JP7329710B1 - 超音波洗浄装置 - Google Patents

Abstract

【課題】洗浄効果の高い超音波洗浄の利便性を高め、民生機器として使い勝手のよい超音波洗浄装置を実現する。【解決手段】洗浄装置は、装置筐体２６、処理水３０、被洗浄物２８が収容される処理槽４、処理水を供給して循環流を生じさせる給水機構１０と、処理水を排水する排水機構１２、超音波振動を処理槽に付与する超音波振動子６を含む。給水機構は、処理水供給管４６に処理水を流す給水弁５４、処理槽の槽底部で給水ノズルから処理水の噴流を生じさせて槽底部から処理水を給水する給水部４４を含む、排水機構は、処理水をろ過する複数のろ過孔４２を備えた排水フィルタ、排水フィルタを通過した処理水を排水する排水部５６、処理水を排水する排水管６０、処理水を処理槽から排水させる排水弁６４を含む。【選択図】図１

Description

特許法第３０条第２項適用 ・試験日、試験をした場所 １．２０２１年 １０月１８日～１１月１５日、ホテルザセレスティン東京芝 セレスティンダイニング ラ プルーズ東京 ２．２０２１年 １０月２１日、帝国ホテル ３．２０２１年 １１月１１日、丁子屋栄

本開示は、超音波の振動作用によりたとえば、果実、野菜などの被洗浄物を洗浄する超音波洗浄装置およびその清掃方法に関する。

超音波洗浄では処理槽に充填された処理液中に被洗浄物としてたとえば、果実、野菜、生鮮食料品などを浸し、超音波を作用させる。超音波の発生源である超音波振動子は処理槽の外底部に設置し、処理槽の外部から処理液中に超音波を付与する。

この超音波洗浄に関し、たとえば、特許文献１や特許文献２には、処理槽の底部外面に超音波振動子を取り付け、処理槽に充填された処理水に洗浄対象物を浸漬した状態で超音波振動子が発生する超音波を処理槽内に付与し、洗浄対象物の超音波洗浄を行うことが開示されている。

特開２０１３－２３３５０２号公報 特開２０１７－１９２３２４号公報

ところで、超音波洗浄装置の課題を列挙すれば次のとおりである。
超音波洗浄では、処理槽に処理水を継続的に供給し、継続的に音波振動を供給するとともに、処理水の排水を行う。処理槽に供給する処理水が過剰であれば、処理水が処理槽から溢水する。洗浄時、処理水中に固形物や懸濁物が生じる。固形物はたとえば、被洗浄物から分離したものであり、懸濁物は被洗浄物から落ちた汚れなどである。溢水した処理水に汚れなどが混じっていれば、この汚れが環境を悪化させるという課題もある。

処理槽は装置筐体に設置され、処理槽に収容された処理水は洗浄時、流動している。処理槽を支持する装置筐体と処理槽の上縁との距離は近く、処理槽から装置筐体内に処理水が浸入し、装置筐体内を浸潤状態にし、装置筐体内を汚すという課題がある。

処理槽の槽底部には超音波振動子が設置されており、洗浄時、処理槽には超音波振動子から超音波振動が加えられる。処理槽と装置筐体の間の固定強度が低い場合には、処理槽と装置筐体の間で不要振動を生じるという課題もある。また、このような振動が処理槽と装置筐体との間に隙間を生じさせるという課題もある。

処理槽には水道水などを処理水に用いて供給される。超音波洗浄装置が設置される環境や季節において、たとえば、環境温度と処理槽との間に温度差を生じると、処理槽の外壁に結露を生じるという課題がある。この結露を放置すれば、装置筐体内に黴などが繁殖し、不潔になるなどの課題がある。

処理槽には処理水を供給する給水部が設置されるが、被洗浄物が給水部に干渉すると給水が妨げられ、洗浄効率を低下させてしまうという課題がある。また、排水部についても被洗浄物から離脱した固形物で処理水の排出が妨げられ、排水処理に手間取るという課題もある。

また、洗浄中、処理槽に収容された被洗浄物が洗浄時、処理水の噴流や超音波振動を受け、処理水上に浮き上がると、洗浄むらを生じ、これを回避するための処理が面倒であるという課題がある。

そこで、本開示の目的は、上記課題に鑑み、洗浄効果の高い超音波洗浄の利便性を高め、民生機器として使い勝手のよい超音波洗浄装置を実現することにある。

上記目的を達成するため、本開示の超音波洗浄装置の一側面によれば、装置筐体と、前記装置筐体に設置されて処理水および被洗浄物が収容される処理槽と、前記装置筐体に設置されて前記処理槽に前記処理水を供給し、前記処理水に循環流を生じさせる給水機構と、前記装置筐体に設置されて前記処理槽から前記処理水を排水する排水機構と、前記処理槽の槽底外部に設置されて超音波を生成し、超音波振動を前記処理槽に付与する超音波振動子と、前記装置筐体と前記処理槽との間に弾性部材を介在させて防水する防水部と、前記弾性部材を圧縮状態に保持して前記装置筐体に前記処理槽を固定する固定機構と、を含み、前記給水機構が、洗浄時、開状態にされて処理水供給管に前記処理水を流す給水弁と、前記処理槽の槽底部に設置されて前記処理水供給管に連結された給水ノズルを含み、この給水ノズルから上方向および周辺方向に前記処理水の噴流を生じさせて前記処理槽の前記槽底部から前記処理水を給水する給水部と、を含み、前記排水機構が、上方向および周辺方向から前記処理水を受けてろ過する複数のろ過孔を備えた排水フィルタを前記槽底部に設置し、該排水フィルタを通過した前記処理水を排水する排水部と、前記排水部に連結されて前記処理水を排水する排水管と、前記排水管に設置され、少なくとも洗浄終了時、開状態にされて前記処理水を前記処理槽から前記排水管に排水させる排水弁と、を含み、前記固定機構が、前記処理槽と前記装置筐体との間に設置される支柱部と、前記処理槽および前記装置筐体間の前記支柱部の長さを加減して前記弾性部材の圧縮状態を調整する固定力調整機構と、を含む。

この超音波洗浄装置において、前記処理槽の槽壁に設置された断熱層を含む。

この超音波洗浄装置において、前記処理水を通過させる通過孔を備え、前記処理槽の底部に支柱部で支持させて前記処理槽を槽底側と洗浄空間側とに分離するセパレータを含む。

この超音波洗浄装置において、前記処理水を通過させる通水孔を備え、前記処理槽に固定アームで係止させることにより、前記処理槽内で前記被洗浄物の浮き上がりを阻止する抑えプレートを含む。

この超音波洗浄装置において、前記固定アームは、少なくとも前記処理槽と接触する部分に振動吸収層を備え、この振動吸収層に前記処理槽からの振動を吸収させる。

この超音波洗浄装置において、前記処理槽に溢水レベルを超える前記処理水を前記処理槽から溢水させる溢水部を設け、この溢水部から溢水させた前記処理水を捕捉する溢水捕捉部を含み、この溢水捕捉部で捕捉した前記処理水を前記排水管に排水させる。

この超音波洗浄装置において、前記処理水をろ過して前記溢水捕捉部に流す溢水フィルタを含む。

本開示によれば、次の何れかの効果が得られる。
(1) この超音波洗浄装置によれば、洗浄効果の高い超音波洗浄の利便性を向上させ、民生機器として使い勝手のよい超音波洗浄装置を実現できる。

