JP7381296B2 - Rotary plating equipment - Google Patents

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Description

本発明は、例えばチップ型電子部品の電極等にめっきを施すために使用される回転型めっき装置に関する。 The present invention relates to a rotary plating apparatus used for plating, for example, electrodes of chip-type electronic components.

チップ型抵抗器等の小型電子部品は、回路基板へのはんだ付け性の向上や電気的導通を確保するため、電解めっきを施して外部電極を形成している。そのような外部電極を形成するめっき装置として、めっき槽内に被めっき物とめっき液を投入し、めっき槽を回転させて外周部に設けられたカソード電極に被めっき物を接触させることにより、被めっき物に電解めっきを行う回転型めっき装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。 Small electronic components such as chip resistors are electrolytically plated to form external electrodes in order to improve solderability to circuit boards and ensure electrical continuity. As a plating device for forming such an external electrode, the object to be plated and the plating solution are put into a plating tank, and the plating tank is rotated to bring the object to be plated into contact with a cathode electrode provided on the outer periphery. A rotary plating apparatus that performs electrolytic plating on an object to be plated is known (for example, see Patent Document 1).

上記特許文献1に開示された回転型めっき装置は、垂直な回転軸を中心に回転可能な円板状の底板と、底板の外周側壁に一体的に設けられた円錐台形状の蓋体と、これら底板と蓋体とによって画成されためっき槽と、めっき槽内の略中央に配設された箱形状のアノード電極と、底板の外周側壁に設けられたリング状のカソード電極とを備え、めっき槽内に被めっき物とめっき液が貯留されるようになっている。 The rotary plating apparatus disclosed in Patent Document 1 includes a disc-shaped bottom plate that is rotatable around a vertical rotation axis, a truncated cone-shaped lid body that is integrally provided on the outer peripheral side wall of the bottom plate, A plating tank defined by the bottom plate and the lid, a box-shaped anode electrode disposed approximately in the center of the plating tank, and a ring-shaped cathode electrode provided on the outer peripheral side wall of the bottom plate, The object to be plated and the plating solution are stored in the plating tank.

このように構成された回転型めっき装置では、めっき槽が回転軸を中心に正回転と逆回転を交互に繰り返し、その回転が維持されて遠心力により被めっき物がカソード電極へ押し付けられている短時間のみ、アノード電極とカソード電極間に通電されてめっき処理が行われるようになっている。 In a rotary plating apparatus configured in this way, the plating bath alternately rotates forward and backward around the rotation axis, and this rotation is maintained, and the object to be plated is pressed against the cathode electrode by centrifugal force. Electricity is applied between the anode electrode and the cathode electrode for only a short period of time to perform the plating process.

特開2018-178181号公報Japanese Patent Application Publication No. 2018-178181

特許文献1に記載された回転型めっき装置のように、めっき槽を正転方向と逆転方向へ交互に回転してめっき処理を行うと、被めっき物やめっき液が撹拌され、被めっき物に均一なめっき層を形成することができる。しかし、めっき槽を正転方向と逆転方向へ交互に回転してめっき処理を行うとめっき液に泡が立ち、この泡立ちはめっき槽の回転方向を切り替える停止時にめっき槽の中央に集まる傾向があるため、めっき槽の中央部に配設されたアノード電極の周囲に多くの泡が集中し、被めっき物が泡で押し上げられてアノード電極に付着し易くなる。 When plating is performed by rotating the plating tank alternately in the forward and reverse directions, as in the rotary plating apparatus described in Patent Document 1, the object to be plated and the plating solution are stirred, and the object to be plated is A uniform plating layer can be formed. However, when plating is performed by rotating the plating bath alternately in the forward and reverse directions, bubbles form in the plating solution, and these bubbles tend to collect in the center of the plating bath when the plating bath is stopped and the direction of rotation is changed. Therefore, many bubbles concentrate around the anode electrode disposed in the center of the plating tank, and the object to be plated is pushed up by the bubbles and tends to adhere to the anode electrode.

特に、外形寸法が小さい被めっき物である場合、アノード電極を布製のアノードバッグで包囲して被めっき物が流入しないようにしているため、泡で押し上げられた被めっき物がアノードバッグに絡み付いて分離しにくくなる。その結果、停止後に再びめっき槽を回転させても、アノードバッグに絡み付いた被めっき物がめっき液の流れに乗れなくなり、通電時に陰極に接触することができなくなるため、めっき未着や異常めっき等のめっき不良が多発する虞があった。 In particular, when the object to be plated has small external dimensions, the anode electrode is surrounded by a cloth anode bag to prevent the object to be plated from flowing in. This prevents the object being pushed up by bubbles from getting tangled with the anode bag. It becomes difficult to separate. As a result, even if the plating tank is rotated again after stopping, the objects to be plated entangled in the anode bag will not be able to ride the flow of the plating solution and will not be able to contact the cathode when electricity is applied, resulting in unplated or abnormal plating. There was a risk that plating defects would occur frequently.

