JP7347556B2 - 純水製造装置及び純水製造装置の運転方法 - Google Patents
純水製造装置及び純水製造装置の運転方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7347556B2 JP7347556B2 JP2022014798A JP2022014798A JP7347556B2 JP 7347556 B2 JP7347556 B2 JP 7347556B2 JP 2022014798 A JP2022014798 A JP 2022014798A JP 2022014798 A JP2022014798 A JP 2022014798A JP 7347556 B2 JP7347556 B2 JP 7347556B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- chamber
- treated
- reverse osmosis
- electrodeionization
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 247
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 59
- 238000011017 operating method Methods 0.000 title description 4
- 238000009296 electrodeionization Methods 0.000 claims description 92
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 63
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 claims description 52
- 230000002328 demineralizing effect Effects 0.000 claims description 48
- 238000005115 demineralization Methods 0.000 claims description 47
- 238000010612 desalination reaction Methods 0.000 claims description 24
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 21
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 7
- 230000003204 osmotic effect Effects 0.000 claims 1
- 239000008400 supply water Substances 0.000 claims 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 25
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 23
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 23
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 14
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 11
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000002242 deionisation method Methods 0.000 description 4
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 4
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 4
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003011 anion exchange membrane Substances 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001471 micro-filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-N sodium;hydron;carbonate Chemical compound [Na+].OC(O)=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
- B01D61/42—Electrodialysis; Electro-osmosis ; Electro-ultrafiltration; Membrane capacitive deionization
- B01D61/44—Ion-selective electrodialysis
- B01D61/46—Apparatus therefor
