JP7341074B2 - 交互共重合体、交互共重合体の製造方法、高分子化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、交互共重合体、交互共重合体の製造方法、及び高分子化合物の製造方法に関する。
リソグラフィー技術においては、例えば基板の上にレジスト材料からなるレジスト膜を形成し、該レジスト膜に対して選択的露光を行い、現像処理を施すことにより、前記レジスト膜に所定形状のレジストパターンを形成する工程が行われる。レジスト膜の露光部が現像液に溶解する特性に変化するレジスト材料をポジ型、レジスト膜の露光部が現像液に溶解しない特性に変化するレジスト材料をネガ型という。
近年、半導体素子や液晶表示素子の製造においては、リソグラフィー技術の進歩により急速にパターンの微細化が進んでいる。微細化の手法としては、一般に、露光光源の短波長化（高エネルギー化）が行われている。具体的には、従来は、ｇ線、ｉ線に代表される紫外線が用いられていたが、現在では、ＫｒＦエキシマレーザーや、ＡｒＦエキシマレーザーを用いた半導体素子の量産が行われている。また、これらのエキシマレーザーより短波長（高エネルギー）のＥＵＶ（極紫外線）や、ＥＢ（電子線）、Ｘ線などについても検討が行われている。
近年、半導体素子や液晶表示素子の製造においては、リソグラフィー技術の進歩により急速にパターンの微細化が進んでいる。微細化の手法としては、一般に、露光光源の短波長化（高エネルギー化）が行われている。具体的には、従来は、ｇ線、ｉ線に代表される紫外線が用いられていたが、現在では、ＫｒＦエキシマレーザーや、ＡｒＦエキシマレーザーを用いた半導体素子の量産が行われている。また、これらのエキシマレーザーより短波長（高エネルギー）のＥＵＶ（極紫外線）や、ＥＢ（電子線）、Ｘ線などについても検討が行われている。
レジスト材料には、これらの露光光源に対する感度、微細な寸法のパターンを再現できる解像性等のリソグラフィー特性が求められる。
このような要求を満たすレジスト材料として、従来、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、露光により酸を発生する酸発生剤成分と、を含有する化学増幅型レジスト組成物が用いられている。
例えば上記現像液がアルカリ現像液（アルカリ現像プロセス）の場合、ポジ型の化学増幅型レジスト組成物としては、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（ベース樹脂）と酸発生剤成分とを含有するものが一般的に用いられている。かかるレジスト組成物を用いて形成されるレジスト膜は、レジストパターン形成時に選択的露光を行うと、露光部において、酸発生剤成分から酸が発生し、該酸の作用によりベース樹脂の極性が増大して、レジスト膜の露光部がアルカリ現像液に対して可溶となる。そのためアルカリ現像することにより、レジスト膜の未露光部がパターンとして残るポジ型パターンが形成される。
一方で、このような化学増幅型レジスト組成物を、有機溶剤を含む現像液（有機系現像液）を用いた溶剤現像プロセスに適用した場合、ベース樹脂の極性が増大すると相対的に有機系現像液に対する溶解性が低下するため、レジスト膜の未露光部が有機系現像液により溶解、除去されて、レジスト膜の露光部がパターンとして残るネガ型のレジストパターンが形成される。このようにネガ型のレジストパターンを形成する溶剤現像プロセスをネガ型現像プロセスということがある。
このような要求を満たすレジスト材料として、従来、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、露光により酸を発生する酸発生剤成分と、を含有する化学増幅型レジスト組成物が用いられている。
例えば上記現像液がアルカリ現像液（アルカリ現像プロセス）の場合、ポジ型の化学増幅型レジスト組成物としては、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（ベース樹脂）と酸発生剤成分とを含有するものが一般的に用いられている。かかるレジスト組成物を用いて形成されるレジスト膜は、レジストパターン形成時に選択的露光を行うと、露光部において、酸発生剤成分から酸が発生し、該酸の作用によりベース樹脂の極性が増大して、レジスト膜の露光部がアルカリ現像液に対して可溶となる。そのためアルカリ現像することにより、レジスト膜の未露光部がパターンとして残るポジ型パターンが形成される。
一方で、このような化学増幅型レジスト組成物を、有機溶剤を含む現像液（有機系現像液）を用いた溶剤現像プロセスに適用した場合、ベース樹脂の極性が増大すると相対的に有機系現像液に対する溶解性が低下するため、レジスト膜の未露光部が有機系現像液により溶解、除去されて、レジスト膜の露光部がパターンとして残るネガ型のレジストパターンが形成される。このようにネガ型のレジストパターンを形成する溶剤現像プロセスをネガ型現像プロセスということがある。
化学増幅型レジスト組成物において使用されるベース樹脂は、一般的に、リソグラフィー特性等の向上のために、複数の構成単位を有している。
例えば、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分の場合、酸発生剤等から発生した酸の作用により分解して極性が増大する酸分解性基を含む構成単位が用いられ、その他、ラクトン含有環式基を含む構成単位、水酸基等の極性基を含む構成単位等が併用されている。
例えば、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分の場合、酸発生剤等から発生した酸の作用により分解して極性が増大する酸分解性基を含む構成単位が用いられ、その他、ラクトン含有環式基を含む構成単位、水酸基等の極性基を含む構成単位等が併用されている。
化学増幅型レジスト組成物において使用される酸発生剤成分としては、これまで多種多様なものが提案されている。例えば、ヨードニウム塩やスルホニウム塩などのオニウム塩系酸発生剤、オキシムスルホネート系酸発生剤、ジアゾメタン系酸発生剤、ニトロベンジルスルホネート系酸発生剤、イミノスルホネート系酸発生剤、ジスルホン系酸発生剤などが知られている。
オニウム塩系酸発生剤としては、主に、カチオン部にトリフェニルスルホニウム等のオニウムイオンを有するものが用いられている。オニウム塩系酸発生剤のアニオン部には、一般的に、アルキルスルホン酸イオンやそのアルキル基の水素原子の一部または全部がフッ素原子で置換されたフッ素化アルキルスルホン酸イオンが用いられている。
オニウム塩系酸発生剤としては、主に、カチオン部にトリフェニルスルホニウム等のオニウムイオンを有するものが用いられている。オニウム塩系酸発生剤のアニオン部には、一般的に、アルキルスルホン酸イオンやそのアルキル基の水素原子の一部または全部がフッ素原子で置換されたフッ素化アルキルスルホン酸イオンが用いられている。
レジストパターンの形成においては、露光により酸発生剤成分から発生する酸の挙動が、リソグラフィー特性に大きな影響を与える一要素とされる。
特にＥＵＶ（極紫外線）又はＥＢ（電子線）を露光する際、レジスト材料においては、酸拡散制御性が問題となる。酸拡散を制御するため、従来、高分子化合物の設計を種々変更する方法が提案されている。
例えば、特定の酸解離性官能基を有する高分子化合物を採用し、酸に対する反応性を向上させて、現像液に対する溶解性の向上が図られた、レジスト組成物等が開示されている（例えば、特許文献１、２参照）。
特にＥＵＶ（極紫外線）又はＥＢ（電子線）を露光する際、レジスト材料においては、酸拡散制御性が問題となる。酸拡散を制御するため、従来、高分子化合物の設計を種々変更する方法が提案されている。
例えば、特定の酸解離性官能基を有する高分子化合物を採用し、酸に対する反応性を向上させて、現像液に対する溶解性の向上が図られた、レジスト組成物等が開示されている（例えば、特許文献１、２参照）。
リソグラフィー技術のさらなる進歩、レジストパターンの微細化がますます進むなか、例えば、ＥＵＶやＥＢによるリソグラフィーでは、数十ｎｍの微細なパターン形成が目標とされる。このようにレジストパターン寸法が小さくなるほど、レジスト組成物には、露光光源に対して高い感度、及び、ラフネス低減等の良好なリソグラフィー特性が要求される。
しかしながら、上述したような従来のレジスト組成物においては、ＥＵＶ等の露光光源に対して高感度化を図ると、所望のレジストパターン形状等が得られにくくなり、これらの特性をいずれも満足させることが困難であった。
しかしながら、上述したような従来のレジスト組成物においては、ＥＵＶ等の露光光源に対して高感度化を図ると、所望のレジストパターン形状等が得られにくくなり、これらの特性をいずれも満足させることが困難であった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、レジスト組成物用の基材成分として用いられる高分子化合物を製造するのに有用な交互共重合体を提供すること、を課題とする。
レジストパターンの形成において、特にＥＵＶ又はＥＢをレジスト膜に露光する際、ヒドロキシスチレン骨格を含む構成単位と、酸の作用により分解して極性が増大する酸分解性基を含む構成単位と、を有する高分子化合物が有用である。
しかし、本発明者らは検討により、ＥＵＶ又はＥＢを露光光源としてレジストパターンを形成する際、従来の重合方法を用いてモノマーを交互共重合させて得られた前記高分子化合物、を含有するレジスト組成物を用いた場合に、リソグラフィー特性に悪影響が出やすい問題があることを確認した。
これに対し、ヒドロキシスチレン骨格が酸成分で脱保護可能な保護基で保護された構成単位と特定のイミド構造を有する構成単位とを共重合した後に、加水分解することにより、それぞれの保護基を脱保護することで得られた高分子化合物を採用することによって、リソグラフィー特性の改善が図れることを見出し、本発明を完成するに至った。
しかし、本発明者らは検討により、ＥＵＶ又はＥＢを露光光源としてレジストパターンを形成する際、従来の重合方法を用いてモノマーを交互共重合させて得られた前記高分子化合物、を含有するレジスト組成物を用いた場合に、リソグラフィー特性に悪影響が出やすい問題があることを確認した。
これに対し、ヒドロキシスチレン骨格が酸成分で脱保護可能な保護基で保護された構成単位と特定のイミド構造を有する構成単位とを共重合した後に、加水分解することにより、それぞれの保護基を脱保護することで得られた高分子化合物を採用することによって、リソグラフィー特性の改善が図れることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の第１の態様は、下記一般式（ａ０－１）で表される構成単位（ａ０－１）と、下記一般式（ａ０－２）で表される構成単位（ａ０－２）と、を有することを特徴とする交互共重合体である。
本発明の第２の態様は、下記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、下記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程を含む、交互共重合体の製造方法である。
本発明の第３の態様は、下記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、下記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程と、前記交互共重合体を加水分解して、下記一般式（Ｐｒｅ－１ａ）で表される第１の高分子化合物前駆体を得る工程と、前記第１の高分子化合物前駆体と、下記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（Ｐｒｅ－１ｂ－１）で表される第２の高分子化合物前駆体を得る工程と、前記第２の高分子化合物前駆体を加水分解して、下記一般式（ｐ１）で表される高分子化合物を得る工程と、を含む、高分子化合物の製造方法である。
本発明の第４の態様は、下記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、下記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程と、前記交互共重合体を加水分解して、下記一般式（Ｐｒｅ－２ａ）で表される高分子化合物前駆体を得る工程と、前記高分子化合物前駆体と、下記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（ｐ１）で表される高分子化合物を得る工程と、を含む、高分子化合物の製造方法である。
本発明の第５の態様は、下記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、下記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程と、前記交互共重合体を加水分解して、下記一般式（Ｐｒｅ－１ａ）で表される第１の高分子化合物前駆体を得る工程と、前記第１の高分子化合物前駆体と、下記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（Ｐｒｅ－１ｂ－２）で表される第２の高分子化合物前駆体を得る工程と、前記第２の高分子化合物前駆体を加水分解して、下記一般式（ｐ２）で表される高分子化合物を得る工程と、を含む、高分子化合物の製造方法である。
本発明の第６の態様は、下記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、下記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程と、前記交互共重合体を加水分解して、下記一般式（Ｐｒｅ－２ａ）で表される高分子化合物前駆体を得る工程と、前記高分子化合物前駆体と、下記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（ｐ２）で表される高分子化合物を得る工程と、を含む、高分子化合物の製造方法である。
本発明によれば、レジスト組成物用の基材成分として用いられる高分子化合物を製造するのに有用な交互共重合体を提供することができる。
本明細書及び本特許請求の範囲において、「脂肪族」とは、芳香族に対する相対的な概念であって、芳香族性を持たない基、化合物等を意味するものと定義する。
「アルキル基」は、特に断りがない限り、直鎖状、分岐鎖状及び環状の１価の飽和炭化水素基を包含するものとする。アルコキシ基中のアルキル基も同様である。
「アルキレン基」は、特に断りがない限り、直鎖状、分岐鎖状及び環状の２価の飽和炭化水素基を包含するものとする。
「ハロゲン化アルキル基」は、アルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基であり、該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
「フッ素化アルキル基」又は「フッ素化アルキレン基」は、アルキル基又はアルキレン基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された基をいう。
「構成単位」とは、高分子化合物（樹脂、重合体、共重合体）を構成するモノマー単位（単量体単位）を意味する。
「置換基を有していてもよい」又は「置換基を有してもよい」と記載する場合、水素原子（－Ｈ）を１価の基で置換する場合と、メチレン基（－ＣＨ２－）を２価の基で置換する場合との両方を含む。
「露光」は、放射線の照射全般を含む概念とする。
「アルキル基」は、特に断りがない限り、直鎖状、分岐鎖状及び環状の１価の飽和炭化水素基を包含するものとする。アルコキシ基中のアルキル基も同様である。
「アルキレン基」は、特に断りがない限り、直鎖状、分岐鎖状及び環状の２価の飽和炭化水素基を包含するものとする。
「ハロゲン化アルキル基」は、アルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基であり、該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
「フッ素化アルキル基」又は「フッ素化アルキレン基」は、アルキル基又はアルキレン基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された基をいう。
「構成単位」とは、高分子化合物（樹脂、重合体、共重合体）を構成するモノマー単位（単量体単位）を意味する。
「置換基を有していてもよい」又は「置換基を有してもよい」と記載する場合、水素原子（－Ｈ）を１価の基で置換する場合と、メチレン基（－ＣＨ２－）を２価の基で置換する場合との両方を含む。
「露光」は、放射線の照射全般を含む概念とする。
本明細書及び本特許請求の範囲において、化学式で表される構造によっては、不斉炭素が存在し、エナンチオ異性体（ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒ）やジアステレオ異性体（ｄｉａｓｔｅｒｅｏｍｅｒ）が存在し得るものがある。その場合は一つの化学式でそれら異性体を代表して表す。それらの異性体は単独で用いてもよいし、混合物として用いてもよい。
（交互共重合体）
本発明の第１の態様に係る交互共重合体は、上記一般式（ａ０－１）で表される構成単位（ａ０－１）と、上記一般式（ａ０－２）で表される構成単位（ａ０－２）と、を有することを特徴とする交互共重合体である。
本発明の第１の態様に係る交互共重合体は、上記一般式（ａ０－１）で表される構成単位（ａ０－１）と、上記一般式（ａ０－２）で表される構成単位（ａ０－２）と、を有することを特徴とする交互共重合体である。
＜構成単位（ａ０－１）＞
構成単位（ａ０－１）は、下記一般式（ａ０－１）で表される構成単位である。
構成単位（ａ０－１）は、下記一般式（ａ０－１）で表される構成単位である。
上記式（ａ０－１）中、Ｒｐ０１は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のハロゲン化アルキル基である。
Ｒｐ０１の炭素数１～５のアルキル基としては、炭素数１～５の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。
Ｒｐ０１の炭素数１～５のハロゲン化アルキル基は、前記炭素数１～５のアルキル基の水素原子の一部または全部がハロゲン原子で置換された基である。該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、特にフッ素原子が好ましい。
Ｒｐ０１としては、水素原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のフッ素化アルキル基が好ましく、工業上の入手の容易さから、水素原子又はメチル基が最も好ましい。
Ｒｐ０１の炭素数１～５のアルキル基としては、炭素数１～５の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。
Ｒｐ０１の炭素数１～５のハロゲン化アルキル基は、前記炭素数１～５のアルキル基の水素原子の一部または全部がハロゲン原子で置換された基である。該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、特にフッ素原子が好ましい。
Ｒｐ０１としては、水素原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のフッ素化アルキル基が好ましく、工業上の入手の容易さから、水素原子又はメチル基が最も好ましい。
上記式（ａ０－１）中、Ｖｐ０１は、単結合又は２価の連結基である。
Ｖｐ０１における２価の連結基としては、例えば、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基が好適なものとして挙げられる。
Ｖｐ０１における２価の連結基としては、例えば、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基が好適なものとして挙げられる。
・置換基を有していてもよい２価の炭化水素基：
Ｖｐ０１が置換基を有していてもよい２価の炭化水素基である場合、該炭化水素基は、脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。
Ｖｐ０１が置換基を有していてもよい２価の炭化水素基である場合、該炭化水素基は、脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。
・・Ｖｐ０１における脂肪族炭化水素基
該脂肪族炭化水素基は、芳香族性を持たない炭化水素基を意味する。該脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく不飽和であってもよく、通常は飽和であることが好ましい。
前記脂肪族炭化水素基としては、直鎖状若しくは分岐鎖状の脂肪族炭化水素基、又は構造中に環を含む脂肪族炭化水素基等が挙げられる。
該脂肪族炭化水素基は、芳香族性を持たない炭化水素基を意味する。該脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく不飽和であってもよく、通常は飽和であることが好ましい。
前記脂肪族炭化水素基としては、直鎖状若しくは分岐鎖状の脂肪族炭化水素基、又は構造中に環を含む脂肪族炭化水素基等が挙げられる。
・・・直鎖状若しくは分岐鎖状の脂肪族炭化水素基
該直鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が１～１０であることが好ましく、炭素数１～６がより好ましく、炭素数１～４がさらに好ましく、炭素数１～３が最も好ましい。
