ることができる、
ように構成されている第1及び第2の固定ミラーを備える。
法線が2次元空間内の軌道を描くのに適した第1の可動ミラーと、
法線が上記2次元空間内の軌道を描くのに適した第2の可動ミラーと、
を備え、
上記第1及び上記第2の可動ミラーの上記法線が、上記第1及び第2の可動ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して平行であり、上記第1及び上記第2の可動ミラーが、
上記第1の可動ミラーからの上記レーザビームの第1の入力反射が、上記第2の可動ミラーに向けられ、
上記第2の可動ミラー上での第2の反射により、上記第1及び上記第2の可動ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して、方向X及び/又はYに沿ったオフセットビームを得ることができるように構成されている。
法線が二次元空間内で軌道を描くのに適した第1の可動ミラーと、
法線が上記二次元空間内で軌道を描くのに適した第2の可動ミラーと、
を備え、
上記第1及び第2の可動ミラーの上記法線が、上記第1及び第2の可動ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して平行であり、上記第1及び第2の可動ミラーが、
上記第1の可動ミラー上での上記入力レーザビームの第1の入力反射が、上記第2の可動ミラーに向けられ、
上記第2の可動ミラーでの第2の反射により、上記第1及び第2の可動ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して、方向Xに沿って横方向オフセットビームを得ることができ、
上記第1の可動ミラー上での横方向オフセットビームの第3の反射が、上記第2の可動ミラーに向けられ、
上記第2の可動ミラーでの第4の反射により、上記第1及び第2の横方向オフセット部の上記第1及び第2の可動ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して、上記主伝搬軸Aに垂直な平面に円を描くのに適したオフセットレーザビームを得ることができるように構成されている。
第1の横方向オフセット部であって、
法線が二次元空間内で軌道を描くのに適した第1の可動ミラーと、
法線が上記二次元空間内で軌道を描くのに適した第2の可動ミラーと、
を備え、
上記第1及び第2の可動ミラーの上記法線が、上記第1及び第2の可動ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して平行であり、上記第1及び第2の可動ミラーが、
上記第1の可動ミラー上での上記入力レーザビームの第1の入力反射が、上記第2の可動ミラーに向けられ、
上記第2の可動ミラーでの第2の反射により、上記第1及び第2の可動ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して、方向X又はYに沿って横方向オフセットビームを得ることができるように構成されている第1の横方向オフセット部と、
第2の横方向オフセット部であって、
レーザビームをオフセットして、主伝搬軸Aに垂直な平面内でそれぞれ方向X又はYに沿ってオフセットレーザビームを得るように回転させるのに適したプレートを備える第2の横方向オフセット部と、
を備え、
第1及び第2の横方向オフセット部は、プレートが第1及び第2の可動ミラーの間に配置され、第1の可動ミラー上での第1の反射がプレートを通過することによって第2の可動ミラーに向けられるように構成されている。
法線が3次元空間内の軌道を描くのに適した第1の可動ミラーと、
法線が3次元空間内の軌道を描くのに適した第2の可動ミラーと、
を備え、
第1及び上記第2の可動ミラーの法線が、第1及び第2の可動ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して平行であり、第1及び上記第2の可動ミラーが、
第1の可動ミラーからのレーザビームの第1の入力反射が、第2の可動ミラーに向けられ、