- B01D61/48—Apparatus therefor having one or more compartments filled with ion-exchange material, e.g. electrodeionisation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
- B01D61/42—Electrodialysis; Electro-osmosis ; Electro-ultrafiltration; Membrane capacitive deionization
- B01D61/44—Ion-selective electrodialysis
- B01D61/54—Controlling or regulating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
- B01D61/58—Multistep processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/469—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrochemical separation, e.g. by electro-osmosis, electrodialysis, electrophoresis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A20/00—Water conservation; Efficient water supply; Efficient water use
- Y02A20/124—Water desalination
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A20/00—Water conservation; Efficient water supply; Efficient water use
- Y02A20/124—Water desalination
- Y02A20/131—Reverse-osmosis
Description
本発明は、純水製造装置の運転方法に関し、特に半導体、液晶等の電子産業分野で利用される超純水を製造する超純水製造システムを構成する純水製造装置及びその運転方法に関する。
従来、半導体等の電子産業分野で用いられている超純水は、前処理システム、一次純水製造装置及び一次純水を処理するサブシステム（二次純水製造装置）で構成される超純水製造システムで原水を処理することにより製造されている。
例えば、図１に示すように超純水製造システム１は、前処理装置２と一次純水製造装置（純水製造装置）３とサブシステム４といった３段の装置で構成されている。このような超純水製造システム１の前処理装置２では、原水Ｗの濾過、凝集沈殿、精密濾過膜などによる前処理が施され、主に懸濁物質が除去される。
一次純水製造装置３は、前処理水Ｗ１を処理する逆浸透膜装置５と、紫外線酸化装置６と、電気脱イオン装置８と、この電気脱イオン装置８に給水を供給する給水ポンプ７とを有する。この一次純水製造装置３で前処理水Ｗ１中の大半の電解質、微粒子、生菌等の除去を行うとともに有機物を分解して、一次純水（純水）Ｗ２を得る。
そして、サブシステム４は、サブタンク１０と供給ポンプ１１と紫外線酸化装置６と非再生型混床式イオン交換装置１３と限外ろ過膜（ＵＦ膜）１４とを有し、限外ろ過膜（ＵＦ膜）１４からユースポイント１５を経由してサブタンク１０に還流する構成となっている。このサブシステム４では、一次純水製造装置３で製造された一次純水Ｗ２中に含まれる微量の有機物（ＴＯＣ成分）を酸化分解し、炭酸イオン、有機酸類、アニオン性物質、さらには金属イオンやカチオン性物質を除去し、最後に限外濾過（ＵＦ）膜１４で微粒子を除去して超純水Ｗ３とし、これをユースポイント１５に供給して、未使用の超純水Ｗ３はサブシステム４の前段に還流する。
上述したような超純水製造システム１の一次純水製造装置３では、逆浸透膜装置５の処理性能向上を目的に、逆浸透膜装置の給水にＮａＯＨ等のアルカリを注入してｐＨ８．５以上とし、各種成分のイオン化を促進して処理することが行われている。
しかしながら、逆浸透膜装置５の給水にアルカリを注入すると、後段の電気脱イオン装置８への給水の水質（電気伝導率など）が増加し、電気脱イオン装置８への負荷が大きくなる、という問題点がある。特に原水水質の変動や逆浸透膜装置５の回収率の変更などにより、逆浸透膜装置５の処理水水質がさらに低下した場合においては、電気脱イオン装置８での処理水（脱塩水）の水質も低下し、これに起因して所望とする水質の純水Ｗ２が得られなくなるおそれがある、という問題点がある。
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、逆浸透膜装置と電気脱イオン装置とを有し、逆浸透膜装置に高ｐＨで被処理水を供給する純水製造装置における逆浸透膜装置の処理水質が変動しても安定した水質で純水を製造することが可能な純水製造装置及びその運転方法を提供することを目的とする。
