JP7395588B2 - 蒸発器ボート制御システム、pvd装置、及びpvd装置を作動させる方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 30
- 239000012768 molten material Substances 0.000 claims description 44
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 21
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 claims description 16
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 14
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 8
- 238000012800 visualization Methods 0.000 claims description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 17
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 9
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 239000011111 cardboard Substances 0.000 description 2
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 2
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 239000011087 paperboard Substances 0.000 description 2
- 229910017107 AlOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003190 augmentative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/543—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on the vapor source
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/545—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
- C23C14/547—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material using optical methods
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
制御装置は、蒸発器ボートの最適制御をもたらしかつ収量及び品質に関してPVDプロセスの最大生産高をもたらす閉ループ制御を使用する。
本発明は、添付図面に示された実施形態を参照して以下に説明される。
固定具16は、電気エネルギをエネルギ供給源18(図1a及び図1bに概略的に示されている)から蒸発器ボート14に供給するようになっている。蒸発器ボート14に供給されるエネルギ量は、各蒸発器ボート14に関して別々に制御することができる。
蒸着材料は、供給リール22上に貯蔵された供給ワイヤ20の形態で蒸発器ボート14の各々に供給される。蒸発器ボート14の各々に関して、供給ワイヤ20がそれぞれの蒸発器ボート14に向かって前進する速度を制御する供給ワイヤ駆動装置24が設けられる。
ここでは、装置24は、ステッピングモータの形で実装される。
制御装置26は、蒸発器ボート14の各々に供給されるエネルギ量を制御する。さらに、制御装置26は、駆動装置24の速度を制御する。
カメラ32は、プロセスチャンバ30の外側に配置される。視界窓34は、プロセスチャンバ30の壁に設けられており、カメラは、蒸発器ボート14の画像を取り込むことができる。
画像解析を容易にするために、光フィルター(図示せず)又は光源は、カメラに対して設けられ、溶融材料のプールの表面と蒸発器ボート14の表面との間のコントラストを高めるようになっている。フィルターは、蒸発器ボート14上の溶融材料のプールの検出を容易にする。
蒸発器ボート14の年齢に関する情報は、個々の蒸発器ボート14のアスペクト比を決定することで取得することができる。
制御装置26の全体的な目的は、最適なプール形状及び最適なボート適用範囲(coverage)を実現することである。
最適な制御のために、閉ループ欠陥制御が確立され、これは表面検査システム28から提供された情報も考慮する。
図4a及び図4bにおいて、プールの形状及び寸法は、要望通りである。供給電圧及び電力は、ワイヤ供給速度及びボート年齢に関してバランスが取れている。
図5a及び図5bにおいて、プールの寸法は大きすぎる。蒸発器ボートは冷たすぎるので、供給電力/電圧を高くして温度を上昇させる必要があるか又はワイヤ供給速度を低下させる必要がある。
図7において、溶融材料Mのプールは大きすぎる。これは、蒸発器ボートの温度が低すぎて、蒸発速度が低すぎることに起因する。制御装置は、蒸発器ボートに供給される加熱電力を増加させる。
図8において、溶融材料Mのプールは所望の寸法である。これは、ボート温度、供給された加熱電力、及び金属ワイヤ供給の間の釣り合いが取れていることに起因する。
図8は、標準製造の間の溶融材料のプールの概略的な描写である。使用される蒸発器ボート及び他の要因に応じて、プールは蒸発器ボートの表面の様々な領域をカバーする。
適切なプール形状は、装置制御に利用できるようにデータベースに格納されている。
画像解析モジュール36は、図9から図11を参照して説明するように可能性のある問題さらには他のパラメータを特定することができる。
過度の熱は、拡張現実可視化でもって表示部に示すことができ、オペレータは、問題の内容を迅速に把握することができる。
Claims (15)
- 蒸発器ボートを制御するためのシステムであって、
複数の蒸発器ボート(14)を収容するための固定具(16)と、
前記蒸発器ボート(14)の各々を加熱するためのエネルギを提供するためのエネルギ供給源(18)と、
前記蒸発器ボート(14)の各々のための供給ワイヤ駆動装置(24)と、
前記固定具(16)に取り付けられた前記複数の蒸発器ボート(14)のうちの少なくとも1つの画像を取り込むようになった少なくとも1つのカメラ(32)と、
画像解析モジュール(36)を有する制御装置(26)と、を備え、
前記画像解析モジュール(36)は、各前記蒸発器ボート(14)上の溶融材料のプールの形状を目標形状と比較し、
前記制御装置(26)は、前記形状と前記目標形状との間の差異に応じて前記供給ワイヤ駆動装置(24)のための制御信号及び前記エネルギ供給源(18)のための制御信号を提供するように構成され、
前記エネルギ供給源(18)のための制御信号は、前記蒸発器ボート(14)の温度を適切に設定するように、前記蒸発器ボート(14)のそれぞれに供給される電力、電流及び電圧のうちの少なくとも1つを含む、
ことを特徴とするシステム。 - 前記カメラ(32)は、複数の蒸発器ボート(14)の、好ましくは少なくとも4つの蒸発器ボート(14)の画像を取り込む、
請求項1に記載のシステム。 - 光フィルターを備える、
請求項1又は2に記載のシステム。 - 前記制御装置(26)は、蒸着される基材(12)の搬送速度に関する制御信号を提供するようになっている、
請求項1から3のいずれか1項に記載のシステム。 - ウェブ供給物と、請求項1から4のいずれか1項の記載の蒸発器ボートを制御するためのシステムと、少なくとも前記蒸発器ボート(14)のための固定具(16)、供給ワイヤ駆動装置(24)、及びウェブ供給物を蒸着するための領域が配置されたプロセスチャンバ(30)とを含む、PVD装置。
- 前記カメラ(32)は、前記プロセスチャンバ(30)の外部及び/又は内部に配置される、
請求項5に記載の装置。 - 前記制御装置は、閉ループ制御を使用する、
請求項5又は6に記載の装置。 - 蒸着領域の下流側で前記ウェブの表面を検査するための表面検査システム(28)を備え、前記制御装置(26)は、前記表面検査システム(28)の出力信号を受け取る、
請求項5から7のいずれか1項に記載の装置。 - 前記蒸発器ボートの制御に関連する少なくとも1つのパラメータを可視化するための画面を備え、前記パラメータは、前記溶融材料のプールの形状及び前記溶融材料の温度のうちの少なくとも1つである、
請求項5から8のいずれか1項に記載の装置。 - 前記蒸発器ボートの制御に関連する可視化は、オペレータに対してプロセスの問題を強調するための色強調を有する、
請求項9に記載の装置。 - 請求項5から10のいずれかに記載の装置を作動させる方法であって、蒸着される基材(12)の搬送速度に関する制御信号は、速度を制御し、前記制御信号は、前記画像解析モジュール(36)の出力に少なくとも部分的に依存する、
ことを特徴とする方法。 - 前記供給ワイヤ駆動装置(24)のための前記制御信号は、前記供給ワイヤ(20)が前記蒸発器ボート(14)のそれぞれに向かって前進する速度を制御する、
請求項11に記載の方法。 - 前記画像解析モジュール(36)は、
-溶融材料のプールの形状、
-溶融材料のプールの寸法、
-溶融材料及び/又はセラミックボートの温度、
-溶融材料のプールのアスペクト比、
のパラメータのうちの少なくとも1つを解析する、
請求項11から12のいずれか1項に記載の方法。 - 前記制御は、前記蒸発器ボート(14)のそれぞれの年齢に関する情報を考慮する、
請求項11から13のいずれか1項に記載の方法。 - 前記制御は、蒸発器材料に関する前記蒸発器ボート(14)のための目標パラメータ及び/又は蒸着要件の複数のセットを使用する、
請求項11から14のいずれか1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP18020614 | 2018-11-20 | ||
EP18020614.6 | 2018-11-20 | ||
PCT/EP2019/025380 WO2020104054A1 (en) | 2018-11-20 | 2019-11-05 | Evaporator boat control system, pvd machine and method of operating the pvd machine |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022507610A JP2022507610A (ja) | 2022-01-18 |
JP7395588B2 true JP7395588B2 (ja) | 2023-12-11 |
Family
ID=64453269
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021526730A Active JP7395588B2 (ja) | 2018-11-20 | 2019-11-05 | 蒸発器ボート制御システム、pvd装置、及びpvd装置を作動させる方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210388486A1 (ja) |
EP (1) | EP3884079A1 (ja) |
JP (1) | JP7395588B2 (ja) |
CN (1) | CN113348264A (ja) |
WO (1) | WO2020104054A1 (ja) |
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-
2019
- 2019-11-05 CN CN201980089361.9A patent/CN113348264A/zh active Pending
- 2019-11-05 EP EP19802071.1A patent/EP3884079A1/en active Pending
- 2019-11-05 US US17/287,452 patent/US20210388486A1/en active Pending
- 2019-11-05 WO PCT/EP2019/025380 patent/WO2020104054A1/en unknown
- 2019-11-05 JP JP2021526730A patent/JP7395588B2/ja active Active
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---|---|
CN113348264A (zh) | 2021-09-03 |
WO2020104054A1 (en) | 2020-05-28 |
US20210388486A1 (en) | 2021-12-16 |
EP3884079A1 (en) | 2021-09-29 |
JP2022507610A (ja) | 2022-01-18 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A601 | Written request for extension of time |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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