JP7380947B2 - 導電性金属粒子の製造方法および導電性金属粒子 - Google Patents
導電性金属粒子の製造方法および導電性金属粒子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7380947B2 JP7380947B2 JP2023511093A JP2023511093A JP7380947B2 JP 7380947 B2 JP7380947 B2 JP 7380947B2 JP 2023511093 A JP2023511093 A JP 2023511093A JP 2023511093 A JP2023511093 A JP 2023511093A JP 7380947 B2 JP7380947 B2 JP 7380947B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aqueous solution
- particles
- naoh
- nip
- concentration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 title claims description 50
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 43
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 327
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 291
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 59
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 49
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 49
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 197
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 108
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 94
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 82
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 19
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 16
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 16
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 15
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 14
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 13
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 7
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 7
- JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Cu+2].[O-]S([O-])(=O)=O JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- SFXJSNATBHJIDS-UHFFFAOYSA-N disodium;dioxido(oxo)tin;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Na+].[Na+].[O-][Sn]([O-])=O SFXJSNATBHJIDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- GQZXNSPRSGFJLY-UHFFFAOYSA-N hydroxyphosphanone Chemical compound OP=O GQZXNSPRSGFJLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940005631 hypophosphite ion Drugs 0.000 description 5
- RRIWRJBSCGCBID-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O RRIWRJBSCGCBID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 5
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 4
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 4
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 4
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 4
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 4
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229940116202 nickel sulfate hexahydrate Drugs 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KOUDKOMXLMXFKX-UHFFFAOYSA-N sodium oxido(oxo)phosphanium hydrate Chemical compound O.[Na+].[O-][PH+]=O KOUDKOMXLMXFKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- -1 hypophosphite ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N aqua regia Chemical compound Cl.O[N+]([O-])=O QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005311 autocorrelation function Methods 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- MSJMDZAOKORVFC-UAIGNFCESA-L disodium maleate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)\C=C/C([O-])=O MSJMDZAOKORVFC-UAIGNFCESA-L 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940053662 nickel sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) carbonate Chemical compound [Ni+2].