直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、メチレン基［－ＣＨ２－］、エチレン基［－（ＣＨ２）２－］、トリメチレン基［－（ＣＨ２）３－］、テトラメチレン基［－（ＣＨ２）４－］、ペンタメチレン基［－（ＣＨ２）５－］等が挙げられる。
該分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が２～１０であることが好ましく、炭素数３～６がより好ましく、炭素数３又は４がさらに好ましく、炭素数３が最も好ましい。
分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等が挙げられる。アルキルアルキレン基におけるアルキル基としては、炭素数１～５の直鎖状のアルキル基が好ましい。
該直鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が１～１０であることが好ましく、炭素数１～６がより好ましく、炭素数１～４がさらに好ましく、炭素数１～３が最も好ましい。
直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、メチレン基［－ＣＨ２－］、エチレン基［－（ＣＨ２）２－］、トリメチレン基［－（ＣＨ２）３－］、テトラメチレン基［－（ＣＨ２）４－］、ペンタメチレン基［－（ＣＨ２）５－］等が挙げられる。
該分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が２～１０であることが好ましく、炭素数３～６がより好ましく、炭素数３又は４がさらに好ましく、炭素数３が最も好ましい。
分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等が挙げられる。アルキルアルキレン基におけるアルキル基としては、炭素数１～５の直鎖状のアルキル基が好ましい。
前記の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、置換基を有していてもよく、有していなくてもよい。該置換基としては、フッ素原子、フッ素原子で置換された炭素数１～５のフッ素化アルキル基、カルボニル基等が挙げられる。
・・・構造中に環を含む脂肪族炭化水素基
該構造中に環を含む脂肪族炭化水素基としては、環構造中にヘテロ原子を含む置換基を含んでもよい環状の脂肪族炭化水素基（脂肪族炭化水素環から水素原子２個を除いた基）、前記環状の脂肪族炭化水素基が直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、前記環状の脂肪族炭化水素基が直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基などが挙げられる。前記の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては前記と同様のものが挙げられる。
環状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が３～２０であることが好ましく、炭素数３～１２であることがより好ましい。
環状の脂肪族炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
該構造中に環を含む脂肪族炭化水素基としては、環構造中にヘテロ原子を含む置換基を含んでもよい環状の脂肪族炭化水素基（脂肪族炭化水素環から水素原子２個を除いた基）、前記環状の脂肪族炭化水素基が直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、前記環状の脂肪族炭化水素基が直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基などが挙げられる。前記の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては前記と同様のものが挙げられる。
環状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が３～２０であることが好ましく、炭素数３～１２であることがより好ましい。
環状の脂肪族炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
環状の脂肪族炭化水素基は、置換基を有していてもよいし、有していなくてもよい。該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基等が挙げられる。
前記置換基としてのアルキル基としては、炭素数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基であることが最も好ましい。
前記置換基としてのアルコキシ基としては、炭素数１～５のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉｓｏ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基がより好ましく、メトキシ基、エトキシ基が最も好ましい。
前記置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
前記置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、前記アルキル基の水素原子の一部又は全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
環状の脂肪族炭化水素基は、その環構造を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む置換基で置換されてもよい。該ヘテロ原子を含む置換基としては、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－が好ましい。
前記置換基としてのアルキル基としては、炭素数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基であることが最も好ましい。
前記置換基としてのアルコキシ基としては、炭素数１～５のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉｓｏ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基がより好ましく、メトキシ基、エトキシ基が最も好ましい。
前記置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
前記置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、前記アルキル基の水素原子の一部又は全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
環状の脂肪族炭化水素基は、その環構造を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む置換基で置換されてもよい。該ヘテロ原子を含む置換基としては、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－が好ましい。
・・Ｖｐ０１における芳香族炭化水素基
該芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基である。
この芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の炭素数は５～３０であることが好ましく、炭素数５～２０がより好ましく、炭素数６～１５がさらに好ましく、炭素数６～１２が特に好ましい。ただし、該炭素数には、置換基における炭素数を含まないものとする。芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環又は芳香族複素環から水素原子２つを除いた基（アリーレン基又はヘテロアリーレン基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（例えばビフェニル、フルオレン等）から水素原子２つを除いた基；前記芳香族炭化水素環又は芳香族複素環から水素原子１つを除いた基（アリール基又はヘテロアリール基）の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基におけるアリール基から水素原子をさらに１つ除いた基）等が挙げられる。前記のアリール基又はヘテロアリール基に結合するアルキレン基の炭素数は、１～４であることが好ましく、炭素数１～２であることがより好ましく、炭素数１であることが特に好ましい。
該芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基である。
この芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の炭素数は５～３０であることが好ましく、炭素数５～２０がより好ましく、炭素数６～１５がさらに好ましく、炭素数６～１２が特に好ましい。ただし、該炭素数には、置換基における炭素数を含まないものとする。芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環又は芳香族複素環から水素原子２つを除いた基（アリーレン基又はヘテロアリーレン基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（例えばビフェニル、フルオレン等）から水素原子２つを除いた基；前記芳香族炭化水素環又は芳香族複素環から水素原子１つを除いた基（アリール基又はヘテロアリール基）の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基におけるアリール基から水素原子をさらに１つ除いた基）等が挙げられる。前記のアリール基又はヘテロアリール基に結合するアルキレン基の炭素数は、１～４であることが好ましく、炭素数１～２であることがより好ましく、炭素数１であることが特に好ましい。
前記芳香族炭化水素基は、当該芳香族炭化水素基が有する水素原子が置換基で置換されていてもよい。例えば、当該芳香族炭化水素基中の芳香環に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよい。該置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基等が挙げられる。
前記置換基としてのアルキル基としては、炭素数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基であることが最も好ましい。
前記置換基としてのアルコキシ基、ハロゲン原子及びハロゲン化アルキル基としては、前記環状の脂肪族炭化水素基が有する水素原子を置換する置換基として例示したものが挙げられる。
前記置換基としてのアルキル基としては、炭素数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基であることが最も好ましい。
前記置換基としてのアルコキシ基、ハロゲン原子及びハロゲン化アルキル基としては、前記環状の脂肪族炭化水素基が有する水素原子を置換する置換基として例示したものが挙げられる。
・ヘテロ原子を含む２価の連結基：
Ｖｐ０１がヘテロ原子を含む２価の連結基である場合、該連結基として好ましいものとして、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ（＝ＮＨ）－（Ｈはアルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい。）、－Ｓ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－、一般式－Ｙ２１－Ｏ－Ｙ２２－、－Ｙ２１－Ｏ－、－Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｙ２１－、－［Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ］ｍ”－Ｙ２２－、－Ｙ２１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｙ２２－または－Ｙ２１－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－Ｙ２２－で表される基［式中、Ｙ２１およびＹ２２はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい２価の炭化水素基であり、Ｏは酸素原子であり、ｍ”は０～３の整数である。］等が挙げられる。
前記のへテロ原子を含む２価の連結基が－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ（＝ＮＨ）－の場合、そのＨはアルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい。該置換基（アルキル基、アシル基等）は、炭素数が１～１０であることが好ましく、１～８であることがさらに好ましく、１～５であることが特に好ましい。
一般式－Ｙ２１－Ｏ－Ｙ２２－、－Ｙ２１－Ｏ－、－Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｙ２１－、－［Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ］ｍ”－Ｙ２２－、－Ｙ２１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｙ２２－または－Ｙ２１－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－Ｙ２２－中、Ｙ２１およびＹ２２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基である。該２価の炭化水素基としては、前記２価の連結基としての説明で挙げた（置換基を有していてもよい２価の炭化水素基）と同様のものが挙げられる。
Ｙ２１としては、直鎖状の脂肪族炭化水素基が好ましく、直鎖状のアルキレン基がより好ましく、炭素数１～５の直鎖状のアルキレン基がさらに好ましく、メチレン基又はエチレン基が特に好ましい。
Ｙ２２としては、直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基が好ましく、メチレン基、エチレン基又はアルキルメチレン基がより好ましい。該アルキルメチレン基におけるアルキル基は、炭素数１～５の直鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１～３の直鎖状のアルキル基がより好ましく、メチル基が最も好ましい。
式－［Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ］ｍ”－Ｙ２２－で表される基において、ｍ”は０～３の整数であり、０～２の整数であることが好ましく、０又は１がより好ましく、１が特に好ましい。つまり、式－［Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ］ｍ”－Ｙ２２－で表される基としては、式－Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｙ２２－で表される基が特に好ましい。中でも、式－（ＣＨ２）ａ’－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ２）ｂ’－で表される基が好ましい。該式中、ａ’は、１～１０の整数であり、１～８の整数が好ましく、１～５の整数がより好ましく、１又は２がさらに好ましく、１が最も好ましい。ｂ’は、１～１０の整数であり、１～８の整数が好ましく、１～５の整数がより好ましく、１又は２がさらに好ましく、１が最も好ましい。
Ｖｐ０１がヘテロ原子を含む２価の連結基である場合、該連結基として好ましいものとして、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ（＝ＮＨ）－（Ｈはアルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい。）、－Ｓ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－、一般式－Ｙ２１－Ｏ－Ｙ２２－、－Ｙ２１－Ｏ－、－Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｙ２１－、－［Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ］ｍ”－Ｙ２２－、－Ｙ２１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｙ２２－または－Ｙ２１－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－Ｙ２２－で表される基［式中、Ｙ２１およびＹ２２はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい２価の炭化水素基であり、Ｏは酸素原子であり、ｍ”は０～３の整数である。］等が挙げられる。
前記のへテロ原子を含む２価の連結基が－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ（＝ＮＨ）－の場合、そのＨはアルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい。該置換基（アルキル基、アシル基等）は、炭素数が１～１０であることが好ましく、１～８であることがさらに好ましく、１～５であることが特に好ましい。
一般式－Ｙ２１－Ｏ－Ｙ２２－、－Ｙ２１－Ｏ－、－Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｙ２１－、－［Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ］ｍ”－Ｙ２２－、－Ｙ２１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｙ２２－または－Ｙ２１－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－Ｙ２２－中、Ｙ２１およびＹ２２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基である。該２価の炭化水素基としては、前記２価の連結基としての説明で挙げた（置換基を有していてもよい２価の炭化水素基）と同様のものが挙げられる。
Ｙ２１としては、直鎖状の脂肪族炭化水素基が好ましく、直鎖状のアルキレン基がより好ましく、炭素数１～５の直鎖状のアルキレン基がさらに好ましく、メチレン基又はエチレン基が特に好ましい。
Ｙ２２としては、直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基が好ましく、メチレン基、エチレン基又はアルキルメチレン基がより好ましい。該アルキルメチレン基におけるアルキル基は、炭素数１～５の直鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１～３の直鎖状のアルキル基がより好ましく、メチル基が最も好ましい。
式－［Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ］ｍ”－Ｙ２２－で表される基において、ｍ”は０～３の整数であり、０～２の整数であることが好ましく、０又は１がより好ましく、１が特に好ましい。つまり、式－［Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ］ｍ”－Ｙ２２－で表される基としては、式－Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｙ２２－で表される基が特に好ましい。中でも、式－（ＣＨ２）ａ’－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ２）ｂ’－で表される基が好ましい。該式中、ａ’は、１～１０の整数であり、１～８の整数が好ましく、１～５の整数がより好ましく、１又は２がさらに好ましく、１が最も好ましい。ｂ’は、１～１０の整数であり、１～８の整数が好ましく、１～５の整数がより好ましく、１又は２がさらに好ましく、１が最も好ましい。
上記式（ａ０－１）中、Ｖｐ０１は、上記の中でも、単結合、エステル結合［－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－］、エーテル結合（－Ｏ－）、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又はこれらの組合せであることが好ましく、単結合がより好ましい。
上記式（ａ０－１）中、Ｒｐ０２及びＲｐ０３は、それぞれ独立に置換基を有してもよい炭化水素基である。Ｒｐ０２及びＲｐ０３における炭化水素基としてはそれぞれ、脂肪族炭化水素基でもよいし芳香族炭化水素基でもよく、環状の炭化水素基でもよいし鎖状の炭化水素基でもよい。
置換基を有してもよい環式基：
該環式基は、環状の炭化水素基であることが好ましく、該環状の炭化水素基は、芳香族炭化水素基であってもよく、脂肪族炭化水素基であってもよい。脂肪族炭化水素基は、芳香族性を持たない炭化水素基を意味する。また、脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく、不飽和であってもよく、通常は飽和であることが好ましい。また、Ｒｐ０２及びＲｐ０３における環状の炭化水素基は、複素環等のようにヘテロ原子を含んでもよい。
