JP7373608B1 - 対流抑制炉 - Google Patents

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Abstract

Figure 0007373608000001
【課題】対流の影響を抑制して、加熱ゾーンにおいて上部温度を下部温度よりも低くする、対流抑制炉を提供する。
【解決手段】原料7を収容する容器10と、前記容器10を覆うケーシング20と、横方向に延在して、前記容器10と前記ケーシング20との間で形成される加熱ゾーン90を上下方向に仕切る仕切り50とを備え、仕切り50は、前記容器10の外側側面17および前記ケーシング20の内側側面26のそれぞれに近接するように構成される。
【選択図】図1

Description

この発明は、対流抑制炉に関する。
炉内温度が高くなるほど、輻射および対流の影響によって、炉内雰囲気において上部温度が下部温度よりも高くなるため、炉内雰囲気において上部温度を下部温度よりも高くすることは容易である。また、炉内雰囲気の温度をできるだけ均一にしたいというニーズもある。他方で、炉内雰囲気において上部温度を下部温度よりも低くしたいというニーズがある。
単結晶バルクの製造方法として、例えば昇華再結晶法がある。昇華再結晶法は、原料を高温下で加熱することで昇華ガスを発生させ、原料よりも低温の種結晶の表面に昇華ガスを凝縮させることによって、単結晶バルクを得るものである(特許文献1から特許文献3を参照)。この場合、下方の高温部で昇華ガスを発生させるとともに上方の低温部(種結晶)に昇華ガスを凝縮させるために、炉内雰囲気において上部温度を下部温度よりも低くする必要がある。
特開平7-330493号公報 特開2017-24920号公報 特表2010-510154号公報
上述したように、炉内温度が高くなると、輻射および対流の影響によって、炉内雰囲気すなわち加熱ゾーンなどにおいて上部温度を下部温度よりも低くすることは容易ではない。
そこで、この発明の課題は、対流の影響を抑制する対流抑制炉を提供することである。
上記課題を解決するため、この発明の一態様に係る対流抑制炉は、
原料を収容する容器と、
前記容器を覆うケーシングと、
横方向に延在して、前記容器と前記ケーシングとの間で形成される加熱ゾーンを上下方向に仕切る仕切りとを備え、
前記仕切りは、前記容器の外側側面および前記ケーシングの内側側面のそれぞれに近接するように構成されることを特徴とする。
この発明によれば、加熱ゾーンなどにおける広範な対流が、仕切りによって妨げられるので、対流の影響を抑制できる。そして、加熱ゾーンなどにおいて上部温度を下部温度よりも低くできる。
第1実施形態に係る対流抑制炉を模式的に説明する断面図である。 第2実施形態に係る対流抑制炉を模式的に説明する断面図である。 第3実施形態に係る対流抑制炉を模式的に説明する断面図である。 第4実施形態に係る対流抑制炉の要部を模式的に説明する断面図である。
以下、図面を参照しながら、この発明に係る対流抑制炉1の実施の形態を説明する。なお、以下の説明では、必要に応じて特定の方向あるいは位置を示す用語(例えば、「上」、「下」、「右」、「左」、「前」、「後」を含む用語)を用いるが、それらの用語の使用は、図面を参照した本開示の理解を容易にするためであって、それらの用語の意味によって本開示の技術的範囲が限定されるものではない。また、以下の説明は、本質的に例示に過ぎず、本開示、その適用物、あるいは、その用途を制限することを意図するものではない。さらに、図面は模式的なものであり、各寸法の比率などは現実のものとは必ずしも合致するものではない。この発明において、「近接する」という文言は、「密着しながら当接する」こと、または、「微小な隙間で接近する」ことを意味する。
〔第1実施形態〕
図1を参照しながら、第1実施形態に係る対流抑制炉1を説明する。図1は、第1実施形態に係る対流抑制炉1を模式的に説明する断面図である。