[O-]C([O-])=O ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- SIGUVTURIMRFDD-UHFFFAOYSA-M sodium dioxidophosphanium Chemical compound [Na+].[O-][PH2]=O SIGUVTURIMRFDD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940079864 sodium stannate Drugs 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- WWNBZGLDODTKEM-UHFFFAOYSA-N sulfanylidenenickel Chemical compound [Ni]=S WWNBZGLDODTKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 150000004684 trihydrates Chemical class 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/16—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes
- B22F9/18—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds
- B22F9/24—Making metallic powder or suspensions thereof using chemical processes with reduction of metal compounds starting from liquid metal compounds, e.g. solutions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
- B22F1/05—Metallic powder characterised by the size or surface area of the particles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
- B22F1/05—Metallic powder characterised by the size or surface area of the particles
- B22F1/052—Metallic powder characterised by the size or surface area of the particles characterised by a mixture of particles of different sizes or by the particle size distribution
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
- C22C1/04—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
- C22C1/04—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
- C22C1/0433—Nickel- or cobalt-based alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C19/00—Alloys based on nickel or cobalt
- C22C19/03—Alloys based on nickel or cobalt based on nickel
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
- B22F1/06—Metallic powder characterised by the shape of the particles
- B22F1/065—Spherical particles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2301/00—Metallic composition of the powder or its coating
- B22F2301/10—Copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2301/00—Metallic composition of the powder or its coating
- B22F2301/15—Nickel or cobalt
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
Description
この発明に係る導電性金属粒子の製造方法は、Ni(Niイオン)およびNaOHを含む第1水溶液とP(次亜リン酸イオン)を含む第2水溶液とを混合してpHが7超の第3水溶液を調製し、この第3水溶液の中で還元析出反応を生じさせてNiを基とする導電性金属粒子を形成するものである。さらに、第3水溶液におけるNaOHの濃度により、導電性金属粒子のメジアン径を調製する。この製造方法によって、Niを基とし、Pを含む、導電性金属粒子(NiP粒子)を製造することができる。たとえば、NiとPを含む第3水溶液におけるNaOHの濃度を調製することによって、Niを基とし、Pを含む、NiP粒子を製造することができる。この場合のNiP粒子の一例を、図3に示す。第3水溶液に適量のPが含まれていると得られたNiP粒子の表面が硬くなる傾向があるため、NiP粒子の機械的強さの向上効果が期待できる。
本願発明者はこの度、NiP粒子のd50と第3水溶液におけるNaOH濃度との間に存在する比較的強い相関を見出したことにより、従来重要視されていなかった「第3水溶液のNaOH濃度」によりNiP粒子のd50を調整するという、この発明の手法に想到することができた。
回転翼を備える撹拌装置、窒素ガス供給装置および液温測定装置を備えた、還元析出反応に耐え得る容器(反応槽)を準備する。この反応槽内を窒素ガスで満たし、窒素ガスを供給し続けることで反応槽内への大気の侵入を抑制し、還元析出反応による生成ガスの排出を促進する。この窒素ガスの供給は、窒素ガス量(流量)を適時制御しながら、NiP粒子の製造を終了するまで継続する。
反応槽内に純水を入れ、回転翼による撹拌を行いながら、水酸化ナトリウム(NaOH)を加える。この撹拌は、回転翼の回転速度を制御しながら、NiP粒子の製造を終了するまで継続する。次いで、Ni(Niイオン)源となる硫酸ニッケル(II)六水和物を加える。ここで、必要に応じて、Cu(Cuイオン)源となる硫酸銅(II)五水和物、pH緩衝剤となる酢酸ナトリウム、および、Sn(Snイオン)源となる錫酸ナトリウム三水和物を加えることができる。なお、第1水溶液におけるNaOHの濃度は、第1水溶液と第2水溶液との混合により第3水溶液を得た際に、第3水溶液におけるNaOHの濃度が所望のd50に対応する特定の濃度値となるように、第1水溶液および第2水溶液を構成する個々の物質の配合割合を的確に算定し、調製した。これにより、第1水溶液が得られる。
反応槽とは別の容器を準備し、純水を入れる。この容器内に、P(次亜リン酸イオン)源となるホスフィン酸ナトリウム一水和物を加える。なお、第2水溶液は、第1水溶液と第2水溶液との混合により第3水溶液を得た際に、第3水溶液におけるNaOHの濃度が所望のd50に対応する特定の濃度値となるように、第1水溶液を構成する個々の物質の配合割合を十分に考慮し、第2水溶液を構成する個々の物質の配合割合を的確に算定し、調製した。これにより、第2水溶液が得られる。
