JP7384826B2 - アニール装置及びアニール方法 - Google Patents
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Description
アニール対象物の表面を加熱して表層部を一時的に溶融させる加熱部と、
前記加熱部によって加熱された前記アニール対象物からの熱放射光を検出するセンサと、
前記センサによって検出された熱放射光の強度の時間変化を示す波形に基づいて、前記アニール対象物のアニール結果を推定する処理部と
を有し、
前記処理部は、前記センサで検出された熱放射光の強度の時間変化を示す波形の特徴的な形状に基づいて、前記アニール対象物の表層部の溶融時間を求め、溶融時間に基づいて前記アニール対象物の表層部の溶融深さを推定するアニール装置が提供される。
本発明の他の観点によると、
アニール対象物の表面を加熱して表層部を一時的に溶融させる加熱部と、
前記加熱部によって加熱された前記アニール対象物からの熱放射光を検出するセンサと、
前記センサによって検出された熱放射光の強度の時間変化を示す波形に基づいて、前記アニール対象物のアニール結果を推定する処理部と
を有し、
前記処理部は、前記センサで検出された熱放射光の強度の時間変化を示す波形の面積に基づいて、前記アニール対象物の表層部の溶融深さを推定するアニール装置が提供される。
アニール対象物の表面の一部を加熱して表層部を溶融させ、
処理部が、前記アニール対象物の加熱された箇所からの熱放射光の強度の時間変化を示す波形の特徴的な形状に基づいて、前記アニール対象物の表層部の溶融時間を求め、
溶融時間に基づいて前記アニール対象物の表層部の溶融深さを推定するアニール方法が提供される。
本発明のさらに他の観点によると、
アニール対象物の表面の一部を加熱して表層部を溶融させ、
処理部が、前記アニール対象物の加熱された箇所からの熱放射光の強度の時間変化を示す波形の面積に基づいて、前記アニール対象物の表層部の溶融深さを推定するアニール方法が提供される。
保持テーブル13にアニール対象物30を保持させた後、処理部40がレーザ光源20を制御して、パルスレーザビームの出力を開始させる。さらに、走査機構12を制御して保持テーブル13に保持されているアニール対象物30の移動を開始させる(ステップS1)。これにより、アニール対象物30の表面の、パルスレーザビームによる走査が開始される。
本実施例では、アニール処理後に他の装置でシート抵抗の測定や、広がり抵抗の測定を行うことなくアニール処理時に一時的に溶融した部分の溶融深さの分布を推定することができる。オペレータは、出力装置42に表示された情報を見て、アニール処理が正常であったか否かを判定することができる。
上記実施例では、ステップS4においてアニール対象物30に対するアニール処理が終了した後に、ステップS5において熱放射光の波形に基づいてアニール結果を推定している。レーザパルスの入射ごとにステップS2で熱放射光の強度の測定が終了したら、レーザパルスが入射した領域についてアニール結果を推定する処理を行うことが可能である。従って、アニールを行っている期間に、既にアニールが終了した領域のアニール結果を推定する処理を並行して実行してもよい。
本実施例では、熱放射光の強度の波形の特徴的な形状を検出することなく、波形の面積を算出することにより、溶融深さを推定することができる。波形の面積の算出は、例えば、センサ25(図1)から所定の時間刻み幅で得られた出力電圧値を単純に足し合わせることにより行うことができる。これに対し、波形の特徴的な形状を検出するには、波形に重畳されているノイズを除去する処理、微分演算、比較判定処理等を行わなければならない。従って、波形の面積を算出する処理は、波形の特徴的な形状を検出する処理に比べて短時間で完了する。このため、本実施例による方法を用いると、アニール対象物30のアニール処理が終了するごとに、全数をインライン検査することが可能になる。
11 レーザ透過窓
12 走査機構
13 保持テーブル
20 レーザ光源
21 伝送光学系
22 ダイクロイックミラー
23、24 レンズ
25 センサ
30 アニール対象物
40 処理部
41 記憶装置
42 出力装置
Claims (6)
- アニール対象物の表面を加熱して表層部を一時的に溶融させる加熱部と、
前記加熱部によって加熱された前記アニール対象物からの熱放射光を検出するセンサと、
前記センサによって検出された熱放射光の強度の時間変化を示す波形に基づいて、前記アニール対象物のアニール結果を推定する処理部と
を有し、
前記処理部は、前記センサで検出された熱放射光の強度の時間変化を示す波形の特徴的な形状に基づいて、前記アニール対象物の表層部の溶融時間を求め、溶融時間に基づいて前記アニール対象物の表層部の溶融深さを推定するアニール装置。 - アニール対象物の表面を加熱して表層部を一時的に溶融させる加熱部と、
前記加熱部によって加熱された前記アニール対象物からの熱放射光を検出するセンサと、
前記センサによって検出された熱放射光の強度の時間変化を示す波形に基づいて、前記アニール対象物のアニール結果を推定する処理部と
を有し、
前記処理部は、前記センサで検出された熱放射光の強度の時間変化を示す波形の面積に基づいて、前記アニール対象物の表層部の溶融深さを推定するアニール装置。 - さらに、画像を表示する表示部を有し、
前記加熱部は、前記アニール対象物の表面上において加熱箇所を移動させ、
前記処理部は、前記アニール対象物の表面内の位置と、推定された溶融深さとを関連付けて、溶融深さの分布を前記表示部に表示する請求項1または2に記載のアニール装置。 - 前記処理部は、前記センサによって検出された熱放射光の強度に基づいてアニール結果の良否を判定する請求項1乃至3のいずれか1項に記載のアニール装置。
- アニール対象物の表面の一部を加熱して表層部を溶融させ、
処理部が、前記アニール対象物の加熱された箇所からの熱放射光の強度の時間変化を示す波形の特徴的な形状に基づいて、前記アニール対象物の表層部の溶融時間を求め、
溶融時間に基づいて前記アニール対象物の表層部の溶融深さを推定するアニール方法。 - アニール対象物の表面の一部を加熱して表層部を溶融させ、
処理部が、前記アニール対象物の加熱された箇所からの熱放射光の強度の時間変化を示す波形の面積に基づいて、前記アニール対象物の表層部の溶融深さを推定するアニール方法。
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