第2の可動ミラー上での第2の反射により、第1及び上記第2の可動ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して、主伝搬軸Aに垂直な平面に円を描くのに適したオフセットレーザビームを得ることができるように構成されている。
法線が3次元空間内の軌道を描くのに適した可動ミラーと、
可動ミラーの可能なすべての位置及び配向に関して、主伝搬軸Aに垂直な平面に円を描くのに適したオフセットレーザビームを得るように可動ミラー上でのレーザビームの第1の入力反射を可動ミラーに向け直すように構成された光学反射システムと、
を備える。
ミラーであって、
法線によって画定される略平面状の反射面を有して、上記入力レーザビームから第1の反射レーザビームを得、
上記法線が3次元空間内の軌道を描くのに適するように移動可能であり、
上記空間オフセット部が、上記可動ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して、上記入力レーザビームと上記ミラーの上記法線とが、0度~15度、好ましくは0.01度~10度、より好ましくは0.1度~8度、更により好ましくは0.1度~3度の角度で分離されるように構成されている、ミラーと、
上記可動ミラーを変位させるための駆動手段と、
再帰反射システムであって、
上記ミラーに対して位置決めされて、上記ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して、上記第1の反射レーザビームから上記ミラー上に第2の入射レーザビームを得て、上記可動ミラー上での上記第2の入射レーザビームの反射から上記オフセットレーザビームを得て、
上記可動ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して、上記第1の反射レーザビームに平行な上記ミラー上の上記第2の入射レーザビームを提供するのに適している、再帰反射システムと、
を備える。
本実施形態の利点は、各チャネル上の放射量(又は強度)を、即ち、第1、第2、第3等の空間オフセットレーザビームに向けて調節する偏光の使用に特によく適合することである。次に、異なるビーム分離システムを積み重ねて、2、3、4の空間オフセットレーザビームを生成することができ、容易に実行可能である。よって、非常にモジュール化されている。本実施形態の空間オフセット部は、出力偏光を維持する。したがって、偏光分離原理を利用して、様々な空間オフセットレーザビームを得ることが可能である。これは、他の既知のシステムには当てはまらない。
透過により、上記第1の横方向オフセットレーザビーム又は上記第2の横方向オフセットレーザビームと、
反射により、上記第3の横方向オフセットレーザビームと、
を得るための第2の偏光板を備える。
第1の横方向オフセットレーザビームと、
第2の横方向オフセットレーザビームと、
第3の横方向オフセットレーザビームと、
第4の横方向オフセットレーザビームと、
のうちの1つを得るための第3の分離モジュールを更に備える。
透過により、上記第1、第2、又は第3の横方向オフセットレーザビームと、
反射により、上記第4の横方向オフセットレーザビームと、
を得るための第3の偏光板を備える。
入力レーザビームを生成するためのレーザ源と、
上述の光学装置と、
上記第1及び第2の空間オフセットレーザビームに角度オフセットを課すように、上記分離部の下流に位置決めされた第1及び第2の偏向手段と、
上記第1及び第2の空間オフセットレーザビームを少なくとも1つのワークピース、好ましくは2つのワークピースに集束させるように、上記第1及び第2の偏向手段の下流にそれぞれ位置決めされた第1及び第2の集束手段と、
を備えるシステムを提案する。
好ましくは、本好適な実施形態の機械加工システムは、様々な発射信号を有することができるように、分離部の後方にパワー調整器を更に備える。
第1の横方向オフセット部1Xは、主伝搬軸Aに垂直な平面に方向X又はYに沿って、入射ビーム301を横方向オフセットビーム302にオフセットすることができ、
第2の横方向オフセット部1Yは、第1の横方向オフセット部1Xによってオフセットされない方向X又はYに沿った横方向オフセットビーム302を、主伝搬軸Aを有し、主伝搬軸Aに垂直な平面に円を描くのに適したオフセットビーム7にオフセットすることができる。
