JP7365576B2 - Decorative sheet, display device with decorative sheet, and method for manufacturing the decorative sheet - Google Patents

Decorative sheet, display device with decorative sheet, and method for manufacturing the decorative sheet Download PDF

Info

Publication number
JP7365576B2
JP7365576B2 JP2019163915A JP2019163915A JP7365576B2 JP 7365576 B2 JP7365576 B2 JP 7365576B2 JP 2019163915 A JP2019163915 A JP 2019163915A JP 2019163915 A JP2019163915 A JP 2019163915A JP 7365576 B2 JP7365576 B2 JP 7365576B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
decorative sheet
layer
film
base design
pattern layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019163915A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2021043280A (en
Inventor
剛 天野
直人 山中
賢一 山内
雅人 水落
康治 犬束
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2019163915A priority Critical patent/JP7365576B2/en
Publication of JP2021043280A publication Critical patent/JP2021043280A/en
Priority to JP2023174518A priority patent/JP2023168628A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7365576B2 publication Critical patent/JP7365576B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Illuminated Signs And Luminous Advertising (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

本発明は、加飾シート、加飾シートを有する加飾シート付き表示装置及び加飾シートの製造方法に関する。 The present invention relates to a decorative sheet, a display device with a decorative sheet having the decorative sheet, and a method for manufacturing the decorative sheet.

例えば特許文献1に記載されているように、背面から光を照明される加飾シートが公知である。この加飾シートは、背面から光を照明されていない状態において、その表面をなす層に設けられた絵柄を表示する。一方、加飾シートには光が透過できるように微小な開口部が形成されていてもよいとされている。加飾シートの背面に投射された光は、開口部が形成された位置において加飾シートを透過する。したがって、加飾シートが所定のパターンで光を照明される場合、加飾シートは所定のパターンを表示することができる。 For example, as described in Patent Document 1, a decorative sheet that is illuminated with light from the back side is known. This decorative sheet displays a pattern provided on a layer forming its surface when it is not illuminated with light from the back side. On the other hand, it is said that the decorative sheet may have minute openings formed therein so that light can pass therethrough. The light projected onto the back surface of the decorative sheet is transmitted through the decorative sheet at the position where the opening is formed. Therefore, when the decorative sheet is illuminated with light in a predetermined pattern, the decorative sheet can display the predetermined pattern.

このような加飾シートによれば、加飾シートを背面から照明することで表示を行うことができる一方、表示を行っていない時には特定の絵柄を表示することができる。したがって、背面から照明されていない時、加飾シートの絵柄によって加飾シートを周囲と調和させることができる。これにより、何らかの表示を行う装置に、優れた表品価値を付与することも可能となる。 According to such a decorative sheet, display can be performed by illuminating the decorative sheet from the back side, while a specific pattern can be displayed when no display is performed. Therefore, when the display is not illuminated from the back, the pattern of the decorative sheet allows the decorative sheet to be in harmony with the surroundings. This also makes it possible to give an excellent public display value to a device that performs some sort of display.

特開2000-132126号公報Japanese Patent Application Publication No. 2000-132126

ところで、加飾シートの開口部は、加飾シートを形成するようになるシート状材料の一部をレーザー光によって溶融除去することで形成され得る。ただし、開口部は視認されないように微細となっていることから、レーザー光を加飾シートの一部分のみに照射して、高精細な配置で開口部を形成することは困難である。このため、従来の加飾シートでは、多くの場合、その全域が透過領域として開口部を形成されていた。すなわち、従来の加飾シートでは、背面から照明された場合における意匠表現を開口部の配置パターンによってより優れたものとすることは実現できておらず、例えば、加飾シートの絵柄による意匠と、背面から照明することで表示される意匠を高い精度で対応させるような表現は困難であった。 By the way, the opening of the decorative sheet can be formed by melting and removing a part of the sheet-like material that forms the decorative sheet using a laser beam. However, since the openings are so minute that they cannot be visually recognized, it is difficult to form the openings in a highly precise arrangement by irradiating only a portion of the decorative sheet with laser light. For this reason, in conventional decorative sheets, in many cases, the entire area is formed with an opening as a transmission region. In other words, with conventional decorative sheets, it has not been possible to improve the design expression when illuminated from the back by changing the arrangement pattern of the openings. It has been difficult to express designs that correspond with high precision when illuminated from the back.

本発明は以上の点を考慮してなされたものであり、背面から照明される加飾シートの意匠性を改善することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of the above points, and an object of the present invention is to improve the design of a decorative sheet that is illuminated from the back.

本発明による第1の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記ベース意匠層を貫通して前記パターン層に到達した開口部が設けられ、
前記パターン層の赤外線の吸収率は、前記ベース意匠層の赤外線の吸収率より高い。
The first decorative sheet according to the present invention is
A decorative sheet arranged facing a surface light source device,
a base design layer,
a pattern layer provided on a portion of the base design layer,
An opening is provided that penetrates the base design layer and reaches the pattern layer,
The infrared absorption rate of the pattern layer is higher than the infrared absorption rate of the base design layer.

本発明による第1の加飾シートにおいて、前記パターン層の吸収スペクトルは、赤外線領域にピークを有するようにしてもよい。 In the first decorative sheet according to the present invention, the absorption spectrum of the patterned layer may have a peak in the infrared region.

本発明による第2の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記ベース意匠層を貫通して前記パターン層に到達した開口部が設けられ、
前記パターン層の吸収スペクトルは、赤外線領域にピークを有する。
The second decorative sheet according to the present invention is
A decorative sheet arranged facing a surface light source device,
a base design layer,
a pattern layer provided on a portion of the base design layer,
An opening is provided that penetrates the base design layer and reaches the pattern layer,
The absorption spectrum of the patterned layer has a peak in the infrared region.

本発明による第1又は第2の加飾シートにおいて、前記パターン層の吸収スペクトルは、900nm以上1300nm以下の波長にピークを有するようにしてもよい。 In the first or second decorative sheet according to the present invention, the absorption spectrum of the patterned layer may have a peak at a wavelength of 900 nm or more and 1300 nm or less.

本発明による第1又は第2の加飾シートにおいて、前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、3%以上であるようにしてもよい。 In the first or second decorative sheet according to the present invention, the peak of the absorption spectrum of the patterned layer in the infrared region may be 3% or more.

本発明による第1又は第2の加飾シートにおいて、前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、前記ベース意匠層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなるようにしてもよい。 In the first or second decorative sheet according to the present invention, the peak of the absorption spectrum in the infrared region of the pattern layer may be higher than the peak of the absorption spectrum in the infrared region of the base design layer. .

本発明による第3の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記ベース意匠層を貫通して前記パターン層に到達した開口部が設けられ、
前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、前記ベース意匠層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークより高い。
The third decorative sheet according to the present invention is
A decorative sheet arranged facing a surface light source device,
a base design layer,
a pattern layer provided on a portion of the base design layer,
An opening is provided that penetrates the base design layer and reaches the pattern layer,
The peak of the absorption spectrum of the patterned layer in the infrared region is higher than the peak of the absorption spectrum of the base design layer in the infrared region.

本発明による第1~第3の加飾シートにおいて、前記パターン層が設けられている領域での可視光透過率は、前記パターン層が設けられていない領域での可視光透過率より高くなるようにしてもよい。 In the first to third decorative sheets according to the present invention, the visible light transmittance in the region where the pattern layer is provided is higher than the visible light transmittance in the region where the pattern layer is not provided. You can also do this.

本発明による第4の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記パターン層が設けられている領域での可視光透過率は、前記パターン層が設けられていない領域での可視光透過率より高く、
前記パターン層の赤外線の吸収率は、前記ベース意匠層の赤外線の吸収率より高い。
The fourth decorative sheet according to the present invention is
A decorative sheet arranged facing a surface light source device,
a base design layer,
a pattern layer provided on a portion of the base design layer,
The visible light transmittance in the region where the pattern layer is provided is higher than the visible light transmittance in the region where the pattern layer is not provided,
The infrared absorption rate of the pattern layer is higher than the infrared absorption rate of the base design layer.

本発明による第5の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記パターン層が設けられている領域での可視光透過率は、前記パターン層が設けられていない領域での可視光透過率より高く、
前記パターン層の吸収スペクトルは、赤外線領域にピークを有する。
The fifth decorative sheet according to the present invention is
A decorative sheet arranged facing a surface light source device,
a base design layer,
a pattern layer provided on a portion of the base design layer,
The visible light transmittance in the region where the pattern layer is provided is higher than the visible light transmittance in the region where the pattern layer is not provided,
The absorption spectrum of the patterned layer has a peak in the infrared region.

本発明による第6の加飾シートは、
面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記パターン層が設けられている領域での可視光透過率は、前記パターン層が設けられていない領域での可視光透過率より高く、
前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、前記ベース意匠層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークより高い。
The sixth decorative sheet according to the present invention is
A decorative sheet arranged facing a surface light source device,
a base design layer,
a pattern layer provided on a portion of the base design layer,
The visible light transmittance in the region where the pattern layer is provided is higher than the visible light transmittance in the region where the pattern layer is not provided,
The peak of the absorption spectrum of the patterned layer in the infrared region is higher than the peak of the absorption spectrum of the base design layer in the infrared region.

本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記パターン層が設けられている領域での開口率は、前記パターン層が設けられていない領域での開口率より高くなるようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the aperture ratio in the region where the pattern layer is provided may be higher than the aperture ratio in the region where the pattern layer is not provided. .

本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記パターン層は有色であるようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the pattern layer may be colored.

本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記パターン層は無色透明であるようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the pattern layer may be colorless and transparent.

本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記ベース意匠層のうちの前記パターン層が設けられていない領域に、凹部が設けられていてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, a recessed portion may be provided in a region of the base design layer where the pattern layer is not provided.

本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記ベース意匠層は無機材料を含むようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the base design layer may contain an inorganic material.

本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記無機材料はフレーク状であるようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the inorganic material may be in the form of flakes.

本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記無機材料の最大長さは5μm以上であるようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the maximum length of the inorganic material may be 5 μm or more.

本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記パターン層が粒子を含み、前記粒子の最大長さが前記フレーク状の無機材料の最大長さより小さくなるようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the pattern layer may include particles, and the maximum length of the particles may be smaller than the maximum length of the flaky inorganic material.

本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記無機材料は、アルミニウム、酸化チタン、雲母のいずれかを含むようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the inorganic material may contain any one of aluminum, titanium oxide, and mica.

本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記ベース意匠層の可視光反射率は、5%以上であるようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the visible light reflectance of the base design layer may be 5% or more.

本発明による第1~第6の加飾シートにおいて、前記ベース意匠層の可視光吸収率は、3%以下であるようにしてもよい。 In the first to sixth decorative sheets according to the present invention, the visible light absorption rate of the base design layer may be 3% or less.

本発明による第1~第6の加飾シートが、
前記ベース意匠層の前記パターン層とは反対側に設けられた遮光層を、更に備え、
前記遮光層の可視光透過率は、前記ベース意匠層の可視光透過率より低くなるようにしてもよい。
The first to sixth decorative sheets according to the present invention are
further comprising a light shielding layer provided on the opposite side of the base design layer from the pattern layer,
The visible light transmittance of the light shielding layer may be lower than the visible light transmittance of the base design layer.

本発明による加飾シート付き表示装置は、
面光源装置と、
上述した本発明による第1~第6の加飾シートのいずれかであって、前記面光源装置に対面するよう配置された加飾シートと、を備える。
The display device with a decorative sheet according to the present invention includes:
A surface light source device,
A decorative sheet that is any one of the first to sixth decorative sheets according to the present invention described above and is arranged to face the surface light source device.

本発明による加飾シートの製造方法は、
上述した本発明による第1~第6の加飾シートのいずれかの製造方法であって、
前記パターン層を形成するようになる第1膜及びベース意匠層を形成するようになる第2膜を作製する工程と、
前記第2膜の側からレーザー光を照射することで、前記第1膜及び前記第2膜の一部を除去して、開口部を形成する工程と、を備える。
The method for manufacturing a decorative sheet according to the present invention includes:
A method for producing any one of the first to sixth decorative sheets according to the present invention described above,
producing a first film that will form the pattern layer and a second film that will form the base design layer;
The method includes a step of removing a portion of the first film and the second film by irradiating the second film with a laser beam from the side of the second film to form an opening.

本発明による加飾シートの製造方法において、前記レーザー光の波長における前記第1膜の吸収率は、前記レーザー光の波長における前記第2膜の吸収率より高くなるようにしてもよい。 In the method for manufacturing a decorative sheet according to the present invention, the absorption rate of the first film at the wavelength of the laser beam may be higher than the absorption rate of the second film at the wavelength of the laser beam.

本発明による加飾シートの製造方法において、前記レーザー光の波長における前記第1膜の吸収率は、3%以上であるようにしてもよい。 In the method for manufacturing a decorative sheet according to the present invention, the absorption rate of the first film at the wavelength of the laser beam may be 3% or more.

本発明による加飾シートの製造方法において、前記レーザー光の波長は、900nm以上1300nm以下であるようにしてもよい。 In the method for manufacturing a decorative sheet according to the present invention, the wavelength of the laser beam may be 900 nm or more and 1300 nm or less.

本発明によれば、背面から照明される加飾シートの意匠性を改善することを目的とする。 According to the present invention, it is an object of the present invention to improve the design of a decorative sheet that is illuminated from the back.

図1は、一実施の形態を説明するための図であって、加飾シート付き表示装置を概略的に示す分解斜視図である。FIG. 1 is a diagram for explaining one embodiment, and is an exploded perspective view schematically showing a display device with a decorative sheet. 図2は、図1の加飾シート付き表示装置の横断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the display device with a decorative sheet shown in FIG. 図2Aは、加飾シートのベース意匠層の横断面図である。FIG. 2A is a cross-sectional view of the base design layer of the decorative sheet. 図2Bは、加飾シートのベース意匠層及びパターン層の横断面図である。FIG. 2B is a cross-sectional view of the base design layer and pattern layer of the decorative sheet. 図3は、図1の加飾シート付き表示装置の面光源装置が消灯した状態において加飾シートを示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing the decorative sheet in a state where the surface light source device of the display device with the decorative sheet of FIG. 1 is turned off. 図4は、図3の領域Zを拡大して示す図である。FIG. 4 is an enlarged view of region Z in FIG. 図5は、図4のV-V線に沿った断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along line VV in FIG. 4. 図6は、図1の加飾シート付き表示装置の面光源装置が点灯した状態において加飾シートを示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing the decorative sheet in a state where the surface light source device of the display device with the decorative sheet of FIG. 1 is turned on. 図7は、加飾シートの製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 7 is a diagram for explaining an example of a method for manufacturing a decorative sheet. 図8は、加飾シートの製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 8 is a diagram for explaining an example of a method for manufacturing a decorative sheet. 図9は、加飾シートの製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining an example of a method for manufacturing a decorative sheet. 図10は、加飾シートの製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining an example of a method for manufacturing a decorative sheet. 図11は、加飾シートの製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 11 is a diagram for explaining an example of a method for manufacturing a decorative sheet. 図12は、図3に対応する図であって、加飾シートの一変形例を説明するための図である。FIG. 12 is a diagram corresponding to FIG. 3, and is a diagram for explaining a modified example of the decorative sheet. 図13は、図4に対応する図であって、図12の領域Zを拡大して示す図である。FIG. 13 is a diagram corresponding to FIG. 4, and is an enlarged diagram of region Z in FIG. 図14は、図5に対応する図であって、加飾シートの他の変形例を説明するための図である。FIG. 14 is a diagram corresponding to FIG. 5, and is a diagram for explaining another modification of the decorative sheet. 図15は、図10に対応する図であって、加飾シートの製造方法の参考例を説明するための図である。FIG. 15 is a diagram corresponding to FIG. 10, and is a diagram for explaining a reference example of a method for manufacturing a decorative sheet. 図16は、図11に対応する図であって、加飾シートの製造方法の参考例を説明するための図である。FIG. 16 is a diagram corresponding to FIG. 11, and is a diagram for explaining a reference example of a method for manufacturing a decorative sheet.