(2) この超音波洗浄装置によれば、装置筐体から処理槽を分解することなく処理槽を清掃でき、処理槽の清浄化を図り、超音波洗浄の洗浄効果を維持できる。

図１は、一実施の形態に係る超音波洗浄装置の機能部を示す図である。 図２は、操作パネル側から見て超音波洗浄装置を示す斜視図である。 図３は、処理槽のオーバーフロー機構を示す分解斜視図である。 図４は、処理水の溢水を示す図である。 図５は、給水機構を示す図である。 図６は、給水部を示す分解斜視図である。 図７のＡは、給水部を示す断面図であり、図７のＢは、図７のＡのVIIB－ VIIB 断面図である。 図８のＡは、処理水の噴流を示す図、図８のＢは、処理水の還流を示す図である。 図９のＡは、排水機構を示す図であり、図９のＢは、処理槽を示す平面図である。 図１０のＡは、排水部の分解斜視図であり、図１０のＢは、排水フィルタを示す斜視図である。 図１１のＡは、排水部を示す断面図であり、図１１のＢは、図１１のＡのXIB － XIB断面図である。 図１２のＡは、処理水の排水を示す図であり、図１２のＢは、排水流を示す図である。 図１３は、装置筐体と処理槽との防水固定機構を示す図である。 図１４のＡは、防水部を示す分解断面図であり、図１４のＢは、防水部を示す断面図である。 図１５のＡは、固定機構部を示す分解図であり、図１５のＢは、固定機構部を示す断面図である。 図１６は、処理槽の断熱構造を示す断面図である。 図１７は、セパレータを含む処理槽を示す部分断面図である。 図１８のＡは、セパレータを示す平面図であり、図１８のＢは、図１８のＡのXVIIIB－XVIIIB断面図である。 図１９のＡは、処理かごを示す斜視図であり、図１９のＢは処理かごの底面図である。 図２０のＡは、被洗浄物を装填した処理かごを示す図であり、図２０のＢは、処理かごとともに被洗浄物を装填した処理槽を示す図である。 図２１のＡは、抑えプレートを示す斜視図であり、図２１のＢは、抑えプレートを設置した処理槽を示す断面図であり、図２１のＣは係止部の断面図である。 図２２のＡは、被洗浄物の装填工程を示す図であり、図２２のＢは、処理水の給水工程を示す図である。 図２３のＡは、被洗浄物の洗浄工程を示す図であり、図２３のＢは、洗浄後の処理水の排水工程を示す図である。 図２４は、処理槽の清掃工程を示す図である。

図１は、一実施の形態に係る超音波洗浄装置２（以下、単に「洗浄装置２」と称する。）の機能部を例示している。この機能部は、本開示の超音波洗浄装置の一例であって、図１に示す構成に限定されるものではない。

この洗浄装置２には、厨房機器と独立して利用可能なスタンドアロンタイプや、厨房機器に実装されるビルトインタイプが含まれる。図１に示す洗浄装置２はスタンドアロンタイプの例示であり、斯かる機能部はスタンドアロンタイプに向けられた一例である。

＜洗浄装置２の機能部＞
この洗浄装置２の機能部には、処理槽４、超音波振動子６（以下単に「振動子６」と称する。）、オーバーフロー機構８、給水機構１０、排水機構１２、防水固定機構１４、セパレータ１６、処理かご１８、抑えプレート２０、操作パネル２２、制御基板２４などが含まれている。

処理槽４は０．６ｍｍ程度の厚さを持つステンレスなどの金属板で成形されたたとえば、ドーム状の成型体からなる容器であり、装置筐体２６に設置されている。処理槽４には被洗浄物２８および処理水３０が収容される。被洗浄物２８は、果実、野菜、生鮮食料品など、何れでもよい。図示した被洗浄物２８は苺であり、処理かご１８とともに処理槽４に装填されている。処理水３０は超音波の伝送媒体であるとともに、洗浄によって被洗浄物２８から分離した汚れなどの分離物を流動させる流体である。この処理水３０にはたとえば、水道水などの上水を用いればよい。

振動子６は洗浄時、電気エネルギを受けて超音波を発生する超音波発生源であり、処理槽４の外底部３２に設置されている。この処理槽４では複数の超音波振動子としてたとえば、３個の振動子６が取り付けられており、各振動子６は処理槽４の外底部中心を基準にたとえば、１２０度の間隔で配置されている。

オーバーフロー機構８は、洗浄時、処理槽４から溢水する処理水３０を捕捉して排出させる。このオーバーフロー機構８は溢水捕捉部３４および排水管３６を備え、溢水捕捉部３４で捕捉した処理水３０を排水管３６に流す。溢水捕捉部３４は処理槽４に形成された溢水口３８に連結され、この溢水口３８から溢水した処理水３０を捕捉し、排水管３６を通して排水機構１２側に導く。この溢水捕捉部３４には処理水３０をろ過する溢水フィルタ４０を着脱可能に備えている。この溢水フィルタ４０は溢水する処理水３０のろ過手段である。この溢水フィルタ４０に形成されたろ過孔４２を以て処理槽４には処理水３０の溢水レベルが設定されている。この溢水レベルを超える処理水３０は図示しているように、オーバーフロー機構８に捕捉されて排水機構１２側に排出される。

給水機構１０は、処理槽４に処理水３０を給水する手段であって、処理槽４の給水部４４に給水する。給水部４４は処理槽４の外底部３２の中央に設置され、後述の給水ノズル９４（図８のＡ）を備えて処理水３０を受け、処理槽４内に処理水３０の噴流を生じさせる。給水管４６には給水接続口部４８、空気抜き弁５０、定流量弁５２および給水弁５４が設置されている。給水接続口部４８にはたとえば、上水管５５が接続され、処理水３０が供給される。空気抜き弁５０は給水管４６に流れる処理水３０から空気を離脱させる。定流量弁５２は、給水部４４に供給する処理水３０の流量を定流量化する。給水弁５４は、洗浄時に開状態に制御されるたとえば、電磁弁であり、洗浄終了時に閉状態に制御される。

排水機構１２は、処理槽４から処理水３０を排水する手段であって、排水部５６を備えて処理槽４から処理水３０を排水する。排水部５６は後述の排水フィルタ１１８（図１２のＡ）を備えて処理水３０をろ過して排水する。この排水部５６には排水管６０が連結されている。この排水管６０は排水接続口部６２および排水弁６４を備えている。排水接続口部６２には図示しない外部のたとえば、ドレン管６５が接続されている。排水弁６４は洗浄時に閉状態に制御されるたとえば、電磁弁であり、洗浄終了時に開状態に制御される。この排水弁６４の下流側の排水管６０には排水管３６が連結されており、溢水捕捉部３４からの処理水３０が排水弁６４の開閉に無関係に排水接続口部６２からドレン管６５に排出される。

防水固定機構１４は防水部６６および固定機構部６８を備え、処理槽４と装置筐体２６との間の防水とともに、装置筐体２６に処理槽４を固定している。防水部６６は、後述の止水パッキン１４６（図１４）を備え、処理槽４と装置筐体２６との間を止水する。これに対し、固定機構部６８は、防水部６６の止水パッキン１４６を圧縮状態に維持し、処理槽４と装置筐体２６との間の固定力の調整が可能である。装置筐体２６の底部には複数の脚部７０が取り付けられ、各脚部７０は防振材料で形成され、装置筐体２６から設置箇所への振動伝達を緩和する。