Ni(Niイオン)およびNaOHを含む第1水溶液を、外部ヒーターを用いて加熱する。第1水溶液の液温は、還元析出反応を生じさせる温度(反応温度)で制御する。なお、この第1水溶液には、必要に応じてCu(Cuイオン)が含まれ、さらに、必要に応じてSn(Snイオン)が含まれる。また、P(次亜リン酸イオン)を含む第2水溶液を、外部ヒーターを用いて加熱する。第2水溶液の液温も同様に、還元析出反応を生じさせる温度(反応温度)で制御する。次いで、第1水溶液が入っている反応槽内に第2水溶液を加え、撹拌混合し、混合水溶液とする。これにより、第1水溶液と第2水溶液との混合水溶液、すなわち第3水溶液が得られる。この第3水溶液は、そのpHが、第1水溶液に含まれるNaOHに起因して、7超となるとともに、そのNaOHの濃度が、第1水溶液においてNaOHを特定の濃度値に調製したことに起因して、特定の濃度値となる。この第3水溶液の液温は、外部ヒーターを用いてNiP粒子の製造を終了するまで反応温度に制御し続ける。
上記の手順で得られ、反応温度に制御された第3水溶液において、第2水溶液に含まれるホスフィン酸ナトリウム一水和物が還元剤となって、還元析出反応が生じる。この第3水溶液の中で生じさせた還元析出反応により、Niを基とする多数の金属核が形成され、やがて多数のNiP粒子に成長する。このとき、第3水溶液におけるNaOHの濃度値に対応して、特定のd50を有するNiP粒子を円滑かつ安定に形成することができる。
図1に示すグラフは、表1に示す第3水溶液のNaOHの濃度(mol/L)と、表2に示すNiP粒子のd50との関係を表わすものである。また、図中に示す曲線Aは、図中に示す全データ、すなわち、表1に示す複数の実験条件に対応する表2に示す複数の実験結果から得られた2次近似曲線(Y=4655X2-2162X+252.6、但し、XはNaOHの濃度、Yはd50)である。この複数の実験に基づく曲線Aは、還元析出反応を生じさせる第3水溶液におけるNaOHの濃度が高いほど得られるNiP粒子のd50が小さくなるという、負の強い相関を示している。この曲線Aを利用して、第3水溶液におけるNaOHの濃度によって得られるNiP粒子のd50を、的確に予測、調整することができる。この予測結果を考慮した第3水溶液におけるNaOHの濃度により、得られるNiP粒子のd50を的確に調製することができる。つまり、導電性金属粒子のメジアン径を10μm以下となるように前記第3水溶液におけるNaOHの濃度を調製する。
ここで、図1に示すグラフから、第3水溶液にSn(Snイオン)を含まないNo.1、No.2およびNo.5の場合、第3水溶液のNaOHの濃度が高くなると曲線Aに対して明らかに上側(+側)に位置することが分かる。これより、得られるNiP粒子のd50が大きくなる傾向を事前に知得することができる。また、No.2およびNo.5は、d50がNo.1よりも小さくなったが、曲線Aから上側(+側)に大きく離間することが分かる。これより、NiP粒子のd50をより小さくしたい場合、還元析出反応を生じさせる第3水溶液には適量のSn(Snイオン)を含むのが好ましいことを事前に知得することができる。
図2に示すグラフは、表1に示す第3水溶液のNaOHの濃度(mol/L)と、表2に示すNiP粒子の散布度との関係を表わすものである。また、図中に示す曲線Bは、図中に示す全データ、すなわち、表1に示す複数の実験条件に対応する表2に示す複数の実験結果から得られた2次近似曲線(Y=354X2-142.1X+14.86、但し、XはNaOHの濃度、Yは散布度)である。この複数の実験に基づく曲線Bは、還元析出反応を生じさせる第3水溶液におけるNaOHの濃度が高いほど得られたNiP粒子の散布度が大きくなるという、正の比較的強い相関を示している。この曲線Bを利用して、第3水溶液におけるNaOHの濃度によって得られるNiP粒子の散布度を、的確に予測することができる。この予測結果を考慮した第3水溶液におけるNaOHの濃度により、得られるNiP粒子の散布度を的確に調製することができる。つまり、導電性金属粒子の散布度が1.0以下となるように前記第3水溶液におけるNaOHの濃度を調整する。
ここで、図2に示すグラフから、第3水溶液のSn/Cu(モル比)が大きいNo.4およびNo.9の場合、曲線Bに対して明らかに上側(+側)に位置することが分かる。これより、得られるNiP粒子の散布度が大きくなる傾向を事前に知得することができる。また、No.9は、散布度がNo.4よりも大きくなったが、曲線Bから上側(+側)にNo.4よりも大きく離間することが分かる。これより、NiP粒子の散布度をより小さくしたい場合、還元析出反応を生じさせる第3水溶液のSn/Cu(モル比)を適切に調製するのが好ましいことを事前に知得することができる。
B 曲線(二次近似曲線)
Claims (6)
- NiおよびNaOHを含む第1水溶液とPを含む還元剤となる第2水溶液とを混合してpHが7超の第3水溶液を調製し、前記第3水溶液の中で還元析出反応を生じさせてNiを基とする導電性金属粒子を形成する製造方法において、
前記第3水溶液におけるNaOHの濃度により、前記導電性金属粒子のメジアン径を調製し、
前記第3水溶液のNaOHの濃度を0.190mol/L以上0.230mol/L以下とする、導電性金属粒子の製造方法。 - 前記導電性金属粒子のメジアン径を10μm以下となるように前記第3水溶液におけるNaOHの濃度を調製する、請求項1に記載の導電性金属粒子の製造方法。
- 前記導電性金属粒子の散布度が1.0以下となるように前記第3水溶液におけるNaOHの濃度を調整する、請求項1に記載の導電性金属粒子の製造方法。
- 前記第1水溶液はCuを含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の導電性金属粒子の製造方法。
- 前記第1水溶液はSnを含む、請求項1から4のいずれか1項に記載の導電性金属粒子の製造方法。
- 前記第3水溶液におけるSn/Cu(モル比)を5.5未満に調製する、請求項5に記載の導電性金属粒子の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021056511 | 2021-03-30 | ||
JP2021056511 | 2021-03-30 | ||
PCT/JP2022/013732 WO2022210217A1 (ja) | 2021-03-30 | 2022-03-23 | 導電性金属粒子の製造方法および導電性金属粒子 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2022210217A1 JPWO2022210217A1 (ja) | 2022-10-06 |
JPWO2022210217A5 JPWO2022210217A5 (ja) | 2023-06-21 |
JP7380947B2 true JP7380947B2 (ja) | 2023-11-15 |
Family
ID=83459188
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023511093A Active JP7380947B2 (ja) | 2021-03-30 | 2022-03-23 | 導電性金属粒子の製造方法および導電性金属粒子 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20240051022A1 (ja) |
JP (1) | JP7380947B2 (ja) |
KR (1) | KR20230118960A (ja) |