以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。 Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, in the drawings attached to this specification, for convenience of illustration and ease of understanding, the scale and the vertical and horizontal dimensional ratios are appropriately changed and exaggerated from those of the actual drawings.

なお、本明細書において、「層」、「シート」及び「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて互いから区別されるものではない。例えば「層」という用語は、シート或いはフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。 Note that, in this specification, the terms "layer", "sheet", and "film" are not distinguished from each other based only on the difference in designation. For example, the term "layer" is a concept that includes members that may be called sheets or films.

また、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件ならびにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。 In addition, terms such as "parallel," "perpendicular," and "identical," and values of length and angle used in this specification that specify shapes, geometric conditions, and their degree, etc., are strictly The term shall be interpreted to include the extent to which similar functions can be expected, without being bound by meaning.

図1は、本発明による一実施の形態の加飾シート付き表示装置1を概略的に示す分解斜視図である。図1に示されるように、加飾シート付き表示装置1は、発光面11を有する面光源装置10と、発光面11に対面して配置された加飾シート20と、を有している。加飾シート付き表示装置1において、加飾シート20は、後述する遮光層24が設けられた側が面光源装置10に対面するよう配置されている。なお、図示されている例では、加飾シート付き表示装置1は、平板状に示されているが、加飾シート付き表示装置1の各構成要素が湾曲することで、加飾シート付き表示装置1が湾曲形状を有するようにしてもよい。 FIG. 1 is an exploded perspective view schematically showing a display device 1 with a decorative sheet according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the display device 1 with a decorative sheet includes a surface light source device 10 having a light emitting surface 11, and a decorative sheet 20 disposed facing the light emitting surface 11. In the display device 1 with a decorative sheet, the decorative sheet 20 is arranged so that the side on which a light shielding layer 24 described later is provided faces the surface light source device 10. In the illustrated example, the display device 1 with a decorative sheet is shown in a flat shape, but each component of the display device 1 with a decorative sheet is curved, so that the display device 1 with a decorative sheet 1 may have a curved shape.

面光源装置10は、面状に光を発光する装置である。面光源装置10として、特に限定されることなく、種々の型式、例えばエッジライト型や直下型の装置を用いることができる。図示された面光源装置10は、加飾シート20に対面する前面に発光面11を有している。また、面光源装置10の加飾シート20に対面する前面のうち、発光面11を周囲から取り囲む領域は、枠体(ベゼル)によって構成された非発光面12となっている。すなわち、面光源装置10の加飾シート20に対面する前面は、発光面11と、発光面11の周囲に位置する非発光面12と、を含んでいる。 The surface light source device 10 is a device that emits light in a planar manner. The surface light source device 10 is not particularly limited, and various types, such as an edge light type and a direct type device, can be used. The illustrated surface light source device 10 has a light emitting surface 11 on the front surface facing the decorative sheet 20. Further, of the front surface of the surface light source device 10 facing the decorative sheet 20, a region surrounding the light emitting surface 11 is a non-light emitting surface 12 configured by a frame (bezel). That is, the front surface of the surface light source device 10 facing the decorative sheet 20 includes a light emitting surface 11 and a non-light emitting surface 12 located around the light emitting surface 11.

加飾シート20は、面光源装置10の発光面11に対面して配置され、発光面11が外部から直接観察されないよう、少なくとも発光面11の全体を覆っている。加飾シート20は、面光源装置10の発光面11の全体を覆うことができるよう、発光面11の寸法以上の寸法を有している。図示された加飾シート20は、発光面11と、発光面11の周囲に位置する非発光面12と、を含む面光源装置10の前面の全領域を覆う寸法を有している。すなわち、加飾シート20は、面光源装置10の全体を隠蔽している。図1に示す例において、加飾シート20は、全体として面光源装置10の発光面11と同一の方向に広がる平板状の部材となっている。加飾シート20の厚さは、例えば20μm以上550μm以下とすることができる。 The decorative sheet 20 is arranged to face the light emitting surface 11 of the surface light source device 10, and covers at least the entire light emitting surface 11 so that the light emitting surface 11 is not directly observed from the outside. The decorative sheet 20 has dimensions larger than the dimensions of the light emitting surface 11 so that it can cover the entire light emitting surface 11 of the surface light source device 10 . The illustrated decorative sheet 20 has a size that covers the entire front area of the surface light source device 10 including the light emitting surface 11 and the non-light emitting surface 12 located around the light emitting surface 11. That is, the decorative sheet 20 hides the entire surface light source device 10. In the example shown in FIG. 1, the decorative sheet 20 is a flat member that extends in the same direction as the light emitting surface 11 of the surface light source device 10 as a whole. The thickness of the decorative sheet 20 can be, for example, 20 μm or more and 550 μm or less.

加飾シート20は、意匠を表示して、加飾シート付き表示装置1に意匠性を付与する。本実施の形態において、加飾シート20は、ベース意匠層22と、ベース意匠層22の一部分上に設けられたパターン層23と、を有している。ベース意匠層22は、いわゆるベタ層として形成され、二次元的に広がる層、さらに言い換えると面状に広がる層として、形成されている。一方、パターン層23は、ベース意匠層22上の一部分に形成されている。例えば、パターン層23は、ベース意匠層22の一方の面上に所定のパターンで設けられている。 The decorative sheet 20 displays a design and imparts design to the display device 1 with a decorative sheet. In this embodiment, the decorative sheet 20 includes a base design layer 22 and a pattern layer 23 provided on a portion of the base design layer 22. The base design layer 22 is formed as a so-called solid layer, and is formed as a layer that spreads two-dimensionally, or in other words, as a layer that spreads planarly. On the other hand, the pattern layer 23 is formed on a portion of the base design layer 22. For example, the pattern layer 23 is provided in a predetermined pattern on one surface of the base design layer 22.

図2及び図3に示すように、加飾シート20は、第1領域A1及び第2領域A2を含んでいる。図示された加飾シート20は、第1領域A1と第2領域A2とに平面分割されている。そして、パターン層23は、第1領域A1に設けられ、第1領域A1外となる第2領域A2には設けられていない。図示された例において、第1領域A1は、図3に示すように、加飾シート20の中央に設けられ、アルファベットの「D」のパターンをなす領域となっている。 As shown in FIGS. 2 and 3, the decorative sheet 20 includes a first area A1 and a second area A2. The illustrated decorative sheet 20 is plane-divided into a first area A1 and a second area A2. The pattern layer 23 is provided in the first area A1 and is not provided in the second area A2 outside the first area A1. In the illustrated example, the first area A1 is provided at the center of the decorative sheet 20, as shown in FIG. 3, and is an area forming a pattern of the alphabet "D".

また、図示された加飾シート20は、図2に示すように、ベース意匠層22及びパターン層23に加え、基材フィルム21及び遮光層24を更に有している。図2に示された加飾シート20では、基材フィルム21の一方の面上のうちの第1領域A1に、パターン層23が設けられている。ベース意匠層22は、基材フィルム21の一方の面及びパターン層23の全域を覆うように形成されている。すなわち、図示されたベース意匠層22は、基材フィルム21の全域に広がっている。遮光層24は、ベース意匠層22のパターン層23とは反対側に積層されている。遮光層24は、ベース意匠層22の全域に広がっている。以下、加飾シート20に含まれる各構成要素について順に説明する。 Further, the illustrated decorative sheet 20 further includes a base film 21 and a light shielding layer 24 in addition to the base design layer 22 and pattern layer 23, as shown in FIG. In the decorative sheet 20 shown in FIG. 2, a pattern layer 23 is provided in a first region A1 on one surface of the base film 21. The base design layer 22 is formed to cover one surface of the base film 21 and the entire area of the pattern layer 23. That is, the illustrated base design layer 22 extends over the entire area of the base film 21. The light shielding layer 24 is laminated on the side of the base design layer 22 opposite to the pattern layer 23. The light shielding layer 24 extends over the entire area of the base design layer 22. Hereinafter, each component included in the decorative sheet 20 will be explained in order.

基材フィルム21は、基材フィルム21上に積層されたベース意匠層22、パターン層23および遮光層24を支持する。基材フィルム21は、透明なフィルム状の部材である。基材フィルム21としては、可視光を透過し、ベース意匠層22、パターン層23及び遮光層24を適切に支持し得るものであればいかなる材料でもよいが、例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、環状ポリオレフィン、ABS(アクリロニトリル ブタジエン スチレン共重合体)等を挙げることができる。また、基材フィルム21は、可視光透過性や、ベース意匠層22、パターン層23及び遮光層24の適切な支持性等を考慮すると、10μm以上500μm以下の厚さを有していることが好ましい。 The base film 21 supports the base design layer 22, pattern layer 23, and light shielding layer 24 that are laminated on the base film 21. The base film 21 is a transparent film-like member. The base film 21 may be made of any material as long as it transmits visible light and can appropriately support the base design layer 22, pattern layer 23, and light shielding layer 24. For example, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, etc. , polyethylene naphthalate, polycarbonate, polystyrene, cyclic polyolefin, ABS (acrylonitrile butadiene styrene copolymer), and the like. Further, the base film 21 may have a thickness of 10 μm or more and 500 μm or less, considering visible light transmittance and appropriate support for the base design layer 22, pattern layer 23, and light shielding layer 24. preferable.

なお、透明とは、分光光度計((株)島津製作所製「UV-3100PC」、JIS K 0115準拠品)を用いて測定波長380nm~780nmの範囲内で測定したときの、各波長における透過率の平均値として特定される可視光透過率が、80%以上であることを意味する。 Transparent means the transmittance at each wavelength when measured using a spectrophotometer ("UV-3100PC" manufactured by Shimadzu Corporation, JIS K 0115 compliant product) within the measurement wavelength range of 380 nm to 780 nm. It means that the visible light transmittance specified as the average value of is 80% or more.

ベース意匠層22は、パターン層23とともに加飾シート20が表示する意匠を形成する。ベース意匠層22は、図形、パターン、デザイン、色彩、絵、写真、キャラクター、マーク、文字や数字などの絵柄を、意匠として形成することができる。また、ベース意匠層22とは別途にパターン層23が設けられる本実施の形態において、ベース意匠層22は、パターン層23の背景として意匠表現を行うこともできる。例えば、加飾シート付き表示装置1が設けられる周辺環境と調和させることができる意匠として、木目調や大理石調の絵柄や幾何学模様を、ベース意匠層22が表示するようにしてもよい。ベース意匠層22が形成する意匠は、単一の色によって表されていてもよいし、複数の色によって表されていてもよい。また、ベース意匠層22は、外部の観察者に観察された際にパターン層23との混色によりパターン層23が形成する絵柄の意匠性を害さない色を有しており、例えば混色を避けやすい白色や銀色であることが好ましい。 The base design layer 22 forms the design displayed by the decorative sheet 20 together with the pattern layer 23 . The base design layer 22 can form designs such as figures, patterns, designs, colors, pictures, photographs, characters, marks, letters, and numbers. Further, in this embodiment in which the pattern layer 23 is provided separately from the base design layer 22, the base design layer 22 can also express a design as a background of the pattern layer 23. For example, the base design layer 22 may display a wood grain pattern, a marble pattern, or a geometric pattern as a design that can harmonize with the surrounding environment in which the display device 1 with decorative sheet is provided. The design formed by the base design layer 22 may be represented by a single color or by a plurality of colors. In addition, the base design layer 22 has a color that does not harm the design of the pattern formed by the pattern layer 23 due to color mixture with the pattern layer 23 when observed by an external observer, making it easy to avoid color mixture, for example. Preferably, the color is white or silver.

ベース意匠層22は、図2Aに示すように、無機材料を含んだ層とすることができる。図2Aに示されたベース意匠層22は、バインダー樹脂22aと、バインダー樹脂22a中に分散した無機材料22bと、を有している。ベース意匠層22に含まれる無機材料は、特に限定されないが、アルミニウム、酸化チタン、雲母のいずれかとすることができる。これらの無機材料を含むベース意匠層22は、例えば白色または銀色として、パターン層23の色味の変化を効果的に抑制することができる。アルミニウムや雲母からなる無機材料は、最大長さが5μm以上となるフレーク状の材料とすることができる。このような大型のフレーク状の無機材料によれば、ベース意匠層22によって積極的な意匠表現を行うことができる。 The base design layer 22 can be a layer containing an inorganic material, as shown in FIG. 2A. The base design layer 22 shown in FIG. 2A includes a binder resin 22a and an inorganic material 22b dispersed in the binder resin 22a. The inorganic material contained in the base design layer 22 is not particularly limited, and may be aluminum, titanium oxide, or mica. The base design layer 22 containing these inorganic materials can be made white or silver, for example, so that changes in the color of the pattern layer 23 can be effectively suppressed. The inorganic material made of aluminum or mica can be a flaky material with a maximum length of 5 μm or more. According to such a large flake-like inorganic material, a positive design can be expressed by the base design layer 22.

また、ベース意匠層22が形成する意匠を明るく表示するため、ベース意匠層22の可視光反射率は、5%以上であることが好ましく、10%以上であることがより好ましい。可視光反射率は、紫外・可視・近赤外分光光度計(島津製作所UV-3600)および積分球付属装置(ISR-3100)を用いて、入射角8°で可視領域380nm以上780nm以下での反射率(全反射率)を測定し、その平均反射率として、特定することができる。 Further, in order to display the design formed by the base design layer 22 brightly, the visible light reflectance of the base design layer 22 is preferably 5% or more, and more preferably 10% or more. Visible light reflectance was measured using an ultraviolet/visible/near-infrared spectrophotometer (Shimadzu UV-3600) and an integrating sphere accessory (ISR-3100) at an incident angle of 8° in the visible range from 380 nm to 780 nm. The reflectance (total reflectance) can be measured and the average reflectance can be specified.

さらに、ベース意匠層22による意匠表現をより有効とする観点から、ベース意匠層22の可視光吸収率は3%以下としてもよい。ベース意匠層22の可視光吸収率は3%以下となる場合、ベース意匠層22が白色または白に近い白色系の色を表示することが可能になり、ベース意匠層22によって形成される意匠の意匠性を高めることができる。可視光吸収率は、例えば紫外可視近赤外分光光度計(例えば、日本分光株式会社製「V-770」)を用いて測定波長380nm~780nmの範囲内で測定したときの各波長における吸収率の平均値として、特定することができる。 Furthermore, from the viewpoint of making the design expression by the base design layer 22 more effective, the visible light absorption rate of the base design layer 22 may be 3% or less. When the visible light absorption rate of the base design layer 22 is 3% or less, the base design layer 22 can display white or a white color close to white, and the design formed by the base design layer 22 can be The design quality can be improved. The visible light absorption rate is the absorption rate at each wavelength when measured within the measurement wavelength range of 380 nm to 780 nm using, for example, an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (for example, "V-770" manufactured by JASCO Corporation) can be specified as the average value of

その一方で、可視光の波長と赤外線の波長とは近いことから、一般に、可視光吸収率が低い材料は、赤外線吸収率も低くなる。ベース意匠層22の可視光吸収率が低い場合、ベース意匠層22の赤外線吸収率も低くなる。具体的には、ベース意匠層22の赤外線吸収率は3%以下となる傾向が生じる。 On the other hand, since the wavelength of visible light and the wavelength of infrared rays are close to each other, materials that have a low visible light absorption rate generally also have a low infrared absorption rate. When the visible light absorption rate of the base design layer 22 is low, the infrared absorption rate of the base design layer 22 is also low. Specifically, the infrared absorption rate of the base design layer 22 tends to be 3% or less.