本発明は、このような従来技術の実情に鑑みてなされたもので、その目的は、めっき液に発生する泡立ちに起因するめっき不良を低減することができる回転型めっき装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the actual state of the prior art, and its purpose is to provide a rotary plating apparatus that can reduce plating defects caused by foaming generated in the plating solution. .

上記目的を達成するために、本発明の回転型めっき装置は、垂直線軸を中心に正逆両方向へ回転可能な円板状の底板と、前記底板の外周側壁に一体的に設けられた円錐台形状の蓋体と、前記底板と前記蓋体とによって画成されためっき槽と、前記めっき槽内の略中央に配設された箱形状のアノード電極と、前記アノード電極の上端部を保持するアノードキャップと、前記めっき槽の内周側に露出すると共に前記外周側壁の一部を構成するカソード電極と、を備え、前記アノードキャップに、前記アノード電極の外周面に沿ってエアーを吹き付けるエアー吹出部が設けられていることを特徴としている。 In order to achieve the above object, the rotary plating apparatus of the present invention includes a disc-shaped bottom plate that is rotatable in both forward and reverse directions about a vertical axis, and a truncated conical plate that is integrally provided on the outer peripheral side wall of the bottom plate. a plating tank defined by the bottom plate and the lid, a box-shaped anode electrode disposed approximately in the center of the plating tank, and an upper end of the anode electrode. An air blower comprising: an anode cap; and a cathode electrode exposed on the inner circumferential side of the plating bath and forming a part of the outer circumferential side wall, and blowing air onto the anode cap along the outer circumferential surface of the anode electrode It is characterized by having a section.

このように構成された回転型めっき装置では、めっき液に泡が発生し、めっき槽の回転方向を切り替える停止時などに、この泡がアノード電極の周囲に集まったとしても、アノードキャップに設けられたエアー吹出部からアノード電極の外周面に沿ってエアーを吹き付けることで、泡で押し上げられた被めっき物がアノード電極に付着しにくくなるため、めっき未着や異常めっき等のめっき不良の発生を低減することができる。 In a rotary plating apparatus configured in this way, even if bubbles are generated in the plating solution and gather around the anode electrode when the plating tank is stopped and the direction of rotation is changed, the anode cap is By blowing air along the outer circumferential surface of the anode electrode from the air blowing part, the material to be plated pushed up by the bubbles becomes difficult to adhere to the anode electrode, thereby preventing the occurrence of plating defects such as non-plating or abnormal plating. can be reduced.

上記構成の回転型めっき装置において、アノード電極が布等のフィルター機能を有するアノードバッグによって包囲されており、このアノードバッグの外周面に沿ってエアー吹出部からエアーが吹き付けられるようにすると、アノードバッグによって被めっき物のアノード電極内への流入を防止しつつ、アノードバッグに被めっき物が絡み付いてしまうことを防止できる。 In the rotary plating apparatus configured as described above, the anode electrode is surrounded by an anode bag having a filter function such as cloth, and air is blown from the air blowing part along the outer circumferential surface of the anode bag. This prevents the material to be plated from flowing into the anode electrode, and also prevents the material to be plated from becoming entangled with the anode bag.

また、上記構成の回転型めっき装置において、アノードキャップが、アノード電極を保持するキャップベースと、キャップベースを覆うように接合・一体化されたキャップカバーとを備えており、これらキャップベースとキャップカバーとの間に、エアー吹出部に通じるエアー供給通路が設けられていると、アノードキャップにエアー供給通路を容易に形成することができて好ましい。 Further, in the rotary plating apparatus having the above configuration, the anode cap includes a cap base that holds the anode electrode, and a cap cover that is joined and integrated to cover the cap base, and the cap base and the cap cover It is preferable that an air supply passage leading to the air blowing part is provided between the anode cap and the anode cap, since the air supply passage can be easily formed in the anode cap.

この場合において、キャップベースがアノードバッグよりも径方向外側に突出する突出部を有しており、この突出部の下面にエアー吹出部が設けられているという構成を採用すると、エアー吹出部から放射状に噴出されるエアーをアノード電極やアノードバッグの外周面に効率良く吹き付けることができる。 In this case, if the cap base has a protruding part that protrudes radially outward than the anode bag, and an air blowing part is provided on the lower surface of this protruding part, then the air blowing part The air blown out can be efficiently blown onto the outer peripheral surface of the anode electrode and the anode bag.

なお、エアー吹出部の形状や大きさ等は特に限定されないが、エアー吹出部が突出部の下面に周方向に所定間隔を存して複数設けられていると、少ない供給量のエアーによって泡を効率良く吹き飛ばすことができる。 Note that the shape and size of the air blowing part are not particularly limited, but if a plurality of air blowing parts are provided at a predetermined interval in the circumferential direction on the lower surface of the protrusion, bubbles can be removed by a small supply of air. Can be blown away efficiently.

あるいは、キャップベースがアノードバッグよりも外側に突出する突出部を有し、エアー吹出部が突出部とキャップカバーとの間に円環状に設けるという構成を採用することも可能であり、このようにすると、エアー吹出部を容易に形成することができる。 Alternatively, it is also possible to adopt a configuration in which the cap base has a protruding part that protrudes outward from the anode bag, and the air blowing part is provided in an annular shape between the protruding part and the cap cover. Then, the air blowing part can be easily formed.