上記目的に鑑み、本発明は第一に、逆浸透膜装置と電気脱イオン装置とをこの順に備え、前記電気脱イオン装置の脱塩室にこの逆浸透膜装置の処理水を通水するとともに該脱塩室を通過した処理水の一部を前記脱塩室と逆方向に濃縮室に通水する純水製造装置であって、前記逆浸透膜装置の処理水の導電率又は比抵抗値を測定する計測手段と、前記計測手段の測定値に基づいて前記電気脱イオン装置の脱塩室に供給する水量を制御する制御手段とを有し、前記制御手段は、前記計測手段の測定値に基づく逆浸透膜装置の処理水の導電率が０．３ｍＳ／ｍ未満の場合の前記脱塩室への流量を１００％とした場合に、該逆浸透膜装置の処理水の導電率が０．３ｍＳ／ｍ以上となったら該脱塩室流量を５０～１００％未満に減少させるように制御する、純水製造装置を提供する（発明１）。
かかる発明（発明１）によれば、電気脱イオン装置の処理水の水質の低下を抑制することができる。これは以下のような理由によると考えられる。すなわち、逆浸透膜装置の処理水の水質が低下した場合には、電気脱イオン装置に負荷がかかり、電気脱イオン装置の処理水（脱塩水）の水質の低下を招きやすいので、逆浸透膜装置の処理水の導電率が０．３ｍＳ／ｍ以上となったら、電気脱イオン装置の負荷を低減するために脱塩室流量を減少させるように制御することが考えられるが、そうすると脱塩室のイオン交換樹脂に吸着していたイオンは濃縮室に移動し、濃縮室のイオン濃度が増加することにより、濃縮室から脱塩室へのイオンの逆拡散が増加し、処理水の水質が低下する。そこで、電気脱イオン装置の脱塩室を通過した処理水の一部を前記脱塩室と逆方向に濃縮室に通水することにより、濃縮室下部のイオン濃度を低く維持できるので、電気脱イオン装置の処理水の水質の低下を抑制することができる。
上記発明（発明１）においては、前記逆浸透膜装置と前記電気脱イオン装置との間に紫外線酸化装置を有することが好ましい（発明２）。
かかる発明（発明２）によれば、紫外線酸化装置で逆浸透膜処理水に残存するＴＯＣを分解することで、得られる純水の水質をさらに向上させることができる。
上記発明（発明１，２）においては、前記電気脱イオン装置が、脱塩室の処理水の一部を該電気脱イオン装置の電極室に通水することが好ましい（発明３）。
かかる発明（発明３）によれば、逆浸透膜装置、あるいは紫外線酸化装置で処理された処理水を電気脱イオン装置の電極室に流通すると、電気脱イオン装置の電極及び電極室内のイオン交換体の劣化やスケール生成が促進される。そこで、電気脱イオン装置の脱塩室の処理水の一部を電気脱イオン装置の電極室に通水することで、電気脱イオン装置の電極及び電極室内のイオン交換体の劣化やスケール生成を抑制することができ、電気脱イオン装置を長期間安定して運転することができる。
また、本発明は第二に、逆浸透膜装置と電気脱イオン装置とをこの順に備え、前記逆浸透膜装置にｐＨ８．５以上の給水を供給し、前記電気脱イオン装置の脱塩室にこの逆浸透膜装置の処理水を通水するとともに該脱塩室を通過した処理水の一部を前記脱塩室と逆方向に濃縮室に通水する純水製造装置の運転方法において、前記逆浸透膜装置の処理水の導電率が０．３ｍＳ／ｍ未満の場合の前記脱塩室への流量を１００％とした場合に、前記逆浸透膜装置の処理水の導電率が０．３ｍＳ／ｍ以上となったら該脱塩室流量を５０～１００％未満に減少させるように制御する、純水製造装置の運転方法を提供する（発明４）。
かかる発明（発明４）によれば、逆浸透膜装置の処理水の水質が低下した場合には、電気脱イオン装置に負荷がかかり、電気脱イオン装置の処理水の水質の低下を招きやすいので、逆浸透膜装置の処理水の導電率が０．３ｍＳ／ｍ以上となったら脱塩室流量を５０～１００％未満に減少させるように制御するとともに、電気脱イオン装置の脱塩室を通過した処理水の一部を前記脱塩室と逆方向に濃縮室に通水することにより、電気脱イオン装置の処理水の水質の低下を抑制することができる。
上記発明（発明４）においては、前記純水製造装置が、前記逆浸透膜装置と前記電気脱イオン装置との間に紫外線酸化装置を有することが好ましい（発明５）。
かかる発明（発明５）によれば、紫外線酸化装置で逆浸透膜処理水に残存するＴＯＣを分解することで、得られる純水の水質をさらに向上させることができる。
上記発明（発明４，５）においては、前記電気脱イオン装置の脱塩室の処理水の一部を該電気脱イオン装置の電極室に通水することが好ましい（発明６）。
かかる発明（発明６）によれば、逆浸透膜装置、あるいは紫外線酸化装置で処理された処理水を電気脱イオン装置の電極室に流通すると、電気脱イオン装置の電極及び電極室内のイオン交換体の劣化やスケール生成が促進される。そこで、電気脱イオン装置の脱塩室の処理水の一部を電気脱イオン装置の電極室に通水することで、電気脱イオン装置の電極及び電極室内のイオン交換体の劣化やスケール生成を抑制することができ、電気脱イオン装置を長期間安定して運転することができる。
本発明の純水製造装置によれば、電気脱イオン装置の脱塩室を通過した処理水の一部を前記脱塩室と逆方向に濃縮室に通水するとともに、逆浸透膜装置の処理水の導電率が０．３ｍＳ／ｍ以上となったら脱塩室流量を５０～１００％未満に減少させるように制御することができるので、水質の低下を抑制し、所定の水質の純水を安定的に製造することが可能となる。
以下、本発明の一実施形態による純水製造装置の運転方法について添付図面を参照に説明する。
［純水製造装置］
図１は本実施形態の純水製造装置の運転方法を適用可能な超純水製造システムを示すフロー図であり、逆浸透膜装置５の処理水の導電率を測定する計測手段（図示せず）と、この計測手段の測定値に基づいて電気脱イオン装置８の脱塩室に供給する水量を制御する制御手段（図示せず）とを有する以外は、前述した従来例と同じであるので、その詳細な説明を省略する。この超純水製造システム１の純水製造装置としての一次純水製造装置３では、紫外線酸化装置６の処理水を電気脱イオン装置８に通水する。