パターン層23は、上述したように、加飾シート20の第1領域A1のみに設けられている。パターン層23は、ベース意匠層22の一部分上に設けられることで、パターンを形成している。パターン層23のパターンをなす第1領域A1の形状は、特に限定されることなく、適宜選択することができる。パターン層23は、そのパターン自体によって、図形、デザイン、色彩、絵、キャラクター、マーク、ピクトグラム、文字や数字などを表示するようにしてもよい。また、パターン層23は、当該パターン層23が設けられている第1領域A1内において、図形、デザイン、色彩、絵、キャラクター、マーク、ピクトグラム、文字や数字などの絵柄を表示するようにしてもよい。 As described above, the pattern layer 23 is provided only in the first area A1 of the decorative sheet 20. The pattern layer 23 is provided on a portion of the base design layer 22 to form a pattern. The shape of the first region A1 forming the pattern of the pattern layer 23 is not particularly limited and can be selected as appropriate. The pattern layer 23 may display figures, designs, colors, pictures, characters, marks, pictograms, letters, numbers, etc. by the pattern itself. Further, the pattern layer 23 may display pictures such as figures, designs, colors, pictures, characters, marks, pictograms, letters and numbers in the first area A1 where the pattern layer 23 is provided. good.

図示された一具体例において、パターン層23は、図3に示すように、加飾シート20の中央に位置するアルファベットの「D」をなす領域に形成されている。図示されたパターン層23は、単色の層となっている。つまり、このパターン層23は、単一の色にてアルファベットの「D」を表示している。一方、図示されたベース意匠層22は、パターン層23とは異なる単色の層となっている。つまり、ベース意匠層22は、パターン層23とは異なる色で、アルファベットの「D」の背景を表示している。 In one illustrated example, the pattern layer 23 is formed in an area shaped like the letter "D" located at the center of the decorative sheet 20, as shown in FIG. The illustrated pattern layer 23 is a monochromatic layer. In other words, this pattern layer 23 displays the alphabet "D" in a single color. On the other hand, the illustrated base design layer 22 is a monochromatic layer different from the pattern layer 23. That is, the base design layer 22 displays the background of the alphabet "D" in a color different from that of the pattern layer 23.

また、パターン層23は、赤外線を吸収する特性を有している。後述するように、加飾シート20の製造工程においてパターン層23を形成するようになる第1膜31は、ベース意匠層22を形成するようになる第2膜32で吸収されなかった赤外線領域のレーザー光を吸収する。このため、パターン層23は、ベース意匠層22より赤外線を吸収しやすくなっている。言い換えると、パターン層23の赤外線の吸収率は、ベース意匠層22の赤外線の吸収率より高くなっている。また、ここで、赤外線の吸収率とは、波長900nm以上1300nm以下の赤外線の平均吸収率を意味している。このような波長は、一般的に安価に入手可能で十分な出力の赤外線レーザー光源から照射されるレーザー光の波長であり、加飾シート20の製造工程において用いられるレーザー光の波長に適している。また、赤外線の吸収率は、例えば日本分光株式会社製の紫外可視近赤外分光光度計V-770を用いて測定波長900nm~1300nmの範囲内で測定したときの各波長における吸収率の平均値として、特定することができる。 Furthermore, the pattern layer 23 has a property of absorbing infrared rays. As will be described later, in the manufacturing process of the decorative sheet 20, the first film 31 that forms the pattern layer 23 absorbs infrared rays that are not absorbed by the second film 32 that forms the base design layer 22. Absorbs laser light. Therefore, the pattern layer 23 absorbs infrared rays more easily than the base design layer 22. In other words, the infrared absorption rate of the pattern layer 23 is higher than the infrared absorption rate of the base design layer 22. Moreover, the infrared absorption rate herein means the average absorption rate of infrared rays having a wavelength of 900 nm or more and 1300 nm or less. Such a wavelength is the wavelength of laser light emitted from an infrared laser light source that is generally available at low cost and has sufficient output, and is suitable for the wavelength of laser light used in the manufacturing process of the decorative sheet 20. . In addition, the infrared absorption rate is the average value of the absorption rate at each wavelength when measured within the measurement wavelength range of 900 nm to 1300 nm using, for example, an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer V-770 manufactured by JASCO Corporation. can be specified as.

パターン層23が赤外線を吸収しやすいよう、パターン層23の吸収スペクトルは、赤外線領域(780nm以上15000nm以下の波長域)に吸収率のピークを有している。具体的には、パターン層23の吸収スペクトルは、780nm以上15000nm以下の波長に吸収率のピークを有していることが好ましく、800nm以上10000nm以下の波長に吸収率のピークを有していることがより好ましく、900nm以上1300nm以下の波長に吸収率のピークを有していることがさらに好ましい。また、パターン層23の吸収スペクトルの吸収率のピークは、3%以上であることが好ましく、5%以上であることがより好ましい。ここで、吸収スペクトルとは、各波長〔nm〕における光の吸収率〔%〕の分布を意味している。また、パターン層23が赤外線を吸収しやすいよう、パターン層23の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、ベース意匠層22の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなっていることが好ましい。 The absorption spectrum of the patterned layer 23 has an absorption peak in the infrared region (wavelength range of 780 nm or more and 15,000 nm or less) so that the patterned layer 23 easily absorbs infrared rays. Specifically, the absorption spectrum of the patterned layer 23 preferably has an absorption peak at a wavelength of 780 nm or more and 15,000 nm or less, and preferably has an absorption peak at a wavelength of 800 nm or more and 10,000 nm or less. is more preferable, and even more preferably has an absorption peak at a wavelength of 900 nm or more and 1300 nm or less. Further, the peak of the absorption rate of the absorption spectrum of the patterned layer 23 is preferably 3% or more, more preferably 5% or more. Here, the absorption spectrum means the distribution of light absorption rate [%] at each wavelength [nm]. Further, in order for the patterned layer 23 to easily absorb infrared rays, it is preferable that the peak of the absorption spectrum of the patterned layer 23 in the infrared region is higher than the peak of the absorption spectrum of the base design layer 22 in the infrared region.

ベース意匠層22及びパターン層23は、バインダー樹脂中に顔料等を含んだ層として形成することができる。また上述したように、ベース意匠層22及びパターン層23は、バインダー樹脂中に、アルミニウム、酸化チタン、雲母等の無機材料を含んだ層とすることもできる。 The base design layer 22 and the pattern layer 23 can be formed as layers containing a pigment or the like in a binder resin. Further, as described above, the base design layer 22 and the pattern layer 23 may be layers containing an inorganic material such as aluminum, titanium oxide, or mica in a binder resin.

ベース意匠層22の厚さ及びパターン層23の厚さは、十分な意匠表現を行うことができる厚さ以上となっていることが好ましい。その一方で、ベース意匠層22の厚さ及びパターン層23の厚さは、後述するレーザー光による除去を可能にする厚さ以下となっていることが好ましい。具体的には、ベース意匠層22の厚さを1μm以上40μm以下とすることができる。パターン層23の厚さを1μm以上20μm以下とすることができる。なお、図示された例において、第2領域A2におけるベース意匠層22の厚さは、第1領域A1におけるベース意匠層22の厚さと第1領域A1におけるパターン層23の厚さとを足し合わせた厚さとなっている。 Preferably, the thickness of the base design layer 22 and the thickness of the pattern layer 23 are greater than or equal to a thickness that allows sufficient design expression. On the other hand, it is preferable that the thickness of the base design layer 22 and the thickness of the pattern layer 23 be equal to or less than a thickness that enables removal by laser light, which will be described later. Specifically, the thickness of the base design layer 22 can be set to 1 μm or more and 40 μm or less. The thickness of the pattern layer 23 can be 1 μm or more and 20 μm or less. In the illustrated example, the thickness of the base design layer 22 in the second area A2 is the sum of the thickness of the base design layer 22 in the first area A1 and the thickness of the pattern layer 23 in the first area A1. It's sato.

遮光層24は、面光源装置10に対面する側からベース意匠層22を覆うように設けられている。遮光層24は、面光源装置10からの可視光がベース意匠層22に入射しないよう、可視光遮光性を有している。したがって、遮光層24の可視光透過率は、ベース意匠層22の可視光透過率よりも低くなっていることが好ましい。遮光層24は、例えば光吸収粒子をバインダー樹脂中に含み得る。光吸収粒子としては、カーボンブラックやチタンブラック等の黒色顔料を例示することができる。十分な厚さの遮光層24がベース意匠層22を覆っていると、ベース意匠層22によって形成される意匠を濃く明確に形成することができる。具体的な例として、遮光層24の厚さを、1μm以上20μm以下とすることができる。 The light shielding layer 24 is provided so as to cover the base design layer 22 from the side facing the surface light source device 10. The light shielding layer 24 has a visible light shielding property so that visible light from the surface light source device 10 does not enter the base design layer 22. Therefore, the visible light transmittance of the light shielding layer 24 is preferably lower than the visible light transmittance of the base design layer 22. The light-shielding layer 24 may contain light-absorbing particles in a binder resin, for example. Examples of light-absorbing particles include black pigments such as carbon black and titanium black. When the base design layer 22 is covered with a sufficiently thick light-shielding layer 24, the design formed by the base design layer 22 can be formed darkly and clearly. As a specific example, the thickness of the light shielding layer 24 can be set to 1 μm or more and 20 μm or less.

なお、上述したように、可視光透過率は、分光光度計((株)島津製作所製「UV-3100PC」、JIS K 0115準拠品)を用いて測定波長380nm~780nmの範囲内で測定したときの、各波長における透過率の平均値として特定することができる。 As mentioned above, visible light transmittance is measured using a spectrophotometer ("UV-3100PC" manufactured by Shimadzu Corporation, JIS K 0115 compliant product) within the measurement wavelength range of 380 nm to 780 nm. It can be specified as the average value of transmittance at each wavelength.

ところで、図2に示すように、加飾シート20は、パターン層23が設けられている領域、すなわち第1領域A1に、遮光層24及びベース意匠層22を貫通してパターン層23に到達する開口部Hが形成されている。このような開口部Hの形成によって、加飾シート20は、第1領域A1において光の透過を促進させることができる。可視光を透過させる観点から、開口部Hの深さDHは、加飾シート20の第1領域A1における基材フィルム21を除いた厚さT1の90%以上であることが好ましく、典型的には、開口部Hはパターン層23を貫通して基材フィルム21に達している(図5参照)。すなわち、典型的には、遮光層24、パターン層23及びベース意匠層22を貫通した開口部(貫通孔)Hが形成されている。この開口部Hは、面光源装置10によって背面から照明された際に、面光源装置10で発光された光の透過部28として機能する。図5に示すように、図示された例において、第1領域A1における開口部Hは、加飾シート20を貫通する貫通孔として形成されている。 By the way, as shown in FIG. 2, the decorative sheet 20 penetrates the light shielding layer 24 and the base design layer 22 to reach the pattern layer 23 in the area where the pattern layer 23 is provided, that is, the first area A1. An opening H is formed. By forming such openings H, the decorative sheet 20 can promote light transmission in the first region A1. From the viewpoint of transmitting visible light, the depth DH of the opening H is preferably 90% or more of the thickness T1 excluding the base film 21 in the first area A1 of the decorative sheet 20, and typically In this case, the opening H penetrates the pattern layer 23 and reaches the base film 21 (see FIG. 5). That is, typically, an opening (through hole) H passing through the light shielding layer 24, the pattern layer 23, and the base design layer 22 is formed. This opening H functions as a transmitting portion 28 for the light emitted by the surface light source device 10 when illuminated from the back by the surface light source device 10. As shown in FIG. 5, in the illustrated example, the opening H in the first region A1 is formed as a through hole that penetrates the decorative sheet 20.

貫通した開口部Hからなる透過部28は、図4に示すように、加飾シート20の正面からの観察において、ベース意匠層22、パターン層23及び遮光層24の非形成部となっている。面光源装置10で発光された光を十分に透過させるため、加飾シート20の第1領域A1の面積のうちの貫通した開口部Hが占める面積の割合、すなわち開口率は、10%以上となっていることが好ましく、15%以上であることがより好ましく、20%以上であることがさらに好ましい。その一方で、面光源装置10の消灯時におけるパターン層23の視認性を十分に確保するため、第1領域A1における開口率は、50%以下であることが好ましい。 As shown in FIG. 4, the transparent part 28 consisting of the penetrating opening H is a part where the base design layer 22, pattern layer 23, and light shielding layer 24 are not formed when observing the decorative sheet 20 from the front. . In order to sufficiently transmit the light emitted by the surface light source device 10, the proportion of the area occupied by the penetrating openings H in the area of the first region A1 of the decorative sheet 20, that is, the aperture ratio is set to 10% or more. It is preferably 15% or more, and even more preferably 20% or more. On the other hand, in order to sufficiently ensure the visibility of the pattern layer 23 when the surface light source device 10 is turned off, the aperture ratio in the first region A1 is preferably 50% or less.

なお、図4は、図3の領域Zを拡大して示している。 Note that FIG. 4 shows the area Z in FIG. 3 in an enlarged manner.

このように、加飾シート20の第1領域A1では、面光源装置10の点灯時に光の透過が促進される。一方、加飾シート20の第2領域A2では、面光源装置10の点灯時に光の透過が規制される。このため、貫通した開口部Hが占める面積の割合である開口率は、第1領域A1において、第2領域A2よりも大きくなる。結果として、パターン層23が設けられている第1領域A1での可視光透過率は、パターン層23が設けられていない第2領域A2での可視光透過率より高くなる。すなわち、貫通した開口部Hは、加飾シート20のうちの第1領域A1に集中的に形成されている。 In this way, in the first region A1 of the decorative sheet 20, light transmission is promoted when the surface light source device 10 is turned on. On the other hand, in the second area A2 of the decorative sheet 20, transmission of light is restricted when the surface light source device 10 is turned on. Therefore, the aperture ratio, which is the ratio of the area occupied by the penetrating opening H, is larger in the first region A1 than in the second region A2. As a result, the visible light transmittance in the first region A1 where the pattern layer 23 is provided is higher than the visible light transmittance in the second region A2 where the pattern layer 23 is not provided. That is, the penetrating openings H are formed intensively in the first region A1 of the decorative sheet 20.

図4及び図5に示された加飾シート20において、パターン層23が設けられていない領域、すなわち第2領域A2に、ベース意匠層22を貫通する開口部Hは形成されていない。図示された例において、加飾シート20の第2領域A2には、貫通孔が設けられていない。したがって、図示された加飾シート20の第2領域A2における開口率は0%となり、加飾シート20の第2領域A2における可視光の透過は有効に規制される。 In the decorative sheet 20 shown in FIGS. 4 and 5, no opening H passing through the base design layer 22 is formed in a region where the pattern layer 23 is not provided, that is, in the second region A2. In the illustrated example, no through holes are provided in the second area A2 of the decorative sheet 20. Therefore, the aperture ratio in the illustrated second region A2 of the decorative sheet 20 is 0%, and the transmission of visible light in the second region A2 of the decorative sheet 20 is effectively regulated.

なお、図5に示すように、加飾シート20の第2領域A2に、ベース意匠層22を貫通しない凹部(貫通しない開口部)Rが形成されていてもよい。後述するように、この凹部Rは、第1領域A1への開口部Hの作製にともなって、第2領域A2に形成される。面光源装置10によって背面から照明された際に、面光源装置10で発光された光の透過を有効に遮蔽する観点から、凹部Rの深さDRは、加飾シート20の第2領域A2における凹部Rが形成されていない位置での基材フィルム21を除いた厚さT2の80%以下であることが好ましく、70%以下であることがさらに好ましい。第2領域A2に凹部Rを形成し且つその深さDRを調節することで、加飾シート20の点灯時における第2領域A2の明るさを制御することができる。これにより、第1領域A1及び第2領域A2の明るさバランスにより、パターン層23による表示コントラストを調節して多様な意匠表現を可能とすることができる。 Note that, as shown in FIG. 5, a recess (opening that does not penetrate) R that does not penetrate the base design layer 22 may be formed in the second region A2 of the decorative sheet 20. As will be described later, this recess R is formed in the second region A2 when the opening H into the first region A1 is created. From the viewpoint of effectively blocking the transmission of light emitted by the surface light source device 10 when illuminated from the back by the surface light source device 10, the depth DR of the recessed portion R is set to the depth DR in the second region A2 of the decorative sheet 20. It is preferably 80% or less, and more preferably 70% or less, of the thickness T2 excluding the base film 21 at the position where the recess R is not formed. By forming the recess R in the second region A2 and adjusting its depth DR, the brightness of the second region A2 when the decorative sheet 20 is lit can be controlled. Thereby, the display contrast of the pattern layer 23 can be adjusted by adjusting the brightness balance between the first area A1 and the second area A2, thereby making it possible to express various designs.

図4に示された例において、第1領域A1に設けられた複数の開口部Hは互いに離間して配置されている。また、第1領域A1に設けられた複数の開口部Hは、規則的に配列されている。透過部28を形成する開口部Hが規則的に配列されることで、面光源装置10で発光された光が、概ね均一な明るさで、加飾シート20の第1領域A1を透過することができる。同様に、第2領域A2に設けられた複数の凹部Rは互いに離間して配置されている。また、第2領域A2に設けられた複数の凹部Rは、規則的に配列されている。凹部Rが規則的に配列されることで、面光源装置10が点灯して可視光を射出している際に、加飾シート20の第2領域A2を均一な明るさとすることができる。 In the example shown in FIG. 4, the plurality of openings H provided in the first region A1 are spaced apart from each other. Further, the plurality of openings H provided in the first region A1 are regularly arranged. By regularly arranging the openings H forming the transmission section 28, the light emitted by the surface light source device 10 can be transmitted through the first area A1 of the decorative sheet 20 with approximately uniform brightness. I can do it. Similarly, the plurality of recesses R provided in the second region A2 are spaced apart from each other. Further, the plurality of recesses R provided in the second region A2 are regularly arranged. By arranging the recesses R regularly, when the surface light source device 10 is turned on and emits visible light, the second area A2 of the decorative sheet 20 can be made to have uniform brightness.

さらに、加飾シート20において、開口部H及び凹部Rは、まとまて、規則的に配列されている。図示された例において、複数の開口部Hおよび複数の凹部Rは、それぞれ、正方配列にて配置されているが、これに限られず、ハニカム配列や千鳥配列で配列されてもよいし、或いは、不規則に配列されてもよい。複数の開口部Hの配列と複数の凹部Rの配列が異なっていてもよい。 Furthermore, in the decorative sheet 20, the openings H and the recesses R are arranged together and regularly. In the illustrated example, the plurality of openings H and the plurality of recesses R are arranged in a square arrangement, but they are not limited to this, and may be arranged in a honeycomb arrangement or a staggered arrangement, or, They may be arranged irregularly. The arrangement of the plurality of openings H and the arrangement of the plurality of recesses R may be different.

また、図4に示された例において、第1領域A1に設けられた複数の開口部Hは互いに同一な平面視形状を有している。具体的には、各開口部Hは、平面視において円形形状を有している。透過部28を形成する複数の開口部Hが一定の形状を有することで、面光源装置10で発光された光が、概ね均一な明るさで、加飾シート20の第1領域A1を透過することができる。同様に、図4に示された例において、第2領域A2に設けられた複数の凹部Rは互いに同一の平面視形状を有している。具体的には、各凹部Rは、平面視において円形形状を有している。凹部Rが一定の形状を有することで、面光源装置10が点灯して可視光を射出している際に、加飾シート20の第2領域A2を均一な明るさとすることができる。 Furthermore, in the example shown in FIG. 4, the plurality of openings H provided in the first region A1 have the same shape in plan view. Specifically, each opening H has a circular shape in plan view. Since the plurality of openings H forming the transmission section 28 have a certain shape, the light emitted by the surface light source device 10 is transmitted through the first area A1 of the decorative sheet 20 with approximately uniform brightness. be able to. Similarly, in the example shown in FIG. 4, the plurality of recesses R provided in the second region A2 have the same shape in plan view. Specifically, each recess R has a circular shape in plan view. Since the recess R has a certain shape, the second area A2 of the decorative sheet 20 can have uniform brightness when the surface light source device 10 is turned on and emits visible light.

さらに、図4に示された例において、開口部Hと凹部Rとが、平面視において同一の形状を有している。しかしながら、図示された例に限られず、複数の開口部Hの間で、開口部Hの平面視形状が異なるようにしてもよい。また、複数の凹部Rの間で、凹部Rの平面視形状が異なるようにしてもよい。さらに、開口部Hの平面視形状が凹部Rの平面視形状と異なるようにしてもよい。 Furthermore, in the example shown in FIG. 4, the opening H and the recess R have the same shape in plan view. However, the present invention is not limited to the illustrated example, and the shapes of the openings H in plan view may be different among the plurality of openings H. Furthermore, the shapes of the recesses R in plan view may be different among the plurality of recesses R. Furthermore, the shape of the opening H in plan view may be different from the shape of the recess R in plan view.

なお、加飾シート20の意匠性の観点から、個々の開口部Hは視認されないことが好ましい。同様に、個々の凹部Rも視認されないことが好ましい。この観点から、複数の開口部Hの配列ピッチPHを、60μm以上160μm以下とすることができる。各開口部Hの最大幅WHを、30μm以上130μm以下とすることができる。各開口部Hの面積を、900μm以上16900μm以下とすることができる。また、複数の凹部Rの配列ピッチPRを、60μm以上160μm以下とすることができる。各凹部Rの最大幅WRを、30μm以上130μm以下とすることができる。各凹部Rの面積を、900μm以上16900μm以下とすることができる。 In addition, from the viewpoint of the design of the decorative sheet 20, it is preferable that the individual openings H are not visually recognized. Similarly, it is preferable that the individual recesses R are also not visually recognized. From this point of view, the arrangement pitch PH of the plurality of openings H can be set to 60 μm or more and 160 μm or less. The maximum width WH of each opening H can be 30 μm or more and 130 μm or less. The area of each opening H can be set to 900 μm 2 or more and 16900 μm 2 or less. Further, the arrangement pitch PR of the plurality of recesses R can be set to 60 μm or more and 160 μm or less. The maximum width WR of each recess R can be 30 μm or more and 130 μm or less. The area of each recess R can be 900 μm 2 or more and 16900 μm 2 or less.

次に、本実施の形態の加飾シート付き表示装置1の作用について説明する。 Next, the operation of the display device 1 with a decorative sheet according to the present embodiment will be explained.

面光源装置10が消灯して発光面11から可視光が発光されていない状態では、図3に示すように、加飾シート20のベース意匠層22の色とパターン層23の色との相違により、パターン層23が形成された第1領域A1のパターンが視認される。すなわち、パターン層23のパターンが視認されるようになる。また、加飾シート20によって、面光源装置10を隠蔽することができる。さらに、ベース意匠層22自体の意匠性によって、加飾シート付き表示装置1が設置されている周囲環境と、加飾シート20との調和を図ることもできる。 When the surface light source device 10 is turned off and no visible light is emitted from the light emitting surface 11, as shown in FIG. , the pattern of the first area A1 in which the pattern layer 23 is formed is visible. That is, the pattern of the pattern layer 23 becomes visible. Further, the surface light source device 10 can be hidden by the decorative sheet 20. Furthermore, the design of the base design layer 22 itself makes it possible to harmonize the decoration sheet 20 with the surrounding environment in which the display device 1 with a decorative sheet is installed.

一方、面光源装置10が点灯して発光面11から可視光が発光されている状態では、開口部Hが形成された第1領域A1の可視光透過率が、第2領域A2の可視光透過率よりも高くなる。結果として、面光源装置10の消灯時よりも、図6に示すようにパターン層23が形成された第1領域A1のパターンは明るく確認され得る。一方、第2領域A2には開口部Hが形成されていないので、面光源装置10で発光された可視光は、高い透過率で、第2領域A2において加飾シート20を透化することはない。このため、ベース意匠層22は、環境光の反射によって視認されるだけなので、パターン層23ほど明るくは観察されない。すなわち、パターン層23を高コントラストで明瞭に視認することができる。 On the other hand, when the surface light source device 10 is turned on and visible light is emitted from the light emitting surface 11, the visible light transmittance of the first region A1 in which the opening H is formed is the same as the visible light transmittance of the second region A2. higher than the rate. As a result, the pattern in the first area A1 where the pattern layer 23 is formed can be seen to be brighter than when the surface light source device 10 is turned off, as shown in FIG. On the other hand, since the opening H is not formed in the second area A2, the visible light emitted by the surface light source device 10 has a high transmittance and cannot pass through the decorative sheet 20 in the second area A2. do not have. For this reason, the base design layer 22 is only visible by reflection of ambient light, and therefore is not observed as brightly as the pattern layer 23. That is, the pattern layer 23 can be clearly viewed with high contrast.

なお、ベース意匠層22は、遮光層24によって面光源装置10の側から覆われている。したがって、遮光層24によって、面光源装置10で発光された可視光がベース意匠層22へ入射することを効果的に規制することができる。このため、第1領域A1において、ベース意匠層22及びパターン層23を可視光が透過して、ベース意匠層22とパターン層23との混色によって意図しない色味でパターン層23が視認されることを効果的に回避することができる。さらに、図示された例では、面光源装置10の発光面11と非発光面12との境界Bが、加飾シート20の第2領域A2内に位置するが、可視光が第2領域A2を積極的に透過しないので、この境界Bを不可視化することができる。 Note that the base design layer 22 is covered with a light shielding layer 24 from the surface light source device 10 side. Therefore, the light shielding layer 24 can effectively restrict visible light emitted by the surface light source device 10 from entering the base design layer 22. Therefore, in the first region A1, visible light passes through the base design layer 22 and the pattern layer 23, and the pattern layer 23 is visually recognized in an unintended color due to the color mixture of the base design layer 22 and the pattern layer 23. can be effectively avoided. Furthermore, in the illustrated example, the boundary B between the light-emitting surface 11 and the non-light-emitting surface 12 of the surface light source device 10 is located within the second area A2 of the decorative sheet 20, but visible light does not pass through the second area A2. Since it is not actively transmitted, this boundary B can be made invisible.

次に、加飾シート20の製造方法の一例について、説明する。 Next, an example of a method for manufacturing the decorative sheet 20 will be described.

まず、図8に示すように、基材フィルム21の第1領域A1に、パターン層23を形成するようになる第1膜31を形成する。次に、図9に示すように、基材フィルム21及び第1膜31を覆うようにして、ベース意匠層22を形成するようになる第2膜32を形成する。その後、図10に示すように、第2膜32を覆うようにして、遮光層24を形成するようになる第3膜33を形成する。第1膜31、第2膜32及び第3膜33は、対応する各層に含まれるようになる無機材料や顔料等を含んだ樹脂組成物を塗布および乾燥することによって形成され得る。なお、樹脂組成物の塗布は公知のコーティング技術を用いることで実施することができる。この際、第1膜31をなす樹脂組成物を基材フィルム21上の第1領域A1のみに塗布することも公知技術を用いて、極めて容易、迅速、且つ、精度良く実施することができる。 First, as shown in FIG. 8, the first film 31 on which the pattern layer 23 will be formed is formed in the first region A1 of the base film 21. Next, as shown in FIG. 9, a second film 32 that will form the base design layer 22 is formed so as to cover the base film 21 and the first film 31. Thereafter, as shown in FIG. 10, a third film 33 that will form the light shielding layer 24 is formed to cover the second film 32. The first film 31, the second film 32, and the third film 33 can be formed by applying and drying a resin composition containing an inorganic material, a pigment, etc. that will be included in each corresponding layer. Note that the resin composition can be applied using a known coating technique. At this time, applying the resin composition constituting the first film 31 only to the first area A1 on the base film 21 can be performed extremely easily, quickly, and accurately using known techniques.

このようにして形成された積層物34において、第1膜31の赤外線の吸収率は、第2膜32の赤外線の吸収率より高くなっていることが好ましい。第1膜31の吸収スペクトルのピークは、第2膜32の吸収スペクトルのピークよりも高くなっていることが好ましい。第1膜31の吸収スペクトルは、赤外線領域にピークを有することが好ましい。第1膜31の吸収スペクトルは、900nm以上1300nm以下の波長にピークを有するようにしてもよい。第1膜31の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、3%以上であるようにしてもよい。 In the laminate 34 formed in this manner, it is preferable that the first film 31 has a higher infrared absorption rate than the second film 32. It is preferable that the peak of the absorption spectrum of the first film 31 is higher than the peak of the absorption spectrum of the second film 32. The absorption spectrum of the first film 31 preferably has a peak in the infrared region. The absorption spectrum of the first film 31 may have a peak at a wavelength of 900 nm or more and 1300 nm or less. The peak of the absorption spectrum of the first film 31 in the infrared region may be 3% or more.

次に、図11に示すように、開口部Hを形成すべき位置にレーザー装置40からレーザー光Lxを照射する。レーザー光は、基材フィルム21側とは逆側、すなわち第2膜32及び第3膜33の側から照射される。レーザー光Lxの波長は、赤外線領域の波長780nm以上1300nm以下であり、例えば900nm以上1300nm以下である。レーザー光Lxの具体的な例として、波長1064nmのNd:YAGレーザーのレーザー光を用いることができる。レーザー装置40から発振されるレーザー光Lxを赤外線とすることで、ベース意匠層22やパターン層23の色や柄の影響を弱めて、ベース意匠層22をなす第2膜32でのレーザー光Lxの吸収率よりもパターン層23をなす第1膜31でのレーザー光Lxの吸収率を高く設定し易くなる。 Next, as shown in FIG. 11, a laser beam Lx is irradiated from the laser device 40 to the position where the opening H is to be formed. The laser light is irradiated from the side opposite to the base film 21 side, that is, from the side of the second film 32 and the third film 33. The wavelength of the laser beam Lx is in the infrared region from 780 nm to 1300 nm, for example from 900 nm to 1300 nm. As a specific example of the laser beam Lx, a laser beam of an Nd:YAG laser having a wavelength of 1064 nm can be used. By using the infrared laser beam Lx emitted from the laser device 40, the influence of the color and pattern of the base design layer 22 and pattern layer 23 is weakened, and the laser beam Lx on the second film 32 forming the base design layer 22 is reduced. It is easier to set the absorption rate of the laser beam Lx in the first film 31 forming the pattern layer 23 higher than the absorption rate of the pattern layer 23 .