本発明の回転型めっき装置によれば、めっき液に発生する泡立ちに起因するめっき不良を低減することができる。 According to the rotary plating apparatus of the present invention, it is possible to reduce plating defects caused by foaming generated in the plating solution.

本発明の実施形態例に係る回転型めっき装置の一部を破断して示す斜視図である。FIG. 1 is a partially cutaway perspective view of a rotary plating apparatus according to an embodiment of the present invention. 該回転型めっき装置におけるめっき液等の循環ルートを模式的に示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram schematically showing a circulation route of a plating solution, etc. in the rotary plating apparatus. 該回転型めっき装置に備えられるアノードキャップによるエアー供給経路を示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram showing an air supply path by an anode cap provided in the rotary plating apparatus. 図3のA部を拡大して示す図である。FIG. 4 is an enlarged view of part A in FIG. 3; 該アノードキャップの裏面図である。FIG. 3 is a back view of the anode cap. 該アノードキャップの断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the anode cap. アノードキャップの変形例を示す要部断面図である。FIG. 7 is a sectional view of a main part showing a modification of the anode cap.

以下、発明の実施の形態について図面を参照しながら説明すると、図1は、本発明の実施形態例に係る回転型めっき装置の一部を破断して示す斜視図である。 Embodiments of the invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a partially cutaway perspective view of a rotary plating apparatus according to an embodiment of the invention.

図1に示すように、本実施形態例に係る回転型めっき装置100は、外形がほぼ円錐台形状形の蓋体1と、蓋体1の底面を塞ぐように配設された底板2と、これら蓋体1と底板2によって画成されためっき槽3と、めっき槽3内の略中央に配設されたアノード電極(陽極電極)4と、底板2の外周側に設けられたリング状のカソード電極(陰極電極)5と、を備えて構成されている。 As shown in FIG. 1, a rotary plating apparatus 100 according to the present embodiment includes a lid 1 having an approximately truncated conical outer shape, a bottom plate 2 disposed to cover the bottom surface of the lid 1, A plating tank 3 defined by the lid 1 and the bottom plate 2, an anode electrode (anode electrode) 4 disposed approximately in the center of the plating tank 3, and a ring-shaped electrode 4 provided on the outer periphery of the bottom plate 2. A cathode electrode (cathode electrode) 5 is provided.

蓋体1は、傾斜する側面の最下方端の周縁部(最外周部)が外周方向に鍔状に突出した突起部1aを有し、その突起部1aは環状のリング部材6によって覆われている。また、蓋体1の傾斜側面の下方部には、めっき槽3に貯留されためっき液等を排出するための開口部1bが周方向に所定間隔を存して複数設けられている。 The lid 1 has a protrusion 1a at the lowermost edge (outermost periphery) of the inclined side surface that protrudes outward in a brim shape, and the protrusion 1a is covered by an annular ring member 6. There is. Further, a plurality of openings 1b are provided at a predetermined interval in the circumferential direction at the lower part of the inclined side surface of the lid body 1 for discharging the plating solution and the like stored in the plating tank 3.

底板2は、蓋体1の最外周部分の外径と同一の外径を有する円板形状のベース部材7と、ベース部材7の上面側の外周縁部に沿って配置された前記カソード電極5と、蓋体1の突起部1aの下部に位置してカソード電極5と同一径の環状部材であるスペーサリング8とを有して構成される。めっき槽3において、ベース部材7の外周縁部、カソード電極5、スペーサリング8、および突起部1aによって外周側壁が形成されている。 The bottom plate 2 includes a disk-shaped base member 7 having an outer diameter that is the same as the outer diameter of the outermost peripheral portion of the lid body 1, and the cathode electrode 5 disposed along the outer peripheral edge of the upper surface of the base member 7. and a spacer ring 8, which is an annular member located below the projection 1a of the lid 1 and having the same diameter as the cathode electrode 5. In the plating tank 3, an outer peripheral side wall is formed by the outer peripheral edge of the base member 7, the cathode electrode 5, the spacer ring 8, and the protrusion 1a.

リング部材6、突起部1a、スペーサリング8、およびカソード電極5には、その周方向に複数の貫通孔が設けられている。そして、これらを重ね合わせた状態で貫通孔にボルト9を挿通し、その先端部分に設けられた雄ネジ部とベース部材7に設けられた雌ネジ部とを螺着することで、蓋体1と底板2とが一体的に固定されるようになっている。なお、これら蓋体1と底板2とにより形成された内部空間がめっき槽3となる。 A plurality of through holes are provided in the ring member 6, the protrusion 1a, the spacer ring 8, and the cathode electrode 5 in the circumferential direction. Then, by inserting the bolt 9 into the through hole in a state where these are overlapped, and screwing the male threaded part provided at the tip part and the female threaded part provided on the base member 7, the lid body 1 and the bottom plate 2 are integrally fixed. Note that the internal space formed by the lid 1 and the bottom plate 2 serves as a plating tank 3.

めっき槽3の中心部には、金網からなる箱形状に形成されたアノード電極4が配置されており、このアノード電極4を保持するアノードキャップ10の中心部には、アノード電極4へ通電するための支持軸11が挿通・固定されている。また、アノードキャップ10には水洗水導入管12と処理液導入管13が挿通・固定されており、これら水洗水導入管12と処理液導入管13等により、めっき槽3に対する各種処理液の循環や排出を行うようにしている。 At the center of the plating tank 3, an anode electrode 4 formed in a box shape made of wire mesh is arranged, and at the center of an anode cap 10 that holds the anode electrode 4, a cap for supplying electricity to the anode electrode 4 is arranged. A support shaft 11 is inserted and fixed. Further, a washing water introduction pipe 12 and a processing liquid introduction pipe 13 are inserted and fixed in the anode cap 10, and various processing liquids are circulated to the plating tank 3 through these washing water introduction pipe 12, processing liquid introduction pipe 13, etc. and discharge.

さらに、アノードキャップ10の側方には液面センサ14が配置されており、液面センサ14とアノード電極4は蓋体1の頂部に設けられた上部開口部1cを貫いてめっき槽3の内部に達している。めっき槽3には、チップ型抵抗器等の被めっき物15およびめっき液(不図示)が貯留されるが、微細な被めっき物15がアノード電極4内へ流入するのを防止するために、アノード電極4は布等のフィルター機能を有するアノードバッグ16によって包囲されている。詳細については後述するが、このアノードバッグ16の外周側に向けてアノードキャップ10からエアーが吹き付けられるようになっている。 Further, a liquid level sensor 14 is disposed on the side of the anode cap 10, and the liquid level sensor 14 and the anode electrode 4 pass through an upper opening 1c provided at the top of the lid 1 to the inside of the plating tank 3. has reached. The plating tank 3 stores objects 15 to be plated, such as chip-type resistors, and a plating solution (not shown). In order to prevent the fine objects 15 to be plated from flowing into the anode electrode 4, The anode electrode 4 is surrounded by an anode bag 16 made of cloth or the like having a filter function. Although details will be described later, air is blown from the anode cap 10 toward the outer circumference of the anode bag 16.

底板2の下面側中心部には垂直方向に延びる回転軸17が結合されており、この回転軸17には、電解めっき用電源の負側から結線され、カソード電極5へ通電するための導通部材18が接触している。そして、回転軸17に対し不図示のモータ等から回転力を付与することにより、被めっき物15およびめっき液(不図示)が貯留されためっき槽3が、回転軸17を中心に水平方向に回転するようになっている。具体的には、図1において白抜き矢印で示すように、めっき槽3は時計方向と反時計方向(正逆方向)の回転により、所定速度で回転および停止を繰り返す。 A vertically extending rotating shaft 17 is connected to the center of the lower surface of the bottom plate 2, and a conductive member is connected to the negative side of the electrolytic plating power source to supply current to the cathode electrode 5. 18 are in contact. By applying a rotational force to the rotating shaft 17 from a motor (not shown), etc., the plating tank 3 in which the object 15 to be plated and the plating solution (not shown) are stored is horizontally moved around the rotating shaft 17. It is designed to rotate. Specifically, as shown by the white arrow in FIG. 1, the plating bath 3 repeats rotation and stopping at a predetermined speed by rotating clockwise and counterclockwise (forward and reverse directions).

このようにめっき槽3が水平方向に正回転および逆回転を交互に繰り返し、その回転が維持されて、図1に示すように遠心力により被めっき物15がカソード電極5へ押し付けられている短時間のみ、アノード電極4とカソード電極5間に通電されてめっき処理が行われる。 In this way, the plating tank 3 alternately repeats forward and reverse rotation in the horizontal direction, and this rotation is maintained, and as shown in FIG. Electricity is applied between the anode electrode 4 and the cathode electrode 5 for only a certain period of time to perform the plating process.

なお、本実施形態例に係る回転型めっき装置100によるめっき対象は、チップ型抵抗器に限定されず、例えば、チップ型インダクタ、チップ型コンデンサ、これらの複合部品、多連抵抗器等、電極端子を有する電子部品のめっき処理にも使用できる。 The objects to be plated by the rotary plating apparatus 100 according to the present embodiment are not limited to chip resistors, but include chip inductors, chip capacitors, composite parts thereof, multiple resistors, and electrode terminals. It can also be used for plating electronic components with

図2は、本実施形態例に係る回転型めっき装置100におけるめっき液等の循環ルートを模式的に示す説明図である。 FIG. 2 is an explanatory diagram schematically showing a circulation route for a plating solution, etc. in the rotary plating apparatus 100 according to the present embodiment.