該環式基は、環状の炭化水素基であることが好ましく、該環状の炭化水素基は、芳香族炭化水素基であってもよく、脂肪族炭化水素基であってもよい。脂肪族炭化水素基は、芳香族性を持たない炭化水素基を意味する。また、脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく、不飽和であってもよく、通常は飽和であることが好ましい。また、Ｒｐ０２及びＲｐ０３における環状の炭化水素基は、複素環等のようにヘテロ原子を含んでもよい。
Ｒｐ０２及びＲｐ０３における芳香族炭化水素基は、芳香環を有する炭化水素基である。
Ｒｐ０２及びＲｐ０３における芳香族炭化水素基が有する芳香環として具体的には、ベンゼン、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ビフェニル、又はこれらの芳香環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環などが挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
Ｒｐ０２及びＲｐ０３における芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香環から水素原子を１つ除いた基（アリール基：たとえば、フェニル基、ナフチル基など）、前記芳香環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（たとえば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など）等が挙げられる。
Ｒｐ０２及びＲｐ０３における芳香族炭化水素基が有する芳香環として具体的には、ベンゼン、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ビフェニル、又はこれらの芳香環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環などが挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
Ｒｐ０２及びＲｐ０３における芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香環から水素原子を１つ除いた基（アリール基：たとえば、フェニル基、ナフチル基など）、前記芳香環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（たとえば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など）等が挙げられる。
Ｒｐ０２及びＲｐ０３における環状の脂肪族炭化水素基は、構造中に環を含む脂肪族炭化水素基が挙げられる。
この構造中に環を含む脂肪族炭化水素基としては、脂環式炭化水素基（脂肪族炭化水素環から水素原子を１個除いた基）、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基などが挙げられる。
前記脂環式炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が挙げられる。具体的には、シクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が挙げられる。具体的には、該ポリシクロアルカンとしては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等の架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカン；ステロイド骨格を有する環式基等の縮合環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカンが挙げられる。
この構造中に環を含む脂肪族炭化水素基としては、脂環式炭化水素基（脂肪族炭化水素環から水素原子を１個除いた基）、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基などが挙げられる。
前記脂環式炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が挙げられる。具体的には、シクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が挙げられる。具体的には、該ポリシクロアルカンとしては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等の架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカン；ステロイド骨格を有する環式基等の縮合環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカンが挙げられる。
Ｒｐ０２及びＲｐ０３の環式基における置換基としては、たとえば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、ニトロ基、カルボニル基等が挙げられる。
置換基を有してもよい鎖状のアルキル基：
Ｒｐ０２及びＲｐ０３の鎖状のアルキル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよい。
直鎖状のアルキル基として、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デカニル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、イソヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基等が挙げられる。
分岐鎖状のアルキル基として、具体的には、１－メチルエチル基、１，１－ジメチルエチル基、１－メチルプロピル基、２－メチルプロピル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、４－メチルペンチル基等が挙げられる。
Ｒｐ０２及びＲｐ０３の鎖状のアルキル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよい。
直鎖状のアルキル基として、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デカニル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、イソヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基等が挙げられる。
分岐鎖状のアルキル基として、具体的には、１－メチルエチル基、１，１－ジメチルエチル基、１－メチルプロピル基、２－メチルプロピル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、４－メチルペンチル基等が挙げられる。
置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基：
Ｒｐ０２及びＲｐ０３の鎖状のアルケニル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよい。
直鎖状のアルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基（アリル基）、ブチニル基などが挙げられる。分岐鎖状のアルケニル基としては、例えば、１－メチルビニル基、２－メチルビニル基、１－メチルプロペニル基、２－メチルプロペニル基等が挙げられる。
Ｒｐ０２及びＲｐ０３の鎖状のアルケニル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよい。
直鎖状のアルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基（アリル基）、ブチニル基などが挙げられる。分岐鎖状のアルケニル基としては、例えば、１－メチルビニル基、２－メチルビニル基、１－メチルプロペニル基、２－メチルプロペニル基等が挙げられる。
Ｒｐ０２及びＲｐ０３の鎖状のアルキル基またはアルケニル基における置換基としては、たとえば、アルコキシ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、ニトロ基、アミノ基、上記環式基等が挙げられる。
上記式（ａ０－１）中、Ｒｐ０２及びＲｐ０３は、相互に結合して環を形成していてもよい。すなわち、Ｒｐ０２及びＲｐ０３は、式中のイミド結合とともに、環状イミドを形成してもよい。該環状イミドは、単環式でも、多環式でもよい。環状イミドが多環式の場合、該多環式基は架橋構造であってもよいし、スピロ環であってもよい。
該多環式の環状イミド構造としては、環状イミドと、芳香族炭化水素基又は環状の脂肪族炭化水素基との縮合環、環状イミドと、環状の脂肪族炭化水素基とのスピロ環等が挙げられる。
環状イミドとして、具体的には、マレイミド、スクシンイミド、グルタルイミド、フタルイミド、シクロヘキサ－３－エン－１，２－ジカルボキシミド、シクロヘキサン－１，２－ジカルボキシミド、ノルボルナン－１，２－ジカルボキシミド、５－ノルボルナン－２，３－ジカルボキシイミド、５－ノルボルネン－２，３－ジカルボキシイミド、ナジイミド等が挙げられる。
また、該環状イミドは、置換基を有していてもよい。
前記置換基としては、炭化水素基が挙げられる。該炭化水素基は、脂肪族炭化水素基でもよいし芳香族炭化水素基でもよく、環状の炭化水素基でもよいし鎖状の炭化水素基でもよい。
該多環式の環状イミド構造としては、環状イミドと、芳香族炭化水素基又は環状の脂肪族炭化水素基との縮合環、環状イミドと、環状の脂肪族炭化水素基とのスピロ環等が挙げられる。
環状イミドとして、具体的には、マレイミド、スクシンイミド、グルタルイミド、フタルイミド、シクロヘキサ－３－エン－１，２－ジカルボキシミド、シクロヘキサン－１，２－ジカルボキシミド、ノルボルナン－１，２－ジカルボキシミド、５－ノルボルナン－２，３－ジカルボキシイミド、５－ノルボルネン－２，３－ジカルボキシイミド、ナジイミド等が挙げられる。
また、該環状イミドは、置換基を有していてもよい。
前記置換基としては、炭化水素基が挙げられる。該炭化水素基は、脂肪族炭化水素基でもよいし芳香族炭化水素基でもよく、環状の炭化水素基でもよいし鎖状の炭化水素基でもよい。
上記式（ａ０－１）中、Ｒｐ０２及びＲｐ０３は、上記の中でも、相互に結合して環を形成していることが好ましい。
Ｒｐ０２及びＲｐ０３が、相互に結合して環を形成する場合の環状イミドの好ましい構造を下記に示す。なお、＊は、上記式（ａ０－１）中のカルボニルオキシ基（－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－）における酸素原子（－Ｏ－）との結合手を示す。
構成単位（ａ０－１）は、下記一般式（ａ０－１１）で表される構成単位であることがより好ましい。
上記式（ａ０－１１）中、Ｒｐ０１及びＶｐ０１は、上述した式（ａ０－１）中で説明した内容と同様である。
上記式（ａ０－１１）中、Ｙｐ０１は、アルキレン基、アルケニレン基又は２価の環式基である。
Ｙｐ０１におけるアルキレン基としては、置換基を有していてもよい炭素数１～８の直鎖状のアルキレン基が挙げられる。その中でも、具体的には、置換基を有してもよいエチレン基［－（ＣＨ２）２－］、置換基を有してもよいｎ－プロピレン基［－（ＣＨ２）３－］が好ましい。
前記置換基としては、炭化水素基が挙げられる。該炭化水素基は、脂肪族炭化水素基でもよいし芳香族炭化水素基でもよく、環状の炭化水素基でもよいし鎖状の炭化水素基でもよい。その中でも、具体的には、メチル基、エチル基等の直鎖状の炭化水素基；フェニル基等の芳香族炭化水素基が好ましい。
Ｙｐ０１におけるアルキレン基としては、置換基を有していてもよい炭素数１～８の直鎖状のアルキレン基が挙げられる。その中でも、具体的には、置換基を有してもよいエチレン基［－（ＣＨ２）２－］、置換基を有してもよいｎ－プロピレン基［－（ＣＨ２）３－］が好ましい。
前記置換基としては、炭化水素基が挙げられる。該炭化水素基は、脂肪族炭化水素基でもよいし芳香族炭化水素基でもよく、環状の炭化水素基でもよいし鎖状の炭化水素基でもよい。その中でも、具体的には、メチル基、エチル基等の直鎖状の炭化水素基；フェニル基等の芳香族炭化水素基が好ましい。
Ｙｐ０１におけるアルケニレン基としては、置換基を有していてもよい炭素数２～６個の直鎖状のアルケニレン基が挙げられる。その中でも、具体的には、エテニレン基が好ましい。
前記置換基としては、上記アルキレン基が有してもよい置換基と同様のものが挙げられる。
前記置換基としては、上記アルキレン基が有してもよい置換基と同様のものが挙げられる。
Ｙｐ０１における２価の環式基は、単環式でも、多環式でもよく、多環式の場合は架橋構造であってもよい。ここでＹｐ０１における２価の環式基が単環式である場合、式（ａ０－１１）中の環状イミドとは異なる単環構造を有することを意味する。すなわち、多環式の環状イミド構造となる。
該多環式の環状イミド構造としては、環状イミドと、芳香族炭化水素基又は環状の脂肪族炭化水素基との縮合環、環状イミドと、環状の脂肪族炭化水素基とのスピロ環等が挙げられる。
前記環状イミドは、５員環又は６員環であることが好ましい。
前記芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基である。
この芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の炭素数は５～３０であることが好ましく、炭素数５～２０がより好ましく、炭素数６～１５がさらに好ましく、炭素数６～１２が特に好ましい。
芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
該多環式の環状イミド構造としては、環状イミドと、芳香族炭化水素基又は環状の脂肪族炭化水素基との縮合環、環状イミドと、環状の脂肪族炭化水素基とのスピロ環等が挙げられる。
前記環状イミドは、５員環又は６員環であることが好ましい。
前記芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基である。
この芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の炭素数は５～３０であることが好ましく、炭素数５～２０がより好ましく、炭素数６～１５がさらに好ましく、炭素数６～１２が特に好ましい。
芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
前記環状の脂肪族炭化水素基は、多環式基でも単環式基でもよい。
単環式基である脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
多環式基である脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、ノルボルネン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
単環式基である脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
多環式基である脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、ノルボルネン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
上記式（ａ０－１１）中、Ｙｐ０１は、上記の中でも、２価の環式基であることが好ましく、２価の環式の脂肪族炭化水素基であることがより好ましい。
構成単位（ａ０－１）は、下記一般式（ａ０－１１ａ）又は下記一般式（ａ０－１１ｂ）で表される構成単位であることがさらに好ましい。
上記式（ａ０－１１ａ）及び上記式（ａ０－１１ｂ）中、Ｒｐ０１及びＶｐ０１は、上述した式（ａ０－１）中で説明した内容と同様である。
上記式（ａ０－１１ａ）中、Ｒａ０１１～Ｒａ０１４、及び、上記式（ａ０－１１ｂ）中、Ｒｂ０１１、Ｒｂ０１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を有してもよい炭化水素基である。該置換基を有してもよい炭化水素基としては、上述した式（ａ０－１）中で説明した内容と同様である。
なお、原子価が許容する場合とは、破線と実線の二重線が二重結合となる場合、Ｒａ０１１、Ｒａ０１２のいずれか１つと、Ｒａ０１３、Ｒａ０１４のいずれか１つとは、存在しないことを意味する。
なお、原子価が許容する場合とは、破線と実線の二重線が二重結合となる場合、Ｒａ０１１、Ｒａ０１２のいずれか１つと、Ｒａ０１３、Ｒａ０１４のいずれか１つとは、存在しないことを意味する。
Ｒａ０１１又はＲａ０１２と、Ｒａ０１３又はＲａ０１４とは、相互に結合して環を形成していてもよい。該環としては、環状イミドと、芳香族炭化水素基又は環状の脂肪族炭化水素基との縮合環等が挙げられる。
破線と実線の二重線は単結合又は二重結合を表す。ただし、破線と実線の二重線が二重結合となる場合は、Ｒａ０１１又Ｒａ０１２、及びＲａ０１３又はＲａ０１４は、存在しない。
破線と実線の二重線は単結合又は二重結合を表す。ただし、破線と実線の二重線が二重結合となる場合は、Ｒａ０１１又Ｒａ０１２、及びＲａ０１３又はＲａ０１４は、存在しない。
上記の中でも、Ｒａ０１１又はＲａ０１２と、Ｒａ０１３又はＲａ０１４とは、相互に結合して環を形成していることが好ましい。具体的には、環状イミドと、環状の脂肪族炭化水素基との縮合環が好ましく、環状イミドと、架橋環状の脂肪族炭化水素基との縮合環がより好ましい。
Ｒｂ０１１及びＲｂ０１２は、相互に結合して環を形成していてもよい。該環としては、環状イミドと、環状の脂肪族炭化水素基とのスピロ環等が挙げられる。
以下に前記式（ａ０－１）で表される構成単位の好適な具体例を示す。以下の各式中、Ｒαは、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示す。
上記例示の中でも、構成単位（ａ０－１）は、化学式（ａ０１－１－１）～（ａ０１－１－５）でそれぞれ表される構成単位からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、化学式（ａ０１－１－１）で表される構成単位がより好ましい。
本実施形態の交互共重合体が有する構成単位（ａ０－１）は、１種でも２種以上でもよい。
構成単位（ａ０－１）の割合は、本実施形態の交互共重合体を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、５～９５モル％が好ましく、１０～９０モル％がより好ましく、２０～８０モル％がさらに好ましい。
構成単位（ａ０－１）の割合は、本実施形態の交互共重合体を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、５～９５モル％が好ましく、１０～９０モル％がより好ましく、２０～８０モル％がさらに好ましい。
＜構成単位（ａ０－２）＞
構成単位（ａ０－２）は、下記一般式（ａ０－２）で表される構成単位である。
構成単位（ａ０－２）は、下記一般式（ａ０－２）で表される構成単位である。
上記式（ａ０－２）中、Ｒｐ０４は、上記式（ａ０－１）中のＲｐ０１と同様のものが挙げられる。
上記式（ａ０－２）中、Ｒｐ０５は、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、シアノ基又は水酸基である。
Ｒｐ０５におけるアルキル基としては、炭素数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
Ｒｐ０５におけるアルコキシ基としては、炭素数１～５のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉｓｏ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
Ｒｐ０５におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
Ｒｐ０５におけるハロゲン化アルキル基としては、炭素数１～５のアルキル基、たとえばメチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
Ｒｐ０５におけるアルコキシ基としては、炭素数１～５のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉｓｏ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
Ｒｐ０５におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
Ｒｐ０５におけるハロゲン化アルキル基としては、炭素数１～５のアルキル基、たとえばメチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
上記式（ａ０－２）中、ｎ１は０～４の整数であり、０～２であることが好ましい。
上記式（ａ０－２）中、Ｒｐ０５は、上記の中でも、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基が好ましい。
上記式（ａ０－２）中、Ｒｐ０６は、直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基である。
前記直鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が１～１０であることが好ましく、炭素数１～６がより好ましく、炭素数１～４がさらに好ましい。