図11に示す例では、レーザー装置40の射出部を一定のピッチでずらしながら、レーザー光Lxを積層物34に第3膜33の側から照射する。このとき、積層物34の第3膜33上におけるレーザー光Lxの照射領域は、特に煩雑な制御を行うことなく、第3膜33のほぼ全域、或いは、第3膜33のうちの明らかに第1領域A1外となる周縁領域以外の領域に、レーザー光Lxを照射すればよい。すなわち、微細な開口部を形成することから極めて微細なスポット径を有するようになるレーザー光Lxの照射領域を高精度に制御することなく、例えば第1領域A1のみに限定されるように制御することなく、レーザー装置40のピッチおよび出力のみを制御して、レーザー装置40からレーザー光Lxを照射していく。第1領域A1を示す第1膜31は第3膜33で隠蔽されていることから、レーザー光Lxを第1領域A1のみに照射する位置決め制御は煩雑となることが想定されるが、このような煩雑な作業を省略し得ることで生産性を大幅に向上させることができる。 In the example shown in FIG. 11, the laser beam Lx is irradiated onto the laminate 34 from the third film 33 side while shifting the emission part of the laser device 40 at a constant pitch. At this time, the irradiation area of the laser beam Lx on the third film 33 of the laminate 34 is almost the entire area of the third film 33 or the clearly visible area of the third film 33 without any complicated control. The laser beam Lx may be irradiated to a region other than the peripheral region outside the first region A1. That is, the irradiation area of the laser beam Lx, which has an extremely fine spot diameter due to the formation of a fine opening, is not controlled with high precision, but is controlled to be limited to, for example, only the first area A1. The laser beam Lx is irradiated from the laser device 40 by controlling only the pitch and output of the laser device 40. Since the first film 31 indicating the first area A1 is hidden by the third film 33, it is assumed that positioning control to irradiate only the first area A1 with the laser beam Lx will be complicated. Productivity can be greatly improved by omitting complicated tasks.

なお、レーザー装置40から発振されるレーザー光Lxの出力は、第2領域A2において、第2膜32をすべて溶融除去しない程度とする。すなわち、レーザー装置40の出力を抑えて、第2領域A2では第3膜33及び第2膜32を貫通する開口部が形成されないようにする。図11に示された例では、第2領域A2において、第3膜33及び第2膜32の合計厚みの半分程度まで第3膜33及び第2膜32を除去している。この結果、第3膜33を貫通して第2膜32の途中まで延びる凹部Rが形成されている。 Note that the output of the laser beam Lx emitted from the laser device 40 is set to a level that does not completely melt and remove the second film 32 in the second region A2. That is, the output of the laser device 40 is suppressed to prevent an opening penetrating the third film 33 and the second film 32 from being formed in the second region A2. In the example shown in FIG. 11, the third film 33 and the second film 32 are removed to about half the total thickness of the third film 33 and the second film 32 in the second region A2. As a result, a recess R is formed that penetrates the third film 33 and extends halfway through the second film 32.

一方、第1領域A1においては、レーザー光Lxが照射された位置において、第3膜33、第2膜32及び第1膜31がすべて除去されて、基材フィルム21まで通じる貫通した開口部29が形成される。第1領域A1では、レーザー光Lxの入射側から最も離間した位置に配置された第1膜31が、レーザー装置40から投射される波長域のレーザー光Lxを高吸収率(例えば3%以上、さらに好ましくは5%以上の吸収率)で吸収することができる。したがって、第1膜31上の第2膜32が完全に除去され得ない程度の出力でレーザー光Lxが照射されている場合でも、図12に示すように、レーザー光Lxの一部が第1膜31に到達して第1膜31に効率良く吸収されることで、第1膜31が溶融する。これにともなって、まず、溶融した第1膜31に隣接する第2膜32も溶融する。更に、溶融した第1膜31の蒸発にともなって、溶融した第2膜32も蒸発する。 On the other hand, in the first region A1, at the position irradiated with the laser beam Lx, the third film 33, the second film 32, and the first film 31 are all removed, and a penetrating opening 29 leading to the base film 21 is removed. is formed. In the first region A1, the first film 31 disposed at the farthest position from the incident side of the laser beam Lx absorbs the laser beam Lx in the wavelength range projected from the laser device 40 with a high absorption rate (for example, 3% or more). More preferably, it can be absorbed at an absorption rate of 5% or more. Therefore, even when the laser beam Lx is irradiated with such an output that the second film 32 on the first film 31 cannot be completely removed, as shown in FIG. The first film 31 is melted by reaching the film 31 and being efficiently absorbed by the first film 31. Along with this, the second film 32 adjacent to the melted first film 31 is also melted. Furthermore, as the melted first film 31 evaporates, the melted second film 32 also evaporates.

以上にようにして、レーザー光Lxの照射によって、積層物34の第2領域A2に凹部Rを形成し、第1膜31が設けられた積層物34の第1領域A1に開口部Hを形成することできる。この製造方法では、第1領域A1に照射する際のレーザー光Lxの照射条件と、第2領域A2に照射する際のレーザー光Lxの照射条件とを同一とすることができる。したがって、積層物34のうちの第1領域A1の領域を特定する必要がない。なお、第1膜31を隠蔽し得る第3膜33の側からレーザー光Lxを照射することから、第1膜31が設けられた第1領域A1を特定して第1領域A1のみにレーザー光Lxを照射すること煩雑である。この点において、上述した製造方法では、第1領域A1の特定を省略して、一定の照射条件で第3膜33の全域にレーザー光Lxを照射することで、第1領域A1に選択的に開口部Hを形成し、第2領域A2に選択的に凹部Rを形成することができる。したがって、優れた意匠性を奏する加飾シート20の製造を大幅に単純化することができる。 As described above, by irradiating the laser beam Lx, a recess R is formed in the second region A2 of the laminate 34, and an opening H is formed in the first region A1 of the laminate 34, in which the first film 31 is provided. I can do that. In this manufacturing method, the irradiation conditions of the laser beam Lx when irradiating the first area A1 and the irradiation conditions of the laser beam Lx when irradiating the second area A2 can be made the same. Therefore, there is no need to specify the first area A1 of the laminate 34. Note that since the laser beam Lx is irradiated from the side of the third film 33 that can hide the first film 31, the first area A1 where the first film 31 is provided is specified and the laser beam is applied only to the first area A1. Irradiating Lx is complicated. In this regard, in the manufacturing method described above, the identification of the first area A1 is omitted and the entire area of the third film 33 is irradiated with the laser beam Lx under constant irradiation conditions, thereby selectively affecting the first area A1. An opening H can be formed, and a recess R can be selectively formed in the second region A2. Therefore, manufacturing of the decorative sheet 20 with excellent design can be greatly simplified.

レーザー光Lxが照射されずに除去されなかった第3膜33、第2膜32及び第1膜31が、それぞれ、遮光層24、ベース意匠層22及びパターン層23を形成するようになる。以上の工程によって、加飾シート20が製造される。 The third film 33, second film 32, and first film 31 that were not irradiated with the laser beam Lx and were not removed come to form the light shielding layer 24, the base design layer 22, and the pattern layer 23, respectively. The decorative sheet 20 is manufactured through the above steps.

ところで、パターン層23を含まない加飾シート120は、図15に示すように、基材フィルム121上に第2膜132及び第3膜133を積層し、透過部128を形成すべき位置に出力を調整したレーザー光Lyを照射することで製造され得る。このようにして加飾シート120が製造されると、図16に示すように、ベース意匠層122を形成するようになる第2膜132が十分に除去されずに、一部の透過部128内に第2膜132の残留物132rが残ることがある。このような残留物132rが残った透過部128と残留物132rが残っていない透過部128との間では意匠性に違いが生じ得る。具体的には、残留物132rによって表示すべき意匠より意匠が濃く表示されてしまうことがある。この意匠性の違いに起因して、加飾シート120が表示する意匠に濃淡の模様が生じてしまい、加飾シート120が表示すべき意匠が損なわれ、加飾シート120によって付与される意匠性が悪化し得る。 By the way, as shown in FIG. 15, the decorative sheet 120 that does not include the pattern layer 23 is obtained by laminating the second film 132 and the third film 133 on the base film 121, and outputting it to the position where the transparent part 128 is to be formed. It can be manufactured by irradiating the laser beam Ly with adjusted. When the decorative sheet 120 is manufactured in this way, as shown in FIG. A residue 132r of the second film 132 may remain. There may be a difference in design between the transparent portion 128 in which such a residue 132r remains and the transparent portion 128 in which no residue 132r remains. Specifically, the design may be displayed darker than the design that should be displayed due to the residue 132r. Due to this difference in design, a pattern of shading occurs in the design displayed by the decorative sheet 120, and the design that should be displayed by the decorative sheet 120 is impaired. may worsen.

本件発明者らが鋭意検討した結果、このような残留物132rは、第2膜132がレーザー光Lyを十分に吸収しないことが原因となっていることが知見された。具体的には、第2膜132がレーザー光Lyを十分に吸収しないことに起因して、第2膜132が十分に溶融蒸発せず、一部の第2膜132が残留して透過部128に残ってしまう。レーザー光Lyを吸収する第2膜132とレーザー光Lyを十分に吸収しない第2膜132とは、例えば各位置における第2膜132によって形成されるようになるベース意匠層122の各位置の色や柄の違いに起因して生じ得ることも確認された。 As a result of intensive studies by the inventors of the present invention, it has been found that such a residue 132r is caused by the second film 132 not sufficiently absorbing the laser beam Ly. Specifically, due to the fact that the second film 132 does not sufficiently absorb the laser beam Ly, the second film 132 is not sufficiently melted and evaporated, and a portion of the second film 132 remains and the transmitting portion 128 It remains in The second film 132 that absorbs the laser beam Ly and the second film 132 that does not sufficiently absorb the laser beam Ly are, for example, the colors at each position of the base design layer 122 that are formed by the second film 132 at each position. It was also confirmed that this could occur due to differences in the pattern and pattern.

一方、本実施の形態の加飾シート20は、開口部Hを形成すべき第1領域A1において、基材フィルム21とベース意匠層22との間に赤外線を吸収するパターン層23が配置されている。すなわち、加飾シート20の製造工程において、基材フィルム21と第2膜32との間に、パターン層23を形成するようになる第1膜31が配置されている。パターン層23の赤外線の吸収率は、ベース意匠層22の赤外線の吸収率より高くなっている。すなわち、加飾シート20の製造工程において、第1膜31の赤外線の吸収率は、第2膜32の赤外線の吸収率より高くなっている。このため、第2膜32において開口部Hを形成するレーザー光が十分に吸収されなくても、第1膜31においてレーザー光を十分に吸収することができる。レーザー光を吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、第1膜31上に積層された第2膜32及び第3膜33を、残留物をほとんど残さずに除去することができる。すなわち、加飾シート20の第1領域A1において、開口部Hに残留物を残りにくくさせることができる。 On the other hand, in the decorative sheet 20 of the present embodiment, a pattern layer 23 that absorbs infrared rays is arranged between the base film 21 and the base design layer 22 in the first region A1 where the opening H is to be formed. There is. That is, in the manufacturing process of the decorative sheet 20, the first film 31 that forms the pattern layer 23 is placed between the base film 21 and the second film 32. The infrared absorption rate of the pattern layer 23 is higher than the infrared absorption rate of the base design layer 22. That is, in the manufacturing process of the decorative sheet 20, the infrared absorption rate of the first film 31 is higher than the infrared absorption rate of the second film 32. Therefore, even if the second film 32 does not sufficiently absorb the laser light forming the opening H, the first film 31 can sufficiently absorb the laser light. By melting and evaporating the first film 31 that has absorbed the laser beam, the second film 32 and third film 33 stacked on the first film 31 can be removed without leaving almost any residue. That is, in the first region A1 of the decorative sheet 20, it is possible to prevent residue from remaining in the opening H.

また、パターン層23の吸収スペクトルは、赤外線領域に吸収率のピークを有している。すなわち、加飾シート20の製造工程において、第1膜31の吸収スペクトルは、赤外線領域に吸収率のピークを有している。このため、第1膜31は、ピークとなる波長の赤外線を効率よく吸収することができる。第1膜31のピークとなる波長が開口部Hを形成するレーザー光Lxの波長に近いと、第1膜31においてレーザー光が効率よく吸収される。レーザー光を吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、第1膜31上に積層された第2膜32及び第3膜33を、残留物をほとんど残さずに除去して、加飾シート20の第1領域A1に形成される開口部Hの内部に残留物を残りにくくさせることができる。 Further, the absorption spectrum of the patterned layer 23 has an absorption peak in the infrared region. That is, in the manufacturing process of the decorative sheet 20, the absorption spectrum of the first film 31 has an absorption peak in the infrared region. Therefore, the first film 31 can efficiently absorb infrared rays of the peak wavelength. When the peak wavelength of the first film 31 is close to the wavelength of the laser light Lx forming the opening H, the laser light is efficiently absorbed in the first film 31. By melting and evaporating the first film 31 that has absorbed the laser beam, the second film 32 and third film 33 stacked on the first film 31 are removed with almost no residue left behind, thereby forming a decorative sheet. It is possible to make it difficult for residue to remain inside the opening H formed in the first region A1 of 20.

さらに、パターン層23の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、ベース意匠層22の赤外線領域での吸収スペクトルのピークより高くなっている。すなわち、加飾シート20の製造工程において、第1膜31の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、第2膜32の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなっている。このため、第1膜31は、第2膜32よりも赤外線を効率よく吸収することができる。言い換えると、第1膜31は、第2膜32よりもレーザー光を効率よく吸収することができる。レーザー光を吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、第1膜31上に積層された第2膜32及び第3膜33を、残留物をほとんど残さずに除去して、加飾シート20の第1領域A1に形成される開口部Hの内部に残留物を付着残りにくくさせることができる。 Furthermore, the peak of the absorption spectrum of the patterned layer 23 in the infrared region is higher than the peak of the absorption spectrum of the base design layer 22 in the infrared region. That is, in the manufacturing process of the decorative sheet 20, the peak of the absorption spectrum of the first film 31 in the infrared region is higher than the peak of the absorption spectrum of the second film 32 in the infrared region. Therefore, the first film 31 can absorb infrared rays more efficiently than the second film 32. In other words, the first film 31 can absorb laser light more efficiently than the second film 32. By melting and evaporating the first film 31 that has absorbed the laser beam, the second film 32 and third film 33 stacked on the first film 31 are removed with almost no residue left behind, thereby forming a decorative sheet. It is possible to make it difficult for residues to remain attached to the inside of the opening H formed in the first region A1 of 20.

パターン層23の吸収スペクトルは、900nm以上1300nm以下の波長に吸収率のピークを有している。すなわち、加飾シート20の製造工程において、第1膜31の吸収スペクトルは、900nm以上1300nm以下の波長に吸収率のピークを有している。このため、第1膜31は、この波長の赤外線を効率よく吸収することができる。開口部Hを形成するレーザー光Lxが900nm以上1300nm以下となる波長であると、第1膜31においてレーザー光Lxがより効率よく吸収される。レーザー光Lxを吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、第1膜31上に積層された第2膜32及び第3膜33を、残留物をほとんど残さずに除去して、加飾シート20の第1領域A1に形成される開口部Hに残留物を残りにくくさせることができる。 The absorption spectrum of the patterned layer 23 has an absorption peak at a wavelength of 900 nm or more and 1300 nm or less. That is, in the manufacturing process of the decorative sheet 20, the absorption spectrum of the first film 31 has an absorption peak at a wavelength of 900 nm or more and 1300 nm or less. Therefore, the first film 31 can efficiently absorb infrared rays of this wavelength. When the laser beam Lx forming the opening H has a wavelength of 900 nm or more and 1300 nm or less, the first film 31 absorbs the laser beam Lx more efficiently. By melting and evaporating the first film 31 that has absorbed the laser beam Lx, the second film 32 and third film 33 stacked on the first film 31 are removed without leaving almost any residue, and the decoration is completed. It is possible to prevent residue from remaining in the opening H formed in the first region A1 of the sheet 20.