図１は本実施形態の純水製造装置の運転方法を適用可能な超純水製造システムを示すフロー図であり、逆浸透膜装置５の処理水の導電率を測定する計測手段（図示せず）と、この計測手段の測定値に基づいて電気脱イオン装置８の脱塩室に供給する水量を制御する制御手段（図示せず）とを有する以外は、前述した従来例と同じであるので、その詳細な説明を省略する。この超純水製造システム１の純水製造装置としての一次純水製造装置３では、紫外線酸化装置６の処理水を電気脱イオン装置８に通水する。
（電気脱イオン装置）
図２において、電気脱イオン装置８は、電極（陽極２１、陰極２２）の間に複数のアニオン交換膜２３及びカチオン交換膜２４を交互に配列して脱塩室２５と濃縮室２６とを交互に形成し、両側に陽極室２７と陰極室２８を形成したものであり、脱塩室２５にはイオン交換樹脂、イオン交換繊維もしくはグラフト交換体等からなるイオン交換体（アニオン交換体及びカチオン交換体）が混合もしくは複層状に充填されている。また、濃縮室２６と、陽極室２７及び陰極室２８にも、同様にイオン交換体が充填されている。
図２において、電気脱イオン装置８は、電極（陽極２１、陰極２２）の間に複数のアニオン交換膜２３及びカチオン交換膜２４を交互に配列して脱塩室２５と濃縮室２６とを交互に形成し、両側に陽極室２７と陰極室２８を形成したものであり、脱塩室２５にはイオン交換樹脂、イオン交換繊維もしくはグラフト交換体等からなるイオン交換体（アニオン交換体及びカチオン交換体）が混合もしくは複層状に充填されている。また、濃縮室２６と、陽極室２７及び陰極室２８にも、同様にイオン交換体が充填されている。
そして、この電気脱イオン装置８には、脱塩室２５に紫外線酸化装置６で処理した被処理水Ｗ４を通水して脱塩水Ｗ５を取り出し、濃縮室２６にこの脱塩水Ｗ５を分取して通水する濃縮室通水手段（図示せず）が設けられていて、脱塩水Ｗ５を脱塩室２５の脱塩水Ｗ５の取り出し口に近い側から濃縮室２６内に導入すると共に、脱塩室２５の処理原水（被処理水Ｗ４）の入口に近い側から流出する、すなわち脱塩室２５における被処理水Ｗ４の流通方向と反対方向から脱塩水Ｗ５を濃縮室２６に導入して濃縮水Ｗ６を吐出する構成となっている。一方、陽極室２７及び陰極室２８にも脱塩水Ｗ５を分取して電極水として流通させ、それぞれ陽極排出水Ｗ７、陰極排出水Ｗ８として排出する構造となっている。
［純水製造装置の運転方法］
上述したような構成を有する一次純水製造装置３の運転方法について図１及び図２を参照して説明する。まず、原水Ｗを前処理装置２により前処理を施した前処理水Ｗ１を一次純水製造装置３に供給し、逆浸透膜（ＲＯ）装置５の給水に図示しないアルカリ添加手段からＮａＯＨ等のアルカリを注入してｐＨ８．５以上とする。逆浸透膜（ＲＯ）装置５で塩類のほかイオン性、コロイド性のＴＯＣを除去するとともに炭酸ガスをイオン化して除去する。そして、紫外線酸化装置６において残存する有機物を分解する。この紫外線酸化装置６で処理した被処理水Ｗ４を電気脱イオン装置８に通水して、ＵＶ酸化により分解した有機物に起因するイオン性の不純物を除去して、一次純水Ｗ２を製造する。
上述したような構成を有する一次純水製造装置３の運転方法について図１及び図２を参照して説明する。まず、原水Ｗを前処理装置２により前処理を施した前処理水Ｗ１を一次純水製造装置３に供給し、逆浸透膜（ＲＯ）装置５の給水に図示しないアルカリ添加手段からＮａＯＨ等のアルカリを注入してｐＨ８．５以上とする。逆浸透膜（ＲＯ）装置５で塩類のほかイオン性、コロイド性のＴＯＣを除去するとともに炭酸ガスをイオン化して除去する。そして、紫外線酸化装置６において残存する有機物を分解する。この紫外線酸化装置６で処理した被処理水Ｗ４を電気脱イオン装置８に通水して、ＵＶ酸化により分解した有機物に起因するイオン性の不純物を除去して、一次純水Ｗ２を製造する。
具体的には、図２に示すように電気脱イオン装置８の脱塩室２５に紫外線酸化装置６の処理水を被処理水Ｗ４として供給する。そして、この脱塩室２５を透過した脱塩水Ｗ５を分取して濃縮室２６及び電極室（陽極室２７、陰極室２８）に供給とする。従来のように紫外線酸化装置６の処理水（被処理水Ｗ４）を電気脱イオン装置８の濃縮室２６及び電極室（陽極室２７、陰極室２８）に流通すると、被処理水Ｗ４には過酸化水素なども含まれているので、電気脱イオン装置８の電極２１，２２や濃縮室２６や陽極室２７又は陰極室２８内のイオン交換体の劣化が促進される。そこで、濃縮室２６と陽極室２７及び陰極室２８に脱塩水Ｗ５を供給することで、電気脱イオン装置８の電極２１，２２や濃縮室２６や陽極室２７又は陰極室２８内のイオン交換体の劣化を抑制することができ、電気脱イオン装置８の運転電圧の上昇を抑制し、耐用期間を長期化することができる。
特に、電気脱イオン装置８として、脱塩室２５を通過した脱塩水Ｗ５の一部を被濃縮水として濃縮室２６に脱塩室２５の通水方向とは逆方向に向流一過式で通水し、濃縮室２６から濃縮水Ｗ６を系外へ排出させているので、脱塩室２５の取り出し側ほど濃縮室２６の被濃縮水中のイオン濃度が低いものとなり、濃度拡散による脱塩室２５への影響が小さくなるため、ホウ素などの弱イオンの除去率が向上している。