横方向オフセットビーム302は、主伝搬軸Aに垂直な平面に線を描く。
レーザビーム301、302の可動ミラー401上での第1の入力反射が第1の固定ミラー402に向けられ、
第1の固定ミラー402上での第2の反射が第2の固定ミラー403に向けられ、
第2の固定ミラー403上での第3の反射が可動ミラー401に向けられ、
可動ミラー401上での第4の出力反射により、可動ミラーのすべての可能な位置及び配向に関して、方向X及び/又はYにそれぞれ沿ったオフセットレーザビーム302、7を得ることができる。本実施形態では、レーザビームは、例えば、同じ平面内にある。本実施形態では、ミラーの配向は、入射ビーム301、302及び出射ビーム302、7の軌道を変更するように調整することができる。
入力レーザビーム301から空間的にオフセットされた第1のレーザビーム10及び第2のレーザビーム20を提供するための方法は、
a.上記入力レーザビーム301を生成するためのレーザ源300を設ける工程と、
b.上記入力レーザビーム301との間で共通の偏光を維持するのに適したオフセットレーザビーム7を提供するための空間オフセット部1を設ける工程と、
c.偏光毎に第1の偏光分離モジュール50を含む分離部2を設ける工程であって、
オフセットレーザビーム7から、
透過により、第1の空間オフセットレーザビーム10と、
反射により、第2の空間オフセットレーザビーム20と、
を得て、上記第1の空間オフセットレーザビーム10と第2の空間オフセットレーザビーム20がそれぞれ円を描くことができる、工程と、
を備える。
Claims (30)
- 少なくとも2つのワークピースまたは基板を同時に同一の歳差運動機械加工を行うために、入力レーザビーム(301)に対して空間的にオフセットされた少なくとも第1のレーザビーム(10)と第2のレーザビーム(20)とを提供するための方法であって、
a.時間的に固定された偏光を有するように、前記入力レーザビーム(301)を生成するためのレーザ源(300)を設ける工程と、
b.前記入力レーザビーム(301)に対してオフセットレーザビーム(7)を生成するための空間オフセット部(1)を設ける工程であって、
前記オフセットレーザビーム(7)が、主伝搬軸Aを有し、
前記主伝搬軸Aに垂直な平面に円を描くのに適し、
前記空間オフセット部(1)が、前記入力レーザビーム(301)と前記オフセットレーザビーム(7)との間で同じ偏光を維持することができる、工程と、
c.前記オフセットレーザビーム(7)から
透過により、第1の主伝搬軸(11)を有する前記第1の空間オフセットレーザビーム(10)と、
反射により、第2の主伝搬軸(21)を有する前記第2の空間オフセットレーザビーム(20)と、
を得るための第1の偏光分離手段(51)を含む分離部(2)を設ける工程と、を備え、
前記分離部(2)が、前記第1の空間オフセットレーザビーム(10)及び前記第2の空間オフセットレーザビーム(20)が、それぞれ前記第1の主伝搬軸(11)及び第2の主伝搬軸(21)に垂直な平面に円を描くのに適するように構成されている、方法。 - 前記空間オフセット部(1)が、前記入力レーザビーム(301)と前記オフセットレーザビーム(7)との間の空間オフセットを変更するのに適している、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の主伝搬軸(11)が、前記第2の主伝搬軸(21)に垂直である、請求項1及び2のいずれか一項に記載の方法。
- 前記分離部(2)が第1の分離モジュール(50)を備え、前記第1の分離モジュール(50)が、前記第1の偏光分離手段(51)と、前記第1の偏光分離手段(51)の上流に偏光管理手段を備える、請求項1~3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記偏光管理手段が、遅延板(55)を含み、前記遅延板(55)の回転により、前記第1の偏光分離手段(51)による透過パワーと反射パワーを調節する、請求項4に記載の方法。
- 前記偏光管理手段が、2つの遅延板(55、56)を含み、前記2つの4分の1波長板(55、56)のうちの少なくとも1つの回転により、前記第1の偏光分離手段(51)による透過パワーと反射パワーを調節する、請求項4に記載の方法。
- d.前記第1の空間オフセットレーザビーム(10)及び第2の空間オフセットレーザビーム(20)を少なくとも1つのワークピース(201、211)に向けるために、前記分離部(2)の下流に位置決めされた第1の偏向手段(15)及び第2の偏向手段(25)を設ける工程と、
e.前記第1の空間オフセットレーザビーム(10)及び第2の空間オフセットレーザビーム(20)を前記少なくとも1つのワークピース(201、211)に集束させるように、前記第1の偏向手段(15)及び前記第2の偏向手段(25)の下流にそれぞれ位置決めされた第1の集束手段(17)及び第2の集束手段(27)を設ける工程と、を更に備える、請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。 - レーザ機械加工用の光学装置であって、
入力レーザビーム(301)から、主伝搬軸Aを有し、前記主伝搬軸Aに垂直な平面に円を描くのに適したオフセットレーザビーム(7)を得るための空間オフセット部(1)と、
前記オフセットレーザビーム(7)から
透過により、第1の主伝搬軸(11)を有する第1の空間オフセットレーザビーム(10)と、
反射により、第2の主伝搬軸(21)を有する第2の空間オフセットレーザビーム(20)と、
を得るための第1の偏光分離手段(51)を含む第1の分離モジュール(50)を含む分離部(2)と、を備え、
前記空間オフセット部(1)が、前記入力レーザビーム(301)と前記オフセットレーザビーム(7)との間で同じ偏光を維持することができ、
前記分離部(2)が、前記第1の空間オフセットレーザビーム(10)及び第2の空間オフセットレーザビーム(20)がそれぞれ前記第1の主伝搬軸(11)及び第2(21)の主伝搬軸に垂直な平面に円を描くのに適するように構成され、
前記光学装置は、少なくとも2つのワークピースまたは基板への同時に同一の歳差運動機械加工を可能とする、装置。 - 前記第1の空間オフセットレーザビーム(10)又は第2の空間オフセットレーザビーム(20)を反射するためのミラー(4)を更に備える、請求項8に記載の装置。
- 前記第1の偏光分離手段(51)が、
偏光立方体と、
56度ブルースタープレートと、
45度偏光ミラーと、の偏光手段のうちの1つから選択される、請求項9または8に記載の装置。 - 第1の分離モジュール(50)が、前記第1の偏光分離手段(51)の上流に偏光管理手段を備える、請求項8から10のいずれか一項に記載の装置。
- 前記偏光管理手段が、遅延板(55)を含み、前記遅延板(55)の回転により、前記第1の偏光分離手段(51)による透過パワーと反射パワーを調節する、請求項11に記載の装置。
- 前記偏光管理手段が、2つの遅延板(55、56)を含み、前記2つの遅延板(55、56)のうちの少なくとも1つの回転により、前記第1の偏光分離手段(51)による透過パワーと反射パワーを調節する、請求項12に記載の装置。
- 前記空間オフセット部(1)が、
前記主伝搬軸Aに垂直な平面に方向Xに沿ってオフセットレーザビームを得るための第1の横方向オフセット部(1X)と、
前記主伝搬軸Aに垂直な平面に方向Yに沿ってオフセットレーザビームを得るための第2の横方向オフセット部(1Y)と、を備え、
前記方向X及びYが互いに直交しており、
入力レーザビーム(301)をオフセットするのに適するように、前記第1の横方向オフセット部(1X)及び前記第2の横方向オフセット部(1Y)が光学的に結合されて、前記主伝搬軸Aに垂直な平面に円を描くのに適したオフセットレーザビーム(7)を得る、請求項8~13のいずれか一項に記載の装置。 - 前記第1の横方向オフセット部(1X)及び/又は前記第2の横方向オフセット部(1Y)が、レーザビームをオフセットして、前記主伝搬軸Aに垂直な平面に方向X及び/又はYに沿ってオフセットレーザビームを得るように回転させるのに適したプレート(410)を備える、請求項14に記載の装置。
- 前記第1の横方向オフセット部(1X)及び/又は第2の横方向オフセット部(1Y)が、