図2に示すように、回転型めっき装置100において、めっき槽3の回転に伴って蓋体1に設けた開口部1bからめっき液が排出されると、それと同時にめっき液母槽19内の新しいめっき液が処理液導入管13を経由してめっき槽3に供給される。また、開口部1bから排出されためっき液は、めっき槽3の外部全体を覆う容器20によって受けられ、処理液導出管21を経由してめっき液母槽19に至るようになっている。 As shown in FIG. 2, in the rotary plating apparatus 100, when the plating solution is discharged from the opening 1b provided in the lid body 1 as the plating tank 3 rotates, at the same time, a new plating solution in the plating solution mother tank 19 is discharged. A plating solution is supplied to the plating tank 3 via a treatment solution introduction pipe 13 . Further, the plating solution discharged from the opening 1b is received by a container 20 that covers the entire exterior of the plating tank 3, and reaches the plating solution mother tank 19 via a processing solution outlet pipe 21.

なお、回転型めっき装置100におけるめっき種の変更に伴う処理液の排出時には、めっき槽3を所定方向に高速回転させ、そのときの遠心力を利用して開口部1bからめっき液等を排出して容器20で受けるようにしている。 Note that when discharging the processing solution due to a change in plating type in the rotary plating apparatus 100, the plating tank 3 is rotated at high speed in a predetermined direction, and the centrifugal force at that time is utilized to discharge the plating solution etc. from the opening 1b. The container 20 is designed to receive the liquid.

めっき物の水洗工程では、水洗水槽22から水洗水導入管12を介してめっき槽3内へ水洗水が供給され、水洗後の水洗水の排出も、上記処理液の排出時と同様に、めっき槽3を高速回転してその遠心力を利用して行われる。そして、容器20で受けた水洗水は、水洗水導出管23を介して水洗水槽22に戻される。 In the process of rinsing the plating object, rinsing water is supplied from the rinsing water tank 22 into the plating tank 3 through the rinsing water introduction pipe 12, and the rinsing water after rinsing is discharged in the same way as when discharging the processing liquid. This is done by rotating the tank 3 at high speed and utilizing its centrifugal force. The washing water received in the container 20 is returned to the washing water tank 22 via the washing water outlet pipe 23.

図3は前記アノードキャップ10からアノードバッグ16に吹き付けられるエアーの供給経路を示す説明図、図4は図3のA部を拡大して示す図、図5はアノードキャップ10の裏面図、図6はアノードキャップ10の断面図である。 3 is an explanatory diagram showing a supply path of air blown from the anode cap 10 to the anode bag 16, FIG. 4 is an enlarged view of section A in FIG. 3, FIG. 5 is a back view of the anode cap 10, and FIG. 1 is a cross-sectional view of an anode cap 10. FIG.

図3~図6に示すように、アノードキャップ10は、アノード電極4とアノードバッグ16の上端部を保持するキャップベース24と、このキャップベース24を覆うキャップカバー25とで構成されており、これらキャップベース24とキャップカバー25は、支持軸11と水洗水導入管12および処理液導入管13の固定用締結具を用いて接合・一体化されている。 As shown in FIGS. 3 to 6, the anode cap 10 is composed of a cap base 24 that holds the anode electrode 4 and the upper end of the anode bag 16, and a cap cover 25 that covers the cap base 24. The cap base 24 and the cap cover 25 are joined and integrated using fasteners for fixing the support shaft 11, the washing water introduction pipe 12, and the processing liquid introduction pipe 13.

キャップベース24は、その上方端の周縁部に外周方向へ鍔状に突出する突出部24aを有しており、この突出部24aの下面にエアー吹出部26が形成されている。エアー吹出部26は突出部24aの周方向に一定間隔を置いて多数形成されており、本実施形態例では、突出部24aの周方向に10度の等間隔を保って36個のエアー吹出部26が形成されている。キャップベース24の外周寄りの上面には円環状に延びる凹溝24bが形成されており、この凹溝24bはキャップベース24の上面とキャップカバー25の下面に確保された隙間Gを介して各エアー吹出部26に連通している。 The cap base 24 has a protrusion 24a that protrudes in a brim shape toward the outer circumference at the peripheral edge of its upper end, and an air blowing part 26 is formed on the lower surface of the protrusion 24a. A large number of air blowing portions 26 are formed at regular intervals in the circumferential direction of the protruding portion 24a, and in this embodiment, 36 air blowing portions are formed at regular intervals of 10 degrees in the circumferential direction of the protruding portion 24a. 26 is formed. A groove 24b extending in an annular shape is formed on the upper surface of the cap base 24 near the outer periphery. It communicates with the blowing section 26.

キャップカバー25は、その周縁部に上方へ突出する環状壁25aを有しており、この環状壁25aで囲まれた内底面には、キャップベース24の凹溝24bに連通する複数のエアー供給部27が設けられている。各エアー供給部27にはチューブ28が連結されており、これらチューブ28からエアー供給部27を介して凹溝24b内にエアーが供給されるようになっている。その際、各エアー供給部27が凹溝24bの周方向に沿う等間隔な位置に配置されていると、凹溝24b内にエアーを満遍なく均一に供給することができるため、本実施形態例では、凹溝24bの周方向に90度の等間隔を保って4個のエアー供給部27が配設されている。 The cap cover 25 has an annular wall 25a projecting upward on its peripheral edge, and a plurality of air supply sections communicating with the grooves 24b of the cap base 24 are provided on the inner bottom surface surrounded by the annular wall 25a. 27 are provided. A tube 28 is connected to each air supply section 27, and air is supplied from these tubes 28 through the air supply section 27 into the groove 24b. At this time, if the air supply parts 27 are arranged at equal intervals along the circumferential direction of the groove 24b, air can be evenly and evenly supplied into the groove 24b, so in this embodiment, Four air supply sections 27 are arranged at equal intervals of 90 degrees in the circumferential direction of the groove 24b.