本実施形態においては、上述したような一次純水Ｗ２の製造プロセスにおいて、図示しない計測手段により逆浸透膜装置５の処理水の導電率を測定し、逆浸透膜装置５の処理水の導電率が０．３ｍＳ／ｍ未満の場合を通常状態として、その際の電気脱イオン装置８の脱塩室２５への給水量を１００％として設定する。そして、逆浸透膜装置５の処理水の導電率が０．３ｍＳ／ｍ以上となったら脱塩室２５への被処理水Ｗ４の流量を５０～１００％未満に減少させるように制御する。被処理水Ｗ４の流量を５０％以下としてもそれ以上の脱塩水Ｗ５の水質の安定が得られないばかりか、一次純水Ｗ２の製造量が低下する。この脱塩室２５への被処理水Ｗ４の流量の制御は、逆浸透膜装置５の被処理水Ｗ４の導電率の値に対応して、連続的もしくは段階的に変動させるのが一般的であるが、固定値として設定してもよい。上述したような被処理水Ｗ４の脱塩室２５への供給量は、例えば、電気脱イオン装置８の脱塩室２５への被処理水Ｗ４の供給路に分岐菅を設け、この分岐菅への被処理水Ｗ４の流量を増減させることにより、脱塩室２５への被処理水Ｗ４の供給量を制御すればよい。
このような制御を行うのは以下のような理由による。すなわち、逆浸透膜装置８の処理水の水質が低下した場合には、これを処理する電気脱イオン装置８に負荷がかかり、電気脱イオン装置８の脱塩室２５の処理水（脱塩水）Ｗ５の水質の低下を招くおそれがある。そこで、逆浸透膜装置の処理水の導電率が０．３ｍＳ／ｍ以上となったら、電気脱イオン装置８の負荷を低減するために脱塩室２５の流量を減少させるように制御する。この場合、脱塩室２５に供給する被処理水Ｗ４と、濃縮室２６に供給する濃縮水とを同じ方向に通水すると、脱塩室２５のイオン交換樹脂に吸着していたイオンは濃縮室２６に移動し、濃縮室２６のイオン濃度が増加することにより、濃縮室２６から脱塩室２５へのイオンの逆拡散が増加し、処理水（脱塩水）Ｗ５の水質が低下する。これに対し、本実施形態においては、電気脱イオン装置８の脱塩室２５を通過した処理水（脱塩水）Ｗ５の一部を該脱塩室２５と逆方向に濃縮室２６に通水することにより、濃縮室２６の下部のイオン濃度を低く維持することができるので、電気脱イオン装置８の処理水（脱塩水）Ｗ５の水質の低下を抑制することができる。
このようにして一次純水Ｗ２を製造したら、サブタンク１０に貯留し、この一次純水Ｗ２を供給ポンプ１１により供給して処理する。サブシステム４では、紫外線酸化装置６と非再生型混床式イオン交換装置１３と限外ろ過膜１４とによる処理を行う。紫外線酸化装置６では、ＵＶランプより出される波長１８５ｎｍの紫外線によりＴＯＣを有機酸さらにはＣＯ２レベルにまで分解する。分解された有機酸及びＣＯ２は後段の非再生型混床式イオン交換装置１３で除去される。限外ろ過膜１４では、微小粒子が除去され、非再生型混床式イオン交換装置１３の流出粒子も除去され、二次純水（超純水）Ｗ３を製造することができる。そして、この超純水Ｗ３はユースポイント１５に供給された後、未使用分がサブタンク１０に返送することで、超純水製造システム１を運転することができる。
以上、本発明について前記実施形態に基づき説明してきたが、本発明は前記実施形態に限定されず、種々の変更実施が可能である。例えば、本発明において適用可能な超純水製造システム１としては、一次純水製造装置３が逆浸透膜装置５の処理水を電気脱イオン装置８で処理する構成であれば、紫外線酸化装置６を必ずしも有する必要はなく、その他種々の構成のものに適用可能である。またサブシステム４の構成も特に制限はなく、汎用的な種々の構成を適用可能である。
以下の具体的実施例に基づき、本発明をさらに詳細に説明する。
〔実施例１〕
図３及び表１に示す構造の試験用の電気脱イオン装置に表２に示す通水条件で表３に示す給水（被処理水）を脱塩室２５に通水し、電気脱イオン装置は定電流運転とした。そして、給水（被処理水）にＮａＯＨを添加して、ｐＨ１０．５とした後の処理水の抵抗率を測定した。結果を図４に示す。なお、給水の初期導電率は０．２５ｍＳ／ｍであり、ＮａＯＨを添加後の給水の導電率は、６．８ｍＳ／ｍであった。
図３及び表１に示す構造の試験用の電気脱イオン装置に表２に示す通水条件で表３に示す給水（被処理水）を脱塩室２５に通水し、電気脱イオン装置は定電流運転とした。そして、給水（被処理水）にＮａＯＨを添加して、ｐＨ１０．５とした後の処理水の抵抗率を測定した。結果を図４に示す。なお、給水の初期導電率は０．２５ｍＳ／ｍであり、ＮａＯＨを添加後の給水の導電率は、６．８ｍＳ／ｍであった。
〔比較例１〕
実施例１において、試験用の電気脱イオン装置として、図５に示すように被処理水Ｗ４を並行して、脱塩室２５及び濃縮室２６に供給する構造とした以外は同様にして、ＮａＯＨを添加後の処理水の抵抗率を測定した。結果を図６に示す。
実施例１において、試験用の電気脱イオン装置として、図５に示すように被処理水Ｗ４を並行して、脱塩室２５及び濃縮室２６に供給する構造とした以外は同様にして、ＮａＯＨを添加後の処理水の抵抗率を測定した。結果を図６に示す。
図４及び図６から明らかなとおり、実施例１においては、ＮａＯＨの添加により電気脱イオン装置の処理水（脱塩水）の抵抗率の変化はほとんどなかった。これは、処理水（脱塩水）を濃縮室２６に通水することにより、濃縮室２６から脱塩室２５へのイオンの拡散が防止されたためであると考えられる。これに対し、比較例１ではＮａＯＨの添加により電気脱イオン装置の処理水（脱塩水）の抵抗率が大きく低下した。これは、濃縮室２６のＮａ濃度が増加したことにより、濃縮室２６から脱塩室へのイオンの拡散が起こったためであると考えられる。
