JP7365576B2 - 加飾シート、加飾シート付き表示装置及び加飾シートの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、加飾シート、加飾シートを有する加飾シート付き表示装置及び加飾シートの製造方法に関する。

例えば特許文献１に記載されているように、背面から光を照明される加飾シートが公知である。この加飾シートは、背面から光を照明されていない状態において、その表面をなす層に設けられた絵柄を表示する。一方、加飾シートには光が透過できるように微小な開口部が形成されていてもよいとされている。加飾シートの背面に投射された光は、開口部が形成された位置において加飾シートを透過する。したがって、加飾シートが所定のパターンで光を照明される場合、加飾シートは所定のパターンを表示することができる。

このような加飾シートによれば、加飾シートを背面から照明することで表示を行うことができる一方、表示を行っていない時には特定の絵柄を表示することができる。したがって、背面から照明されていない時、加飾シートの絵柄によって加飾シートを周囲と調和させることができる。これにより、何らかの表示を行う装置に、優れた表品価値を付与することも可能となる。

特開２０００－１３２１２６号公報

ところで、加飾シートの開口部は、加飾シートを形成するようになるシート状材料の一部をレーザー光によって溶融除去することで形成され得る。ただし、開口部は視認されないように微細となっていることから、レーザー光を加飾シートの一部分のみに照射して、高精細な配置で開口部を形成することは困難である。このため、従来の加飾シートでは、多くの場合、その全域が透過領域として開口部を形成されていた。すなわち、従来の加飾シートでは、背面から照明された場合における意匠表現を開口部の配置パターンによってより優れたものとすることは実現できておらず、例えば、加飾シートの絵柄による意匠と、背面から照明することで表示される意匠を高い精度で対応させるような表現は困難であった。

本発明は以上の点を考慮してなされたものであり、背面から照明される加飾シートの意匠性を改善することを目的とする。

本発明による第１の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記ベース意匠層を貫通して前記パターン層に到達した開口部が設けられ、
前記パターン層の赤外線の吸収率は、前記ベース意匠層の赤外線の吸収率より高い。

本発明による第１の加飾シートにおいて、前記パターン層の吸収スペクトルは、赤外線領域にピークを有するようにしてもよい。

本発明による第２の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記ベース意匠層を貫通して前記パターン層に到達した開口部が設けられ、
前記パターン層の吸収スペクトルは、赤外線領域にピークを有する。

本発明による第１又は第２の加飾シートにおいて、前記パターン層の吸収スペクトルは、９００ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の波長にピークを有するようにしてもよい。

本発明による第１又は第２の加飾シートにおいて、前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、３％以上であるようにしてもよい。

本発明による第１又は第２の加飾シートにおいて、前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、前記ベース意匠層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなるようにしてもよい。

本発明による第３の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記ベース意匠層を貫通して前記パターン層に到達した開口部が設けられ、
前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、前記ベース意匠層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークより高い。

本発明による第１～第３の加飾シートにおいて、前記パターン層が設けられている領域での可視光透過率は、前記パターン層が設けられていない領域での可視光透過率より高くなるようにしてもよい。

本発明による第４の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記パターン層が設けられている領域での可視光透過率は、前記パターン層が設けられていない領域での可視光透過率より高く、
前記パターン層の赤外線の吸収率は、前記ベース意匠層の赤外線の吸収率より高い。

本発明による第５の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記パターン層が設けられている領域での可視光透過率は、前記パターン層が設けられていない領域での可視光透過率より高く、
前記パターン層の吸収スペクトルは、赤外線領域にピークを有する。

本発明による第６の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記パターン層が設けられている領域での可視光透過率は、前記パターン層が設けられていない領域での可視光透過率より高く、
前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、前記ベース意匠層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークより高い。

本発明による第１～第６の加飾シートにおいて、前記パターン層が設けられている領域での開口率は、前記パターン層が設けられていない領域での開口率より高くなるようにしてもよい。

本発明による第１～第６の加飾シートにおいて、前記パターン層は有色であるようにしてもよい。

本発明による第１～第６の加飾シートにおいて、前記パターン層は無色透明であるようにしてもよい。

本発明による第１～第６の加飾シートにおいて、前記ベース意匠層のうちの前記パターン層が設けられていない領域に、凹部が設けられていてもよい。

本発明による第１～第６の加飾シートにおいて、前記ベース意匠層は無機材料を含むようにしてもよい。

本発明による第１～第６の加飾シートにおいて、前記無機材料はフレーク状であるようにしてもよい。

本発明による第１～第６の加飾シートにおいて、前記無機材料の最大長さは５μｍ以上であるようにしてもよい。

本発明による第１～第６の加飾シートにおいて、前記パターン層が粒子を含み、前記粒子の最大長さが前記フレーク状の無機材料の最大長さより小さくなるようにしてもよい。

本発明による第１～第６の加飾シートにおいて、前記無機材料は、アルミニウム、酸化チタン、雲母のいずれかを含むようにしてもよい。

本発明による第１～第６の加飾シートにおいて、前記ベース意匠層の可視光反射率は、５％以上であるようにしてもよい。

本発明による第１～第６の加飾シートにおいて、前記ベース意匠層の可視光吸収率は、３％以下であるようにしてもよい。

本発明による第１～第６の加飾シートが、
前記ベース意匠層の前記パターン層とは反対側に設けられた遮光層を、更に備え、
前記遮光層の可視光透過率は、前記ベース意匠層の可視光透過率より低くなるようにしてもよい。

本発明による加飾シート付き表示装置は、
面光源装置と、
上述した本発明による第１～第６の加飾シートのいずれかであって、前記面光源装置に対面するよう配置された加飾シートと、を備える。

本発明による加飾シートの製造方法は、
上述した本発明による第１～第６の加飾シートのいずれかの製造方法であって、
前記パターン層を形成するようになる第１膜及びベース意匠層を形成するようになる第２膜を作製する工程と、
前記第２膜の側からレーザー光を照射することで、前記第１膜及び前記第２膜の一部を除去して、開口部を形成する工程と、を備える。

本発明による加飾シートの製造方法において、前記レーザー光の波長における前記第１膜の吸収率は、前記レーザー光の波長における前記第２膜の吸収率より高くなるようにしてもよい。

本発明による加飾シートの製造方法において、前記レーザー光の波長における前記第１膜の吸収率は、３％以上であるようにしてもよい。

本発明による加飾シートの製造方法において、前記レーザー光の波長は、９００ｎｍ以上１３００ｎｍ以下であるようにしてもよい。

本発明によれば、背面から照明される加飾シートの意匠性を改善することを目的とする。

図１は、一実施の形態を説明するための図であって、加飾シート付き表示装置を概略的に示す分解斜視図である。 図２は、図１の加飾シート付き表示装置の横断面図である。 図２Ａは、加飾シートのベース意匠層の横断面図である。 図２Ｂは、加飾シートのベース意匠層及びパターン層の横断面図である。 図３は、図１の加飾シート付き表示装置の面光源装置が消灯した状態において加飾シートを示す平面図である。 図４は、図３の領域Ｚを拡大して示す図である。 図５は、図４のＶ－Ｖ線に沿った断面図である。 図６は、図１の加飾シート付き表示装置の面光源装置が点灯した状態において加飾シートを示す平面図である。 図７は、加飾シートの製造方法の一例を説明するための図である。 図８は、加飾シートの製造方法の一例を説明するための図である。 図９は、加飾シートの製造方法の一例を説明するための図である。 図１０は、加飾シートの製造方法の一例を説明するための図である。 図１１は、加飾シートの製造方法の一例を説明するための図である。 図１２は、図３に対応する図であって、加飾シートの一変形例を説明するための図である。 図１３は、図４に対応する図であって、図１２の領域Ｚを拡大して示す図である。 図１４は、図５に対応する図であって、加飾シートの他の変形例を説明するための図である。 図１５は、図１０に対応する図であって、加飾シートの製造方法の参考例を説明するための図である。 図１６は、図１１に対応する図であって、加飾シートの製造方法の参考例を説明するための図である。

以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

なお、本明細書において、「層」、「シート」及び「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて互いから区別されるものではない。例えば「層」という用語は、シート或いはフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。

また、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件ならびにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。

図１は、本発明による一実施の形態の加飾シート付き表示装置１を概略的に示す分解斜視図である。図１に示されるように、加飾シート付き表示装置１は、発光面１１を有する面光源装置１０と、発光面１１に対面して配置された加飾シート２０と、を有している。加飾シート付き表示装置１において、加飾シート２０は、後述する遮光層２４が設けられた側が面光源装置１０に対面するよう配置されている。なお、図示されている例では、加飾シート付き表示装置１は、平板状に示されているが、加飾シート付き表示装置１の各構成要素が湾曲することで、加飾シート付き表示装置１が湾曲形状を有するようにしてもよい。

面光源装置１０は、面状に光を発光する装置である。面光源装置１０として、特に限定されることなく、種々の型式、例えばエッジライト型や直下型の装置を用いることができる。図示された面光源装置１０は、加飾シート２０に対面する前面に発光面１１を有している。また、面光源装置１０の加飾シート２０に対面する前面のうち、発光面１１を周囲から取り囲む領域は、枠体（ベゼル）によって構成された非発光面１２となっている。すなわち、面光源装置１０の加飾シート２０に対面する前面は、発光面１１と、発光面１１の周囲に位置する非発光面１２と、を含んでいる。

加飾シート２０は、面光源装置１０の発光面１１に対面して配置され、発光面１１が外部から直接観察されないよう、少なくとも発光面１１の全体を覆っている。加飾シート２０は、面光源装置１０の発光面１１の全体を覆うことができるよう、発光面１１の寸法以上の寸法を有している。図示された加飾シート２０は、発光面１１と、発光面１１の周囲に位置する非発光面１２と、を含む面光源装置１０の前面の全領域を覆う寸法を有している。すなわち、加飾シート２０は、面光源装置１０の全体を隠蔽している。図１に示す例において、加飾シート２０は、全体として面光源装置１０の発光面１１と同一の方向に広がる平板状の部材となっている。加飾シート２０の厚さは、例えば２０μｍ以上５５０μｍ以下とすることができる。

加飾シート２０は、意匠を表示して、加飾シート付き表示装置１に意匠性を付与する。本実施の形態において、加飾シート２０は、ベース意匠層２２と、ベース意匠層２２の一部分上に設けられたパターン層２３と、を有している。ベース意匠層２２は、いわゆるベタ層として形成され、二次元的に広がる層、さらに言い換えると面状に広がる層として、形成されている。一方、パターン層２３は、ベース意匠層２２上の一部分に形成されている。例えば、パターン層２３は、ベース意匠層２２の一方の面上に所定のパターンで設けられている。

図２及び図３に示すように、加飾シート２０は、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２を含んでいる。図示された加飾シート２０は、第１領域Ａ１と第２領域Ａ２とに平面分割されている。そして、パターン層２３は、第１領域Ａ１に設けられ、第１領域Ａ１外となる第２領域Ａ２には設けられていない。図示された例において、第１領域Ａ１は、図３に示すように、加飾シート２０の中央に設けられ、アルファベットの「Ｄ」のパターンをなす領域となっている。

また、図示された加飾シート２０は、図２に示すように、ベース意匠層２２及びパターン層２３に加え、基材フィルム２１及び遮光層２４を更に有している。図２に示された加飾シート２０では、基材フィルム２１の一方の面上のうちの第１領域Ａ１に、パターン層２３が設けられている。ベース意匠層２２は、基材フィルム２１の一方の面及びパターン層２３の全域を覆うように形成されている。すなわち、図示されたベース意匠層２２は、基材フィルム２１の全域に広がっている。遮光層２４は、ベース意匠層２２のパターン層２３とは反対側に積層されている。遮光層２４は、ベース意匠層２２の全域に広がっている。以下、加飾シート２０に含まれる各構成要素について順に説明する。

基材フィルム２１は、基材フィルム２１上に積層されたベース意匠層２２、パターン層２３および遮光層２４を支持する。基材フィルム２１は、透明なフィルム状の部材である。基材フィルム２１としては、可視光を透過し、ベース意匠層２２、パターン層２３及び遮光層２４を適切に支持し得るものであればいかなる材料でもよいが、例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、環状ポリオレフィン、ＡＢＳ（アクリロニトリル ブタジエン スチレン共重合体）等を挙げることができる。また、基材フィルム２１は、可視光透過性や、ベース意匠層２２、パターン層２３及び遮光層２４の適切な支持性等を考慮すると、１０μｍ以上５００μｍ以下の厚さを有していることが好ましい。

なお、透明とは、分光光度計（（株）島津製作所製「ＵＶ－３１００ＰＣ」、ＪＩＳ Ｋ ０１１５準拠品）を用いて測定波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲内で測定したときの、各波長における透過率の平均値として特定される可視光透過率が、８０％以上であることを意味する。

ベース意匠層２２は、パターン層２３とともに加飾シート２０が表示する意匠を形成する。ベース意匠層２２は、図形、パターン、デザイン、色彩、絵、写真、キャラクター、マーク、文字や数字などの絵柄を、意匠として形成することができる。また、ベース意匠層２２とは別途にパターン層２３が設けられる本実施の形態において、ベース意匠層２２は、パターン層２３の背景として意匠表現を行うこともできる。例えば、加飾シート付き表示装置１が設けられる周辺環境と調和させることができる意匠として、木目調や大理石調の絵柄や幾何学模様を、ベース意匠層２２が表示するようにしてもよい。ベース意匠層２２が形成する意匠は、単一の色によって表されていてもよいし、複数の色によって表されていてもよい。また、ベース意匠層２２は、外部の観察者に観察された際にパターン層２３との混色によりパターン層２３が形成する絵柄の意匠性を害さない色を有しており、例えば混色を避けやすい白色や銀色であることが好ましい。

ベース意匠層２２は、図２Ａに示すように、無機材料を含んだ層とすることができる。図２Ａに示されたベース意匠層２２は、バインダー樹脂２２ａと、バインダー樹脂２２ａ中に分散した無機材料２２ｂと、を有している。ベース意匠層２２に含まれる無機材料は、特に限定されないが、アルミニウム、酸化チタン、雲母のいずれかとすることができる。これらの無機材料を含むベース意匠層２２は、例えば白色または銀色として、パターン層２３の色味の変化を効果的に抑制することができる。アルミニウムや雲母からなる無機材料は、最大長さが５μｍ以上となるフレーク状の材料とすることができる。このような大型のフレーク状の無機材料によれば、ベース意匠層２２によって積極的な意匠表現を行うことができる。

また、ベース意匠層２２が形成する意匠を明るく表示するため、ベース意匠層２２の可視光反射率は、５％以上であることが好ましく、１０％以上であることがより好ましい。可視光反射率は、紫外・可視・近赤外分光光度計（島津製作所ＵＶ－３６００）および積分球付属装置（ＩＳＲ－３１００）を用いて、入射角８°で可視領域３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下での反射率（全反射率）を測定し、その平均反射率として、特定することができる。

さらに、ベース意匠層２２による意匠表現をより有効とする観点から、ベース意匠層２２の可視光吸収率は３％以下としてもよい。ベース意匠層２２の可視光吸収率は３％以下となる場合、ベース意匠層２２が白色または白に近い白色系の色を表示することが可能になり、ベース意匠層２２によって形成される意匠の意匠性を高めることができる。可視光吸収率は、例えば紫外可視近赤外分光光度計（例えば、日本分光株式会社製「Ｖ－７７０」）を用いて測定波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲内で測定したときの各波長における吸収率の平均値として、特定することができる。

その一方で、可視光の波長と赤外線の波長とは近いことから、一般に、可視光吸収率が低い材料は、赤外線吸収率も低くなる。ベース意匠層２２の可視光吸収率が低い場合、ベース意匠層２２の赤外線吸収率も低くなる。具体的には、ベース意匠層２２の赤外線吸収率は３％以下となる傾向が生じる。

パターン層２３は、上述したように、加飾シート２０の第１領域Ａ１のみに設けられている。パターン層２３は、ベース意匠層２２の一部分上に設けられることで、パターンを形成している。パターン層２３のパターンをなす第１領域Ａ１の形状は、特に限定されることなく、適宜選択することができる。パターン層２３は、そのパターン自体によって、図形、デザイン、色彩、絵、キャラクター、マーク、ピクトグラム、文字や数字などを表示するようにしてもよい。また、パターン層２３は、当該パターン層２３が設けられている第１領域Ａ１内において、図形、デザイン、色彩、絵、キャラクター、マーク、ピクトグラム、文字や数字などの絵柄を表示するようにしてもよい。

図示された一具体例において、パターン層２３は、図３に示すように、加飾シート２０の中央に位置するアルファベットの「Ｄ」をなす領域に形成されている。図示されたパターン層２３は、単色の層となっている。つまり、このパターン層２３は、単一の色にてアルファベットの「Ｄ」を表示している。一方、図示されたベース意匠層２２は、パターン層２３とは異なる単色の層となっている。つまり、ベース意匠層２２は、パターン層２３とは異なる色で、アルファベットの「Ｄ」の背景を表示している。

また、パターン層２３は、赤外線を吸収する特性を有している。後述するように、加飾シート２０の製造工程においてパターン層２３を形成するようになる第１膜３１は、ベース意匠層２２を形成するようになる第２膜３２で吸収されなかった赤外線領域のレーザー光を吸収する。このため、パターン層２３は、ベース意匠層２２より赤外線を吸収しやすくなっている。言い換えると、パターン層２３の赤外線の吸収率は、ベース意匠層２２の赤外線の吸収率より高くなっている。また、ここで、赤外線の吸収率とは、波長９００ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の赤外線の平均吸収率を意味している。このような波長は、一般的に安価に入手可能で十分な出力の赤外線レーザー光源から照射されるレーザー光の波長であり、加飾シート２０の製造工程において用いられるレーザー光の波長に適している。また、赤外線の吸収率は、例えば日本分光株式会社製の紫外可視近赤外分光光度計Ｖ－７７０を用いて測定波長９００ｎｍ～１３００ｎｍの範囲内で測定したときの各波長における吸収率の平均値として、特定することができる。

パターン層２３が赤外線を吸収しやすいよう、パターン層２３の吸収スペクトルは、赤外線領域（７８０ｎｍ以上１５０００ｎｍ以下の波長域）に吸収率のピークを有している。具体的には、パターン層２３の吸収スペクトルは、７８０ｎｍ以上１５０００ｎｍ以下の波長に吸収率のピークを有していることが好ましく、８００ｎｍ以上１００００ｎｍ以下の波長に吸収率のピークを有していることがより好ましく、９００ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の波長に吸収率のピークを有していることがさらに好ましい。また、パターン層２３の吸収スペクトルの吸収率のピークは、３％以上であることが好ましく、５％以上であることがより好ましい。ここで、吸収スペクトルとは、各波長〔ｎｍ〕における光の吸収率〔％〕の分布を意味している。また、パターン層２３が赤外線を吸収しやすいよう、パターン層２３の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、ベース意匠層２２の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなっていることが好ましい。

ベース意匠層２２及びパターン層２３は、バインダー樹脂中に顔料等を含んだ層として形成することができる。また上述したように、ベース意匠層２２及びパターン層２３は、バインダー樹脂中に、アルミニウム、酸化チタン、雲母等の無機材料を含んだ層とすることもできる。

ベース意匠層２２の厚さ及びパターン層２３の厚さは、十分な意匠表現を行うことができる厚さ以上となっていることが好ましい。その一方で、ベース意匠層２２の厚さ及びパターン層２３の厚さは、後述するレーザー光による除去を可能にする厚さ以下となっていることが好ましい。具体的には、ベース意匠層２２の厚さを１μｍ以上４０μｍ以下とすることができる。パターン層２３の厚さを１μｍ以上２０μｍ以下とすることができる。なお、図示された例において、第２領域Ａ２におけるベース意匠層２２の厚さは、第１領域Ａ１におけるベース意匠層２２の厚さと第１領域Ａ１におけるパターン層２３の厚さとを足し合わせた厚さとなっている。

遮光層２４は、面光源装置１０に対面する側からベース意匠層２２を覆うように設けられている。遮光層２４は、面光源装置１０からの可視光がベース意匠層２２に入射しないよう、可視光遮光性を有している。したがって、遮光層２４の可視光透過率は、ベース意匠層２２の可視光透過率よりも低くなっていることが好ましい。遮光層２４は、例えば光吸収粒子をバインダー樹脂中に含み得る。光吸収粒子としては、カーボンブラックやチタンブラック等の黒色顔料を例示することができる。十分な厚さの遮光層２４がベース意匠層２２を覆っていると、ベース意匠層２２によって形成される意匠を濃く明確に形成することができる。具体的な例として、遮光層２４の厚さを、１μｍ以上２０μｍ以下とすることができる。

なお、上述したように、可視光透過率は、分光光度計（（株）島津製作所製「ＵＶ－３１００ＰＣ」、ＪＩＳ Ｋ ０１１５準拠品）を用いて測定波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲内で測定したときの、各波長における透過率の平均値として特定することができる。

ところで、図２に示すように、加飾シート２０は、パターン層２３が設けられている領域、すなわち第１領域Ａ１に、遮光層２４及びベース意匠層２２を貫通してパターン層２３に到達する開口部Ｈが形成されている。このような開口部Ｈの形成によって、加飾シート２０は、第１領域Ａ１において光の透過を促進させることができる。可視光を透過させる観点から、開口部Ｈの深さＤＨは、加飾シート２０の第１領域Ａ１における基材フィルム２１を除いた厚さＴ１の９０％以上であることが好ましく、典型的には、開口部Ｈはパターン層２３を貫通して基材フィルム２１に達している（図５参照）。すなわち、典型的には、遮光層２４、パターン層２３及びベース意匠層２２を貫通した開口部（貫通孔）Ｈが形成されている。この開口部Ｈは、面光源装置１０によって背面から照明された際に、面光源装置１０で発光された光の透過部２８として機能する。図５に示すように、図示された例において、第１領域Ａ１における開口部Ｈは、加飾シート２０を貫通する貫通孔として形成されている。

貫通した開口部Ｈからなる透過部２８は、図４に示すように、加飾シート２０の正面からの観察において、ベース意匠層２２、パターン層２３及び遮光層２４の非形成部となっている。面光源装置１０で発光された光を十分に透過させるため、加飾シート２０の第１領域Ａ１の面積のうちの貫通した開口部Ｈが占める面積の割合、すなわち開口率は、１０％以上となっていることが好ましく、１５％以上であることがより好ましく、２０％以上であることがさらに好ましい。その一方で、面光源装置１０の消灯時におけるパターン層２３の視認性を十分に確保するため、第１領域Ａ１における開口率は、５０％以下であることが好ましい。

なお、図４は、図３の領域Ｚを拡大して示している。

このように、加飾シート２０の第１領域Ａ１では、面光源装置１０の点灯時に光の透過が促進される。一方、加飾シート２０の第２領域Ａ２では、面光源装置１０の点灯時に光の透過が規制される。このため、貫通した開口部Ｈが占める面積の割合である開口率は、第１領域Ａ１において、第２領域Ａ２よりも大きくなる。結果として、パターン層２３が設けられている第１領域Ａ１での可視光透過率は、パターン層２３が設けられていない第２領域Ａ２での可視光透過率より高くなる。すなわち、貫通した開口部Ｈは、加飾シート２０のうちの第１領域Ａ１に集中的に形成されている。

図４及び図５に示された加飾シート２０において、パターン層２３が設けられていない領域、すなわち第２領域Ａ２に、ベース意匠層２２を貫通する開口部Ｈは形成されていない。図示された例において、加飾シート２０の第２領域Ａ２には、貫通孔が設けられていない。したがって、図示された加飾シート２０の第２領域Ａ２における開口率は０％となり、加飾シート２０の第２領域Ａ２における可視光の透過は有効に規制される。

なお、図５に示すように、加飾シート２０の第２領域Ａ２に、ベース意匠層２２を貫通しない凹部（貫通しない開口部）Ｒが形成されていてもよい。後述するように、この凹部Ｒは、第１領域Ａ１への開口部Ｈの作製にともなって、第２領域Ａ２に形成される。面光源装置１０によって背面から照明された際に、面光源装置１０で発光された光の透過を有効に遮蔽する観点から、凹部Ｒの深さＤＲは、加飾シート２０の第２領域Ａ２における凹部Ｒが形成されていない位置での基材フィルム２１を除いた厚さＴ２の８０％以下であることが好ましく、７０％以下であることがさらに好ましい。第２領域Ａ２に凹部Ｒを形成し且つその深さＤＲを調節することで、加飾シート２０の点灯時における第２領域Ａ２の明るさを制御することができる。これにより、第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２の明るさバランスにより、パターン層２３による表示コントラストを調節して多様な意匠表現を可能とすることができる。

図４に示された例において、第１領域Ａ１に設けられた複数の開口部Ｈは互いに離間して配置されている。また、第１領域Ａ１に設けられた複数の開口部Ｈは、規則的に配列されている。透過部２８を形成する開口部Ｈが規則的に配列されることで、面光源装置１０で発光された光が、概ね均一な明るさで、加飾シート２０の第１領域Ａ１を透過することができる。同様に、第２領域Ａ２に設けられた複数の凹部Ｒは互いに離間して配置されている。また、第２領域Ａ２に設けられた複数の凹部Ｒは、規則的に配列されている。凹部Ｒが規則的に配列されることで、面光源装置１０が点灯して可視光を射出している際に、加飾シート２０の第２領域Ａ２を均一な明るさとすることができる。

さらに、加飾シート２０において、開口部Ｈ及び凹部Ｒは、まとまて、規則的に配列されている。図示された例において、複数の開口部Ｈおよび複数の凹部Ｒは、それぞれ、正方配列にて配置されているが、これに限られず、ハニカム配列や千鳥配列で配列されてもよいし、或いは、不規則に配列されてもよい。複数の開口部Ｈの配列と複数の凹部Ｒの配列が異なっていてもよい。

また、図４に示された例において、第１領域Ａ１に設けられた複数の開口部Ｈは互いに同一な平面視形状を有している。具体的には、各開口部Ｈは、平面視において円形形状を有している。透過部２８を形成する複数の開口部Ｈが一定の形状を有することで、面光源装置１０で発光された光が、概ね均一な明るさで、加飾シート２０の第１領域Ａ１を透過することができる。同様に、図４に示された例において、第２領域Ａ２に設けられた複数の凹部Ｒは互いに同一の平面視形状を有している。具体的には、各凹部Ｒは、平面視において円形形状を有している。凹部Ｒが一定の形状を有することで、面光源装置１０が点灯して可視光を射出している際に、加飾シート２０の第２領域Ａ２を均一な明るさとすることができる。

さらに、図４に示された例において、開口部Ｈと凹部Ｒとが、平面視において同一の形状を有している。しかしながら、図示された例に限られず、複数の開口部Ｈの間で、開口部Ｈの平面視形状が異なるようにしてもよい。また、複数の凹部Ｒの間で、凹部Ｒの平面視形状が異なるようにしてもよい。さらに、開口部Ｈの平面視形状が凹部Ｒの平面視形状と異なるようにしてもよい。

なお、加飾シート２０の意匠性の観点から、個々の開口部Ｈは視認されないことが好ましい。同様に、個々の凹部Ｒも視認されないことが好ましい。この観点から、複数の開口部Ｈの配列ピッチＰＨを、６０μｍ以上１６０μｍ以下とすることができる。各開口部Ｈの最大幅ＷＨを、３０μｍ以上１３０μｍ以下とすることができる。各開口部Ｈの面積を、９００μｍ^２以上１６９００μｍ^２以下とすることができる。また、複数の凹部Ｒの配列ピッチＰＲを、６０μｍ以上１６０μｍ以下とすることができる。各凹部Ｒの最大幅ＷＲを、３０μｍ以上１３０μｍ以下とすることができる。各凹部Ｒの面積を、９００μｍ^２以上１６９００μｍ^２以下とすることができる。

次に、本実施の形態の加飾シート付き表示装置１の作用について説明する。

面光源装置１０が消灯して発光面１１から可視光が発光されていない状態では、図３に示すように、加飾シート２０のベース意匠層２２の色とパターン層２３の色との相違により、パターン層２３が形成された第１領域Ａ１のパターンが視認される。すなわち、パターン層２３のパターンが視認されるようになる。また、加飾シート２０によって、面光源装置１０を隠蔽することができる。さらに、ベース意匠層２２自体の意匠性によって、加飾シート付き表示装置１が設置されている周囲環境と、加飾シート２０との調和を図ることもできる。

一方、面光源装置１０が点灯して発光面１１から可視光が発光されている状態では、開口部Ｈが形成された第１領域Ａ１の可視光透過率が、第２領域Ａ２の可視光透過率よりも高くなる。結果として、面光源装置１０の消灯時よりも、図６に示すようにパターン層２３が形成された第１領域Ａ１のパターンは明るく確認され得る。一方、第２領域Ａ２には開口部Ｈが形成されていないので、面光源装置１０で発光された可視光は、高い透過率で、第２領域Ａ２において加飾シート２０を透化することはない。このため、ベース意匠層２２は、環境光の反射によって視認されるだけなので、パターン層２３ほど明るくは観察されない。すなわち、パターン層２３を高コントラストで明瞭に視認することができる。

なお、ベース意匠層２２は、遮光層２４によって面光源装置１０の側から覆われている。したがって、遮光層２４によって、面光源装置１０で発光された可視光がベース意匠層２２へ入射することを効果的に規制することができる。このため、第１領域Ａ１において、ベース意匠層２２及びパターン層２３を可視光が透過して、ベース意匠層２２とパターン層２３との混色によって意図しない色味でパターン層２３が視認されることを効果的に回避することができる。さらに、図示された例では、面光源装置１０の発光面１１と非発光面１２との境界Ｂが、加飾シート２０の第２領域Ａ２内に位置するが、可視光が第２領域Ａ２を積極的に透過しないので、この境界Ｂを不可視化することができる。

次に、加飾シート２０の製造方法の一例について、説明する。

まず、図８に示すように、基材フィルム２１の第１領域Ａ１に、パターン層２３を形成するようになる第１膜３１を形成する。次に、図９に示すように、基材フィルム２１及び第１膜３１を覆うようにして、ベース意匠層２２を形成するようになる第２膜３２を形成する。その後、図１０に示すように、第２膜３２を覆うようにして、遮光層２４を形成するようになる第３膜３３を形成する。第１膜３１、第２膜３２及び第３膜３３は、対応する各層に含まれるようになる無機材料や顔料等を含んだ樹脂組成物を塗布および乾燥することによって形成され得る。なお、樹脂組成物の塗布は公知のコーティング技術を用いることで実施することができる。この際、第１膜３１をなす樹脂組成物を基材フィルム２１上の第１領域Ａ１のみに塗布することも公知技術を用いて、極めて容易、迅速、且つ、精度良く実施することができる。

このようにして形成された積層物３４において、第１膜３１の赤外線の吸収率は、第２膜３２の赤外線の吸収率より高くなっていることが好ましい。第１膜３１の吸収スペクトルのピークは、第２膜３２の吸収スペクトルのピークよりも高くなっていることが好ましい。第１膜３１の吸収スペクトルは、赤外線領域にピークを有することが好ましい。第１膜３１の吸収スペクトルは、９００ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の波長にピークを有するようにしてもよい。第１膜３１の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、３％以上であるようにしてもよい。

次に、図１１に示すように、開口部Ｈを形成すべき位置にレーザー装置４０からレーザー光Ｌｘを照射する。レーザー光は、基材フィルム２１側とは逆側、すなわち第２膜３２及び第３膜３３の側から照射される。レーザー光Ｌｘの波長は、赤外線領域の波長７８０ｎｍ以上１３００ｎｍ以下であり、例えば９００ｎｍ以上１３００ｎｍ以下である。レーザー光Ｌｘの具体的な例として、波長１０６４ｎｍのＮｄ：ＹＡＧレーザーのレーザー光を用いることができる。レーザー装置４０から発振されるレーザー光Ｌｘを赤外線とすることで、ベース意匠層２２やパターン層２３の色や柄の影響を弱めて、ベース意匠層２２をなす第２膜３２でのレーザー光Ｌｘの吸収率よりもパターン層２３をなす第１膜３１でのレーザー光Ｌｘの吸収率を高く設定し易くなる。

図１１に示す例では、レーザー装置４０の射出部を一定のピッチでずらしながら、レーザー光Ｌｘを積層物３４に第３膜３３の側から照射する。このとき、積層物３４の第３膜３３上におけるレーザー光Ｌｘの照射領域は、特に煩雑な制御を行うことなく、第３膜３３のほぼ全域、或いは、第３膜３３のうちの明らかに第１領域Ａ１外となる周縁領域以外の領域に、レーザー光Ｌｘを照射すればよい。すなわち、微細な開口部を形成することから極めて微細なスポット径を有するようになるレーザー光Ｌｘの照射領域を高精度に制御することなく、例えば第１領域Ａ１のみに限定されるように制御することなく、レーザー装置４０のピッチおよび出力のみを制御して、レーザー装置４０からレーザー光Ｌｘを照射していく。第１領域Ａ１を示す第１膜３１は第３膜３３で隠蔽されていることから、レーザー光Ｌｘを第１領域Ａ１のみに照射する位置決め制御は煩雑となることが想定されるが、このような煩雑な作業を省略し得ることで生産性を大幅に向上させることができる。

なお、レーザー装置４０から発振されるレーザー光Ｌｘの出力は、第２領域Ａ２において、第２膜３２をすべて溶融除去しない程度とする。すなわち、レーザー装置４０の出力を抑えて、第２領域Ａ２では第３膜３３及び第２膜３２を貫通する開口部が形成されないようにする。図１１に示された例では、第２領域Ａ２において、第３膜３３及び第２膜３２の合計厚みの半分程度まで第３膜３３及び第２膜３２を除去している。この結果、第３膜３３を貫通して第２膜３２の途中まで延びる凹部Ｒが形成されている。

一方、第１領域Ａ１においては、レーザー光Ｌｘが照射された位置において、第３膜３３、第２膜３２及び第１膜３１がすべて除去されて、基材フィルム２１まで通じる貫通した開口部２９が形成される。第１領域Ａ１では、レーザー光Ｌｘの入射側から最も離間した位置に配置された第１膜３１が、レーザー装置４０から投射される波長域のレーザー光Ｌｘを高吸収率（例えば３％以上、さらに好ましくは５％以上の吸収率）で吸収することができる。したがって、第１膜３１上の第２膜３２が完全に除去され得ない程度の出力でレーザー光Ｌｘが照射されている場合でも、図１２に示すように、レーザー光Ｌｘの一部が第１膜３１に到達して第１膜３１に効率良く吸収されることで、第１膜３１が溶融する。これにともなって、まず、溶融した第１膜３１に隣接する第２膜３２も溶融する。更に、溶融した第１膜３１の蒸発にともなって、溶融した第２膜３２も蒸発する。

以上にようにして、レーザー光Ｌｘの照射によって、積層物３４の第２領域Ａ２に凹部Ｒを形成し、第１膜３１が設けられた積層物３４の第１領域Ａ１に開口部Ｈを形成することできる。この製造方法では、第１領域Ａ１に照射する際のレーザー光Ｌｘの照射条件と、第２領域Ａ２に照射する際のレーザー光Ｌｘの照射条件とを同一とすることができる。したがって、積層物３４のうちの第１領域Ａ１の領域を特定する必要がない。なお、第１膜３１を隠蔽し得る第３膜３３の側からレーザー光Ｌｘを照射することから、第１膜３１が設けられた第１領域Ａ１を特定して第１領域Ａ１のみにレーザー光Ｌｘを照射すること煩雑である。この点において、上述した製造方法では、第１領域Ａ１の特定を省略して、一定の照射条件で第３膜３３の全域にレーザー光Ｌｘを照射することで、第１領域Ａ１に選択的に開口部Ｈを形成し、第２領域Ａ２に選択的に凹部Ｒを形成することができる。したがって、優れた意匠性を奏する加飾シート２０の製造を大幅に単純化することができる。

レーザー光Ｌｘが照射されずに除去されなかった第３膜３３、第２膜３２及び第１膜３１が、それぞれ、遮光層２４、ベース意匠層２２及びパターン層２３を形成するようになる。以上の工程によって、加飾シート２０が製造される。

ところで、パターン層２３を含まない加飾シート１２０は、図１５に示すように、基材フィルム１２１上に第２膜１３２及び第３膜１３３を積層し、透過部１２８を形成すべき位置に出力を調整したレーザー光Ｌｙを照射することで製造され得る。このようにして加飾シート１２０が製造されると、図１６に示すように、ベース意匠層１２２を形成するようになる第２膜１３２が十分に除去されずに、一部の透過部１２８内に第２膜１３２の残留物１３２ｒが残ることがある。このような残留物１３２ｒが残った透過部１２８と残留物１３２ｒが残っていない透過部１２８との間では意匠性に違いが生じ得る。具体的には、残留物１３２ｒによって表示すべき意匠より意匠が濃く表示されてしまうことがある。この意匠性の違いに起因して、加飾シート１２０が表示する意匠に濃淡の模様が生じてしまい、加飾シート１２０が表示すべき意匠が損なわれ、加飾シート１２０によって付与される意匠性が悪化し得る。

本件発明者らが鋭意検討した結果、このような残留物１３２ｒは、第２膜１３２がレーザー光Ｌｙを十分に吸収しないことが原因となっていることが知見された。具体的には、第２膜１３２がレーザー光Ｌｙを十分に吸収しないことに起因して、第２膜１３２が十分に溶融蒸発せず、一部の第２膜１３２が残留して透過部１２８に残ってしまう。レーザー光Ｌｙを吸収する第２膜１３２とレーザー光Ｌｙを十分に吸収しない第２膜１３２とは、例えば各位置における第２膜１３２によって形成されるようになるベース意匠層１２２の各位置の色や柄の違いに起因して生じ得ることも確認された。

一方、本実施の形態の加飾シート２０は、開口部Ｈを形成すべき第１領域Ａ１において、基材フィルム２１とベース意匠層２２との間に赤外線を吸収するパターン層２３が配置されている。すなわち、加飾シート２０の製造工程において、基材フィルム２１と第２膜３２との間に、パターン層２３を形成するようになる第１膜３１が配置されている。パターン層２３の赤外線の吸収率は、ベース意匠層２２の赤外線の吸収率より高くなっている。すなわち、加飾シート２０の製造工程において、第１膜３１の赤外線の吸収率は、第２膜３２の赤外線の吸収率より高くなっている。このため、第２膜３２において開口部Ｈを形成するレーザー光が十分に吸収されなくても、第１膜３１においてレーザー光を十分に吸収することができる。レーザー光を吸収した第１膜３１が溶融蒸発することで、第１膜３１上に積層された第２膜３２及び第３膜３３を、残留物をほとんど残さずに除去することができる。すなわち、加飾シート２０の第１領域Ａ１において、開口部Ｈに残留物を残りにくくさせることができる。

また、パターン層２３の吸収スペクトルは、赤外線領域に吸収率のピークを有している。すなわち、加飾シート２０の製造工程において、第１膜３１の吸収スペクトルは、赤外線領域に吸収率のピークを有している。このため、第１膜３１は、ピークとなる波長の赤外線を効率よく吸収することができる。第１膜３１のピークとなる波長が開口部Ｈを形成するレーザー光Ｌｘの波長に近いと、第１膜３１においてレーザー光が効率よく吸収される。レーザー光を吸収した第１膜３１が溶融蒸発することで、第１膜３１上に積層された第２膜３２及び第３膜３３を、残留物をほとんど残さずに除去して、加飾シート２０の第１領域Ａ１に形成される開口部Ｈの内部に残留物を残りにくくさせることができる。

さらに、パターン層２３の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、ベース意匠層２２の赤外線領域での吸収スペクトルのピークより高くなっている。すなわち、加飾シート２０の製造工程において、第１膜３１の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、第２膜３２の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなっている。このため、第１膜３１は、第２膜３２よりも赤外線を効率よく吸収することができる。言い換えると、第１膜３１は、第２膜３２よりもレーザー光を効率よく吸収することができる。レーザー光を吸収した第１膜３１が溶融蒸発することで、第１膜３１上に積層された第２膜３２及び第３膜３３を、残留物をほとんど残さずに除去して、加飾シート２０の第１領域Ａ１に形成される開口部Ｈの内部に残留物を付着残りにくくさせることができる。

パターン層２３の吸収スペクトルは、９００ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の波長に吸収率のピークを有している。すなわち、加飾シート２０の製造工程において、第１膜３１の吸収スペクトルは、９００ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の波長に吸収率のピークを有している。このため、第１膜３１は、この波長の赤外線を効率よく吸収することができる。開口部Ｈを形成するレーザー光Ｌｘが９００ｎｍ以上１３００ｎｍ以下となる波長であると、第１膜３１においてレーザー光Ｌｘがより効率よく吸収される。レーザー光Ｌｘを吸収した第１膜３１が溶融蒸発することで、第１膜３１上に積層された第２膜３２及び第３膜３３を、残留物をほとんど残さずに除去して、加飾シート２０の第１領域Ａ１に形成される開口部Ｈに残留物を残りにくくさせることができる。

また、パターン層２３の吸収スペクトルの吸収率のピークは、３％以上である。すなわち、加飾シート２０の製造工程において、第１膜３１の吸収スペクトルの吸収率のピークは、３％以上である。このため、第１膜３１の吸収スペクトルの吸収率のピークにおける赤外線をより効率よく吸収することができる。開口部Ｈを形成するレーザー光が第１膜３１のピークまたはその近傍となる波長であると、第１膜３１においてレーザー光がより効率よく吸収される。レーザー光を吸収した第１膜３１が溶融蒸発することで、第１膜３１上に積層された第２膜３２及び第３膜３３を、残留物をほとんど残さずに除去して、加飾シート２０の第１領域Ａ１に形成される開口部Ｈに残留物を残りにくくさせることができる。

また、ベース意匠層２２は、酸化チタン等の無機材料を含んでいる。無機材料は第２膜３２においてレーザー光を十分に吸収しないと、残留物として残って開口部Ｈに残留しやすい。しかしながら、本実施の形態のように、基材フィルム２１とベース意匠層２２との間に赤外線を吸収するパターン層２３が配置されていると、加飾シート２０の製造工程において、パターン層２３を形成するようになる第１膜３１が赤外線を十分に吸収するため、第２膜３２がこのような無機材料を含んでいたとしても、レーザー光Ｌｘを吸収した第１膜３１が溶融蒸発することで、残留物をほとんど残さずに第２膜３２を除去することができる。すなわち、加飾シート２０の第１領域Ａ１に形成される開口部Ｈに残留物を残りにくくさせることができる。

とりわけ、無機材料は、アルミニウム、酸化チタン、雲母のいずれかを含んでいる。このような材料を含む場合、ベース意匠層２２の可視光反射率は、５％以上になり得る。このようなベース意匠層２２は赤外線も吸収しにくくなる傾向があり、レーザー光を照射しても除去されにくい。このため、第２膜３２にレーザー光を照射することによって開口部Ｈを形成することは困難であった。一方、本実施の形態のように、基材フィルム２１とベース意匠層２２との間に赤外線を吸収するパターン層２３が配置されていると、加飾シート２０の製造工程において、パターン層２３を形成するようになる第１膜３１が赤外線Ｌｘを十分に吸収するため、第２膜３２が赤外線を吸収しにくくても、レーザー光を吸収した第１膜３１が溶融蒸発することで、残留物をほとんど残さずに第２膜３２を除去することができる。すなわち、加飾シート２０の第１領域Ａ１に形成される開口部Ｈに残留物を残りにくくさせることができる。

以上に説明してきた一実施の形態において、加飾シートの製造方法は、基材フィルム２１上にパターン層２３を形成するようになる第１膜３１及びベース意匠層２２を形成するようになる第２膜３２を積層する工程と、第２膜３２の側からレーザー光を照射することで、第１膜３１及び第２膜３２の一部を除去して、開口部Ｈを形成する工程と、を含んでいる。このような加飾シートの製造方法によれば、ベース意匠層２２を形成するようになる第２膜３２において開口部Ｈを形成するためのレーザー光Ｌｘが十分に吸収されず、その一方で、パターン層２３を形成するようになる第１膜３１においてレーザー光Ｌｘが十分に吸収されるようにすることができる。したがって、第１膜３１が設けられている第１領域Ａ１では、レーザー光Ｌｘを吸収した第１膜３１が溶融蒸発することで、第１膜３１上に積層された第２膜３２を除去して、可視光が十分に透過し得る開口部Ｈを形成することができる。一方、第１膜３１が設けられていない第２領域Ａ２では、レーザー光Ｌｘが第２膜３２に吸収されにくいことから、深さＤＲの浅い凹部Ｒが形成されるようにすることができる。すなわち、第２膜３２の全域にレーザー光Ｌｘを照射してとしても、パターン層２３を形成する第１膜３１が設けられている第１領域Ａ１のみに、可視光が十分に透過し得る開口部Ｈが形成されるようにすることができる。つまり、本実施の形態によれば、第１膜３１の形成領域を調節することによって、可視光が十分に透過し得る開口部Ｈの形成領域を制御することができる。第１膜３１の形成領域の調節は、レーザー光Ｌｘの照射領域を調節することと比較して格段に容易である。したがって、優れた意匠性を有する加飾シート２０を容易且つ安価に作製することができる。

上述した一実施の形態の一具体例において、レーザー光Ｌｘの波長における第１膜３１の吸収率は、レーザー光Ｌｘの波長における第２膜３２の吸収率より高くしている。この例によれば、レーザー光Ｌｘを吸収した第１膜３１が溶融蒸発することで、第１膜３１上に積層された第２膜３２を安定して除去することができる。したがって、可視光の透過を十分に促進し得る開口部Ｈを第１領域Ａ１に安定して形成することができる。その一方で、第１膜３１が設けられていない第２領域Ａ２では、可視光の透過を十分に促進し得る開口部Ｈに代えて、深さの浅い凹部Ｒを形成することができる。すなわち、開口部Ｈの形成領域を、第１膜３１のパターンによって高精度に制御することが可能となる。

上述した一実施の形態の一具体例において、開口部Ｈ形成のために用いられるレーザー光Ｌｘの波長における第１膜３１の吸収率は、３％以上としている。このような例によれば、パターン層２３を形成するようになる第１膜３１においてレーザー光Ｌｘを十分に吸収することができる。したがって、パターン層２３が設けられている第１領域Ａ１では、レーザー光Ｌｘを吸収した第１膜３１が溶融蒸発することで、第１膜３１上に積層された第２膜３２を安定して除去し、可視光の透過を十分に促進し得る開口部Ｈを第１領域Ａ１に安定して形成することができる。すなわち、開口部Ｈの形成領域を、第１膜３１のパターンによって高精度に制御することが可能となる。