対流抑制炉1は、例えば、昇華再結晶法(改良レーリー法とも呼ばれる。)によってセラミックの単結晶バルクを製造する装置である。対流抑制炉1の用途を具体的に説明すると、下方の高温部で原料7を加熱して昇華ガス9を発生させ、上方の低温部に配設される凝縮部8において昇華ガス9を凝縮させることにより、セラミックの単結晶バルクを製造できるようになる。
図1に示すように、対流抑制炉1は、容器10と、ケーシング20と、断熱ハウジング30と、炉殻40と、仕切り50と、断熱仕切り60と、加熱手段70とを備える。
容器10は、原料7を収容する容器本体11と、凝縮部8を保持する蓋体12と、容器本体11を支持する第1脚5とを有する。容器本体11は、例えば、有底円筒形状を有し、円筒形状の容器側部13と、容器側部13の下端を塞ぐ円板形状の容器底部15とを有する。容器側部13の上端には、容器開口が形成される。容器10は、高温耐熱性を有する材料からなり、例えば、不活性雰囲気で2400℃でも耐熱性を有する黒鉛製のルツボである。
容器本体11の容器底部15(言い換えると、容器10の下部)には、昇華ガス9を発生させるためのセラミック材料(例えば、炭化ケイ素などの粉末や焼結体)の原料7が収容される。蓋体12は、凝縮部8の外径よりも大きな外径を有する円板形状を有し、容器側部13の容器開口を覆うように容器側部13の上端の上に載置される。蓋体12の内側下面(言い換えると、容器10の上部)には、凝縮部8が配設される。凝縮部8は、昇華ガス9を凝縮させるための部分であり、例えば、原料7と同じ材料からなる種結晶である。
容器10は、ケーシング20によって覆われる。言い換えると、ケーシング20の内部には、容器10が配設されて、加熱ゾーン90が、容器10とケーシング20との間に形成される。ケーシング20は、高温耐熱性(例えば、不活性雰囲気で2400℃以上での耐熱性)を有する緻密質材料からなり、例えば、ソリッドカーボンからなる。ケーシング20が緻密質材料からなるので、高精度な加工が可能になる。
ケーシング20は、例えば、矩形の箱型形状を有し、ケーシング側部23と、ケーシング側部23の上方に位置するケーシング上部24と、ケーシング側部23の下方に位置するケーシング底部25と、ケーシング底部25を支持する第2脚29とを有する。ケーシング上部24は、ケーシング側部23のケーシング開口22(図2に図示)を覆うようにケーシング側部23の上端の上に載置される。ケーシング底部25は、容器10の第1脚5を支持する。
ケーシング側部23の内側側面26は、少なくとも1つの仕切り50を有する。仕切り50は、ケーシング20と同様に、高温耐熱性(例えば、不活性雰囲気で2400℃以上での耐熱性)を有する緻密質材料からなり、例えば、ソリッドカーボンからなる。仕切り50は、ケーシング側部23の内側側面26から横方向に(例えば、ほぼ水平方向に)延在して、容器10とケーシング20との間で形成される加熱ゾーン90を上下方向に仕切る。
図1に示す対流抑制炉1では、仕切り50として、上仕切り51および下仕切り52が配設される。上仕切り51は、上加熱ゾーン(第1加熱ゾーン)91と中間加熱ゾーン(第2加熱ゾーン)92とに仕切る。下仕切り52は、中間加熱ゾーン(第1加熱ゾーン)92と下加熱ゾーン(第2加熱ゾーン)93とに仕切る。上仕切り51および下仕切り52は、容器10の外側側面17およびケーシング20の内側側面26のそれぞれに近接するように(言い換えると、密着しながら当接するように)構成される。これにより、加熱ゾーン90における広範な対流6が、仕切り50によって妨げられるので、対流6の影響を抑制して、加熱ゾーン90において上部温度を下部温度よりも低くできる。
ケーシング20は、断熱ハウジング30によって覆われる。言い換えると、断熱ハウジング30の内部には、ケーシング20が配設されて、断熱ゾーン95が、ケーシング20と断熱ハウジング30との間に形成される。断熱ハウジング30は、高温耐熱性(例えば、不活性雰囲気で2400℃以上での耐熱性)および断熱性を有する多孔質材料からなり、例えば、グラファイトの成形断熱材からなる。
断熱ハウジング30は、例えば、矩形状の箱型形状を有し、ハウジング側部33と、ハウジング側部33の上方に位置するハウジング上部34と、ハウジング側部33の下方に位置するハウジング底部35とを有する。ハウジング上部34は、ハウジング側部33の容器開口を覆うようにハウジング側部33の上端の上に載置される。ハウジング底部35は、ケーシング20の第2脚29を支持する。
ハウジング側部33の内側側面39は、少なくとも1つの(例えば、2つの)断熱仕切り60を有する。断熱仕切り60は、断熱ハウジング30と同様に、高温耐熱性(例えば、不活性雰囲気で2400℃以上での耐熱性)および断熱性を有する多孔質材料からなり、例えば、グラファイトの成形断熱材からなる。断熱仕切り60は、ハウジング側部33の内側側面39から横方向に(例えば、ほぼ水平方向に)延在して、ケーシング20と断熱ハウジング30との間で形成される断熱ゾーン95を上下方向に仕切る。
図1に示す対流抑制炉1では、断熱仕切り60として、上断熱仕切り61と下断熱仕切り62とが配設される。上断熱仕切り61は、上断熱ゾーン(第1断熱ゾーン)96と中間断熱ゾーン(第2断熱ゾーン)97とに仕切る。下断熱仕切り62は、中間断熱ゾーン(第1断熱ゾーン)97と下断熱ゾーン(第2断熱ゾーン)98とに仕切る。上断熱仕切り61および下断熱仕切り62は、ケーシング20の外側側面27および断熱ハウジング30の内側側面39のそれぞれに近接するように構成される(すなわち、前述のように、密着しながら当接する状態も含む。)。これにより、断熱ゾーン95における広範な対流6が、断熱仕切り60によって妨げられるので、対流6の影響を抑制して、断熱ゾーン95において上部温度を下部温度よりも低くできる。
加熱手段70として、上断熱ゾーン(第1断熱ゾーン)96には上ヒータ(第1加熱部)71が配設され、中間断熱ゾーン(第2断熱ゾーン)97には中間ヒータ(第2加熱部、第1加熱部)72が配設され、下断熱ゾーン(第2断熱ゾーン)98には下ヒータ(第2加熱部)73および底ヒータ74が配設される。上ヒータ71と中間ヒータ72と下ヒータ73と底ヒータ74とは、抵抗加熱体であり、例えば、高温耐熱性に優れた黒鉛などのカーボン系材料からなるプレート型のヒータである。
断熱ハウジング30は、ボックス形状を有する鋼製の炉殻40によって気密状態で覆われる。炉殻40には、図示しない真空排気管およびガス供給配管が接続される。
対流抑制炉1は、いずれも図示しない、ガス供給装置と真空排気装置と複数の放射温度計と制御部とを備える。ガス供給装置は、炉殻40の内部雰囲気に不活性ガスを供給する。真空排気装置は、炉殻40の内部雰囲気を真空排気する。複数の放射温度計は、容器10の複数箇所の温度を計測する。制御部は、容器10の測温結果に基づいて、上加熱ゾーン91と中間加熱ゾーン92と下加熱ゾーン93の各温度を制御する。
真空排気装置を用いて、真空排気管を通じて炉殻40の内部雰囲気が真空排気され、ガス供給配管を通じて炉殻40の内部雰囲気が不活性ガス(例えば、アルゴンガス)に置換される。
ケーシング20および断熱ハウジング30を連通するように、小径の測温穴(図示せず)がケーシング20および断熱ハウジング30に複数個設けられる。例えば、容器側部13での上部、中間部および下部と、蓋体12と、容器底部15とにおける各温度は、各測温穴を通じて、放射温度計によって測定される。そして、制御部は、測温結果に基づいて、加熱手段70のヒータ出力を制御して、上加熱ゾーン(第1加熱ゾーン)91の温度と中間加熱ゾーン(第2加熱ゾーン、第1加熱ゾーン)92の温度と下加熱ゾーン(第2加熱ゾーン)93の温度とを、それぞれ別個独立に制御する。これにより、上加熱ゾーン(第1加熱ゾーン)91の温度と中間加熱ゾーン(第2加熱ゾーン、第1加熱ゾーン)92の温度と下加熱ゾーン(第2加熱ゾーン)93の温度とのそれぞれを高精度に制御できる。なお、測温穴には透明の耐熱性ガラス(図示せず)が取り付けられ、熱漏れすることなく、放射温度計による温度測定を可能にしている。
次に、対流抑制炉1の使用形態を説明する。例示として、昇華再結晶法によってセラミック材料(例えば、炭化ケイ素)の単結晶バルクを製造する方法を説明する。
所定量の原料7を容器本体11に収容(充填)し、蓋体12の内側下面に凝縮部8を設置して、蓋体12を容器本体11の上に載置する。凝縮部8は、原料7と同じ材料からなる種結晶である。
上仕切り51および下仕切り52が容器10の外側側面17とケーシング20の内側側面26とに近接するように、容器10はケーシング20の内部に配設される。そして、上断熱仕切り61および下断熱仕切り62がケーシング20の外側側面27と断熱ハウジング30の内側側面39とに近接するように、ケーシング20は、断熱ハウジング30の内部に配設される。原料7を対流抑制炉1にセッティングする場合、原料7を容器10に入れた後、内側から外側に向けて順に、容器10、ケーシング20、断熱ハウジング30および炉殻40を入れ子状に配設する構成や、蓋体12、ケーシング上部24,ハウジング上部34および炉殻上部41を上下方向に着脱自在にする構成にすることができる。
上ヒータ71と中間ヒータ72と下ヒータ73と底ヒータ74とに電流を流す抵抗加熱によって、容器10の温度を昇華温度付近の所定温度まで加熱する。原料7を収容する容器下部と凝縮部8を備える容器上部とにおいて上方低温・下方高温の雰囲気が形成されるように加熱する。例えば、第3加熱ゾーン93の温度が昇華温度(原料7が炭化ケイ素である場合、2340℃)以上であり、第1加熱ゾーン91の温度が第3加熱ゾーン93の温度よりも90℃低くなるように制御される。これにより、第1加熱ゾーン91の温度が第3加熱ゾーン93の温度よりも低いという上方低温・下方高温の雰囲気を形成できる。
上方低温・下方高温の雰囲気により、高温側の原料7から昇華ガス9が発生し、昇華ガス9が低温側の凝縮部8の近傍に拡散して輸送される。そして、昇華ガス9は、上方低温・下方高温の雰囲気によって過飽和状態となるので、凝縮部8の上に凝縮する。このような過程が継続することにより、凝縮部8の上に原料7の単結晶が成長する。
このような熱処理工程において、加熱ゾーン90を上仕切り51で上加熱ゾーン91と中間加熱ゾーン92とに仕切ることによって、中間加熱ゾーン92で発生した対流6が、上加熱ゾーン91に流入することを防止できる。加熱ゾーン90を下仕切り52で中間加熱ゾーン92と下加熱ゾーン93とに仕切ることによって、下加熱ゾーン93で発生した対流6が、中間加熱ゾーン92に流入することを防止できる。したがって、加熱ゾーン90における広範な対流6が、上仕切り51および下仕切り52によって妨げられるので、対流6の影響を抑制して、加熱ゾーン90(すなわち、容器10)において上部温度を下部温度よりも低くできる。
また、断熱ゾーン95を上断熱仕切り61で上断熱ゾーン96と中間断熱ゾーン97とに仕切ることによって、中間断熱ゾーン97で発生した対流6が、上断熱ゾーン96に流入することを防止できる。断熱ゾーン95を下断熱仕切り62で中間断熱ゾーン97と下断熱ゾーン98とに仕切ることによって、下断熱ゾーン98で発生した対流6が、中間断熱ゾーン97に流入することを防止できる。したがって、断熱ゾーン95における広範な対流6が、上断熱仕切り61および下断熱仕切り62によって妨げられるので、対流6の影響を抑制して、断熱ゾーン95(すなわち、ケーシング20)において上部温度を下部温度よりも低くできる。このように、加熱ゾーン90における対流6を防止するだけでなく、加熱ゾーン90の外側に位置する断熱ゾーン95における対流6を防止するという二重の対流防止構造を備えることで、対流抑制炉1における対流防止効果をより高めることができる。
〔第2実施形態〕
図2を参照しながら、第2実施形態に係る対流抑制炉1を説明する。図2は、第2実施形態に係る対流抑制炉1を模式的に説明する断面図である。
第2実施形態に係る対流抑制炉1では、断熱ハウジング30が放熱構造31を備えることを特徴とする。
図2に示すように、断熱ハウジング30の上部には、放熱構造31が設けられる。放熱構造31は、放熱壁部36と駆動手段80とを備える。
放熱壁部36は、ボックス形状で突出しており、突出側壁部37と突出上壁部38とを有する。突出側壁部37は、断熱ハウジング30のハウジング上部34の内側端から上方に延在して、ケーシング20を覆うハウジング側部33やハウジング上部34やハウジング底部35よりも肉厚が薄いように構成される。突出上壁部38は、突出側壁部37の上部から横方向に延在して、ハウジング側部33やハウジング上部34やハウジング底部35よりも肉厚が薄くて突出側壁部37とほぼ同じ厚みを有するように構成される。肉厚が薄い放熱壁部36(突出側壁部37および突出上壁部38)は、放熱部として働く。
断熱上壁部83および上蓋部28は、放熱壁部36の内部に配設されて、駆動手段80によって上下方向に移動可能であるように構成される。炉殻40の上部には、駆動手段80が配設される。駆動手段80は、シリンダ81およびピストンロッド82を有する。ピストンロッド82の下端には、断熱上壁部83が取り付けられる。
断熱上壁部83は、例えば、断熱ハウジング30と同じ材質からなり、断熱ハウジング30のハウジング上部34とほぼ同じ肉厚を有する。断熱上壁部83は、ケーシング20のケーシング上部24の上に載置可能であるように寸法構成される。
断熱上壁部83の下面には、上蓋部28が取り付けられる。上蓋部28は、例えば、ケーシング20と同じ材質からなり、ケーシング20のケーシング上部24とほぼ同じ肉厚を有し、ケーシング上部24に形成されるケーシング開口22を閉じるように寸法構成される。
シリンダ81によって、断熱上壁部83および上蓋部28を上下方向に移動させることができる。断熱上壁部83および上蓋部28が下方の閉位置に位置する場合、上蓋部28がケーシング20のケーシング開口22を閉じるとともに断熱上壁部83がケーシング上部24の上に載置される。閉位置では、対流6が放熱壁部36の内部に漏れ出ることを防止して、上加熱ゾーン91の温度が必要以上に低下することを防止できる。
断熱上壁部83および上蓋部28が上方の開位置に位置する場合、上蓋部28がケーシング20のケーシング開口22を開くとともに、断熱上壁部83がケーシング上部24から離れる。開位置では、対流6が放熱壁部36の内部に漏れ出て、肉厚が薄い放熱壁部36を通じて対流抑制炉1の外に放熱されることにより、上加熱ゾーン91の温度をより低下させることができる。なお、断熱上壁部83および上蓋部28が上方に移動する移動高さを調整して、ケーシング20のケーシング開口22での開き度合いを調整することによって、上加熱ゾーン91における温度低下度合いを調整できる。
〔第3実施形態〕
図3を参照しながら、第3実施形態に係る対流抑制炉1を説明する。図3は、第3実施形態に係る対流抑制炉1を模式的に説明する断面図である。
第1実施形態および第2実施形態では、加熱ゾーン90および断熱ゾーン95において二重の対流防止構造を備えるが、第3実施形態に係る対流抑制炉1は、この発明を実現するために必要最低限となる構成を示し、一つの仕切り50が容器10とケーシング20との間に配設されることを特徴とする。
第3実施形態に係る対流抑制炉1では、一つの仕切り50を容器10の上下方向のほぼ中央に配設して、加熱ゾーン90を仕切り50で上加熱ゾーン(第1加熱ゾーン)91と下加熱ゾーン(第2加熱ゾーン)93とに仕切っている。仕切り50は、容器10の外側側面17とケーシング20の内側側面26とに近接するように構成される。
上ヒータ71と下ヒータ73とに電流を流す抵抗加熱によって、容器10の温度を昇華温度付近の所定温度まで加熱すると、加熱ゾーン90において対流6が発生する。しかしながら、加熱ゾーン90を仕切り50で上加熱ゾーン91と下加熱ゾーン93とに仕切ることによって、下加熱ゾーン93で発生した対流6が、上加熱ゾーン91に流入することを防止できる。したがって、加熱ゾーン90における広範な対流6が、仕切り50によって妨げられるので、対流6の影響を抑制して、加熱ゾーン90(すなわち、容器10)において上部温度を下部温度よりも低くできる。
このように、一つの仕切り50で加熱ゾーン90における対流6の影響を抑制することによって、加熱ゾーン90(すなわち、容器10)において上部温度を下部温度よりも低くするだけでもよい。これにより、容器10の内部における上方低温・下方高温の雰囲気を、簡単に且つ低コストで実現できる。
〔第4実施形態〕
図4を参照しながら、第4実施形態に係る対流抑制炉1を説明する。図4は、第4実施形態に係る対流抑制炉1の要部を模式的に説明する断面図である。
第4実施形態に係る対流抑制炉1は、容器10の外側側面17と仕切り50の係合穴54とが、テーパー形状によって係合することを特徴とする。
第4実施形態に係る対流抑制炉1では、加熱ゾーン90を仕切り50で上加熱ゾーン(第1加熱ゾーン)91と下加熱ゾーン(第2加熱ゾーン)93とに仕切っている。そして、容器10の容器側部13の外側側面17が上から下に向けて先細のテーパー形状を有するとともに、仕切り50に形成される係合穴54の内側側面55は、上から下に向けて先細のテーパー形状を有する。係合穴54の内側側面55は、容器側部13の外側側面17とテーパー形状で係合して、容器側部13が係合穴54で支持される。上下方向に対する外側側面17や内側側面55のテーパー角度は、例えば1度~30度であり、好ましくは3度~25度であり、より好ましくは5度~20度である。
テーパー形状での係合により、容器側部13の外側側面17と係合穴54の内側側面55との間での密着状態を実現でき、容器側部13と係合穴54との間で形成される隙間を閉じやすくなるので、下加熱ゾーン(第2加熱ゾーン)93における対流6が上加熱ゾーン(第1加熱ゾーン)91に漏れ出ることを防止して、加熱ゾーン90(すなわち、容器10)において上部温度を下部温度よりも低くできる。また、係合穴54に対する高い加工精度が不要になるので、隙間の閉構造を簡単に且つ低コストで実現できる。
この発明の具体的な実施の形態について説明したが、この発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、この発明の範囲内で種々変更して実施することができる。
上記実施の形態の対流抑制炉1では、加熱手段70として抵抗加熱体を用いた抵抗加熱炉を例示したが、誘導加熱コイルを用いた高周波誘導加熱炉とすることもできる。
上記実施の形態では、原料7として、炭化ケイ素を例示したが、窒化アルミニウム、窒化ガリウム、窒化アルミニウムガリウムなどの半導体材料の結晶成長にも適用可能である。
上記実施の形態では、容器10として、黒鉛製のものを例示したが、原料7に応じて、タングステン製のものや炭化タンタル製のものを適宜に用いることができる。
上記実施の形態では、加熱ゾーン90や断熱ゾーン95において上部温度を下部温度よりも低くする態様を例示したが、加熱ゾーン90や断熱ゾーン95における温度をできるだけ均一にする態様にも適用可能である。
上記実施の形態では、横方向に延在する仕切り50および断熱仕切り60が、ほぼ水平方向に延在する態様を例示したが、水平方向に対して鋭角で斜めに延在する態様とすることもできる。
この発明および実施形態をまとめると、次のようになる。
この発明の第1態様に係る、対流抑制炉1は、
原料7を収容する容器10と、
前記容器10を覆うケーシング20と、
横方向に延在して、前記容器10と前記ケーシング20との間で形成される加熱ゾーン90を上下方向に仕切る仕切り50とを備え、
前記仕切り50は、前記容器10の外側側面17および前記ケーシング20の内側側面26のそれぞれに近接するように構成されることを特徴とする。
上記態様によれば、加熱ゾーン90における広範な対流6が、仕切り50によって妨げられ、対流6の影響を抑制できるので、上ヒータ71の温度を下ヒータ」73の温度よりも低く制御して、加熱ゾーン90において上部温度を下部温度よりも低くでき、容器10の内部における上部温度を下部温度よりも低くできる。
また、第2態様に係る対流抑制炉1は、上記第1態様において、
前記ケーシング20を覆う断熱ハウジング30と、
横方向に延在して、前記ケーシング20と前記断熱ハウジング30との間で形成される断熱ゾーン95を上下方向に仕切る断熱仕切り60とをさらに備え、
前記断熱仕切り60は、前記ケーシング20の外側側面27および前記断熱ハウジング30の内側側面39のそれぞれに近接する。
上記態様によれば、断熱ゾーン95における広範な対流6が、断熱仕切り60によって妨げられるので、対流6の影響を抑制して、断熱ゾーン95において上部温度を下部温度よりも低くできる。
また、第3態様に係る対流抑制炉1は、上記第1態様または上記第2態様において、
前記加熱ゾーン90が、前記仕切り50によって第1加熱ゾーン91;92と第2加熱ゾーン92;93とに分割され、
前記第1加熱ゾーン91;92の温度と前記第2加熱ゾーン92;93の温度とが別個独立に制御される。
上記態様によれば、第1加熱ゾーン91;92および第2加熱ゾーン92;93の各温度を高精度に制御できる。
また、第4態様に係る対流抑制炉1は、上記第3態様において、
前記第1加熱ゾーン91;92は、前記第2加熱ゾーン92;93よりも上方に位置して、
前記第1加熱ゾーン91;92の温度が前記第2加熱ゾーン92;93の温度よりも低くなるように制御される。
上記態様によれば、第1加熱ゾーン91;92の温度が第2加熱ゾーン92;93の温度よりも所定温度で低くなり、容器10の内部において上方低温・下方高温の雰囲気を形成できる。
また、第5態様に係る対流抑制炉1は、上記第2態様において、
前記ケーシング20は、その上部において、開閉可能な上蓋部28を有し、
前記断熱ハウジング30は、前記上蓋部28を上下方向に移動させることを可能にするための放熱壁部36を有し、
前記放熱壁部36での肉厚は、前記ケーシング20を覆う部分での肉厚よりも薄い。
上記態様によれば、肉厚が薄い放熱壁部36を通じて放熱されることにより、第1加熱ゾーン91の温度をより低下させることができる。
また、第6態様に係る対流抑制炉1は、上記第1態様から上記第5態様のいずれか1つにおいて、
前記容器10の前記外側側面17は、上から下に向けて先細のテーパー形状を有し、
前記仕切り50は、上から下に向けて先細のテーパー形状を有する係合穴54を備え、
前記容器10の前記外側側面17と前記仕切り50の前記係合穴54とが係合する。
上記態様によれば、容器10の外側側面17と係合穴54との間での密着性が向上して、容器側部13と係合穴54との間での隙間を閉じやすくなるので、第2加熱ゾーン93における対流6が第1加熱ゾーン91に漏れ出ることを防止して、容器10における上部温度を下部温度よりも低くできる。また、係合穴54に対する高い加工精度が不要になるので、隙間の閉構造を簡単に且つ低コストで実現できる。
1…対流抑制炉
5…第1脚
6…対流
7…原料
8…凝縮部
9…昇華ガス
10…容器
11…容器本体
12…蓋体
13…容器側部
15…容器底部
17…外側側面
20…ケーシング
22…ケーシング開口
23…ケーシング側部
24…ケーシング上部
25…ケーシング底部
26…内側側面
27…外側側面
28…上蓋部
29…第2脚
30…断熱ハウジング
31…放熱構造
33…ハウジング側部
34…ハウジング上部
35…ハウジング底部
36…放熱壁部
37…突出側壁部
38…突出上壁部
39…内側側面
40…炉殻
41…炉殻上部
50…仕切り
51…上仕切り
52…下仕切り
54…係合穴
55…内側側面
60…断熱仕切り
61…上断熱仕切り
62…下断熱仕切り
70…加熱手段
71…上ヒータ(第1加熱部)
72…中間ヒータ(第2加熱部、第1加熱部)
73…下ヒータ(第2加熱部)
74…底ヒータ
80…駆動手段
81…シリンダ
82…ピストンロッド
83…断熱上壁部
90…加熱ゾーン
91…上加熱ゾーン(第1加熱ゾーン)
92…中間加熱ゾーン(第2加熱ゾーン、第1加熱ゾーン)
93…下加熱ゾーン(第2加熱ゾーン)
95…断熱ゾーン
96…上断熱ゾーン(第1断熱ゾーン)
97…中間断熱ゾーン(第2断熱ゾーン、第1断熱ゾーン)
98…下断熱ゾーン(第2断熱ゾーン)

Claims (5)

  1. 原料を収容する容器と、
    前記容器を覆うケーシングと、
    横方向に延在して、前記容器と前記ケーシングとの間で形成される加熱ゾーンを上下方向に仕切る仕切りとを備え、
    前記仕切りは、前記容器の外側側面および前記ケーシングの内側側面のそれぞれに近接し、
    前記ケーシングを覆う断熱ハウジングと、
    横方向に延在して、前記ケーシングと前記断熱ハウジングとの間で形成される断熱ゾーンを上下方向に仕切る断熱仕切りとをさらに備え、
    前記断熱仕切りは、前記ケーシングの外側側面および前記断熱ハウジングの内側側面のそれぞれに近接するように構成されることを特徴とする、対流抑制炉。
  2. 前記加熱ゾーンが、前記仕切りによって第1加熱ゾーンと第2加熱ゾーンとに分割され、
    前記第1加熱ゾーンの温度と前記第2加熱ゾーンの温度とが別個独立に制御されることを特徴とする、請求項1に記載の対流抑制炉。
  3. 前記第1加熱ゾーンは、前記第2加熱ゾーンよりも上方に位置して、
    前記第1加熱ゾーンの温度が前記第2加熱ゾーンの温度よりも低くなるように制御されることを特徴とする、請求項に記載の対流抑制炉。
  4. 前記ケーシングは、その上部において、開閉可能な上蓋部を有し、
    前記断熱ハウジングは、前記上蓋部を上下方向に移動させることを可能にするための放熱壁部を有し、
    前記放熱壁部での肉厚は、前記ケーシングを覆う部分での肉厚よりも薄いことを特徴とする、請求項に記載の対流抑制炉。
  5. 前記容器の前記外側側面は、上から下に向けて先細のテーパー形状を有し、
    前記仕切りは、上から下に向けて先細のテーパー形状を有する係合穴を備え、
    前記容器の前記外側側面と前記仕切りの前記係合穴とが係合することを特徴とする、請求項1に記載の対流抑制炉。
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JP2011026161A (ja) 2009-07-23 2011-02-10 Fujikura Ltd 窒化物単結晶とその製造装置
JP2013075789A (ja) 2011-09-30 2013-04-25 Fujikura Ltd 化合物半導体単結晶の製造装置および製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009091186A (ja) 2007-10-05 2009-04-30 Sumitomo Electric Ind Ltd 窒化アルミニウム結晶の成長方法および結晶成長装置
JP2011026161A (ja) 2009-07-23 2011-02-10 Fujikura Ltd 窒化物単結晶とその製造装置
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