また、パターン層23の吸収スペクトルの吸収率のピークは、3%以上である。すなわち、加飾シート20の製造工程において、第1膜31の吸収スペクトルの吸収率のピークは、3%以上である。このため、第1膜31の吸収スペクトルの吸収率のピークにおける赤外線をより効率よく吸収することができる。開口部Hを形成するレーザー光が第1膜31のピークまたはその近傍となる波長であると、第1膜31においてレーザー光がより効率よく吸収される。レーザー光を吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、第1膜31上に積層された第2膜32及び第3膜33を、残留物をほとんど残さずに除去して、加飾シート20の第1領域A1に形成される開口部Hに残留物を残りにくくさせることができる。 Moreover, the peak of the absorption rate of the absorption spectrum of the patterned layer 23 is 3% or more. That is, in the manufacturing process of the decorative sheet 20, the peak of the absorption rate of the absorption spectrum of the first film 31 is 3% or more. Therefore, infrared rays at the peak of the absorption rate of the absorption spectrum of the first film 31 can be absorbed more efficiently. When the laser light forming the opening H has a wavelength that is at or near the peak of the first film 31, the laser light is absorbed more efficiently in the first film 31. By melting and evaporating the first film 31 that has absorbed the laser beam, the second film 32 and third film 33 stacked on the first film 31 are removed with almost no residue left behind, thereby forming a decorative sheet. It is possible to make it difficult for residues to remain in the opening H formed in the first region A1 of 20.

また、ベース意匠層22は、酸化チタン等の無機材料を含んでいる。無機材料は第2膜32においてレーザー光を十分に吸収しないと、残留物として残って開口部Hに残留しやすい。しかしながら、本実施の形態のように、基材フィルム21とベース意匠層22との間に赤外線を吸収するパターン層23が配置されていると、加飾シート20の製造工程において、パターン層23を形成するようになる第1膜31が赤外線を十分に吸収するため、第2膜32がこのような無機材料を含んでいたとしても、レーザー光Lxを吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、残留物をほとんど残さずに第2膜32を除去することができる。すなわち、加飾シート20の第1領域A1に形成される開口部Hに残留物を残りにくくさせることができる。 Furthermore, the base design layer 22 contains an inorganic material such as titanium oxide. If the inorganic material does not sufficiently absorb the laser light in the second film 32, it tends to remain as a residue in the opening H. However, if the pattern layer 23 that absorbs infrared rays is disposed between the base film 21 and the base design layer 22 as in the present embodiment, the pattern layer 23 is removed in the manufacturing process of the decorative sheet 20. Since the first film 31 that comes to be formed sufficiently absorbs infrared rays, even if the second film 32 contains such an inorganic material, the first film 31 that has absorbed the laser beam Lx will not melt and evaporate. In this way, the second film 32 can be removed without leaving almost any residue. That is, it is possible to prevent residue from remaining in the opening H formed in the first region A1 of the decorative sheet 20.

とりわけ、無機材料は、アルミニウム、酸化チタン、雲母のいずれかを含んでいる。このような材料を含む場合、ベース意匠層22の可視光反射率は、5%以上になり得る。このようなベース意匠層22は赤外線も吸収しにくくなる傾向があり、レーザー光を照射しても除去されにくい。このため、第2膜32にレーザー光を照射することによって開口部Hを形成することは困難であった。一方、本実施の形態のように、基材フィルム21とベース意匠層22との間に赤外線を吸収するパターン層23が配置されていると、加飾シート20の製造工程において、パターン層23を形成するようになる第1膜31が赤外線Lxを十分に吸収するため、第2膜32が赤外線を吸収しにくくても、レーザー光を吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、残留物をほとんど残さずに第2膜32を除去することができる。すなわち、加飾シート20の第1領域A1に形成される開口部Hに残留物を残りにくくさせることができる。 In particular, the inorganic material includes aluminum, titanium oxide, or mica. When such a material is included, the visible light reflectance of the base design layer 22 can be 5% or more. Such a base design layer 22 tends to be difficult to absorb infrared rays, and is difficult to be removed even when irradiated with laser light. For this reason, it has been difficult to form the opening H by irradiating the second film 32 with laser light. On the other hand, if the pattern layer 23 that absorbs infrared rays is arranged between the base film 21 and the base design layer 22 as in this embodiment, the pattern layer 23 is Since the first film 31 that comes to be formed sufficiently absorbs infrared rays Lx, even if the second film 32 hardly absorbs infrared rays, the first film 31 that has absorbed the laser beam melts and evaporates, leaving no residue. The second film 32 can be removed with almost no residue left behind. That is, it is possible to prevent residue from remaining in the opening H formed in the first region A1 of the decorative sheet 20.

以上に説明してきた一実施の形態において、加飾シートの製造方法は、基材フィルム21上にパターン層23を形成するようになる第1膜31及びベース意匠層22を形成するようになる第2膜32を積層する工程と、第2膜32の側からレーザー光を照射することで、第1膜31及び第2膜32の一部を除去して、開口部Hを形成する工程と、を含んでいる。このような加飾シートの製造方法によれば、ベース意匠層22を形成するようになる第2膜32において開口部Hを形成するためのレーザー光Lxが十分に吸収されず、その一方で、パターン層23を形成するようになる第1膜31においてレーザー光Lxが十分に吸収されるようにすることができる。したがって、第1膜31が設けられている第1領域A1では、レーザー光Lxを吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、第1膜31上に積層された第2膜32を除去して、可視光が十分に透過し得る開口部Hを形成することができる。一方、第1膜31が設けられていない第2領域A2では、レーザー光Lxが第2膜32に吸収されにくいことから、深さDRの浅い凹部Rが形成されるようにすることができる。すなわち、第2膜32の全域にレーザー光Lxを照射してとしても、パターン層23を形成する第1膜31が設けられている第1領域A1のみに、可視光が十分に透過し得る開口部Hが形成されるようにすることができる。つまり、本実施の形態によれば、第1膜31の形成領域を調節することによって、可視光が十分に透過し得る開口部Hの形成領域を制御することができる。第1膜31の形成領域の調節は、レーザー光Lxの照射領域を調節することと比較して格段に容易である。したがって、優れた意匠性を有する加飾シート20を容易且つ安価に作製することができる。 In the embodiment described above, the method for manufacturing a decorative sheet includes a first film 31 that forms a pattern layer 23 on a base film 21 and a first film that forms a base design layer 22 on a base film 21. a step of stacking two films 32; a step of removing a portion of the first film 31 and the second film 32 by irradiating laser light from the second film 32 side to form an opening H; Contains. According to such a method of manufacturing a decorative sheet, the laser beam Lx for forming the opening H is not sufficiently absorbed in the second film 32 that forms the base design layer 22, and on the other hand, The laser beam Lx can be sufficiently absorbed in the first film 31 forming the pattern layer 23. Therefore, in the first region A1 where the first film 31 is provided, the first film 31 that has absorbed the laser beam Lx is melted and evaporated, thereby removing the second film 32 stacked on the first film 31. Thus, an opening H through which visible light can sufficiently pass can be formed. On the other hand, in the second region A2 where the first film 31 is not provided, the laser beam Lx is not easily absorbed by the second film 32, so that a shallow recess R with a depth DR can be formed. That is, even if the entire area of the second film 32 is irradiated with the laser beam Lx, only the first region A1 where the first film 31 forming the pattern layer 23 is provided has an opening through which visible light can sufficiently pass. A portion H may be formed. That is, according to the present embodiment, by adjusting the formation area of the first film 31, it is possible to control the formation area of the opening H that can sufficiently transmit visible light. Adjusting the formation area of the first film 31 is much easier than adjusting the irradiation area of the laser beam Lx. Therefore, the decorative sheet 20 having an excellent design can be easily and inexpensively produced.

上述した一実施の形態の一具体例において、レーザー光Lxの波長における第1膜31の吸収率は、レーザー光Lxの波長における第2膜32の吸収率より高くしている。この例によれば、レーザー光Lxを吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、第1膜31上に積層された第2膜32を安定して除去することができる。したがって、可視光の透過を十分に促進し得る開口部Hを第1領域A1に安定して形成することができる。その一方で、第1膜31が設けられていない第2領域A2では、可視光の透過を十分に促進し得る開口部Hに代えて、深さの浅い凹部Rを形成することができる。すなわち、開口部Hの形成領域を、第1膜31のパターンによって高精度に制御することが可能となる。 In one specific example of the embodiment described above, the absorption rate of the first film 31 at the wavelength of the laser beam Lx is higher than the absorption rate of the second film 32 at the wavelength of the laser beam Lx. According to this example, the second film 32 stacked on the first film 31 can be stably removed by melting and evaporating the first film 31 that has absorbed the laser beam Lx. Therefore, the opening H that can sufficiently promote the transmission of visible light can be stably formed in the first region A1. On the other hand, in the second region A2 where the first film 31 is not provided, a shallow recess R can be formed in place of the opening H that can sufficiently promote transmission of visible light. In other words, the formation region of the opening H can be controlled with high precision by the pattern of the first film 31.

上述した一実施の形態の一具体例において、開口部H形成のために用いられるレーザー光Lxの波長における第1膜31の吸収率は、3%以上としている。このような例によれば、パターン層23を形成するようになる第1膜31においてレーザー光Lxを十分に吸収することができる。したがって、パターン層23が設けられている第1領域A1では、レーザー光Lxを吸収した第1膜31が溶融蒸発することで、第1膜31上に積層された第2膜32を安定して除去し、可視光の透過を十分に促進し得る開口部Hを第1領域A1に安定して形成することができる。すなわち、開口部Hの形成領域を、第1膜31のパターンによって高精度に制御することが可能となる。 In one specific example of the embodiment described above, the absorption rate of the first film 31 at the wavelength of the laser beam Lx used for forming the opening H is set to be 3% or more. According to such an example, the first film 31 forming the pattern layer 23 can sufficiently absorb the laser beam Lx. Therefore, in the first region A1 where the pattern layer 23 is provided, the first film 31 that has absorbed the laser beam Lx is melted and evaporated, thereby stably maintaining the second film 32 laminated on the first film 31. The opening H that can sufficiently promote the transmission of visible light can be stably formed in the first region A1. In other words, the formation region of the opening H can be controlled with high precision by the pattern of the first film 31.

以上に説明してきた一実施の形態において、面光源装置10に対面して配置される加飾シート20は、ベース意匠層22と、ベース意匠層22の一部分上に設けられたパターン層23と、を有している。パターン層23が設けられている第1領域A1では、ベース意匠層22を貫通してパターン層23まで到達した開口部Hが設けられている。そして、パターン層23が設けられている第1領域A1での可視光透過率は、パターン層23が設けられていない第1領域A1での可視光透過率より高くなっている。ここで、パターン層23の赤外線の吸収率はベース意匠層22の赤外線の吸収率より高くなっている、パターン層23の吸収スペクトルは赤外線領域にピークを有している、或いは、パターン層23の赤外線領域での吸収スペクトルのピークはベース意匠層22の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなっている。このような加飾シート20では、レーザー光の照射により形成された開口部Hは、パターン層23が設けられている第1領域A1において、より高い透過率で可視光を透過させ得るようになる。言い換えるとパターン層23が設けられている第1領域A1にレーザー光Lxの照射により形成された開口部Hは、パターン層23が設けられていない第2領域A2にレーザー光Lxの照射により形成された凹部Rと比較して、加飾シート20の可視光透過率向上に寄与することができる。したがって、加飾シート20を背面から照明した際に、パターン層23が設けられている第1領域A1を、パターン層23が設けられていない第2領域A2よりも明るく表示することができる。したがって、パターン層23とベース意匠層22との組み合わせにより、意匠性を効果的に改善して、意匠性に優れた表示を行うことができる。 In the embodiment described above, the decorative sheet 20 disposed facing the surface light source device 10 includes a base design layer 22, a pattern layer 23 provided on a portion of the base design layer 22, have. In the first region A1 where the pattern layer 23 is provided, an opening H that penetrates the base design layer 22 and reaches the pattern layer 23 is provided. The visible light transmittance in the first region A1 where the pattern layer 23 is provided is higher than the visible light transmittance in the first region A1 where the pattern layer 23 is not provided. Here, the infrared absorption rate of the pattern layer 23 is higher than the infrared absorption rate of the base design layer 22, the absorption spectrum of the pattern layer 23 has a peak in the infrared region, or the pattern layer 23 has a peak in the infrared region. The peak of the absorption spectrum in the infrared region is higher than the peak of the absorption spectrum of the base design layer 22 in the infrared region. In such a decorative sheet 20, the openings H formed by laser light irradiation can transmit visible light with higher transmittance in the first area A1 where the pattern layer 23 is provided. . In other words, the opening H formed in the first area A1 where the pattern layer 23 is provided by irradiation with the laser beam Lx is formed in the second area A2 where the pattern layer 23 is not provided by irradiation with the laser beam Lx. This can contribute to improving the visible light transmittance of the decorative sheet 20 compared to the recessed portions R. Therefore, when the decorative sheet 20 is illuminated from the back side, the first area A1 where the pattern layer 23 is provided can be displayed brighter than the second area A2 where the pattern layer 23 is not provided. Therefore, the combination of the pattern layer 23 and the base design layer 22 can effectively improve the design and provide a display with excellent design.

上述した一実施の形態の一具体例において、パターン層23が設けられている第1領域A1での開口率は、パターン層23が設けられていない第2領域A2での開口率より高くなっている。これにより、パターン層23が設けられている第1領域A1での可視光透過率を、パターン層23が設けられていない第2領域A2の透過率より安定して高くすることができる。 In one specific example of the embodiment described above, the aperture ratio in the first area A1 where the pattern layer 23 is provided is higher than the aperture ratio in the second area A2 where the pattern layer 23 is not provided. There is. Thereby, the visible light transmittance in the first region A1 where the pattern layer 23 is provided can be stably made higher than the transmittance in the second region A2 where the pattern layer 23 is not provided.

上述した一実施の形態の一具体例において、パターン層23は有色の層となっている。この例によれば、加飾シート20を背面から照明していない場合に、パターン層23の色によって、パターンを表示することができる。さらに、加飾シート20を背面から照明することで、パターン層23によって表示されていたパターンを、可視光を用いて明るく表示することができる。これにより、パターンの表示に変化を付けることが可能となり、意匠性を向上させることができる。 In one specific example of the embodiment described above, the pattern layer 23 is a colored layer. According to this example, when the decorative sheet 20 is not illuminated from the back side, the pattern can be displayed by the color of the pattern layer 23. Furthermore, by illuminating the decorative sheet 20 from the back side, the pattern displayed by the pattern layer 23 can be displayed brightly using visible light. This makes it possible to vary the pattern display and improve the design.

上述した一実施の形態の一具体例において、ベース意匠層22のうちのパターン層23が設けられていない第2領域A2に、パターン層23が設けられている側とは反対側から、凹部Rが設けられている。凹部Rの深さDRは、第2領域A2内の凹部Rが設けられていない位置における、基材フィルム21を除いた加飾シート20の厚さの80%以下となっている。この例によれば、背面から照射された可視光の一部が、有底孔としての凹部Rが形成されている部分において、加飾シート20の第2領域A2を透過することができる。すなわち、貫通していない凹部Rの深さDRによって、パターン層23が設けられていない第2領域A2の明るさを調整することができる。これにより、意匠性をさらに向上させることが可能となる。 In a specific example of the embodiment described above, a recess R is formed in the second region A2 of the base design layer 22 where the pattern layer 23 is not provided, from the side opposite to the side where the pattern layer 23 is provided. is provided. The depth DR of the recess R is 80% or less of the thickness of the decorative sheet 20 excluding the base film 21 at a position in the second region A2 where the recess R is not provided. According to this example, part of the visible light irradiated from the back surface can pass through the second region A2 of the decorative sheet 20 in the portion where the recess R as the bottomed hole is formed. That is, the brightness of the second region A2 where the pattern layer 23 is not provided can be adjusted by the depth DR of the recess R that does not penetrate through the surface. This makes it possible to further improve the design.

上述した一実施の形態の一具体例において、ベース意匠層22は無機材料を含んでいる。この例によれば、ベース意匠層22が無機材料を含むことで、さらに豊かな意匠表現を行うことができる。その一方で、無機材料を含むベース意匠層22には、レーザー光の照射によって貫通した開口部Hを安定して形成することが難しくなる。したがって、パターン層23を設けて孔形状を安定化させることができる本実施の形態は、無機材料を含むベース意匠層22を有した加飾シート20に好適と言える。 In one specific example of the embodiment described above, the base design layer 22 includes an inorganic material. According to this example, since the base design layer 22 contains an inorganic material, a richer design can be expressed. On the other hand, in the base design layer 22 containing an inorganic material, it becomes difficult to stably form a penetrating opening H by laser light irradiation. Therefore, this embodiment, in which the pattern layer 23 can be provided to stabilize the hole shape, is suitable for the decorative sheet 20 having the base design layer 22 containing an inorganic material.

上述した一実施の形態の一具体例において、無機材料は、酸化チタンを含んでいる。酸化チタンを無機材料として用いることで、パターン層との組み合わせにおいて、加飾シート20の意匠性を大幅に向上させることができる。その一方で、このような酸化チタンを含むベース意匠層22の可視光吸収率は3%以下程度まで低下し、併せて、酸化チタンを含むベース意匠層22の赤外線吸収率も3%以下程度まで低下してしまう。結果として、このようなベース意匠層22には、レーザー光の照射によって貫通した開口部Hを安定して形成することは難しくなる。このため、パターン層23を設けて孔形状を安定化させることができる本実施の形態は、酸化チタンを無機材料として含むベース意匠層22を有した加飾シート20に好適と言える。 In one specific example of the embodiment described above, the inorganic material includes titanium oxide. By using titanium oxide as an inorganic material, the design of the decorative sheet 20 can be significantly improved in combination with the pattern layer. On the other hand, the visible light absorption rate of the base design layer 22 containing titanium oxide decreases to about 3% or less, and the infrared absorption rate of the base design layer 22 containing titanium oxide also decreases to about 3% or less. It will drop. As a result, it becomes difficult to stably form an opening H through the base design layer 22 by irradiation with laser light. Therefore, this embodiment, in which the pattern layer 23 can be provided to stabilize the hole shape, is suitable for the decorative sheet 20 having the base design layer 22 containing titanium oxide as an inorganic material.

上述した一実施の形態の一具体例において、ベース意匠層22の可視光反射率は、5%以上となっている。高反射率のベース意匠層22は豊かな意匠表現が可能である一方、このようなベース意匠層22には貫通した開口部Hを安定して形成することが難しい。したがって、パターン層23を設けて孔形状を安定化させることができる本実施の形態は、無機材料を含むベース意匠層22を有した加飾シート20に好適と言える。 In one specific example of the embodiment described above, the visible light reflectance of the base design layer 22 is 5% or more. While the base design layer 22 with high reflectance allows rich design expression, it is difficult to stably form penetrating openings H in such a base design layer 22. Therefore, this embodiment, in which the pattern layer 23 can be provided to stabilize the hole shape, is suitable for the decorative sheet 20 having the base design layer 22 containing an inorganic material.

一実施の形態を具体例に基づいて説明してきたが、上述の具体例が一実施の形態を限定することを意図していない。上述した一実施の形態は、その他の様々な具体例で実施されることが可能であり、その要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、追加を行うことができる。 Although one embodiment has been described based on a specific example, the above-mentioned specific example is not intended to limit the one embodiment. The embodiment described above can be implemented in various other specific examples, and various omissions, substitutions, changes, and additions can be made without departing from the gist thereof.

以下、図面を参照しながら、変形の一例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した具体例と同様に構成され得る部分について、上述の具体例における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いるとともに、重複する説明を省略する。 Hereinafter, an example of the modification will be described with reference to the drawings. In the following explanation and the drawings used in the following explanation, the same reference numerals as those used for corresponding parts in the above specific example are used for parts that may be configured in the same way as in the above specific example, and redundant explanations are used. omitted.

上述した一具体例において、パターン層23を有色の層としたが、この例に限られず、パターン層23を無色透明の層としてもよい。例えば、パターン層23の可視光透過率を80%以上とし、更には85%以上とすることができる。この例によれば、面光源装置10が消灯して可視光を射出していない状態において、図12及び図13に示すように、パターン層23が視認されない。したがって、加飾シート20の第1領域A1及び第2領域A2を区分けすることができず、ベース意匠層22のみが視認される。ここで図13は、図4に対応する図であって、図12中の領域Zを拡大して示している。その一方で、面光源装置10が点灯して可視光を射出している状態では、図6に示すように、パターン層23のパターンを明るく明瞭に表示することが可能となる。このような例によれば、加飾シート20は、背面から照明されることで、それまで視認されていなかったパターンを表示することができる。すなわち、意外性のある表示を行うことができ、これにより、意匠性を向上させることができる。 In the specific example described above, the pattern layer 23 is a colored layer, but the pattern layer 23 is not limited to this example, and the pattern layer 23 may be a colorless and transparent layer. For example, the visible light transmittance of the patterned layer 23 can be set to 80% or more, and further to 85% or more. According to this example, when the surface light source device 10 is turned off and does not emit visible light, the pattern layer 23 is not visible, as shown in FIGS. 12 and 13. Therefore, the first area A1 and the second area A2 of the decorative sheet 20 cannot be separated, and only the base design layer 22 is visible. Here, FIG. 13 is a diagram corresponding to FIG. 4, and shows the region Z in FIG. 12 in an enlarged manner. On the other hand, when the surface light source device 10 is turned on and emits visible light, the pattern of the pattern layer 23 can be displayed brightly and clearly, as shown in FIG. According to such an example, the decorative sheet 20 can display a pattern that has not been visually recognized until then by being illuminated from the back side. That is, unexpected display can be performed, thereby improving the design.

また、上述した一具体例において、加飾シート20が、ベース意匠層22を一層だけ含む例を示したが、これに限られない。図14に示すように、加飾シート20が、ベース意匠層22に加えて、一以上の更なるベース意匠層を含むようにしてもよい。更なるベース意匠層は、上述したベース意匠層22と同様に構成され得る。更なるベース意匠層は、ベース意匠層22と同様にベタ層として、加飾シート20の全域に広がっていてもよい。 Further, in the specific example described above, the decorative sheet 20 includes only one base design layer 22, but the present invention is not limited to this. As shown in FIG. 14, the decorative sheet 20 may include one or more additional base design layers in addition to the base design layer 22. Further base design layers may be constructed similarly to base design layer 22 described above. The further base design layer may be spread over the entire area of the decorative sheet 20 as a solid layer like the base design layer 22.

図14に示された例において、加飾シート20は、ベース意匠層22の基材フィルム21とは反対側に設けられた第2ベース意匠層22Bを有している。図14に示された例において、ベース意匠層22は、図形、パターン、デザイン、色彩、絵、写真、キャラクター、マーク、文字や数字などの絵柄、とりわけ木目調や大理石調の絵柄や幾何学模様を表示する絵柄層として形成される。第2ベース意匠層22Bは、ベース意匠層22の絵柄を引き立たせるための無機材料を含んだ層や金属を含んだメタリック層として形成される。第2ベース意匠層22Bを設けることでベース意匠層22の意匠性を引き立たせることができる。このような加飾シート20は、第2ベース意匠層22Bを形成するようになる第4膜を、ベース意匠層22を形成するようになる第2膜32と遮光層33を形成するようになる第3膜33との間に有した積層物34を準備し、この積層物34にレーザー光を照射することで作製され得る。 In the example shown in FIG. 14, the decorative sheet 20 has a second base design layer 22B provided on the opposite side of the base design layer 22 from the base film 21. In the example shown in FIG. 14, the base design layer 22 includes figures, patterns, designs, colors, pictures, photographs, characters, marks, pictures such as letters and numbers, especially woodgrain or marble-like pictures, and geometric patterns. It is formed as a pattern layer that displays . The second base design layer 22B is formed as a layer containing an inorganic material or a metallic layer containing a metal to make the pattern of the base design layer 22 stand out. By providing the second base design layer 22B, the design of the base design layer 22 can be enhanced. Such a decorative sheet 20 includes a fourth film that forms the second base design layer 22B, a second film 32 that forms the base design layer 22, and a light shielding layer 33. It can be produced by preparing a laminate 34 between the third film 33 and irradiating this laminate 34 with laser light.

更なるベース意匠層22Bを有する加飾シート20においても、パターン層23の赤外線の吸収率が、パターン層に隣接するベース意匠層22の赤外線の吸収率より高くなっている、或いは、パターン層23の赤外線領域での吸収スペクトルのピークが、パターン層に隣接するベース意匠層22の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなっていることで、上述した作用効果を奏することができる。すなわち、このような加飾シート20よれば、レーザー光の照射により形成された開口部Hは、パターン層23が設けられている第1領域A1において、より高い透過率で可視光を透過させ得るようになる。言い換えるとパターン層23が設けられている第1領域A1にレーザー光Lxの照射により形成された開口部Hは、パターン層23が設けられていない第2領域A2にレーザー光Lxの照射により形成された凹部Rと比較して、加飾シート20の可視光透過率向上に寄与することができる。したがって、加飾シート20を背面から照明した際に、パターン層23が設けられている第1領域A1を、パターン層23が設けられていない第2領域A2よりも明るく表示することができる。そして、パターン層23とベース意匠層22との組み合わせにより、意匠性を効果的に改善して、意匠性に優れた表示を行うことができる。 Also in the decorative sheet 20 having the further base design layer 22B, the infrared absorption rate of the patterned layer 23 is higher than the infrared absorption rate of the base design layer 22 adjacent to the patterned layer, or the patterned layer 23 Since the peak of the absorption spectrum in the infrared region is higher than the peak of the absorption spectrum in the infrared region of the base design layer 22 adjacent to the pattern layer, the above-mentioned effects can be achieved. That is, according to such a decorative sheet 20, the openings H formed by laser light irradiation can transmit visible light with higher transmittance in the first region A1 where the pattern layer 23 is provided. It becomes like this. In other words, the opening H formed in the first area A1 where the pattern layer 23 is provided by irradiation with the laser beam Lx is formed in the second area A2 where the pattern layer 23 is not provided by irradiation with the laser beam Lx. This can contribute to improving the visible light transmittance of the decorative sheet 20 compared to the recessed portions R. Therefore, when the decorative sheet 20 is illuminated from the back side, the first area A1 where the pattern layer 23 is provided can be displayed brighter than the second area A2 where the pattern layer 23 is not provided. The combination of the pattern layer 23 and the base design layer 22 can effectively improve the design and provide a display with excellent design.

さらに、更なるベース意匠層22Bを有する加飾シート20においては、パターン層23の赤外線の吸収率が、更なるベース意匠層(第2ベース意匠層22B)の赤外線の吸収率より高くなっている、或いは、パターン層23の赤外線領域での吸収スペクトルのピークが、更なるベース意匠層(第2ベース意匠層22B)の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高くなっていることで、上述した作用効果をより顕著に奏することができる。 Furthermore, in the decorative sheet 20 having the further base design layer 22B, the infrared absorption rate of the pattern layer 23 is higher than the infrared absorption rate of the further base design layer (second base design layer 22B). Alternatively, the peak of the absorption spectrum in the infrared region of the patterned layer 23 is higher than the peak of the absorption spectrum in the infrared region of the further base design layer (second base design layer 22B), so that the above-mentioned The effects can be more pronounced.

また、上述した一具体例において、ベース意匠層22に含まれる無機材料はフレーク状(薄片状)であってもよい。フレーク状の無機材料は高い反射率を有するため、ベース意匠層22によって光沢の高い意匠を表現することができる。フレーク状の無機材料としては、アルミニウム、雲母等が挙げられる。フレーク状の無機材料の最大長さは5μm以上であってもよい。光輝性のある意匠を表示する観点から、無機材料の最大長さは、例えば20μm以上であることが好ましい。また、耐サーキュレーション性の観点から無機材料の最大長さは、例えば60μm以下であることが好ましい。 Furthermore, in the above-described specific example, the inorganic material included in the base design layer 22 may be in the form of flakes. Since the flaky inorganic material has a high reflectance, the base design layer 22 can express a design with high gloss. Examples of flaky inorganic materials include aluminum and mica. The maximum length of the flaky inorganic material may be 5 μm or more. From the viewpoint of displaying a glittering design, the maximum length of the inorganic material is preferably 20 μm or more, for example. Further, from the viewpoint of circulation resistance, the maximum length of the inorganic material is preferably 60 μm or less, for example.

この変形例において、図2Bに示すように、パターン層23をバインダー樹脂23a中に粒子23bを含んだ層として形成するとともに、パターン層23に含まれる粒子23bの最大長さが、ベース意匠層22のバインダー樹脂22a中に含まれるフレーク状の無機材料22bの最大長さよりも小さくなるようにしてもよい。とりわけ、パターン層23に含まれる粒子の最大長さは、ベース意匠層22に含まれる無機材料の最大長さの2分の1以下であることが好ましく、5分の1以下であることがより好ましい。具体的には、パターン層23に含まれる粒子の最大長さは5μm以下であってもよい。最大長さの長いフレーク状の無機材料を含むベース意匠層22はレーザー光を照射してもバインダー樹脂の全体に熱が伝わらず蒸発しにくい。一方で最大長さの短い粒子が用いられたパターン層23はバインダー樹脂全体に熱が伝わりやすく蒸発しやすくなっており、蒸発時にベース意匠層22を巻き込んで開口部Hを形成することができる。これにより、パターン層23が形成された領域に選択的に開口部Hを形成し、パターン層23による意匠と、背面から照明されることで開口部Hを通して表示される意匠を対応させることができる。パターン層22に含まれる粒子の材料としては、シアニン加工物、フタロシアニン化合物、ジチオール金属錯体、六ホウ化ランタン、セシウムドープ酸化タングステン、ナフトキノン化合物、ジイモニウム化合物等を例示できる。 In this modification, as shown in FIG. 2B, the pattern layer 23 is formed as a layer containing particles 23b in a binder resin 23a, and the maximum length of the particles 23b included in the pattern layer 23 is longer than that of the base design layer 23. The length may be smaller than the maximum length of the flaky inorganic material 22b contained in the binder resin 22a. In particular, the maximum length of the particles contained in the pattern layer 23 is preferably one-half or less, more preferably one-fifth or less, of the maximum length of the inorganic material contained in the base design layer 22. preferable. Specifically, the maximum length of particles included in the pattern layer 23 may be 5 μm or less. The base design layer 22 containing a flake-like inorganic material with a long maximum length does not easily evaporate because heat is not transmitted to the entire binder resin even when irradiated with laser light. On the other hand, the pattern layer 23 in which particles with a short maximum length are used can easily transmit heat to the entire binder resin and evaporate easily, and can form an opening H by involving the base design layer 22 during evaporation. As a result, the opening H can be selectively formed in the area where the pattern layer 23 is formed, and the design created by the pattern layer 23 can be made to correspond to the design displayed through the opening H when illuminated from the back side. . Examples of materials for the particles included in the pattern layer 22 include processed cyanine products, phthalocyanine compounds, dithiol metal complexes, lanthanum hexaboride, cesium-doped tungsten oxide, naphthoquinone compounds, and diimonium compounds.

なお、ベース意匠層22に含まれるフレーク状の無機顔料、及びパターン層23に含まれる粒子の最大長さは、例えば、各層の厚み方向の断面を走査型電子顕微鏡(日立製作所製 S-4500)を用いて加速電圧15kV、観察倍率2万倍の条件で観察し、無機顔料または粒子の100個の最大長さの平均値として算出することができる。観察のために各層の断面を露出させる際には、ミクロトームで切断してもよいし、液体窒素中で急速に凍結させた後にダイヤモンドナイフやイオンビームで切削してもよい。 The maximum length of the flaky inorganic pigment included in the base design layer 22 and the particles included in the pattern layer 23 can be determined by, for example, measuring a cross section in the thickness direction of each layer using a scanning electron microscope (Hitachi S-4500). It can be calculated as the average value of the maximum length of 100 inorganic pigments or particles by observing at an acceleration voltage of 15 kV and observation magnification of 20,000 times. When exposing the cross section of each layer for observation, it may be cut with a microtome, or it may be rapidly frozen in liquid nitrogen and then cut with a diamond knife or an ion beam.

また、上述した一具体例において、面光源装置10は矩形形状の発光面11を有していたが、この例に限られず、面光源装置10の発光面11が矩形形状以外の形状を有するようにしてもよいし。また、加飾シート付き表示装置1が、パターン遮光フィルムを更に備え、パターン遮光フィルムが、面光源装置10の発光面11から射出した光の一部を遮光することで、加飾シート20を所定のパターンを照明するようにしてもよい。 Further, in the specific example described above, the surface light source device 10 had the light emitting surface 11 in a rectangular shape, but the invention is not limited to this example. You can do it. In addition, the display device 1 with a decorative sheet further includes a patterned light-shielding film, and the patterned light-shielding film blocks a part of the light emitted from the light emitting surface 11 of the surface light source device 10, so that the decorative sheet 20 can be fixed in a predetermined manner. The pattern may be illuminated.

1 加飾シート付き表示装置
10 面光源装置
11 発光面
12 非発光面
20 加飾シート
21 基材フィルム
22 ベース意匠層
23 パターン層
24 遮光層
28 透過部
31 第1膜
32 第2膜
33 第3膜
34 積層物
40 レーザー装置
A1 第1領域
A2 第2領域
H 開口部
R 凹部
Lx レーザー光
1 Display device with decorative sheet 10 Surface light source device 11 Light-emitting surface 12 Non-light-emitting surface 20 Decorative sheet 21 Base film 22 Base design layer 23 Pattern layer 24 Light-shielding layer 28 Transmissive portion 31 First film 32 Second film 33 Third Film 34 Laminate 40 Laser device A1 First area A2 Second area H Opening R Recess Lx Laser light

Claims (24)

面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記ベース意匠層を貫通して前記パターン層に到達した開口部が設けられ、
前記パターン層の赤外線の吸収率は、前記ベース意匠層の赤外線の吸収率より高い、加飾シート。
A decorative sheet arranged facing a surface light source device,
a base design layer,
a pattern layer provided on a portion of the base design layer,
An opening is provided that penetrates the base design layer and reaches the pattern layer,
The decorative sheet has an infrared absorption rate of the pattern layer that is higher than an infrared absorption rate of the base design layer.
前記パターン層の吸収スペクトルは、赤外線領域にピークを有する、請求項1に記載の加飾シート。 The decorative sheet according to claim 1, wherein the absorption spectrum of the patterned layer has a peak in an infrared region. 前記パターン層の吸収スペクトルは、900nm以上1300nm以下の波長にピークを有する、請求項1又は2に記載の加飾シート。 The decorative sheet according to claim 1 or 2 , wherein the absorption spectrum of the patterned layer has a peak at a wavelength of 900 nm or more and 1300 nm or less. 前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルにおける吸収率のピークは、3%以上である、請求項1~3のいずれか一項に記載の加飾シート。 The decorative sheet according to any one of claims 1 to 3 , wherein the pattern layer has an absorption peak of 3% or more in the absorption spectrum in the infrared region. 前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、前記ベース意匠層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークよりも高い、請求項1~4のいずれか一項に記載の加飾シート。 The decorative sheet according to any one of claims 1 to 4 , wherein the peak of the absorption spectrum of the pattern layer in the infrared region is higher than the peak of the absorption spectrum of the base design layer in the infrared region. 面光源装置に対面して配置される加飾シートであって、
ベース意匠層と、
前記ベース意匠層の一部分上に設けられたパターン層と、を備え、
前記ベース意匠層を貫通して前記パターン層に到達した開口部が設けられ、
前記パターン層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークは、前記ベース意匠層の赤外線領域での吸収スペクトルのピークより高い、加飾シート。
A decorative sheet arranged facing a surface light source device,
a base design layer,
a pattern layer provided on a portion of the base design layer,
An opening is provided that penetrates the base design layer and reaches the pattern layer,
The decorative sheet has an absorption spectrum peak in the infrared region of the pattern layer that is higher than an absorption spectrum peak in the infrared region of the base design layer.
前記パターン層が設けられている領域での可視光透過率は、前記パターン層が設けられていない領域での可視光透過率より高い、請求項1~6のいずれか一項に記載の加飾シート。 The decoration according to any one of claims 1 to 6 , wherein the visible light transmittance in the region where the pattern layer is provided is higher than the visible light transmittance in the region where the pattern layer is not provided. sheet. 前記パターン層が設けられている領域での開口率は、前記パターン層が設けられていない領域での開口率より高い、請求項1~7のいずれか一項に記載の加飾シート。 The decorative sheet according to any one of claims 1 to 7 , wherein the aperture ratio in the region where the pattern layer is provided is higher than the aperture ratio in the region where the pattern layer is not provided. 前記パターン層は有色である、請求項1~8のいずれか一項に記載の加飾シート。 The decorative sheet according to any one of claims 1 to 8 , wherein the pattern layer is colored. 前記パターン層は無色透明である、請求項1~8のいずれか一項に記載の加飾シート。 The decorative sheet according to any one of claims 1 to 8 , wherein the pattern layer is colorless and transparent. 前記ベース意匠層のうちの前記パターン層が設けられていない領域に、凹部が設けられている、請求項1~10のいずれか一項に記載の加飾シート。 The decorative sheet according to any one of claims 1 to 10 , wherein a recessed portion is provided in a region of the base design layer where the pattern layer is not provided. 前記ベース意匠層は、無機材料を含む、請求項1~11のいずれか一項に記載の加飾シート。 The decorative sheet according to any one of claims 1 to 11 , wherein the base design layer contains an inorganic material. 前記無機材料は、フレーク状である、請求項12に記載の加飾シート。 The decorative sheet according to claim 12 , wherein the inorganic material is in the form of flakes. 前記フレーク状の無機材料の最大長さは、5μm以上である、請求項13に記載の加飾シート。 The decorative sheet according to claim 13 , wherein the maximum length of the flaky inorganic material is 5 μm or more. 前記パターン層が粒子を含み、前記粒子の最大長さが前記フレーク状の無機材料の最大長さより小さい、請求項13又は14に記載の加飾シート。 The decorative sheet according to claim 13 or 14, wherein the pattern layer includes particles, and the maximum length of the particles is smaller than the maximum length of the flaky inorganic material. 前記無機材料は、アルミニウム、酸化チタン、雲母のいずれかを含む、請求項12~15のいずれか一項に記載の加飾シート。 The decorative sheet according to any one of claims 12 to 15 , wherein the inorganic material contains any one of aluminum, titanium oxide, and mica. 前記ベース意匠層の可視光反射率は、5%以上である、請求項1~16のいずれか一項に記載の加飾シート。 The decorative sheet according to any one of claims 1 to 16 , wherein the base design layer has a visible light reflectance of 5% or more. 前記ベース意匠層の可視光吸収率は、3%以下である、請求項1~17のいずれか一項に記載の加飾シート。 The decorative sheet according to any one of claims 1 to 17 , wherein the base design layer has a visible light absorption rate of 3% or less. 前記ベース意匠層の前記パターン層とは反対側に設けられた遮光層を、更に備え、
前記遮光層の可視光透過率は、前記ベース意匠層の可視光透過率より低い、請求項1~18のいずれか一項に記載の加飾シート。
further comprising a light shielding layer provided on the opposite side of the base design layer from the pattern layer,
The decorative sheet according to any one of claims 1 to 18 , wherein the visible light transmittance of the light shielding layer is lower than the visible light transmittance of the base design layer.
面光源装置と、
前記面光源装置に対面するよう配置された請求項1~19のいずれか一項に記載の加飾シートと、を備える、加飾シート付き表示装置。
A surface light source device,
A display device with a decorative sheet, comprising: the decorative sheet according to any one of claims 1 to 19 , which is arranged to face the surface light source device.
請求項1~19のいずれか一項に記載の加飾シートの製造方法であって、
前記パターン層を形成するようになる第1膜及びベース意匠層を形成するようになる第2膜を作製する工程と、
前記第2膜の側からレーザー光を照射することで、前記第1膜及び前記第2膜の一部を除去して、開口部を形成する工程と、を備える、加飾シートの製造方法。
A method for producing a decorative sheet according to any one of claims 1 to 19 ,
producing a first film that will form the pattern layer and a second film that will form the base design layer;
A method for manufacturing a decorative sheet, comprising: removing a portion of the first film and the second film by irradiating a laser beam from the second film side to form an opening.
前記レーザー光の波長における前記第1膜の吸収率は、前記レーザー光の波長における前記第2膜の吸収率より高い、請求項21に記載の加飾シートの製造方法。 22. The method for manufacturing a decorative sheet according to claim 21 , wherein the absorption rate of the first film at the wavelength of the laser beam is higher than the absorption rate of the second film at the wavelength of the laser beam. 前記レーザー光の波長における前記第1膜の吸収率は、3%以上である、請求項21又は22に記載の加飾シートの製造方法。 The method for manufacturing a decorative sheet according to claim 21 or 22 , wherein the absorption rate of the first film at the wavelength of the laser beam is 3% or more. 前記レーザー光の波長は、900nm以上1300nm以下である、請求項21~23のいずれか一項に記載の加飾シートの製造方法。 The method for producing a decorative sheet according to any one of claims 21 to 23 , wherein the wavelength of the laser light is 900 nm or more and 1300 nm or less.
JP2019163915A 2019-09-09 2019-09-09 Decorative sheet, display device with decorative sheet, and method for manufacturing the decorative sheet Active JP7365576B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019163915A JP7365576B2 (en) 2019-09-09 2019-09-09 Decorative sheet, display device with decorative sheet, and method for manufacturing the decorative sheet
JP2023174518A JP2023168628A (en) 2019-09-09 2023-10-06 Decorative sheet, display device with decorative sheet, and manufacturing method for decorative sheet

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019163915A JP7365576B2 (en) 2019-09-09 2019-09-09 Decorative sheet, display device with decorative sheet, and method for manufacturing the decorative sheet

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023174518A Division JP2023168628A (en) 2019-09-09 2023-10-06 Decorative sheet, display device with decorative sheet, and manufacturing method for decorative sheet

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021043280A JP2021043280A (en) 2021-03-18
JP7365576B2 true JP7365576B2 (en) 2023-10-20

Family

ID=74864508

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019163915A Active JP7365576B2 (en) 2019-09-09 2019-09-09 Decorative sheet, display device with decorative sheet, and method for manufacturing the decorative sheet
JP2023174518A Pending JP2023168628A (en) 2019-09-09 2023-10-06 Decorative sheet, display device with decorative sheet, and manufacturing method for decorative sheet

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023174518A Pending JP2023168628A (en) 2019-09-09 2023-10-06 Decorative sheet, display device with decorative sheet, and manufacturing method for decorative sheet

Country Status (1)

Country Link
JP (2) JP7365576B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240066109A (en) * 2022-11-04 2024-05-14 미래나노텍(주) Deco-film for hidden display
WO2024101436A1 (en) * 2022-11-09 2024-05-16 大日本印刷株式会社 Decorative outer-cover material, decorative member, display system, manufacturing method for decorative outer-cover material, and manufacturing method for decorative member

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004299200A (en) 2003-03-31 2004-10-28 Nissha Printing Co Ltd Manufacturing method for decorating article
JP2012250539A (en) 2012-08-23 2012-12-20 Dainippon Printing Co Ltd Insert molding decorative sheet and decorative resin molding
JP2019020637A (en) 2017-07-20 2019-02-07 株式会社増田清商店 Graphic display body
WO2019044847A1 (en) 2017-08-31 2019-03-07 大日本印刷株式会社 Display device with panel, interior/exterior member, moving body, panel, decorative sheet, display device with decorative sheet, and display device with panel

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004299200A (en) 2003-03-31 2004-10-28 Nissha Printing Co Ltd Manufacturing method for decorating article
JP2012250539A (en) 2012-08-23 2012-12-20 Dainippon Printing Co Ltd Insert molding decorative sheet and decorative resin molding
JP2019020637A (en) 2017-07-20 2019-02-07 株式会社増田清商店 Graphic display body
WO2019044847A1 (en) 2017-08-31 2019-03-07 大日本印刷株式会社 Display device with panel, interior/exterior member, moving body, panel, decorative sheet, display device with decorative sheet, and display device with panel

Also Published As

Publication number Publication date
JP2021043280A (en) 2021-03-18
JP2023168628A (en) 2023-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2023168628A (en) Decorative sheet, display device with decorative sheet, and manufacturing method for decorative sheet
RU2508203C2 (en) Data medium with see-through portion
KR102593801B1 (en) Indicator, article, original plate, and method of producing original plate
KR102593802B1 (en) Method of manufacturing indicators, articles, original plates and original plates
CN1649747A (en) Multilayer image particularly multiple color image
CN102770787A (en) Display body and labeled article
CA2801794A1 (en) Data carrier having a feature region
JP2023103228A (en) Production method of decorative sheet, decorative sheet and display unit with decorative sheet
JP2020131666A (en) Decorative sheet, display device having decorative sheet
KR20200051080A (en) Panel for half-mirror lighting and half-mirror lighting using the same
WO2019031281A1 (en) Decorative member and method for producing decorative member
CN112585014B (en) Security element comprising a lenticular image
JP7320191B2 (en) Decorative sheet and display device with decorative sheet
JP6951694B2 (en) Decorative sheet, display device with decorative sheet, and manufacturing method of decorative sheet
JP7510613B2 (en) Laminate for display device with decorative sheet and display device with decorative sheet
JP2024010487A (en) Decorative sheet, decorative article, decorative sheet set, decorative article set, decorated display device
JPH03287427A (en) Ornamental article
WO2021157013A1 (en) Method for producing sheet member, and sheet member
JP2022001409A (en) Decorative sheet, decorative sheet-bearing display device, and roll of sheet-like member
JP2021180136A (en) Laminated body for display device, the same with decoration sheet, display device, and display device with decoration sheet

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220726

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230526

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230606

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230802

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230908

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230921

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7365576

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150