直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、メチレン基［－ＣＨ２－］、エチレン基［－（ＣＨ２）２－］、トリメチレン基［－（ＣＨ２）３－］、テトラメチレン基［－（ＣＨ２）４－］等が挙げられる。
前記分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が２～１０であることが好ましく、炭素数３～６がより好ましく、炭素数３又は４がさらに好ましい。
分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等が挙げられる。
前記直鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が１～１０であることが好ましく、炭素数１～６がより好ましく、炭素数１～４がさらに好ましい。
直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、メチレン基［－ＣＨ２－］、エチレン基［－（ＣＨ２）２－］、トリメチレン基［－（ＣＨ２）３－］、テトラメチレン基［－（ＣＨ２）４－］等が挙げられる。
前記分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が２～１０であることが好ましく、炭素数３～６がより好ましく、炭素数３又は４がさらに好ましい。
分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等が挙げられる。
上記式（ａ０－２）中、Ｒｐ０６は、上記の中でも、直鎖状の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基が好ましく、メチレン基がより好ましい。
以下に前記式（ａ０－２）で表される構成単位の好適な具体例を示す。
上記例示の中でも、構成単位（ａ０－２）は、化学式（ａ０２－１－１）～（ａ０２－１－５）でそれぞれ表される構成単位からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、化学式（ａ０２－１－１）～（ａ０２－１－３）でそれぞれ表される構成単位からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、化学式（ａ０１－１－１）で表される構成単位がより好ましい。
本実施形態の交互共重合体が有する構成単位（ａ０－２）は、１種でも２種以上でもよい。
構成単位（ａ０－２）の割合は、本実施形態の交互共重合体を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、５～９５モル％が好ましく、１０～９０モル％がより好ましく、２０～８０モル％がさらに好ましい。
構成単位（ａ０－２）の割合は、本実施形態の交互共重合体を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、５～９５モル％が好ましく、１０～９０モル％がより好ましく、２０～８０モル％がさらに好ましい。
（交互共重合体の製造方法）
本発明の第２の態様は、下記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、下記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程を含む、交互共重合体の製造方法である。
本発明の第２の態様は、下記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、下記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程を含む、交互共重合体の製造方法である。
上記式（ｍ０－１）、上記式（ｍ０－２）、上記式（ｐ０）におけるＲｐ０１、Ｖｐ０１、Ｒｐ０２、Ｒｐ０３、Ｒｐ０４、Ｒｐ０５、Ｒｐ０６、及びｎ１は、上記式（ａ０－１）及び上記式（ａ０－２）で説明した内容と同様である。
＜リビングラジカル重合＞
リビングラジカル重合は、ドーマント種とラジカル成長種との平衡によって停止反応がある程度抑制され、可逆的な交換反応によって分子量制御が可能となっている重合反応である。交換反応が重合反応に比べて非常に速く起こっていると、分子量分布の狭いポリマーが得られると考えられている。
リビングラジカル重合の例としては、ポリスルフィドなどの連鎖移動剤を用いるもの、コバルトポルフィリン錯体やニトロキシド化合物などのラジカル捕捉剤を用いるもの、有機ハロゲン化合物などを開始剤とし遷移金属錯体を触媒とする原子移動ラジカル重合などが挙げられる。その中でも、原子移動ラジカル重合が好ましい。
リビングラジカル重合は、ドーマント種とラジカル成長種との平衡によって停止反応がある程度抑制され、可逆的な交換反応によって分子量制御が可能となっている重合反応である。交換反応が重合反応に比べて非常に速く起こっていると、分子量分布の狭いポリマーが得られると考えられている。
リビングラジカル重合の例としては、ポリスルフィドなどの連鎖移動剤を用いるもの、コバルトポルフィリン錯体やニトロキシド化合物などのラジカル捕捉剤を用いるもの、有機ハロゲン化合物などを開始剤とし遷移金属錯体を触媒とする原子移動ラジカル重合などが挙げられる。その中でも、原子移動ラジカル重合が好ましい。
・原子移動ラジカル重合
前記原子移動ラジカル重合における有機ハロゲン化合物としては、α－ハロゲノカルボニル化合物、α－ハロゲノカルボン酸エステル等を使用することができる。その中でも、α－ハロゲノカルボン酸エステルが好ましく、その具体例として２－ブロモ－２－メチルプロパン酸エチル、２－ブロモプロピオン酸２－ヒドロキシエチル、２－クロロ－２，４，４－トリメチルグルタル酸ジメチル、２－クロロ－２－フェニル酢酸エチル等を挙げることができ、２－クロロ－２－フェニル酢酸エチルがより好ましい。
前記原子移動ラジカル重合における有機ハロゲン化合物としては、α－ハロゲノカルボニル化合物、α－ハロゲノカルボン酸エステル等を使用することができる。その中でも、α－ハロゲノカルボン酸エステルが好ましく、その具体例として２－ブロモ－２－メチルプロパン酸エチル、２－ブロモプロピオン酸２－ヒドロキシエチル、２－クロロ－２，４，４－トリメチルグルタル酸ジメチル、２－クロロ－２－フェニル酢酸エチル等を挙げることができ、２－クロロ－２－フェニル酢酸エチルがより好ましい。
前記原子移動ラジカル重合における遷移金属錯体を構成する中心金属としては、鉄、銅、ニッケル、ロジウム、ルテニウム、レニウム等の周期律表第７～１１族元素（日本化学会編「化学便覧基礎編Ｉ改訂第４版」（１９９３年）記載の周期律表による）が好ましく挙げられる。その中でも、ルテニウム、銅がより好ましい。
ルテニウムを中心金属とする遷移金属錯体の具体例としては、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジクロロトリス（トリブチルホスフィン）ルテニウム、ジクロロ（シクロオクタジエン）ルテニウム、ジクロロベンゼンルテニウム、ジクロロｐ－シメンルテニウム、ジクロロ（ノルボルナジエン）ルテニウム、シス－ジクロロビス（２，２’－ビピリジン）ルテニウム、ジクロロトリス（１，１０－フェナントロリン）ルテニウム、カルボニルクロロヒドリドトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、クロロシクロペンタジエニルビス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、クロロペンタメチルシクロペンタジエニルビス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、クロロインデニルビス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム等が挙げられる。その中でも、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、クロロペンタメチルシクロペンタジエニルビス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＲｕＣｐ＊触媒）、クロロインデニルビス（トリフェニルホスフィン）ルテニウムが好ましく、クロロペンタメチルシクロペンタジエニルビス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム（ＲｕＣｐ＊触媒）がより好ましい。
前記原子移動ラジカル重合において、助触媒として、ルイス酸又はアミンを用いてもよい。
ルイス酸としては、アルミニウムトリイソプロポキシドやアルミニウムトリ（ｔ－ブトキシド）等のアルミニウムトリアルコキシド；ビス（２，６－ジ－ｔ－ブチルフェノキシ）メチルアルミニウム、ビス（２，４，６－トリ－ｔ－ブチルフェノキシ）メチルアルミニウム等のビス（置換アリールオキシ）アルキルアルミニウム；トリス（２，６－ジフェニルフェノキシ）アルミニウム等のトリス（置換アリールオキシ）アルミニウム；チタンテトライソプロポキシド等のチタンテトラアルコキシドなどが挙げられる。その中でも、アルミニウムトリアルコキシドが好ましく、アルミニウムトリイソプロポキシドがより好ましい。
ルイス酸としては、アルミニウムトリイソプロポキシドやアルミニウムトリ（ｔ－ブトキシド）等のアルミニウムトリアルコキシド；ビス（２，６－ジ－ｔ－ブチルフェノキシ）メチルアルミニウム、ビス（２，４，６－トリ－ｔ－ブチルフェノキシ）メチルアルミニウム等のビス（置換アリールオキシ）アルキルアルミニウム；トリス（２，６－ジフェニルフェノキシ）アルミニウム等のトリス（置換アリールオキシ）アルミニウム；チタンテトライソプロポキシド等のチタンテトラアルコキシドなどが挙げられる。その中でも、アルミニウムトリアルコキシドが好ましく、アルミニウムトリイソプロポキシドがより好ましい。
アミンとしては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン等の脂肪族第１級アミン；ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン等の脂肪族第２級アミン；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリブチルアミン等の脂肪族第３級アミン等の脂肪族アミン；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’－ペンタメチルジエチレントリアミン、１，１，４，７，１０，１０－ヘキサメチルトリエチレンテトラアミン等の脂肪族ポリアミン；アニリン、トルイジンなどの芳香族第１級アミン；ジフェニルアミン等の芳香族第２級アミン；トリフェニルアミンなどの芳香族第３級アミン等の芳香族アミンなどが挙げられる。その中でも、脂肪族アミンが好ましく、具体的には、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミンがより好ましい。
前記原子移動ラジカル重合に使用される溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、セロソルブ類等のエステル類；γ－ブチロラクトン等のアルキルラクトン類；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン等のエーテル類；２－ブタノン（メチルエチルケトン）、２－ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のアルキルケトン類；シクロヘキサノン等のシクロアルキルケトン類；２－プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、イソプロピルアルコール等のアルコール類；ヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類；ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロアミド等の非プロトン系極性溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等の非極性溶媒などが挙げられる。
これらの溶剤は、１種又は２種以上を混合して使用することができる。
これらの溶剤は、１種又は２種以上を混合して使用することができる。
前記原子移動ラジカル重合における反応温度は、通常、４０～１５０℃、好ましくは５０～１３０℃である。
前記原子移動ラジカル重合における反応時間は、通常、１～９６時間、好ましくは１～４８時間である。
前記原子移動ラジカル重合における反応時間は、通常、１～９６時間、好ましくは１～４８時間である。
（高分子化合物の製造方法：第１の方法）
本発明の第３の態様は、
（ｉａ）下記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、下記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程（以下、工程（ｉａ）ともいう）と、
（ｉｉａ）前記交互共重合体を加水分解して、下記一般式（Ｐｒｅ－１ａ）で表される第１の高分子化合物前駆体を得る工程（以下、工程（ｉｉａ）ともいう）と、
（ｉｉｉａ）前記第１の高分子化合物前駆体と、下記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（Ｐｒｅ－１ｂ－１）で表される第２の高分子化合物前駆体を得る工程（以下、工程（ｉｉｉａ）ともいう）と、
（ｉｖａ）前記第２の高分子化合物前駆体を加水分解して、下記一般式（ｐ１）で表される高分子化合物を得る工程（以下、工程（ｉｖａ）ともいう）と、を含む、高分子化合物の製造方法である。
本発明の第３の態様は、
（ｉａ）下記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、下記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程（以下、工程（ｉａ）ともいう）と、
（ｉｉａ）前記交互共重合体を加水分解して、下記一般式（Ｐｒｅ－１ａ）で表される第１の高分子化合物前駆体を得る工程（以下、工程（ｉｉａ）ともいう）と、
（ｉｉｉａ）前記第１の高分子化合物前駆体と、下記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（Ｐｒｅ－１ｂ－１）で表される第２の高分子化合物前駆体を得る工程（以下、工程（ｉｉｉａ）ともいう）と、
（ｉｖａ）前記第２の高分子化合物前駆体を加水分解して、下記一般式（ｐ１）で表される高分子化合物を得る工程（以下、工程（ｉｖａ）ともいう）と、を含む、高分子化合物の製造方法である。
＜工程（ｉａ）＞
工程（ｉａ）は、上記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、上記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、上記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程であり、本発明の第２の態様の交互共重合体の製造方法で説明した内容と同様である。
工程（ｉａ）は、上記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、上記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、上記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程であり、本発明の第２の態様の交互共重合体の製造方法で説明した内容と同様である。
＜工程（ｉｉａ）＞
工程（ｉｉａ）は、上記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を加水分解して、上記一般式（Ｐｒｅ－１ａ）で表される第１の高分子化合物前駆体（以下、「高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ａ）」という場合がある）を得る工程である。
工程（ｉｉａ）は、上記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を加水分解して、上記一般式（Ｐｒｅ－１ａ）で表される第１の高分子化合物前駆体（以下、「高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ａ）」という場合がある）を得る工程である。
上記式（Ｐｒｅ－１ａ）におけるＲｐ０１、Ｖｐ０１、Ｒｐ０４、Ｒｐ０５、Ｒｐ０６、及びｎ１は、上記式（ａ０－１）及び上記式（ａ０－２）で説明した内容と同様である。
前記交互共重合体を加水分解させる方法としては、前記交互共重合体及び酸成分を溶剤に加えて混合することにより行うことができる。該溶剤としては、上述した原子移動ラジカル重合に使用される溶剤と同様のものが挙げられる。
＜＜酸成分＞＞
酸成分は、特に限定されず、無機酸でもよいし、有機酸でもよい。
かかる酸成分としては、例えば、酢酸、シュウ酸、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、マロン酸等の有機酸；硫酸、塩酸、リン酸、臭化水素酸等の無機酸が挙げられる。
本実施形態の製造方法において、酸成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
酸成分は、特に限定されず、無機酸でもよいし、有機酸でもよい。
かかる酸成分としては、例えば、酢酸、シュウ酸、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、マロン酸等の有機酸；硫酸、塩酸、リン酸、臭化水素酸等の無機酸が挙げられる。
本実施形態の製造方法において、酸成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
上記交互共重合体と酸成分との反応の際の温度条件は、特に限定されず、例えば０～１２０℃程度である。
上記交互共重合体と酸成分との反応時間は、特に限定されず、例えば１～７２時間程度である。
上記交互共重合体と酸成分との反応時間は、特に限定されず、例えば１～７２時間程度である。
＜工程（ｉｉｉａ）＞
工程（ｉｉｉａ）は、上記式（Ｐｒｅ－１ａ）で表される第１の高分子化合物前駆体（高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ａ））と、下記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（Ｐｒｅ－１ｂ－１）で表される第２の高分子化合物前駆体（以下、「高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－１）」という場合がある）を得る工程である。
工程（ｉｉｉａ）は、上記式（Ｐｒｅ－１ａ）で表される第１の高分子化合物前駆体（高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ａ））と、下記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（Ｐｒｅ－１ｂ－１）で表される第２の高分子化合物前駆体（以下、「高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－１）」という場合がある）を得る工程である。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ａ）と、一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させる方法としては、エステル化として公知の方法を用いることができる。例えば、カルボジイミド系の縮合剤（１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ／ＨＣｌ）等）、及び触媒として、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン（ＤＭＡＰ）を用いて、エステル化する方法が挙げられる。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ａ）と、上記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させる際の温度条件は、特に限定されず、例えば０～１２０℃程度である。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ａ）と、上記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させる際の反応時間は、特に限定されず、例えば１～７２時間程度である。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ａ）と、上記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させる際の反応時間は、特に限定されず、例えば１～７２時間程度である。
上記一般式（Ａｄｄ－１）におけるＲａ００１の炭化水素基としては、直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、鎖状もしくは環状のアルケニル基、又は環状の炭化水素基が挙げられる。
Ｒａ１１における、直鎖状のアルキル基は、炭素数１～５であることが好ましく、１～４がより好ましく、１又は２がさらに好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基、ｎ－ブチル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。
Ｒａ１１における、直鎖状のアルキル基は、炭素数１～５であることが好ましく、１～４がより好ましく、１又は２がさらに好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基、ｎ－ブチル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。
Ｒａ００１における、分岐鎖状のアルキル基は、炭素数３～１０であることが好ましく、３～５がより好ましい。具体的には、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１－ジエチルプロピル基、２，２－ジメチルブチル基等が挙げられ、イソプロピル基であることが好ましい。
Ｒａ００１が環状の炭化水素基となる場合、該炭化水素基は、脂肪族炭化水素基でも芳香族炭化水素基でもよく、また、多環式基でも単環式基でもよい。
単環式基である脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
多環式基である脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
単環式基である脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
多環式基である脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
Ｒａ００１における、環状の炭化水素基が芳香族炭化水素基となる場合、該芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基である。
この芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の炭素数は、５～３０が好ましく、炭素数５～２０がより好ましく、炭素数６～１５がさらに好ましく、炭素数６～１２が特に好ましい。
芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
Ｒａ００１における芳香族炭化水素基として具体的には、前記の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環から水素原子を１つ除いた基（アリール基又はヘテロアリール基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（例えばビフェニル、フルオレン等）から水素原子を１つ除いた基；前記の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など）等が挙げられる。前記の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環に結合するアルキレン基の炭素数は、１～４であることが好ましく、１～２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。
この芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の炭素数は、５～３０が好ましく、炭素数５～２０がより好ましく、炭素数６～１５がさらに好ましく、炭素数６～１２が特に好ましい。
芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
Ｒａ００１における芳香族炭化水素基として具体的には、前記の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環から水素原子を１つ除いた基（アリール基又はヘテロアリール基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（例えばビフェニル、フルオレン等）から水素原子を１つ除いた基；前記の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など）等が挙げられる。前記の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環に結合するアルキレン基の炭素数は、１～４であることが好ましく、１～２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。
Ｒａ００１における環状の炭化水素基は、置換基を有していてもよい。この置換基としては、例えば、－ＲＰ１、－ＲＰ２－Ｏ－ＲＰ１、－ＲＰ２－ＣＯ－ＲＰ１、－ＲＰ２－ＣＯ－ＯＲＰ１、－ＲＰ２－Ｏ－ＣＯ－ＲＰ１、－ＲＰ２－ＯＨ、－ＲＰ２－ＣＮ又は－ＲＰ２－ＣＯＯＨ等が挙げられる。
ここで、ＲＰ１は、炭素数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基、又は炭素数６～３０の１価の芳香族炭化水素基である。ＲＰ２は、単結合、炭素数１～１０の２価の鎖状飽和炭化水素基、炭素数３～２０の２価の脂肪族環状飽和炭化水素基、又は炭素数６～３０の２価の芳香族炭化水素基である。但し、ＲＰ１及びＲＰ２の鎖状飽和炭化水素基、脂肪族環状飽和炭化水素基及び芳香族炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部はフッ素原子で置換されていてもよい。上記脂肪族環状飽和炭化水素基は、上記置換基を１種単独で１つ以上有していてもよいし、上記置換基のうち複数種を各１つ以上有していてもよい。
炭素数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。
炭素数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式脂肪族飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．２］オクタニル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デカニル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカニル基、アダマンチル基等の多環式脂肪族飽和炭化水素基が挙げられる。
炭素数６～３０の１価の芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン、ビフェニル、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環から水素原子１個を除いた基が挙げられる。
ＲＰ２における、炭素数１～１０の２価の鎖状飽和炭化水素基、炭素数３～２０の２価の脂肪族環状飽和炭化水素基、炭素数６～３０の２価の芳香族炭化水素基としては、上述の１価の各炭化水素基から、さらに水素原子１個を除いた基が挙げられる。
ここで、ＲＰ１は、炭素数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基、又は炭素数６～３０の１価の芳香族炭化水素基である。ＲＰ２は、単結合、炭素数１～１０の２価の鎖状飽和炭化水素基、炭素数３～２０の２価の脂肪族環状飽和炭化水素基、又は炭素数６～３０の２価の芳香族炭化水素基である。但し、ＲＰ１及びＲＰ２の鎖状飽和炭化水素基、脂肪族環状飽和炭化水素基及び芳香族炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部はフッ素原子で置換されていてもよい。上記脂肪族環状飽和炭化水素基は、上記置換基を１種単独で１つ以上有していてもよいし、上記置換基のうち複数種を各１つ以上有していてもよい。
炭素数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。
炭素数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式脂肪族飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．２］オクタニル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デカニル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカニル基、アダマンチル基等の多環式脂肪族飽和炭化水素基が挙げられる。
炭素数６～３０の１価の芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン、ビフェニル、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環から水素原子１個を除いた基が挙げられる。
ＲＰ２における、炭素数１～１０の２価の鎖状飽和炭化水素基、炭素数３～２０の２価の脂肪族環状飽和炭化水素基、炭素数６～３０の２価の芳香族炭化水素基としては、上述の１価の各炭化水素基から、さらに水素原子１個を除いた基が挙げられる。
Ｒａ００１における、鎖状もしくは環状のアルケニル基は、炭素数２～１０のアルケニル基が好ましい。
上記式（Ａｄｄ－１）におけるＲａ００２及びＲａ００３の炭化水素基としては、それぞれ、前記Ｒａ００１と同様のものが挙げられる。
Ｒａ００２とＲａ００３とが互いに結合して環を形成する場合、下記一般式（ａ１－ｒ２－１）で表される基、下記一般式（ａ１－ｒ２－２）で表される基、下記一般式（ａ１－ｒ２－３）で表される基が好適に挙げられる。
一方、Ｒａ００２とＲａ００３とが互いに結合せず、独立した炭化水素基である場合、下記一般式（ａ１－ｒ２－４）で表される基が好適に挙げられる。
一方、Ｒａ００２とＲａ００３とが互いに結合せず、独立した炭化水素基である場合、下記一般式（ａ１－ｒ２－４）で表される基が好適に挙げられる。
上記の式（ａ１－ｒ２－１）中、Ｒａ’１０の炭素数１～１０のアルキル基は、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましい。Ｒａ’１０は、炭素数１～５のアルキル基であることが好ましい。
前記式（ａ１－ｒ２－ｒ１）中、Ｙａ０は、第４級炭素原子である。すなわち、Ｙａ０（炭素原子）に結合する隣の炭素原子が４つである。
前記式（ａ１－ｒ２－ｒ１）中、Ｒａ０３１、Ｒａ０３２及びＲａ０３３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭化水素基である。Ｒａ０３１、Ｒａ０３２及びＲａ０３３における炭化水素基としては、それぞれ独立に、直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、鎖状もしくは環状のアルケニル基、又は、環状の炭化水素基が挙げられる。
Ｒａ０３１、Ｒａ０３２及びＲａ０３３における、直鎖状のアルキル基は、炭素数が１～５であることが好ましく、１～４がより好ましく、１または２がさらに好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基またはｎ－ブチル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
Ｒａ０３１、Ｒａ０３２及びＲａ０３３における、分岐鎖状のアルキル基は、炭素数が３～１０であることが好ましく、３～５がより好ましい。具体的には、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１－ジエチルプロピル基、２，２－ジメチルブチル基等が挙げられ、イソプロピル基であることが好ましい。
Ｒａ０３１、Ｒａ０３２及びＲａ０３３における、鎖状もしくは環状のアルケニル基は、炭素数２～１０のアルケニル基が好ましい。
Ｒａ０３１、Ｒａ０３２及びＲａ０３３における、分岐鎖状のアルキル基は、炭素数が３～１０であることが好ましく、３～５がより好ましい。具体的には、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１－ジエチルプロピル基、２，２－ジメチルブチル基等が挙げられ、イソプロピル基であることが好ましい。
Ｒａ０３１、Ｒａ０３２及びＲａ０３３における、鎖状もしくは環状のアルケニル基は、炭素数２～１０のアルケニル基が好ましい。
Ｒａ０３１、Ｒａ０３２及びＲａ０３３における、環状の炭化水素基は、脂肪族炭化水素基でも芳香族炭化水素基でもよく、また、多環式基でも単環式基でもよい。
単環式基である脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
多環式基である脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
単環式基である脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
多環式基である脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
Ｒａ０３１、Ｒａ０３２及びＲａ０３３における、該芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基である。この芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の炭素数は５～３０であることが好ましく、５～２０がより好ましく、６～１５がさらに好ましく、６～１２が特に好ましい。芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。該芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を１つ除いた基（アリール基またはヘテロアリール基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（たとえばビフェニル、フルオレン等）から水素原子を１つ除いた基；前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（たとえば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など）等が挙げられる。前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環に結合するアルキレン基の炭素数は、１～４であることが好ましく、１～２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。
上記のＲａ０３１、Ｒａ０３２及びＲａ０３３で表される炭化水素基が置換されている場合、その置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等）、アルキルオキシカルボニル基等が挙げられる。
上記の中でも、Ｒａ０３１、Ｒａ０３２及びＲａ０３３における、置換基を有していてもよい炭化水素基は、置換基を有していてもよい直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、直鎖状のアルキル基がより好ましい。
但し、Ｒａ０３１、Ｒａ０３２及びＲａ０３３のうちの１つ以上は、少なくとも極性基を有する炭化水素基である。
「極性基を有する炭化水素基」とは、炭化水素基を構成するメチレン基（－ＣＨ２－）を極性基で置換しているもの、又は、炭化水素基を構成する少なくとも１つの水素原子が極性基に置換しているものをいずれも包含する。
かかる「極性基を有する炭化水素基」としては、下記一般式（ａ１－ｐ１）で表される官能基が好ましい。
「極性基を有する炭化水素基」とは、炭化水素基を構成するメチレン基（－ＣＨ２－）を極性基で置換しているもの、又は、炭化水素基を構成する少なくとも１つの水素原子が極性基に置換しているものをいずれも包含する。
かかる「極性基を有する炭化水素基」としては、下記一般式（ａ１－ｐ１）で表される官能基が好ましい。
前記式（ａ１－ｐ１）中、Ｒａ０７は、炭素数２～１２の２価の炭化水素基を表す。
Ｒａ０７の炭素数は、２～１２であり、炭素数２～８が好ましく、炭素数２～６がより好ましく、炭素数２～４がさらに好ましく、炭素数２が特に好ましい。
Ｒａ０７における炭化水素基は、鎖状又は環状の脂肪族炭化水素基が好ましく、鎖状の炭化水素基がより好ましい。
Ｒａ０７としては、例えば、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ドデカン－１，１２－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；プロパン－１，２－ジイル基、１－メチルブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐鎖状アルカンジイル基；シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイル基；ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等の多環式の２価の脂環式炭化水素基等挙げられる。
上記の中でも、アルカンジイル基が好ましく、直鎖状アルカンジイル基がより好ましい。
Ｒａ０７の炭素数は、２～１２であり、炭素数２～８が好ましく、炭素数２～６がより好ましく、炭素数２～４がさらに好ましく、炭素数２が特に好ましい。
Ｒａ０７における炭化水素基は、鎖状又は環状の脂肪族炭化水素基が好ましく、鎖状の炭化水素基がより好ましい。
Ｒａ０７としては、例えば、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ドデカン－１，１２－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；プロパン－１，２－ジイル基、１－メチルブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐鎖状アルカンジイル基；シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイル基；ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等の多環式の２価の脂環式炭化水素基等挙げられる。
上記の中でも、アルカンジイル基が好ましく、直鎖状アルカンジイル基がより好ましい。
前記式（ａ１－ｐ１）中、Ｒａ０８は、ヘテロ原子を含む２価の連結基を表す。
Ｒａ０８としては、例えば、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ（＝ＮＨ）－（Ｈはアルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい。）、－Ｓ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－等が挙げられる。
これらの中でも、現像液に対する溶解性の点から、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－が好ましく、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－が特に好ましい。
Ｒａ０８としては、例えば、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ（＝ＮＨ）－（Ｈはアルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい。）、－Ｓ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－等が挙げられる。
これらの中でも、現像液に対する溶解性の点から、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－が好ましく、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－が特に好ましい。
前記式（ａ１－ｐ１）中、Ｒａ０６は、炭素数１～１２の１価の炭化水素基を表す。
Ｒａ０６の炭素数は、１～１２であり、現像液に対する溶解性の点から、炭素数１～８が好ましく、炭素数１～５がより好ましく、炭素数１～３がさらに好ましく、炭素数１又は２が特に好ましく、１が最も好ましい。
Ｒａ０６の炭素数は、１～１２であり、現像液に対する溶解性の点から、炭素数１～８が好ましく、炭素数１～５がより好ましく、炭素数１～３がさらに好ましく、炭素数１又は２が特に好ましく、１が最も好ましい。
Ｒａ０６における炭化水素基は、鎖状炭化水素基もしくは環状炭化水素基、又は、鎖状と環状とを組み合わせた炭化水素基が挙げられる。
鎖状炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、２－エチルヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基等が挙げられる。
鎖状炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、２－エチルヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基等が挙げられる。
環状炭化水素基は、脂環式炭化水素基でもよいし、芳香族炭化水素基でもよい。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘプチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、２－アルキルアダマンタン－２－イル基、１－（アダマンタン－１－イル）アルカン－１－イル基、ノルボルニル基、メチルノルボルニル基、イソボルニル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘプチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、２－アルキルアダマンタン－２－イル基、１－（アダマンタン－１－イル）アルカン－１－イル基、ノルボルニル基、メチルノルボルニル基、イソボルニル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等が挙げられる。
Ｒａ０６としては、現像液に対する溶解性の点から、鎖状炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましく、直鎖状アルキル基がさらに好ましい。
前記式（ａ１－ｐ１）中、ｎｐ０は、１～６の整数であり、１～３の整数が好ましく、１又は２がより好ましく、１がさらに好ましい。
以下に、少なくとも極性基を有する炭化水素基、の具体例を示す。
以下の式中、＊は、第４級炭素原子（Ｙａ０）に結合する結合手である。
以下の式中、＊は、第４級炭素原子（Ｙａ０）に結合する結合手である。
前記式（ａ１－ｒ２－ｒ１）中、Ｒａ０３１、Ｒａ０３２及びＲａ０３３のうち、少なくとも極性基を有する炭化水素基の個数は、１つ以上であるが、レジストパターン形成の際における現像液への溶解性を考慮して適宜決定すればよく、例えば、Ｒａ０３１、Ｒａ０３２及びＲａ０３３のうちの１つ又は２つであることが好ましく、特に好ましくは１つである。
前記の少なくとも極性基を有する炭化水素基は、極性基以外の置換基を有してもよい。この置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、炭素数１～５のハロゲン化アルキル基が挙げられる。
式（ａ１－ｒ２－１）中、Ｒａ’１１（Ｒａ’１０が結合した炭素原子と共に形成する脂肪族環式基）は、上記一般式（Ａｄｄ－１）におけるＲａ００１の単環式基又は多環式基である脂肪族炭化水素基として挙げた基が好ましい。
式（ａ１－ｒ２－２）中、ＸａがＹａと共に形成する環状の炭化水素基としては、上記一般式（Ａｄｄ－１）中のＲａ００１における環状の１価の炭化水素基（脂肪族炭化水素基）から水素原子１個以上をさらに除いた基が挙げられる。
ＸａがＹａと共に形成する環状の炭化水素基は、置換基を有していてもよい。この置換基としては、上記一般式（Ａｄｄ－１）中のＲａ００１における環状の炭化水素基が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
式（ａ１－ｒ２－２）中、Ｒａ０１～Ｒａ０３における、炭素数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。
Ｒａ０１～Ｒａ０３における、炭素数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式脂肪族飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．２］オクタニル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デカニル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカニル基、アダマンチル基等の多環式脂肪族飽和炭化水素基等が挙げられる。
ＸａがＹａと共に形成する環状の炭化水素基は、置換基を有していてもよい。この置換基としては、上記一般式（Ａｄｄ－１）中のＲａ００１における環状の炭化水素基が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
式（ａ１－ｒ２－２）中、Ｒａ０１～Ｒａ０３における、炭素数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。
Ｒａ０１～Ｒａ０３における、炭素数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式脂肪族飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．２］オクタニル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デカニル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカニル基、アダマンチル基等の多環式脂肪族飽和炭化水素基等が挙げられる。
上記Ｒａ０１～Ｒａ０３で表される鎖状飽和炭化水素基、又は脂肪族環状飽和炭化水素基が有する置換基としては、例えば、上述のＲａ０５と同様の基が挙げられる。
Ｒａ０１～Ｒａ０３の２つ以上が互いに結合して環状構造を形成することにより生じる炭素－炭素二重結合を含む基としては、例えば、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、メチルシクロペンテニル基、メチルシクロヘキセニル基、シクロペンチリデンエテニル基、シクロへキシリデンエテニル基等が挙げられる。
式（ａ１－ｒ２－３）中、ＸａａがＹａａと共に形成する脂肪族環式基は、上記一般式（Ａｄｄ－１）中のＲａ００１における単環式基又は多環式基である脂肪族炭化水素基として挙げた基が好ましい。
式（ａ１－ｒ２－３）中、Ｒａ０４における芳香族炭化水素基としては、炭素数５～３０の芳香族炭化水素環から水素原子１個以上を除いた基が挙げられる。中でも、Ｒａ０４は、炭素数６～１５の芳香族炭化水素環から水素原子１個以上を除いた基が好ましく、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン又はフェナントレンから水素原子１個以上を除いた基がより好ましく、ベンゼン、ナフタレン又はアントラセンから水素原子１個以上を除いた基がさらに好ましく、ベンゼン又はナフタレンから水素原子１個以上を除いた基が特に好ましく、ベンゼンから水素原子１個以上を除いた基が最も好ましい。
式（ａ１－ｒ２－３）中、Ｒａ０４における芳香族炭化水素基としては、炭素数５～３０の芳香族炭化水素環から水素原子１個以上を除いた基が挙げられる。中でも、Ｒａ０４は、炭素数６～１５の芳香族炭化水素環から水素原子１個以上を除いた基が好ましく、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン又はフェナントレンから水素原子１個以上を除いた基がより好ましく、ベンゼン、ナフタレン又はアントラセンから水素原子１個以上を除いた基がさらに好ましく、ベンゼン又はナフタレンから水素原子１個以上を除いた基が特に好ましく、ベンゼンから水素原子１個以上を除いた基が最も好ましい。
式（ａ１－ｒ２－３）中のＲａ０４が有していてもよい置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等）、アルキルオキシカルボニル基等が挙げられる。
式（ａ１－ｒ２－４）中、Ｒａ’１２及びＲａ’１３は、それぞれ独立に、炭素数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基又は水素原子である。Ｒａ’１２及びＲａ’１３における、炭素数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基としては、上記のＲａ０１～Ｒａ０３における、炭素数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。この鎖状飽和炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。
Ｒａ’１２及びＲａ’１３は、中でも、水素原子、炭素数１～５のアルキル基が好ましく、炭素数１～５のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基がさらに好ましく、メチル基が特に好ましい。
上記Ｒａ’１２及びＲａ’１３で表される鎖状飽和炭化水素基が置換されている場合、その置換基としては、例えば、上述のＲａ０５と同様の基が挙げられる。
Ｒａ’１２及びＲａ’１３は、中でも、水素原子、炭素数１～５のアルキル基が好ましく、炭素数１～５のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基がさらに好ましく、メチル基が特に好ましい。
上記Ｒａ’１２及びＲａ’１３で表される鎖状飽和炭化水素基が置換されている場合、その置換基としては、例えば、上述のＲａ０５と同様の基が挙げられる。
式（ａ１－ｒ２－４）中、Ｒａ’１４は、置換基を有していてもよい炭化水素基である。Ｒａ’１４における炭化水素基としては、直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、又は環状の炭化水素基が挙げられる。
Ｒａ’１４における直鎖状のアルキル基は、炭素数が１～５であることが好ましく、１～４がより好ましく、１又は２がさらに好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基又はｎ－ブチル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。
Ｒａ’１４における分岐鎖状のアルキル基は、炭素数が３～１０であることが好ましく、３～５がより好ましい。具体的には、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１－ジエチルプロピル基、２，２－ジメチルブチル基等が挙げられ、イソプロピル基であることが好ましい。
Ｒａ’１４が環状の炭化水素基となる場合、該炭化水素基は、脂肪族炭化水素基でも芳香族炭化水素基でもよく、また、多環式基でも単環式基でもよい。
単環式基である脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
多環式基である脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
単環式基である脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
多環式基である脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
Ｒａ’１４における芳香族炭化水素基としては、Ｒａ０４における芳香族炭化水素基と同様のものが挙げられる。中でも、Ｒａ’１４は、炭素数６～１５の芳香族炭化水素環から水素原子１個以上を除いた基が好ましく、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン又はフェナントレンから水素原子１個以上を除いた基がより好ましく、ベンゼン、ナフタレン又はアントラセンから水素原子１個以上を除いた基がさらに好ましく、ナフタレン又はアントラセンから水素原子１個以上を除いた基が特に好ましく、ナフタレンから水素原子１個以上を除いた基が最も好ましい。
Ｒａ’１４が有していてもよい置換基としては、Ｒａ０４が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
Ｒａ’１４が有していてもよい置換基としては、Ｒａ０４が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
式（ａ１－ｒ２－４）中のＲａ’１４がナフチル基である場合、前記式（ａ１－ｒ２－４）における第３級炭素原子と結合する位置は、ナフチル基の１位又は２位のいずれであってもよい。
式（ａ１－ｒ２－４）中のＲａ’１４がアントリル基である場合、前記式（ａ１－ｒ２－４）における第３級炭素原子と結合する位置は、アントリル基の１位、２位又は９位のいずれであってもよい。
式（ａ１－ｒ２－４）中のＲａ’１４がアントリル基である場合、前記式（ａ１－ｒ２－４）における第３級炭素原子と結合する位置は、アントリル基の１位、２位又は９位のいずれであってもよい。
前記式（ａ１－ｒ２－１）で表される基の具体例を以下に挙げる。
前記式（ａ１－ｒ２－２）で表される基の具体例を以下に挙げる。
前記式（ａ１－ｒ２－３）で表される基の具体例を以下に挙げる。
前記式（ａ１－ｒ２－４）で表される基の具体例を以下に挙げる。
上記式（Ｐｒｅ－１ｂ－１）におけるＲｐ０１、Ｖｐ０１、Ｒｐ０４、Ｒｐ０５、Ｒｐ０６、及びｎ１は、上記式（ａ０－１）及び上記式（ａ０－２）で説明した内容と同様である。
上記式（Ｐｒｅ－１ｂ－１）におけるＲａ００１、Ｒａ００２及びＲａ００３は、それぞれ独立に置換基を有してもよい炭化水素基である。
なお、上記式（Ｐｒｅ－１ｂ－１）中、－Ｃ（Ｒａ００１）（Ｒａ００２）（Ｒａ００３）は酸解離性基（第３級アルキルエステル型酸解離性基）である。「酸解離性基」とは、（ｉ）酸の作用により、当該酸解離性基と該酸解離性基に隣接する原子との間の結合が開裂し得る酸解離性を有する基、又は、（ｉｉ）酸の作用により一部の結合が開裂した後、さらに脱炭酸反応が生じることにより、当該酸解離性基と該酸解離性基に隣接する原子との間の結合が開裂し得る基、の双方をいう。
具体的には、上記式（Ｐｒｅ－１ｂ－１）中の－Ｃ（Ｒａ００１）（Ｒａ００２）（Ｒａ００３）の第３級炭素原子と、該第３級炭素原子に隣接する酸素原子と、の間の結合が開裂して－Ｃ（Ｒａ００１）（Ｒａ００２）（Ｒａ００３）が解離し、極性の高いカルボキシ基が生じて極性が増大する。
なお、上記式（Ｐｒｅ－１ｂ－１）中、－Ｃ（Ｒａ００１）（Ｒａ００２）（Ｒａ００３）は酸解離性基（第３級アルキルエステル型酸解離性基）である。「酸解離性基」とは、（ｉ）酸の作用により、当該酸解離性基と該酸解離性基に隣接する原子との間の結合が開裂し得る酸解離性を有する基、又は、（ｉｉ）酸の作用により一部の結合が開裂した後、さらに脱炭酸反応が生じることにより、当該酸解離性基と該酸解離性基に隣接する原子との間の結合が開裂し得る基、の双方をいう。
具体的には、上記式（Ｐｒｅ－１ｂ－１）中の－Ｃ（Ｒａ００１）（Ｒａ００２）（Ｒａ００３）の第３級炭素原子と、該第３級炭素原子に隣接する酸素原子と、の間の結合が開裂して－Ｃ（Ｒａ００１）（Ｒａ００２）（Ｒａ００３）が解離し、極性の高いカルボキシ基が生じて極性が増大する。
上記式（Ｐｒｅ－１ｂ－１）におけるＲａ００１、Ｒａ００２及びＲａ００３は、上記式（Ａｄｄ－１）の炭化水素基として説明した内容と同様である。
＜工程（ｉｖａ）＞
工程（ｉｖａ）は、前記高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－１）を加水分解して、上記一般式（ｐ１）で表される高分子化合物（以下、「高分子化合物（ｐ１）」という場合がある）を得る工程（以下、工程（ｉｖａ）ともいう）である。
工程（ｉｖａ）は、前記高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－１）を加水分解して、上記一般式（ｐ１）で表される高分子化合物（以下、「高分子化合物（ｐ１）」という場合がある）を得る工程（以下、工程（ｉｖａ）ともいう）である。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－１）を加水分解させる方法としては、高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－１）及び塩基成分を溶剤に加えて混合することにより行うことができる。該溶剤としては、上述した原子移動ラジカル重合に使用される溶剤と同様のものが挙げられる。
＜＜塩基成分＞＞
塩基成分は、特に限定されず、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。
本実施形態の製造方法において、塩基成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
塩基成分は、特に限定されず、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。
本実施形態の製造方法において、塩基成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－１）と塩基成分との反応の際の温度条件は、特に限定されず、例えば０～６０℃程度である。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－１）と塩基成分との反応時間は、特に限定されず、例えば１～２４時間程度である。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－１）と塩基成分との反応時間は、特に限定されず、例えば１～２４時間程度である。
上記一般式（ｐ１）におけるＲｐ０１、Ｖｐ０１、Ｒｐ０４、Ｒｐ０５、及びｎ１は、上記式（ａ０－１）及び上記式（ａ０－２）で説明した内容と同様である。
上記一般式（ｐ１）におけるＲａ００１、Ｒａ００２及びＲａ００３は、上記式（Ａｄｄ－１）の炭化水素基として説明した内容と同様である。
上記一般式（ｐ１）におけるＲａ００１、Ｒａ００２及びＲａ００３は、上記式（Ａｄｄ－１）の炭化水素基として説明した内容と同様である。
（高分子化合物の製造方法：第２の方法）
本発明の第４の態様は、
（ｉｂ）下記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、下記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程（以下、工程（ｉｂ）ともいう）と、
（ｉｉｂ）前記交互共重合体を加水分解して、下記一般式（Ｐｒｅ－２ａ）で表される高分子化合物前駆体を得る工程（以下、工程（ｉｉｂ）ともいう）と、
（ｉｉｉｂ）前記高分子化合物前駆体と、下記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（ｐ１）で表される高分子化合物を得る工程（以下、工程（ｉｉｉｂ）ともいう）と、を含む、高分子化合物の製造方法である。
本発明の第４の態様は、
（ｉｂ）下記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、下記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程（以下、工程（ｉｂ）ともいう）と、
（ｉｉｂ）前記交互共重合体を加水分解して、下記一般式（Ｐｒｅ－２ａ）で表される高分子化合物前駆体を得る工程（以下、工程（ｉｉｂ）ともいう）と、
（ｉｉｉｂ）前記高分子化合物前駆体と、下記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（ｐ１）で表される高分子化合物を得る工程（以下、工程（ｉｉｉｂ）ともいう）と、を含む、高分子化合物の製造方法である。
＜工程（ｉｂ）＞
工程（ｉｂ）は、上述した工程（ｉａ）と同じである。
工程（ｉｂ）は、上述した工程（ｉａ）と同じである。
＜工程（ｉｉｂ）＞
工程（ｉｂ）は、上記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を加水分解して、上記一般式（Ｐｒｅ－２ａ）で表される高分子化合物前駆体（以下、「高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ）」という場合がある）を得る工程である。
工程（ｉｂ）は、上記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を加水分解して、上記一般式（Ｐｒｅ－２ａ）で表される高分子化合物前駆体（以下、「高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ）」という場合がある）を得る工程である。
前記交互共重合体を加水分解させる方法としては、前記交互共重合体及び酸成分を溶剤に加えて混合することにより行うことができる。該溶剤としては、上述した原子移動ラジカル重合に使用される溶剤と同様のものが挙げられる。
＜＜酸成分＞＞
酸成分は、特に限定されず、無機酸でもよいし、有機酸でもよい。
かかる酸成分としては、例えば、酢酸、シュウ酸、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、マロン酸等の有機酸；硫酸、塩酸、リン酸、臭化水素酸等の無機酸が挙げられる。
本実施形態の製造方法において、酸成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
酸成分は、特に限定されず、無機酸でもよいし、有機酸でもよい。
かかる酸成分としては、例えば、酢酸、シュウ酸、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、マロン酸等の有機酸；硫酸、塩酸、リン酸、臭化水素酸等の無機酸が挙げられる。
本実施形態の製造方法において、酸成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
上記交互共重合体と酸成分との反応の際の温度条件は、特に限定されず、例えば０～１２０℃程度である。
上記交互共重合体と酸成分との反応時間は、特に限定されず、例えば１～７２時間程度である。
上記交互共重合体と酸成分との反応時間は、特に限定されず、例えば１～７２時間程度である。
＜工程（ｉｉｉｂ）＞
工程（ｉｉｉｂ）は、高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ）と、上記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させて、高分子化合物（ｐ１）を得る工程である。