なお、キャップベース24とキャップカバー25には複数の貫通孔29が設けられており、これら貫通孔29に支持軸11と水洗水導入管12および処理液導入管13がそれぞれ挿通されるようになっている。さらに、キャップベース24とキャップカバー25の対向面には、凹部と凸部の組み合わせからなる位置決め部30が形成されており、この位置決め部30によりキャップベース24とキャップカバー25の相対位置を容易に位置合わせできるようにしている。 Note that the cap base 24 and the cap cover 25 are provided with a plurality of through holes 29, and the support shaft 11, the flushing water introduction pipe 12, and the processing liquid introduction pipe 13 are inserted into these through holes 29, respectively. ing. Furthermore, a positioning part 30 consisting of a combination of a concave part and a convex part is formed on the facing surfaces of the cap base 24 and the cap cover 25, and this positioning part 30 allows the relative position of the cap base 24 and the cap cover 25 to be easily adjusted. This allows for alignment.

前述したように、めっき槽3に貯留された被めっき物15にめっき処理を行う場合、被めっき物15が撹拌されるようにめっき槽3を正転方向と逆転方向へ交互に回転するため、めっき液に泡が発生する。そして、めっき槽3の回転方向を切り替える停止時に、この泡はめっき槽3の中央に集まる傾向があるため、めっき槽3の中央部に配設されたアノード電極4とアノードバッグ16の周囲に多くの泡が集中し、泡で押し上げられた被めっき物15がアノードバッグ16に絡み付いて、めっき未着や異常めっき等のめっき不良を生じる虞がある。 As mentioned above, when performing plating on the plating object 15 stored in the plating tank 3, the plating tank 3 is rotated alternately in the forward direction and the reverse direction so that the object to be plated 15 is stirred. Bubbles are generated in the plating solution. When the rotation direction of the plating tank 3 is changed and stopped, these bubbles tend to gather in the center of the plating tank 3. There is a risk that the bubbles will concentrate and the object to be plated 15 pushed up by the bubbles will become entangled with the anode bag 16, resulting in plating defects such as non-plating or abnormal plating.

本実施形態例に係る回転型めっき装置100では、このようなめっき不良を防止するために、アノードキャップ10のキャップカバー25に設けたエアー供給部27にチューブ28を介してエアーを供給し、このエアーをキャップベース24とキャップカバー25間に形成されたエアー供給通路(凹溝24bと隙間G)を経由して、キャップベース24の突出部24aに形成した各エアー吹出部26からアノードバッグ16の外周側に向けて吹き付けるようしている。これにより、泡で押し上げられた被めっき物15がアノードバッグ16の周囲に近づいてきても、当該被めっき物15は泡とともにアノードバッグ16から離れる方向にエアーで吹き飛ばされるため、被めっき物15がアノードバッグ16に絡み付きにくくなり、めっき未着や異常めっき等のめっき不良の発生を低減することができる。 In the rotary plating apparatus 100 according to the present embodiment, air is supplied to the air supply section 27 provided on the cap cover 25 of the anode cap 10 via the tube 28 in order to prevent such plating defects. Air is supplied to the anode bag 16 from each air blowing part 26 formed on the protruding part 24a of the cap base 24 via the air supply passage (groove 24b and gap G) formed between the cap base 24 and the cap cover 25. I try to spray it towards the outer periphery. As a result, even if the object to be plated 15 pushed up by the bubbles approaches the periphery of the anode bag 16, the object to be plated 15 is blown away from the anode bag 16 together with the bubbles, so that the object to be plated 15 is It becomes difficult to get entangled with the anode bag 16, and the occurrence of plating defects such as non-plating and abnormal plating can be reduced.

その際、エアー吹出部26がキャップベース24の突出部24aの下面に孔形状に形成されているため、図4において矢印で示すように、エアー吹出部26から放射状に噴出されるエアーをアノードバッグ16の外周面に吹き付けることができる。しかも、エアー吹出部26は突出部24aの下面に周方向に一定間隔を置いて多数(例えば36個)形成されているため、少ない供給量のエアーによって泡を効率良く吹き飛ばすことができる。なお、エアー吹出部26の個数は特に限定されないが、エアー吹出部26の個数が多くなるほど泡を効率良く吹き飛ばすことができるが、その反面エアーの供給量が増加するため、これらの点を考慮して適宜の個数に設定すれば良い。 At this time, since the air blowing part 26 is formed in the shape of a hole on the lower surface of the protruding part 24a of the cap base 24, the air radially jetted from the air blowing part 26 is transferred to the anode bag as shown by the arrow in FIG. It can be sprayed onto the outer peripheral surface of 16. Furthermore, since a large number (for example, 36) of air blowing portions 26 are formed on the lower surface of the protruding portion 24a at regular intervals in the circumferential direction, bubbles can be efficiently blown away with a small amount of air supplied. Note that the number of air blowing parts 26 is not particularly limited, but as the number of air blowing parts 26 increases, bubbles can be blown away more efficiently, but on the other hand, the amount of air supplied increases, so these points should be taken into consideration. The number may be set to an appropriate number.

以上説明したように、本実施形態例に係る回転型めっき装置100では、めっき槽3の回転方向を切り替える停止時などにめっき液に泡が発生し、この泡がアノード電極4を包囲するアノードバッグ16の周囲に集まってきても、アノードキャップ10に設けたエアー吹出部26からアノードバッグ16の外周面に沿ってエアーが吹き付けられるようになっているため、泡で押し上げられた被めっき物15がアノードバッグ16に付着しにくくなり、めっき未着や異常めっき等のめっき不良の発生を低減することができる。 As explained above, in the rotary plating apparatus 100 according to the present embodiment, bubbles are generated in the plating solution when the plating tank 3 is stopped and the rotation direction is changed, and the bubbles surround the anode electrode 4 in the anode bag. 16, the air is blown along the outer circumferential surface of the anode bag 16 from the air blowing part 26 provided in the anode cap 10, so that the object 15 to be plated that has been pushed up by the bubbles is It becomes difficult to adhere to the anode bag 16, and the occurrence of plating defects such as non-plating and abnormal plating can be reduced.

また、本実施形態例に係る回転型めっき装置100では、アノードキャップ10が、アノード電極4とアノードバッグ16を保持するキャップベース24と、キャップベース24を覆うように接合・一体化されたキャップカバー25とで構成されており、これらキャップベース24とキャップカバー25との間に、エアー吹出部26に通じる凹溝24bと隙間G(エアー供給通路)が設けられているため、アノードキャップ10にエアー供給通路を容易に形成することができる。 Furthermore, in the rotary plating apparatus 100 according to the present embodiment, the anode cap 10 includes a cap base 24 that holds the anode electrode 4 and the anode bag 16, and a cap cover that is joined and integrated so as to cover the cap base 24. 25, and between the cap base 24 and the cap cover 25, a concave groove 24b communicating with the air blowing part 26 and a gap G (air supply passage) are provided. A supply passage can be easily formed.

また、キャップベース24がアノードバッグ16よりも径方向外側に突出する突出部24aを有しており、この突出部24aの下面に孔形状のエアー吹出部26が設けられているため、エアー吹出部26から放射状に噴出されるエアーをアノードバッグ16の外周面に効率良く吹き付けることができる。しかも、エアー吹出部26が突出部24aの下面に周方向に所定間隔を存して多数設けられているため、少ない供給量のエアーによって泡を効率良く吹き飛ばすことができる。 In addition, the cap base 24 has a protruding portion 24a that protrudes radially outward than the anode bag 16, and a hole-shaped air blowing portion 26 is provided on the lower surface of this protruding portion 24a. Air ejected radially from 26 can be efficiently blown onto the outer peripheral surface of the anode bag 16. Furthermore, since a large number of air blowing portions 26 are provided on the lower surface of the protruding portion 24a at predetermined intervals in the circumferential direction, bubbles can be efficiently blown away with a small amount of air supplied.

なお、本実施形態例に係る回転型めっき装置100では、布等のフィルター機能を有するアノードバッグ16でアノード電極4を包囲し、このアノードバッグ16の外周側に向けてエアー吹出部26からエアーを吹き付けるようにしているため、微細な被めっき物15がアノード電極4内へ流入してしまうことを防止しつつ、アノードバッグ16に被めっき物15が絡み付いてしまうことを防止できる。ただし、アノードバッグ16を省略して網目の細かな金網にてアノード電極4を形成し、このようなアノード電極4の外周側に向けてエアー吹出部26からエアーを吹き付けるようにしても良い。 In the rotary plating apparatus 100 according to this embodiment, the anode electrode 4 is surrounded by an anode bag 16 having a filter function such as cloth, and air is blown from the air blowing part 26 toward the outer circumference of the anode bag 16. Since it is sprayed, it is possible to prevent the minute objects 15 to be plated from flowing into the anode electrode 4 and to prevent the objects 15 to be plated from becoming entangled with the anode bag 16. However, the anode bag 16 may be omitted and the anode electrode 4 may be formed of a fine wire mesh, and air may be blown from the air blowing portion 26 toward the outer circumferential side of the anode electrode 4.

図7はアノードキャップ10の変形例を示す要部断面図であり、図4に対応する部分には同一符号をふしてある。 FIG. 7 is a sectional view of a main part showing a modification of the anode cap 10, and parts corresponding to those in FIG. 4 are given the same reference numerals.

図7に示すように、キャップベース24が有する突出部24aの外周縁に下向きのテーパを付け、この突出部24aの外周縁とキャップベース24の下部外周縁との間にスリットを確保することにより、アノードキャップ10に円環状に延びるエアー吹出部26が設けられている。このような構成を採用すると、キャップベース24とキャップカバー25との間に存するスリットによってエアー吹出部26が形成されるため、キャップベース24に複雑な穴開け加工を施す必要がなくなり、エアー吹出部26を容易に形成することができる。 As shown in FIG. 7, by tapering the outer circumference of the protrusion 24a of the cap base 24 downward and securing a slit between the outer circumference of the protrusion 24a and the lower outer circumference of the cap base 24. The anode cap 10 is provided with an air blowing portion 26 extending in an annular shape. When such a configuration is adopted, the air blowing part 26 is formed by the slit existing between the cap base 24 and the cap cover 25, so there is no need to make complicated holes in the cap base 24, and the air blowing part 26 can be easily formed.

1 蓋体
2 底板
3 めっき槽
4 アノード電極
5 カソード電極
10 アノードキャップ
15 被めっき物
16 アノードバッグ
17 回転軸
24 キャップベース
24a 突出部
24b 凹溝(エアー供給通路)
25 キャップカバー
25a 環状壁
26 エアー吹出部
27 エアー供給部
28 チューブ
29 貫通孔
30 位置決め部
G 隙間(エアー供給通路)
100 回転型めっき装置
1 Lid 2 Bottom plate 3 Plating tank 4 Anode electrode 5 Cathode electrode 10 Anode cap 15 Object to be plated 16 Anode bag 17 Rotating shaft 24 Cap base 24a Projection 24b Groove (air supply passage)
25 Cap cover 25a Annular wall 26 Air blowing part 27 Air supply part 28 Tube 29 Through hole 30 Positioning part G Gap (air supply passage)
100 Rotary plating equipment

Claims (6)

垂直線軸を中心に正逆両方向へ回転可能な円板状の底板と、前記底板の外周側壁に一体的に設けられた円錐台形状の蓋体と、前記底板と前記蓋体とによって画成されためっき槽と、前記めっき槽内の略中央に配設された箱形状のアノード電極と、前記アノード電極の上端部を保持するアノードキャップと、前記めっき槽の内周側に露出すると共に前記外周側壁の一部を構成するカソード電極と、を備え、
前記アノードキャップに、前記アノード電極の外周面に沿ってエアーを吹き付けるエアー吹出部が設けられていることを特徴とする回転型めっき装置。
It is defined by a disc-shaped bottom plate that is rotatable in both forward and reverse directions around a vertical axis, a truncated cone-shaped lid body that is integrally provided on the outer peripheral side wall of the bottom plate, and the bottom plate and the lid body. a plating tank; a box-shaped anode electrode disposed approximately in the center of the plating tank; an anode cap that holds the upper end of the anode electrode; A cathode electrode forming part of the side wall,
A rotary plating apparatus characterized in that the anode cap is provided with an air blowing section that blows air along the outer peripheral surface of the anode electrode.
請求項1に記載の回転型めっき装置において、
前記アノード電極がフィルター機能を有するアノードバッグによって包囲されており、前記エアー吹出部から前記アノードバッグの外周面に沿ってエアーが吹き付けられることを特徴とする回転型めっき装置。
The rotary plating apparatus according to claim 1,
A rotary plating apparatus, wherein the anode electrode is surrounded by an anode bag having a filter function, and air is blown from the air blowing section along the outer peripheral surface of the anode bag.
請求項2に記載の回転型めっき装置において、
前記アノードキャップは、前記アノード電極を保持するキャップベースと、前記キャップベースを覆うように接合・一体化されたキャップカバーとを備えており、前記キャップベースと前記キャップカバーとの間に、前記エアー吹出部に通じるエアー供給通路が設けられていることを特徴とする回転型めっき装置。
The rotary plating apparatus according to claim 2,
The anode cap includes a cap base that holds the anode electrode, and a cap cover that is joined and integrated so as to cover the cap base, and the air is disposed between the cap base and the cap cover. A rotary plating device characterized by being provided with an air supply passage leading to a blow-off section.
請求項3に記載の回転型めっき装置において、
前記キャップベースは前記アノードバッグよりも径方向外側に突出する突出部を有しており、前記突出部の下面に前記エアー吹出部が設けられていることを特徴とする回転型めっき装置。
The rotary plating apparatus according to claim 3,
The rotary plating apparatus is characterized in that the cap base has a protrusion that protrudes radially outward than the anode bag, and the air blowing part is provided on a lower surface of the protrusion.
請求項4に記載の回転型めっき装置において、
前記エアー吹出部が前記突出部の下面に周方向に所定間隔を存して複数設けられていることを特徴とする回転型めっき装置。
The rotary plating apparatus according to claim 4,
A rotary plating apparatus characterized in that a plurality of the air blowing parts are provided on the lower surface of the protruding part at predetermined intervals in the circumferential direction.
請求項3に記載の回転型めっき装置において、
前記キャップベースは前記アノードバッグよりも外側に突出する突出部を有しており、前記エアー吹出部が前記突出部と前記キャップカバーとの間に円環状に設けられていることを特徴とする回転型めっき装置。
The rotary plating apparatus according to claim 3,
The cap base has a protruding part that protrudes outward from the anode bag, and the air blowing part is provided in an annular shape between the protruding part and the cap cover. Mold plating equipment.
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