〔実施例２〕
図７に示す電気脱イオン装置の制御用の試験装置を用意した。この試験装置５１は、超純水（ＵＰＷ）流路５２と、電気脱イオン装置５３と、脱塩水流路５４と、濃縮水流路５５と、超純水（ＵＰＷ）流路５２の分岐管５６とを有し、脱塩水流路５４には、流量計５８Ａと比抵抗値計５９がそれぞれ接続されている。また、濃縮水流路５５には、流量計５８Ｂと導電率計５７Ａとがそれぞれ接続されている。さらに、分岐管５６には、流量計５８Ｃと導電率計５７Ｂとがそれぞれ接続されている。そして、超純水流路５２にはシリカ（ＳｉＯ２）源としてケイ酸ナトリウム（Ｎａ２ＳｉＯ３）溶液タンク６１と、炭酸ナトリウ（ＮａＨＣＯ３）溶液タンク６２と、ホウ素源として水酸化ホウ素（Ｂ（ＯＨ）３）溶液タンク６３とがそれぞれ薬液ポンプ６１Ａ，６２Ａ，６３Ａを介して接続した構成を有する。なお、電気脱イオン装置５３としては、ＩＰ－ＬＸＭＸ４－４（Ｅｖｏｑｕａ社製）を用いて、濃縮室には脱塩室の処理水（脱塩水）を逆方向に通水する構成とした。
図７に示す電気脱イオン装置の制御用の試験装置を用意した。この試験装置５１は、超純水（ＵＰＷ）流路５２と、電気脱イオン装置５３と、脱塩水流路５４と、濃縮水流路５５と、超純水（ＵＰＷ）流路５２の分岐管５６とを有し、脱塩水流路５４には、流量計５８Ａと比抵抗値計５９がそれぞれ接続されている。また、濃縮水流路５５には、流量計５８Ｂと導電率計５７Ａとがそれぞれ接続されている。さらに、分岐管５６には、流量計５８Ｃと導電率計５７Ｂとがそれぞれ接続されている。そして、超純水流路５２にはシリカ（ＳｉＯ２）源としてケイ酸ナトリウム（Ｎａ２ＳｉＯ３）溶液タンク６１と、炭酸ナトリウ（ＮａＨＣＯ３）溶液タンク６２と、ホウ素源として水酸化ホウ素（Ｂ（ＯＨ）３）溶液タンク６３とがそれぞれ薬液ポンプ６１Ａ，６２Ａ，６３Ａを介して接続した構成を有する。なお、電気脱イオン装置５３としては、ＩＰ－ＬＸＭＸ４－４（Ｅｖｏｑｕａ社製）を用いて、濃縮室には脱塩室の処理水（脱塩水）を逆方向に通水する構成とした。
上述したような試験装置において、電気脱イオン装置５３に、表４に示す通水条件及び表５に示す給水条件において、電気脱イオン装置５３を定電流運転し、脱塩室流量を１００％（４．７Ｌ／分）から６０％（２，４Ｌ／分）に減少させ、再度１００％（４．７Ｌ／分）に変化させたときの処理水（脱塩水）の抵抗率を測定した。結果を図８に示す。
〔比較例２〕
図９に示す電気脱イオン装置の制御用の試験装置を用意した。この試験装置５１Ａは、前述した実施例２の試験装置において、電気脱イオン装置５３の脱塩室と濃縮室に給水を並行方向に供給する構造を有する以外、基本的に同じ構成を有する。
図９に示す電気脱イオン装置の制御用の試験装置を用意した。この試験装置５１Ａは、前述した実施例２の試験装置において、電気脱イオン装置５３の脱塩室と濃縮室に給水を並行方向に供給する構造を有する以外、基本的に同じ構成を有する。
この試験装置において、電気脱イオン装置５３に、表４に示す通水条件及び表５に示す給水条件において、電気脱イオン装置５３を定電流運転し、脱塩室流量を１００％（４．７Ｌ／分）から６０％（２，４Ｌ／分）に減少させ、再度１００％（４．７Ｌ／分）に変化させたときの処理水（脱塩水）の抵抗率を測定した。結果を図１０に示す。
図８及び図１０から明らかなように、実施例２によれば、脱塩室への流量を６０％に減少させると処理水の抵抗率が増加し水質が向上し、再度流量を増加させてもほとんど水質の低下が起こっていないことがわかる。これに対し、比較例２では、脱塩室への流量を低下させることにより、処理水の抵抗率が増加することはないばかりか、流量減少直後には一時的に、抵抗率が減少し、水質低下が発生することがわかる。
これは、比較例２においては、脱塩室流量が減少すると、脱塩室の吸着帯が短縮する。そうすると、脱塩室のイオン交換樹脂に吸着していたイオンは濃縮室に移動する。そのため、濃縮室のイオン濃度が増加する。これにより、濃縮室から脱塩室へのイオンの逆拡散が増加し、処理水の抵抗率が減少する。これに対し、実施例２では処理水カウンターフローとしているので、処理水を濃縮室に通水することにより、濃縮室下部のイオン濃度が低く保たれるため、比較例２のような現象が起こらなかったと考えられる。
１ 超純水製造システム
２ 前処理装置
３ 一次純水製造装置（純水製造装置）
４ サブシステム
５ 逆浸透膜装置
６ 紫外線酸化装置
７ 給水ポンプ
８ 電気脱イオン装置
１０ サブタンク
１１ 供給ポンプ
１２ 紫外線酸化装置
１３ 非再生型混床式イオン交換装置
１４ 限外ろ過膜（ＵＦ膜）
１５ ユースポイント
２１ 陽極（電極）
２２ 陰極（電極）
２３ アニオン交換膜
２４ カチオン交換膜
２５ 脱塩室
２６ 濃縮室
２７ 陽極室
２８ 陰極室
Ｗ 原水
Ｗ１ 前処理水
Ｗ２ 一次純水（純水）
Ｗ３ 超純水
Ｗ４ 被処理水
Ｗ５ 脱塩水
Ｗ６ 濃縮水
Ｗ７ 陽極排出水
Ｗ８ 陰極排出水
２ 前処理装置
３ 一次純水製造装置（純水製造装置）
４ サブシステム
５ 逆浸透膜装置
６ 紫外線酸化装置
７ 給水ポンプ
８ 電気脱イオン装置
１０ サブタンク
１１ 供給ポンプ
１２ 紫外線酸化装置
１３ 非再生型混床式イオン交換装置
１４ 限外ろ過膜（ＵＦ膜）
１５ ユースポイント
２１ 陽極（電極）
２２ 陰極（電極）
２３ アニオン交換膜
２４ カチオン交換膜
２５ 脱塩室
２６ 濃縮室
２７ 陽極室
２８ 陰極室
Ｗ 原水
Ｗ１ 前処理水
Ｗ２ 一次純水（純水）
Ｗ３ 超純水
Ｗ４ 被処理水
Ｗ５ 脱塩水
Ｗ６ 濃縮水
Ｗ７ 陽極排出水
Ｗ８ 陰極排出水
Claims (6)
- 逆浸透膜装置と電気脱イオン装置とをこの順に備え、前記電気脱イオン装置の脱塩室にこの逆浸透膜装置の処理水を通水するとともに該脱塩室を通過した処理水の一部を前記脱塩室と逆方向に濃縮室に通水する純水製造装置であって、
前記逆浸透膜装置の処理水の導電率又は比抵抗値を測定する計測手段と、前記計測手段の測定値に基づいて前記電気脱イオン装置の脱塩室に供給する水量を制御する制御手段とを有し、
前記制御手段は、前記計測手段の測定値に基づく逆浸透膜装置の処理水の導電率が０．３ｍＳ／ｍ未満の場合の前記脱塩室への流量を１００％とした場合に、該逆浸透膜装置の処理水の導電率が０．３ｍＳ／ｍ以上となったら該脱塩室流量を５０～１００％未満に減少させるように制御する、純水製造装置。 - 前記逆浸透膜装置と前記電気脱イオン装置との間に紫外線酸化装置を有する、請求項１に記載の純水製造装置。
- 前記電気脱イオン装置が、前記脱塩室を通過した処理水の一部を該電気脱イオン装置の電極室に通水する、請求項１又は２に記載の純水製造装置。
- 逆浸透膜装置と電気脱イオン装置とをこの順に備え、前記逆浸透膜装置にｐＨ８．５以上の給水を供給し、前記電気脱イオン装置の脱塩室にこの逆浸透膜装置の処理水を通水するとともに該脱塩室を通過した処理水の一部を前記脱塩室と逆方向に濃縮室に通水する純水製造装置の運転方法であって、
前記逆浸透膜装置の処理水の導電率が０．３ｍＳ／ｍ未満の場合の前記脱塩室への流量を１００％とした場合に、前記逆浸透膜装置の処理水の導電率が０．３ｍＳ／ｍ以上となったら該脱塩室流量を５０～１００％未満に減少させるように制御する、純水製造装置の運転方法。 - 前記純水製造装置が、前記逆浸透膜装置と前記電気脱イオン装置との間に紫外線酸化装置を有する、請求項４に記載の純水製造装置の運転方法。
- 前記電気脱イオン装置の前記脱塩室を通過した処理水の一部を該電気脱イオン装置の電極室に通水する、請求項４又は５に記載の純水製造装置の運転方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022014798A JP7347556B2 (ja) | 2022-02-02 | 2022-02-02 | 純水製造装置及び純水製造装置の運転方法 |
| PCT/JP2023/003010 WO2023149415A1 (ja) | 2022-02-02 | 2023-01-31 | 純水製造装置及び純水製造装置の運転方法 |
| TW112103383A TW202335972A (zh) | 2022-02-02 | 2023-02-01 | 純水製造裝置及純水製造裝置的運轉方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022014798A JP7347556B2 (ja) | 2022-02-02 | 2022-02-02 | 純水製造装置及び純水製造装置の運転方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023112836A JP2023112836A (ja) | 2023-08-15 |
| JP7347556B2 true JP7347556B2 (ja) | 2023-09-20 |
Family
ID=87552410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022014798A Active JP7347556B2 (ja) | 2022-02-02 | 2022-02-02 | 純水製造装置及び純水製造装置の運転方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7347556B2 (ja) |
| TW (1) | TW202335972A (ja) |
| WO (1) | WO2023149415A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7477009B1 (ja) | 2023-03-30 | 2024-05-01 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置の運転方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001286738A (ja) | 2000-04-05 | 2001-10-16 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置 |
| JP2003001258A (ja) | 2001-06-15 | 2003-01-07 | Kurita Water Ind Ltd | 電気脱イオン装置 |
| JP2013188684A (ja) | 2012-03-13 | 2013-09-26 | Miura Co Ltd | 水処理システム |
| JP2019177328A (ja) | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置の運転方法 |
