JP7362890B2 - センサーおよびその製造方法 - Google Patents

Description

本開示は、センサーおよびその製造方法に関する。

酵素を用いた電気化学式バイオセンサーの代表例として、自己血糖測定に用いられる電気化学式グルコースセンサーが挙げられる。また、生体内のグルコース濃度を連続的または半連続的に測定する埋め込み型電気化学式グルコースセンサーが開発されている（例えば、特許文献１を参照）。

特表２０１２－５１９０３８号公報

グルコース等のアナライトを測定する電気化学式のセンサーは、より精度の高い測定が求められる。

本開示の非限定的な実施例は、アナライトをより高い精度で測定できるセンサーおよびその製造方法の提供に資する。

本開示の一実施例に係るセンサーは、生体内に挿入されるプローブを有し、アナライトを測定するセンサーであって、前記プローブは、基板と、前記基板上に形成された電極と、前記電極上に形成された参照層と、を有し、前記参照層は、上面がフィルムによって覆われ、側面が露出する。

本開示の一実施例に係るセンサーは、生体内に挿入されるプローブを有し、アナライトを測定するセンサーであって、前記プローブは、シート状の基板上に電極が形成され、前記電極上に参照層が形成され、前記参照層上にフィルムが配置され、前記基板がプローブ形状にカットされて形成され、前記参照層は、ノズルから吐出されるペースト状の材料が、カットラインを跨ぐように前記電極上に塗布される。

本開示の一実施例に係るセンサーの製造方法は、生体内に挿入されるプローブを有し、アナライトを測定するセンサーの製造方法であって、前記プローブは、シート状の基板上に電極を形成する工程と、前記電極上に参照層を形成する工程と、前記参照層上にフィルムを配置する工程と、前記プローブの形状となるように前記シート状の基板をカットする工程と、によって製造され、前記参照層は、ノズルから吐出されるペースト状の材料が前記電極上に塗布されて形成され、前記シート状の基板をカットする際、前記参照層の一部がカットされる。

本開示の一実施例によれば、アナライトをより高い精度で測定できる。

本開示の一実施例における更なる利点および効果は、明細書および図面から明らかにされる。かかる利点および／または効果は、いくつかの実施形態並びに明細書および図面に記載された特徴によってそれぞれ提供されるが、１つまたはそれ以上の同一の特徴を得るために必ずしも全てが提供される必要はない。

第１の実施の形態に係るセンサーの適用例を示した図 センサーの断面図 プローブの平面図 図３のＡＡ矢視断面図 図３のＢＢ矢視断面図 図３のＣＣ矢視断面図 試薬層とフィルムとの位置関係を説明する図 図５のＤＤ矢視断面図 プローブの試薬層部分の斜視図 プローブの先端部分の平面図 試薬層とフィルムとの位置関係を説明する図 図９のＥＥ矢視断面図 フィルムの開口形状の例を示した図 センサーの大きさの一例を説明する図 第２の実施の形態に係るセンサーのプローブの斜視図 図１３のプローブを第３面側から見た一部側面図 参照層２４の形状例を説明する図 Ａｇ／ＡｇＣｌペーストの塗布例を示した図 Ａｇ／ＡｇＣｌペーストの塗布後の側面図 プローブの製造方法例を説明する図 プローブの製造方法例を説明する図 プローブの製造方法例を説明する図 Ａｇ／ＡｇＣｌペーストの塗布を説明する図 Ａｇ／ＡｇＣｌペーストの塗布後の形状を説明する図 塗布装置の動作を説明する図 塗布装置の動作を説明する図 単発工法による参照層の形状例を示した図 連発工法による参照層の形状例を示した図 スキージ工法による参照層の形状例を示した図

以下、図面を適宜参照して、本開示の実施の形態について、詳細に説明する。但し、必要以上に詳細な説明は省略する場合がある。例えば、既によく知られた事項の詳細説明や実質的に同一の構成に対する重複説明を省略する場合がある。これは、以下の説明が不必要に冗長になるのを避け、当業者の理解を容易にするためである。

なお、添付図面および以下の説明は、当業者が本開示を十分に理解するために、提供されるのであって、これらにより特許請求の範囲に記載の主題を限定することは意図されていない。

（第１の実施の形態）
図１は、第１の実施の形態に係るセンサー１の適用例を示した図である。図１には、センサー１の他に、生体２が示してある。生体２は、例えば、人体である。

図１に示すセンサー１は、例えば、バイオセンサーである。より具体的には、センサー１は、ＣＧＭ（Continuous Glucose Monitor）センサーである。センサー１は、センサー１が備えるプローブが生体２内に挿入され、生体２の血液中または間質液中のグルコース濃度を連続的または半連続的に測定する。例えば、センサー１は、数日から数週間、生体２のグルコース濃度を測定する。

図２は、センサー１の断面図である。図２において、図１と同じ構成要素には、同じ符号が付してある。

図２に示すように、センサー１は、本体１１と、プローブ１２と、を有する。プローブ１２は、生体２内に挿入される。プローブ１２は、酸化還元酵素を含む試薬層を有し、グルコース濃度に基づく電気信号を本体１１に出力する。本体１１は、プローブ１２から出力されるグルコース濃度に基づく電気信号を記憶装置に記憶し、所定のタイミングで他の装置（図示せず）に送信する。

図３は、プローブ１２の平面図である。図３の（Ａ）には、プローブ１２の全体が示してある。図３の（Ｂ）には、図３の（Ａ）に示すプローブ１２の先端部分を拡大した図が示してある。

図３の（Ａ）に示すプローブ１２の領域Ｘ１の部分（プローブ１２の頭部）は、本体１１に収容される。プローブ１２の先端部分は、本体１１から突出する。プローブ１２の先端部分が、生体２内に挿入される。図３の（Ａ）に示す矢印Ｘ２は、プローブ１２の生体２への挿入方向を示す。

プローブ１２は、基板２１と、電極２２と、試薬層２３と、参照層２４と、フィルム２５と、を有する。

プローブ１２の製造方法について概説する。

（１）基板２１上に電極２２を形成する。
基板２１は、例えば、シート状の合成樹脂である。電極２２は、基板２１上に一様に形成される。

電極２２の材料は、例えば、金（Ａｕ）である。電極２２は、例えば、スパッタリングによって基板２１上に形成されてもよい。電極２２は、電極膜または電極層と称されてもよい。

（２）電極２２を３つの領域に分離する。
基板２１上に形成された電極２２に、溝Ａ１，Ａ２を形成し、電極２２を３つの領域に分離する。電極２２は、溝Ａ１，Ａ２によって、作用極２２ａと、参照極２２ｂと、対極２２ｃと、に分離される。溝Ａ１，Ａ２は、例えば、レーザートリミングによって形成されてもよい。作用極２２ａは、作用極膜または作用極層と称されてもよい。参照極２２ｂは、参照極膜または参照極層と称されてもよい。対極２２ｃは、対極膜または対極層と称されてもよい。

なお、作用極２２ａには、例えば、酸化還元酵素によるアナライト（グルコース）の反応によって還元されたメディエータ（電子メディエータだけでなく過酸化水素を含む）を酸化させるのに十分な電位（参照極を基準とした電位）が与えられる。グルコース濃度は、作用極２２ａと対極２２ｃとの間を流れる電流をモニタすることによって、測定される。