CN (1) | CN116723905A (ja) |
TW (1) | TW202306891A (ja) |
WO (1) | WO2022210217A1 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006131978A (ja) | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Akita Pref Gov Shigen Gijutsu Kaihatsu Kiko | 球状NiP微小粒子およびその製造方法ならびに、異方性導電フィルム用導電粒子 |
JP2009197317A (ja) | 2007-10-18 | 2009-09-03 | Hitachi Metals Ltd | 還元析出型球状NiP微小粒子およびその製造方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5614270Y2 (ja) | 1976-08-16 | 1981-04-03 | ||
JPS5622127U (ja) | 1979-07-31 | 1981-02-27 |
-
2022
- 2022-03-23 KR KR1020237023839A patent/KR20230118960A/ko active Search and Examination
- 2022-03-23 JP JP2023511093A patent/JP7380947B2/ja active Active
- 2022-03-23 WO PCT/JP2022/013732 patent/WO2022210217A1/ja active Application Filing
- 2022-03-23 US US18/259,669 patent/US20240051022A1/en active Pending
- 2022-03-23 CN CN202280010713.9A patent/CN116723905A/zh active Pending
- 2022-03-29 TW TW111111798A patent/TW202306891A/zh unknown
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006131978A (ja) | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Akita Pref Gov Shigen Gijutsu Kaihatsu Kiko | 球状NiP微小粒子およびその製造方法ならびに、異方性導電フィルム用導電粒子 |
JP2009197317A (ja) | 2007-10-18 | 2009-09-03 | Hitachi Metals Ltd | 還元析出型球状NiP微小粒子およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20240051022A1 (en) | 2024-02-15 |
TW202306891A (zh) | 2023-02-16 |
WO2022210217A1 (ja) | 2022-10-06 |
JPWO2022210217A1 (ja) | 2022-10-06 |
KR20230118960A (ko) | 2023-08-14 |
CN116723905A (zh) | 2023-09-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5144022B2 (ja) | 銅粉の製造方法及びその製造方法で得られた銅粉 | |
JP5820202B2 (ja) | 導電性ペースト用銅粉およびその製造方法 | |
US7534283B2 (en) | Method of producing copper powder and copper powder | |
WO2005009652A1 (ja) | 微粒銀粉及びその微粒銀粉の製造方法 | |
JP5074837B2 (ja) | 扁平銀粉の製造方法、扁平銀粉、及び導電性ペースト | |
JP2009540111A (ja) | 高分散性球状銀粉末粒子の製造方法およびそれから形成された銀粒子 | |
WO2005009651A1 (ja) | 微粒銀粉及びその微粒銀粉の製造方法 | |
CN105817641A (zh) | 一种利用新生纳米晶种诱导生产金属粉末的制备方法 | |
US7909908B2 (en) | Method of improving the weatherability of copper powder | |
JP2013177690A (ja) | 還元析出型球状NiP微小粒子およびその製造方法 | |
KR100880742B1 (ko) | 구상 NiP 미소 입자 및 그 제조방법과, 이방성 도전필름용 도전 입자 | |
JP2012172170A (ja) | 金属粒子の製造方法 | |
JP7380947B2 (ja) | 導電性金属粒子の製造方法および導電性金属粒子 | |
JP2020015975A (ja) | 亜酸化銅粉末の製造方法、亜酸化銅粉末、銅粉末の製造方法及び銅粉末 | |
JP4756652B2 (ja) | ドロップ状銅粉、ドロップ状銅粉の製造方法および導電性ペースト | |
JP2017039991A (ja) | 銀コート銅粉とその製造方法、及びそれを用いた導電性ペースト | |
JP4942090B2 (ja) | 球状ニッケル微小粒子の製造方法および異方性導電フィルム用導電粒子の製造方法 | |
JP2009126759A (ja) | 硫酸ニッケルと硫酸コバルトとを含む高純度溶液の作成方法、及びこの溶液を用いた高純度ニッケルの製造方法。 | |
US20140352497A1 (en) | Double jet process for producing nanosilver dispersions | |
JP5361247B2 (ja) | 金属微粒子及び金属微粒子の製造方法 | |
JP6031571B2 (ja) | 導電性ペースト用銅粉およびその製造方法 | |
TW201609558A (zh) | 焊料包覆球及其製造方法 | |
JP5729842B2 (ja) | 銅粉 | |
JP2002363618A (ja) | 銅超微粒子とその製造方法 | |
JP2020158823A (ja) | ニッケル粉末の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230324 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230324 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20230324 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230606 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230804 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231003 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231016 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7380947 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |