JP7369008B2 - Conductive paste and laminated electronic components - Google Patents

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Description

この開示は、ガラス粉末を含む導電性ペースト、およびそれを用いて形成された外部電極を備えた積層型電子部品に関する。 This disclosure relates to a conductive paste containing glass powder and a laminated electronic component including an external electrode formed using the conductive paste.

積層セラミックコンデンサなどの積層型電子部品の外部電極は、一般に積層体の表面に形成された下地電極層と、下地電極層上に付与されためっき層とを含む。下地電極層は、CuおよびNiなどの導電性粉末と、ガラス粉末と、有機材料とを備える導電性ペーストの焼き付けにより形成される焼結体層であることが多い。ここで、めっき層の厚みは極めて薄いため、外部電極の厚みは、下地電極層の厚みに影響される。 External electrodes of multilayer electronic components such as multilayer ceramic capacitors generally include a base electrode layer formed on the surface of a laminate and a plating layer provided on the base electrode layer. The base electrode layer is often a sintered body layer formed by baking a conductive paste comprising conductive powder such as Cu and Ni, glass powder, and an organic material. Here, since the thickness of the plating layer is extremely thin, the thickness of the external electrode is influenced by the thickness of the base electrode layer.

例えば、積層セラミックコンデンサの小型大容量化を進めるための一手段として、外部電極の厚みをできるだけ薄くし、静電容量を発現する積層体の体積を大きくすることが挙げられる。そのためには、下地電極層の厚みを薄くする必要がある。一方、下地電極層を薄くすると、外部から水分が浸入しやすくなる虞がある。導電性ペースト中のガラス粉末は、導電性粉末の焼結性を向上させ、外部からの水分の浸入を抑制できる、すなわち耐湿性の高い下地電極層を得るために添加されている。 For example, one way to make multilayer ceramic capacitors smaller and larger in capacity is to reduce the thickness of the external electrodes as much as possible and increase the volume of the laminate that exhibits capacitance. For this purpose, it is necessary to reduce the thickness of the base electrode layer. On the other hand, if the base electrode layer is made thinner, there is a possibility that moisture may easily enter from the outside. The glass powder in the conductive paste is added to improve the sinterability of the conductive powder and to suppress the intrusion of moisture from the outside, that is, to obtain a base electrode layer with high moisture resistance.

ガラス粉末の成分としては、BおよびSiの酸化物を網目形成酸化物とし、アルカリ金属元素の酸化物およびアルカリ土類金属元素の酸化物を網目修飾酸化物として含むホウケイ酸系ガラス組成物が用いられることが多い。アルカリ土類金属元素の酸化物は、導電性ペーストの焼き付け時に上記のガラス組成物と積層体との反応を抑制するために添加されている。上記のようなホウケイ酸系ガラス組成物が用いられたガラス粉末を含む導電性ペーストの一例として、国際公開第2017/057246号(特許文献1)に記載された導電性ペーストが挙げられる。 As a component of the glass powder, a borosilicate glass composition containing oxides of B and Si as network-forming oxides and oxides of alkali metal elements and alkaline earth metal elements as network-modifying oxides is used. This is often the case. The oxide of the alkaline earth metal element is added to suppress the reaction between the glass composition and the laminate during baking of the conductive paste. An example of a conductive paste containing glass powder using the borosilicate-based glass composition as described above is the conductive paste described in International Publication No. 2017/057246 (Patent Document 1).

国際公開第2017/057246号International Publication No. 2017/057246

ところで、ホウケイ酸系ガラス組成物には、3配位のBおよび4配位のBが含まれている。アルカリ土類金属元素を含むホウケイ酸系ガラス組成物中のBは、3配位を取りやすくなる。この3配位のBが増加すると、導電性ペーストの焼き付けにより形成された下地電極層の耐湿性が下がる虞がある。しかしながら、特許文献1には、ホウケイ酸系ガラス組成物中の3配位のBと4配位のBとの比率、およびその比率と耐湿性との関係については、何ら言及されていない。 By the way, the borosilicate glass composition contains three-coordinated B and four-coordinated B. B in a borosilicate glass composition containing an alkaline earth metal element tends to be three-coordinated. If this tricoordinate B increases, there is a possibility that the moisture resistance of the base electrode layer formed by baking the conductive paste may decrease. However, Patent Document 1 does not mention anything about the ratio of 3-coordinated B to 4-coordinated B in a borosilicate-based glass composition, and the relationship between that ratio and moisture resistance.

この開示の目的は、Bの配位数に着目し、焼き付けにより耐湿性の高い下地電極層を得ることができる導電性ペースト、およびそれを用いて形成された下地電極層を含む外部電極を備えた積層型電子部品を提供することである。 The purpose of this disclosure is to focus on the coordination number of B, and to provide a conductive paste that can obtain a base electrode layer with high moisture resistance by baking, and an external electrode including a base electrode layer formed using the conductive paste. The object of the present invention is to provide a laminated electronic component.

この開示に係る導電性ペーストは、CuおよびNiの中から選ばれる少なくとも1種類の元素を含む導電性粉末と、ガラス粉末と、有機材料とを備える。ガラス粉末は、ホウケイ酸系ガラス組成物を含む。そして、ホウケイ酸系ガラス組成物に含まれる元素の量をモル%で表した場合、4配位のBの量をCB4とし、3配位のBの量をCB3としたとき、CB4/(CB4+CB3)で表される4配位のBの存在比RB4が0.35≦RB4≦0.80を満たす。 The conductive paste according to this disclosure includes a conductive powder containing at least one element selected from Cu and Ni, a glass powder, and an organic material. The glass powder includes a borosilicate glass composition. When the amount of elements contained in the borosilicate glass composition is expressed in mol%, the amount of 4-coordinate B is C B4 , the amount of 3-coordinate B is C B3 , C B4 The abundance ratio R B4 of four - coordinated B expressed as /(C B4 +C B3 ) satisfies 0.35≦R B4 ≦0.80.

この開示に係る積層型電子部品は、積層された複数の誘電体層と複数の内部電極層とを含む積層体と、積層体の外表面上の互いに異なる位置に形成され、かつ内部電極層に電気的に接続される、複数の外部電極とを備える。外部電極は、CuおよびNiの中から選ばれる少なくとも1種類の元素を含む導電性領域と、ホウケイ酸ガラス組成物を含むガラス領域とを有する下地電極層を含む。そして、ホウケイ酸系ガラス組成物に含まれる元素の量をモル%で表した場合、4配位のBの量をCB4とし、3配位のBの量をCB3としたとき、CB4/(CB4+CB3)で表される4配位のBの存在比RB4が0.35≦RB4≦0.80を満たす。 A laminated electronic component according to this disclosure includes a laminated body including a plurality of laminated dielectric layers and a plurality of internal electrode layers, and a laminated body formed at mutually different positions on the outer surface of the laminated body, and a plurality of internal electrode layers. It includes a plurality of external electrodes that are electrically connected. The external electrode includes a base electrode layer having a conductive region containing at least one element selected from Cu and Ni and a glass region containing a borosilicate glass composition. When the amount of elements contained in the borosilicate glass composition is expressed in mol%, the amount of 4-coordinate B is C B4 , the amount of 3-coordinate B is C B3 , C B4 The abundance ratio R B4 of four - coordinated B expressed as /(C B4 +C B3 ) satisfies 0.35≦R B4 ≦0.80.

この開示に係る導電性ペーストは、耐湿性の高い下地電極層を得ることができる。また、この開示に係る積層型電子部品は、耐湿性の高い下地電極層を含む外部電極を備えることができる。 The conductive paste according to this disclosure can provide a base electrode layer with high moisture resistance. Further, the laminated electronic component according to this disclosure can include an external electrode including a base electrode layer with high moisture resistance.

この開示に係る導電性ペーストの実施形態である導電性ペースト1の模式図である。1 is a schematic diagram of a conductive paste 1 which is an embodiment of a conductive paste according to this disclosure. ホウケイ酸系ガラス組成物のBに着目したNMRスペクトルの実測例である。This is an actual measurement example of an NMR spectrum focusing on B of a borosilicate glass composition. ホウケイ酸系ガラス組成物のBに着目したNMRスペクトルのシミュレーションにより信号分離を行なった結果である。These are the results of signal separation performed by simulation of the NMR spectrum focusing on B of the borosilicate glass composition. この開示に係る積層型電子部品の実施形態である積層セラミックコンデンサ100の断面図である。1 is a cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor 100 that is an embodiment of a multilayer electronic component according to this disclosure. 積層セラミックコンデンサ100の第1の外部電極14aの第1の下地電極層14a1の微細構造を説明するための断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining the fine structure of the first base electrode layer 14a 1 of the first external electrode 14a of the multilayer ceramic capacitor 100. B中のCB4が既知であるリファレンス材料から得られた走査型透過X線顕微鏡(Scanning Transmission X-ray Microscope:以後、STXMと略称することがある)スペクトルである。This is a scanning transmission X-ray microscope (hereinafter sometimes abbreviated as STXM) spectrum obtained from a reference material in which C B4 in B is known. B中のCB4が既知であるリファレンス材料から得られたSTXMスペクトルのA/B比とCB4との関係を表すグラフである。It is a graph showing the relationship between the A/B ratio and C B4 of the STXM spectrum obtained from a reference material in which C B4 in B is known.

この開示の特徴とするところを、図面を参照しながら説明する。なお、以下に示す積層型電子部品の実施形態では、同一のまたは共通する部分について図中同一の符号を付し、その説明は繰り返さないことがある。 The features of this disclosure will be explained with reference to the drawings. In the embodiments of the multilayer electronic component shown below, the same or common parts are denoted by the same reference numerals in the figures, and the description thereof may not be repeated.

-導電性ペーストの実施形態-
この開示に係る導電性ペーストの実施形態を示す導電性ペースト1について、図1ないし図3を用いて説明する。
-Embodiment of conductive paste-
A conductive paste 1 showing an embodiment of the conductive paste according to this disclosure will be described using FIGS. 1 to 3.

<導電性ペーストの構成>
図1は、導電性ペースト1の模式図である。導電性ペースト1は、導電性粉末2と、ガラス粉末3と、有機材料4とを備える。
<Composition of conductive paste>
FIG. 1 is a schematic diagram of a conductive paste 1. The conductive paste 1 includes a conductive powder 2, a glass powder 3, and an organic material 4.

導電性粉末2は、CuおよびNiの中から選ばれる少なくとも1種類の元素を含む。すなわち、導電性粉末2は、CuまたはNiの金属単体のみならず、Cu合金またはNi合金を含んでいてもよい。 The conductive powder 2 contains at least one element selected from Cu and Ni. That is, the conductive powder 2 may contain not only a single metal such as Cu or Ni, but also a Cu alloy or a Ni alloy.

また、導電性粉末2の少なくとも一部の表面は、Ag、SnおよびAlの中から選ばれる少なくとも1種類の元素を含む金属層により被覆されていてもよい。上記の金属元素は、CuおよびNiより融点が低い。そのため、上記の構造を有する導電性粉末2は、焼結温度を低下させることができる。 Further, at least a portion of the surface of the conductive powder 2 may be coated with a metal layer containing at least one element selected from Ag, Sn, and Al. The above metal elements have lower melting points than Cu and Ni. Therefore, the conductive powder 2 having the above structure can lower the sintering temperature.

さらに、導電性粉末2の少なくとも一部の表面は、有機物層により被覆されていてもよい。この場合、例えば有機物層の存在により立体障害反発または静電反発などの効果が得られる。その結果、導電性粉末2が微粒であっても、導電性ペースト1中における導電性粉末2の凝集を抑制することができる。 Furthermore, at least a portion of the surface of the conductive powder 2 may be covered with an organic layer. In this case, effects such as steric hindrance repulsion or electrostatic repulsion can be obtained due to the presence of the organic layer, for example. As a result, even if the conductive powder 2 is fine particles, aggregation of the conductive powder 2 in the conductive paste 1 can be suppressed.

そして、導電性粉末2の平均粒径は、1μm以下であることが好ましい。導電性粉末2の平均粒径は、導電性粉末2の走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope:以後、SEMと略称することがある)観察像の画像解析から得られた等価円換算直径のメジアン径とした。等価円換算直径のメジアン径とは、粒径に対する積算%の分布曲線において、積算%が50%となる粒径(D50)のことである。この場合、導電性粉末2は、焼結温度を低下させることができる。 The average particle size of the conductive powder 2 is preferably 1 μm or less. The average particle size of the conductive powder 2 is the median diameter of the equivalent circular diameter obtained from image analysis of a scanning electron microscope (hereinafter sometimes abbreviated as SEM) observation image of the conductive powder 2. And so. The median diameter of the equivalent yen diameter is the particle diameter (D 50 ) at which the integrated % is 50% in the distribution curve of the integrated % with respect to the particle size. In this case, the conductive powder 2 can lower the sintering temperature.

ガラス粉末3は、この開示に係るガラス粉末である。このガラス粉末3の特徴については後述する。なお、図1では、導電性粉末2およびガラス粉末3は、模式的に球形に描かれているが、それぞれの粉末の形状はこの限りではない。例えば、導電性粉末2は、扁平形状の導電性粉末を含んでいてもよい。ガラス粉末3も、不定形状のガラス粉末を含んでいてもよい。 Glass powder 3 is a glass powder according to this disclosure. The characteristics of this glass powder 3 will be described later. In addition, although the conductive powder 2 and the glass powder 3 are schematically drawn as spherical in FIG. 1, the shape of each powder is not limited to this. For example, the conductive powder 2 may include flat conductive powder. The glass powder 3 may also contain irregularly shaped glass powder.

有機材料4は、樹脂および有機溶剤などを含むバインダー成分、ならびに分散剤およびレオロジーコントロール剤などを含む添加剤を含む。これらの成分は、導電性ペーストの有機材料として通常用いられる材料の中から適宜選択することができる。 The organic material 4 includes a binder component including a resin and an organic solvent, and additives including a dispersant, a rheology control agent, and the like. These components can be appropriately selected from materials commonly used as organic materials for conductive pastes.

ガラス粉末3は、ホウケイ酸系ガラス組成物を含む。ホウケイ酸系ガラス組成物とは、B酸化物およびSi酸化物を網目形成酸化物として含み、アルカリ金属元素酸化物およびアルカリ土類金属元素酸化物などを修飾酸化物として含むガラス組成物である。修飾酸化物は、上記以外の、例えば遷移金属元素酸化物、Zn酸化物、Al酸化物およびBi酸化物などの酸化物を含んでいてもよい。 Glass powder 3 contains a borosilicate glass composition. A borosilicate-based glass composition is a glass composition that contains B oxide and Si oxide as network-forming oxides, and contains alkali metal element oxides, alkaline earth metal element oxides, and the like as modifying oxides. The modified oxide may include oxides other than those mentioned above, such as transition metal element oxides, Zn oxides, Al oxides, and Bi oxides.

そして、ホウケイ酸系ガラス組成物に含まれる元素の量をモル%で表した場合、4配位のBの量をCB4とし、3配位のBの量をCB3としたとき、CB4/(CB4+CB3)で表される4配位のBの存在比RB4が0.35≦RB4≦0.80を満たす。 When the amount of elements contained in the borosilicate glass composition is expressed in mol%, the amount of 4-coordinate B is C B4 , the amount of 3-coordinate B is C B3 , C B4 The abundance ratio R B4 of four-coordinated B expressed as /(C B4 +C B3 ) satisfies 0.35≦R B4 ≦0.80.

ホウケイ酸系ガラス組成物のB中に含まれる4配位のBの量CB4および3配位のBの量CB3の測定は、核磁気共鳴(Nuclear Magnetic Resonance:以後、NMRと略称することがある)装置により行なわれる。 The amount of 4-coordinated B contained in B of the borosilicate glass composition C B4 and the amount of 3-coordinated B C B3 are measured by nuclear magnetic resonance (hereinafter abbreviated as NMR). (There is a)

NMRスペクトルの測定および解析について、図2および図3を用いてさらに説明する。図2は、ホウケイ酸系ガラス組成物のBに着目したNMRスペクトルの実測例である。測定条件については後述する。図3は、ホウケイ酸系ガラス組成物のBに着目したNMRスペクトルについて、シミュレーションにより信号分離を行なった結果である。 The measurement and analysis of NMR spectra will be further explained using FIGS. 2 and 3. FIG. 2 is an actual measurement example of an NMR spectrum focusing on B of a borosilicate glass composition. The measurement conditions will be described later. FIG. 3 shows the results of signal separation performed by simulation on the NMR spectrum focusing on B of the borosilicate glass composition.

ホウケイ酸系ガラス組成物中のBが、4配位のBおよび3配位のBを含むとし、4配位のBの量CB4と3配位のBの量CB3との比率を変更することにより、各比率におけるNMRのシミュレーションスペクトルが計算された(実線)。そして、図2に示されたスペクトルの実測例とのフィッティングを行ない、一致率が最大となる比率を求めることにより、4配位のBに由来する信号(一点鎖線)と3配位のB(点線)に由来する信号との分離が行なわれた。 Assuming that B in the borosilicate glass composition includes 4-coordinated B and 3-coordinated B, the ratio between the amount of 4-coordinated B, C B4 , and the amount of 3-coordinated B, C B3 , is changed. By doing so, the NMR simulation spectrum at each ratio was calculated (solid line). Then, by performing fitting with the measured example of the spectrum shown in FIG. 2 and finding the ratio that maximizes the matching rate, the signal originating from the 4-coordinate B (dotted chain line) and the 3-coordinate B ( Separation from the signal originating from the dotted line) was performed.

ここで、フィッティングは、化学シフトの-40ppmから50ppmの範囲で行なわれた。4配位のBの量CB4と3配位のBの量CB3との比率は、バックグラウンド信号を差し引いた各信号の面積強度から計算された。 Here, fitting was performed in the chemical shift range of -40 ppm to 50 ppm. The ratio between the amount of 4-coordinated B, C B4 , and the amount of 3-coordinated B, C B3 , was calculated from the area intensity of each signal after subtracting the background signal.

例えば、図2に示されたNMRスペクトルの実測例と、図3に示されたBに由来するシミュレーション結果(実線)との一致率は、化学シフトが-40ppmから50ppmの範囲で97%以上であった。そして、その際の4配位のBの量CB4は、38mol%であり、3配位のBの量CB3は、62mol%であった。 For example, the coincidence rate between the measured example of the NMR spectrum shown in Figure 2 and the simulation result derived from B shown in Figure 3 (solid line) is 97% or more in the chemical shift range of -40 ppm to 50 ppm. there were. Then, the amount C B4 of four-coordinated B was 38 mol%, and the amount C B3 of three-coordinated B was 62 mol%.

4配位のBの存在比RB4が0.35以上であるとき、ガラス粉末3に含まれるホウケイ酸系ガラス組成物中のBの安定性が向上する。言い換えると、ガラス網目構造内でのBとOとの架橋構造が安定する。したがって、ホウケイ酸系ガラス組成物中のBの、環境中に含まれる水分による溶出が抑制される。 When the abundance ratio R B4 of four-coordinated B is 0.35 or more, the stability of B in the borosilicate glass composition contained in the glass powder 3 is improved. In other words, the crosslinked structure between B and O within the glass network structure is stabilized. Therefore, the elution of B in the borosilicate glass composition due to moisture contained in the environment is suppressed.

なお、4配位のBの存在比RB4が高いほど上記の効果は大きいが、RB4が0.80を超えると、ガラス組成物としての安定性が低下する。そのため、4配位のBの存在比RB4は、実質的に0.35≦RB4≦0.80となる。 Note that the higher the abundance ratio R B4 of four-coordinated B, the greater the above effect, but when R B4 exceeds 0.80, the stability as a glass composition decreases. Therefore, the abundance ratio R B4 of four-coordinated B substantially satisfies 0.35≦R B4 ≦0.80.

この開示に係る導電性ペースト1は、上記の特徴を持つガラス粉末3を備えているため、導電性ペースト1の焼き付けにより得られた下地電極では、高い耐湿性を得ることができる。 Since the conductive paste 1 according to this disclosure includes the glass powder 3 having the above characteristics, the base electrode obtained by baking the conductive paste 1 can have high moisture resistance.

ガラス粉末3に含まれるホウケイ酸系ガラス組成物は、第1の元素Aおよび第2の元素AEを含み、第1の元素Aの量をCAとし、第2の元素AEの量をCAEとしたとき、CA+CAEが11.7≦CA+CAE≦53.4を満たすことが好ましい。ここで、第1の元素Aは、Li、NaおよびKの中から選ばれる少なくとも1種類の元素であり、第2の元素AEは、Ba、SrおよびCaの中から選ばれる少なくとも1種類の元素である。この場合、4配位のBの存在比RB4の調整を容易に行なうことができる。 The borosilicate glass composition contained in the glass powder 3 contains a first element A and a second element AE, where the amount of the first element A is C A and the amount of the second element AE is C AE It is preferable that C A +C AE satisfies 11.7≦C A +C AE ≦53.4. Here, the first element A is at least one element selected from Li, Na, and K, and the second element AE is at least one element selected from Ba, Sr, and Ca. It is. In this case, the abundance ratio R B4 of four-coordinated B can be easily adjusted.

ガラス粉末3に含まれるホウケイ酸系ガラス組成物は、上記のCAEが9.4≦CAE≦47.1を満たすことが好ましい。この場合、4配位のBの存在比RB4の調整を容易に行なうことができることに加え、導電性ペースト1の焼き付けにより得られた下地電極を備える積層セラミックコンデンサのたわみ強度を向上させることができる。 It is preferable that the borosilicate glass composition contained in the glass powder 3 satisfies the above C AE of 9.4≦C AE ≦47.1. In this case, in addition to being able to easily adjust the abundance ratio R B4 of 4-coordinate B, it is also possible to improve the deflection strength of a multilayer ceramic capacitor equipped with a base electrode obtained by baking the conductive paste 1. can.

-積層型電子部品の実施形態-
この開示に係る積層型電子部品の実施形態を示す積層セラミックコンデンサ100について、図4および図5を用いて説明する。
-Embodiment of laminated electronic component-
A multilayer ceramic capacitor 100 showing an embodiment of the multilayer electronic component according to this disclosure will be described using FIGS. 4 and 5. FIG.

図4は、積層セラミックコンデンサ100の断面図である。積層セラミックコンデンサ100は、積層体10を備えている。積層体10は、積層された複数の誘電体層11と複数の内部電極層12とを含む。複数の誘電体層11は、外層部と内層部とを有する。外層部は、積層体10の第1の主面と第1の主面に最も近い内部電極層12との間、および第2の主面と第2の主面に最も近い内部電極層12との間に配置されている。内層部は、それら2つの外層部に挟まれた領域に配置されている。 FIG. 4 is a cross-sectional view of the multilayer ceramic capacitor 100. Multilayer ceramic capacitor 100 includes a multilayer body 10. The laminate 10 includes a plurality of stacked dielectric layers 11 and a plurality of internal electrode layers 12. The plurality of dielectric layers 11 have an outer layer portion and an inner layer portion. The outer layer portion is formed between the first main surface of the laminate 10 and the internal electrode layer 12 closest to the first main surface, and between the second main surface and the internal electrode layer 12 closest to the second main surface. is placed between. The inner layer portion is arranged in a region sandwiched between the two outer layer portions.

複数の内部電極層12は、第1の内部電極層12aと第2の内部電極層12bとを有する。積層体10は、積層方向に相対する第1の主面および第2の主面と、積層方向に直交する幅方向に相対する第1の側面および第2の側面と、積層方向および幅方向に直交する長さ方向に相対する第1の端面13aおよび第2の端面13bとを有する。 The plurality of internal electrode layers 12 include a first internal electrode layer 12a and a second internal electrode layer 12b. The laminate 10 has a first main surface and a second main surface facing each other in the stacking direction, a first side surface and a second side surface facing each other in the width direction orthogonal to the stacking direction, and a first main surface and a second main surface facing each other in the stacking direction and the width direction. It has a first end surface 13a and a second end surface 13b facing each other in the orthogonal length direction.

誘電体層11は、例えばBaTiO3系のペロブスカイト型化合物を含む複数の結晶粒を有する。上記の誘電体材料としては、例えばBaTiO3系のペロブスカイト型化合物の結晶格子中のBa2+の一部が、希土類元素のイオンであるRe3+により置換されたものが挙げられる。また、BaTiO3系のペロブスカイト型化合物としては、BaTiO3、ならびにBaTiO3のBa2+およびTi4+の少なくとも一方が、Ca2+およびZr4+などの他のイオンにより置換されたものなどが挙げられる。 The dielectric layer 11 has a plurality of crystal grains containing, for example, a BaTiO 3 -based perovskite compound. Examples of the above-mentioned dielectric material include those in which a part of Ba 2+ in the crystal lattice of a BaTiO 3 -based perovskite compound is replaced by Re 3+ , which is a rare earth element ion. BaTiO 3 -based perovskite compounds include BaTiO 3 and those in which at least one of Ba 2+ and Ti 4+ of BaTiO 3 is replaced with other ions such as Ca 2+ and Zr 4+ . Can be mentioned.

第1の内部電極層12aは、誘電体層11を介して第2の内部電極層12bと互いに対向している対向電極部と、対向電極部から積層体10の第1の端面13aまでの引き出し電極部とを備えている。第2の内部電極層12bは、誘電体層11を介して第1の内部電極層12aと互いに対向している対向電極部と、対向電極部から積層体10の第2の端面13bまでの引き出し電極部とを備えている。 The first internal electrode layer 12a includes a counter electrode portion that faces the second internal electrode layer 12b through the dielectric layer 11, and a lead-out portion from the counter electrode portion to the first end surface 13a of the laminate 10. and an electrode section. The second internal electrode layer 12b includes a counter electrode portion that faces the first internal electrode layer 12a through the dielectric layer 11, and a lead-out portion from the counter electrode portion to the second end surface 13b of the laminate 10. and an electrode section.

第1の内部電極層12aと第2の内部電極層12bとが誘電体層11を介して互いに対向することにより、1つのコンデンサが形成される。積層セラミックコンデンサ100は、複数個のコンデンサが後述する第1の外部電極14aおよび第2の外部電極14bを介して並列接続されたものと言える。 One capacitor is formed by the first internal electrode layer 12a and the second internal electrode layer 12b facing each other with the dielectric layer 11 in between. The multilayer ceramic capacitor 100 can be said to have a plurality of capacitors connected in parallel via a first external electrode 14a and a second external electrode 14b, which will be described later.

内部電極層12を構成する導電性材料としては、Ni、Cu、AgおよびPdなどから選ばれる少なくとも一種の金属または当該金属を含む合金を用いることができる。内部電極層12は、後述するように共材(不図示)と呼ばれる誘電体粒子をさらに含んでいてもよい。共材は、内部電極層12の形成に用いられる内部電極層用ペーストに添加されているものであり、積層体10の焼成時に誘電体層11側に排出されるが、その一部が内部電極層12に残留することがある。 共材は、積層体10の焼成時において、内部電極層12の焼結収縮特性を誘電体層11の焼結収縮特性に近づけるために添加されるものである。 As the conductive material constituting the internal electrode layer 12, at least one metal selected from Ni, Cu, Ag, Pd, etc., or an alloy containing the metal can be used. The internal electrode layer 12 may further include dielectric particles called a common material (not shown) as described later. The common material is added to the internal electrode layer paste used to form the internal electrode layer 12, and is discharged to the dielectric layer 11 side when the laminate 10 is fired, but a part of it is added to the internal electrode layer paste. It may remain in layer 12. The co-material is added to bring the sintering shrinkage characteristics of the internal electrode layer 12 closer to the sintering shrinkage characteristics of the dielectric layer 11 when the laminate 10 is fired.

積層セラミックコンデンサ100は、第1の外部電極14aと第2の外部電極14bとをさらに備えている。第1の外部電極14aは、第1の内部電極層12aと電気的に接続されるように積層体10の第1の端面13aに形成され、第1の端面13aから第1の主面および第2の主面ならびに第1の側面および第2の側面に延びている。第2の外部電極14bは、第2の内部電極層12bと電気的に接続されるように積層体10の第2の端面13bに形成され、第2の端面13bから第1の主面および第2の主面ならびに第1の側面および第2の側面に延びている。 Multilayer ceramic capacitor 100 further includes a first external electrode 14a and a second external electrode 14b. The first external electrode 14a is formed on the first end surface 13a of the laminate 10 so as to be electrically connected to the first internal electrode layer 12a, and extends from the first end surface 13a to the first main surface and the first main surface. 2 and the first side and second side. The second external electrode 14b is formed on the second end surface 13b of the laminate 10 so as to be electrically connected to the second internal electrode layer 12b, and extends from the second end surface 13b to the first main surface and the first main surface. 2 and the first side and second side.

第1の外部電極14aは、第1の下地電極層14a1と第1の下地電極層14a1上に配置された第1のめっき層14a2とを有する。第1の下地電極層14a1は、CuおよびNiの中から選ばれる少なくとも1種類の元素を含む導電性領域15a1と、ホウケイ酸系ガラス組成物を含むガラス領域16a1とを有する焼結体層(後述)を有する。第1の下地電極層14a1は、この開示に係る導電性ペースト1の焼き付けにより形成されてもよい。 The first external electrode 14a includes a first base electrode layer 14a 1 and a first plating layer 14a 2 disposed on the first base electrode layer 14a 1 . The first base electrode layer 14a 1 is a sintered body having a conductive region 15a 1 containing at least one element selected from Cu and Ni, and a glass region 16a 1 containing a borosilicate glass composition. It has layers (described below). The first base electrode layer 14a 1 may be formed by baking the conductive paste 1 according to this disclosure.

同様に、第2の外部電極14bは、第2の下地電極層14b1と第2の下地電極層14b1上に配置された第2のめっき層14b2とを有する。第2の下地電極層14b1は、CuおよびNiの中から選ばれる少なくとも1種類の元素を含む導電性領域と、ホウケイ酸系ガラス組成物を含むガラス領域とを有する焼結体層を有する(第2の下地電極層14b1の微細構造は不図示)。第2の下地電極層14b1も、この開示に係る導電性ペースト1の焼き付けにより形成されてもよい。 Similarly, the second external electrode 14b includes a second base electrode layer 14b 1 and a second plating layer 14b 2 disposed on the second base electrode layer 14b 1 . The second base electrode layer 14b 1 has a sintered body layer having a conductive region containing at least one element selected from Cu and Ni and a glass region containing a borosilicate glass composition ( The fine structure of the second base electrode layer 14b 1 is not shown). The second base electrode layer 14b 1 may also be formed by baking the conductive paste 1 according to this disclosure.

図5は、第1の下地電極層14a1の微細構造を説明するための断面図である。第2の下地電極層14b1は、第1の下地電極層14a1と同様の構造を有しているため、以後の説明を省略する。 FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining the fine structure of the first base electrode layer 14a 1 . The second base electrode layer 14b 1 has the same structure as the first base electrode layer 14a 1 , so further explanation will be omitted.

第1の下地電極層14a1が有する焼結体層は、上記のように導電性領域15a1とガラス領域16a1とを含む。第1の下地電極層14a1がこの開示に係る導電性ペースト1の焼き付けにより形成された場合、導電性領域15a1は、導電性ペースト1が備える導電性粉末2が焼結した金属焼結体を含んでいる。同様に、ガラス領域16a1は、ガラス粉末3に由来するガラス成分、すなわちホウケイ酸系ガラス組成物を含んでいる。なお、焼結体層は、異なる成分で複数層形成されていてもよい。 The sintered body layer of the first base electrode layer 14a 1 includes the conductive region 15a 1 and the glass region 16a 1 as described above. When the first base electrode layer 14a 1 is formed by baking the conductive paste 1 according to this disclosure, the conductive region 15a 1 is a metal sintered body in which the conductive powder 2 included in the conductive paste 1 is sintered. Contains. Similarly, the glass region 16a 1 contains a glass component derived from the glass powder 3, that is, a borosilicate glass composition. Note that the sintered body layer may be formed of a plurality of layers with different components.

第1の下地電極層14a1上に配置された第1のめっき層14a2を構成する金属としては、Ni、Cu、Ag、AuおよびSnなどから選ばれる少なくとも一種または当該金属を含む合金を用いることができる。当該めっき層は、異なる成分で複数層形成されていてもよい。好ましくは、Niめっき層およびSnめっき層の2層である。 As the metal constituting the first plating layer 14a 2 disposed on the first base electrode layer 14a 1 , at least one selected from Ni, Cu, Ag, Au, Sn, etc. or an alloy containing the metal is used. be able to. The plating layer may be formed of a plurality of layers of different components. Preferably, there are two layers: a Ni plating layer and a Sn plating layer.

Niめっき層は、下地電極層上に配置され、積層型電子部品を実装する際に、下地電極層がはんだによって侵食されることを防止することができる。Snめっき層は、Niめっき層上に配置される。Snめっき層は、Snを含むはんだとの濡れ性がよいため、積層型電子部品を実装する際に、実装性を向上させることができる。なお、これらのめっき層は、必須ではない。 The Ni plating layer is disposed on the base electrode layer, and can prevent the base electrode layer from being eroded by solder when mounting the multilayer electronic component. The Sn plating layer is placed on the Ni plating layer. Since the Sn plating layer has good wettability with solder containing Sn, it is possible to improve mounting performance when mounting a multilayer electronic component. Note that these plating layers are not essential.

そして、ガラス領域16a1におけるホウケイ酸系ガラス組成物に含まれる元素の量をモル%で表した場合、4配位のBの量をCB4とし、3配位のBの量をCB3としたとき、CB4/(CB4+CB3)で表される4配位のBの存在比RB4が0.35≦RB4≦0.80を満たす。上述したように、第2の下地電極層14b1におけるガラス領域も、同様の特徴を有している。 When the amount of elements contained in the borosilicate glass composition in the glass region 16a1 is expressed in mol%, the amount of 4-coordinated B is C B4 , and the amount of 3-coordinated B is C B3 . Then, the abundance ratio R B4 of four-coordinated B expressed by C B4 / ( C B4 +C B3 ) satisfies 0.35≦R B4 ≦0.80. As described above, the glass region in the second base electrode layer 14b 1 also has similar characteristics.

ホウケイ酸系ガラス組成物のB中に含まれる4配位のBの量CB4および3配位のBの量CB3の測定は、走査型透過X線顕微鏡(STXM)により行なわれる。STXMは、薄片化された試料を動かすことにより、細く絞られたX線ビームが試料上で相対的にスキャンされた際の透過信号を検出する装置である。透過信号とは、通常、透過X線強度を指す。ここで、透過X線強度と入射X線強度との比を取れば、容易に吸収強度を得ることができる。すなわち、測定エネルギー範囲とエネルギーステップ条件とに基づいてそれぞれのエネルギーの強度が計測された複数の2次元吸収像を得て、それらを重ね合わせることにより、STXMスペクトルが得られる。 The amount C B4 of four-coordinated B and the amount C B3 of three-coordinated B contained in B of the borosilicate glass composition are measured using a scanning transmission X-ray microscope (STXM). The STXM is a device that detects transmitted signals when a finely focused X-ray beam is scanned relative to the sample by moving a thin sectioned sample. Transmission signal usually refers to transmitted X-ray intensity. Here, by taking the ratio of the transmitted X-ray intensity and the incident X-ray intensity, the absorption intensity can be easily obtained. That is, an STXM spectrum is obtained by obtaining a plurality of two-dimensional absorption images whose respective energy intensities are measured based on the measurement energy range and energy step conditions, and superimposing them.

例えば、測定開始エネルギーEA(eV)から測定終了エネルギーEB(eV)までの測定エネルギー範囲は、設定されたエネルギーステップ幅(eV)によりC個のエネルギーステップに区分される。そして、それぞれのエネルギーステップで吸収強度を測定することにより、C個の2次元吸収像が得られる。なお、エネルギーステップ幅は、測定エネルギー範囲内で変更されてもよい。得られたC個の吸収画像を重ね合わせることにより、STXMスペクトルが得られる。このSTXMスペクトルを解析することにより、試料の化学結合状態に関する情報を得ることができる。 For example, the measurement energy range from the measurement start energy E A (eV) to the measurement end energy E B (eV) is divided into C energy steps according to the set energy step width (eV). Then, by measuring the absorption intensity at each energy step, C two-dimensional absorption images are obtained. Note that the energy step width may be changed within the measurement energy range. An STXM spectrum is obtained by superimposing the C obtained absorption images. By analyzing this STXM spectrum, information regarding the chemical bonding state of the sample can be obtained.

STXMスペクトルの測定および解析について、図6および図7を用いてさらに説明する。図6は、ホウケイ酸系ガラス組成物におけるB中のCB4が既知であるリファレンス材料から得られたSTXMスペクトルである。測定条件については後述する。 The measurement and analysis of the STXM spectrum will be further explained using FIGS. 6 and 7. FIG. 6 is an STXM spectrum obtained from a reference material in which C B4 in B in a borosilicate glass composition is known. The measurement conditions will be described later.

STXMでは、光源(X線源)に放射光が用いられるので、入射X線の光子エネルギー(波長)を容易に変化させることができる。試料を構成する元素の内核電子のイオン化エネルギーの近傍で入射X線の光子エネルギーを変化させると、ある閾値以上でX線の吸収が増大する、この閾値がいわゆる吸収端である。さらに、この吸収端の近傍でX線の吸収強度を詳細に見ると、着目元素の化学結合状態に応じて、吸収スペクトルに固有の構造が現れる。この固有の構造を、X線吸収微細構造(X-ray Absorption Fine Structure:以後、XAFSと略称することがある)という。 In STXM, since synchrotron radiation is used as a light source (X-ray source), the photon energy (wavelength) of incident X-rays can be easily changed. When the photon energy of incident X-rays is changed in the vicinity of the ionization energy of the core electrons of the elements constituting the sample, absorption of X-rays increases above a certain threshold value, and this threshold value is the so-called absorption edge. Furthermore, when examining the X-ray absorption intensity in detail near this absorption edge, a unique structure appears in the absorption spectrum depending on the chemical bonding state of the element of interest. This unique structure is called an X-ray absorption fine structure (hereinafter sometimes abbreviated as XAFS).

この開示では、各試料から得られたXAFSが現れているスペクトルが、STXMスペクトルと呼称される。STXMは、このSTXMスペクトルが着目元素の化学結合状態に応して変化することを利用して、微小部での化学状態を解明するために用いられる。 In this disclosure, the spectrum in which the XAFS obtained from each sample appears is referred to as the STXM spectrum. STXM is used to elucidate the chemical state in a minute part by utilizing the fact that this STXM spectrum changes depending on the chemical bonding state of the element of interest.

BのK吸収端のSTXMスペクトルは、ピーク分離を行なうことにより、B-O配位構造のπ*結合およびσ*結合によるピークを含むことが分かる。図6のSTXMスペクトルは、194eV近傍のEnergy Aと記載された尖塔形状のπ*ピークと、198eV近傍のEnergy Bおよび203eV近傍のEnergy Cと記載されたブロードなσ*ピークとを含んでいる。なお、図6のSTXMスペクトルは、それら以外のブロードなピークも含んでいるが、以下の解析は、π*ピークが3配位(sp2構造:BO3)のBに由来し、σ*ピークが4配位(sp3構造:BO4)のBに由来するとして行なわれた。 By performing peak separation, it can be seen that the STXM spectrum of the K absorption edge of B includes peaks due to the π * bond and the σ * bond of the B—O coordination structure. The STXM spectrum in FIG. 6 includes a spire-shaped π * peak labeled Energy A near 194 eV, and a broad σ * peak labeled Energy B near 198 eV and Energy C near 203 eV. Note that the STXM spectrum in Figure 6 also includes other broad peaks, but in the analysis below, the π * peak originates from B in the 3-coordination (sp 2 structure: BO 3 ), and the σ * peak was derived from B with four coordination (sp 3 structure: BO 4 ).

ここで、図6に示されている3種類のSTXMスペクトルにおいて、Energy Aのピーク強度の、Energy Bのピーク強度に対する比であるA/B比とCB4との間には、一次の相関関係があることが分かった。 Here, in the three types of STXM spectra shown in FIG. 6, there is a first-order correlation between the A/B ratio, which is the ratio of the peak intensity of Energy A to the peak intensity of Energy B, and C B4 . It turns out that there is.

図7は、B中のCB4が既知である3種類のリファレンス材料から得られたSTXMスペクトルのA/B比とCB4との関係を表すグラフである。すなわち、このグラフを検量線として用いることにより、ホウケイ酸系ガラス組成物のSTXMスペクトルにおけるA/B比から、CB4およびCB3の値を算出することができる。そして、CB4/(CB4+CB3)で表される4配位のBの存在比RB4を算出することができる。 FIG. 7 is a graph showing the relationship between the A/B ratio and C B4 of STXM spectra obtained from three types of reference materials in which C B4 in B is known. That is, by using this graph as a calibration curve, the values of C B4 and C B3 can be calculated from the A/B ratio in the STXM spectrum of the borosilicate glass composition. Then, the abundance ratio R B4 of four-coordinated B expressed as C B4 /(C B4 +C B3 ) can be calculated.

4配位のBの存在比RB4が0.35以上であるとき、ガラス領域におけるホウケイ酸系ガラス組成物中のBの安定性が向上する。言い換えると、ガラス網目構造内でのBとOとの架橋構造が安定する。したがって、ホウケイ酸系ガラス組成物中のBの、環境中に含まれる水分による溶出が抑制される。 When the abundance ratio R B4 of four-coordinated B is 0.35 or more, the stability of B in the borosilicate glass composition in the glass region is improved. In other words, the crosslinked structure between B and O within the glass network structure is stabilized. Therefore, the elution of B in the borosilicate glass composition due to moisture contained in the environment is suppressed.

なお、4配位のBの存在比RB4が高いほど上記の効果は大きいが、RB4が0.80を超えると、ガラス組成物としての安定性が低下する。そのため、4配位のBの存在比RB4は、実質的に0.35≦RB4≦0.80となる。 Note that the higher the abundance ratio R B4 of four-coordinated B, the greater the above effect, but when R B4 exceeds 0.80, the stability as a glass composition decreases. Therefore, the abundance ratio R B4 of four-coordinated B substantially satisfies 0.35≦R B4 ≦0.80.

この開示に係る積層セラミックコンデンサ100は、上記の特徴を持つガラス領域を有することにより耐湿性の高い下地電極層を含む外部電極を備えることができる。 The multilayer ceramic capacitor 100 according to this disclosure can include an external electrode including a base electrode layer having high moisture resistance by having a glass region having the above characteristics.

ガラス領域に含まれるホウケイ酸系ガラス組成物は、第1の元素Aおよび第2の元素AEを含み、第1の元素Aの量をCAとし、第2の元素AEの量をCAEとしたとき、CA+CAEが11.7≦CA+CAE≦53.4を満たすことが好ましい。ここで、第1の元素Aは、Li、NaおよびKの中から選ばれる少なくとも1種類の元素であり、第2の元素AEは、Ba、SrおよびCaの中から選ばれる少なくとも1種類の元素である。この場合、4配位のBの存在比RB4の調整を容易に行なうことができる。 The borosilicate glass composition contained in the glass region includes a first element A and a second element AE, where the amount of the first element A is C A and the amount of the second element AE is C AE . In this case, it is preferable that C A +C AE satisfies 11.7≦C A +C AE ≦53.4. Here, the first element A is at least one element selected from Li, Na, and K, and the second element AE is at least one element selected from Ba, Sr, and Ca. It is. In this case, the abundance ratio R B4 of four-coordinated B can be easily adjusted.

ガラス領域に含まれるホウケイ酸系ガラス組成物は、上記のCAEが9.4≦CAE≦47.1を満たすことが好ましい。この場合、4配位のBの存在比RB4の調整を容易に行なうことができることに加え、導電性ペースト1の焼き付けにより得られた下地電極を備える積層セラミックコンデンサのたわみ強度を向上させることができる。 The borosilicate glass composition included in the glass region preferably has the above C AE satisfying 9.4≦C AE ≦47.1. In this case, in addition to being able to easily adjust the abundance ratio R B4 of 4-coordinate B, it is also possible to improve the deflection strength of a multilayer ceramic capacitor equipped with a base electrode obtained by baking the conductive paste 1. can.

-実験例-
この開示に係る導電性ペーストおよび積層型電子部品は、以下の実験例に基づいてより具体的に説明される。これらの実験例は、この開示に係る導電性ペーストおよび積層型電子部品の条件、またはより好ましい条件を規定する根拠を与えるためのものでもある。実験例では、試料番号1から試料番号17のガラス粉末が作製され、ガラス粉末に含まれるホウケイ酸系ガラス組成物中のBにおける4配位のBの存在比が、NMRにより評価された。
-Experiment example-
The conductive paste and the laminated electronic component according to this disclosure will be explained more specifically based on the following experimental examples. These experimental examples are also intended to provide a basis for defining the conditions or more preferable conditions for the conductive paste and the laminated electronic component according to this disclosure. In the experimental example, glass powders of sample numbers 1 to 17 were produced, and the abundance ratio of four-coordinated B in the borosilicate glass composition contained in the glass powders was evaluated by NMR.