（３）参照層２４を形成する。
プローブ１２の先端部分における参照極２２ｂ上に、参照層２４を形成する。参照層２４の材料は、例えば、銀／塩化銀（Ａｇ／ＡｇＣｌ）である。参照層２４は、例えば、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト（インク）を用い、スクリーン印刷法または塗布工法により形成されてもよい。参照層２４は、参照膜または参照極と称されてもよい。

（４）フィルム２５を配置し、固定する。
基板２１上に形成された作用極２２ａ、参照極２２ｂ、対極２２ｃ、および参照層２４の上に、開口を有するフィルム２５を配置する。フィルム２５は、シート状であり、絶縁性を有する。フィルム２５は、開口部分が、プローブ１２の先端部分（試薬層２３を形成する部分）に位置するよう配置される。フィルム２５の開口には、後述する試薬が滴下される。フィルム２５は、フィルム層、絶縁層、または絶縁膜と称されてもよい。配置は、積層または載置と言い換えられてもよい。

また、フィルム２５は、対極２２ｃの上面（図３の紙面の表側方向の面）が一部露出するように、開口を有する。フィルム２５の開口は、後述する（７）のカッティング工程により、図３の（Ｂ）の領域Ｘ３に示すように切欠き形状となる。この切欠き形状により、対極２２ｃは、上面において一部が露出する。なお、上面は、プローブ１２の試薬層２３が形成される側の面と捉えてもよい。

また、フィルム２５は、プローブ１２の頭部が一部露出する形状を有する。例えば、図３の（Ａ）の領域Ｘ４の部分は、フィルム２５によって覆われない。領域Ｘ４の露出した電極２２は、本体１１の回路と接続される。

なお、参照層２４の上面は、図３の（Ｂ）に示すように、フィルム２５によって覆われる。参照層２４は、プローブ１２の幅方向（矢印Ｘ２に示す挿入方向に対し垂直方向）において露出する。図３の（Ｂ）の例では、参照層２４は、プローブ１２の先端部分の右側側面において露出する（図４Ｂの参照層２４も参照）。

（５）試薬層２３を形成する。
プローブ１２の先端部分における作用極２２ａ上に、試薬層２３を形成する。例えば、上述したフィルム２５の開口に、試薬を滴下し、乾燥させ、試薬層２３を形成する。図３の（Ｂ）の矢印Ｘ５に示すプローブ１２の先端には、試薬層２３は形成されないことが好ましい。別言すれば、試薬層２３は、プローブ１２の先端から離れて形成されることが好ましい。すなわち、試薬層２３は、プローブ１２の先端から所定距離にわたって形成されないことが好ましい。試薬層２３を、プローブ１２の先端から離れて形成することにより、プローブ１２が生体２内に挿入されるとき、試薬層２３がプローブ１２から剥がれる（めくれる）のを抑制できるからである。

試薬層２３には、少なくとも、アナライト（グルコース）に対して酸化還元反応が可能な酸化還元酵素が含まれる。試薬層２３は、試薬膜、作用層、または作用極と称されてもよい。

なお、フィルム２５の開口は、例えば、プローブ１２の幅より大きい幅の試薬層２３が形成される大きさおよび形状を有してもよい。プローブ１２の幅より大きく形成された試薬層２３は、次のトリミング工程によって、形状が整形される。

（６）試薬層２３および電極２２を除去する。
後述する（７）のカッティング工程により外形が形成されるプローブ１２の幅方向における端部において、プローブ１２の挿入方向に沿って、試薬層２３および電極２２をトリミングする。このトリミングにより、基板２１は、図３の（Ｂ）の領域Ｘ６に示すように、上面が一部露出する。試薬層２３および電極２２のトリミングには、例えば、レーザートリミングが用いられてもよい。

なお、図３の（Ｂ）では、フィルム２５も、試薬層２３の挿入方向における両端部分において、一部（少し）トリミングされている。

（７）カッティングにより基板２１からプローブ１２を切り出す。
上記（１）～（６）の工程を経た基板２１をカッティングし、図３の（Ａ）に示す形状のプローブ１２を切り出す。

カッティング位置には、トリミングされた部分が含まれる。例えば、トリミングされた部分（凹部の底部分）の中央付近（中央線付近）がカッティングされる。

（８）保護膜を形成する。
カッティングしたプローブ１２の先端部分を、例えば、保護膜を形成する液体に付け、保護膜を形成する。保護膜は、試薬層２３に含まれる物質（主に酸化還元酵素や電子メディエータ）の保護膜外への漏出を防止または抑制する。保護膜は、保護膜外に存在するアナライトが、試薬層２３の存在する保護膜内に透過する孔を有する。保護膜は、少なくともプローブ１２の試薬層２３の部分を保護（被覆）できればよい。

図４Ａは、図３のＡＡ矢視断面図である。図４Ａに示すように、プローブ１２の試薬層２３が形成される部分は、基板２１の上（上面）に、作用極２２ａが形成される。作用極２２ａの上に、試薬層２３が形成される。

試薬層２３および作用極２２ａは、上記の（６）のトリミング工程により、プローブ１２の幅方向（プローブ１２の側面）の両端において、除去される。上記の（７）のカッティング工程では、上記の（６）のトリミング工程により露出した基板２１であって、試薬層２３および作用極２２ａから離れた位置においてカッティングされる。これにより、プローブ１２の側面は、図４Ａの矢印１１ａ，１１ｂに示すように、階段状になる。

なお、プローブ１２の試薬層２３における先端部分の周囲は、保護膜が形成される。図４Ａでは、保護膜の図示を省略している。

図４Ｂは、図３のＢＢ矢視断面図である。図４Ｂに示すように、プローブ１２の参照層２４が形成される部分は、基板２１の上に、作用極２２ａと、参照極２２ｂと、が形成される。作用極２２ａと、参照極２２ｂとは、溝Ａ１によって、物理的かつ電気的に分離される。

参照極２２ｂの上に、参照層２４が形成される。作用極２２ａと、参照極２２ｂと、参照層２４と、の上に、フィルム２５が配置される。参照層２４は、上面がフィルム２５によって覆われるが、プローブ１２の側面（図４Ｂでは、右側側面）において露出する。

なお、参照層２４の上部にあるフィルム２５は、無くてもよい。すなわち、参照層２４は、上面が露出してもよい。

図４Ｃは、図３のＣＣ矢視断面図である。図４Ｃに示すように、対極２２ｃの上面が露出する部分は、基板２１の上に、作用極２２ａと、参照極２２ｂと、対極２２ｃと、が形成される。作用極２２ａと、参照極２２ｂとは、溝Ａ１によって、物理的かつ電気的に分離される。参照極２２ｂと、対極２２ｃとは、溝Ａ２によって、物理的かつ電気的に分離される。

作用極２２ａと、参照極２２ｂとの上に、フィルム２５が形成される。対極２２ｃの上には、フィルム２５が配置されず、対極２２ｃの上面は露出する。

各構成部材の例について説明する。

・基板２１
基板２１は、シート上の合成樹脂である。例えば、基板２１には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が用いられてもよい。ただし、柔軟性、易加工性、および耐熱性の少なくとも１以上の特徴を有するプラスチック材料のような樹脂材料であれば特に限定されない。他の例としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、およびポリエチレンナフタレートなどの汎用プラスチックが挙げられる。また、高い耐熱性が必要な場合は、ポリイミドが好ましい。

・電極２２
電極２２の材料には、上記したように、金を用いてもよい。ただし、導電性、安定性（例えば、酸化し難いまたは耐塩性）を有する金属、または、炭素材料であれば特に限定されない。例えば、電極２２の材料として、白金、パラジウム、カーボン等が挙げられる。

電極２２に、金属材料を用いる場合には、基板２１に金属材料を蒸着（スパッタリングを含む）してもよい。他の形成方法としては、印刷、メッキ、およびスピンコート等がある。

電極２２に、カーボンを用いる場合には、カーボンペーストを印刷して電極２２を形成してもよい。また、プローブ１２の上面および裏面の一方の面を作用極とし、他方の面を対極とする場合には、作用極と対極とに、異なる電極材料を使用してもよい。

・試薬層２３
試薬層２３には、上記したように、少なくともアナライトに対して酸化還元反応が可能な酸化還元酵素が含まれる。酸化還元酵素が、脱水素酵素（デヒドロゲナーゼ）であれば、さらに電子メディエータが含まれる。また、酸化還元酵素が酸化酵素（オキシダーゼ）であっても電子メディエータを用いる系であってもよい。すなわち、酸化酵素によるグルコースの酸化還元反応で生じた過酸化水素を電気化学的に検出する系であれば電子メディエータは不要であるが、電子メディエータを用いて電気化学的に検出することもできる。この場合、試薬層２３には、酸化酵素に加え電子メディエータが含まれる。

グルコースを検出する系であれば、酸化還元酵素の例として、グルコースオキシダーゼおよびグルコースデヒドロゲナーゼが挙げられる。グルコースデヒドロゲナーゼに関しては、マルトースに対する反応性が低い観点から、フラビンアデニンジヌクレオチド（ＦＡＤ）結合型グルコース脱水素酵素が望ましく、例えば、アスペルギルス属（オリゼやテレウス）やムコール属由来の酵素が好ましい。

電子メディエータとしては、例えば、オスミウム錯体、ルテニウム錯体、キノン類化合物、フェナジン類化合物、およびフェロセン類化合物等が挙げられる。また、電子メディエータとしては、これらの誘導体等が挙げられる。

・参照層２４
参照層２４の材料には、上記したように、銀／塩化銀（Ａｇ／ＡｇＣｌ）を用いてもよい。参照層２４は、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト（インク）を、電極２２上にスクリーン印刷または塗布した後、乾燥して形成してもよい。

なお、本開示に係るセンサー１では、より精度の良い測定を実現する作用極、対極、および参照極の３電極構成の例を示しているが、作用極および対極の２電極構成であってもよい。

・フィルム２５
フィルム２５には、基板２１と同じ材料のシートに、粘着シート（例えば、アクリル系、ゴム系、またはホットメルト系）を張り付けたものを用いてもよい。また、基板２１と異なる材料のシートを用いてもよい。また、粘着シート単体をフィルム２５としてもよい。熱・光可塑性レジストフィルムを、フィルム２５として用いてもよい。

フィルム２５としては、例えば、試薬塗布の観点により、フィルム上の液体との接触角度が開口部の液体との接触角度より高いことが好ましく、その差は大きいほど好ましい。例えば、フィルム上は９０°以上であって、開口部が５０°以下であることが望ましい。仮にこのような接触角度を持たない材質であっても、フィルム表面に撥水加工、および、開口部に親水処理の少なくとも一方を施すことで、前記接触角度を持たすことも可能である。

フィルム２５は、１μｍ以上１５０μｍ以下、好ましくは３μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以上３０μｍ以下の厚さを有する。フィルム２５は、レジストインキを印刷して形成されてもよい。

・保護膜
試薬層２３を有するプローブ１２は、生体２内に挿入して使用される。そのため、試薬層２３の表面を被覆する保護膜は、タンパク質や細胞が吸着しない、または、タンパク質や細胞が吸着し難い生体適合性を有することが好ましい。一般的には、保護膜は、前述のような性質を有するポリマーによって形成されることが好ましい。

ポリマーの例としては、例えば、メタクリル酸メチルとヒドロキシエチルメタクリレートとのコポリマー、ブチルメタクリレートとヒドロキシエチルメタクリレートとのコポリマー、ポリ（２－メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン－コ－ｎ－ブチルメタクリレート）等が挙げられる。なお、これらの例示されたポリマーと同様の主鎖を有する（メタ）アクリレート系化合物であって、リンカーと反応することができる反応基を側鎖に有するものを、高分子量ポリマーの具体例として挙げられるメタクリロイル基またはアクリロイル基を有する「エチレン系ポリマー」として用いることも可能である。

図５は、試薬層２３とフィルム２５との位置関係を説明する図である。図５には、プローブ１２の先端部分の平面図が示してある。図５において、図３と同じ構成要素には、同じ符号が付してある。

図５には、プローブ１２の製造工程の一部が示してある。図５に示す「フィルムの形成」は、上記した（４）の工程に対応する。「試薬液のアプライ」および「アプライした試薬液の乾燥」は、上記した（５）の工程に対応する。「トリミング」は、上記した（６）の工程に対応する。「センサカッティング」は、上記した（７）の工程に対応する。「保護膜形成」は、上記した（８）の工程に対応する。

なお、図５では、上記の（１）～（３）の工程の説明を省略している。上記の（１）～（３）の工程を経た後、図５に示す「フィルムの形成」の工程が続く。また、図５では、保護膜の図示を省略している。

図６は、図５のＤＤ矢視断面図である。作用極２２ａ上に、開口を有するフィルム２５が配置される。そして、フィルム２５の開口部分に試薬が滴下され、乾燥される。これにより、試薬層２３は、図６に示すように、プローブ１２の挿入方向において、フィルム２５の間に挟まれ、形成される。すなわち、試薬層２３は、フィルム２５の開口で規定された領域内に納まり、形成される。別言すれば、フィルム２５は、電極２２上において、試薬層２３に隣接する。

なお、挿入方向側のフィルム２５は、形成されなくてもよい。例えば、図５および図６に示す左側のフィルム２５は、無くてもよい。

図７は、プローブ１２の試薬層２３部分の斜視図である。図７に示すように、プローブ１２は、試薬層２３が形成された上面３１と、上面３１に対向する裏面３２と、上面３１と裏面３２とを接続する側面３３と、側面３３と対向し、上面３１と裏面３２とを接続する側面３４と、を有する。図７に示す矢印Ｘ２は、プローブ１２の生体２への挿入方向を示す。

プローブ１２の幅方向における上面３１の端部は、試薬層２３と電極２２とが除去された階段状のトリミング部３５，３６を有する。トリミング部３５，３６は、少なくとも試薬層２３と接する位置関係において形成される。別言すれば、試薬層２３は、上面３１の幅方向において、端から端まで伸びてプローブ１２の上面３１を形成し、かつ、プローブ１２の側面の一部を形成する（図４Ａの試薬層２３も参照）。

上記のセンサー１は、下記の構成要素を備えると捉えてもよい。

センサー１は、本体１１と、プローブ１２と、を有する。プローブ１２は、生体２内へ挿入され、連続的または半連続的にアナライトを測定するための電気信号を取得する。

基板２１は、第１面（例えば、上面３１）と、第１面と対向する第２面（例えば、裏面３２）と、を有する。また、基板２１は、第１面と第２面とを接続し、プローブ１２の挿入方向に伸びる面の第３面および第４面（例えば、側面３３，３４）と、を有する。

作用極２２ａは、基板２１の第１面に第１電極材料において形成される。

試薬層２３は、作用極２２ａの一部に配置される。

トリミング部３５，３６は、プローブ１２の生体２内への挿入方向に沿った方向と直交する方向における第１面の両端部において、試薬層２３と第１電極材料とが除去されて形成される。

試薬層２３は、酸化還元酵素を含む。トリミング部３５，３６は、少なくとも試薬層２３と接する位置関係に形成される。

フィルム２５は、生体２への挿入方向において、プローブ１２の先端側とは逆方向において、試薬層２３に隣接する。

試薬層２３は、電極２２とフィルム２５との間に挟まれる部分を有さない。別言すれば、フィルム２５は、試薬層２３の上に配置されない。フィルム２５は、プローブ１２の先端側において、試薬層２３に隣接してもよいし、隣接しなくてもよい。別言すれば、フィルム２５は、プローブ１２の先端側において、形成されてもよいし、形成されなくてもよい。

上記のセンサー１は、下記の製造工程を備えると捉えてもよい。

まず、第１面に第１電極材料の作用極２２ａが形成された基板２１（基板シート）を準備する。

次に、第１面の所定の位置に、酸化還元酵素を含む試薬液をアプライする。

次に、試薬液を乾燥させ、試薬層２３を形成する。

次に、基板２１上の試薬層２３の所定の位置をトリミングし、試薬層２３および試薬層２３の下部に形成された作用極２２ａが除去されたトリミング部を形成する。

次に、基板２１を所定の形状（図３の（Ａ）に示したプローブ１２の形状、例えば、旗竿形状）となるようにカットする。基板２１をカットする位置には、トリミング部３５，３６が含まれる。

なお、試薬層２３が形成されるプローブ１２の先端部分には、保護膜が形成されてもよい。保護膜は、少なくともアナライト（グルコース）を透過可能な孔を有する。

また、対極２２ｃは、基板２１の第１面に形成されてもよいし、第２面に形成されてもよい。基板２１の第１面および第２面の両方または一方には、対極２２ｃとは異なる別の対極（第２対極）が形成されてもよい。

また、参照極２２ｂは、第１面～第４面の少なくとも１面に形成されてもよい。参照層２４は、第１面に形成される場合、上面にフィルム２５が配置され、第３面側が露出してもよい。

また、試薬層２３は、プローブ１２の挿入方向における第１面の末端側（プローブ１２の先端）から、所定の距離にかけては形成されなくてもよい。

また、試薬層２３の一部（端部）は、電極２２とフィルム２５との間に挟まれてもよい。試薬層２３は、電極２２とフィルム２５との間において挟まれる部分を有さなくてもよい。

以上説明したように、センサー１は、生体２内に挿入されるプローブ１２を有し、アナライトを測定する。プローブ１２は、基板２１と、基板２１上に形成された電極２２と、酸化還元酵素を含み、電極２２上に形成された試薬層２３と、を有する。プローブ１２は、幅方向における少なくとも一方の端部において、試薬層２３と電極２２とが、プローブ１２の生体２内への挿入方向に沿ってトリミングされる。

これにより、センサー１は、製造工程によって生じる性能のばらつきが抑制される。例えば、電極２２上に滴下した試薬層２３が、エッジ部分が中央部よりも厚くなる、いわゆるコーヒーリング状態となっても、トリミングにより、リング内の一様（均一）な部分を試薬層２３として利用できる。

また、プローブ１２形状にカッティングする際、刃先が試薬層２３に接触しないようにでき、試薬層２３の割れを軽減できる。

また、プローブ１２形状にカッティングする際、刃先が試薬層２３に接触しないようにでき、試薬の汚染（contamination）を抑制できる。

また、以上説明したように、センサー１が有するプローブ１２は、基板２１上に電極２２を形成する工程と、酸化還元酵素を含む試薬層２３を電極２２上に形成する工程と、プローブ１２の幅方向における少なくとも一方の端部において、試薬層２３と電極２２とを、プローブ１２の生体２内への挿入方向に沿ってトリミングする工程と、によって製造される

これにより、センサー１は、製造工程によって生じる性能のばらつきが抑制される。例えば、電極２２に滴下した試薬層２３がコーヒーリング状態となっても、トリミングにより、リング内の一様（均一）な中央部分を試薬層２３として利用できる。

また、プローブ１２の形状にカッティングする際、トリミングにより、刃先が試薬層２３に接触しないようにできるので、試薬層２３の割れを軽減できる。また、試薬の汚染を抑制できる。

また、以上説明したように、フィルム２５は、試薬層２３の挿入方向における両端部において、試薬層２３に隣接するように、電極２２上に配置される。

これにより、センサー１は、製造工程によって生じる性能のばらつきが抑制される。例えば、フィルム２５によって試薬を滴下する位置を決定でき、トリミング前に一様な試薬層２３を形成できる。

（変形例１）
プローブ１２は、幅方向の一方の端においてトリミング部を有してもよい。すなわち、トリミング部は、１つであってもよい。

図８は、プローブ１２の先端部分の平面図である。図８において、図３と同じ構成要素には、同じ符号が付してある。図８には、作用極２２ａと、対極２２ｃとが、プローブ１２の幅方向において並んで形成された例が示してある。図８では、フィルム２５の図示を省略している。

試薬層２３は、プローブ１２の幅方向の一端側において、プローブ１２の幅を跨ぐように形成される。試薬層２３は、プローブ１２の幅方向の他端側において、プローブ１２の幅を跨がないように形成される。例えば、図８の例では、試薬層２３は、プローブ１２の右端を跨ぐように形成され、プローブ１２の左端を跨がないように形成される。

プローブ１２は、トリミング部４１を有する。トリミング部４１は、試薬層２３がプローブの幅を跨いだ側（図６では右側）において形成される。トリミング部４１は、試薬層２３および作用極２２ａをトリミングして形成される。トリミング部４１によって、基板２１が露出する。

このように、プローブ１２は、幅方向の一方の端においてトリミング部を有してもよい。これによっても、センサー１は、製造工程によって生じる性能のばらつきが抑制される。

（変形例２）
試薬層２３は、プローブ１２の挿入方向において、フィルム２５で規定された領域外にはみ出てもよい。

図９は、試薬層２３とフィルム２５との位置関係を説明する図である。図９には、プローブ１２の先端部分の平面図が示してある。図９において、図３と同じ構成要素には、同じ符号が付してある。

図９には、プローブ１２の製造工程の一部が示してある。図９に示す「試薬液のアプライ」および「アプライした試薬液の乾燥」は、上記した（５）の工程に対応する。「フィルムの形成」は、上記した（４）の工程に対応する。「トリミング」は、上記した（６）の工程に対応する。「センサカッティング」は、上記した（７）の工程に対応する。「保護膜形成」は、上記した（８）の工程に対応する。

なお、図９では、上記の（１）～（３）の工程の説明を省略している。上記の（１）～（３）の工程を経た後、図９に示す「試薬液のアプライ」の工程が続く。また、図９では、保護膜の図示を省略している。

図１０は、図９のＥＥ矢視断面図である。試薬層２３上に、開口を有するフィルム２５が配置される。フィルム２５は、開口部分が、試薬層２３に位置するように配置される。フィルム２５の開口は、試薬層２３の挿入方向（矢印Ｘ２の方向）の両端において、試薬層２３と重なるように形成される。すなわち、フィルム２５の一部は、試薬層２３の挿入方向の両端において、試薬層２３の上に重なる。また、フィルム２５の一部は、トリミング部の挿入方向の両端において、トリミング部の上に重なる。

なお、挿入方向側のフィルム２５は、形成されなくてもよい。例えば、図９および図１０に示す左側のフィルム２５は、無くてもよい。

このように、フィルム２５は、試薬層２３の挿入方向における両端部において、試薬層２３およびトリミング部に重なるように、電極２２上に配置される。

これにより、センサー１は、製造工程によって生じる性能のばらつきが抑制される。例えば、試薬層２３のプローブ１２の挿入方向における端部（コーヒーリングのエッジ部分）を、フィルム２５によって覆い、試薬層２３の一様な部分を露出させることができる。

（変形例３）
フィルム２５の開口形状の例について説明する。

図１１は、フィルム２５の開口形状の例を示した図である。図１１の（Ａ）および図１１の（Ｂ）のハッチングが付された部分は、トリミング部を示す。図１１の（Ａ）および図１１の（Ｂ）に示す多角形状および丸形状等の図形は、フィルム２５の開口部分の形状を示す。図１１に示す矢印Ｘ２は、プローブ１２の生体２への挿入方向を示す。

図１１の（Ａ）では、試薬層２３の挿入方向における両端にフィルム２５が形成される（例えば、図５および図６を参照）。図１１の（Ｂ）では、試薬層２３の先端側とは反対側の端にフィルム２５が形成される（例えば、図５および図６の右側のフィルム２５は形成され、左側のフィルム２５は形成されない）。このように、フィルム２５の開口形状は、様々な形状を有してもよい。

（変形例４）
センサー１の大きさの一例について説明する。

図１２は、センサー１の大きさの一例を説明する図である。図１２において、図３および図７と同じ構成要素には、同じ符号が付してある。図１２では、フィルム２５の図示を省略している。

プローブ１２の先端部分の幅Ｄ１は、例えば、７０μｍ以上１７００μｍ以下である。好ましくは、幅Ｄ１は、７０μｍ以上６００μｍ以下、より好ましくは、７０μｍ以上４００μｍ以下である。

トリミング部３５，３６の幅Ｄ２は、例えば、５μｍ以上である。幅Ｄ２は、プローブ１２の先端部分の幅に対して試薬層２３を確保できる幅を有する条件であれば、特に限定されない。トリミング部３５，３６の幅Ｄ２を太くしたい場合には、レーザーを複数回照射することで実現できる。

（第２の実施の形態）
例えば、ＣＧＭセンサーといった電気化学式のセンサーは、数日から数週間、生体内中のアナライトを連続的または半連続的に測定する。その際、日または時間といった測定タイミングによって、同一アナライト濃度であっても、プローブから得られるシグナル強度が異なる場合があり、センサーの測定精度が低下する。

その原因の１つとして、本件発明者らは、長期間連続して参照層に通電することで、参照層の材料であるＡｇ／ＡｇＣｌ（銀または塩化銀）が分解し、分解したＡｇ／ＡｇＣｌが作用極側に流入するためと考えている。そして、本件発明者らは、Ａｇ／ＡｇＣｌが作用極側に流入することでシグナル値に異常をきたす原因として、銀イオンまたは塩素イオンが、作用極側の試薬と反応することに基づくと推測している。従って、参照層のＡｇ／ＡｇＣｌの分解を抑制すれば、センサーの測定精度の低下を抑制できる。

参照層のＡｇ／ＡｇＣｌの分解を抑制する１つの手段として、参照層を微小化し、アナライトと接する面積を小さくすることが挙げられる。Ａｇ／ＡｇＣｌの参照層を構成する工法には、例えば、スクリーン印刷工法と塗布工法とが挙げられる。

しかしながら、スクリーン印刷工法で微小電極を形成した場合、微小電極がゆえに印刷版の目詰まりを起こし易い。また、スクリーン印刷工法は、Ａｇ／ＡｇＣｌペーストのロスも多い。そのため、スクリーン印刷工法は、センサーの大量生産という観点から不向きである。

めっき工法は、Ａｇ／ＡｇＣｌ電極（参照層）の微小化という観点では好ましい工法であるが、センサーの大量生産においては不向きである。その理由として第１に、めっきに使用する薬品や製造プロセスの管理が煩雑であることが挙げられる。第２に、Ａｇ／ＡｇＣｌ電極のめっきを行う際に、微小なＡｇ／ＡｇＣｌ電極以外のプローブ部分をマスキングすること、および、それを連続的に管理することが難しいことが挙げられる。

以下では、参照層のアナライトに接する面積を小さくでき、アナライトをより高い精度で測定できるセンサーおよびその製造方法について説明する。

図１３は、第２の実施の形態に係るセンサー１のプローブ１２の斜視図である。図１３において、図２および図３と同じ構成要素には同じ符号が付してある。

図１３に示すプローブ１２は、第１の実施の形態で説明したプローブ１２と同様に、電極２２を有する。また、プローブ１２は、第１の実施の形態で説明したプローブ１２と同様に、試薬層２３（図１３には、図示せず）と、参照層２４（図１３には、図示せず）と、第１面において、一部が露出する対極２２ｃ（図１３には、図示せず）と、を有する。

プローブ１２の試薬層２３および参照層２４が形成される側の面を第１面と称することがある。第１面と対向する面を第２面と称することがある。

また、第１面と第２面とを接続し、プローブ１２の挿入方向（図１３の矢印Ｘ２の方向）に伸びる面であって、プローブ１２の先端から見て、右側の面を第３面と称することがある。第１面と第２面とを接続し、プローブ１２の挿入方向に伸びる面であって、プローブ１２の先端から見て、左側の面を第４面と称することがある。

なお、第１面は、上面と称されてもよい。第２面は、底面と称されてもよい。第３面および第４面は、側面と称されてもよい。

図１４は、図１３のプローブ１２を第３面側から見た一部側面図である。図１４に示すように、基板２１の第１面側には、電極２２が形成される。電極２２は、作用極２２ａと、参照極２２ｂと、対極２２ｃと、を有する。

電極２２の作用極２２ａの第１面側には、試薬層２３が形成される。電極２２の参照極２２ｂの第１面側には、参照層２４が形成される。参照層２４は、参照極２２ｂ上に塗布されたＡｇ／ＡｇＣｌペーストが硬化されて形成される。

参照層２４の第１面側は、フィルム２５によって覆われる。別言すれば、参照層２４の第１面側は、露出しない。参照層２４は、プローブ１２の第３面側において露出する。別言すれば、参照層２４は、プローブ１２の幅方向（矢印Ｘ２に示す挿入方向に対し垂直方向）において露出する（図４Ｂも参照）。

なお、第３面側において露出した参照層２４は、第１の実施の形態で説明したように、保護膜によって覆われてもよい。第１の実施の形態で説明した通り、保護膜は、少なくともアナライト（グルコース）を透過可能な孔を有する。従って、参照層２４は、少なくともアナライトに対して露出（接触、通電）する。

フィルム２５は、対極２２ｃの第１面側の、領域Ｘ３における部分が露出するように、開口を有する。フィルム２５の開口は、切欠き形状を有する（図３の（Ｂ）の領域Ｘ３も参照）。この切欠き形状により、対極２２ｃは、上面において一部が露出する。

第１面側から見た、第３面から第４面に向かう方向の参照層２４の形状は、円弧状形状または楕円弧状形状等を有してもよい（例えば、図１５を参照）。

なお、プローブ１２の頭部（図１３の領域Ｘ１の部分）から試薬層２３に至るまでの作用極２２ａの部分は、リードまたは作用極リードと称されてもよい。プローブ１２の頭部から参照層２４に至るまでの参照極２２ｂの部分は、リードまたは参照極リードと称されてもよい。プローブ１２の頭部からフィルム２５の開口（領域Ｘ３）に至るまでの対極２２ｃの部分は、リードまたは対極リードと称されてもよい。

また、参照層２４は、第４面側において、露出してもよい。また、参照層２４および対極２２ｃは、第２面側に形成されてもよい。参照層２４および対極２２ｃが第２面側に形成される場合、参照極リードおよび対極リードは、第２面側に形成される。

図１５は、参照層２４の形状例を説明する図である。図１５の（Ａ）および図１５の（Ｂ）には、プローブ１２を第１面側から見た場合の参照層２４が示してある。図１５の（Ａ）および図１５の（Ｂ）では、フィルム２５の図示を省略している。図１５の（Ａ）および図１５の（Ｂ）には、電極２２の作用極２２ａ、参照極２２ｂ、および対極２２ｃを分離する溝Ａ１，Ａ２が示してある（図３の（Ｂ）も参照）。

図１５の（Ａ）に示すように、プローブ１２を第１面側から見た、第３面から第４面に向かう方向の参照層２４の形状は、円弧形状を有してもよい。また、プローブ１２を第１面側から見た、第３面から第４面に向かう方向の参照層２４の形状は、楕円弧形状を有してもよい。別言すれば、参照層２４の形状は、第１面側から見て、参照層２４が露出する面（第３面）から、参照層２４の中央部（内部）に向かう方向（第３面から第４面に向かう方向）において、窄まる形状を有してもよい。

参照層２４は、円弧または楕円弧が複数連なる形状を有してもよい。例えば、図１５の（Ｂ）に示すように、参照層２４は、２つの円弧が連なる形状を有してもよい。すなわち、参照層２４は、第１円弧および第２円弧または第１楕円弧および第２楕円弧を有してもよい。また、参照層２４は、円弧と楕円弧とを組み合わせた形状を有してもよい。

図１５の（Ａ）および図１５の（Ｂ）に示すように、参照極２２ｂ（参照極リード）は、プローブ１２の先端側において幅（面積）が広くなっている。参照極リードの幅が広くなった領域の一部に、Ａｇ／ＡｇＣｌペーストが塗布される。

プローブ１２（プローブ１２の参照層２４）の製造方法の概略を説明する。

工程１：シート状の基板２１の第１面側に、電極２２を形成する。

工程２：電極２２の所定の位置にＡｇ／ＡｇＣｌペーストを塗布する。

工程３：塗布されたＡｇ／ＡｇＣｌペーストを乾燥する。

工程４：乾燥したＡｇ／ＡｇＣｌを含む部分にフィルム２５を形成する。

工程５：シート状の基板２１を、プローブ形状となるようにカットする。カットする際、乾燥したＡｇ／ＡｇＣｌの一部分を含むようにカットする。

なお、工程１に続き、次の工程１ａが続いてもよい。そして、工程２に替えて、次の工程２ａが行われてもよい。

工程１ａ：基板２１に形成された電極２２に溝Ａ１，Ａ２を形成し、作用極２２ａ、参照極２２ｂ、および対極２２ｃを形成する。

工程２ａ：工程１ａで形成された参照極２２ｂの所定の位置にＡｇ／ＡｇＣｌペーストを塗布する。例えば、プローブ１２の先端側において幅が広くなった参照極２２ｂ（参照極リード）の領域の一部に、Ａｇ／ＡｇＣｌペーストを塗布する。

また、工程２は、下記の工程２ｂように行われてもよい。

工程２ｂ：シート状の基板２１の第１面側に、Ａｇ／ＡｇＣｌペーストを塗布する際、Ａｇ／ＡｇＣｌの一部分が、参照極２２ｂ（参照極リード）部分を含むように塗布する。別言すれば、Ａｇ／ＡｇＣｌペーストを、工程５のカットにおいて基板２１がカットされる部分を跨ぐように塗布する。

図１６は、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１の塗布例を示した図である。図１６には、基板２１上に形成された電極２２（図１６では符号を省略）、溝Ａ１，Ａ２、およびＡｇ／ＡｇＣｌペースト５１が示してある。図１６に示す点線Ｘ１１は、工程５においてカットされる部分を示す。図１６では、プローブ１２の頭部、先端部、試薬層２３、およびフィルム２５の図示を省略している。

Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１は、図１６に示すように、プローブ１２の挿入方向における参照極２２ｂの端部（参照極２２ｂの幅が広くなった部分）に塗布される。また、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１は、工程５のカットにおいて基板２１がカットされる部分（点線Ｘ１１）を跨ぐように塗布される。従って、工程５では、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１が塗布された部分を跨ぐように基板２１をカットする。

なお、工程４において、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１の上面にフィルム２５が形成される。従って、図１４で説明したように、参照層２４は、プローブ１２の上面（第１面）では露出せず、側面（第３面）において露出する。

図１７は、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１の塗布後の側面図である。図１７には、基板２１と、電極２２と、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１と、が示してある。

塗布工法は、微小電極（Ａｇ／ＡｇＣｌの参照層２４）の形成に適している。しかしながら、塗布工法で形成した参照層２４の表面は、図１７の側面図から理解されるように、参照層２４表面に平坦な面が存在せず、表面積が大きい。また、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１は、右側のＡｇ／ＡｇＣｌペースト５１に示すように、表面に角（盛り上がり）を有する場合がある（なお、角は、工程５によるカットによって除かれる場合がある）。

これに対し、本件では、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１の一部が、基板２１のカットされる部分を跨ぎ、参照極２２ｂ上に塗布されるようにする。また、塗布したＡｇ／ＡｇＣｌペースト５１の上面にフィルム２５を覆い、基板２１をカットする。これにより、参照層２４の断面（露出する部分）の面積を小さくできる。

また、塗布工法では、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１の表面積のバラツキが大きくなりやすい。

これに対し、本件では、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１の一部が、基板２１のカットされる部分を跨ぎ、参照極２２ｂ上に塗布されるようにする。また、塗布したＡｇ／ＡｇＣｌペースト５１の上面にフィルム２５を覆い、基板２１をカットする。これにより、参照層２４の断面（露出する部分）の面積のばらつきを抑制できる。

これにより、センサー１は、アナライトを高い精度で測定できる。また、センサー１は、容易に大量生産できる。

プローブ１２の詳細な製造方法ついて説明する。図１８Ａ－図１８Ｃは、プローブ１２の製造方法例を説明する図である。

（工程１１）
図１８Ａの（工程１１）に示すように、シート状の基板２１に電極２２を形成する。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）といったシート状の基板２１上へ、金といった電極材料をスパッタリングし、電極２２を形成する。

（工程１２）
図１８Ａの（工程１２）に示すように、電極２２をトリミングし、作用極２２ａ、参照極２２ｂ、および対極２２ｃ（図１８Ａの（工程１２）では、符号を省略）を形成する。電極２２のトリミングには、例えば、レーザートリミングが用いられてもよい。

（工程１３）
図１８Ａの（工程１３）に示すように、基板２１のカットされる部分（カットライン）を跨ぎ、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１を参照極２２ｂ上に塗布し、乾燥させる。別言すれば、参照極２２ｂと、最終的にカットした際にプローブ１２外となる部分とを跨ぐように、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１を塗布し、乾燥させる。これにより、電極２２（参照極２２ｂ）に参照層２４が形成される。

なお、図１８Ａの（工程１３）は、図１８Ａの（工程１２）の点線枠Ａ２１部分を拡大した図であって、図１６と同じ図である。図１８Ａの（工程１３）には、基板２１上に形成された参照極２２ｂ、溝Ａ１，Ａ２、およびＡｇ／ＡｇＣｌペースト５１が示してある。図１８Ａの（工程１３）では、プローブ１２の頭部、先端部、試薬層２３、およびフィルム２５の図示を省略している。

（工程１４）
図１８Ｂの（工程１４）に示すように、作用極２２ａの試薬層２３が形成される部分と、対極２２ｃの領域Ｘ３（図１４を参照）に対応する部分と、が開口したフィルム２５を基板２１に貼り付ける。このとき、第１面側の参照極２２ｂ（参照層２４）は、フィルム２５により覆われる（図１４を参照）。

なお、図１８Ｂの（工程１４）の矢印Ａ２２は、試薬層２３が形成される部分の、フィルム２５の開口を示す。対極２２ｃの領域Ｘ３（図１４を参照）に対応する部分の、フィルム２５の開口は、図示を省略している。

（工程１５）
図１８Ｂの（工程１５）に示すように、試薬層２３を形成するためのフィルム２５の開口部分（図１８Ｂの（工程１４）に示した矢印Ａ２２の部分）に、試薬液をアプライし、乾燥させて試薬層２３を形成する。

（工程１６）
図１８Ｃの（工程１６）に示すように、試薬層２３の一部およびＡｇ／ＡｇＣｌペースト５１の一部を含むように、基板２１をプローブ１２の形状にカットする。参照層２４は、プローブ１２の第１面側では、フィルム２５に覆われているが、第３面側では、露出する。

（工程１７）
図１８Ｃの（工程１７）に示すように、例えば、ディップにより、プローブ１２の少なくとも試薬層２３部分を保護膜で被覆する。

図１９は、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１の塗布を説明する図である。図１９には、電極２２が形成された基板２１の一部と、塗布装置６１と、が示してある。塗布装置６１は、ノズル６２を有する。Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１は、ノズル６２から吐出され、参照極２２ｂ上に塗布される。

図２０は、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１の塗布後の形状を説明する図である。図２０の（Ａ）～（Ｄ）に示すように、基板２１に塗布されるＡｇ／ＡｇＣｌペースト５１は、円形状または楕円形状を有してもよい。また、図２０の（Ｅ）に示すように、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１は、吹き出し形状を有してもよい。吹き出し形状は、例えば、後述するスキージ工法によって形成される。

図２０に示す点線Ａ３１は、例えば、上述の工程１６にて行われるカットのカットラインを示している。従って、参照層２４を上面側から見た外周形状は、基板２１のカットによって、円弧形状または楕円弧形状、または吹き出し形状を半分に切った形状等を有する（例えば、図２３の（Ａ）、図２４の（Ａ）、および図２５の（Ａ）を参照）。

図２１は、塗布装置６１の動作を説明する図である。図２１の（Ａ）に示すように、塗布装置６１は、基板２１の近傍に移動される。そして、塗布装置６１は、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１をノズル６２から吐出する。

塗布装置６１は、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１を吐出した後、図２１の（Ｂ）および図２１の（Ｃ）に示すように、上昇する。

これにより、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１は、基板２１の参照極２２ｂ上に塗布される。

なお、基板２１の参照極２２ｂ上において、塗布装置６１が図２１に示す動作を１回行った場合、基板２１の参照極２２ｂ上には、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１が１個塗布される（例えば、図２０の（Ａ）、（Ｂ）を参照）。基板２１の参照極２２ｂ上にＡｇ／ＡｇＣｌペースト５１を１個塗布する工法を、単発工法と称してもよい。

また、基板２１の参照極２２ｂ上において、塗布装置６１が図２１に示す動作を２回以上行った場合、基板２１の参照極２２ｂ上には、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１が２個以上塗布される（例えば、図２０の（Ｃ）、（Ｄ）を参照）。基板２１の参照極２２ｂ上にＡｇ／ＡｇＣｌペースト５１を２個以上塗布する工法を、連発工法と称してもよい。

図２２は、塗布装置６１の動作を説明する図である。図２２の（Ａ）に示すように、塗布装置６１は、基板２１の近傍に移動される。そして、塗布装置６１は、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１をノズル６２から吐出する。

次に、塗布装置６１は、図２２の（Ｂ）に示すように、基板２１との距離を維持したまま、平行移動する。

そして、塗布装置６１は、図２２の（Ｃ）に示すように、上昇する。

これにより、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１は、図２０の（Ｅ）に示したように、基板２１の参照極２２ｂ上において、吹き出し形状となるように塗布される。

なお、塗布装置６１を、基板２１との距離を維持したまま平行移動させ、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１を基板２１上に塗布する工法を、スキージ工法と称してもよい。

図２３は、単発工法による参照層２４の形状例を示した図である。図２３の（Ａ）には、基板２１のカット後であって、プローブ１２の第１面側から見た参照層２４の形状例が示してある。図２３の（Ｂ）には、基板２１のカット後であって、プローブ１２の第３面側から見た参照層２４の形状例が示してある。

参照層２４は、図２３の（Ａ）に示すように、プローブ１２の第１面側から見て、円弧形状に形成されてもよい。例えば、参照層２４は、中心角が１８０°となる円弧であってもよい（半円）。また、参照層２４は、中心角が１８０°より大きい円弧であってもよい。また、参照層２４は、中心角が１８０°より小さい円弧であってもよい。また、参照層２４は、楕円弧形状、四角形状、または三角形状に形成されてもよい。

参照層２４は、図２３の（Ｂ）に示すように、プローブ１２の第３面側から見て、円弧形状、楕円弧形状、中央部に角を有する円弧形状または楕円弧形状、周囲に角を有する形状、または四角形状に形成されてもよい。

参照層２４の形状は、塗布装置６１のノズル６２の形状によって、種々の形状に設定できる。ただし、図２３の（Ｂ）の周囲に角を有する形状は、ノズル形状ではなく、点着方式によって形成される。

図２４は、連発工法による参照層２４の形状例を示した図である。図２４の（Ａ）には、基板２１のカット後であって、プローブ１２の第１面側から見た参照層２４の形状例が示してある。図２４の（Ｂ）には、基板２１のカット後であって、プローブ１２の第３面側から見た参照層２４の形状例が示してある。

参照層２４は、図２４の（Ａ）に示すように、プローブ１２の第１面側から見て、円弧形状に形成されてもよい。参照層２４は、隣接してもよいし、離れていてもよい。また、参照層２４は、重なってもよい。図２４の（Ａ）には、図示していないが、参照層２４の形状は、円弧形状に限らず、楕円弧形状、四角形状、または三角形状であってもよい。

参照層２４は、図２４の（Ｂ）に示すように、プローブ１２の第３面側から見て、円弧形状、楕円弧形状、角を有する円弧形状または楕円弧形状、中央部に角を有する形状、または四角形状に形成されてもよい。

参照層２４の形状は、塗布装置６１のノズル６２の形状によって、種々の形状に設定できる。

図２５は、スキージ工法による参照層２４の形状例を示した図である。図２５の（Ａ）には、基板２１のカット後であって、プローブ１２の第１面側から見た参照層２４の形状例が示してある。図２５の（Ｂ）には、基板２１のカット後であって、プローブ１２の第３面側から見た参照層２４の形状例が示してある。

参照層２４は、図２５の（Ａ）に示すように、プローブ１２の第１面側から見て、吹き出し形状を半分にした形状に形成されてもよい。また、参照層２４は、吹き出し形状を半分にした形状が複数連なってもよい。