法線が2次元空間の軌道を描くのに適した可動ミラー(401)と、
前記可動ミラー(401)のすべての可能な位置及び配向に関して、方向X及び/又はYに沿ってオフセットビームを得るように、前記可動ミラー(401)からのレーザビームの第1の入力反射を前記可動ミラー(401)に向け直すように構成された光学反射システム(402、403)と、を備える、請求項14に記載の装置。 - 前記光学反射システム(402、403)が、第1の固定ミラー(402)及び第2の固定ミラー(403)を備え、
前記第1の固定ミラー(402)及び前記第2の固定ミラー(403)は、
前記可動ミラー(401)上での前記レーザビームの第1の入力反射が前記第1の固定ミラー(402)に向けられ、
前記第1の固定ミラー(402)上での第2の反射が前記第2の固定ミラー(403)に向けられ、
前記第2の固定ミラー(402)上での第3の反射が前記可動ミラー(401)に向けられ、
前記可動ミラー(401)上での第4の出力反射により、前記可動ミラー(401)のすべての可能な位置及び配向に関して、方向X及び/又はYのそれぞれに沿ったオフセットビームを得ることができるように構成されている、請求項16に記載の装置。 - 前記第1の横方向オフセット部(1X)及び前記第2の横方向オフセット部(1Y)が、
法線が二次元空間内で軌道を描くのに適した第1の可動ミラー(421X、421Y)と、
法線が前記二次元空間内で軌道を描くのに適した第2の可動ミラー(422X、422Y)と、を備え、
前記第1の可動ミラー(421X、421Y)及び第2の可動ミラー(422X、422Y)の前記法線が、前記第1の可動ミラー(421X、421Y)及び第2の可動ミラー(422X、422Y)のすべての可能な位置及び配向に関して平行であり、前記第1の可動ミラー(421X、421Y)及び第2の可動ミラー(422X、422Y)が、
前記第1の可動ミラー(421X)上での前記入力レーザビーム(301)の第1の入力反射が、前記第2の可動ミラー(422X)に向けられ、
前記第2の可動ミラー(422X)での第2の反射により、前記第1の可動ミラー(421X)及び第2の可動ミラー(422X)のすべての可能な位置及び配向に関して、方向Xに沿って横方向オフセットビーム(302)を得ることができ、
前記第1の可動ミラー(421Y)上での横方向オフセットビーム(302)の第3の反射が、前記第2の可動ミラー(422Y)に向けられ、
前記第2の可動ミラー(422Y)での第4の反射により、前記第1の横方向オフセット部(1X)及び第2の横方向オフセット部(1Y)の前記第1の可動ミラー(421X、421Y)及び第2の可動ミラー(422Y、422Y)のすべての可能な位置及び配向に関して、前記主伝搬軸Aに垂直な平面に円を描くのに適したオフセットレーザビーム(7)を得ることができるように構成されている、請求項14に記載の装置。 - 前記第1の横方向オフセット部(1X)及び第2の横方向オフセット部(1Y)が、請求項15により定義される、請求項14に記載の装置。
- 前記第1の横方向オフセット部(1X)及び第2の横方向オフセット部(1Y)が、請求項16又は17により定義される、請求項14に記載の装置。
- 前記第1の横方向オフセット部(1X)及び第2の横方向オフセット部(1Y)が、請求項18により定義される、請求項14に記載の装置。
- 前記第1の横方向オフセット部(1X)が請求項18により定義され、前記第2の横方向オフセット部(1Y)が請求項15により定義され、前記プレート(410)が前記第1の可動ミラー(421)と第2の可動ミラー(422)との間に位置決めされて、前記第1の可動ミラー(421)上での第1の反射が、前記プレート(410)を通過することによって前記第2の可動ミラー(422)に向けられる、請求項15および18に記載の装置。
- 前記空間オフセット部(1)が、
法線が3次元空間内の軌道を描くのに適した第1の可動ミラー(431)と、
法線が前記3次元空間内の軌道を描くのに適した第2の可動ミラー(432)と、
を備え、