以上に説明してきた一実施の形態において、面光源装置１０に対面して配置される加飾シート２０は、ベース意匠層２２と、ベース意匠層２２の一部分上に設けられたパターン層２３と、を有している。パターン層２３が設けられている第１領域Ａ１では、ベース意匠層２２を貫通してパターン層２３まで到達した開口部Ｈが設けられている。そして、パターン層２３が設けられている第１領域Ａ１での可視光透過率は、パターン層２３が設けられていない第１領域Ａ１での可視光透過率より高くなっている。ここで、パターン層２３の赤外線の吸収率はベース意匠層２２の赤外線の吸収率より高くなっている、パターン層２３の吸収スペクトルは赤外線領域にピークを有している、或いは、パターン層２３の赤外線領域での吸収スペクトルのピークはベース意匠層２２の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなっている。このような加飾シート２０では、レーザー光の照射により形成された開口部Ｈは、パターン層２３が設けられている第１領域Ａ１において、より高い透過率で可視光を透過させ得るようになる。言い換えるとパターン層２３が設けられている第１領域Ａ１にレーザー光Ｌｘの照射により形成された開口部Ｈは、パターン層２３が設けられていない第２領域Ａ２にレーザー光Ｌｘの照射により形成された凹部Ｒと比較して、加飾シート２０の可視光透過率向上に寄与することができる。したがって、加飾シート２０を背面から照明した際に、パターン層２３が設けられている第１領域Ａ１を、パターン層２３が設けられていない第２領域Ａ２よりも明るく表示することができる。したがって、パターン層２３とベース意匠層２２との組み合わせにより、意匠性を効果的に改善して、意匠性に優れた表示を行うことができる。

上述した一実施の形態の一具体例において、パターン層２３が設けられている第１領域Ａ１での開口率は、パターン層２３が設けられていない第２領域Ａ２での開口率より高くなっている。これにより、パターン層２３が設けられている第１領域Ａ１での可視光透過率を、パターン層２３が設けられていない第２領域Ａ２の透過率より安定して高くすることができる。

上述した一実施の形態の一具体例において、パターン層２３は有色の層となっている。この例によれば、加飾シート２０を背面から照明していない場合に、パターン層２３の色によって、パターンを表示することができる。さらに、加飾シート２０を背面から照明することで、パターン層２３によって表示されていたパターンを、可視光を用いて明るく表示することができる。これにより、パターンの表示に変化を付けることが可能となり、意匠性を向上させることができる。

上述した一実施の形態の一具体例において、ベース意匠層２２のうちのパターン層２３が設けられていない第２領域Ａ２に、パターン層２３が設けられている側とは反対側から、凹部Ｒが設けられている。凹部Ｒの深さＤＲは、第２領域Ａ２内の凹部Ｒが設けられていない位置における、基材フィルム２１を除いた加飾シート２０の厚さの８０％以下となっている。この例によれば、背面から照射された可視光の一部が、有底孔としての凹部Ｒが形成されている部分において、加飾シート２０の第２領域Ａ２を透過することができる。すなわち、貫通していない凹部Ｒの深さＤＲによって、パターン層２３が設けられていない第２領域Ａ２の明るさを調整することができる。これにより、意匠性をさらに向上させることが可能となる。

上述した一実施の形態の一具体例において、ベース意匠層２２は無機材料を含んでいる。この例によれば、ベース意匠層２２が無機材料を含むことで、さらに豊かな意匠表現を行うことができる。その一方で、無機材料を含むベース意匠層２２には、レーザー光の照射によって貫通した開口部Ｈを安定して形成することが難しくなる。したがって、パターン層２３を設けて孔形状を安定化させることができる本実施の形態は、無機材料を含むベース意匠層２２を有した加飾シート２０に好適と言える。

上述した一実施の形態の一具体例において、無機材料は、酸化チタンを含んでいる。酸化チタンを無機材料として用いることで、パターン層との組み合わせにおいて、加飾シート２０の意匠性を大幅に向上させることができる。その一方で、このような酸化チタンを含むベース意匠層２２の可視光吸収率は３％以下程度まで低下し、併せて、酸化チタンを含むベース意匠層２２の赤外線吸収率も３％以下程度まで低下してしまう。結果として、このようなベース意匠層２２には、レーザー光の照射によって貫通した開口部Ｈを安定して形成することは難しくなる。このため、パターン層２３を設けて孔形状を安定化させることができる本実施の形態は、酸化チタンを無機材料として含むベース意匠層２２を有した加飾シート２０に好適と言える。

上述した一実施の形態の一具体例において、ベース意匠層２２の可視光反射率は、５％以上となっている。高反射率のベース意匠層２２は豊かな意匠表現が可能である一方、このようなベース意匠層２２には貫通した開口部Ｈを安定して形成することが難しい。したがって、パターン層２３を設けて孔形状を安定化させることができる本実施の形態は、無機材料を含むベース意匠層２２を有した加飾シート２０に好適と言える。

一実施の形態を具体例に基づいて説明してきたが、上述の具体例が一実施の形態を限定することを意図していない。上述した一実施の形態は、その他の様々な具体例で実施されることが可能であり、その要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、追加を行うことができる。

以下、図面を参照しながら、変形の一例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した具体例と同様に構成され得る部分について、上述の具体例における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いるとともに、重複する説明を省略する。

上述した一具体例において、パターン層２３を有色の層としたが、この例に限られず、パターン層２３を無色透明の層としてもよい。例えば、パターン層２３の可視光透過率を８０％以上とし、更には８５％以上とすることができる。この例によれば、面光源装置１０が消灯して可視光を射出していない状態において、図１２及び図１３に示すように、パターン層２３が視認されない。したがって、加飾シート２０の第１領域Ａ１及び第２領域Ａ２を区分けすることができず、ベース意匠層２２のみが視認される。ここで図１３は、図４に対応する図であって、図１２中の領域Ｚを拡大して示している。その一方で、面光源装置１０が点灯して可視光を射出している状態では、図６に示すように、パターン層２３のパターンを明るく明瞭に表示することが可能となる。このような例によれば、加飾シート２０は、背面から照明されることで、それまで視認されていなかったパターンを表示することができる。すなわち、意外性のある表示を行うことができ、これにより、意匠性を向上させることができる。

また、上述した一具体例において、加飾シート２０が、ベース意匠層２２を一層だけ含む例を示したが、これに限られない。図１４に示すように、加飾シート２０が、ベース意匠層２２に加えて、一以上の更なるベース意匠層を含むようにしてもよい。更なるベース意匠層は、上述したベース意匠層２２と同様に構成され得る。更なるベース意匠層は、ベース意匠層２２と同様にベタ層として、加飾シート２０の全域に広がっていてもよい。

図１４に示された例において、加飾シート２０は、ベース意匠層２２の基材フィルム２１とは反対側に設けられた第２ベース意匠層２２Ｂを有している。図１４に示された例において、ベース意匠層２２は、図形、パターン、デザイン、色彩、絵、写真、キャラクター、マーク、文字や数字などの絵柄、とりわけ木目調や大理石調の絵柄や幾何学模様を表示する絵柄層として形成される。第２ベース意匠層２２Ｂは、ベース意匠層２２の絵柄を引き立たせるための無機材料を含んだ層や金属を含んだメタリック層として形成される。第２ベース意匠層２２Ｂを設けることでベース意匠層２２の意匠性を引き立たせることができる。このような加飾シート２０は、第２ベース意匠層２２Ｂを形成するようになる第４膜を、ベース意匠層２２を形成するようになる第２膜３２と遮光層３３を形成するようになる第３膜３３との間に有した積層物３４を準備し、この積層物３４にレーザー光を照射することで作製され得る。

更なるベース意匠層２２Ｂを有する加飾シート２０においても、パターン層２３の赤外線の吸収率が、パターン層に隣接するベース意匠層２２の赤外線の吸収率より高くなっている、或いは、パターン層２３の赤外線領域での吸収スペクトルのピークが、パターン層に隣接するベース意匠層２２の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなっていることで、上述した作用効果を奏することができる。すなわち、このような加飾シート２０よれば、レーザー光の照射により形成された開口部Ｈは、パターン層２３が設けられている第１領域Ａ１において、より高い透過率で可視光を透過させ得るようになる。言い換えるとパターン層２３が設けられている第１領域Ａ１にレーザー光Ｌｘの照射により形成された開口部Ｈは、パターン層２３が設けられていない第２領域Ａ２にレーザー光Ｌｘの照射により形成された凹部Ｒと比較して、加飾シート２０の可視光透過率向上に寄与することができる。したがって、加飾シート２０を背面から照明した際に、パターン層２３が設けられている第１領域Ａ１を、パターン層２３が設けられていない第２領域Ａ２よりも明るく表示することができる。そして、パターン層２３とベース意匠層２２との組み合わせにより、意匠性を効果的に改善して、意匠性に優れた表示を行うことができる。

さらに、更なるベース意匠層２２Ｂを有する加飾シート２０においては、パターン層２３の赤外線の吸収率が、更なるベース意匠層（第２ベース意匠層２２Ｂ）の赤外線の吸収率より高くなっている、或いは、パターン層２３の赤外線領域での吸収スペクトルのピークが、更なるベース意匠層（第２ベース意匠層２２Ｂ）の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなっていることで、上述した作用効果をより顕著に奏することができる。

また、上述した一具体例において、ベース意匠層２２に含まれる無機材料はフレーク状（薄片状）であってもよい。フレーク状の無機材料は高い反射率を有するため、ベース意匠層２２によって光沢の高い意匠を表現することができる。フレーク状の無機材料としては、アルミニウム、雲母等が挙げられる。フレーク状の無機材料の最大長さは５μｍ以上であってもよい。光輝性のある意匠を表示する観点から、無機材料の最大長さは、例えば２０μｍ以上であることが好ましい。また、耐サーキュレーション性の観点から無機材料の最大長さは、例えば６０μｍ以下であることが好ましい。

この変形例において、図２Ｂに示すように、パターン層２３をバインダー樹脂２３ａ中に粒子２３ｂを含んだ層として形成するとともに、パターン層２３に含まれる粒子２３ｂの最大長さが、ベース意匠層２２のバインダー樹脂２２ａ中に含まれるフレーク状の無機材料２２ｂの最大長さよりも小さくなるようにしてもよい。とりわけ、パターン層２３に含まれる粒子の最大長さは、ベース意匠層２２に含まれる無機材料の最大長さの２分の１以下であることが好ましく、５分の１以下であることがより好ましい。具体的には、パターン層２３に含まれる粒子の最大長さは５μｍ以下であってもよい。最大長さの長いフレーク状の無機材料を含むベース意匠層２２はレーザー光を照射してもバインダー樹脂の全体に熱が伝わらず蒸発しにくい。一方で最大長さの短い粒子が用いられたパターン層２３はバインダー樹脂全体に熱が伝わりやすく蒸発しやすくなっており、蒸発時にベース意匠層２２を巻き込んで開口部Ｈを形成することができる。これにより、パターン層２３が形成された領域に選択的に開口部Ｈを形成し、パターン層２３による意匠と、背面から照明されることで開口部Ｈを通して表示される意匠を対応させることができる。パターン層２２に含まれる粒子の材料としては、シアニン加工物、フタロシアニン化合物、ジチオール金属錯体、六ホウ化ランタン、セシウムドープ酸化タングステン、ナフトキノン化合物、ジイモニウム化合物等を例示できる。

なお、ベース意匠層２２に含まれるフレーク状の無機顔料、及びパターン層２３に含まれる粒子の最大長さは、例えば、各層の厚み方向の断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製 Ｓ－４５００）を用いて加速電圧１５ｋＶ、観察倍率２万倍の条件で観察し、無機顔料または粒子の１００個の最大長さの平均値として算出することができる。観察のために各層の断面を露出させる際には、ミクロトームで切断してもよいし、液体窒素中で急速に凍結させた後にダイヤモンドナイフやイオンビームで切削してもよい。

また、上述した一具体例において、面光源装置１０は矩形形状の発光面１１を有していたが、この例に限られず、面光源装置１０の発光面１１が矩形形状以外の形状を有するようにしてもよいし。また、加飾シート付き表示装置１が、パターン遮光フィルムを更に備え、パターン遮光フィルムが、面光源装置１０の発光面１１から射出した光の一部を遮光することで、加飾シート２０を所定のパターンを照明するようにしてもよい。

１ 加飾シート付き表示装置
１０ 面光源装置
１１ 発光面
１２ 非発光面
２０ 加飾シート
２１ 基材フィルム
２２ ベース意匠層
２３ パターン層
２４ 遮光層
２８ 透過部
３１ 第１膜
３２ 第２膜
３３ 第３膜
３４ 積層物
４０ レーザー装置
Ａ１ 第１領域
Ａ２ 第２領域
Ｈ 開口部
Ｒ 凹部
Ｌｘ レーザー光

Claims (24)

1. 面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
   ベース意匠層と、
   前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
   前記ベース意匠層を貫通して前記パターン層に到達した開口部が設けられ、
   前記パターン層の赤外線の吸収率は、前記ベース意匠層の赤外線の吸収率より高い、加飾シート。
2. 前記パターン層の吸収スペクトルは、赤外線領域にピークを有する、請求項１に記載の加飾シート。
3. 前記パターン層の吸収スペクトルは、９００ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の波長にピークを有する、請求項１又は２に記載の加飾シート。
4. 前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルにおける吸収率のピークは、３％以上である、請求項１～３のいずれか一項に記載の加飾シート。
5. 前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、前記ベース意匠層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高い、請求項１～４のいずれか一項に記載の加飾シート。
6. 面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
   ベース意匠層と、
   前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
   前記ベース意匠層を貫通して前記パターン層に到達した開口部が設けられ、
   前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、前記ベース意匠層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークより高い、加飾シート。
7. 前記パターン層が設けられている領域での可視光透過率は、前記パターン層が設けられていない領域での可視光透過率より高い、請求項１～６のいずれか一項に記載の加飾シート。
8. 前記パターン層が設けられている領域での開口率は、前記パターン層が設けられていない領域での開口率より高い、請求項１～７のいずれか一項に記載の加飾シート。
9. 前記パターン層は有色である、請求項１～８のいずれか一項に記載の加飾シート。
10. 前記パターン層は無色透明である、請求項１～８のいずれか一項に記載の加飾シート。
11. 前記ベース意匠層のうちの前記パターン層が設けられていない領域に、凹部が設けられている、請求項１～１０のいずれか一項に記載の加飾シート。
12. 前記ベース意匠層は、無機材料を含む、請求項１～１１のいずれか一項に記載の加飾シート。
13. 前記無機材料は、フレーク状である、請求項１２に記載の加飾シート。
14. 前記フレーク状の無機材料の最大長さは、５μｍ以上である、請求項１３に記載の加飾シート。
15. 前記パターン層が粒子を含み、前記粒子の最大長さが前記フレーク状の無機材料の最大長さより小さい、請求項１３又は１４に記載の加飾シート。
16. 前記無機材料は、アルミニウム、酸化チタン、雲母のいずれかを含む、請求項１２～１５のいずれか一項に記載の加飾シート。
17. 前記ベース意匠層の可視光反射率は、５％以上である、請求項１～１６のいずれか一項に記載の加飾シート。
18. 前記ベース意匠層の可視光吸収率は、３％以下である、請求項１～１７のいずれか一項に記載の加飾シート。
19. 前記ベース意匠層の前記パターン層とは反対側に設けられた遮光層を、更に備え、
    前記遮光層の可視光透過率は、前記ベース意匠層の可視光透過率より低い、請求項１～１８のいずれか一項に記載の加飾シート。
20. 面光源装置と、
    前記面光源装置に対面するよう配置された請求項１～１９のいずれか一項に記載の加飾シートと、を備える、加飾シート付き表示装置。
21. 請求項１～１９のいずれか一項に記載の加飾シートの製造方法であって、
    前記パターン層を形成するようになる第１膜及びベース意匠層を形成するようになる第２膜を作製する工程と、
    前記第２膜の側からレーザー光を照射することで、前記第１膜及び前記第２膜の一部を除去して、開口部を形成する工程と、を備える、加飾シートの製造方法。
22. 前記レーザー光の波長における前記第１膜の吸収率は、前記レーザー光の波長における前記第２膜の吸収率より高い、請求項２１に記載の加飾シートの製造方法。
23. 前記レーザー光の波長における前記第１膜の吸収率は、３％以上である、請求項２１又は２２に記載の加飾シートの製造方法。
24. 前記レーザー光の波長は、９００ｎｍ以上１３００ｎｍ以下である、請求項２１～２３のいずれか一項に記載の加飾シートの製造方法。