JP7356653B2 - 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク装置の製造方法および蒸着マスク - Google Patents

Description

本開示は、蒸着マスクの良否判定方法、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク装置の製造方法、蒸着マスクの選定方法および蒸着マスクに関する。

近年、スマートフォンやタブレットＰＣ等の持ち運び可能なデバイスで用いられる表示装置に対して、高精細であること、例えば画素密度が５００ｐｐｉ以上であることが求められている。また、持ち運び可能なデバイスにおいても、ウルトラハイディフィニションに対応することへの需要が高まっており、この場合、表示装置の画素密度が例えば８００ｐｐｉ以上であることが求められる。

表示装置の中でも、応答性の良さ、消費電力の低さやコントラストの高さのため、有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置の画素を形成する方法として、所望のパターンで配列された貫通孔が形成された蒸着マスクを用い、所望のパターンで画素を形成する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。具体的には、はじめに、有機ＥＬ表示装置用の基板に対して蒸着マスクを張設した状態で密着させ、次に、密着させた蒸着マスクおよび基板を共に蒸着装置に投入し、有機材料を基板に蒸着させる蒸着工程を行う。この場合、高い画素密度を有する有機ＥＬ表示装置を精密に作製するためには、張設時の蒸着マスクの貫通孔の位置を設計に沿って精密に再現することが求められる。

特開２００１－２３４３８５号公報

本開示は、張設時の貫通孔の位置精度を向上させることができる蒸着マスクの良否判定方法、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク装置の製造方法、蒸着マスクの選定方法および蒸着マスクを提供することを目的とする。

本開示の第１の態様は、
第１方向に延びる蒸着マスクであって、前記第１方向に延び、前記第１方向に直交する第２方向の中心位置に配置された第１中心軸線と、前記第１中心軸線の一側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ１点およびＱ１点と、前記第１中心軸線の他側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ２点およびＱ２点と、を備えた蒸着マスクの良否を判定する良否判定方法であって、
前記Ｐ１点から前記Ｑ１点までの寸法Ｘ１と、前記Ｐ２点から前記Ｑ２点までの寸法Ｘ２とを測定する測定工程と、
前記測定工程において測定された前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２に基づいて、前記蒸着マスクの良否を判定する判定工程と、を備えた、蒸着マスクの良否判定方法、
である。

本開示の第２の態様として、上述した第１の態様による蒸着マスクの良否判定方法において、
前記判定工程において、前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２の設計値をα_Ｘとしたとき、

を満たしているか否かを判定する、
ようにしてもよい。

本開示の第３の態様として、上述した第１の態様または第２の態様よる蒸着マスクの良否判定方法において、
前記蒸着マスクは、複数の貫通孔を有し、
前記判定工程において、前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２の設計値をα_Ｘ、前記Ｐ１点から前記Ｐ２点までの寸法および前記Ｑ１点から前記Ｑ２点までの寸法の設計値をα_Ｙ、前記第２方向における２つの前記貫通孔の中心点間の距離のうち最大値をＷ_Ｙとしたとき、

を満たしているか否かを判定する、
ようにしてもよい。

本開示の第４の態様として、上述した第１の態様から上述した第３の態様のそれぞれによる蒸着マスクの良否判定方法において、
前記Ｐ１点と前記Ｐ２点とは、蒸着時に前記第１中心軸線に対して互いに対称に配置されることが意図され、前記Ｑ１点と前記Ｑ２点とは、蒸着時に前記第１中心軸線に対して互いに対称に配置されることが意図される、
ようにしてもよい。

本開示の第５の態様として、上述した第１の態様から上述した第４の態様のそれぞれによる蒸着マスクの良否判定方法において、
前記Ｐ１点および前記Ｐ２点は、前記第１方向の中心位置に配置された第２中心軸線に対して一側に配置され、
前記Ｑ１点および前記Ｑ２点は、前記第２中心軸線に対して他側に配置されている、
ようにしてもよい。

本開示の第６の態様として、上述した第５の態様による蒸着マスクの良否判定方法において、
前記Ｐ１点と前記Ｑ１点とは、蒸着時に前記第２中心軸線に対して互いに対称に配置されることが意図され、前記Ｐ２点と前記Ｑ２点とは、蒸着時に前記第２中心軸線に対して互いに対称に配置されることが意図される、
ようにしてもよい。

本開示の第７の態様は、
蒸着マスクを準備する工程と、
上述した第１の態様から上述した第６の態様のそれぞれによる蒸着マスクの良否判定方法により前記蒸着マスクの良否を判定する工程と、を備えた、蒸着マスクの製造方法、
である。

本開示の第８の態様は、
第１方向に延びる蒸着マスクであって、前記第１方向に延び、前記第１方向に直交する第２方向の中心位置に配置された第１中心軸線と、前記第１中心軸線の一側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ１点およびＱ１点と、前記第１中心軸線の他側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ２点およびＱ２点と、を備えた蒸着マスクを製造する製造方法であって、
前記蒸着マスクを準備する工程と、
前記Ｐ１点から前記Ｑ１点までの寸法Ｘ１と、前記Ｐ２点から前記Ｑ２点までの寸法Ｘ２とを測定する測定工程と、
前記測定工程において測定された前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２が、前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２の設計値をα_Ｘとしたとき、

を満たしている前記蒸着マスクを選定する選定工程と、を備えた、蒸着マスクの製造方法、
である。

本開示の第９の態様として、上述した第８の態様による蒸着マスクの製造方法において、
前記蒸着マスクは、複数の貫通孔を有し、
前記選定工程において、前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２の設計値をα_Ｘ、前記Ｐ１点から前記Ｐ２点までの寸法および前記Ｑ１点から前記Ｑ２点までの寸法の設計値をα_Ｙ、前記第２方向における２つの前記貫通孔の中心点間の距離のうち最大値をＷ_Ｙとしたとき、

を満たしている前記蒸着マスクを選定する、
ようにしてもよい。

本開示の第１０の態様は、
第１方向に延びる、複数の貫通孔を有する蒸着マスクであって、前記第１方向に延び、前記第１方向に直交する第２方向の中心位置に配置された第１中心軸線と、前記第１中心軸線の一側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ１点およびＱ１点と、前記第１中心軸線の他側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ２点およびＱ２点と、を備えた蒸着マスクを製造する製造方法であって、
前記蒸着マスクを準備する工程と、
前記Ｐ１点から前記Ｑ１点までの寸法Ｘ１と、前記Ｐ２点から前記Ｑ２点までの寸法Ｘ２とを測定する測定工程と、
前記測定工程において測定された前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２が、前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２の設計値をα_Ｘ、前記Ｐ１点から前記Ｐ２点までの寸法および前記Ｑ１点から前記Ｑ２点までの寸法の設計値をα_Ｙ、前記第２方向における２つの前記貫通孔の中心点間の距離のうち最大値をＷ_Ｙとしたとき、

を満たしている前記蒸着マスクを選定する選定工程と、を備えた、蒸着マスクの製造方法、
である。

なお、第７の態様から第１０の態様は、第７の態様から第１０の態様の蒸着マスクの製造方法により製造された蒸着マスクでもよい。

本開示の第１１の態様は、
上述した第７の態様から上述した第１０の態様のそれぞれによる蒸着マスクの製造方法により前記蒸着マスクを準備する工程と、
前記蒸着マスクに前記第１方向に張力を付与して前記蒸着マスクをフレームに張設する工程と、を備えた、蒸着マスク装置の製造方法、
である。

なお、第１１の態様は、第１１の態様の蒸着マスク装置の製造方法により製造された蒸着マスク装置でもよい。

本開示の第１２の態様は、
第１方向に延びる蒸着マスクであって、前記第１方向に延び、前記第１方向に直交する第２方向の中心位置に配置された第１中心軸線と、前記第１中心軸線の一側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ１点およびＱ１点と、前記第１中心軸線の他側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ２点およびＱ２点と、を備えた蒸着マスクを選定する選定方法であって、
前記Ｐ１点から前記Ｑ１点までの寸法Ｘ１と、前記Ｐ２点から前記Ｑ２点までの寸法Ｘ２とを測定する測定工程と、
前記測定工程において測定された前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２が、前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２の設計値をα_Ｘとしたとき、

を満たしている前記蒸着マスクを選定する選定工程と、を備えた、蒸着マスクの選定方法である。

本開示の第１３の態様は、
第１方向に延びる、複数の貫通孔を有する蒸着マスクであって、前記第１方向に延び、前記第１方向に直交する第２方向の中心位置に配置された第１中心軸線と、前記第１中心軸線の一側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ１点およびＱ１点と、前記第１中心軸線の他側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ２点およびＱ２点と、を備えた蒸着マスクを選定する選定方法であって、
前記Ｐ１点から前記Ｑ１点までの寸法Ｘ１と、前記Ｐ２点から前記Ｑ２点までの寸法Ｘ２とを測定する測定工程と、
前記測定工程において測定された前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２が、前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２の設計値をα_Ｘ、前記Ｐ１点から前記Ｐ２点までの寸法および前記Ｑ１点から前記Ｑ２点までの寸法の設計値をα_Ｙ、前記第２方向における２つの前記貫通孔の中心点間の距離のうち最大値をＷ_Ｙとしたとき、

を満たしている前記蒸着マスクを選定する選定工程と、を備えた、蒸着マスクの選定方法である。

本開示の第１４の態様は、
第１方向に延びる蒸着マスクであって、
前記第１方向に延び、前記第１方向に直交する第２方向の中心位置に配置された第１中心軸線と、
前記第１中心軸線の一側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ１点およびＱ１点と、
前記第１中心軸線の他側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ２点およびＱ２点と、を備え、
前記Ｐ１点から前記Ｑ１点までの寸法をＸ１とし、前記Ｐ２点から前記Ｑ２点までの寸法をＸ２とし、前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２の設計値をα_Ｘとしたとき、

を満たしている、蒸着マスクである。

本開示の第１５の態様は、
第１方向に延びる、複数の貫通孔を有する蒸着マスクであって、
前記第１方向に延び、前記第１方向に直交する第２方向の中心位置に配置された第１中心軸線と、
前記第１中心軸線の一側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ１点およびＱ１点と、
前記第１中心軸線の他側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ２点およびＱ２点と、を備え、
前記Ｐ１点から前記Ｑ１点までの寸法をＸ１とし、前記Ｐ２点から前記Ｑ２点までの寸法をＸ２とし、前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２の設計値をα_Ｘ、前記Ｐ１点から前記Ｐ２点までの寸法および前記Ｑ１点から前記Ｑ２点までの寸法の設計値をα_Ｙ、前記第２方向における２つの前記貫通孔の中心点間の距離のうち最大値をＷ_Ｙとしたとき、

を満たしている、蒸着マスクである。

本開示の第１６の態様は、
上述した第１１の態様による蒸着マスク装置の製造方法により前記蒸着マスク装置を準備する工程と、
前記蒸着マスク装置の前記蒸着マスクを、基板に密着させる工程と、
前記蒸着マスクの前記貫通孔を通して蒸着材料を前記基板に蒸着させる工程と、を備えた、蒸着方法である。

本開示によれば、張設時の貫通孔の位置精度を向上させることができる。

本開示の一実施形態による蒸着マスク装置を備えた蒸着装置を示す図である。 図１に示す蒸着マスク装置を用いて製造した有機ＥＬ表示装置を示す断面図である。 本開示の一実施形態による蒸着マスク装置を示す平面図である。 図３に示された蒸着マスクの有効領域を示す部分平面図である。 図４のＶ－Ｖ線に沿った断面図である。 図４のＶＩ－ＶＩ線に沿った断面図である。 図４のＶＩＩ－ＶＩＩ線に沿った断面図である。 図５に示す貫通孔およびその近傍の領域を拡大して示す断面図である。 図３の蒸着マスクにおける寸法Ｘ１および寸法Ｘ２を説明するための模式図である。 図９Ａの変形例として、図３の蒸着マスクにおける寸法Ｘ１および寸法Ｘ２を説明するための模式図である。 図９Ａの他の変形例として、図３の蒸着マスクにおける寸法Ｘ１および寸法Ｘ２を説明するための模式図である。 母材を圧延して、所望の厚みを有する金属板を得る工程を示す図である。 圧延によって得られた金属板をアニールする工程を示す図である。 本開示の一実施形態による蒸着マスクの製造方法を全体的に説明するための模式図である。 本開示の一実施形態による製造方法において、金属板上にレジスト膜を形成する工程を示す図である。 本開示の一実施形態による製造方法において、レジスト膜に露光マスクを密着させる工程を示す図である。 本開示の一実施形態による製造方法において、レジスト膜を現像する工程を示す図である。 本開示の一実施形態による製造方法において、第１面エッチング工程を示す図である。 本開示の一実施形態による製造方法において、第１凹部を樹脂によって被覆する工程を示す図である。 本開示の一実施形態による製造方法において、第２面エッチング工程を示す図である。 本開示の一実施形態による製造方法において、図１８に続く第２面エッチング工程を示す図である。 本開示の一実施形態による製造方法において、長尺金属板から樹脂およびレジストパターンを除去する工程を示す図である。 圧延によって得られた長尺金属板の一例を示す斜視図である。 波打ち形状が圧縮されてほぼ平坦な状態になった長尺金属板に蒸着マスクを形成することを説明する斜視図である。 長尺金属板に形成された複数の蒸着マスクを示す斜視図である。 図２３に示す長尺金属板から切り出された蒸着マスクを示す平面図である。 本開示の一実施形態による蒸着マスクの良否判定方法で用いる蒸着マスクの良否判定システムの一例を示す図である。 本開示の一実施形態による蒸着マスク装置の製造方法において、張力付与装置の一例を示す図である。 図２４に示す蒸着マスクの張設状態の一例を示す平面図である。 図２４に示す蒸着マスクの張設状態の他の一例を示す平面図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝２００ｍｍ、α_Ｙ＝６５．０ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝２００ｍｍ、α_Ｙ＝４３．３ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝２００ｍｍ、α_Ｙ＝２１．７ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝３００ｍｍ、α_Ｙ＝６５．０ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝３００ｍｍ、α_Ｙ＝４３．３ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝３００ｍｍ、α_Ｙ＝２１．７ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝４００ｍｍ、α_Ｙ＝６５．０ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝４００ｍｍ、α_Ｙ＝４３．３ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝４００ｍｍ、α_Ｙ＝２１．７ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝６００ｍｍ、α_Ｙ＝６５．０ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝６００ｍｍ、α_Ｙ＝４３．３ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝６００ｍｍ、α_Ｙ＝２１．７ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝８００ｍｍ、α_Ｙ＝６５．０ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝８００ｍｍ、α_Ｙ＝４３．３ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝８００ｍｍ、α_Ｙ＝２１．７ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝９００ｍｍ、α_Ｙ＝６５．０ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝９００ｍｍ、α_Ｙ＝４３．３ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。 本開示の一実施例において、α_Ｘ＝９００ｍｍ、α_Ｙ＝２１．７ｍｍでの蒸着マスクの良否判定結果を示す図である。

本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、「板」、「シート」、「フィルム」など用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「板」はシートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。また、「面（シート面、フィルム面）」とは、対象となる板状（シート状、フィルム状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となる板状部材（シート状部材、フィルム状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。また、板状（シート状、フィルム状）の部材に対して用いる法線方向とは、当該部材の面（シート面、フィルム面）に対する法線方向のことを指す。更に、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。

本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。

本明細書および本図面において、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に（又は下に）」、「上側に（又は下側に）」、または「上方に（又は下方に）」とする場合、特別な説明が無い限りは、ある構成が他の構成に直接的に接している場合のみでなく、ある構成と他の構成との間に別の構成が含まれている場合も含めて解釈することとする。また、特別な説明が無い限りは、上（または、上側や上方）又は下（または、下側、下方）という語句を用いて説明する場合があるが、上下方向が逆転してもよい。

本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号または類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。

本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、矛盾の生じない範囲で、その他の実施形態や変形例と組み合わせられ得る。また、その他の実施形態同士や、その他の実施形態と変形例も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられ得る。また、変形例同士も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられ得る。

本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、製造方法などの方法に関して複数の工程を開示する場合に、開示されている工程の間に、開示されていないその他の工程が実施されてもよい。また、開示されている工程の順序は、矛盾の生じない範囲で任意である。

本明細書および本図面において、特別な説明が無い限りは、「～」という記号によって表現される数値範囲は、「～」という符号の前後に置かれた数値を含んでいる。例えば、「３４～３８質量％」という表現によって画定される数値範囲は、「３４質量％以上且つ３８質量％以下」という表現によって画定される数値範囲と同一である。

本明細書の一実施形態において、有機ＥＬ表示装置を製造する際に有機材料を所望のパターンで基板上にパターニングするために用いられる蒸着マスクやその製造方法に関した例をあげて説明する。ただし、このような適用に限定されることなく、種々の用途に用いられる蒸着マスクに対し、本実施形態を適用することができる。

以下、本開示の一実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態のみに限定して解釈されるものではない。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