参照層２４は、図２５の（Ｂ）に示すように、プローブ１２の第３面側から見て、吹き出し形状を半分にした形状に形成されてもよい。参照層２４は、吹き出し形状を半分にした形状において、上面の一部において角を有してもよい。また、参照層２４は、プローブ１２の第３面側から見て、四角形状に形成されてもよい。

Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１について説明する。Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１は、例えば、０．１Ｐａ・ｓ以上３００Ｐａ・ｓ以下の範囲の粘度を有してもよい。より好ましくは、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１は、１Ｐａ・ｓ以上１００Ｐａ・ｓ以下の範囲の粘度を有してもよい。さらに好ましくは、Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１は、１０Ｐａ・ｓ以上５０Ｐａ・Ｓ以下の範囲の粘度を有してもよい。

Ａｇ／ＡｇＣｌペースト５１を、所定の粘度とするためには、例えば、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトンを主成分とするシンナーのような有機溶剤を用いてもよい。

参照層２４の露出サイズについて説明する。参照層２４の露出面の高さは、長時間における参照層２４の分解抑制の観点から、例えば、１μｍ以上２００μｍ以下の範囲であってもよい。より好ましくは、参照層２４の露出面の高さは、２μｍ以上５０μｍ以下の範囲であってもよい。さらに好ましくは、参照層２４の露出面の高さは、５μｍ以上１５μｍ以下の範囲であってもよい。

また、参照層２４の露出面の幅は、例えば、１μｍ以上１０００μｍ以下の範囲であってもよい。より好ましくは、参照層２４の露出面の幅は、５０μｍ以上８００μｍ以下の範囲であってもよい。さらに好ましくは、参照層２４の露出面の幅は、１００μｍ以上６００μｍ以下の範囲であってもよい。そして、参照層２４の露出面積は、例えば、０．５μｍ^２以上１６００００μｍ^２以下の範囲であってもよい。より好ましくは、参照層２４の露出面積は、７０μｍ^２以上３２０００μｍ^２以下の範囲であってもよい。さらに好ましくは、参照層２４の露出面積は、３９０μｍ^２以上７１００μｍ^２以下の範囲であってもよい。

以上説明したように、生体内に挿入され、アナライトを測定するセンサー１のプローブ１２は、基板２１と、基板２１上に形成された電極２２と、電極２２上に形成された参照層２４と、を有する。参照層２４は、第１面がフィルム２５によって覆われ、第３面が露出する。

このように、センサー１は、参照層２４の第１面がフィルム２５によって覆われ、第３面において露出し、参照層２４のアナライトに接する面積を小さくでき、参照層２４の分解（Ａｇ／ＡｇＣｌの分解）が抑制される。従って、センサー１は、アナライトをより高い精度で測定できる。

また、参照層２４は、塗布工法によって電極２２上に塗布され、第３面から参照層２４の内部に向かう方向において窄まった形状を有する。これにより、参照層２４は、塗布工法によって、第１面において、安定して微小形成できる。

なお、電極２２上に塗布された、例えば、略しずく形状または略尖頭アーチ形状のＡｇ／ＡｇＣｌペーストの尖った部分を、スキージ動作等で製品外（プローブ１２外）に配置すると、参照層２４は、より微小形成できる。

また、参照層２４は、塗布工法によって電極２２上に形成されるとしたが、スクリーン印刷工法により形成されてもよい。また、塗布工法とスクリーン印刷工法とでは、塗布工法によって、参照層２４を形成することが好ましい。その理由として、スクリーン印刷工法では、材料（Ａｇ／ＡｇＣｌ）のロスが大きく、また、スクリーン印刷版のＡｇ／ＡｇＣｌペーストの目詰まり対策等を行う必要があり、製造上の管理が煩雑になるからである。

以上、図面を参照しながら実施の形態について説明したが、本開示はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかである。そのような変更例または修正例についても、本開示の技術的範囲に属するものと了解される。

また、本開示の趣旨を逸脱しない範囲において、実施の形態における各構成要素は任意に組み合わされてよい。

例えば、第２の実施の形態で説明したプローブ１２は、第１の実施の形態で説明したプローブ１２と同様に、トリミング部が形成されてもよい。

また、第２の実施の形態で説明したプローブ１２は、試薬層２３を被膜する保護膜を有してもよい。

また、第２の実施の形態で説明したプローブ１２は、図１０で説明したように、フィルム２５の一部が、試薬層２３の挿入方向の両端において、試薬層２３の上に重なってもよい。また、挿入方向側のフィルム２５は、形成されなくてもよい。

また、第２の実施の形態で説明したプローブ１２の各構成要素の材料は、第１の実施の形態で説明したプローブ１２の各構成要素の材料と同様の物を用いてもよい。また、第２の実施の形態で説明したプローブ１２の大きさは、第１の実施の形態で説明したプローブ１２と同様であってもよい。

本出願は、２０２０年２月２８日に出願された米国仮出願第６２／９８２，９３９号からの優先権の利益を主張するものであり、米国仮出願第６２／９８２，９３９号の参照によりその全体が援用される。

本開示は、バイオセンサー、例えば、ＣＧＭセンサーに有用である。

１ センサー
２ 生体
１１ 本体
１２ プローブ
２１ 基板
２２ 電極
２２ａ 作用極
２２ｂ 参照極
２２ｃ 対極
２３ 試薬層
２４ 参照層
２５ フィルム
３１ 上面
３２ 裏面
３３，３４ 側面
３５，３６ トリミング部
５１ Ａｇ／ＡｇＣｌペースト
６１ 塗布装置
６２ ノズル

Claims (6)

1. 生体内に挿入されるプローブを有し、アナライトを測定するセンサーであって、
   前記プローブは、
   基板と、
   前記基板上に形成された電極と、
   前記電極上に形成された参照層と、
   を有し、
   前記参照層は、上面がフィルムによって覆われ、側面が露出し、
   前記参照層は、前記上面から見て、前記側面から前記参照層の内部に向かう方向において窄まった形状を有する、
   センサー。
2. 生体内に挿入されるプローブを有し、アナライトを測定するセンサーであって、
   前記プローブは、
   基板と、
   前記基板上に形成された電極と、
   前記電極上に形成された参照層と、
   を有し、
   前記参照層は、上面がフィルムによって覆われ、側面が露出し、
   前記参照層の前記側面から前記参照層の内部に向かう方向の形状は、円弧形状、楕円弧形状、または三角形状である、
   センサー。
3. 前記参照層は、複数の前記円弧形状、複数の前記楕円弧形状、または複数の三角形状を有する、
   請求項２に記載のセンサー。
4. 前記参照層の前記側面は、前記アナライトに対して露出する、
   請求項１又は２に記載のセンサー。
5. 前記参照層の前記側面は、前記アナライトが透過する保護膜によって覆われる、
   請求項４に記載のセンサー。
6. 生体内に挿入されるプローブを有し、アナライトを測定するセンサーの製造方法であって、
   前記プローブは、
   シート状の基板上に電極を形成する工程と、
   前記電極上に参照層を形成する工程と、
   前記参照層上にフィルムを配置する工程と、
   前記プローブの形状となるように前記シート状の基板をカットする工程と、
   によって製造され、
   前記参照層は、ノズルから吐出されるペースト状の材料が前記電極上に塗布されて形成され、
   前記シート状の基板をカットする際、前記参照層の一部がカットされる、
   センサーの製造方法。

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