前記第1の可動ミラー(431)及び前記第2の可動ミラー(432)の前記法線が、前記第1の可動ミラー(431)及び第2の可動ミラー(432)のすべての可能な位置及び配向に関して平行であり、前記第1の可動ミラー(431)及び前記第2の可動ミラー(432)が、
前記第1の可動ミラー(431)からのレーザビームの第1の入力反射が、前記第2の可動ミラー(432)に向けられ、
前記第2の可動ミラー(432)上での第2の反射により、前記第1の可動ミラー(431)及び前記第2の可動ミラー(432)のすべての可能な位置及び配向に関して、前記主伝搬軸Aに垂直な平面に円を描くのに適したオフセットレーザビーム(7)を得ることができるように構成されている、請求項8~13のいずれか一項に記載の装置。 - 前記空間オフセット部(1)が、
法線が三次元空間内の軌道を描くのに適した可動ミラー(119)と、
前記可動ミラー(119)の可能なすべての位置及び配向に関して、前記主伝搬軸Aに垂直な平面に円を描くのに適したオフセットレーザビーム(7)を得るように前記可動ミラー(119)上でのレーザビームの第1の入力反射を前記可動ミラー(119)に向け直すように構成された光学反射システム(121)と、
を備える、請求項8~13のいずれか一項に記載の装置。 - 前記光学反射システム(121)が、再帰反射システムである、請求項24に記載の装置。
- 前記空間オフセット部(1)が、
ミラー(119)であって、
法線(126)によって画定される略平面状の反射面を有して、前記入力レーザビーム(301)から第1の反射レーザビーム(123)を得て、
前記法線(126)が3次元空間内の軌道を描くのに適するように移動可能であり、
前記空間オフセット部(1)が、前記ミラー(119)のすべての可能な位置及び配向に関して、前記入力レーザビーム(301)及び前記ミラー(119)の前記法線(126)が、0度~15度の角度(115)で分離されるように構成されている、ミラーと、
前記ミラー(119)を変位させるための駆動手段(16)と、
再帰反射システム(121)であって、
前記ミラー(119)に対して位置決めされて、前記ミラー(119)のすべての可能な位置及び配向に関して、前記第1の反射レーザビーム(123)から前記ミラー(119)上に第2の入射レーザビーム(18)を得て、前記ミラー(119)上での前記第2の入射レーザビーム(18)の反射から前記オフセットレーザビーム(7)を得て、
前記ミラー(119)のすべての可能な位置及び配向に関して、前記第1の反射レーザビーム(123)に平行な前記ミラー(119)上の前記第2の入射レーザビーム(18)を提供するのに適している、再帰反射システムと、
を備える、請求項8~13、24、25のいずれか一項に記載の装置。 - 多重機械加工システムであって、
入力レーザビーム(301)を生成するためのレーザ源(300)と、
請求項8~26のいずれか一項に記載の光学装置と、
前記第1の空間オフセットレーザビーム(10)及び前記第2の空間オフセットレーザビーム(20)に角度オフセットを課すように、前記分離部(2)の下流に位置決めされた第1の偏向手段(15)及び第2の偏向手段(25)と、
前記第1の空間オフセットレーザビーム(10)及び前記第2の空間オフセットレーザビーム(20)を少なくとも1つのワークピース(201、211)に集束させるように、前記第1の偏向手段(15)及び前記第2の偏向手段(25)の下流にそれぞれ位置決めされた第1の集束手段(17)及び第2の集束手段(27)と、
を備えるシステム。 - 偏向手段に信号を発するのに適した、偏向手段(15、25)を制御するための制御部を更に備え、前記制御部が、前記偏向手段(15、25)のそれぞれに共通の制御信号を発するように構成されている、請求項27に記載のシステム。
- 前記第1の偏向手段(15)及び前記第2の偏向手段(25)に異なる制御信号を発するのに適した、偏向手段(15、25)を制御するための制御部を更に備える、請求項27に記載のシステム。
- 前記集束手段(17、27)がFシータレンズである、請求項27から29のいずれか一項に記載のシステム。
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