JP7343700B2 - 光学表面上の欠陥を軽減する方法およびその方法によって形成されたミラー - Google Patents
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Description
ミラー表面が、スピンコーティング前に、1nm未満、または0.45nm未満の高空間周波数の表面粗さHSFRを有し得る。
スピンコーティングするステップは、a)湾曲した表面に対するスピンコーティング回転軸の近傍で湾曲したミラー表面上に材料を堆積させること、b)光学要素の湾曲した表面を回転軸を中心に回転させて、ガラス状材料が半径方向外側に流れて湾曲したミラー表面を覆って薄膜を形成すること、を含み得る。例えば、回転させることは、光学要素を毎分1000回転と5000回転との間で回転させることを含み得る。例えば、薄膜は、厚さが50nmと500nmとの間、またはより狭くは100nmと400nmとの間であり得る。スピンコーティングするステップは、材料の堆積後に湾曲した表面を回転させて、薄膜が形成される際の余分な材料を振り落としかつ蒸発させることをさらに含み得る。スピンコーティングするステップは、湾曲したミラー表面を加熱して、材料の溶媒を蒸発させることをさらに含み得る。
硬化後、欠陥の数は、湾曲したミラー表面の使用可能領域にわたって、1平方ミリメートル当たり1個未満に低減され得る。
ミラー表面が、スピンコーティング前に、1nm未満、または0.45nm未満の高空間周波数の表面粗さHSFRを有し得る。
スピンコーティングすることは、a)湾曲した表面に対するスピンコーティング回転軸の近傍で湾曲したミラー表面上に材料を堆積させること、b)光学要素の湾曲した表面を回転軸を中心に回転させて、ガラス状材料が半径方向外側に流れて湾曲したミラー表面を覆って薄膜を形成すること、を含み得る。例えば、回転させることは、光学要素を毎分1000回転と5000回転との間で回転させることを含み得る。例えば、薄膜は、厚さが50nmと500nmとの間、またはより狭くは100nmと400nmとの間であり得る。スピンコーティングすることは、材料の堆積後に湾曲した表面を回転させて、薄膜が形成される際の余分な材料を振り落としかつ蒸発させることをさらに含み得る。スピンコーティングすることは、湾曲したミラー表面を加熱して、材料の溶媒を蒸発させることをさらに含み得る。
硬化後、欠陥の数は、湾曲したミラー表面の使用可能領域にわたって、1平方ミリメートル当たり1個未満に低減され得る。
本発明の1つまたは複数の実施形態の詳細は、添付の図面および以下の詳細な説明に記載されている。本発明の他の特徴、目的、および利点は、詳細な説明および図面、ならびに特許請求の範囲から明らかとなる。
図1は、極端紫外線(EUV)放射またはX線放射に使用するための湾曲した反射要素(即ち、湾曲したミラー)を製造するための実施形態を説明するフローチャートである。
範囲
本明細書および添付の特許請求の範囲において使用されているように、単数形「a」、「an」および「the」は、「単一」という用語が使用されている場合等、文脈が明確に指示しない限り、複数の指示対象を含むことに留意されたい。
Claims (26)
- 極端紫外線(EUV)またはX線放射とともに使用するためのミラーを製造する方法であって、
a.湾曲したミラー表面を有する光学要素を準備するステップと、前記湾曲したミラー表面は、前記湾曲したミラー表面の性能を低下させる局所的な欠陥を含んでおり、
b.少なくともいくつかの欠陥を覆うために、前記湾曲したミラー表面を材料でスピンコーティングするステップと、
c.欠陥の数を低減して、前記湾曲したミラー表面の性能を向上させるために、前記湾曲したミラー表面上にスピンコーティングされた前記材料を硬化させるステップと、を含み、
前記ミラー表面が、スピンコーティング前に1nm未満の高空間周波数の表面粗さHSFRを有する、方法。 - 前記ミラー表面が、スピンコーティング前に0.45nm未満の高空間周波数の表面粗さHSFRを有する、請求項1に記載の方法。
- スピンコーティング前の前記ミラー表面上の欠陥の数を決定するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- スピンコーティング後の前記ミラー表面上の欠陥の数を決定するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- スピンコーティングの前後の前記ミラー表面上の欠陥の数を決定するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記決定するステップが、1mm2を超える領域にわたって光学顕微鏡を使用して前記ミラー表面を検査することを含む、請求項5に記載の方法。
- 前記光学顕微鏡が共焦点顕微鏡である、請求項6に記載の方法。
- 欠陥が、500nm未満の少なくとも1つの横方向寸法を有する傷、凹み、および掘り込みのいずれかを含む、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記光学要素が、シリコン、溶融シリカ、石英シリコン、チタンドープシリカ、ガラスセラミック、および研磨可能なセラミックのいずれかで製造された基板を含む、請求項1に記載の方法。
- EUV放射またはX線放射のための反射ミラー表面を提供するために、硬化したスピンコーティングされた前記ミラー表面を複数の光学層でコーティングするステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 複数の層がモリブデンおよびシリコンの層を含む、請求項10に記載の方法。
- 前記ミラーは、1nmと20nmとの間の波長範囲で使用するためのものである、請求項1に記載の方法。
- 前記湾曲したミラー表面は非球面ミラー表面である、請求項1に記載の方法。
- 前記スピンコーティングするステップは、
a.前記湾曲した表面に対するスピンコーティング回転軸の近傍で前記湾曲したミラー表面上に材料を堆積させること、
b.前記光学要素の前記湾曲した表面を回転軸を中心に回転させて、ガラス状材料が半径方向外側に流れて前記湾曲したミラー表面を覆って薄膜を形成するようにすること、を含む、請求項1に記載の方法。 - 回転させることは、前記光学要素を毎分1000回転と5000回転との間で回転させることを含む、請求項14に記載の方法。
- 前記薄膜は、厚さが50nmと500nmとの間である、請求項14に記載の方法。
- 前記薄膜は、厚さが100nmと400nmとの間である、請求項14に記載の方法。
- 前記スピンコーティングするステップは、材料の堆積後に湾曲した表面を回転させて、前記薄膜が形成される際の余分な材料を振り落としかつ蒸発させることをさらに含む、請求項14に記載の方法。
- 前記スピンコーティングするステップは、前記湾曲したミラー表面を加熱して、前記材料の溶媒を蒸発させることをさらに含む、請求項18に記載の方法。
- 前記硬化させるステップが、オゾン放射およびUV放射のうちの少なくとも1つの存在下で、炉内でスピンコーティングされた基板を加熱することを含む、請求項14に記載の方法。
- 前記炉が摂氏100度と摂氏600度との間の温度に加熱される、請求項20に記載の方法。
- 前記材料がガラス状材料である、請求項1に記載の方法。
- ガラス状材料が水素シルセスキオキサンまたはメチルシロキサンからなる、請求項1に記載の方法。
- 欠陥の数は、前記湾曲したミラー表面の使用可能領域にわたって、1平方ミリメートル当たり欠陥が1個未満に減少する、請求項1に記載の方法。
- 極端紫外線放射またはX線放射で使用するためのミラーであって、
a.湾曲したミラー表面を有する光学要素と、当該湾曲したミラー表面は、当該湾曲したミラー表面の性能を低下させる局所的な欠陥を含んでおり、
b.前記湾曲したミラー表面上に形成された薄膜であって、
i.少なくともいくつかの欠陥を覆うために、前記湾曲したミラー表面を材料でスピンコーティングすること、および
ii.欠陥の数を低減して、前記湾曲したミラー表面の性能を向上させるために、前記湾曲したミラー表面上にスピンコーティングされた前記材料を硬化させることによって形成された前記薄膜と、を備え、
前記ミラー表面が、スピンコーティング前に1nm未満の高空間周波数の表面粗さHSFRを有する、ミラー。 - 前記横方向寸法は、500nmより小さく、かつ拡散散乱を引き起こす高空間周波数の表面粗さHSFRのサイズスケールより大きい、請求項8に記載の方法。
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