また、試料番号1から試料番号17のガラス粉末と、SEM観察画像の画像解析から確認された平均粒径0.5μmのCu粉末と有機材料とを用いて導電性ペーストが作製され、それらを用いて外部電極の下地電極層が形成された、図4に示すような積層セラミックコンデンサが作製された。なお、積層セラミックコンデンサの積層体における誘電体層は、BaTiO3系のペロブスカイト型化合物を含む誘電体材料により形成されており、内部電極層は、Niにより形成されている。 In addition, conductive pastes were prepared using glass powders from sample numbers 1 to 17, Cu powders with an average particle size of 0.5 μm confirmed through image analysis of SEM observation images, and organic materials. A multilayer ceramic capacitor as shown in FIG. 4 in which a base electrode layer of an external electrode was formed was fabricated. Note that the dielectric layer in the laminate of the multilayer ceramic capacitor is formed of a dielectric material containing a BaTiO 3 -based perovskite compound, and the internal electrode layer is formed of Ni.

これらの積層セラミックコンデンサを用いて、下地電極層が有するガラス領域に含まれるホウケイ酸系ガラス組成物中のBにおける4配位のBの存在比が、STXMにより評価された。さらに、上記のようにして作製された積層セラミックコンデンサの耐湿性が、高温高湿バイアス試験(Pressure Cooker Bias Test:以後、PCBTと略称することがある)により評価された。加えて、上記のようにして作製された積層セラミックコンデンサのたわみ強度が、JIS規格に基づくたわみ試験方法に基づき評価された。 Using these multilayer ceramic capacitors, the abundance ratio of four-coordinated B in the borosilicate glass composition contained in the glass region of the base electrode layer was evaluated by STXM. Further, the moisture resistance of the multilayer ceramic capacitor produced as described above was evaluated by a high temperature and high humidity bias test (Pressure Cooker Bias Test: hereinafter sometimes abbreviated as PCBT). In addition, the deflection strength of the multilayer ceramic capacitor produced as described above was evaluated based on a deflection test method based on JIS standards.

試料番号1から試料番号20のガラス粉末に含まれるホウケイ酸系ガラス組成物中のBにおける4配位のBの存在比のNMRによる評価は、表1に示された条件により行なわれた。 NMR evaluation of the abundance ratio of 4-coordinated B in the borosilicate glass compositions contained in the glass powders of Sample No. 1 to Sample No. 20 was performed under the conditions shown in Table 1.

Figure 0007369008000001
Figure 0007369008000001

試料番号1から試料番号20のガラス粉末を含む導電性ペーストの焼き付けにより形成された下地電極層が有するガラス領域に含まれるホウケイ酸系ガラス組成物中のBにおける4配位のBの存在比のSTXMによる評価は、表2に示された条件により行われた。 The abundance ratio of 4-coordinated B in the borosilicate glass composition contained in the glass region of the base electrode layer formed by baking the conductive paste containing the glass powder of sample number 1 to sample number 20. Evaluation by STXM was performed under the conditions shown in Table 2.

試料番号1から試料番号20のガラス粉末を含む導電性ペーストの焼き付けにより形成された下地電極層を有する積層セラミックコンデンサの耐湿性の評価は、表3に示された条件により行われた。 The moisture resistance of the multilayer ceramic capacitors having base electrode layers formed by baking conductive pastes containing glass powder of sample numbers 1 to 20 was evaluated under the conditions shown in Table 3.

試料番号1から試料番号20のガラス粉末を含む導電性ペーストの焼き付けにより形成された下地電極層を有する積層セラミックコンデンサのたわみ強度の評価は、表4に示された条件により行われた。 Evaluation of the deflection strength of the multilayer ceramic capacitors having base electrode layers formed by baking conductive pastes containing glass powder of Sample No. 1 to Sample No. 20 was performed under the conditions shown in Table 4.

ガラス粉末に含まれるホウケイ酸系ガラス組成物中の4配位のBの存在比のNMRによる評価結果、下地電極層のガラス領域中における4配位のBの存在比のSTXMによる評価結果、および積層セラミックコンデンサの耐湿性の評価結果は、表5にまとめて示されている。表5において試料番号に*を付したものは、この開示に係る導電性ペーストを規定する条件から外れた試料である。 NMR evaluation results of the abundance ratio of 4-coordinated B in the borosilicate-based glass composition contained in the glass powder, STXM evaluation results of the abundance ratio of 4-coordinated B in the glass region of the base electrode layer, and The evaluation results of the moisture resistance of the multilayer ceramic capacitors are summarized in Table 5. In Table 5, sample numbers marked with * are samples that deviate from the conditions that define the conductive paste according to this disclosure.

また、耐湿性の評価結果において不良と判定された試料を除いた積層セラミックコンデンサのたわみ強度の評価結果は、ガラス粉末に含まれるホウケイ酸系ガラス組成物中および下地電極層のガラス領域中における4配位のBの存在比の評価結果と併せて、表6にまとめて示されている。 In addition, the evaluation results of the deflection strength of multilayer ceramic capacitors excluding samples determined to be defective in the evaluation results of moisture resistance are as follows: The results are summarized in Table 6 together with the evaluation results of the abundance ratio of B in the coordination.

なお、表5および表6におけるガラス粉末に含まれるホウケイ酸系ガラス組成物中の4配位のBの存在比のNMRによる評価結果、下地電極層のガラス領域中における4配位のBの存在比のSTXMによる評価結果は、3つの試料のそれぞれから得られた測定結果の平均値である。すなわち、この開示における4配位のBの特徴的な数値範囲は、複数の測定結果の平均値から規定されたものである。言い換えると、この開示における数値範囲内か否かは、比較対象から得られた複数の測定結果の平均値と、この開示における数値範囲とを比較することにより判断される。 In addition, the NMR evaluation results of the abundance ratio of 4-coordinated B in the borosilicate glass composition contained in the glass powder in Tables 5 and 6, and the presence of 4-coordinated B in the glass region of the base electrode layer. The STXM evaluation result of the ratio is the average value of the measurement results obtained from each of the three samples. That is, the characteristic numerical range of the four-coordinate B in this disclosure is defined from the average value of a plurality of measurement results. In other words, whether it is within the numerical range in this disclosure is determined by comparing the average value of a plurality of measurement results obtained from the comparison target with the numerical range in this disclosure.

ガラス粉末に含まれるホウケイ酸系ガラス組成物中の4配位のBの存在比のNMRによる評価結果と、そのガラス粉末が用いられた導電性ペーストの焼き付けにより形成された下地電極層が有するガラス領域中の4配位のBの存在比のNMRによる評価結果とは、一致していることが確認された。すなわち、導電性ペーストの焼き付け時に、ホウケイ酸系ガラス組成物中のBの量および化学結合状態は、本質的に変化しない。言い換えると、積層セラミックコンデンサの状態における下地電極層が有するガラス領域中の4配位のBの存在比は、導電性ペーストが備えるガラス粉末に含まれるホウケイ酸系ガラス組成物中の4配位のBの存在比により推定することができる。 NMR evaluation results of the abundance ratio of 4-coordinated B in the borosilicate glass composition contained in the glass powder, and the glass possessed by the base electrode layer formed by baking the conductive paste using the glass powder. It was confirmed that the evaluation results of the abundance ratio of 4-coordinated B in the region were consistent with the NMR evaluation results. That is, during baking of the conductive paste, the amount of B and the chemical bonding state in the borosilicate glass composition do not essentially change. In other words, the abundance ratio of 4-coordinated B in the glass region of the base electrode layer in the state of a multilayer ceramic capacitor is equal to the abundance ratio of 4-coordinated B in the borosilicate glass composition contained in the glass powder included in the conductive paste. It can be estimated based on the abundance ratio of B.

表5に示されるように、この開示に係る導電性ペーストを規定する条件を満たす積層セラミックコンデンサの各試料においては、耐湿性が良好であることが確認された。また、表6に示されるように、上記の各試料においては、たわみ強度も良好であることが確認された。 As shown in Table 5, it was confirmed that each sample of the multilayer ceramic capacitor satisfying the conditions defining the conductive paste according to this disclosure had good moisture resistance. Furthermore, as shown in Table 6, it was confirmed that each of the above samples had good deflection strength.

この明細書に開示された実施形態は、例示的なものであって、この開示に係る発明は、上記の実施形態に限定されるものではない。すなわち、この開示に係る発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。また、上記の範囲内において、種々の応用、変形を加えることができる。 The embodiments disclosed in this specification are illustrative, and the invention according to this disclosure is not limited to the above embodiments. That is, the scope of the invention according to this disclosure is indicated by the claims, and it is intended that the meaning equivalent to the claims and all changes within the range are included. Furthermore, various applications and modifications can be made within the above range.

例えば、積層体を構成する誘電体層および内部電極層の層数、誘電体層および内部電極層の材質などに関し、この発明の範囲内において種々の応用、変形を加えることができる。また、積層型電子部品として積層セラミックコンデンサを例示したが、この開示に係る発明はそれに限らず、多層基板の内部に形成されたコンデンサ要素などにも適用することができる。 For example, various applications and modifications can be made within the scope of the present invention with respect to the number of dielectric layers and internal electrode layers constituting the laminate, the materials of the dielectric layers and internal electrode layers, and the like. Further, although a multilayer ceramic capacitor is illustrated as an example of a multilayer electronic component, the invention according to this disclosure is not limited thereto, and can also be applied to a capacitor element formed inside a multilayer substrate.

さらに、外部電極の数および位置は、この明細書に開示された実施形態に限られない。すなわち、外部電極は、積層体の外表面上の互いに異なる位置に複数形成され、かつ内部電極層に電気的に接続されるものであればよい。 Furthermore, the number and location of external electrodes are not limited to the embodiments disclosed in this specification. That is, a plurality of external electrodes may be formed at different positions on the outer surface of the laminate and electrically connected to the internal electrode layer.

1 導電性ペースト
2 導電性粉末
3 ガラス粉末
4 有機材料
100 積層セラミックコンデンサ
10 積層体
11 誘電体層
12 内部電極層
13a 第1の端面
13b 第2の端面
14a 第1の外部電極
14a1 第1の下地電極層
14a2 第1のめっき層
14b 第2の外部電極
14b1 第2の下地電極層
14b2 第2のめっき層
15a1 導電性領域
16a1 ガラス領域
A 第1の元素
AE 第2の元素
1 Conductive paste 2 Conductive powder 3 Glass powder 4 Organic material 100 Multilayer ceramic capacitor 10 Laminated body 11 Dielectric layer 12 Internal electrode layer 13a First end surface 13b Second end surface 14a First external electrode 14a 1 First Base electrode layer 14a 2 First plating layer 14b Second external electrode 14b 1 Second base electrode layer 14b 2 Second plating layer 15a 1 Conductive region 16a 1 Glass region A First element AE Second element

Claims (7)

CuおよびNiの中から選ばれる少なくとも1種類の元素を含む導電性粉末と、ホウケイ酸系ガラス組成物と、有機材料とを備え、
前記ホウケイ酸系ガラス組成物に含まれる元素の量をモル%で表した場合、4配位のBの量をCB4とし、3配位のBの量をCB3としたとき、CB4/(CB4+CB3)で表される4配位のBの存在比RB4が0.35≦RB4≦0.80を満たす、導電性ペースト。
A conductive powder containing at least one element selected from Cu and Ni, a borosilicate glass composition, and an organic material,
When the amount of elements contained in the borosilicate glass composition is expressed in mol%, the amount of 4-coordinated B is C B4 and the amount of 3-coordinated B is C B3 , C B4 / A conductive paste in which the abundance ratio R B4 of four-coordinated B represented by (C B4 +C B3 ) satisfies 0.35≦R B4 ≦0.80.
前記ホウケイ酸系ガラス組成物は、Li、NaおよびKの中から選ばれる少なくとも1種類の第1の元素A、およびBa、SrおよびCaの中から選ばれる少なくとも1種類の第2の元素AEを含、請求項1に記載の導電性ペースト。 The borosilicate glass composition contains at least one first element A selected from Li, Na, and K, and at least one second element AE selected from Ba, Sr, and Ca. The conductive paste according to claim 1, comprising : 前記導電性粉末の少なくとも一部の表面が、Ag、SnおよびAlの中から選ばれる少なくとも1種類の元素を含む金属層により被覆されている、請求項1または2に記載の導電性ペースト。 The conductive paste according to claim 1 or 2 , wherein at least a part of the surface of the conductive powder is coated with a metal layer containing at least one element selected from Ag, Sn, and Al. 前記導電性粉末の少なくとも一部の表面が、有機物層により被覆されている、請求項1ないしのいずれか1項に記載の導電性ペースト。 The conductive paste according to any one of claims 1 to 3 , wherein at least a part of the surface of the conductive powder is covered with an organic layer. 前記導電性粉末の平均粒径が1μm以下である、請求項1ないしのいずれか1項に記載の導電性ペースト。 The conductive paste according to any one of claims 1 to 4 , wherein the conductive powder has an average particle size of 1 μm or less. 積層された複数の誘電体層と複数の内部電極層とを含む積層体と、前記積層体の外表面上の互いに異なる位置に形成され、かつ前記内部電極層に電気的に接続される、複数の外部電極とを備え、
前記外部電極は、CuおよびNiの中から選ばれる少なくとも1種類の元素を含む導電性領域と、ホウケイ酸系ガラス組成物を含むガラス領域とを有する下地電極層を含み、
前記ホウケイ酸系ガラス組成物に含まれる元素の量をモル%で表した場合、4配位のBの量をCB4とし、3配位のBの量をCB3としたとき、CB4/(CB4+CB3)で表される4配位のBの存在比RB4が0.35≦RB4≦0.80を満たす、積層型電子部品。
a laminate including a plurality of laminated dielectric layers and a plurality of internal electrode layers; and a plurality of laminates formed at different positions on the outer surface of the laminate and electrically connected to the internal electrode layers. Equipped with an external electrode of
The external electrode includes a base electrode layer having a conductive region containing at least one element selected from Cu and Ni and a glass region containing a borosilicate glass composition,
When the amount of elements contained in the borosilicate glass composition is expressed in mol%, the amount of 4-coordinated B is C B4 and the amount of 3-coordinated B is C B3 , C B4 / A multilayer electronic component in which the abundance ratio R B4 of four-coordinated B represented by (C B4 +C B3 ) satisfies 0.35≦R B4 ≦0.80.
前記ホウケイ酸系ガラス組成物は、Li、NaおよびKの中から選ばれる少なくとも1種類の第1の元素A、およびBa、SrおよびCaの中から選ばれる少なくとも1種類の第2の元素AEを含、請求項に記載の積層型電子部品。 The borosilicate glass composition contains at least one first element A selected from Li, Na, and K, and at least one second element AE selected from Ba, Sr, and Ca. The laminated electronic component according to claim 6 , comprising :
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