セパレータ１６は、処理槽４の底板上に設置され、被洗浄物２８の洗浄空間を給水部４４および排水部５６を含む槽底部側と分離する。この分離間隔を設定するため、セパレータ１６には背面側に所定高さを持つ複数の脚部７２が設けられている。各脚部７２は支柱部の一例であり、セパレータ１６を処理槽４内に一定の高さに維持する。

処理かご１８は、セパレータ１６の上面に設置可能であるが、被洗浄物２８に応じて使い分ける。苺のように被洗浄物２８の体積が小さく、一括して処理可能な被洗浄物２８に対しては処理かご１８の使用が有効である。これに対し、キャベツなどの体積の大きい被洗浄物２８に対しては処理かご１８を不要とし、処理槽４に直に被洗浄物２８を装填すればよい。

抑えプレート２０は、処理槽４の開口部７６に設置されて被洗浄物２８の浮き上がりを阻止する。この抑えプレート２０は、複数の固定アーム７４を備え、この固定アーム７４によって処理槽４の開口縁部に着脱可能に固定される。

そして、制御基板２４には操作パネル２２からの操作入力を受け付け、給水弁５４、排水弁６４の開閉制御などを行う制御部が設置されている。操作パネル２２には洗浄動作の開始や停止を行う操作スイッチなどの操作部や表示部が設置されている。

＜洗浄装置２の外観形態＞
図２は、操作パネル２２側から見た洗浄装置２の外観形態を示している。装置筐体２６に設置された処理槽４が開口され、この処理槽４の開口部７６からセパレータ１６の設置、被洗浄物２８の装填、抑えプレート２０などの設置が可能である。この開口部７６には図示しない蓋部が着脱可能である。この装置筐体２６には側部前面側に操作筐体７７が設置され、この操作筐体７７の上面には、操作パネル２２が前方に傾斜して設置されている。操作筐体７７の下側には電源スイッチ７８が配設されている。

＜オーバーフロー機構８＞
洗浄中、処理槽４中の処理水３０は給水や超音波振動を受けて著しい水位変動を生じる。この水位変動に応じた排水機能が維持されない場合には処理槽４から処理水３０が溢水するという課題があった。斯かる課題に対し、このオーバーフロー機構８は、処理水３０の急激な水位変動を受けても、溢水レベルを超えた処理水３０を適正に排出させ、処理槽４の上縁からの溢れ出しを防止する。このオーバーフロー機構８では、処理水３０に被洗浄物２８からの分離や離脱によって生じた固形物などが含まれていても、溢水機能や排水機能の低下を防止し、処理水３０の排水機能を維持し、処理水３０に含まれる固形物の流出による排水機能の低下や排水不能に陥ることを回避する。

図３は、オーバーフロー機構８を分解して示している。図３において、図１と同一部分には同一符号を付してある。

処理槽４には図３に示すように、長方形状の溢水口３８が開口されている。この溢水口３８はたとえば、長方形状の開口部である。この溢水口３８には、処理槽４内に支持枠８０を配置し、この支持枠８０と溢水捕捉部３４とで処理槽４を挟み込んで、固定ねじ８２を以て溢水捕捉部３４と支持枠８０が処理槽４に固定される。支持枠８０と溢水捕捉部３４のフランジ部８４と処理槽４の間には止水パッキン８６が挟み込まれ、この止水パッキン８６によって溢水捕捉部３４および処理槽４の間の止水処理が施されている。

支持枠８０には溢水フィルタ４０が着脱可能に設置される。この溢水フィルタ４０には複数のろ過孔４２が形成されており、下部側のろ過孔４２で溢水レベルが設定されている。なお、溢水フィルタ４０の切欠き部８８は着脱の際に用いられる。

図４は、オーバーフロー機構８の溢水捕捉部３４の断面を示している。この溢水捕捉部３４には排水口９０と一体に排水管連結部９２が設置され、この排水管連結部９２と排水管６０との間にオーバーフロー機構８側の排水管３６が連結されている。排水口９０および排水管３６の口径は一例として１４ｍｍ程度である。したがって、処理槽４から溢水捕捉部３４で設定された溢水レベルを超えて溢水捕捉部３４に捕捉された処理水３０は、排水口９０から排水管３６を経て排水管６０に至る。

＜オーバーフロー機構８の効果＞
このオーバーフロー機構８によれば、次の何れかの効果が得られる。
(1) 処理水３０の水位が溢水レベルＬｒｅｆを超えると、処理水３０が処理槽４から溢水捕捉部３４に流れ込んで捕捉され、排水管３６から排水機構１２の排水管６０に排水させることができる。したがって、処理槽４の上縁から処理水３０が溢れ出るなどの不都合を防止できる。

(2) 処理水３０に被洗浄物２８からの分離や離脱によって生じた固形物などが含まれていても、斯かる固形物は溢水フィルタ４０でろ過されるので、処理水３０のみを溢水捕捉部３４に捕捉して排出できるとともに、排水管３６、６０の詰まりなどを防止でき、排水機能を継続的に維持することができる。

(3) 排水管３６、６０に口径の大きい管路を使用することで、排水機能を高めることができ、処理槽４の処理水３０の水位が急激に上昇し、処理槽４からの処理水３０の溢水量が増大しても、処理水３０の充分な排水機能が得られる。

(4) 処理槽４から処理水３０のオーバーフロー機構８以外の溢れを防止でき、処理水３０の漏洩による環境劣化を防止できる。

(5) ろ過孔４２の密度や口径の異なる複数の溢水フィルタ４０を用意し、被洗浄物２８に応じて溢水フィルタ４０を交換すれば、処理水３０の溢水機能を高めることができるとともに、溢水フィルタ４０の機能低下を防止でき、より利便性の高い洗浄装置２を実現することができる。

＜給水機構１０＞
給水機構１０は、洗浄時など、処理槽４に清浄な処理水３０を連続して供給し、超音波洗浄では処理槽４内の処理水３０に循環流を生じさせる必要がある。洗浄時、処理水３０を排水部５６から排水させる場合にあっても、この排水を妨げまたは排水に妨げられることなく、処理水３０に噴流を生じさせることが有効である。この給水機構１０では、上水圧を利用して噴流を生じさせて処理水３０を処理槽４に供給し、以て処理槽４内の処理水３０を均一化し、洗浄時の給水にあっては超音波振動と相まって洗浄効果の向上に寄与する。

図５は、給水機構１０を示している。図５において、図１と同一部分には同一符号を付してある。

この給水機構１０は、処理槽４の外底部３２の中央に設置された給水部４４に処理水３０を受け、給水弁５４が開状態に制御されたとき、たとえば、処理水３０が有する上水圧を以て処理水３０の噴流を生じさせる。

図６は、給水部４４を分解して示している。この給水部４４は、給水ノズル９４および給水連結部９６を備える。給水ノズル９４は、給水連結部９６を通して給水管４６と結合され、給水管４６から処理水３０の給水を受ける。給水連結部９６は、給水ノズル９４と給水管４６とを連結するための手段である。

給水ノズル９４は、ノズルヘッド９８および給水管結合部１００を備えている。ノズルヘッド９８には、ＸＹ軸方向にたとえば、４個のノズル口１０２、Ｚ軸方向にたとえば、１個のノズル口１０４が形成され、これらノズル口１０２、１０４は給水管結合部１００に連通している。

給水連結部９６は、処理槽固定部１０６および給水管装着部１０８を備え、たとえば、合成樹脂などの弾性材料またはステンレスなどの金属材料で形成されている。処理槽固定部１０６は処理槽４の貫通口１１０に挿入されて貫通口１１０と連結される。給水管装着部１０８には開口部側にフランジ部１１２が形成され、給水連結部９６が強化されている。

給水管４６の端部にはフランジ部１１４が形成されているとともに、止水手段としてのＯリング１１６が取り付けられている。フランジ部１１４は給水管４６からのＯリング１１６の抜け止めとして機能する。給水管４６には給水ノズル９４の給水管結合部１００が挿入され、この給水管結合部１００と連結される。この給水管結合部１００と給水管４６の結合により、ノズルヘッド９８のノズル口１０２、１０４が処理槽４に対する複数の給水口として機能する。

図７のＡは、給水連結部９６における給水管４６および給水ノズル９４の結合状態を示している。給水連結部９６にはＯリング１１６が圧縮状態で挿入されることにより、給水管装着部１０８の内壁および給水管４６のフランジ部１１４側が密着されるから、給水管４６と給水連結部９６との間で止水構造が構成され、この止水構造は給水ノズル９４と給水管４６の結合によってより強化される。

図７のＢは、図７のＡのVIIB－VIIB断面を示している。ノズルヘッド９８には、給水管４６に連通する複数のノズル口１０２、１０４が形成されている。

このような給水ノズル９４によれば、図８のＡに示すように、上水圧を受けて圧送される処理水３０は、ノズル口１０２からＸＹ軸方向に噴射されるとともに、ノズル口１０４からＺ軸方向に噴射される。

したがって、処理槽４には図８のＢに示すように、噴流３０Ｘ、３０Ｙが処理槽４の底部に沿って槽壁に当たり、周回流および上昇流を生じさせ、また、噴流３０Ｚが上昇流となり、これらが相まって処理水３０に循環流を生じさせる。

＜給水機構１０の効果＞
この給水機構１０によれば、次の何れかの効果が得られる。
(1) 処理水３０を槽底の中央から複数方向に分散させて処理槽４内に噴出させることができ、清浄な処理水３０を均一に供給でき、超音波洗浄の洗浄効果を高めることができる。

(2) 給水部４４は分解することができ、構成部材を適宜に清掃することができる。

(3) 給水ノズル９４は他の形態のものに変更でき、処理槽４内に所望の噴流を生成することができる。

＜排水機構１２＞
洗浄終了時など、処理槽４から汚れた処理水３０を排水させる必要がある。この排水時、洗浄後の処理水３０には被洗浄物２８から離脱した固形物が含まれる場合がある。この固形物は処理水３０の排水機能を低下させ、場合によっては排水不能に至るという課題があった。固形物などを含む処理水３０を排水系統に放出することは環境汚染に繋がるので、回避しなければならない。斯かる課題に対し、この排水機構１２では、固形物などを含む処理水３０をろ過して排水し、排水機能の維持とともに排水系統への影響を回避している。

図９のＡは、排水機構１２を示している。図９において、図１と同一部分には同一符号を付してある。

この排水機構１２は、処理槽４の外底部３２に設置された排水部５６から排水管６０を通して排水接続口部６２に接続されたドレン管６５に処理水３０を排水させる。

図９のＢは、処理槽４の平面図である。給水部４４が処理槽４の底部中心に配置されているのに対し、排水部５６は給水部４４から変位した位置に配置されている。処理槽４の外底部３２は、たとえば、処理水３０の排水を容易にするため、排水部５６を中心に円錐形の傾斜面としてもよい。

図１０のＡは、排水部５６を分解して示している。この排水部５６は、排水フィルタ１１８、排水連結部１２０を備える。排水フィルタ１１８は、排水連結部１２０に着脱可能に設置され、処理槽４から排水接続口部６２に処理水３０をろ過してドレン管６５に排水する。排水連結部１２０は、排水フィルタ１１８と排水管６０とを連結するための手段である。

排水フィルタ１１８は、フィルタヘッド１２２および排水ガイド部１２４を備えている。フィルタヘッド１２２には、周縁方向に複数のろ過孔１２６、Ｚ軸方向にろ過孔１２８が形成され、これらろ過孔１２６、１２８は排水ガイド部１２４に連通している。ろ過孔１２６はろ過孔１２８と異なってＵ字形の開口であり、処理槽４の槽面を以て孔縁が形成されている。つまり、処理槽４の底面の処理水３０が処理槽４の槽面を伝ってろ過孔１２６に浸入させることが可能であり、処理水３０の排水効率を高めることができる。

排水連結部１２０は、処理槽固定部１３０および排水管装着部１３２を備え、たとえば、合成樹脂などの弾性材料またはステンレスなどの金属材料で形成されている。処理槽固定部１３０は処理槽４の貫通口１３４に挿入されて連結される。この排水管装着部１３２は処理槽固定部１３０側を径小にしかつ開口部側を径大にして空間部を構成し、フランジ部１３６が形成されて強化されている。この排水管装着部１３２には排水フィルタ１１８の排水ガイド部１２４が挿入されている。排水管装着部１３２において、排水フィルタ１１８の排水ガイド部１２４は排水管６０に連通し、この連通により、フィルタヘッド１２２のろ過孔１２６、１２８が処理槽４の複数の排水口として機能する。

排水管６０の端部にはフランジ部１３８が形成されているとともに、止水手段としてのＯリング１４０が取り付けられている。フランジ部１３８はＯリング１４０の排水管６０からの抜け止めとして機能する。

図１０のＢは、背面側から見た排水フィルタ１１８を示している。フィルタヘッド１２２の中心部には排水ガイド部１２４が一体に設けられている。この排水ガイド部１２４の周壁には、複数のろ過孔１４２が形成されている。つまり、ろ過孔１２６でろ過された処理水３０がろ過孔１４２でろ過された後、排水ガイド部１２４から排水管６０に至る。

図１１のＡは、排水連結部１２０における排水管６０および排水フィルタ１１８の結合状態を示している。排水連結部１２０にはＯリング１４０が圧縮状態で挿入されて排水管装着部１３２の内壁および排水管６０のフランジ部１３８側が密着されるから、排水管６０と排水連結部１２０との間で止水構造が構成され、この止水構造は排水管装着部１３２と排水管６０の連結によって強化される。

図１１のＢは、図１１のＡのXIB －XIB 断面を示している。フィルタヘッド１２２には、排水管６０に連通する複数のろ過孔１２６、１２８、１４２が形成されている。

このような排水フィルタ１１８によれば、図１２のＡに示すように、処理槽４の水位に応じて処理水３０が排水フィルタ１１８の周辺方向からろ過孔１２６を通過してフィルタヘッド１２２に流れ込むとともに、Ｚ軸方向からろ過孔１２８に流れ込み、排水管６０に至る。

したがって、処理槽４には図１２のＢに示すように、排水フィルタ１１８に向かう排水流が生じ、排水管６０から排出される。

＜排水機構１２の効果＞
このような排水機構１２によれば、次の何れかの効果が得られる。
(1) 排水フィルタ１１８で排水すべき処理水３０から固形物を除くことができるので、固形物による処理水３０の排水機能の低下を防止でき、排水の迅速化を図ることができるとともに、固形物の流出による排水系統の固形物による汚染を防止できる。

(2) 排水部５６は分解でき、構成部材を適宜に清掃することができる。

(3) 排水フィルタ１１８は他の形態のものに変更でき、処理槽４内から固形物の分離機能や排水機能を選択することができる。

＜防水固定機構１４＞
従前、装置筐体２６と処理槽４との間にゴム製のＯリングなどの弾性体を介在させ、装置筐体２６から処理槽４を垂下させた取付け構造であった。このような取付け構造では、洗浄中、装置筐体２６に対して処理槽４が独立して振動し、処理槽４に不要振動を生じるなど、洗浄効果の低減や、不可聴域の高周波音を含むノイズを発生するという課題があった。斯かる課題に対し、この防水固定機構１４では、処理槽４および装置筐体２６間の防水性を高めつつ、処理槽４および装置筐体２６間の一体的な固定構造を実現し、この防水性の強化と相まって装置筐体２６に対する処理槽４の固定性を強化し、従前の課題を解決したものである。

図１３は、防水固定機構１４を備える装置筐体２６を示している。図１３において、図１と同一部分には同一符号を付してある。

防水固定機構１４は既述したように、防水部６６および固定機構部６８を備えている。処理槽４は開口側にフランジ部１４４を備え、このフランジ部１４４と装置筐体２６との間に止水パッキン１４６を備えて防水部６６が構成されている。この防水部６６は処理槽４と装置筐体２６との間を防水する手段である。この防水部６６は止水パッキン１４６をフランジ部１４４と装置筐体２６との間に備えている。止水パッキン１４６にはたとえば、Ｏリングを用いることができる。

これに対し、固定機構部６８は、処理槽４と装置筐体２６との間に複数の吊りボルト１４８を備えるとともに、各吊りボルト１４８による処理槽４と装置筐体２６の間の固定力を調整する固定力調整部１５０を備えている。つまり、処理槽４と装置筐体２６との間に吊りボルト１４８が取り付けられ、吊りボルト１４８と装置筐体２６との間にある止水パッキン１４６を圧縮状態で保持し、装置筐体２６に対する処理槽４の固定強度を調整する。吊りボルト１４８は装置筐体２６に処理槽４を支持する支柱部の一例である。

図１４のＡは、防水部６６を分解して示している。処理槽４の開口部７６には、処理槽４を構成する金属部材を折り返して開口部７６の強化とともに、フランジ部１４４が形成されている。止水パッキン１４６は処理槽４の外径に対応した口径を備え、フランジ部１４４に密着可能である。フランジ部１４４には止水パッキン挿入部１５２が形成されている。装置筐体２６に形成された処理槽装着口１５４には処理槽４が設置され、この処理槽装着口１５４の口径は止水パッキン１４６より小径である。

図１４のＢは、防水部６６の断面を示している。止水パッキン１４６は、処理槽４に形成された止水パッキン挿入部１５２に配置されており、処理槽４が装置筐体２６に設置されることで、装置筐体２６とフランジ部１４４との間に挟持される。この止水パッキン１４６は既述の固定機構部６８によって圧縮状態に保持され、処理槽４のフランジ部１４４と装置筐体２６との間の防水が図られる。

図１５のＡは、固定機構部６８を分解して示している。図１５のＡにおいて、図１３と同一部分には同一符号を付してある。

各固定機構部６８は、ボルト１５６、吊りボルト１４８、ワッシャ１５８およびフランジナット１６０を備えている。ボルト１５６は、処理槽４の底面に溶接によって固定されている。１６２は溶接部を示している。吊りボルト１４８の一端にはねじ孔１６４が形成され、その他端にねじ部１６６が形成されている。ねじ孔１６４にはボルト１５６が固定され、ねじ部１６６にはフランジナット１６０が取り付けられる。

吊りボルト１４８、ワッシャ１５８およびフランジナット１６０は、金属材料で形成してもよいが、合成樹脂などの非金属材料で形成してもよい。これらの構成材料の組み合わせについて、吊りボルト１４８に金属製のボルトを用いた場合には、ワッシャ１５８には非金属製ワッシャを使用し、フランジナット１６０にも非金属製ナットを使用すればよい。また、吊りボルト１４８に非金属製ボルトを用いた場合には、ワッシャ１５８には金属製ワッシャを使用し、フランジナット１６０にも金属製ナットを使用すればよい。

装置筐体２６には吊りボルト１４８を通すための貫通孔１６８が形成されている。この貫通孔１６８には吊りボルト１４８を挿通させ、装置筐体２６から露出させたねじ部１６６には装置筐体２６との間にワッシャ１５８を挟ませてフランジナット１６０が取り付けられる。したがって、吊りボルト１４８のねじ部１６６、ワッシャ１５８およびフランジナット１６０が装置筐体２６に対する吊りボルト１４８の固定力調整部１５０を構成する。

図１５のＢは、固定機構部６８の組立状態を示している。装置筐体２６から露出させたねじ部１６６に取り付けられたフランジナット１６０を締め付ければ、応力Ｆが処理槽４に作用する。図中、処理槽４は、応力Ｆの方向に力を受け、既述の止水パッキン１４６が装置筐体２６と処理槽４のフランジ部１４４との間に圧縮状態で保持される。これが止水力として作用する。この圧縮状態にある止水パッキン１４６の復元力が応力Ｆに対抗し、装置筐体２６に処理槽４が強固に固定される。つまり、固定力調整部１５０により装置筐体２６に対して処理槽４の固定力の最適化調整が可能である。

＜防水固定機構１４の効果＞
このような防水固定機構１４によれば、次の何れかの効果が得られる。
(1) 装置筐体２６と処理槽４のフランジ部１４４との間に設置された止水パッキン１４６は圧縮状態で保持されて止水機能がより高められ、装置筐体２６内への処理水３０の浸入を阻止でき、装置筐体２６の防水機能を強化できる。

(2) 固定機構部６８の固定力を以て止水パッキン１４６を圧縮させ、この復元力と固定機構部６８の固定力とを以て装置筐体２６に対する処理槽４の固定強度を高めることができ、処理槽４と装置筐体２６との一体化により超音波振動に伴う不要振動を防止でき、安定した超音波振動を維持し、洗浄効果を高めることができるとともに、不要振動に伴うノイズを抑制し、洗浄装置２の耐久性を高めることができる。

(3) 固定機構部６８の吊りボルト１４８、ワッシャ１５８またはフランジナット１６０の何れかに合成樹脂などの非金属製品を用いれば、金属に比較して超音波洗浄に伴う振動を抑制でき、騒音発生を低減できる。

(4) 止水パッキン１４６が圧縮状態で保持され、この止水パッキン１４６の復元力が装置筐体２６と処理槽４のフランジ部１４４との間に作用して止水機能が高められる結果、装置筐体２６の防水性を強化できるので、処理水３０の染み込みなどの汚損を防止でき、装置筐体２６の清掃が容易になる。

＜処理槽４の断熱構造＞
この洗浄装置２は通常、室内に設置され、処理水３０には水道水などの上水が用いられる。既述したように、環境温度と処理槽４内の温度間に温度差を生じると、処理槽４の外壁に結露が生じ、この結露を放置すれば、装置筐体２６内に黴などを繁殖させるなどの課題があった。斯かる課題に対し、環境下と処理槽４内の温度差を回避するため、処理槽４に断熱構造を採用し、処理槽４の外壁における結露防止を実現している。

図１６は、処理槽４の一部断面を示している。図１６において、図１と同一部分には同一符号を付してある。

処理槽４は、ステンレスなどの金属材料で成形された成形体である槽本体１７０を備えている。この槽本体１７０の側壁にはウレタンなどの断熱材で形成された断熱層１７２が設置され、この断熱層１７２で槽本体１７０が被覆されている。つまり、槽本体１７０の側壁は断熱層１７２で覆われ、外気と遮断されている。

＜処理槽４の断熱構造の効果＞
このような断熱構造によれば、次の何れかの効果が得られる。
(1) 処理槽４の槽壁は断熱層１７２によって断熱状態となり、処理槽４を保温状態に維持することができる。

(2) 処理槽４に処理水３０が供給されて処理槽４内の温度と外気温度との間に温度差が生じても、断熱層１７２による断熱効果により結露を防止できる。

＜セパレータ１６＞
被洗浄物２８には苺などの体積が小さいもの、キャベツなどの体積の大きいものなど、その体積は千差万別である。このような被洗浄物２８が装填される処理槽４の底部には給水部４４や排水部５６を備えている。給水部４４の給水機能や排水部５６の排水機能を維持するには、処理槽４における被洗浄物２８の洗浄空間と分離し、被洗浄物２８との干渉を回避すべきという課題があった。斯かる課題に対し、このセパレータ１６は、給水部４４の給水機能や排水部５６の排水機能を妨げることなく、洗浄空間と給水部４４や排水部５６を分離し、給水部４４または排水部５６と被洗浄物２８との干渉を回避し、洗浄機能を維持助長する。

図１７は、セパレータ１６が設置された処理槽４の部分断面を示している。図１７において、図１と同一部分には同一符号を付してある。

セパレータ１６は、板状のセパレータ本体１７４と複数の脚部７２を備えている。図１８のＡは、セパレータ１６の平面図、図１８のＢは、XVIIIB－XVIIIB断面を示している。

セパレータ本体１７４には複数の通水孔１７８が形成され、処理水３０の通流が可能である。脚部７２は同一高さであって、処理槽４の底面に載置されたセパレータ１６のセパレータ本体１７４を処理槽４の底面と並行に維持する。各脚部７２はセパレータ本体１７４側が同径であるのに対し、脚先端が円錐状に径小化され、脚部７２と処理槽４の底部との接触面積を削減している。

このセパレータ１６が処理槽４に設置されると、セパレータ本体１７４の下面側で給水部４４および排水部５６を覆い、その上面側に処理槽４の洗浄空間１８０が維持される。つまり、給水部４４および排水部５６の領域と、洗浄空間１８０の領域とがセパレータ１６によって分離される。この場合、脚部７２は、給水部４４および排水部５６とセパレータ本体１７４の干渉を避けるため、給水部４４および排水部５６を超える高さであることが好ましい。

＜セパレータ１６の効果＞
このようなセパレータ１６を用いれば、次の何れかの効果が得られる。
(1) 給水部４４および排水部５６の領域と、洗浄空間１８０の領域とをセパレータ１６によって分離することができる。

(2) セパレータ１６によって給水部４４および排水部５６を防護でき、給水機能や排水機能を維持助長することができる。

(3) 処理槽４にセパレータ１６を設置すれば（図２１のＢ）、処理かご１８を省略して被洗浄物２８を直に処理槽４に装填して超音波洗浄を行うことができ、処理槽４の容積を最大限に被洗浄物２８の収容空間として広く利用できる。

＜処理かご１８＞
既述したように、被洗浄物２８の容積は千差万別である。苺などの小容積の被洗浄物２８にあっては、個々の被洗浄物２８に触れることなく一括して処理すべきであるし、キャベツなどの大容積の被洗浄物２８にあっては、処理槽４の容積を有効に活用すべきであるとの課題がある。斯かる課題に対し、小容積の被洗浄物２８の処理には処理かご１８の使用が有効であり、大容積の被洗浄物２８にあっては処理かご１８を用いることなく、処理槽４が許容する最大容積を利用すればよい。つまり、処理かご１８は、被洗浄物２８の形態に応じて使用可能な補助容器である。

図１９のＡは、処理かご１８を示している。図１９のＡにおいて、図１と同一部分には同一符号を付してある。

処理かご１８は、洗浄すべき被洗浄物２８を収容するための容器であり、かご本体１８２と把手１８４を備える。かご本体１８２は処理槽４の内形状と相似形であり、その高さが処理槽４の２分の１程度である。把手１８４は、かご本体１８２の操作のために用いるハンドルである。この把手１８４はたとえば、かご本体１８２の開口部の半円形と一致した形状であり、この把手１８４の端部をかご本体１８２に支持するヒンジ１８６を以て回転可能であり、かご本体１８２の縁部側に回転させた際に、かご本体１８２の上縁部に着脱可能である。

図１９のＢは、処理かご１８の底面部を示している。この処理かご１８の底面部にはたとえば、円形の水切り部１８８を備えている。この水切り部１８８は無数の通水孔１９０を備えている。

図２０のＡは、被洗浄物２８が装填された処理かご１８を示している。既述したように、体積の小さい苺などの被洗浄物２８は処理かご１８に収容し、処理かご１８を以て一括処理が可能である。

図２０のＢは、処理かご１８とともに被洗浄物２８が装填された処理槽４を示している。図２０のＢにおいて、図１と同一部分には同一符号を付してある。
処理かご１８に収容された被洗浄物２８は、処理かご１８とともに処理槽４に一括して装填可能である。

＜処理かご１８の効果＞
このような処理かご１８を用いれば、次の何れかの効果が得られる。
(1) 体積の小さい多数の被洗浄物２８を処理かご１８に装填して一括して被洗浄物２８に直に触れずに処理でき、被洗浄物２８を防護でき、かつ、洗浄処理を効率化できる。

(2) 洗浄後、処理水３０から一括して被洗浄物２８を取り出すことができ、処理水３０への被洗浄物２８の浸漬時間を短縮できる。

(3) 洗浄時、被洗浄物２８を処理かご１８内に維持することができ、処理槽４と被洗浄物２８の接触を回避できる。

＜抑えプレート２０＞
被洗浄物２８には処理水３０より比重が小さいもの、処理水３０より比重が大きいものが含まれるが、何れのものも処理水３０の噴流を受け、あるいは超音波振動を受けると、処理水３０上に浮き上がり、移動する場合がある。この浮き上がりや移動によって処理水３０より露出した部分は、処理水３０を媒介とする超音波振動を受け難く、洗浄効果が期待できない。斯かる課題に対し、抑えプレート２０は、処理槽４に装填された被洗浄物２８の上に設置して洗浄中の被洗浄物２８の処理水３０からの浮き上がりや移動による洗浄むらを防止するための補助部材であり、被洗浄物２８の超音波洗浄の効果を均等化し、超音波洗浄の機能の低下を防止する。また、振動吸収層２００は、処理槽４と別部材である抑えプレート２０が超音波振動を受けることによる不要振動の発生を防止している。

図２１のＡは、抑えプレート２０を固定アーム７４側から見て示している。この抑えプレート２０は、板状のプレート本体１９２と複数の固定アーム７４を備えている。

プレート本体１９２には複数の通水孔１９４が形成され、処理水３０の通流が可能である。固定アーム７４は同一長であって、先端部にたとえば、Ｌ字形の係止部１９６を備えている。各係止部１９６は処理槽４の上縁部に係止される。

図２１のＢは、抑えプレート２０が設置された処理槽４を示している。この例では、処理槽４にキャベツなどの体積の大きい被洗浄物２８が装填され、この被洗浄物２８の上に抑えプレート２０が設置されている。比重の小さい被洗浄物２８は処理水３０の噴流や超音波振動を受けて上昇し、処理水３０の上に浮き上がって洗浄むらを生じるおそれがある。このように抑えプレート２０を設置すれば、被洗浄物２８を処理水３０内に強制的に維持することができ、浮き上がりや移動による洗浄むらを防止することができる。

そして、図２１のＣは、固定アーム７４の係止部１９６の断面を示している。固定アーム７４には、地金部１９８の表面に合成樹脂やゴムなどの振動吸収材で形成された振動吸収層２００が設置され、この振動吸収層２００を以て処理槽４から固定アーム７４側への振動伝達を抑制し、超音波振動に伴う抑えプレート２０の処理槽４側からの振動が加わることが回避されている。振動吸収層２００は、固定アーム７４の少なくとも処理槽４と接触する部分に備えればよい。

＜抑えプレート２０の効果＞
このような抑えプレート２０を用いれば、次の何れかの効果が得られる。
(1) 洗浄中、処理水３０に浸漬すべき被洗浄物２８の浮き上がりや移動などを抑制でき、被洗浄物２８の洗浄むらを防止できる。

(2) 抑えプレート２０は、処理槽４に固定アーム７４を以て係止するが、固定アーム７４には振動吸収層２００を備えているので、処理槽４から抑えプレート２０側への振動伝達を抑制でき、被洗浄物２８の抑え機能の低下を防止できる。

(3) 超音波洗浄の洗浄効果を維持し、質の高い超音波洗浄を維持することができる。

＜超音波洗浄＞
この洗浄装置２による被洗浄物２８の超音波洗浄には、処理槽４に被洗浄物２８を装填するための工程（装填工程）、処理槽４に処理水３０を給水する工程（給水工程）、被洗浄物２８を超音波洗浄する工程（洗浄工程）、洗浄後、処理水３０を排水する工程（排水工程）などが含まれる。

図２２のＡは、装填工程を示している。この例では、被洗浄物２８は体積の小さいたとえば、苺である。このような被洗浄物２８は、処理かご１８に入れられて処理かご１８とともに処理槽４に装填される。体積の大きい被洗浄物２８には処理かご１８を用いることなく、処理槽４に直に被洗浄物２８を装填すればよい。

図２２のＢは、給水工程を示している。給水接続口部４８には上水管５５が接続されており、この上水管５５からたとえば、水道水からなる処理水３０が供給されている。この状態で給水弁５４を開くと給水が開始され、処理水３０は噴流となって処理槽４に給水される。処理水３０の給水は、被洗浄物２８の全部が水没するレベルまたは溢水レベルLｒｅｆまで行えばよい。

この例では、処理槽４に抑えプレート２０が設置されているので、この抑えプレート２０が水没する程度に処理水３０を給水してよい。この処理水３０が溢水レベルＬｒｅｆを超えれば、その過剰分がオーバーフロー機構８を通して排水される。そして、処理水３０の給水は給水弁５４を閉状態にして停止させる。

図２３のＡは、給水後の洗浄工程を示している。この洗浄工程では、処理水３０の給水を停止し、各振動子６を同時に駆動し、処理槽４の槽底部から超音波を処理槽４内に付与する。処理槽４内の処理水３０は超音波を受けて励振し、この処理水３０を媒介として被洗浄物２８に超音波振動が加えられる。処理水３０の水面には超音波による波紋が生じる。この超音波を受ける被洗浄物２８から汚れなどが離脱し、処理水３０を懸濁させる。この超音波の付与を所定時間継続すれば、超音波洗浄によって被洗浄物２８が清浄化される。

この洗浄工程において、既述の給水工程で述べた処理水３０の供給、つまり噴流を併用すれば、処理水３０の噴流によって超音波洗浄と相俟ってより高い洗浄効果が期待でき、超音波洗浄の迅速化が可能である。

図２３のＢは、超音波洗浄後の排水工程を示している。この排水工程では、超音波の付与を停止した後、排水弁６４を開状態にし、処理槽４から洗浄後の処理水３０を排水させる。処理水３０に含まれる固形物などの夾雑物が排水フィルタ１１８で分離され、排水フィルタ１１８を通過した処理水３０や被洗浄物２８から分離した汚れのみが排水管６０に流れ、ドレン管６５を通して排水系統に放出される。

排水後、洗浄を終了した被洗浄物２８は、この場合、処理かご１８を以て処理槽４から取り出される。

＜超音波洗浄の効果＞
この超音波洗浄によれば、次の何れかの効果が得られる。
(1) 処理水３０の給水を迅速化でき、超音波洗浄に至る準備工程の時間の短縮化を図ることができる。

(2) 超音波洗浄中、処理水３０の噴流を併用することで、超音波洗浄の洗浄効果を高め、洗浄中の被洗浄物２８から汚れを処理水３０中に容易にかつ迅速に離脱させることができる。

(3) 洗浄後、処理水３０の排水を迅速化でき、洗浄後の被洗浄物２８の取出しや後処理の短縮化を図ることができる。

(4) 洗浄時間の短縮化により、鮮度が求められる被洗浄物２８の鮮度低下を抑制することができる。

＜処理槽４の清掃処理＞
この洗浄装置２は種々の被洗浄物２８の超音波洗浄に用いられ、処理槽４が被洗浄物２８によっての汚れが生じ、この汚れを洗浄することが必要である。斯かる課題に対し、この洗浄装置２では、洗浄装置２が持つ給水機能、超音波洗浄機能および排水機能を利用して清掃し、処理槽４を清浄化する。

図２４は、処理槽４の清掃工程を示している。処理槽４には超音波洗浄で用いる処理水３０の他、中性洗剤などの清掃水を用いて溢水レベルＬｒｅｆまで給水する。この給水後、またはその給水中、排水弁６４を閉じた状態で振動子６を動作させ、この状態を所定時間継続すれば、処理水３０または清掃水を以て処理槽４の内壁を清掃し、清浄化することができる。

＜処理槽４の清掃処理の効果＞
この清掃処理によれば、次の何れかの効果が得られる。
(1) 洗浄装置２が持つ超音波洗浄機能を用いて処理槽４を洗浄し、清浄化することができる。

(2) 処理槽４の清浄化を行えば、処理槽４の汚れによる被洗浄物２８への影響を回避でき、優れた超音波洗浄の効果をより高めることができる。

＜一実施の形態の効果＞
以上述べたように一実施の形態によれば、次の何れかの効果が得られる。
(1) この洗浄装置２によれば、洗浄効果の高い超音波洗浄の利便性を高め、既述のオーバーフロー機構８、給水機構１０、排水機構１２、防水固定機構１４、セパレータ１６、処理かご１８、抑えプレート２０の何れかを備え、または組み合わせることにより民生機器として使い勝手のよい超音波洗浄装置を実現することができる。

(2) この洗浄装置２は装置筐体２６から処理槽４を分解することなく超音波洗浄によって清掃できるので、処理槽４の清浄化を図り、被洗浄物２８の洗浄による影響を受けることなく各被洗浄物２８の洗浄効果を高めることができる。

〔他の実施の形態〕
本開示には以下の実施の形態が含まれる。
(1) 既述の実施の形態に記載した洗浄装置２は、処理槽４、振動子６、オーバーフロー機構８、給水機構１０、排水機構１２、防水固定機構１４、セパレータ１６、処理かご１８、抑えプレート２０などの全てを備えているが、本開示はこれに限定されない。すなわち、処理槽４、振動子６、オーバーフロー機構８、給水機構１０、排水機構１２、防水固定機構１４、セパレータ１６、処理かご１８、抑えプレート２０は独立した機能を備えているから、本開示はこれらの何れかまたは二以上を含む洗浄装置２であればよく、これらの組み合わせは任意であって、その組み合わせによって本開示の範囲が限定されるものではない。

(2) 上記実施の形態ではスタンドアロンタイプの超音波洗浄装置２を例示したが、この超音波洗浄装置２をシステムキッチンなどの厨房設備内に内蔵させるビルトインタイプに構成してもよい。

(3) 被洗浄物２８には果実や生鮮食料品を例示しているが、これに限定されない。超音波洗浄による洗浄機能が期待できる全ての被洗浄物が被洗浄物２８となる。

以上説明したように、本開示の最も好ましい実施形態等について説明した。本開示は、上記記載に限定されるものではない。特許請求の範囲に記載され、または発明を実施するための形態に開示された発明の要旨に基づき、当業者において様々な変形や変更が可能である。斯かる変形や変更が、本開示の範囲に含まれることは言うまでもない。

本開示によれば、洗浄効果の高い超音波洗浄の利便性を高め、民生機器として使い勝手のよい超音波洗浄装置を実現でき、利便性の高い超音波洗浄装置を実現することができる。

２ 洗浄装置
４ 処理槽
６ 超音波振動子
８ オーバーフロー機構
１０ 給水機構
１２ 排水機構
１４ 防水固定機構
１６ セパレータ
１８ 処理かご
２０ 抑えプレート
２２ 操作パネル
２４ 制御基板
２６ 装置筐体
２８ 被洗浄物
３０ 処理水
３２ 外底部
３４ 溢水捕捉部
３６ 排水管
３８ 溢水口
４０ 溢水フィルタ
４２ ろ過孔
４４ 給水部
４６ 給水管
４８ 給水接続口部
５０ 空気抜き弁
５２ 定流量弁
５４ 給水弁
５５ 上水管
５６ 排水部
６０ 排水管
６２ 排水接続口部
６４ 排水弁
６５ ドレン管
６６ 防水部
６８ 固定機構部
７０、７２ 脚部
７４ 固定アーム
７６ 開口部
７７ 操作筐体
７８ 電源スイッチ
８０ 支持枠
８２ 固定ねじ
８４ フランジ部
８６ 止水パッキン
８８ 切欠き部
９０ 排水口
９２ 排水管連結部
９４ 給水ノズル
９６ 給水連結部
９８ ノズルヘッド
１００ 給水管結合部
１０２、１０４ ノズル口
１０６ 処理槽固定部
１０８ 給水管装着部
１１０ 貫通口
１１２、１１４ フランジ部
１１６ Ｏリング
１１８ 排水フィルタ
１２０ 排水連結部
１２２ フィルタヘッド
１２４ 排水ガイド部
１２６、１２８ ろ過孔
１３０ 処理槽固定部
１３２ 排水管装着部
１３４ 貫通口
１３６、１３８ フランジ部
１４０ Ｏリング
１４２ ろ過孔
１４４ フランジ部
１４６ 止水パッキン
１４８ 吊りボルト
１５０ 固定力調整部
１５２ 止水パッキン挿入部
１５４ 処理槽装着口
１５６ ボルト
１５８ ワッシャ
１６０ フランジナット
１６２ 溶接部
１６４ ねじ孔
１６６ ねじ部
１６８ 貫通孔
１７０ 槽本体
１７２ 断熱層
１７４ セパレータ本体
１７８ 通水孔
１８０ 洗浄空間
１８２ かご本体
１８４ 把手
１８６ ヒンジ
１８８ 水切り部
１９０ 通水孔
１９２ プレート本体
１９４ 通水孔
１９６ 係止部
１９８ 地金部
２００ 振動吸収層

Claims (7)

1. 装置筐体と、
   前記装置筐体に設置されて処理水および被洗浄物が収容される処理槽と、
   前記装置筐体に設置されて前記処理槽に前記処理水を供給し、前記処理水に循環流を生じさせる給水機構と、
   前記装置筐体に設置されて前記処理槽から前記処理水を排水する排水機構と、
   前記処理槽の槽底外部に設置されて超音波を生成し、超音波振動を前記処理槽に付与する超音波振動子と、
   前記装置筐体と前記処理槽との間に弾性部材を介在させて防水する防水部と、
   前記弾性部材を圧縮状態に保持して前記装置筐体に前記処理槽を固定する固定機構と、
   を含み、
   前記給水機構が、
   洗浄時、開状態にされて処理水供給管に前記処理水を流す給水弁と、
   前記処理槽の槽底部に設置されて前記処理水供給管に連結された給水ノズルを含み、この給水ノズルから上方向および周辺方向に前記処理水の噴流を生じさせて前記処理槽の前記槽底部から前記処理水を給水する給水部と、を含み、
   前記排水機構が、
   上方向および周辺方向から前記処理水を受けてろ過する複数のろ過孔を備えた排水フィルタを前記槽底部に設置し、該排水フィルタを通過した前記処理水を排水する排水部と、
   前記排水部に連結されて前記処理水を排水する排水管と、前記排水管に設置され、少なくとも洗浄終了時、開状態にされて前記処理水を前記処理槽から前記排水管に排水させる排水弁と、を含み、
   前記固定機構が、
   前記処理槽と前記装置筐体との間に設置される支柱部と、
   前記処理槽および前記装置筐体間の前記支柱部の長さを加減して前記弾性部材の圧縮状態を調整する固定力調整機構と、
   を含む、超音波洗浄装置。
2. 前記処理槽の槽壁に設置された断熱層を含む、請求項１に記載の超音波洗浄装置。
3. 前記処理水を通過させる通過孔を備え、前記処理槽の底部に支柱部で支持させて前記処理槽を槽底側と洗浄空間側とに分離するセパレータを含む、請求項１に記載の超音波洗浄装置。
4. 前記処理水を通過させる通水孔を備え、前記処理槽に固定アームで係止させることにより、前記処理槽内で前記被洗浄物の浮き上がりを阻止する抑えプレートを含む、請求項１に記載の超音波洗浄装置。
5. 前記固定アームは、少なくとも前記処理槽と接触する部分に振動吸収層を備え、この振動吸収層に前記処理槽からの振動を吸収させる、請求項４に記載の超音波洗浄装置。
6. 前記処理槽に溢水レベルを超える前記処理水を前記処理槽から溢水させる溢水部を設け、この溢水部から溢水させた前記処理水を捕捉する溢水捕捉部を含み、この溢水捕捉部で捕捉した前記処理水を前記排水管に排水させる、請求項１に記載の超音波洗浄装置。
7. 前記処理水をろ過して前記溢水捕捉部に流す溢水フィルタを含む、請求項６に記載の超音波洗浄装置。

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