工程（ｉｉｉｂ）は、高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ）と、上記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させて、高分子化合物（ｐ１）を得る工程である。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ）と、一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させる方法としては、高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ）、上記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物、及び、上述した酸成分を溶剤に加えて混合することにより行うことができる。該溶剤としては、上述した原子移動ラジカル重合に使用される溶剤と同様のものが挙げられる。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ）と、上記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させる際の温度条件は、特に限定されず、例えば０～１２０℃程度である。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ）と、上記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させる際の反応時間は、特に限定されず、例えば１～７２時間程度である。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ）と、上記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させる際の反応時間は、特に限定されず、例えば１～７２時間程度である。
一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、高分子化合物（ｐ１）とは第３の態様で説明した内容と同様である。
（高分子化合物の製造方法：第３の方法）
本発明の第５の態様は、
（ｉｃ）上記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、上記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、上記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程（以下、工程（ｉｃ）ともいう）と、
（ｉｉｃ）前記交互共重合体を加水分解して、上記一般式（Ｐｒｅ－１ａ）で表される第１の高分子化合物前駆体を得る工程（以下、工程（ｉｉｃ）ともいう）と、
（ｉｉｉｃ）前記第１の高分子化合物前駆体と、上記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させて、上記一般式（Ｐｒｅ－１ｂ－２）で表される第２の高分子化合物前駆体を得る工程（以下、工程（ｉｉｉｃ）ともいう）と、
（ｉｖｃ）前記第２の高分子化合物前駆体を加水分解して、上記一般式（ｐ２）で表される高分子化合物を得る工程（以下、工程（ｉｖｃ）ともいう）と、を含む、高分子化合物の製造方法である。
本発明の第５の態様は、
（ｉｃ）上記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、上記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、上記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程（以下、工程（ｉｃ）ともいう）と、
（ｉｉｃ）前記交互共重合体を加水分解して、上記一般式（Ｐｒｅ－１ａ）で表される第１の高分子化合物前駆体を得る工程（以下、工程（ｉｉｃ）ともいう）と、
（ｉｉｉｃ）前記第１の高分子化合物前駆体と、上記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させて、上記一般式（Ｐｒｅ－１ｂ－２）で表される第２の高分子化合物前駆体を得る工程（以下、工程（ｉｉｉｃ）ともいう）と、
（ｉｖｃ）前記第２の高分子化合物前駆体を加水分解して、上記一般式（ｐ２）で表される高分子化合物を得る工程（以下、工程（ｉｖｃ）ともいう）と、を含む、高分子化合物の製造方法である。
上記工程（ｉｃ）は、上述した工程（ｉａ）と、上記工程（ｉｉｃ）は、上述した工程（ｉｉａ）とそれぞれ同一である。
＜工程（ｉｉｉｃ）＞
工程（ｉｉｉｃ）は、下記一般式（Ｐｒｅ－１ａ）で表される第１の高分子化合物前駆体（高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ａ））と、下記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（Ｐｒｅ－１ｂ－２）で表される第２の高分子化合物前駆体（以下、「高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－２）」という場合がある）を得る工程である。
工程（ｉｉｉｃ）は、下記一般式（Ｐｒｅ－１ａ）で表される第１の高分子化合物前駆体（高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ａ））と、下記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（Ｐｒｅ－１ｂ－２）で表される第２の高分子化合物前駆体（以下、「高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－２）」という場合がある）を得る工程である。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ａ）は、上述した工程（ｉｉａ）で説明したものと同様である。
上記一般式（Ａｄｄ－２）中、Ｒａ００４、Ｒａ００５は水素原子又はアルキル基である。
Ｒａ００４、Ｒａ００５のうち、少なくとも一方が水素原子であることが好ましく、両方が水素原子であることがより好ましい。
Ｒａ００４、Ｒａ００５のうち、少なくとも一方が水素原子であることが好ましく、両方が水素原子であることがより好ましい。
Ｒａ００４、又はＲａ００５がアルキル基である場合、該アルキル基としては、炭素数１～５のアルキル基が好ましい。具体的には、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく挙げられる。より具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基などが挙げられ、メチル基またはエチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
上記一般式（Ａｄｄ－２）中、Ｒａ００６の炭化水素基としては、直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、又は環状の炭化水素基が挙げられる。
該直鎖状のアルキル基は、炭素数が１～５であることが好ましく、炭素数が１～４がより好ましく、炭素数１または２がさらに好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基またはｎ－ブチル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
該直鎖状のアルキル基は、炭素数が１～５であることが好ましく、炭素数が１～４がより好ましく、炭素数１または２がさらに好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基またはｎ－ブチル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
該分岐鎖状のアルキル基は、炭素数が３～１０であることが好ましく、炭素数３～５がより好ましい。具体的には、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１－ジエチルプロピル基、２，２－ジメチルブチル基等が挙げられ、イソプロピル基であることが好ましい。
Ｒａ００６が環状の炭化水素基となる場合、該炭化水素基は、脂肪族炭化水素基でも芳香族炭化水素基でもよく、また、多環式基でも単環式基でもよい。
単環式基である脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
多環式基である脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
単環式基である脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
多環式基である脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
Ｒａ００６の環状の炭化水素基が芳香族炭化水素基となる場合、該芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基である。
この芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の炭素数は５～３０であることが好ましく、炭素数５～２０がより好ましく、炭素数６～１５がさらに好ましく、炭素数６～１２が特に好ましい。
芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
Ｒａ００６における芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を１つ除いた基（アリール基またはヘテロアリール基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（たとえばビフェニル、フルオレン等）から水素原子を１つ除いた基；前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（たとえば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など）等が挙げられる。前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環に結合するアルキレン基の炭素数は、１～４であることが好ましく、炭素数１～２であることがより好ましく、炭素数１であることが特に好ましい。
この芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の炭素数は５～３０であることが好ましく、炭素数５～２０がより好ましく、炭素数６～１５がさらに好ましく、炭素数６～１２が特に好ましい。
芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
Ｒａ００６における芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を１つ除いた基（アリール基またはヘテロアリール基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（たとえばビフェニル、フルオレン等）から水素原子を１つ除いた基；前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（たとえば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など）等が挙げられる。前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環に結合するアルキレン基の炭素数は、１～４であることが好ましく、炭素数１～２であることがより好ましく、炭素数１であることが特に好ましい。
Ｒａ００６における環状の炭化水素基は、置換基を有していてもよい。この置換基としては、例えば、－ＲＰ１、－ＲＰ２－Ｏ－ＲＰ１、－ＲＰ２－ＣＯ－ＲＰ１、－ＲＰ２－ＣＯ－ＯＲＰ１、－ＲＰ２－Ｏ－ＣＯ－ＲＰ１、－ＲＰ２－ＯＨ、－ＲＰ２－ＣＮ又は－ＲＰ２－ＣＯＯＨ（以下これらの置換基をまとめて「Ｒａ０５」ともいう。）等が挙げられる。
ここで、ＲＰ１は、炭素数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基又は炭素数６～３０の１価の芳香族炭化水素基である。また、ＲＰ２は、単結合、炭素数１～１０の２価の鎖状飽和炭化水素基、炭素数３～２０の２価の脂肪族環状飽和炭化水素基又は炭素数６～３０の２価の芳香族炭化水素基である。但し、ＲＰ１及びＲＰ２の鎖状飽和炭化水素基、脂肪族環状飽和炭化水素基及び芳香族炭化水素基の有する水素原子の一部又は全部はフッ素原子で置換されていてもよい。上記脂肪族環状炭化水素基は、上記置換基を１種単独で１つ以上有していてもよいし、上記置換基のうち複数種を各１つ以上有していてもよい。
炭素数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。
炭素数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式脂肪族飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．２］オクタニル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デカニル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカニル基、アダマンチル基等の多環式脂肪族飽和炭化水素基が挙げられる。
炭素数６～３０の１価の芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン、ビフェニル、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環から水素原子１個を除いた基が挙げられる。
ここで、ＲＰ１は、炭素数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基、炭素数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基又は炭素数６～３０の１価の芳香族炭化水素基である。また、ＲＰ２は、単結合、炭素数１～１０の２価の鎖状飽和炭化水素基、炭素数３～２０の２価の脂肪族環状飽和炭化水素基又は炭素数６～３０の２価の芳香族炭化水素基である。但し、ＲＰ１及びＲＰ２の鎖状飽和炭化水素基、脂肪族環状飽和炭化水素基及び芳香族炭化水素基の有する水素原子の一部又は全部はフッ素原子で置換されていてもよい。上記脂肪族環状炭化水素基は、上記置換基を１種単独で１つ以上有していてもよいし、上記置換基のうち複数種を各１つ以上有していてもよい。
炭素数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。
炭素数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式脂肪族飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．２］オクタニル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デカニル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカニル基、アダマンチル基等の多環式脂肪族飽和炭化水素基が挙げられる。
炭素数６～３０の１価の芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン、ビフェニル、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環から水素原子１個を除いた基が挙げられる。
Ｒａ００６が、Ｒａ’１、Ｒａ’２のいずれかと結合して環を形成する場合、該環式基としては、４～７員環が好ましく、４～６員環がより好ましい。該環式基の具体例としては、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基等が挙げられる。
上記一般式（Ａｄｄ－２）中、Ｘにおけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、その中でも、取り扱い性の容易さから、塩素原子であることが好ましい。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ａ）と、上記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させる方法としては、エステル化として公知の方法を用いることができる。例えば、高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ａ）、上記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物、及び塩基成分（ＤＢＵ（登録商標）等）を溶剤に加えて混合することにより行うことができる。
該溶剤としては、上述した原子移動ラジカル重合に使用される溶剤と同様のものが挙げられる。
該溶剤としては、上述した原子移動ラジカル重合に使用される溶剤と同様のものが挙げられる。
上記第１の高分子化合物前駆体と、上記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させる際の温度条件は、特に限定されず、例えば０～１２０℃程度である。
上記第１の高分子化合物前駆体と、上記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させる際の反応時間は、特に限定されず、例えば１～７２時間程度である。
上記第１の高分子化合物前駆体と、上記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させる際の反応時間は、特に限定されず、例えば１～７２時間程度である。
上記式（Ｐｒｅ－１ｂ－２）におけるＲｐ０１、Ｖｐ０１、Ｒｐ０４、Ｒｐ０５、Ｒｐ０６、及びｎ１は、上記式（ａ０－１）及び上記式（ａ０－２）で説明した内容と同様である。
上記式（Ｐｒｅ－１ｂ－２）におけるＲａ００４、Ｒａ００５、Ｒａ００６は、上記式（Ａｄｄ－２）のＲａ００４、Ｒａ００５、Ｒａ００６とそれぞれ同一である。
なお、上記式（Ｐｒｅ－１ｂ－２）中、－Ｃ（Ｒａ００４）（Ｒａ００５）－Ｏ－（Ｒａ００６）は酸解離性基（アセタール型酸解離性基）である。酸の作用により、－Ｃ（Ｒａ００４）（Ｒａ００５）－Ｏ－（Ｒａ００６）が解離し、極性の高いカルボキシ基が生じて極性が増大する。
なお、上記式（Ｐｒｅ－１ｂ－２）中、－Ｃ（Ｒａ００４）（Ｒａ００５）－Ｏ－（Ｒａ００６）は酸解離性基（アセタール型酸解離性基）である。酸の作用により、－Ｃ（Ｒａ００４）（Ｒａ００５）－Ｏ－（Ｒａ００６）が解離し、極性の高いカルボキシ基が生じて極性が増大する。
＜工程（ｉｖｃ）＞
上記工程（ｉｖｃ）は、高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－２）を加水分解して、上記一般式（ｐ２）で表される高分子化合物（以下、「高分子化合物（ｐ２）」という場合がある）を得る工程である。
上記工程（ｉｖｃ）は、高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－２）を加水分解して、上記一般式（ｐ２）で表される高分子化合物（以下、「高分子化合物（ｐ２）」という場合がある）を得る工程である。
前記高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－２）を加水分解させる方法としては、前記高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－２）及び塩基成分を溶剤に加えて混合することにより行うことができる。該溶剤としては、上述した原子移動ラジカル重合に使用される溶剤と同様のものが挙げられる。
塩基成分、塩基成分の使用量、反応時間等は上述した＜工程（ｉｖａ）＞で説明した内容と同様である。
塩基成分、塩基成分の使用量、反応時間等は上述した＜工程（ｉｖａ）＞で説明した内容と同様である。
上記一般式（ｐ２）におけるＲｐ０１、Ｖｐ０１、Ｒｐ０４、Ｒｐ０５、及びｎ１は、上記式（ａ０－１）及び上記式（ａ０－２）で説明した内容と同様である。
上記一般式（ｐ２）におけるＲａ００４、Ｒａ００５、Ｒａ００６は、上記式（Ａｄｄ－２）のＲａ００４、Ｒａ００５、Ｒａ００６とそれぞれ同一である。
上記一般式（ｐ２）におけるＲａ００４、Ｒａ００５、Ｒａ００６は、上記式（Ａｄｄ－２）のＲａ００４、Ｒａ００５、Ｒａ００６とそれぞれ同一である。
（高分子化合物の製造方法：第４の方法）
本発明の第６の態様は、
（ｉｄ）上記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、上記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、上記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程（以下、工程（ｉｄ）ともいう）と、
（ｉｉｄ）前記交互共重合体を加水分解して、上記一般式（Ｐｒｅ－２ａ）で表される高分子化合物前駆体を得る工程（以下、工程（ｉｉｄ）ともいう）と、
（ｉｉｉｄ）前記第１の高分子化合物前駆体と、上記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させて、上記一般式（ｐ２）で表される高分子化合物を得る工程（以下、工程（ｉｉｉｄ）ともいう）と、を含む、高分子化合物の製造方法である。
本発明の第６の態様は、
（ｉｄ）上記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、上記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、上記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程（以下、工程（ｉｄ）ともいう）と、
（ｉｉｄ）前記交互共重合体を加水分解して、上記一般式（Ｐｒｅ－２ａ）で表される高分子化合物前駆体を得る工程（以下、工程（ｉｉｄ）ともいう）と、
（ｉｉｉｄ）前記第１の高分子化合物前駆体と、上記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させて、上記一般式（ｐ２）で表される高分子化合物を得る工程（以下、工程（ｉｉｉｄ）ともいう）と、を含む、高分子化合物の製造方法である。
上記工程（ｉｄ）は、上述した工程（ｉｂ）と、上記工程（ｉｉｄ）は、上述した工程（ｉｉｂ）とそれぞれ同一である。
＜工程（ｉｉｉｄ）＞
工程（ｉｉｉｄ）は、上記一般式（Ｐｒｅ－２ａ）で表される第１の高分子化合物前駆体（高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ））と、上記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させて、上記一般式（ｐ２）で表される高分子化合物（高分子化合物（ｐ２））を得る工程である。
工程（ｉｉｉｄ）は、上記一般式（Ｐｒｅ－２ａ）で表される第１の高分子化合物前駆体（高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ））と、上記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させて、上記一般式（ｐ２）で表される高分子化合物（高分子化合物（ｐ２））を得る工程である。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ）と、上記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させる方法としては、上述した公知のエステル化反応が挙げられる。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ）と、上記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させる際の温度条件は、特に限定されず、例えば０～１２０℃程度である。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ）と、上記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させる際の反応時間は、特に限定されず、例えば１～７２時間程度である。
高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ）と、上記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させる際の反応時間は、特に限定されず、例えば１～７２時間程度である。
一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、高分子化合物（ｐ２）とは第５の態様で説明した内容と同様である。
以上説明した本実施形態の交互共重合体は、レジスト組成物用の基材成分として用いられる高分子化合物を製造するのに有用なものである。これは、ヒドロキシスチレン骨格が酸成分で脱保護可能な基で保護された化合物（モノマー）（ｍ０－１）と、特定のイミド構造を有する化合物（モノマー）（ｍ０－２）とを共重合させることにより、電子的・化学的性質によって重合が制御され、得られる交互共重合体の各構成単位のばらつきが抑えられるためであると、推測される。そのため、本実施形態の交互共重合体を用いて、高分子化合物製造し、前記高分子化合物をレジスト組成物の基材成分として採用することによって、リソグラフィー特性の改善が図れる。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
＜交互共重合体の製造例＞
（実施例１：交互共重合体の製造）
５０ｍＬ反応器内にＲｕＣｐ＊触媒６．４ｍｇ（０．００８０ｍｏｌ）とｐ－アセトキシスチレン（ＰＡＣＳ）０．６１５ｍL（４．０ｍｍｏｌ）とをシクロヘキサノン１．０ｍＬに溶解した。さらに、前記５０ｍＬ反応器内に、トリブチルアミン０．０２ｍＬ（０．０８０ｍｍｏｌ）、モノマー（Ｍ０－１－１）０．９８８ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、２－クロロ－２－フェニル酢酸エチル０．０１４ｍＬ（０．０８０ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で２４時間重合反応を行った。重合反応終了後、反応溶液をメタノール－ドライアイスのアイスバスで－７８℃までに急速冷却し、交互共重合体（ｐ０－１）を得た（０．５６４ｇ）。
（実施例１：交互共重合体の製造）
５０ｍＬ反応器内にＲｕＣｐ＊触媒６．４ｍｇ（０．００８０ｍｏｌ）とｐ－アセトキシスチレン（ＰＡＣＳ）０．６１５ｍL（４．０ｍｍｏｌ）とをシクロヘキサノン１．０ｍＬに溶解した。さらに、前記５０ｍＬ反応器内に、トリブチルアミン０．０２ｍＬ（０．０８０ｍｍｏｌ）、モノマー（Ｍ０－１－１）０．９８８ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、２－クロロ－２－フェニル酢酸エチル０．０１４ｍＬ（０．０８０ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で２４時間重合反応を行った。重合反応終了後、反応溶液をメタノール－ドライアイスのアイスバスで－７８℃までに急速冷却し、交互共重合体（ｐ０－１）を得た（０．５６４ｇ）。
得られた交互共重合体（ｐ０－１）について、ＧＰＣ測定により求めた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は１３７００であり、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．２５であった。
また、カーボン１３核磁気共鳴スペクトル（１５０ＭＨｚ＿１３Ｃ－ＮＭＲ）およびプロトン１核磁気共鳴スペクトル（６００ＭＨｚ＿１Ｈ－ＮＭＲ）により求められた共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））はｌ／ｍ＝５０／５０であった。
また、カーボン１３核磁気共鳴スペクトル（１５０ＭＨｚ＿１３Ｃ－ＮＭＲ）およびプロトン１核磁気共鳴スペクトル（６００ＭＨｚ＿１Ｈ－ＮＭＲ）により求められた共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））はｌ／ｍ＝５０／５０であった。
上記交互共重合体（ｐ０－１）について、ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ－ＭＳを用いて交互重合性を評価した。その結果、各構成単位のピークが交互に確認され、交互共重合体中の各構成単位のばらつきが少ないことが確認できた。
＜高分子化合物の製造例＞
（実施例２：高分子化合物の製造（１））
上記実施例１と同様の方法により、交互共重合体（ｐ０－１）を得た。前記交互共重合体（ｐ０－１）（０．１５ｍｏｌ（３０．７１ｇ））とヒドラジン一水和物（０．１９ｍｏｌ）とをＴＨＦ（２００ｍＬ）に溶解させ、６５℃で４時間撹拌した。
反応溶液を室温まで放冷した後、さらに０℃まで冷却を行い、塩酸（１００ｍＬ）を滴下し、得られた粉体を回収した。前記粉体を減圧乾燥し、第１の高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ａ－１）を得た（０．１３ｍｏｌ（１６．１４ｇ））。
（実施例２：高分子化合物の製造（１））
上記実施例１と同様の方法により、交互共重合体（ｐ０－１）を得た。前記交互共重合体（ｐ０－１）（０．１５ｍｏｌ（３０．７１ｇ））とヒドラジン一水和物（０．１９ｍｏｌ）とをＴＨＦ（２００ｍＬ）に溶解させ、６５℃で４時間撹拌した。
反応溶液を室温まで放冷した後、さらに０℃まで冷却を行い、塩酸（１００ｍＬ）を滴下し、得られた粉体を回収した。前記粉体を減圧乾燥し、第１の高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ａ－１）を得た（０．１３ｍｏｌ（１６．１４ｇ））。
５００ｍＬ三口フラスコに第１の高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ａ－１）（０．１３ｍｏｌ（１６．１４ｇ））を、それの三倍量のジクロロメタンに溶解させ、窒素置換し５℃以下まで冷却を行った。そこに、４－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）（０．０３ｍｏｌ）のジクロロメタン溶液を５分間かけて１０℃を超えないようにして滴下した。さらに、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール（０．４５ｍｏｌ）を１５分かけて滴下し、１０分間熟成を行った。
その後、さらに１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ／ＨＣｌ）（０．３８ｍｏｌ）のジクロロメタン溶液を９０分かけて１０℃以下で滴下し、１８時間１０℃以下で攪拌を行った。
その後、１％塩酸にて洗浄をおこない有機層を回収した。そして水洗を３回繰り返した。
その後有機層を濃縮し、濃縮した液にｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル（ＴＢＭＥ）を１時間かけて滴下した。
固形分を回収し減圧乾燥を行い、第２の高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－１１）を得た（０．１０ｍｏｌ（１６．５２ｇ））。
その後、さらに１－（３－ジメチルアミノプロピル）－３－エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ／ＨＣｌ）（０．３８ｍｏｌ）のジクロロメタン溶液を９０分かけて１０℃以下で滴下し、１８時間１０℃以下で攪拌を行った。
その後、１％塩酸にて洗浄をおこない有機層を回収した。そして水洗を３回繰り返した。
その後有機層を濃縮し、濃縮した液にｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル（ＴＢＭＥ）を１時間かけて滴下した。
固形分を回収し減圧乾燥を行い、第２の高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－１１）を得た（０．１０ｍｏｌ（１６．５２ｇ））。
前記第２の高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－１ｂ－１１）（０．１ｍｏｌ（１６．５２ｇ））をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に溶解させ、等モルの１％Ｋ２ＣＯ３水溶液を用いて室温で１時間攪拌を行った。
その後ヘプタン／イソプロピルアルコールの混合溶剤に３０分かけて滴下し、析出させ粉体を得た。
得られた粉体をヘプタン／イソプロピルアルコールの混合溶剤を用いて複数回分散洗浄を行った。
固形分を回収し減圧乾燥を行い、高分子化合物（ｐ１－１）を得た（０．０６ｍｏｌ（７．８ｇ））。
その後ヘプタン／イソプロピルアルコールの混合溶剤に３０分かけて滴下し、析出させ粉体を得た。
得られた粉体をヘプタン／イソプロピルアルコールの混合溶剤を用いて複数回分散洗浄を行った。
固形分を回収し減圧乾燥を行い、高分子化合物（ｐ１－１）を得た（０．０６ｍｏｌ（７．８ｇ））。
得られた高分子化合物（ｐ１－１）について、ＧＰＣ測定により求めた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は９０００であった。
また、カーボン１３核磁気共鳴スペクトル（１５０ＭＨｚ＿１３Ｃ－ＮＭＲ）およびプロトン１核磁気共鳴スペクトル（６００ＭＨｚ＿１Ｈ－ＮＭＲ）により求められた共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））はｌ／ｍ＝５０／５０であった。
また、カーボン１３核磁気共鳴スペクトル（１５０ＭＨｚ＿１３Ｃ－ＮＭＲ）およびプロトン１核磁気共鳴スペクトル（６００ＭＨｚ＿１Ｈ－ＮＭＲ）により求められた共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））はｌ／ｍ＝５０／５０であった。
（実施例３：高分子化合物の製造（２））
上記実施例１と同様の方法により、交互共重合体（ｐ０－１）を得た。前記交互共重合体（ｐ０－１）（０．１５ｍｏｌ（２９．５０ｇ））をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）（１００ｍＬ）に溶解させ、メタンスルホン酸（５０ｍＬ）用いて室温で１時間攪拌を行った。
その後ヘプタン／イソプロピルアルコールの混合溶剤に３０分かけて滴下し、析出させ粉体を得た。得られた粉体をヘプタン／イソプロピルアルコールの混合溶剤を用いて複数回分散洗浄を行った。
固形分を回収し減圧乾燥を行い、高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ－１）を得た（０．１１ｍｏｌ（２１．６３ｇ））。
上記実施例１と同様の方法により、交互共重合体（ｐ０－１）を得た。前記交互共重合体（ｐ０－１）（０．１５ｍｏｌ（２９．５０ｇ））をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）（１００ｍＬ）に溶解させ、メタンスルホン酸（５０ｍＬ）用いて室温で１時間攪拌を行った。
その後ヘプタン／イソプロピルアルコールの混合溶剤に３０分かけて滴下し、析出させ粉体を得た。得られた粉体をヘプタン／イソプロピルアルコールの混合溶剤を用いて複数回分散洗浄を行った。
固形分を回収し減圧乾燥を行い、高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ－１）を得た（０．１１ｍｏｌ（２１．６３ｇ））。
５００ｍＬ三口フラスコに高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ－１）をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）／ｔｅｒｔ－ブチルアルコールの混合溶剤に溶解させ、濃硫酸を加えて１２時間加熱還流を行った。
反応終了後室温に戻し、水を加えて固体を析出させ、水で分散洗浄を３回繰り返しｐＨを中性に戻した。
固形分を回収し減圧乾燥を行い、高分子化合物（ｐ１－２）を得た（０．０２ｍｏｌ（２．６２ｇ））。
反応終了後室温に戻し、水を加えて固体を析出させ、水で分散洗浄を３回繰り返しｐＨを中性に戻した。
固形分を回収し減圧乾燥を行い、高分子化合物（ｐ１－２）を得た（０．０２ｍｏｌ（２．６２ｇ））。
得られた高分子化合物（ｐ１－２）について、ＧＰＣ測定により求めた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は９０００であった。
また、カーボン１３核磁気共鳴スペクトル（１５０ＭＨｚ＿１３Ｃ－ＮＭＲ）およびプロトン１核磁気共鳴スペクトル（６００ＭＨｚ＿１Ｈ－ＮＭＲ）により求められた共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））はｌ／ｍ＝５０／５０であった。
また、カーボン１３核磁気共鳴スペクトル（１５０ＭＨｚ＿１３Ｃ－ＮＭＲ）およびプロトン１核磁気共鳴スペクトル（６００ＭＨｚ＿１Ｈ－ＮＭＲ）により求められた共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））はｌ／ｍ＝５０／５０であった。
（実施例４：高分子化合物の製造３）
実施例３と同様の方法により、高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ－１）を得た。
５００ｍＬ三口フラスコに高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ－１）をＤＢＵ（登録商標）（０．０８ｍｏｌ）、ＤＭＦ１００ｍｌに溶解させ、化合物１（０．１５ｍｏｌ）を加え４時間加熱還流を行った。放冷後、水を加え、固形分を得て、さらに水で分散洗浄を２回行った。
固形分を回収し減圧乾燥を行い、高分子化合物（ｐ２－１）を得た（０．０２ｍｏｌ（３．７０ｇ））。
実施例３と同様の方法により、高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ－１）を得た。
５００ｍＬ三口フラスコに高分子化合物前駆体（Ｐｒｅ－２ａ－１）をＤＢＵ（登録商標）（０．０８ｍｏｌ）、ＤＭＦ１００ｍｌに溶解させ、化合物１（０．１５ｍｏｌ）を加え４時間加熱還流を行った。放冷後、水を加え、固形分を得て、さらに水で分散洗浄を２回行った。
固形分を回収し減圧乾燥を行い、高分子化合物（ｐ２－１）を得た（０．０２ｍｏｌ（３．７０ｇ））。
得られた高分子化合物（ｐ２－１）について、ＧＰＣ測定により求めた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は１２０００であった。
また、カーボン１３核磁気共鳴スペクトル（１５０ＭＨｚ＿１３Ｃ－ＮＭＲ）およびプロトン１核磁気共鳴スペクトル（６００ＭＨｚ＿１Ｈ－ＮＭＲ）により求められた共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））はｌ／ｍ＝５０／５０であった。
また、カーボン１３核磁気共鳴スペクトル（１５０ＭＨｚ＿１３Ｃ－ＮＭＲ）およびプロトン１核磁気共鳴スペクトル（６００ＭＨｚ＿１Ｈ－ＮＭＲ）により求められた共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））はｌ／ｍ＝５０／５０であった。
Claims (6)
- 下記一般式（ａ０－１）で表される構成単位（ａ０－１）と、
下記一般式（ａ０－２）で表される構成単位（ａ０－２）と、
を有することを特徴とする交互共重合体。
- 下記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、下記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程を含む、交互共重合体の製造方法。
- 下記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、下記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程と、
前記交互共重合体を加水分解して、下記一般式（Ｐｒｅ－１ａ）で表される第１の高分子化合物前駆体を得る工程と、
前記第１の高分子化合物前駆体と、下記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（Ｐｒｅ－１ｂ－１）で表される第２の高分子化合物前駆体を得る工程と、
前記第２の高分子化合物前駆体を加水分解して、下記一般式（ｐ１）で表される高分子化合物を得る工程と、
を含む、高分子化合物の製造方法。
- 下記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、下記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程と、
前記交互共重合体を加水分解して、下記一般式（Ｐｒｅ－２ａ）で表される高分子化合物前駆体を得る工程と、
前記高分子化合物前駆体と、下記一般式（Ａｄｄ－１）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（ｐ１）で表される高分子化合物を得る工程と、
を含む、高分子化合物の製造方法。
- 下記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、下記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程と、
前記交互共重合体を加水分解して、下記一般式（Ｐｒｅ－１ａ）で表される第１の高分子化合物前駆体を得る工程と、
前記第１の高分子化合物前駆体と、下記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（Ｐｒｅ－１ｂ－２）で表される第２の高分子化合物前駆体を得る工程と、
前記第２の高分子化合物前駆体を加水分解して、下記一般式（ｐ２）で表される高分子化合物を得る工程と、
を含む、高分子化合物の製造方法。
- 下記一般式（ｍ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ｍ０－２）で表される化合物と、をリビングラジカル重合により共重合させて、下記一般式（ｐ０）で表される交互共重合体を得る工程と、
前記交互共重合体を加水分解して、下記一般式（Ｐｒｅ－２ａ）で表される高分子化合物前駆体を得る工程と、
前記高分子化合物前駆体と、下記一般式（Ａｄｄ－２）で表される化合物と、を反応させて、下記一般式（ｐ２）で表される高分子化合物を得る工程と、
を含む、高分子化合物の製造方法。
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