まず、対象物に蒸着材料を蒸着させる蒸着処理を実施する蒸着装置９０について、図１を参照して説明する。図１に示すように、蒸着装置９０は、その内部に、蒸着源（例えばるつぼ９４）、ヒータ９６、および蒸着マスク装置１０を備えていてもよい。また、蒸着装置９０は、蒸着装置９０の内部を真空雰囲気にするための排気手段を更に備えていてもよい。るつぼ９４は、有機発光材料などの蒸着材料９８を収容する。ヒータ９６は、るつぼ９４を加熱して、真空雰囲気の下で蒸着材料９８を蒸発させる。蒸着マスク装置１０は、るつぼ９４と対向するよう配置されている。

以下、蒸着マスク装置１０について説明する。図１に示すように、蒸着マスク装置１０は、蒸着マスク２０と、蒸着マスク２０を支持するフレーム１５と、を備えていてもよい。フレーム１５は、蒸着マスク２０が撓んでしまうことがないように、蒸着マスク２０をその面方向に引っ張った状態で支持する。蒸着マスク装置１０は、図１に示すように、蒸着マスク２０が、蒸着材料９８を付着させる対象物である基板、例えば有機ＥＬ基板９２に対面するよう、蒸着装置９０内に配置される。以下の説明において、蒸着マスク２０の面のうち、有機ＥＬ基板９２側の面を第１面２０ａと称し、第１面２０ａの反対側に位置する面を第２面２０ｂと称する。

蒸着マスク装置１０は、図１に示すように、有機ＥＬ基板９２の、蒸着マスク２０と反対の側の面に配置された磁石９３を備えていてもよい。磁石９３を設けることにより、磁力によって蒸着マスク２０を磁石９３側に引き寄せて、蒸着マスク２０を有機ＥＬ基板９２に密着させることができる。

図３は、蒸着マスク装置１０を蒸着マスク２０の第１面２０ａ側から見た場合を示す平面図である。図３に示すように、蒸着マスク装置１０は、平面視において略矩形状の形状を有する複数の蒸着マスク２０を備え、各蒸着マスク２０は、蒸着マスク２０の長手方向Ｄ１における一対の端部２６ａ，２６ｂにおいて、フレーム１５に固定されている。

蒸着マスク２０は、蒸着マスク２０を貫通する複数の貫通孔２５が形成された金属板を含んでいてもよい。るつぼ９４から蒸発して蒸着マスク装置１０に到達した蒸着材料９８は、蒸着マスク２０の貫通孔２５を通って有機ＥＬ基板９２に付着する。これによって、蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置に対応した所望のパターンで、蒸着材料９８を有機ＥＬ基板９２の表面に成膜することができる。

図２は、図１の蒸着装置９０を用いて製造した有機ＥＬ表示装置１００を示す断面図である。有機ＥＬ表示装置１００は、有機ＥＬ基板９２と、パターン状に設けられた蒸着材料９８を含む画素と、を備えていてもよい。

なお、複数の色によるカラー表示を行いたい場合には、各色に対応する蒸着マスク２０が搭載された蒸着装置９０をそれぞれ準備し、有機ＥＬ基板９２を各蒸着装置９０に順に投入してもよい。これによって、例えば、赤色用の有機発光材料、緑色用の有機発光材料および青色用の有機発光材料を順に有機ＥＬ基板９２に蒸着させることができる。

ところで、蒸着処理は、高温雰囲気となる蒸着装置９０の内部で実施される場合がある。この場合、蒸着処理の間、蒸着装置９０の内部に配置される蒸着マスク２０、フレーム１５および有機ＥＬ基板９２も加熱される。この際、蒸着マスク２０、フレーム１５および有機ＥＬ基板９２は、各々の熱膨張係数に基づいた寸法変化の挙動を示すことになる。この場合、蒸着マスク２０やフレーム１５と有機ＥＬ基板９２の熱膨張係数が大きく異ならないことが好ましい。このことにより、それらの寸法変化の差異に起因した位置ずれが生じることを抑制でき、この結果、有機ＥＬ基板９２上に付着する蒸着材料の寸法精度や位置精度を向上させることができる。

そこで、蒸着マスク２０およびフレーム１５の熱膨張係数が、有機ＥＬ基板９２の熱膨張係数と同等の値であってもよい。例えば、有機ＥＬ基板９２としてガラス基板が用いられる場合、蒸着マスク２０およびフレーム１５の主要な材料として、ニッケルを含む鉄合金を用いてもよい。例えば、蒸着マスク２０を構成する金属板の材料として、３０質量％以上且つ５４質量％以下のニッケルを含む鉄合金を用いてもよい。ニッケルを含む鉄合金の具体例としては、３４質量％以上且つ３８質量％以下のニッケルを含むインバー材、３０質量％以上且つ３４質量％以下のニッケルに加えてさらにコバルトを含むスーパーインバー材、３８質量％以上且つ５４質量％以下のニッケルを含む低熱膨張Ｆｅ－Ｎｉ系めっき合金などを挙げることができる。

なお蒸着処理の際に、蒸着マスク２０、フレーム１５および有機ＥＬ基板９２の温度が高温には達しない場合には、蒸着マスク２０およびフレーム１５の熱膨張係数を、有機ＥＬ基板９２の熱膨張係数と同等の値にしなくてもよい。この場合、蒸着マスク２０を構成する材料として、上述の鉄合金以外の材料を用いてもよい。例えば、クロムを含む鉄合金など、上述のニッケルを含む鉄合金以外の鉄合金を用いてもよい。クロムを含む鉄合金としては、例えば、いわゆるステンレスと称される鉄合金を用いてもよい。また、ニッケルやニッケル－コバルト合金など、鉄合金以外の合金を用いてもよい。

次に、蒸着マスク２０について詳細に説明する。図３に示すように、本実施形態における蒸着マスク２０は、細長状またはスティック状の平面形状を有していてもよい。蒸着マスク２０は、蒸着マスク２０の長手方向Ｄ１における一対の端部（第１端部２６ａおよび第２端部２６ｂ）を構成する一対の耳部（第１耳部１７ａおよび第２耳部１７ｂ）と、一対の耳部１７ａ，１７ｂの間に位置する中間部１８と、を備えていてもよい。

まず、耳部１７ａ，１７ｂについて詳細に説明する。耳部１７ａ，１７ｂは、蒸着マスク２０のうちフレーム１５に固定される部分である。本実施形態において、中間部１８と一体的に構成されていてもよい。なお、耳部１７ａ，１７ｂは、中間部１８とは別の部材によって構成されていてもよい。この場合、耳部１７ａ，１７ｂは、例えば溶接によって中間部１８に接合される。

次に、中間部１８について説明する。中間部１８は、第１面２０ａから第２面２０ｂに至る貫通孔２５が形成された有効領域２２と、有効領域２２の周囲に位置し、有効領域２２を取り囲む周囲領域２３と、を含んでいてもよい。有効領域２２は、蒸着マスク２０のうち、有機ＥＬ基板９２の表示領域に対面する領域であってもよい。

図３に示すように、中間部１８は、蒸着マスク２０の長手方向Ｄ１に沿って所定の間隔を空けて配列された複数の有効領域２２を含んでいてもよい。一つの有効領域２２は、一つの有機ＥＬ表示装置１００の表示領域に対応してもよい。このため、図１に示す蒸着マスク装置１０のように、有機ＥＬ表示装置１００の多面付蒸着が可能であってもよい。

図３に示すように、有効領域２２は、例えば、平面視において略矩形状の輪郭を有していてもよい。なお図示はしないが、各有効領域２２は、有機ＥＬ基板９２の表示領域の形状に応じて、様々な形状の輪郭を有していてもよい。例えば各有効領域２２は、円形状の輪郭を有していてもよい。

以下、有効領域２２について詳細に説明する。図４は、蒸着マスク２０の第２面２０ｂ側から有効領域２２を拡大して示す平面図である。図４に示すように、図示された例において、各有効領域２２に形成された複数の貫通孔２５は、当該有効領域２２において、互いに直交する二方向に沿ってそれぞれ所定のピッチで配列されていてもよい。貫通孔２５は、平面視において、図４や後述する図９Ａに示すように格子状に配置されていてもよい。この場合、第１方向Ｄ１に沿って配列された貫通孔２５の列を第１列および第２列とし、第１列および第２列が第２方向Ｄ２において互いに隣り合っているとすると、第１列をなす貫通孔２５の第１方向Ｄ１における位置と、第２列をなす貫通孔２５の第１方向Ｄ１における位置とが、互いに等しくなっている。あるいは、第１列をなす貫通孔２５の第１方向Ｄ１における位置は、第２列をなす貫通孔２５の第１方向Ｄ１における位置とずれていてもよい。例えば、後述する図９Ｂに示すように、第１列をなす貫通孔２５のうち第１方向Ｄ１において互いに隣り合う貫通孔２５の中間位置に対応する位置に、第２列をなす貫通孔２５が配置されていてもよい。この場合においても、図９Ｂに示すように、第１列をなす貫通孔２５のピッチと、第２列をなす貫通孔２５のピッチは等しくてもよい。後述する図９Ｂに示す貫通孔２５の配置は千鳥状配置と言うこともできる。この場合、貫通孔２５が格子状や千鳥状に配置されている場合、貫通孔２５の配置に規則性（場合によっては対称性）を持たせることができる。このことにより、後述するように、多数存在する貫通孔２５のうちＰ１点、Ｐ２点、Ｑ１点およびＱ２点に相当する４つの貫通孔２５を代表的に用いるだけでも、蒸着マスク２０の良否を良好に判定することが可能になる。また、貫通孔２５の平面形状は任意であり、矩形状若しくは多角形状（例えば、長方形状やひし形状等）でもよい。この場合、各辺が内側に凹んでいたり、外側に凸となっていたりしてもよい。また、貫通孔２５の平面形状は、円形状、楕円形状等でもよい。図４では、角部が丸みを帯びた矩形状の例が示されている。

貫通孔２５の一例について、図５～図７を主に参照して更に詳述する。図５～図７はそれぞれ、図４の有効領域２２のＶ－Ｖ方向～ＶＩＩ－ＶＩＩ方向に沿った断面図である。

図５～図７に示すように、複数の貫通孔２５は、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに沿った一方の側となる第１面２０ａから、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに沿った他方の側となる第２面２０ｂへ貫通している。図示された例では、後に詳述するように、蒸着マスク２０の法線方向Ｎにおける一方の側となる金属板２１の第１面２１ａに第１凹部３０がエッチングによって形成され、蒸着マスク２０の法線方向Ｎにおける他方の側となる金属板２１の第２面２１ｂに第２凹部３５が形成されていてもよい。第１凹部３０は、第２凹部３５に接続され、これによって第２凹部３５と第１凹部３０とが互いに通じ合うように形成されてもよい。貫通孔２５は、第２凹部３５と、第２凹部３５に接続された第１凹部３０とによって構成されていてもよい。

図５～図７に示すように、蒸着マスク２０の第２面２０ｂの側から第１面２０ａの側へ向けて、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに沿った各位置における蒸着マスク２０の板面に沿った断面での各第２凹部３５の開口面積は、しだいに小さくなっていてもよい。同様に、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに沿った各位置における蒸着マスク２０の板面に沿った断面での各第１凹部３０の開口面積は、蒸着マスク２０の第１面２０ａの側から第２面２０ｂの側へ向けて、しだいに小さくなっていてもよい。

図５～図７に示すように、第１凹部３０の壁面３１と、第２凹部３５の壁面３６とは、周状の接続部４１を介して接続されていてもよい。接続部４１は、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに対して傾斜した第１凹部３０の壁面３１と、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに対して傾斜した第２凹部３５の壁面３６とが合流する張り出し部の稜線によって、画成されていてもよい。そして、接続部４１は、蒸着マスク２０の平面視において貫通孔２５の開口面積が最小になる貫通部４２を画成してもよい。

図５～図７に示すように、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに沿った他方の側の面、すなわち、蒸着マスク２０の第１面２０ａ上において、隣り合う二つの貫通孔２５は、蒸着マスク２０の板面に沿って互いから離間していてもよい。すなわち、後述する製造方法のように、蒸着マスク２０の第１面２０ａに対応するようになる金属板２１の第１面２１ａ側から当該金属板２１をエッチングして第１凹部３０を作製する場合、隣り合う二つの第１凹部３０の間に金属板２１の第１面２１ａが残存するようにしてもよい。

同様に、図５および図７に示すように、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに沿った一方の側、すなわち、蒸着マスク２０の第２面２０ｂの側においても、隣り合う二つの第２凹部３５が、蒸着マスク２０の板面に沿って互いから離間していてもよい。すなわち、隣り合う二つの第２凹部３５の間に金属板２１の第２面２１ｂが残存していてもよい。以下の説明において、金属板２１の第２面２１ｂの有効領域２２のうちエッチングされずに残っている部分のことを、トップ部４３とも称する。このようなトップ部４３が残るように蒸着マスク２０を作製することにより、蒸着マスク２０に十分な強度を持たせることができる。このことにより、例えば取り扱い中などに蒸着マスク２０が破損してしまうことを抑制することができる。なおトップ部４３の幅βが大きすぎると、蒸着工程においてシャドーが発生し、これによって蒸着材料９８の利用効率が低下することがある。従って、トップ部４３の幅βが過剰に大きくならないように蒸着マスク２０が作製されることが好ましい。例えば、トップ部４３の幅βが２μｍ以下であることが好ましい。なおトップ部４３の幅βは一般的に、蒸着マスク２０を切断する方向に応じて変化する。例えば、図５および図７に示すトップ部４３の幅βは互いに異なることがある。この場合、いずれの方向で蒸着マスク２０を切断した場合にもトップ部４３の幅βが２μｍ以下になるよう、蒸着マスク２０が構成されていてもよい。

なお図６に示すように、場所によっては隣り合う二つの第２凹部３５が接続されるようにエッチングが実施されてもよい。すなわち、隣り合う二つの第２凹部３５の間に、金属板２１の第２面２１ｂが残存していない場所が存在していてもよい。また、図示はしないが、第２面２１ｂの全域にわたって隣り合う二つの第２凹部３５が接続されるようにエッチングが実施されてもよい。

図１に示すようにして蒸着マスク装置１０が蒸着装置９０に収容された場合、図５に二点鎖線で示すように、蒸着マスク２０の第１面２０ａが、有機ＥＬ基板９２に対面し、蒸着マスク２０の第２面２０ｂが、蒸着材料９８を収容したるつぼ９４側に位置する。したがって、蒸着材料９８は、次第に開口面積が小さくなっていく第２凹部３５を通過して有機ＥＬ基板９２に付着する。図５において第２面２０ｂ側から第１面２０ａへ向かう矢印で示すように、蒸着材料９８は、るつぼ９４から有機ＥＬ基板９２に向けて有機ＥＬ基板９２の法線方向Ｎに沿って移動するだけでなく、有機ＥＬ基板９２の法線方向Ｎに対して大きく傾斜した方向に移動することもある。

このとき、蒸着マスク２０の厚みが大きいと、斜めに移動する蒸着材料９８の多くは、貫通孔２５を通って有機ＥＬ基板９２に到達するよりも前に、第２凹部３５の壁面３６に到達して付着し得る。従って、蒸着材料９８の利用効率を高めるためには、蒸着マスク２０の厚みｔを小さくし、これによって、第２凹部３５の壁面３６や第１凹部３０の壁面３１の高さを小さくすることが好ましいと考えられる。すなわち、蒸着マスク２０を構成するための金属板２１として、蒸着マスク２０の強度を確保できる範囲内で可能な限り厚みｔの小さな金属板２１を用いることが好ましいと言える。このことにより、貫通孔２５の壁面の高さを小さくすることができ、蒸着材料９８のうち貫通孔２５の壁面に付着する比率を低くすることができる。このため、有機ＥＬ基板９２に付着する蒸着材料９８の厚みを均等化させることができ、有機ＥＬ表示装置の画素を形成するために蒸着マスク２０を用いる場合には、画素の寸法精度や位置精度を向上させて有機ＥＬ表示装置の発光効率を向上させることができる。

本実施の形態において、蒸着マスク２０の厚みｔの範囲の下限は、例えば、５μｍ以上であってもよく、８μｍ以上であってもよく、１０μｍ以上であってもよく、１２μｍ以上であってもよく、１３μｍ以上であってもよく、１５μｍ以上であってもよい。このことにより、蒸着マスク２０の強度を確保して、蒸着マスク２０に損傷や変形が生じることを抑制することができる。また、蒸着マスク２０の厚みｔの範囲の上限は、例えば、２０μｍ以下であってもよく、２５μｍ以下であってもよく、３５μｍ以下であってもよく、４０μｍ以下であってもよく、５０μｍ以下であってもよく、１００μｍ以下であってもよい。このことにより、上述したように、蒸着材料９８のうち貫通孔２５の壁面に付着する比率を低くすることができる。蒸着マスク２０の厚みｔの範囲は、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の１つと、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の１つの組み合わせによって定められてもよく、例えば、５μｍ以上１００μｍ以下であってもよく、８μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１２μｍ以上３５μｍ以下であってもよく、１３μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２０μｍ以下であってもよい。また、蒸着マスク２０の厚みｔの範囲は、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよく、例えば、５μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、５μｍ以上１３μｍ以下であってもよく、８μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、８μｍ以上１３μｍ以下であってもよい。また、蒸着マスク２０の厚みｔの範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよく、例えば、２０μｍ以上１００μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、２５μｍ以上１００μｍ以下であってもよく、２５μｍ以上５０μｍ以下であってもよい。なお厚みｔは、周囲領域２３の厚み、すなわち蒸着マスク２０のうち第１凹部３０および第２凹部３５が形成されていない部分の厚みである。従って厚みｔは、金属板２１の厚みであると言うこともできる。

図５において、貫通孔２５の最小開口面積を持つ部分となる接続部４１と、第２凹部３５の壁面３６の他の任意の位置と、を通過する直線Ｌ１が、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに対してなす最小角度が、符号θ１で表されている。斜めに移動する蒸着材料９８を、壁面３６に到達させることなく可能な限り有機ＥＬ基板９２に到達させるためには、角度θ１を大きくすることが有利となる。角度θ１を大きくする上では、蒸着マスク２０の厚みｔを小さくすることの他にも、上述のトップ部４３の幅βを小さくすることも有効である。

図７において、符号αは、金属板２１の第１面２１ａの有効領域２２のうちエッチングされずに残っている部分（以下、リブ部とも称する）の幅を表している。リブ部の幅αおよび貫通部４２の寸法ｒ_２は、有機ＥＬ表示装置の寸法および表示画素数に応じて適宜定められる。表１に、５インチの有機ＥＬ表示装置において、表示画素数、および表示画素数に応じて求められるリブ部の幅αおよび貫通部４２の寸法ｒ_２の値の一例を示す。

限定はされないが、本実施形態による蒸着マスク２０は、４５０ｐｐｉ以上の画素密度の有機ＥＬ表示装置を作製する場合に特に有効であると考えられる。以下、図８を参照して、そのような高い画素密度の有機ＥＬ表示装置を作製するために求められる蒸着マスク２０の寸法の一例について説明する。図８は、図５に示す蒸着マスク２０の貫通孔２５およびその近傍の領域を拡大して示す断面図である。

図８においては、貫通孔２５の形状に関連するパラメータとして、蒸着マスク２０の第１面２０ａから接続部４１までの、蒸着マスク２０の法線方向Ｎに沿った方向における距離、すなわち第１凹部３０の壁面３１の高さが符号ｒ_１で表されている。さらに、第１凹部３０が第２凹部３５に接続する部分における第１凹部３０の寸法、すなわち貫通部４２の寸法が符号ｒ_２で表されている。また図８において、接続部４１と、金属板２１の第１面２１ａ上における第１凹部３０の先端縁と、を結ぶ直線Ｌ２が、金属板２１の法線方向Ｎに対して成す角度が、符号θ２で表されている。

４５０ｐｐｉ以上の画素密度の有機ＥＬ表示装置を作製する場合、貫通部４２の寸法ｒ_２は、好ましくは１０以上且つ６０μｍ以下に設定される。これによって、高い画素密度の有機ＥＬ表示装置を作製することができる蒸着マスク２０を提供することができる。好ましくは、第１凹部３０の壁面３１の高さｒ_１は、６μｍ以下に設定される。

次に、図８に示す上述の角度θ２について説明する。角度θ２は、金属板２１の法線方向Ｎに対して傾斜するとともに接続部４１近傍で貫通部４２を通過するように飛来した蒸着材料９８のうち、有機ＥＬ基板９２に到達することができる蒸着材料９８の傾斜角度の最大値に相当する。なぜなら、接続部４１を通って角度θ２よりも大きな傾斜角度で飛来した蒸着材料９８は、有機ＥＬ基板９２に到達するよりも前に第１凹部３０の壁面３１に付着するからと考えられる。従って、角度θ２を小さくすることにより、大きな傾斜角度で飛来して貫通部４２を通過した蒸着材料９８が有機ＥＬ基板９２に付着することを抑制することができ、これによって、有機ＥＬ基板９２のうち貫通部４２に重なる部分よりも外側の部分に蒸着材料９８が付着してしまうことを抑制することができる。すなわち、角度θ２を小さくすることは、有機ＥＬ基板９２に付着する蒸着材料９８の面積や厚みのばらつきの抑制を導くと考えられる。このような観点から、例えば貫通孔２５は、角度θ２が４５度以下になるように形成されてもよい。なお図８においては、第１面２１ａにおける第１凹部３０の寸法、すなわち、第１面２１ａにおける貫通孔２５の開口寸法が、接続部４１における第１凹部３０の寸法ｒ２よりも大きくなっている例を示した。すなわち、角度θ２の値が正の値である例を示した。しかしながら、図示はしないが、接続部４１における第１凹部３０の寸法ｒ２が、第１面２１ａにおける第１凹部３０の寸法よりも大きくなっていてもよい。すなわち、角度θ２の値は負の値であってもよい。

ところで、図３に示すように、蒸着マスク２０は、上述したように、第１端部２６ａを構成する第１耳部１７ａから第２端部２６ｂを構成する第２耳部１７ｂにわたって、長手方向Ｄ１（第１方向）に延びるように形成されていてもよい。ここで、長手方向Ｄ１は、母材５５（図１０参照）を圧延する際の搬送方向に平行な方向であり、複数の有効領域２２が配列された蒸着マスク２０の長手方向であってもよい。なお、搬送という用語は、後述するようにロール・ツー・ロールによる母材５５の搬送を意味するものとして用いている。また、後述する幅方向Ｄ２（第２方向）は、金属板２１や長尺金属板６４の面方向において、長手方向Ｄ１に直交する方向であってもよい。そして、蒸着マスク２０は、長手方向Ｄ１に延び、幅方向Ｄ２の中心位置に配置された第１中心軸線ＡＬ１と、幅方向Ｄ２に延び、長手方向Ｄ１の中心位置に配置された第２中心軸線ＡＬ２と、を有していてもよい。第１中心軸線ＡＬ１は、幅方向Ｄ２における貫通孔２５の個数が奇数の場合には、幅方向Ｄ２の中央の貫通孔２５の中心点を通るようになる。一方、第１中心軸線ＡＬ１は、幅方向Ｄ２における貫通孔２５の個数が偶数の場合には、幅方向Ｄ２の中央近傍で互いに隣り合う２つの貫通孔２５の間の中間点を通るようになる。

本実施形態による蒸着マスク２０は、図９Ａに示すように、後述するＰ１点からＱ１点までの寸法をＸ１とし、Ｐ２点からＱ２点までの寸法をＸ２とし、寸法Ｘ１および寸法Ｘ２の設計値をα_Ｘとしたとき、

を満たしていてもよい。式（１）の左辺は、設計値と寸法Ｘ１との差と、設計値と寸法Ｘ２との差との平均値の絶対値を意味している。

また、本実施形態による蒸着マスク２０は、Ｐ１点からＰ２点までの寸法の設計値であって、Ｑ１点からＱ２点までの寸法の設計値をα_Ｙ、幅方向Ｄ２における２つの貫通孔２５の中心点間の距離のうち最大値をＷ_Ｙとしたとき、

を満たしていてもよい。式（２）の左辺は、寸法Ｘ１と寸法Ｘ２の差の絶対値を意味している。Ｗ_Ｙは、最も第１側縁２７ａの側に配置された貫通孔２５の中心点と、最も第２側縁２７ｂの側に配置された貫通孔２５の中心点との間の距離（設計値）を意味する。式（２）のようにＷ_Ｙを用いることにより、式（２）を用いた蒸着マスク２０の良否判定が、蒸着マスク２０（あるいは有効領域２２）の幅方向寸法に依存することを回避できる。

ここで、Ｐ１点およびＱ１点は、蒸着マスク２０の第１中心軸線ＡＬ１の一側（図９Ａにおける左側）に設けられており、長手方向Ｄ１に沿って互いに離間していてもよい。Ｐ２点およびＱ２点は、蒸着マスク２０の第１中心軸線ＡＬ１の他側（図９Ａにおける右側）に設けられており、長手方向Ｄ１に沿って互いに離間していてもよい。Ｐ１点とＰ２点は、蒸着時に第１中心軸線ＡＬ１に対して互いに対称に配置されていてもよい。例えば、Ｐ１点とＰ２点とは、蒸着時に第１中心軸線ＡＬ１に対して互いに対称に配置されることが意図された点であって、設計時では第１中心軸線ＡＬ１に対して互いに対称に配置される点であってもよい。同様に、Ｑ１点とＱ２点は、蒸着時に第１中心軸線ＡＬ１に対して互いに対称に配置されていてもよい。

Ｐ１点とＱ１点は、設計時（または張設時、蒸着時）にＰ１点からＱ１点までの寸法Ｘ１が設計値α_Ｘとなるような２つの点として設定されていてもよい。すなわち、設計時に、所望の設計値α_Ｘに等しい距離で離間している任意の２つの点に、Ｐ１点とＱ１点とが設定されていてもよい。Ｐ１点およびＱ１点は、図９Ａに示すように、第１耳部１７ａと第２耳部１７ｂとの間に設けられた貫通孔２５であって、設計時に所望の設計値α_Ｘに等しい距離で離間するような２つの貫通孔２５の中心点にそれぞれ位置付けられていてもよい。このようにしてＰ１点とＱ１点とが設定された蒸着マスク２０が後述するステージ８１等に静置された状態におけるＰ１点とＱ１点との間の直線距離が、寸法Ｘ１であってもよい。

Ｐ２点およびＱ２点は、設計時にＰ２点からＱ２点までの寸法Ｘ２が設計値α_Ｘとなるような２つの点として設定されていてもよい。すなわち、Ｐ１点およびＱ１点と同様に、設計時に所望の設計値α_Ｘに等しい距離で離間するような任意の２つの点に、Ｐ２点とＱ２点とが設定されていてもよい。このようにしてＰ２点とＱ２点とが設定された蒸着マスク２０が後述するステージ８１等に静置された状態におけるＰ２点とＱ２点との間の直線距離が、寸法Ｘ２であってもよい。

ステージ８１等に静置された蒸着マスク２０は、後述するようにＣ字状に湾曲していてもよい（図２４参照）。しかしながら、寸法Ｘ１およびＸ２は、Ｃ字状に湾曲して静置された蒸着マスク２０から測定される直線距離であってもよい。

Ｐ１点とＰ２点は、蒸着マスク２０の第２中心軸線ＡＬ２に対して一側（すなわち、第１耳部１７ａの側）に配置されていてもよい。また、Ｑ１点とＱ２点は、蒸着マスク２０の第２中心軸線ＡＬ２に対して他側（すなわち、第２耳部１７ｂの側）に配置されていてもよい。しかしながら、このことに限られることはなく、Ｐ１点およびＰ２点と、Ｑ１点およびＱ２点が、第２中心軸線ＡＬ２に対して同じ側に配置されていてもよい。また、Ｐ１点およびＰ２点が、第２中心軸線ＡＬ２に配置されていてもよく、またはＱ１点およびＱ２点が、第２中心軸線ＡＬ２に配置されていてもよい。

また、Ｐ１点とＰ２点は、設計時（または張設時、蒸着時）にＰ１点からＰ２点までの寸法が設計値α_Ｙとなるような２つの点として設定されていてもよい。すなわち、設計時に所望の設計値α_Ｙに等しい距離で離間するような任意の２つの点に、Ｐ１点とＰ２点とが設定されていてもよい。Ｐ１点およびＰ２点は、図９Ａに示すように、設計時に所望の設計値α_Ｙに等しい距離で離間するような２つの貫通孔２５の中心点にそれぞれ位置付けられていてもよい。

Ｑ１点とＱ２点は、設計時にＱ１点からＱ２点までの寸法が設計値α_Ｙとなるような２つの点として設定されていてもよい。すなわち、設計時に所望の設計値α_Ｙに等しい距離で離間するような任意の２つの点に、Ｑ１点とＱ２点とが設定されていてもよい。Ｑ１点およびＱ２点は、図９Ａに示すように、設計時に所望の設計値α_Ｙに等しい距離で離間するような２つの貫通孔２５の中心点にそれぞれ位置付けられていてもよい。

なお、図９Ａでは、Ｐ１点およびＰ２点を、有効領域２２における複数の貫通孔２５のうち、最も第１耳部１７ａの側（図９Ａの上側）に配置された貫通孔２５よりも貫通孔２５の１つ分だけ第２耳部１７ｂの側（図９Ａの下側）の貫通孔２５に設定している例を示しているが、これに限られることはない。同様に、Ｑ１点およびＱ２点を、有効領域２２における複数の貫通孔２５のうち、最も第２耳部１７ｂの側（図９Ａの下側）に配置された貫通孔２５よりも貫通孔２５の１つ分だけ第１耳部１７ａの側（図９Ａの上側）の貫通孔２５に設定している例を示しているが、これに限られることはない。また、Ｐ１点およびＱ１点を、有効領域２２における複数の貫通孔２５のうち、最も第１側縁２７ａの側（図９Ａの左側）に配置された貫通孔２５よりも貫通孔２５の１つ分だけ第２側縁２７ｂの側（図９Ａの右側）の貫通孔２５に設定している例を示しているが、これに限られることはない。同様に、Ｐ２点およびＱ２点を、有効領域２２における複数の貫通孔２５のうち、最も第２側縁２７ｂの側（図９Ａの右側）に配置された貫通孔２５よりも貫通孔２５の１つ分だけ第１側縁２７ａの側（図９Ａの左側）の貫通孔２５に設定している例を示しているが、これに限られることはない。すなわち、Ｐ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点は、上述したように、設計時に設計値α_Ｘおよびα_Ｙとなるような４つの点となれば、任意の貫通孔２５の中心点に設定することができる。

ところで、Ｐ１点およびＰ２点は、最も第１耳部１７ａの側に配置された貫通孔２５を除く貫通孔２５から設定されるようにしてもよい。最も第１耳部１７ａの側の貫通孔２５は、最も第１耳部１７ａの側に配置された有効領域２２の中で最も外側（第１耳部１７ａの側）に配置されており、周囲領域２３に隣り合っている。このことから、当該貫通孔２５よりも、当該有効領域２２の他の貫通孔２５の方が位置精度が高い場合があるため、最も第１耳部１７ａの側の貫通孔２５よりも第２耳部１７ｂの側に配置された貫通孔２５（例えば、図９ＡにおいてＰ１点およびＰ２点が設定された貫通孔２５や当該貫通孔２５よりも下側の貫通孔２５）をＰ１点およびＰ２点に設定してもよい。

また、Ｑ１点およびＱ２点には、最も第２耳部１７ｂの側に配置された貫通孔２５を除く貫通孔２５から設定されるようにしてもよい。最も第２耳部１７ｂの側の貫通孔２５は、最も第２耳部１７ｂの側に配置された有効領域２２の中で最も外側（第２耳部１７ｂの側）に配置されており、周囲領域２３に隣り合っている。このことから、当該貫通孔２５よりも、当該有効領域２２の他の貫通孔２５の方が位置精度が高い場合があるため、最も第２耳部１７ｂの側の貫通孔２５よりも第１耳部１７ａの側に配置された貫通孔２５（例えば、図９ＡにおいてＱ１点およびＱ２点が設定された貫通孔２５や当該貫通孔２５よりも上側の貫通孔２５）をＱ１点およびＱ２点に設定してもよい。

また、Ｐ１点およびＱ１点には、最も第１側縁２７ａの側に配置された貫通孔２５を除く貫通孔２５から設定されるようにしてもよい。最も第１側縁２７ａの側の貫通孔２５は、有効領域２２の中で最も外側（第１側縁２７ａの側）に配置されており、周囲領域２３に隣り合っている。このことから、当該貫通孔２５よりも、当該有効領域２２の他の貫通孔２５の方が位置精度が高い場合があるため、最も第１側縁２７ａの側の貫通孔２５よりも第２側縁２７ｂの側に配置された貫通孔２５（例えば、図９ＡにおいてＰ１点およびＱ１点が設定された貫通孔２５や当該貫通孔２５よりも右側の貫通孔２５）をＰ１点およびＱ１点に設定してもよい。

また、Ｐ２点およびＱ２点には、最も第２側縁２７ｂの側に配置された貫通孔２５を除く貫通孔２５から設定されるようにしてもよい。最も第２側縁２７ｂの側の貫通孔２５は、有効領域２２の中で最も外側（第２側縁２７ｂの側）に配置されており、周囲領域２３に隣り合っている。このことから、当該貫通孔２５よりも、当該有効領域２２の他の貫通孔２５の方が位置精度が高い場合があるため、最も第２側縁２７ｂの側の貫通孔２５よりも第２側縁２７ｂの側に配置された貫通孔２５（例えば、図９ＡにおいてＰ２点およびＱ２点が設定された貫通孔２５や当該貫通孔２５よりも左側の貫通孔２５）をＰ２点およびＱ２点に設定してもよい。

式（１）および式（２）に示された設計値α_Ｘは、寸法Ｘ１の設計値であってもよく、寸法Ｘ２の設計値でもあってもよい。設計時には、Ｐ１点およびＱ１点と、Ｐ２点およびＱ２点とが、蒸着マスク２０の第１中心軸線ＡＬ１に対して対称に配置されるため、寸法Ｘ１と寸法Ｘ２とは同一になり得るからである。また、式（２）に示された設計値α_Ｙは、Ｐ１点からＰ２点までの寸法の設計値であってもよく、Ｑ１点からＱ２点までの寸法の設計値でもあってもよい。設計時には、Ｐ１点およびＱ１点が長手方向Ｄ１に沿って配置されているとともに、Ｐ２点およびＱ２点が長手方向Ｄ１に沿って配置されているため、Ｐ１点からＰ２点までの寸法の設計値と、Ｑ１点からＱ２点までの寸法の設計値は同一になり得る。ここで、設計値とは、フレーム１５に張設された場合に貫通孔２５が所望の位置（蒸着目標位置）に配置されることを意図して設定された数値であって、張設時の数値に相当していてもよい。

本実施の形態において、設計値α_Ｘの範囲の下限は、例えば、２００ｍｍ以上であってもよく、３００ｍｍ以上であってもよく、４００ｍｍ以上であってもよい。また、設計値α_Ｘの範囲の上限は、例えば、６００ｍｍ以下であってもよく、８００ｍｍ以下であってもよく、９００ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘの範囲は、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の１つと、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の１つの組み合わせによって定められてもよく、例えば、２００ｍｍ以上９００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以上８００ｍｍ以下であってもよく、４００ｍｍ以上６００ｍｍ以下であってもよい。また、設計値α_Ｘの範囲は、上述の複数の下限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよく、例えば、２００ｍｍ以上４００ｍｍ以下であってもよく、２００ｍｍ以上３００ｍｍ以下であってもよく、３００ｍｍ以上４００ｍｍ以下であってもよい。また、設計値α_Ｘの範囲は、上述の複数の上限の候補値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよく、例えば、６００ｍｍ以上９００ｍｍ以下であってもよく、６００ｍｍ以上８００ｍｍ以下であってもよく、８００ｍｍ以上９００ｍ以下であってもよい。

本実施の形態において、設計値α_Ｙは、２１．７ｍｍ以上６５．０ｍｍ以下であってもよく、２１．７ｍｍ以上４３．３ｍｍ以下であってもよく、４３．３ｍｍ以上６５．０ｍｍ以下であってもよい。

本実施の形態において、設計値α_Ｘが２００ｍｍで設計値α_Ｙが６５．０ｍｍである場合には、寸法Ｘ１は、１６９．０ｍｍ以上２３２．０ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが２００ｍｍで設計値α_Ｙが４３．３ｍｍの場合には、寸法Ｘ１は、１７２．８ｍｍ以上２２５．８ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが２００ｍｍで設計値α_Ｙが２１．７ｍｍの場合には、寸法Ｘ１は、１７６．０ｍｍ以上２２１．２ｍｍ以下であってもよい。

本実施の形態において、設計値α_Ｘが３００ｍｍで設計値α_Ｙが６５．０ｍｍである場合には、寸法Ｘ１は、２５３．５ｍｍ以上３４８．２ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが３００ｍｍで設計値α_Ｙが４３．３ｍｍの場合には、寸法Ｘ１は、２５８．７ｍｍ以上３３９．３ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが３００ｍｍで設計値α_Ｙが２１．７ｍｍの場合には、寸法Ｘ１は、２６３．９ｍｍ以上３３１．７ｍｍ以下であってもよい。

本実施の形態において、設計値α_Ｘが４００ｍｍで設計値α_Ｙが６５．０ｍｍである場合には、寸法Ｘ１は、３３８．３ｍｍ以上４６４．２ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが４００ｍｍで設計値α_Ｙが４３．３ｍｍの場合には、寸法Ｘ１は、３４４．８ｍｍ以上４５１．９ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが４００ｍｍで設計値α_Ｙが２１．７ｍｍの場合には、寸法Ｘ１は、３５１．７ｍｍ以上４４２．３ｍｍ以下であってもよい。

本実施の形態において、設計値α_Ｘが６００ｍｍで設計値α_Ｙが６５．０ｍｍである場合には、寸法Ｘ１は、５０７．４ｍｍ以上６９６．３ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが６００ｍｍで設計値α_Ｙが４３．３ｍｍの場合には、寸法Ｘ１は、５１７．５ｍｍ以上６７８．１ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが６００ｍｍで設計値α_Ｙが２１．７ｍｍの場合には、寸法Ｘ１は、５２７．７ｍｍ以上６６３．４ｍｍ以下であってもよい。

本実施の形態において、設計値α_Ｘが８００ｍｍで設計値α_Ｙが６５．０ｍｍである場合には、寸法Ｘ１は、６７６．２ｍｍ以上９２７．８ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが８００ｍｍで設計値α_Ｙが４３．３ｍｍの場合には、寸法Ｘ１は、６８９．９ｍｍ以上９０４．２ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが８００ｍｍで設計値α_Ｙが２１．７ｍｍの場合には、寸法Ｘ１は、７０３．５ｍｍ以上８８４．８ｍｍ以下であってもよい。

本実施の形態において、設計値α_Ｘが９００ｍｍで設計値α_Ｙが６５．０ｍｍである場合には、寸法Ｘ１は、７６１．９ｍｍ以上１０４４．９ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが９００ｍｍで設計値α_Ｙが４３．３ｍｍの場合には、寸法Ｘ１は、７７６．８ｍｍ以上１０１７．３ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが９００ｍｍで設計値α_Ｙが２１．７ｍｍの場合には、寸法Ｘ１は、７９１．８ｍｍ以上９９５．６ｍｍ以下であってもよい。

本実施の形態において、設計値α_Ｘが２００ｍｍで、設計値α_Ｙが６５．０ｍｍであるの場合には、寸法Ｘ２は、１７６．５ｍｍ以上２１７．３ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが２００ｍｍで設計値α_Ｙが４３．３ｍｍの場合には、寸法Ｘ１は、１７９．９ｍｍ以上２１６．７ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが２００ｍｍで設計値α_Ｙが２１．７ｍｍの場合には、寸法Ｘ１は、１８２．７ｍｍ以上２１６．４ｍｍ以下であってもよい。

本実施の形態において、設計値α_Ｘが３００ｍｍで設計値α_Ｙが６５．０ｍｍである場合には、寸法Ｘ２は、２６５．０ｍｍ以上３２６．２ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが３００ｍｍで設計値α_Ｙが４３．３ｍｍの場合には、寸法Ｘ２は、２６９．９ｍｍ以上３２５．０ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが３００ｍｍで設計値α_Ｙが２１．７ｍｍの場合には、寸法Ｘ２は、２７４．２ｍｍ以上３２４．５ｍｍ以下であってもよい。

本実施の形態において、設計値α_Ｘが４００ｍｍで設計値α_Ｙが６５．０ｍｍである場合には、寸法Ｘ２は、３５２．９ｍｍ以上４３５．０ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが４００ｍｍで設計値α_Ｙが４３．３ｍｍの場合には、寸法Ｘ２は、３５９．８ｍｍ以上４３４．０ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが４００ｍｍで設計値α_Ｙが２１．７ｍｍの場合には、寸法Ｘ２は、３６５．５ｍｍ以上４３２．８ｍｍ以下であってもよい。

本実施の形態において、設計値α_Ｘが６００ｍｍで設計値α_Ｙが６５．０ｍｍである場合には、寸法Ｘ２は、５２９．８ｍｍ以上６５２．３ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが６００ｍｍで設計値α_Ｙが４３．３ｍｍの場合には、寸法Ｘ２は、５３９．８ｍｍ以上６５０．４ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが６００ｍｍで設計値α_Ｙが２１．７ｍｍの場合には、寸法Ｘ２は、５４８．１ｍｍ以上６４８．９ｍｍ以下であってもよい。

本実施の形態において、設計値α_Ｘが８００ｍｍで設計値α_Ｙが６５．０ｍｍである場合には、寸法Ｘ２は、７０６．８ｍｍ以上８６９．８ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが８００ｍｍで設計値α_Ｙが４３．３ｍｍの場合には、寸法Ｘ２は、７２０．０ｍｍ以上８６７．７ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが８００ｍｍで設計値α_Ｙが２１．７ｍｍの場合には、寸法Ｘ２は、７３０．８ｍｍ以上８６５．２ｍｍ以下であってもよい。

本実施の形態において、設計値α_Ｘが９００ｍｍで設計値α_Ｙが６５．０ｍｍである場合には、寸法Ｘ２は、７９４．８ｍｍ以上９７７．９ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが９００ｍｍで設計値α_Ｙが４３．３ｍｍの場合には、寸法Ｘ２は、８０９．４ｍｍ以上９７５．８ｍｍ以下であってもよい。設計値α_Ｘが９００ｍｍで設計値α_Ｙが２１．７ｍｍの場合には、寸法Ｘ２は、８２２．３ｍｍ以上９７３．９ｍｍ以下であってもよい。

本実施の形態において、最も第１側縁２７ａの側に配置された貫通孔２５の中心点と、最も第２側縁２７ｂの側に配置された貫通孔２５の中心点との間の距離（設計値）であるＷ_Ｙは、２０ｍｍ以上３５０ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以上６５．０ｍｍ以下であってもよく、６５．０ｍｍ以上３５０ｍｍ以下であってもよい。また、Ｗ_Ｙは、６５．０ｍｍであってもよい。

貫通孔２５は、図９Ａに示すように格子状に配置されることに限られない。例えば、図９Ｂに示すように、貫通孔２５は、千鳥状に配置されていてもよい。この場合には、図９Ｂに示すように、Ｐ１点、Ｐ２点、Ｑ１点およびＱ２点を設定してもよい。

なお、Ｐ１点およびＱ１点は、蒸着マスク２０の長手方向Ｄ１に沿って配置された任意の２点であれば、蒸着時に蒸着材料９８が通過する貫通孔２５の中心点に位置付けられていなくてもよい。例えば、蒸着マスク２０の第１面２０ａまたは第２面２０ｂに形成された任意の凹部であってもよく、あるいは、蒸着材料９８の通過を意図していない他の貫通孔（ダミー孔）、さらには蒸着マスク２０の外形寸法であってもよい。ダミー孔は、各有効領域２２において、外側（第１耳部１７ａの側、第２耳部１７ｂの側、第１側縁２７ａの側または第２側縁２７ｂの側）に配置される場合がある。例えば、有効領域２２の最も外側に配置された貫通孔２５だけでなく、当該貫通孔２５から１つ分または複数個分だけ内側の貫通孔２５までもが、ダミー孔として構成される場合がある。このようなダミー孔としての貫通孔２５は、蒸着時に蒸着材料９８が通過するが、通過して有機ＥＬ基板９２に付着した蒸着材料９８は、画素としては使用されない。

例えば、図９Ｃに示すように、Ｐ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点を、トータルピッチマーク２８の中心点に位置付けるようにしてもよい。トータルピッチマーク２８は、各有効領域２２の角部の近傍であって有効領域２２の外側（すなわち、周囲領域２３）に配置されたマークである。トータルピッチマーク２８は、後述する第１面エッチング工程または第２面エッチング工程において、第１面２０ａまたは第２面２０ｂにおける所望の位置にハーフエッチングで凹状に形成してもよい。あるいは、第１面２０ａから第２面２０ｂに延びる貫通孔を形成して、これをトータルピッチマーク２８としてもよい。また、図９Ｃでは、トータルピッチマーク２８の平面形状が円形である例を示しているが、これに限られることはなく、矩形など任意の形状としてもよい。

次に、蒸着マスク２０を製造する方法について説明する。

はじめに、蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の製造方法の一例について説明する。

はじめに図１０に示すように、圧延工程として、ニッケルを含む鉄合金から構成された母材５５を準備し、この母材５５を、一対の圧延ロール５６ａ，５６ｂを含む圧延装置５６に向けて、矢印Ｄ１で示す方向に沿って搬送してもよい。一対の圧延ロール５６ａ，５６ｂの間に到達した母材５５は、一対の圧延ロール５６ａ，５６ｂによって圧延され、この結果、母材５５は、その厚みが低減されるとともに、搬送方向に沿って伸ばされる。これによって、厚みｔ_０の板材６４Ｘを得ることができる。図１０に示すように、板材６４Ｘをコア６１に巻き取ることによって巻き体６２を形成してもよい。厚みｔ_０の具体的な値は、好ましくは上述のように５μｍ以上且つ８５μｍ以下である。

なお図１０は、圧延工程の概略を示す図に過ぎず、圧延工程を実施するための具体的な構成や手順が特に限られることはない。例えば圧延工程は、母材５５を構成するインバー材の結晶配列を変化させる温度以上の温度で母材を加工する熱間圧延工程や、インバー材の結晶配列を変化させる温度以下の温度で母材を加工する冷間圧延工程を含んでいてもよい。また、一対の圧延ロール５６ａ，５６ｂの間に母材５５や板材６４Ｘを通過させる際の向きが一方向に限られることはない。例えば、図１０および図１１において、紙面左側から右側への向き、および紙面右側から左側への向きで繰り返し母材５５や板材６４Ｘを一対の圧延ロール５６ａ，５６ｂの間に通過させることにより、母材５５や板材６４Ｘを徐々に圧延してもよい。

その後、板材６４Ｘの幅が所定の範囲内になるよう、圧延工程によって得られた板材６４Ｘの幅方向における両端をそれぞれ所定の範囲にわたって切り落とすスリット工程を実施してもよい。このスリット工程は、圧延に起因して板材６４Ｘの両端に生じ得るクラックを除去するために実施される。このようなスリット工程を実施することにより、板材６４Ｘが破断してしまう現象、いわゆる板切れが、クラックを起点として生じてしまうことを抑制することができる。

その後、圧延によって板材６４Ｘ内に蓄積された残留応力（内部応力）を取り除くため、図１１に示すように、アニール装置５７を用いて板材６４Ｘをアニールするアニール工程を実施してもよく、これによって長尺金属板６４を得る。アニール工程は、図１１に示すように、板材６４Ｘや長尺金属板６４を搬送方向（長手方向）に引っ張りながら実施されてもよい。すなわち、アニール工程は、いわゆるバッチ式の焼鈍ではなく、搬送しながらの連続焼鈍として実施されてもよい。

好ましくは上述のアニール工程は、非還元雰囲気や不活性ガス雰囲気で実施される。ここで非還元雰囲気とは、水素などの還元性ガスを含まない雰囲気のことである。「還元性ガスを含まない」とは、水素などの還元性ガスの濃度が４％以下であることを意味している。また不活性ガス雰囲気とは、アルゴンガス、ヘリウムガス、窒素ガスなどの不活性ガスが９０％以上存在する雰囲気のことである。非還元雰囲気や不活性ガス雰囲気でアニール工程を実施することにより、上述のニッケル水酸化物が長尺金属板６４の第１面６４ａや第２面６４ｂに生成されることを抑制することができる。

アニール工程を実施することにより、残留歪がある程度除去された、厚みｔ_０の長尺金属板６４を得ることができる。なお厚みｔ_０は、蒸着マスク２０の厚みｔに等しくなっていてもよい。

なお、上述の圧延工程、スリット工程およびアニール工程を複数回繰り返すことによって、厚みｔ_０の長尺の金属板６４を作製してもよい。また図１１においては、アニール工程が、長尺金属板６４を長手方向に引っ張りながら実施される例を示したが、これに限られることはなく、アニール工程を、長尺金属板６４がコア６１に巻き取られた状態で実施してもよい。すなわちバッチ式の焼鈍が実施されてもよい。なお、長尺金属板６４がコア６１に巻き取られた状態でアニール工程を実施する場合、長尺金属板６４に、巻き体６２の巻き取り径に応じた反りの癖がついてしまうことがある。従って、巻き体６２の巻き径や母材５５を構成する材料によっては、長尺金属板６４を長手方向に引っ張りながらアニール工程を実施することが有利である。

その後、長尺金属板６４の幅方向における両端をそれぞれ所定範囲にわたって切り落とし、これによって、長尺金属板６４の幅を所望の幅に調整する切断工程を実施してもよい。このようにして、所望の厚みおよび幅を有する長尺金属板６４を得ることができる。

次に、長尺金属板６４を用いて蒸着マスク２０を製造する方法の一例について、主に図１２～図２０を参照して説明する。以下に説明する蒸着マスク２０の製造方法では、図１２に示すように、長尺金属板６４が供給され、この長尺金属板６４に貫通孔２５が形成され、さらに長尺金属板６４を断裁することによって枚葉状の金属板２１からなる蒸着マスク２０が得られる。

より具体的には、蒸着マスク２０の製造方法は、帯状に延びる長尺の金属板６４を供給する工程と、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングを長尺の金属板６４に施して、長尺金属板６４に第１面６４ａの側から第１凹部３０を形成する工程と、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングを長尺金属板６４に施して、長尺金属板６４に第２面６４ｂの側から第２凹部３５を形成する工程と、を含んでいてもよい。そして、長尺金属板６４に形成された第１凹部３０と第２凹部３５とが互いに通じ合うことによって、長尺金属板６４に貫通孔２５が作製されてもよい。図１３～図２０に示された例では、第１凹部３０の形成工程が、第２凹部３５の形成工程の前に実施され、且つ、第１凹部３０の形成工程と第２凹部３５の形成工程の間に、作製された第１凹部３０を封止する工程が、さらに設けられている。以下において、各工程の詳細を説明する。

図１２には、蒸着マスク２０を製造するための製造装置６０が示されている。図１２に示すように、まず、長尺金属板６４をコア６１に巻き取った巻き体（金属板ロール）６２が準備される。そして、このコア６１が回転して巻き体６２が巻き出されることにより、図１２に示すように帯状に延びる長尺金属板６４が供給される。なお、長尺金属板６４は、貫通孔２５を形成されて枚葉状の金属板２１、さらには蒸着マスク２０をなすようになる。

供給された長尺金属板６４は、搬送ローラー７２によって、エッチング装置（エッチング手段）７０に搬送されてもよい。エッチング装置７０によって、図１３～図２０に示された各処理が施されてもよい。なお本実施形態においては、長尺金属板６４の幅方向に複数の蒸着マスク２０が割り付けられる例について説明する。すなわち、複数の蒸着マスク２０が、長手方向において長尺金属板６４の所定の位置を占める領域から作製される。この場合、好ましくは、蒸着マスク２０の長手方向が長尺金属板６４の圧延方向に一致するよう、複数の蒸着マスク２０が長尺金属板６４に割り付けられる。

まず、図１３に示すように、長尺金属板６４の第１面６４ａ上および第２面６４ｂ上にネガ型の感光性レジスト材料を含むレジスト膜６５ｃ、６５ｄを形成してもよい。レジスト膜６５ｃ、６５ｄを形成する方法としては、アクリル系光硬化性樹脂などの感光性レジスト材料を含む層が形成されたフィルム、いわゆるドライフィルムを長尺金属板６４の第１面６４ａ上および第２面６４ｂ上に貼り付ける方法が採用されてもよい。

次に、レジスト膜６５ｃ、６５ｄのうちの除去したい領域に光を透過させないようにした露光マスク６８ａ、６８ｂを準備し、露光マスク６８ａ、６８ｂをそれぞれ図１４に示すようにレジスト膜６５ｃ、６５ｄ上に配置してもよい。露光マスク６８ａ、６８ｂとしては、例えば、レジスト膜６５ｃ、６５ｄのうちの除去したい領域に光を透過させないようにしたガラス乾板が用いられてもよい。その後、真空密着によって露光マスク６８ａ、６８ｂをレジスト膜６５ｃ、６５ｄに十分に密着させてもよい。なお感光性レジスト材料として、ポジ型のものが用いられてもよい。この場合、露光マスクとして、レジスト膜のうちの除去したい領域に光を透過させるようにした露光マスクが用いられてもよい。

その後、レジスト膜６５ｃ、６５ｄを露光マスク６８ａ、６８ｂ越しに露光してもよい（露光工程）。さらに、露光されたレジスト膜６５ｃ、６５ｄに像を形成するためにレジスト膜６５ｃ、６５ｄを現像してもよい（現像工程）。以上のようにして、図１５に示すように、長尺金属板６４の第１面６４ａ上に第１レジストパターン６５ａを形成し、長尺金属板６４の第２面６４ｂ上に第２レジストパターン６５ｂを形成することができる。なお現像工程は、レジスト膜６５ｃ、６５ｄの硬度を高めるための、または長尺金属板６４に対してレジスト膜６５ｃ、６５ｄをより強固に密着させるためのレジスト熱処理工程を含んでいてもよい。レジスト熱処理工程は、アルゴンガス、ヘリウムガス、窒素ガスなどの不活性ガスの雰囲気において、例えば１００℃以上且つ４００℃以下で実施されてもよい。

次に、図１６に示すように、長尺金属板６４の第１面６４ａのうち第１レジストパターン６５ａによって覆われていない領域を、第１エッチング液を用いてエッチングする第１面エッチング工程を実施してもよい。例えば、第１エッチング液が、搬送される長尺金属板６４の第１面６４ａに対面する側に配置されたノズルから、第１レジストパターン６５ａ越しに長尺金属板６４第１面６４ａに向けて噴射されてもよい。この結果、図１６に示すように、長尺金属板６４のうちの第１レジストパターン６５ａによって覆われていない領域で、第１エッチング液による浸食が進むことができる。これによって、長尺金属板６４の第１面６４ａに多数の第１凹部３０が形成され得る。第１エッチング液としては、例えば塩化第２鉄溶液および塩酸を含む液が用いられてもよい。

その後、図１７に示すように、後の第２面エッチング工程において用いられる第２エッチング液に対する耐性を有した樹脂６９によって、第１凹部３０が被覆されてもよい。すなわち、第２エッチング液に対する耐性を有した樹脂６９によって、第１凹部３０が封止されてもよい。図１７に示す例において、樹脂６９の膜が、形成された第１凹部３０だけでなく、第１面６４ａ（第１レジストパターン６５ａ）も覆うように形成されていてもよい。

次に、図１８に示すように、長尺金属板６４の第２面６４ｂのうち第２レジストパターン６５ｂによって覆われていない領域をエッチングし、第２面６４ｂに第２凹部３５を形成する第２面エッチング工程を実施してもよい。第２面エッチング工程は、第１凹部３０と第２凹部３５とが互いに通じ合い、これによって貫通孔２５が形成されるようになるまで実施されてもよい。第２エッチング液としては、上述の第１エッチング液と同様に、例えば塩化第２鉄溶液および塩酸を含む液が用いられてもよい。

なお第２エッチング液による浸食は、長尺金属板６４のうちの第２エッチング液に触れている部分において行われていく。従って、浸食は、長尺金属板６４の法線方向Ｎ（厚み方向）のみに進むのではなく、長尺金属板６４の板面に沿った方向にも進んでいくことができる。ここで好ましくは、第２面エッチング工程は、第２レジストパターン６５ｂの隣り合う二つの孔６６ａに対面する位置にそれぞれ形成された二つの第２凹部３５が、二つの孔６６ａの間に位置するブリッジ部６７ａの裏側において合流するよりも前に終了されてもよい。これによって、図１９に示すように、長尺金属板６４の第２面６４ｂに上述のトップ部４３を残すことができる。

その後、図２０に示すように、長尺金属板６４から樹脂６９が除去されてもよい。樹脂６９は、例えばアルカリ系剥離液を用いることによって、除去することができる。アルカリ系剥離液が用いられる場合、図２０に示すように、樹脂６９と同時にレジストパターン６５ａ，６５ｂも除去され得る。なお、樹脂６９を除去した後、樹脂６９を剥離させるための剥離液とは異なる剥離液を用いて、樹脂６９とは別途にレジストパターン６５ａ，６５ｂを除去してもよい。

このようにして多数の貫通孔２５が形成された長尺金属板６４は、当該長尺金属板６４を狭持した状態で回転する搬送ローラー７２，７２により、切断装置（切断手段）７３へ搬送されてもよい。なお、この搬送ローラー７２，７２の回転によって長尺金属板６４に作用するテンション（引っ張り応力）を介し、上述した供給コア６１が回転させられ、巻き体６２から長尺金属板６４が供給されるようになっていてもよい。

その後、多数の貫通孔２５が形成された長尺金属板６４を切断装置７３によって所定の長さおよび幅に切断してもよい。このことにより、多数の貫通孔２５が形成された枚葉状の金属板２１、すなわち蒸着マスク２０を得ることができる。

次に、上述のようにして準備された蒸着マスク２０の寸法Ｘ１および寸法Ｘ２を測定して蒸着マスク２０の良否を判定する方法の一例について、図２１～図２４を参照して説明する。ここでは、以下に述べる良否判定システム８０を用いて、寸法Ｘ１および寸法Ｘ２を測定し、測定結果に基づいて、蒸着マスク２０の良否を判定する方法について説明する。すなわち、寸法Ｘ１および寸法Ｘ２を測定することにより、蒸着マスク２０の貫通孔２５が設計通りに配置されているか否かを確認することができ、これによって、蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置精度が所定の基準を満たすか否かを判定することができる。

ところで、厚みの小さな金属板２１を得るためには、母材を圧延して金属板２１を製造する際の圧延率を大きくしてもよい。ここで圧延率とは、（母材の厚み－金属板の厚み）／（母材の厚み）によって算出される値のことである。しかしながら、幅方向Ｄ２（母材の搬送方向に直交する方向）の位置に応じて金属板６４の伸び率は異なる。そして、圧延率が大きいほど、圧延に基づく変形の不均一さの程度が大きくなり得る。このため、大きな圧延率で圧延された金属板６４には、波打ち形状が現れることが知られている。具体的には、耳伸びと呼ばれる、金属板６４の幅方向Ｄ２における側縁６４ｅに形成される波打ち形状が挙げられる。また、中伸びと呼ばれる、金属板６４の幅方向Ｄ２における中央に形成される波打ち形状が挙げられる。圧延後にアニールなどの熱処理を施した場合であっても、このような波打ち形状は現れ得る。例えば、図２１に示すように、長尺金属板６４は、長手方向Ｄ１における長さが幅方向Ｄ２の位置に応じて異なることに起因する波打ち形状を少なくとも部分的に有している。例えば、長尺金属板６４のうち長手方向Ｄ１に沿って延びる側縁６４ｅには、波打ち形状が現れている。

なお、めっき処理を利用した製箔工程によって、所定の厚みを有する金属板が作製される場合もある。しかしながら、製箔工程において、電流密度が不均一であると、作製される金属板の厚みが不均一になり得る。このことにより、金属板の幅方向における側縁に、同様な波打ち形状が現れる可能性もある。

一方、レジスト膜６５ｃ、６５ｄを露光する上述の露光工程においては、真空吸着などによって露光マスクを長尺金属板６４上のレジスト膜６５ｃ、６５ｄに密着させる。このため、露光マスクとの密着により、図２２に示すように、長尺金属板６４の側縁６４ｅの波打ち形状が圧縮され、長尺金属板６４がほぼ平坦な状態になる。この状態で、図２２において点線で示すように、長尺金属板６４に設けられたレジスト膜６５ｃ、６５ｄが所定のパターンで露光される。

露光マスクが長尺金属板６４から取り外されると、長尺金属板６４の側縁６４ｅには、再び波打ち形状が現れる。このように波打ち形状が形成された金属板６４から蒸着マスク２０を作製して張設した場合、蒸着マスク２０の伸びは幅方向Ｄ２において異なり、これによって、貫通孔２５の位置がずれる場合がある。より具体的には、金属板６４のうち波打ち形状が大きい部分は、蒸着マスク２０として形成された場合に、波打ち形状が小さい部分よりも長手方向寸法が長くなる。ここで、幅方向Ｄ２において互いに異なる第１位置部分および第２位置部分に引張力を与えて蒸着マスク２０を張設する場合を想定する。この場合、第１位置部分における蒸着マスク２０の長手方向長さが、第２位置部分における長手方向長さよりも短いと、第１位置部分の長手方向長さが第２位置部分の長手方向長さと等しくなるように蒸着マスク２０に引張力が付与される。このため、第１位置部分が、第２位置部分よりも大きく伸び、蒸着マスク２０の長手方向中央部が、幅方向Ｄ２で第１位置部分の側にずれる可能性がある。張設時の貫通孔２５の位置ずれは小さいことが好ましく、これにより、貫通孔２５を介して有機ＥＬ基板９２に蒸着される蒸着材料９８の位置がずれることを抑制でき、有機ＥＬ表示装置の画素の寸法精度や位置精度を向上させることができる。

図２３は、エッチングされることによって複数の蒸着マスク２０が幅方向Ｄ２に沿って割り付けられた状態の長尺金属板６４を示す図である。図２３に示すように、割り付けられた３つの蒸着マスク２０のうち少なくとも長尺金属板６４の側縁６４ｅに向かい合う蒸着マスク２０は、波打ち形状が比較的大きい部分から形成される。図２３において、符号２７ａは、長尺金属板６４の側縁６４ｅに対向するよう割り付けられた蒸着マスク２０の側縁のうち、長尺金属板６４の中央側に位置する側縁（以下、第１側縁と称する）を表す。また、図２３において、符号２７ｂは、第１側縁２７ａの反対側に位置し、長尺金属板６４の側縁６４ｅに対向する側縁（以下、第２側縁と称する）を表す。図２３に示すように、長尺金属板６４の側縁６４ｅに対向する蒸着マスク２０において、第２側縁２７ｂの側の部分は、第１側縁２７ａの側の部分よりも波打ち形状が大きい部分から形成される。

図２４は、長尺金属板６４の側縁６４ｅに対向していた蒸着マスク２０を長尺金属板６４から切り出すことによって得られた蒸着マスク２０を示す平面図である。上述したように、蒸着マスク２０の第２側縁２７ｂの側の部分が、第１側縁２７ａの側の部分よりも波打ち形状が大きい部分から形成される場合には、第２側縁２７ｂの側の部分の長手方向Ｄ１の長さが、第１側縁２７ａの側の部分の長手方向Ｄ１の長さよりも長くなる。すなわち、長手方向Ｄ１における第２側縁２７ｂの寸法（第２側縁２７ｂに沿った寸法）は、第１側縁２７ａの寸法（第１側縁２７ａに沿った寸法）よりも大きくなる。この場合、図２４に示すように、蒸着マスク２０には、第１側縁２７ａ側から第２側縁２７ｂ側へ向かう方向において凸となるよう湾曲した形状が現れる。以下、このような湾曲形状を、Ｃ字形状とも称する。

本実施形態では、蒸着マスク２０の寸法Ｘ１および寸法Ｘ２の測定は、蒸着マスク２０に張力を付与することなく行われる。以下、本実施形態による良否判定方法について説明する。

図２５は、蒸着マスク２０の寸法を測定して良否を判定する良否判定システムを示す図である。図２５に示すように、良否判定システム８０は、蒸着マスク２０が載置されるステージ８１と、寸法測定装置８２と、判定装置８３と、を備えていてもよい。

寸法測定装置８２は、例えば、ステージ８１の上方に設けられ、蒸着マスク２０を撮像して画像を作成する測定カメラ（撮像部）を含んでいてもよい。ステージ８１および寸法測定装置８２のうちの少なくとも一方は、互いに対して移動可能になっていてもよい。本実施形態においては、ステージ８１が静止し、寸法測定装置８２が、ステージ８１に平行で互いに直交する２方向と、ステージ８１に垂直な方向に移動可能になっていてもよい。このことにより、寸法測定装置８２を、所望の位置に移動させることが可能に構成されている。なお、寸法測定装置８２が静止し、ステージ８１が移動可能であるよう、良否判定システム８０を構成してもよい。

蒸着マスク２０の寸法の測定は、蒸着マスク２０のうち測定対象となる部分の寸法の大小に応じて、異なる方法で行うことができる。

測定対象の寸法が比較的小さい場合（例えば、数百μｍ以下の場合）には、寸法測定装置８２の測定カメラの視野内に測定対象を収めることができるため、測定カメラを移動させることなく、測定対象の寸法を測定してもよい。

一方、測定対象の寸法が比較的大きい場合（例えば、ｍｍオーダ以上の場合）には、寸法測定装置８２の測定カメラの視野内に測定対象を収めることが困難になるため、測定カメラを移動させて測定対象の寸法を測定してもよい。この場合、寸法測定装置８２は、測定カメラにより撮像された画像と、測定カメラの移動量（ステージ８１が移動する場合にはその移動量）とに基づいて、蒸着マスク２０の寸法を算出してもよい。

判定装置８３は、寸法測定装置８２による測定結果に基づいて、上述した式（１）と式（２）とが満たされているか否かを判定してもよい。判定装置８３は、演算装置および記憶媒体を含んでいてもよい。演算装置は、例えばＣＰＵである。記憶媒体は、例えばＲＯＭやＲＡＭなどのメモリーである。判定装置８３は、記憶媒体に記憶されたプログラムを演算装置が実行することによって、蒸着マスク２０の寸法の判定処理を実施してもよい。

本実施形態による蒸着マスク２０の良否判定方法では、はじめに、蒸着マスク２０の寸法Ｘ１および寸法Ｘ２を測定する測定工程を実施してもよい。

この場合、まず、ステージ８１上に、蒸着マスク２０が静かに載置されてもよい。この際、蒸着マスク２０は、ステージ８１に固定されることなく、載置されてもよい。すなわち、蒸着マスク２０には張力が付与されなくてもよい。ステージ８１に載置された蒸着マスク２０は、例えば図２４に示すようにＣ字状に湾曲し得る。

次に、Ｐ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点を設定してもよい。ここでは、Ｐ１点およびＱ１点は、設計時（または張設時、蒸着時）に所望の設計値α_Ｘに等しい距離で離間するような２つの貫通孔２５の中心点に設定される例について説明する。同様に、Ｐ２点およびＱ２点は、設計時に所望の設計値α_Ｘに等しい距離で離間するような２つの貫通孔２５の中心点に設定されてもよい。また、Ｐ１点およびＰ２点は、設計時に所望の設計値α_Ｙに等しい距離で離間するような２つの貫通孔２５の中心点に設定されてもよい。同様に、Ｑ１点およびＱ２点は、設計時に所望の設計値α_Ｙに等しい距離で離間するような２つの貫通孔２５の中心点に設定されてもよい。

例えば、所望の設計値α_Ｘを２００ｍｍとするとともに、α_Ｙを６５．０ｍｍとした場合、２００ｍｍ×６５．０ｍｍの長方形の頂点（角部）に位置付けられている貫通孔２５の中心点を、Ｐ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点に設定してもよい。ここで、この長方形の頂点に一致する貫通孔２５の中心点が存在しない場合には、頂点近傍の（好ましくは頂点に最も近い）貫通孔２５の中心点を、Ｐ１点、Ｑ１点、Ｐ２点、Ｑ２点に設定してもよい。この場合には、このようにして設定されたＰ１点、Ｑ１点、Ｐ２点、Ｑ２点に対応する設計値α_Ｘおよびα_Ｙを求め、後述する判定工程で用いればよい。なお、頂点に最も近い貫通孔２５が２つ以上ある場合には、いずれか一つの貫通孔２５に設定すればよい。

貫通孔２５の中心点は、上述した接続部４１の平面形状の中心点であってもよい。この中心点は、接続部４１と同一の平面形状の密度一定の形状物を想定したときに、当該形状物を１点で支持することができる図心として定義されていてもよい。これにより、貫通孔２５の平面形状が、複雑な形状であっても、中心点を決定することができる。中心点を求める装置としては、座標測定機であるＡＭＩＣ１７１０－Ｄ（新東Ｓプレシジョン株式会社製）が挙げられる。なお、貫通孔２５の中心点は、第１面２０ａにおける第１凹部３０の平面形状の中心点であってもよい。

続いて、ステージ８１上の蒸着マスク２０の寸法Ｘ１および寸法Ｘ２（図２４参照）が測定されてもよい。この場合、図２５に示す上述した寸法測定装置８２の測定カメラにより、蒸着マスク２０のＰ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点が撮像されて、撮像された画像と、測定カメラが移動した場合にはその移動量とに基づいて、Ｐ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点の座標を算出してもよい。そして、算出された各点の座標に基づいて、Ｐ１点からＱ１点までの直線距離である寸法Ｘ１と、Ｐ２点からＱ２点までの直線距離である寸法Ｘ２とが算出されてもよい。

次に、寸法測定工程において測定された寸法Ｘ１および寸法Ｘ２に基づいて、蒸着マスク２０の良否を判定する判定工程を実施してもよい。

例えば、寸法測定装置８２による測定結果に基づいて、算出された寸法Ｘ１と寸法Ｘ２とが、上述した式（１）および式（２）の少なくとも一方を満たしているか否かを判定してもよい。すなわち、上述のように算出された寸法Ｘ１と寸法Ｘ２とが上述した式（１）に代入されるとともに、α_Ｘに設計値が代入され、式（１）の左辺が絶対値として算出されてもよい。この左辺の値が、設計値α_Ｘに基づく右辺の値以下であるか否かが判定されてもよい。式（１）を満たした蒸着マスク２０が良品（ＯＫ）と判定されてもよく、式（１）を満たしていない蒸着マスク２０は、不良品（ＮＧ）と判定されてもよい。

同様にして、算出された寸法Ｘ１と寸法Ｘ２とが上述した式（２）に代入され、式（２）の左辺が絶対値として算出され、この左辺の値が、設計値α_Ｘおよびα_Ｙに基づく右辺の値以下であるか否かが判定されてもよい。式（２）を満たした蒸着マスク２０が良品（ＯＫ）と判定されてもよく、式（２）を満たしていない蒸着マスク２０は、不良品（ＮＧ）と判定されてもよい。

このようにして、式（１）および式（２）の少なくとも一方を満たす蒸着マスク２０が良品であると判定されてもよい。しかしながら、これに限られることはなく、式（１）および式（２）の両方を満たす蒸着マスク２０を良品として判定してもよい。しかしながら、式（１）を満たしていれば式（２）は満たしていない蒸着マスク２０を良品として判定してもよく、若しくは式（２）を満たしていれば式（１）は満たしていない蒸着マスク２０を良品として判定してもよい。

次に、蒸着マスク２０を選定する。ここでは、式（１）および式（２）の少なくとも一方を満たす蒸着マスク２０を選定する選定方法の例について説明する。

すなわち、式（１）に関して良品と判定された蒸着マスク２０と、不良品と判定された蒸着マスク２０が選別されてもよい。そして、式（１）を満たした良品である蒸着マスク２０が、本実施形態による製造方法で製造される蒸着マスクとして選定されてもよい。

また、式（１）に関して不良品と判定された蒸着マスク２０のうち、式（２）に関して良品と判定された蒸着マスク２０と、不良品と判定された蒸着マスク２０が選別されてもよい。そして、式（２）を満たした良品である蒸着マスク２０が、本実施形態による製造方法で製造される蒸着マスクとして選定されてもよい。なお、式（１）を満たした蒸着マスク２０を選定する前に、式（２）を満たした蒸着マスク２０を選定してもよい。

このようにして、式（１）および式（２）の少なくとも一方を満たした蒸着マスク２０が、本実施形態による製造方法で製造された蒸着マスクとして選定され得る。選定された蒸着マスク２０は、後述する蒸着マスク装置の製造方法で用いられてもよい。なお、選定工程において選定される蒸着マスク２０は、式（１）および式（２）の両方を満たした蒸着マスク２０としてもよい。しかしながら、式（１）を満たしていれば式（２）は満たしていない蒸着マスク２０を選定してもよく、若しくは式（２）を満たしていれば式（１）は満たしていない蒸着マスク２０を選定してもよい。

次に、良品と判定されて選定された蒸着マスク２０を用いて蒸着マスク装置１０を製造する方法の一例について説明する。この場合、図３に示すように、複数の蒸着マスク２０がフレーム１５に張設されてもよい。より具体的には、蒸着マスク２０に、当該蒸着マスク２０の長手方向Ｄ１の張力を付与し、張力が付与された状態の蒸着マスク２０の耳部１７ａ，１７ｂを、フレーム１５に固定してもよい。耳部１７ａ，１７ｂはフレーム１５に、例えばスポット溶接で固定される。

蒸着マスク２０をフレーム１５に張設する際、蒸着マスク２０には長手方向Ｄ１の張力が付与されてもよい。この場合、図２６に示すように、蒸着マスク２０の第１端部２６ａが、第１中心軸線ＡＬ１の両側に配置された第１クランプ８６ａおよび第２クランプ８６ｂによって把持されるとともに、第２端部２６ｂが、第１中心軸線ＡＬ１の両側に配置された第３クランプ８６ｃおよび第４クランプ８６ｄによって把持されてもよい。第１クランプ８６ａには第１引張部８７ａが連結されていてもよく、第２クランプ８６ｂには第２引張部８７ｂが連結されていてもよい。第３クランプ８６ｃには第３引張部８７ｃが連結されていてもよく、第４クランプ８６ｄには第４引張部８７ｄが連結されていてもよい。蒸着マスク２０に張力を付与する場合には、第１引張部８７ａおよび第２引張部８７ｂを駆動して、第３クランプ８６ｃおよび第４クランプ８６ｄに対して第１クランプ８６ａおよび第２クランプ８６ｂを移動させることにより、長手方向Ｄ１において蒸着マスク２０に張力Ｔ１、Ｔ２を付与することができる。この場合に蒸着マスク２０に付与される張力は、第１引張部８７ａの張力Ｔ１と、第２引張部８７ｂの張力Ｔ２との和になる。なお、各引張部８７ａ～８７ｄは、例えばエアシリンダを含んでいてもよい。また、第３引張部８７ｃおよび第４引張部８７ｄを用いることなく、第３クランプ８６ｃおよび第４クランプ８６ｄを移動不能にしてもよい。

蒸着マスク２０に長手方向Ｄ１の張力Ｔ１、Ｔ２が付与されると、蒸着マスク２０は長手方向Ｄ１で伸びるが、幅方向Ｄ２では縮む。張設時には、このようにして弾性変形する蒸着マスク２０の全ての貫通孔２５が、所望の位置（蒸着目標位置）に対して許容範囲内に位置付けられるように、第１引張部８７ａの張力Ｔ１と第２引張部８７ｂの張力Ｔ２とが調整されてもよい。このことにより、蒸着マスク２０の長手方向Ｄ１における伸びと幅方向Ｄ２における縮みを、局所的に調整することができ、各貫通孔２５を許容範囲内に位置付けることができる。例えば、張力が付与されていない状態の蒸着マスク２０が、図２４に示すように第１側縁２７ａの側から第２側縁２７ｂの側へ向かう方向において凸となるようにＣ字状に湾曲している場合、第１側縁２７ａの側の第１引張部８７ａの張力Ｔ１を第２引張部８７ｂの張力Ｔ２よりも大きくしてもよい。このことにより、第１側縁２７ａの側の部分に、第２側縁２７ｂの側の部分よりも大きな張力を付与することができる。このため、第１側縁２７ａの側の部分を、第２側縁２７ｂの側の部分よりも多く伸ばすことができ、各貫通孔２５を、許容範囲内に容易に位置付けることができる。これとは反対に、張力が付与されていない状態の蒸着マスク２０が、第２側縁２７ｂの側から第１側縁２７ａの側へ向かう方向において凸となるようにＣ字状に湾曲している場合、第２側縁２７ｂの側の第２引張部８７ｂの張力Ｔ２を第１引張部８７ａの張力Ｔ１よりも大きくしてもよい。このことにより、第２側縁２７ｂの側の部分に、第１側縁２７ａの側の部分よりも大きな張力を付与することができる。このため、第２側縁２７ｂの側の部分を、第１側縁２７ａの側の部分よりも多く伸ばすことができ、各貫通孔２５を、許容範囲内に容易に位置付けることができる。

しかしながら、蒸着マスク２０に付与する張力を局所的に調整する場合であっても、蒸着マスク２０に形成された貫通孔２５の位置精度によっては、各貫通孔２５を許容範囲内に位置付けることが困難になる場合が考えられる。例えば、寸法Ｘ１と寸法Ｘ２が、設計値に対して大きくずれている場合には、蒸着マスク２０の長手方向Ｄ１の伸びが大きくなって幅方向Ｄ２の縮みが大きくなったり、逆に、長手方向Ｄ１の伸びが少なくて幅方向Ｄ２の縮みが少なくなったりする。張設時に、各貫通孔２５を、所望の位置（蒸着目標位置）に対して許容範囲内に位置付けることが好ましい。式（１）は、このような原因で張設時の各貫通孔２５の位置不良が発生することを抑制するための式である。

すなわち、本実施形態のように、ステージ８１等に静置された蒸着マスク２０の寸法Ｘ１および寸法Ｘ２が式（１）を満たしていることにより、張設時における蒸着マスク２０の長手方向Ｄ１の伸び量を所望の範囲内に収めることができる。このため、張設時における蒸着マスク２０の幅方向Ｄ２の縮み量を所望の範囲内に収めることができる。この結果、寸法Ｘ１および寸法Ｘ２が式（１）を満たすことにより、張設時に各貫通孔２５の位置調整を容易化させることができる。

また、一般的に、波打ち形状が形成された長尺金属板６４から蒸着マスク２０が形成されている場合にも、波打ち形状の程度によっては、張設時に各貫通孔２５を所望の位置に位置付けることが困難になる場合も考えられる。長尺金属板６４の幅方向Ｄ２における波打ち形状の程度の違いによって、幅方向Ｄ２において長手方向寸法が異なると考えられるからである。この場合、寸法Ｘ１と寸法Ｘ２とが相違し、張設されていない状態では、蒸着マスク２０は、図２４に示すようなＣ字状に湾曲し得る。

例えば、図２４に示すように湾曲している蒸着マスク２０では、張設されていない状態では、寸法Ｘ１は寸法Ｘ２よりも短くなっている。このため、蒸着マスク２０の張設時には、図２７に示すように、寸法Ｘ１が、寸法Ｘ２と等しくなるように蒸着マスク２０に引張力が付与される。この場合、第１側縁２７ａの側の部分が、第２側縁２７ｂの側の部分よりも大きく伸び、蒸着マスク２０の長手方向Ｄ１における中心位置が、第１側縁２７ａの側にずれ、これにより、貫通孔２５が幅方向Ｄ２で変位し得る。また、寸法Ｘ１と寸法Ｘ２が等しくなるように張設した場合であっても、図２８に示すように、蒸着マスク２０の湾曲形状が反転する場合がある。この場合、第１側縁２７ａが凸状になるとともに第２側縁２７ｂが凹状に湾曲する。この場合においても、貫通孔２５が幅方向Ｄ２で変位し得る。

このため、幅方向Ｄ２での貫通孔２５の位置ずれを小さくすることが好ましく、全ての貫通孔２５を、所望の位置（蒸着目標位置）に対して許容範囲内に位置付けることが好ましい。式（２）は、このような原因で張設時の各貫通孔２５の位置不良が発生することを抑制するための式である。

すなわち、本実施形態のように、ステージ８１等に静置された蒸着マスク２０の寸法Ｘ１および寸法Ｘ２が式（２）を満たしていることにより、蒸着マスク２０の長手方向Ｄ１の長さが幅方向Ｄ２において異なることを抑制でき、張設時に、長手方向Ｄ１の伸びが幅方向Ｄ２において異なることを抑制できる。このため、張設時に、貫通孔２５の幅方向Ｄ２での位置ずれを抑制できる。この結果、寸法Ｘ１および寸法Ｘ２が式（２）を満たすことにより、張設時に各貫通孔２５を、許容範囲内に容易に位置付けることができる。

次に、得られた蒸着マスク装置１０を用いて有機ＥＬ基板９２上に蒸着材料９８を蒸着させる方法の一例について説明する。

この場合、まず、図１に示すように、蒸着マスク２０が有機ＥＬ基板９２に対向するようフレーム１５を配置する。続いて、磁石９３を用いて蒸着マスク２０を有機ＥＬ基板９２に密着させる。その後、この状態で、蒸着材料９８を蒸発させて、蒸着マスク２０の貫通孔２５を通して有機ＥＬ基板９２に蒸着材料９８を飛来させる。このことにより、所定のパターンで蒸着材料９８を有機ＥＬ基板９２に付着させることができる。

このように本実施形態によれば、蒸着マスク２０の第１中心軸線ＡＬ１の一側におけるＰ１点からＱ１点までの寸法Ｘ１と、他側におけるＰ２点からＱ２点までの寸法Ｘ２とに基づいて、蒸着マスク２０の良否を判定する。このような寸法Ｘ１およびＸ２を用いることにより、張設時に、蒸着マスク２０の長手方向Ｄ１の伸びが幅方向Ｄ２において異なることを抑制でき、貫通孔２５の幅方向Ｄ２での位置ずれを抑制できる。このため、良品と判定された蒸着マスク２０を用いて蒸着マスク装置１０を作製することができ、蒸着マスク装置１０における蒸着マスク２０の各貫通孔２５の位置精度を向上させることができる。この結果、張設時の貫通孔２５の位置精度を向上させることができる。この場合、高い位置精度で蒸着材料９８を基板９２に蒸着させることができ、高精細な有機ＥＬ表示装置１００を作製することが可能になる。

また、本実施形態によれば、Ｐ１点からＱ１点までの寸法Ｘ１と、Ｐ２点からＱ２点までの寸法Ｘ２とが、上述した式（１）を満たしているか否かを判定する。このことにより、式（１）によって寸法Ｘ１と寸法Ｘ２とが所定条件を満たして良品と判定された蒸着マスク２０において、寸法Ｘ１および寸法Ｘ２の設計値からのずれを低減することができる。このため、蒸着マスク２０の張設時に、幅方向Ｄ２の縮み量を所望の範囲内に収めることができ、貫通孔２５の位置精度を向上させることができる。

また、本実施形態によれば、Ｐ１点からＱ１点までの寸法Ｘ１と、Ｐ２点からＱ２点までの寸法Ｘ２とが、上述した式（２）を満たしているか否かを判定する。このことにより、式（２）によって寸法Ｘ１と寸法Ｘ２とが所定条件を満たして良品と判定された蒸着マスク２０において、寸法Ｘ１と寸法Ｘ２との差を低減することができる。このため、蒸着マスク２０の張設時に、蒸着マスク２０の長手方向Ｄ１の伸びが幅方向Ｄ２において異なることを抑制でき、貫通孔２５の幅方向Ｄ２での位置ずれを抑制できる。この結果、張設時の貫通孔２５の位置精度を向上させることができる。

また、本実施形態によれば、Ｐ１点とＰ２点とは、蒸着時に蒸着マスク２０の第１中心軸線ＡＬ１に対して互いに対称に配置されることが意図され、Ｑ１点とＱ２点とは、蒸着時に蒸着マスク２０の第１中心軸線ＡＬ１に対して互いに対称に配置されることが意図されている。このことにより、蒸着マスク２０の長手方向Ｄ１における同じ位置であって、第１中心軸線ＡＬ１からの距離が等しい位置に、Ｐ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点を設定することができる。このため、蒸着マスク２０の良否判定精度を向上させることができる。

また、本実施形態によれば、Ｐ１点およびＰ２点は、蒸着マスク２０の第２中心軸線ＡＬ２に対して一側に配置され、Ｑ１点およびＱ２点は、他側に配置されている。このことにより、第２中心軸線ＡＬ２の両側に、Ｐ１点、Ｐ２点、Ｑ１点およびＱ２点を設定することができる。このため、蒸着マスク２０の良否判定精度を向上させることができる。

また、本実施形態によれば、Ｐ１点とＱ１点とは、蒸着時に蒸着マスク２０の第２中心軸線ＡＬ２に対して互いに対称に配置されることが意図され、Ｐ２点とＱ２点とは、蒸着時に当該第２中心軸線ＡＬ２に対して互いに対称に配置されることが意図されている。このことにより、蒸着マスク２０の幅方向Ｄ２における同じ位置であって、第２中心軸線ＡＬ２からの距離が等しい位置にＰ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点を設定することができる。このため、蒸着マスク２０の良否判定精度を向上させることができる。

さらに、本実施形態によれば、式（１）を満たしている蒸着マスク２０が選定されて、蒸着マスク２０として製造される。このことにより、寸法Ｘ１および寸法Ｘ２の設計値からのずれを低減することができる蒸着マスク２０を得ることができる。このため、蒸着マスク２０の張設時に、幅方向Ｄ２の縮み量を所望の範囲内に収めることができ、貫通孔２５の位置精度を向上させることができる。

また、本実施形態によれば、式（２）を満たしている蒸着マスク２０が選定されて、蒸着マスク２０として製造される。このことにより、寸法Ｘ１と寸法Ｘ２との差を低減することができる蒸着マスク２０を得ることができる。このため、蒸着マスク２０の張設時に、蒸着マスク２０の長手方向Ｄ１の伸びが幅方向Ｄ２において異なることを抑制でき、貫通孔２５の幅方向Ｄ２での位置ずれを抑制できる。この結果、張設時の貫通孔２５の位置精度を向上させることができる。

なお、上述した実施形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、必要に応じて図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。

なお、上述の本実施形態においては、圧延された金属板をエッチングすることによって作製された蒸着マスク２０の寸法を測定する例を示した。しかしながら、上述の寸法測定方法および良否判定システム８０を用いて、めっき処理などのその他の方法によって作製された蒸着マスク２０の寸法を測定することもできる。

また、上述の本実施形態においては、式（１）および式（２）の少なくとも一方を満たす蒸着マスク２０を良品として判定し、本実施形態による製造方法で製造される蒸着マスクとして選定される例を示した。しかしながら、寸法Ｘ１と寸法Ｘ２とに基づいて蒸着マスク２０の良否を判定することができれば、その判定方法や判定に用いる数式などは、特に限られることはない。すなわち、蒸着マスク２０の第１中心軸線ＡＬ１の一側におけるＰ１点からＱ１点までの寸法Ｘ１と、他側におけるＰ２点からＱ２点までの寸法Ｘ２とを用いて良品判定をすることにより、良品と判定された蒸着マスク２０では、張設時に、蒸着マスク２０の長手方向Ｄ１の伸びが幅方向Ｄ２において異なることを抑制することができる。このため、貫通孔２５の幅方向Ｄ２での位置ずれを抑制でき、蒸着マスク装置１０における蒸着マスク２０の各貫通孔２５の位置精度を向上させることができる。

本発明は上記実施形態そのままおよび変形例そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化してもよい。また、上記実施形態および変形例に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成してもよい。実施形態および変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。

次に、本実施形態を実施例により更に具体的に説明するが、本実施形態はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。

２５個の蒸着マスク２０を準備し、第１サンプル～第２５サンプルとした。各サンプルについて、寸法Ｘ１および寸法Ｘ２を測定した。

まず、図２５に示すように、蒸着マスク２０をステージ８１上に水平に載置した。その際、蒸着マスク２０に部分的な凹みが生じないよう、蒸着マスク２０を静かにステージ８１に載置した。

次に、蒸着マスク２０のＰ１点からＱ１点までの寸法Ｘ１を測定するとともに、Ｐ２点からＱ２点までの寸法Ｘ２を測定した。その測定結果を、α_Ｘ－Ｘ１と、α_Ｘ－Ｘ２として図２９～図４６に示す。図２９～図４６では、α_Ｘが２００ｍｍ、３００ｍｍ、４００ｍｍ、６００ｍｍ、８００ｍｍ、９００ｍｍとなるとともに、α_Ｙが６５．０ｍｍ、４３．３ｍｍ、２１．７ｍｍとなるような貫通孔２５の中心に、Ｐ１点とＱ１点、およびＰ２点とＱ２点を設定した。図２９～図４６中に示す数値は、μｍ単位で示している。図２９～図４６に示す第１～第２５サンプルは同じサンプルである。第１サンプルについて各α_Ｘおよび各α_Ｙで寸法を測定して、図２９～図４６に示す。第２サンプル～第２５サンプルについても同様である。第１サンプル～第２５サンプルは、いずれもＷ_Ｙが６５．０ｍｍである。

図２９には、α_Ｘが２００ｍｍ、α_Ｙが６５．０ｍｍとなるような貫通孔２５の中心に、Ｐ１点とＱ１点、およびＰ２点とＱ２点を設定した場合の測定結果を示している。この場合に測定された寸法Ｘ１と寸法Ｘ２を、上述した式（１）に代入して、式（１）の左辺を算出した。その算出結果を、｜α_Ｘ－（Ｘ１＋Ｘ２）／２｜として図２９に示した。図２９においては、２５個のサンプルからそれぞれ得られた２５個の蒸着マスク２０についての寸法測定結果を示している。ここではα_Ｘが２００ｍｍであるため、式（１）の右辺の値（左辺の閾値）は、１３．３μｍとなる。第１～第２５サンプルのうち、第１～第１０サンプル、第２１サンプル、第２２サンプル、第２４サンプルおよび第２５サンプルでは、式（１）を満たしていた。このため、第１～第１０サンプル、第２１サンプル、第２２サンプル、第２４サンプルおよび第２５サンプルの蒸着マスク２０は、張設時の貫通孔２５の位置精度を向上させることができる蒸着マスク２０である（良品である）と判定された。

また、蒸着マスク２０の寸法Ｘ１と寸法Ｘ２を、上述した式（２）に代入して、式（２）の左辺を算出した。その算出結果を、｜Ｘ１－Ｘ２｜として図２９に示した。ここでは、α_Ｙが６５．０ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、２０μｍとなる。第１～第２５サンプルのうち、第１～第６サンプル、第１１～第１６サンプル、第２１サンプルおよび第２３サンプルでは、式（２）を満たしていた。このため、第１～第６サンプル、第１１～第１６サンプル、第２１サンプルおよび第２３サンプルの蒸着マスク２０は、張設時の貫通孔２５の位置精度を向上させることができる蒸着マスク２０である（良品である）と判定された。

更に言えば、図２９において総合判定結果で示すように、第１～第２５サンプルのうち、第１～第６サンプルおよび第２１サンプルでは、式（１）および式（２）を満たしている。このため、第１～第６サンプルおよび第２１サンプルの蒸着マスク２０は、張設時の貫通孔２５の位置精度をより一層向上させることができる蒸着マスク２０である（良品である）と判定された。

ここで、上述した式（１）および式（２）を満たすことが、張設時の貫通孔２５の位置精度を向上させることができる理由について説明する。

まず、式（１）について説明する。上述したように、式（１）は、寸法Ｘ１および寸法Ｘ２が設計値に対してずれることを原因として、張設時に各貫通孔２５の位置不良が発生することを抑制するためのものである。すなわち、寸法Ｘ１および寸法Ｘ２が式（１）を満たすことにより、張設時における蒸着マスク２０の長手方向Ｄ１の伸び量を所望の範囲内に収めることができ、これにより、張設時における蒸着マスク２０の幅方向Ｄ２の縮み量を所望の範囲内に収めることができる。そこで、式（１）を満たすことが張設時の貫通孔２５の位置精度向上に寄与することを確かめるために、張設時における蒸着マスク２０の幅寸法Ｕ１（図２４参照）に着目する。この寸法Ｕ１は、長手方向Ｄ１における中心位置（第２中心軸線ＡＬ２）での幅寸法に相当する。この中心位置での幅方向Ｄ２の縮み量が、最も大きくなり得る。なお、図２４では、張力が付与されていない蒸着マスク２０が示されているが、便宜上、張設時における寸法Ｕ１を図２４に示している。後述する寸法Ｕ２についても同様である。

次に、式（２）について説明する。上述したように、式（２）は、寸法Ｘ１と寸法Ｘ２とが互いにずれることを原因として張設時に各貫通孔２５の位置不良が発生することを抑制するためのものである。すなわち、寸法Ｘ１および寸法Ｘ２が式（２）を満たすことにより、張設時に、長手方向Ｄ１の伸びが幅方向Ｄ２において異なることを抑制でき、貫通孔２５の幅方向Ｄ２での位置ずれを抑制できる。そこで、式（２）を満たすことが張設時の貫通孔２５の位置精度向上に寄与することを確かめるために、蒸着マスク２０のＣ字状に湾曲した第１側縁２７ａの凹み深さ寸法Ｕ２に着目する。この寸法Ｕ２は、長手方向Ｄ１における中心位置での凹み深さ寸法に相当する。より具体的には、蒸着マスク２０の第１端部２６ａと第１側縁２７ａとの交点ＰＵ１と、第２端部２６ｂと第１側縁２７ａとの交点ＰＵ２と、を結ぶ線分から、第１側縁２７ａのうち長手方向Ｄ１における中心位置までの距離を寸法Ｕ２とする。このような寸法Ｕ２は、第１側縁２７ａの最大の凹み深さを示すことになる。なお、図２８に示すように張設時の蒸着マスク２０の湾曲形状が反転した場合には、寸法Ｕ２は、第２側縁２７ｂの凹み深さ寸法とすればよい。

以下に、寸法Ｕ１および寸法Ｕ２の測定方法について説明する。

まず、寸法Ｘ１および寸法Ｘ２の測定が終了した後、蒸着マスク２０に張力を付与した。より具体的には、まず、蒸着マスク２０の第１端部２６ａおよび第２端部２６ｂを、例えば図２６に示すようなクランプ８６ａ～８６ｄで把持して、第１引張部８７ａ～第４引張部８７ｄから蒸着マスク２０に張力を付与した。付与した張力は、各貫通孔２５が、長手方向Ｄ１において、所望の位置（蒸着目標位置）に対して許容範囲内に位置付けられるような力とした。続いて、張力が付与された蒸着マスク２０を図２５に示すステージ８１上に固定した。次に、ステージ８１上に固定された蒸着マスク２０の寸法Ｕ１および寸法Ｕ２を測定した。寸法Ｕ１の測定結果を、α_Ｕ－Ｕ１として図２９に示した。ここでα_Ｕは、長手方向Ｄ１における中心位置での蒸着マスク２０の幅寸法の設計値とした。なお、α_Ｕは、張設時の設計値である。また、寸法Ｕ２の測定結果を、Ｕ２として図２９に示した。

測定された寸法Ｕ１および寸法Ｕ２を評価した。

寸法Ｕ１については、α_Ｕ－Ｕ１が閾値（±４．０μｍ）以下であるか否かで評価した。ここで、閾値は、蒸着によって形成された画素の発光効率や、隣り合う他の色の画素との混色を抑制可能な範囲内で位置ずれを許容できる値として設定した。なお、蒸着マスク２０に長手方向Ｄ１の張力を付与した場合、長手方向Ｄ１における中心位置で蒸着マスク２０の幅寸法が低減し得る。この場合、長手方向Ｄ１における中心位置で、第１側縁２７ａと第２側縁２７ｂとが互いに近づくように変形する。そこで、第１側縁２７ａおよび第２側縁２７ｂにおける変形の許容値をそれぞれ２μｍと考え、その合計として、閾値を±４．０μｍとした。図２９に示すサンプルのうち第１～第１０サンプル、第２１サンプル、第２２サンプル、第２４サンプルおよび第２５サンプルでは、α_Ｕ－Ｕ１が閾値以下であった。第１～第１０サンプル、第２１サンプル、第２２サンプル、第２４サンプルおよび第２５サンプルでは、蒸着マスク２０の幅寸法Ｕ１のずれが抑制されているため、張設時における貫通孔２５の幅方向Ｄ２の位置ずれを抑制できる。一方、これらの第１～第１０サンプル、第２１サンプル、第２２サンプル、第２４サンプルおよび第２５サンプルは、上述したように式（１）を満たしている。このため、式（１）を満たすことが、張設時の貫通孔２５の位置精度を向上させることができると言える。

とりわけ、寸法Ｕ１は、長手方向Ｄ１における中心位置での蒸着マスク２０の幅寸法を示している。この中心位置は、貫通孔２５が最も幅方向Ｄ２に位置ずれし得る位置である。このため、この中心位置におけるα_Ｕ－Ｕ１が閾値以下である場合には、長手方向Ｄ１において中心位置以外の位置における貫通孔２５の幅方向Ｄ２の位置ずれをより一層抑制することができると言える。

寸法Ｕ２については、寸法Ｕ２が、閾値（３．０μｍ）以下であるか否かで評価した。ここで、閾値は、蒸着によって形成された画素の発光効率や、隣り合う他の色の画素との混色を抑制可能な範囲内で位置ずれを許容できる値として設定した。図２９に示すサンプルのうち第１～第６サンプル、第１１～第１６サンプル、第２１サンプルおよび第２３サンプルでは、寸法Ｕ２が閾値以下であった。このことにより、第１～第６サンプル、第１１～第１６サンプル、第２１サンプルおよび第２３サンプルでは、蒸着マスク２０の第１側縁２７ａの凹みの程度が小さくなるため、張設時における貫通孔２５の幅方向Ｄ２の位置ずれを抑制できる。一方、これらの第１～第６サンプル、第１１～第１６サンプル、第２１サンプルおよび第２３サンプルは、上述したように式（２）を満たしている。このため、式（２）を満たすことが、張設時の貫通孔２５の位置精度を向上させることができると言える。

とりわけ、寸法Ｕ２は、長手方向Ｄ１における中心位置での蒸着マスク２０の第１側縁２７ａの凹みの深さ寸法を示している。この中心位置は、貫通孔２５が最も幅方向Ｄ２に位置ずれし得る位置である。このため、この中心位置における寸法Ｕ２が閾値以下である場合には、長手方向Ｄ１において中心位置以外の位置における貫通孔２５の幅方向Ｄ２の位置ずれをより一層抑制することができると言える。

図３０には、α_Ｘが２００ｍｍ、α_Ｙが４３．３ｍｍ（６５ｍｍの２／３）となるような貫通孔２５の中心に、Ｐ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点を設定した場合の測定結果を示している。この場合に測定された寸法Ｘ１と寸法Ｘ２を、上述した式（１）に代入して、式（１）の左辺を算出した。その算出結果を、｜α_Ｘ－（Ｘ１＋Ｘ２）／２｜として図３０に示した。図３０においては、２５個のサンプルからそれぞれ得られた２５個の蒸着マスク２０についての寸法測定結果を示している。ここではα_Ｘが２００ｍｍであるため、式（１）の右辺の値（左辺の閾値）は、１３．３μｍとなる。第１～第２５サンプルのうち、第１～第１０サンプル、第２１サンプル、第２２サンプル、第２４サンプルおよび第２５サンプルでは、式（１）を満たしていた。このため、第１～第１０サンプル、第２１サンプル、第２２サンプル、第２４サンプルおよび第２５サンプルの蒸着マスク２０は、張設時の貫通孔２５の位置精度を向上させることができる蒸着マスク２０である（良品である）と判定された。

また、蒸着マスク２０の寸法Ｘ１と寸法Ｘ２を、上述した式（２）に代入して、式（２）の左辺を算出した。その算出結果を、｜Ｘ１－Ｘ２｜として図３０に示した。ここでは、α_Ｙが４３．３ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、１３．３μｍとなる。第１～第２５サンプルのうち、第１～第６サンプル、第１１～第１６サンプル、第２１サンプルおよび第２３サンプルでは、式（２）を満たしていた。このため、第１～第６サンプル、第１１～第１６サンプル、第２１サンプルおよび第２３サンプルの蒸着マスク２０は、張設時の貫通孔２５の位置精度を向上させることができる蒸着マスク２０である（良品である）と判定された。

更に言えば、図３０において総合判定結果で示すように、第１～第２５サンプルのうち、第１～第６サンプルおよび第２１サンプルでは、式（１）および式（２）を満たしている。このため、第１～第６サンプルおよび第２１サンプルの蒸着マスク２０は、張設時の貫通孔２５の位置精度をより一層向上させることができる蒸着マスク２０である（良品である）と判定された。

図３１には、α_Ｘが２００ｍｍ、α_Ｙが２１．７ｍｍ（６５ｍｍの１／３）となるような貫通孔２５の中心に、Ｐ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点を設定した場合の測定結果を示している。この場合に測定された寸法Ｘ１と寸法Ｘ２を、上述した式（１）に代入して、式（１）の左辺を算出した。その算出結果を、｜α_Ｘ－（Ｘ１＋Ｘ２）／２｜として図３１に示した。図３１においては、２５個のサンプルからそれぞれ得られた２５個の蒸着マスク２０についての寸法測定結果を示している。ここではα_Ｘが２００ｍｍであるため、式（１）の右辺の値（左辺の閾値）は、１３．３μｍとなる。第１～第２５サンプルのうち、第１～第１０サンプル、第２１サンプル、第２２サンプル、第２４サンプルおよび第２５サンプルでは、式（１）を満たしていた。このため、第１～第１０サンプル、第２１サンプル、第２２サンプル、第２４サンプルおよび第２５サンプルの蒸着マスク２０は、張設時の貫通孔２５の位置精度を向上させることができる蒸着マスク２０である（良品である）と判定された。

また、蒸着マスク２０の寸法Ｘ１と寸法Ｘ２を、上述した式（２）に代入して、式（２）の左辺を算出した。その算出結果を、｜Ｘ１－Ｘ２｜として図３１に示した。ここでは、α_Ｙが２１．７ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、６．７μｍとなる。第１～第２５サンプルのうち、第１～第６サンプル、第１１～第１６サンプル、第２１サンプルおよび第２３サンプルでは、式（２）を満たしていた。このため、第１～第６サンプル、第１１～第１６サンプル、第２１サンプルおよび第２３サンプルの蒸着マスク２０は、張設時の貫通孔２５の位置精度を向上させることができる蒸着マスク２０である（良品である）と判定された。

更に言えば、図３１において総合判定結果で示すように、第１～第２５サンプルのうち、第１～第６サンプルおよび第２１サンプルでは、式（１）および式（２）を満たしている。このため、張設時の貫通孔２５の位置精度をより一層向上させることができる蒸着マスク２０である（良品である）と判定された。

図２９～図３１に示すように、異なるα_Ｙで設定されたＰ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点に基づいて良否判定を行った場合においても、同じ判定結果が得られた。このように、Ｐ１点とＰ２点との間の距離（Ｑ１点とＱ２点との間の距離）によらずに、適切な良否判定を行うことができることを示している。すなわち、式（１）および式（２）の少なくとも一方を用いることで、良否判定結果が、Ｐ１点とＰ２点との間の距離（Ｑ１点とＱ２点との間の距離）の影響を受けることを抑制できると言える。

図３２～図３４には、α_Ｘが３００ｍｍとなるような貫通孔２５の中心に、Ｐ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点を設定した場合の測定結果と良否判定結果を示している。このうち図３２では、α_Ｙを６５．０ｍｍとし、図３３では、α_Ｙを４３．３ｍｍとし、図３４では、α_Ｙを２１．７ｍｍとしている。図３２～図３４では、α_Ｘが３００ｍｍであるため、式（１）の右辺の値（左辺の閾値）は、２０．０μｍとなる。図３２では、α_Ｙが６５．０ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、３０．０μｍとなる。図３３では、α_Ｙが４３．３ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、２０．０μｍとなり、図３４では、α_Ｙが２１．７ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、１０．０μｍとなる。

図３２～図３４に示す場合においても、図２９～図３１に示す場合と同じ判定結果が得られた。すなわち、第１～第１０サンプル、第２１サンプル、第２２サンプル、第２４サンプルおよび第２５サンプルの蒸着マスク２０は、式（１）を満たしているため、張設時の貫通孔２５の位置精度を向上させることができる蒸着マスク２０である（良品である）と判定された。第１～第６サンプル、第１１～第１６サンプル、第２１サンプルおよび第２３サンプルの蒸着マスク２０は、式（２）を満たしているため、張設時の貫通孔２５の位置精度を向上させることができる蒸着マスク２０である（良品である）と判定された。更に、第１～第６サンプルおよび第２１サンプルの蒸着マスク２０は、式（１）および式（２）を満たしているため、張設時の貫通孔２５の位置精度をより一層向上させることができる蒸着マスク２０である（良品である）と判定された。また、式（１）および式（２）の少なくとも一方を用いることで、良否判定結果が、Ｐ１点とＰ２点との間の距離（Ｑ１点とＱ２点との間の距離）の影響を受けることを抑制できることが示された。

図３５～図３７には、α_Ｘが４００ｍｍとなるような貫通孔２５の中心に、Ｐ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点を設定した場合の測定結果と良否判定結果を示している。このうち図３５では、α_Ｙを６５．０ｍｍとし、図３６では、α_Ｙを４３．３ｍｍとし、図３７では、α_Ｙを２１．７ｍｍとしている。図３５～図３７では、α_Ｘが４００ｍｍであるため、式（１）の右辺の値（左辺の閾値）は、２６．７μｍとなる。図３５では、α_Ｙが６５．０ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、４０．０μｍとなる。図３６では、α_Ｙが４３．３ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、２６．７μｍとなり、図３７では、α_Ｙが２１．７ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、１３．３μｍとなる。

図３８～図４０には、α_Ｘが６００ｍｍとなるような貫通孔２５の中心に、Ｐ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点を設定した場合の測定結果と良否判定結果を示している。このうち図３８では、α_Ｙを６５．０ｍｍとし、図３９では、α_Ｙを４３．３ｍｍとし、図４０では、α_Ｙを２１．７ｍｍとしている。図３８～図４０では、α_Ｘが６００ｍｍであるため、式（１）の右辺の値（左辺の閾値）は、４０．０μｍとなる。図３８では、α_Ｙが６５．０ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、６０．０μｍとなる。図３９では、α_Ｙが４３．３ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、４０．０μｍとなり、図４０では、α_Ｙが２１．７ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、２０．０μｍとなる。

図４１～図４３には、α_Ｘが８００ｍｍとなるような貫通孔２５の中心に、Ｐ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点を設定した場合の測定結果と良否判定結果を示している。このうち図４１では、α_Ｙを６５．０ｍｍとし、図４２では、α_Ｙを４３．３ｍｍとし、図４３では、α_Ｙを２１．７ｍｍとしている。図４１～図４３では、α_Ｘが８００ｍｍであるため、式（１）の右辺の値（左辺の閾値）は、５３．３μｍとなる。図４１では、α_Ｙが６５．０ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、８０．０μｍとなる。図４２では、α_Ｙが４３．３ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、５３．３μｍとなり、図４３では、α_Ｙが２１．７ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、２６．７μｍとなる。

図４４～図４６には、α_Ｘが９００ｍｍとなるような貫通孔２５の中心に、Ｐ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点を設定した場合の測定結果と良否判定結果を示している。このうち図４４では、α_Ｙを６５．０ｍｍとし、図４５では、α_Ｙを４３．３ｍｍとし、図４６では、α_Ｙを２１．７ｍｍとしている。図４４～図４６では、α_Ｘが９００ｍｍであるため、式（１）の右辺の値（左辺の閾値）は、６０．０μｍとなる。図４４では、α_Ｙが６５．０ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、９０．０μｍとなる。図４５では、α_Ｙが４３．３ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、６０．０μｍとなり、図４６では、α_Ｙが２１．７ｍｍであるため、式（２）の右辺の値（左辺の閾値）は、３０．０μｍとなる。

図３５～図４６に示す場合においても、図２９～図３１に示す場合と同じ判定結果が得られた。すなわち、各α_Ｘに対して、第１～第１０サンプル、第２１サンプル、第２２サンプル、第２４サンプルおよび第２５サンプルの蒸着マスク２０は、式（１）を満たしているため、張設時の貫通孔２５の位置精度を向上させることができる蒸着マスク２０である（良品である）と判定された。第１～第６サンプル、第１１～第１６サンプル、第２１サンプルおよび第２３サンプルの蒸着マスク２０は、式（２）を満たしているため、張設時の貫通孔２５の位置精度を向上させることができる蒸着マスク２０である（良品である）と判定された。更に、第１～第６サンプルおよび第２１サンプルの蒸着マスク２０は、式（１）および式（２）を満たしているため、張設時の貫通孔２５の位置精度をより一層向上させることができる蒸着マスク２０である（良品である）と判定された。また、式（１）および式（２）の少なくとも一方を用いることで、良否判定結果が、Ｐ１点とＰ２点との間の距離（Ｑ１点とＱ２点との間の距離）の影響を受けることを抑制できることが示された。

このように、図２９～図４６に示すように、異なるα_Ｘで設定されたＰ１点、Ｑ１点、Ｐ２点およびＱ２点に基づいて良否判定を行った場合においても、同じ判定結果が得られた。このことは、Ｐ１点とＱ１点との間の距離（Ｐ２点とＱ２点との間の距離）によらずに、適切な良否判定を行うことができることを示している。すなわち、式（１）および式（２）の少なくとも一方を用いることで、良否判定結果が、Ｐ１点とＱ１点との間の距離（Ｐ２点とＱ２点との間の距離）の影響を受けることを抑制できると言える。

Claims (10)

1. 第１方向に延びる蒸着マスクの製造方法であって、
   帯状に延びる長尺の金属板を供給する工程と、
   フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングを前記金属板に施して、前記金属板に第１面の側から第１凹部を形成する工程と、
   フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングを前記金属板に施して、前記金属板に第２面の側から第２凹部を形成する工程と、を含み、
   前記蒸着マスクは、
   前記第１方向に延び、前記第１方向に直交する第２方向の中心位置に配置された第１中心軸線と、
   前記第１中心軸線の一側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ１点およびＱ１点と、
   前記第１中心軸線の他側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ２点およびＱ２点と、
   前記第１凹部と前記第２凹部とが互いに通じ合うことによって作製された複数の貫通孔と、を備え、
   前記Ｐ１点から前記Ｑ１点までの寸法をＸ１とし、前記Ｐ２点から前記Ｑ２点までの寸法をＸ２とし、前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２の設計値をα_Ｘとしたとき、
   を満たし、
   前記蒸着マスクは、前記第１方向における一対の端部を構成する第１耳部および第２耳部と、前記第１耳部と前記第２耳部との間に位置する複数の有効領域であって、前記第１方向に配列された複数の有効領域と、を備え、
   前記有効領域の各々に、複数の前記貫通孔が形成され、
   前記Ｐ１点および前記Ｐ２点は、最も前記第１耳部の側に位置する前記有効領域に形成された前記貫通孔の中心点に位置付けられ、
   前記Ｑ１点および前記Ｑ２点は、最も前記第２耳部の側に位置する前記有効領域に形成された前記貫通孔の中心点に位置付けられている、蒸着マスクの製造方法。
2. 前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２の設計値をα_Ｘ、前記Ｐ１点から前記Ｐ２点までの寸法および前記Ｑ１点から前記Ｑ２点までの寸法の設計値をα_Ｙ、前記第２方向における２つの前記貫通孔の中心点間の距離のうち最大値をＷ_Ｙとしたとき、
   を満たしている、請求項１に記載の蒸着マスクの製造方法。
3. 第１方向に延びる蒸着マスクの製造方法であって、
   帯状に延びる長尺の金属板を供給する工程と、
   フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングを前記金属板に施して、前記金属板に第１面の側から第１凹部を形成する工程と、
   フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングを前記金属板に施して、前記金属板に第２面の側から第２凹部を形成する工程と、を含み、
   前記蒸着マスクは、
   前記第１方向に延び、前記第１方向に直交する第２方向の中心位置に配置された第１中心軸線と、
   前記第１中心軸線の一側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ１点およびＱ１点と、
   前記第１中心軸線の他側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ２点およびＱ２点と、
   前記第１凹部と前記第２凹部とが互いに通じ合うことによって作製された複数の貫通孔と、
   を備え、
   前記Ｐ１点から前記Ｑ１点までの寸法をＸ１とし、前記Ｐ２点から前記Ｑ２点までの寸法をＸ２とし、前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２の設計値をα_Ｘ、前記Ｐ１点から前記Ｐ２点までの寸法および前記Ｑ１点から前記Ｑ２点までの寸法の設計値をα_Ｙ、前記第２方向における２つの前記貫通孔の中心点間の距離のうち最大値をＷ_Ｙとしたとき、
   を満たし、
   前記蒸着マスクは、前記第１方向における一対の端部を構成する第１耳部および第２耳部と、前記第１耳部と前記第２耳部との間に位置する複数の有効領域であって、前記第１方向に配列された複数の有効領域と、を備え、
   前記有効領域の各々に、複数の前記貫通孔が形成され、
   前記Ｐ１点および前記Ｐ２点は、最も前記第１耳部の側に位置する前記有効領域に形成された前記貫通孔の中心点に位置付けられ、
   前記Ｑ１点および前記Ｑ２点は、最も前記第２耳部の側に位置する前記有効領域に形成された前記貫通孔の中心点に位置付けられている、蒸着マスクの製造方法。
4. 前記Ｐ１点が位置付けられた前記貫通孔と前記第１耳部との間に、他の前記貫通孔が位置し、
   前記Ｐ２点が位置づけられた前記貫通孔と前記第１耳部との間に、他の前記貫通孔が位置している、請求項１～３のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
5. 前記Ｑ１点が位置付けられた前記貫通孔と前記第２耳部との間に、他の前記貫通孔が位置し、
   前記Ｑ２点が位置づけられた前記貫通孔と前記第２耳部との間に、他の前記貫通孔が位置している、請求項１～４のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
6. 請求項１～５のいずれか一項に記載の前記蒸着マスクの製造方法により前記蒸着マスクを準備する工程と、
   前記蒸着マスクに前記第１方向に張力を付与して前記蒸着マスクをフレームに張設する工程と、を備えた、蒸着マスク装置の製造方法。
7. 第１方向に延びる、複数の貫通孔を有する蒸着マスクであって、
   前記第１方向に延び、前記第１方向に直交する第２方向の中心位置に配置された第１中心軸線と、
   前記第１中心軸線の一側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ１点およびＱ１点と、
   前記第１中心軸線の他側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ２点およびＱ２点と、を備え、
   前記Ｐ１点から前記Ｑ１点までの寸法をＸ１とし、前記Ｐ２点から前記Ｑ２点までの寸法をＸ２とし、前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２の設計値をα_Ｘとしたとき、
   を満たし、
   前記蒸着マスクは、前記第１方向における一対の端部を構成する第１耳部および第２耳部と、前記第１耳部と前記第２耳部との間に位置する複数の有効領域であって、前記第１方向に配列された複数の有効領域と、を備え、
   前記有効領域の各々に、複数の前記貫通孔が形成され、
   前記Ｐ１点および前記Ｐ２点は、最も前記第１耳部の側に位置する前記有効領域に形成された前記貫通孔の中心点に位置付けられ、
   前記Ｑ１点および前記Ｑ２点は、最も前記第２耳部の側に位置する前記有効領域に形成された前記貫通孔の中心点に位置付けられている、蒸着マスク。
8. 第１方向に延びる、複数の貫通孔を有する蒸着マスクであって、
   前記第１方向に延び、前記第１方向に直交する第２方向の中心位置に配置された第１中心軸線と、
   前記第１中心軸線の一側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ１点およびＱ１点と、
   前記第１中心軸線の他側に設けられ、前記第１方向に沿って互いに離間したＰ２点およびＱ２点と、を備え、
   前記Ｐ１点から前記Ｑ１点までの寸法をＸ１とし、前記Ｐ２点から前記Ｑ２点までの寸法をＸ２とし、前記寸法Ｘ１および前記寸法Ｘ２の設計値をα_Ｘ、前記Ｐ１点から前記Ｐ２点までの寸法および前記Ｑ１点から前記Ｑ２点までの寸法の設計値をα_Ｙ、前記第２方向における２つの前記貫通孔の中心点間の距離のうち最大値をＷ_Ｙとしたとき、
   を満たし、
   前記蒸着マスクは、前記第１方向における一対の端部を構成する第１耳部および第２耳部と、前記第１耳部と前記第２耳部との間に位置する複数の有効領域であって、前記第１方向に配列された複数の有効領域と、を備え、
   前記有効領域の各々に、複数の前記貫通孔が形成され、
   前記Ｐ１点および前記Ｐ２点は、最も前記第１耳部の側に位置する前記有効領域に形成された前記貫通孔の中心点に位置付けられ、
   前記Ｑ１点および前記Ｑ２点は、最も前記第２耳部の側に位置する前記有効領域に形成された前記貫通孔の中心点に位置付けられている、蒸着マスク。
9. 前記Ｐ１点が位置付けられた前記貫通孔と前記第１耳部との間に、他の前記貫通孔が位置し、
   前記Ｐ２点が位置づけられた前記貫通孔と前記第１耳部との間に、他の前記貫通孔が位置している、請求項７または８に記載の蒸着マスク。
10. 前記Ｑ１点が位置付けられた前記貫通孔と前記第２耳部との間に、他の前記貫通孔が位置し、
    前記Ｑ２点が位置づけられた前記貫通孔と前記第２耳部との間に、他の前記貫通孔が位置している、請求項７～９のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
    

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