| JP2021102206A (ja) | 2019-12-25 | 2021-07-15 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置の制御方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3644759B2 (ja) * | 1995-05-10 | 2005-05-11 | 日本錬水株式会社 | 電気再生式純水製造方法及び純水製造装置 |
-
2022
- 2022-02-02 JP JP2022014798A patent/JP7347556B2/ja active Active
-
2023
- 2023-01-31 WO PCT/JP2023/003010 patent/WO2023149415A1/ja unknown
- 2023-02-01 TW TW112103383A patent/TW202335972A/zh unknown
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001286738A (ja) | 2000-04-05 | 2001-10-16 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置 |
| JP2003001258A (ja) | 2001-06-15 | 2003-01-07 | Kurita Water Ind Ltd | 電気脱イオン装置 |
| JP2013188684A (ja) | 2012-03-13 | 2013-09-26 | Miura Co Ltd | 水処理システム |
| JP2019177328A (ja) | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置の運転方法 |
| JP2021102206A (ja) | 2019-12-25 | 2021-07-15 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置の制御方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2023112836A (ja) | 2023-08-15 |
| TW202335972A (zh) | 2023-09-16 |
| WO2023149415A1 (ja) | 2023-08-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102602540B1 (ko) | 초순수 제조 장치 및 초순수 제조 장치의 운전 방법 | |
| KR20100053571A (ko) | 순수 제조장치 및 순수 제조방법 | |
| WO2023149415A1 (ja) | 純水製造装置及び純水製造装置の運転方法 | |
| US20230331586A1 (en) | Control method for ultrapure water producing apparatus | |
| JP4439674B2 (ja) | 脱イオン水製造装置 | |
| JP3952127B2 (ja) | 電気脱イオン化処理方法 | |
| TW202140384A (zh) | 純水製造方法、純水製造系統、超純水製造方法及超純水製造系統 | |
| JP7183208B2 (ja) | 超純水製造装置及び超純水製造方法 | |
| JP7192519B2 (ja) | ホウ素超高純度除去型超純水製造装置及びホウ素超高純度除去超純水の製造方法 | |
| JP7205576B1 (ja) | 純水製造システムの運転方法 | |
| JP2007063617A (ja) | 硫酸イオンを含むメッキ液の再生装置及び硫酸イオン除去方法 | |
| JP7477009B1 (ja) | 電気脱イオン装置の運転方法 | |
| KR20230160780A (ko) | 전기 탈이온 장치의 제어 방법 | |
| JP7460729B1 (ja) | 純水製造方法、純水製造装置及び超純水製造システム | |
| WO2024090356A1 (ja) | 純水製造方法、純水製造装置及び超純水製造システム | |
| WO2024075731A1 (ja) | ホウ素除去された純水の製造方法、純水製造装置、超純水製造システム | |
| TW202239463A (zh) | 電去離子系統及電去離子系統的控制方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230131 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230328 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230509 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230808 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230821 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7347556 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |