JP7321666B2 - ケイ酸リチウムガラスセラミックを含むまたは含有する成形体の製造方法ならびに成形体 - Google Patents
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Description
- SiO2 50~80、好ましくは52~70、とりわけ好ましくは56~61
- 核形成剤、たとえば、
P2O5 0.5~11、好ましくは3~8、とりわけ好ましくは4~7
- Al2O3 0~10、好ましくは0.5~5、とりわけ好ましくは1.5~3.2
- Li2O 10~25、好ましくは13~22、とりわけ好ましくは14~21
- K2O 0~13、好ましくは0.5~8、とりわけ好ましくは1.0~2.5
- Na2O 0~1、好ましくは0~0.5、とりわけ好ましくは0.2~0.5
- ZrO2 0~20、好ましくは4~16、特に6~14、とりわけ好ましくは8~12
- CeO2 0~10、好ましくは0.5~8、とりわけ好ましくは1.0~2.5
- Tb4O7 0~8、好ましくは0.5~6、とりわけ好ましくは1.0~2.0
- 任意に、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムおよびバリウムの群の1種または複数のアルカリ土類金属の1種または複数の酸化物
0~20、好ましくは0~10、とりわけ好ましくは0~5、
- 任意に、酸化ホウ素、酸化スズおよび酸化亜鉛の群からの1種または複数の酸化物
0~10、好ましくは0~7、特に0~5、
総計が100重量パーセントである
ことを特に特徴とする。
SiO2 58.1±2.0
P2O5 5.0±1.5
Al2O3 4.0±2.5
Li2O 16.5±4.0
K2O 2.0±0.2
ZrO2 10.0±0.5
CeO2 0~3、好ましくは1.5±0.6
Tb4O7 0~3、好ましくは1.2±0.4、
Na2O 0~0.5、好ましくは0.2~0.5、
総計が100重量パーセントである。
- SiO2 50~80、好ましくは52~70、とりわけ好ましくは56~61
- 核形成剤、たとえば、
P2O5 0.5~11、好ましくは3~8、とりわけ好ましくは4~7
- Al2O3 0~10、好ましくは0.5~5、とりわけ好ましくは1.5~3.2
- Li2O 10~25、好ましくは13~22、とりわけ好ましくは14~21
- K2O 0~13、好ましくは0.5~8、とりわけ好ましくは1.0~2.5
- Na2O 0~1、好ましくは0~0.5、とりわけ好ましくは0.2~0.5
- ZrO2 0~20、好ましくは4~16、特に6~14、とりわけ好ましくは8~12
- CeO2 0~10、好ましくは0.5~8、とりわけ好ましくは1.0~2.5
- Tb4O7 0~8、好ましくは0.5~6、とりわけ好ましくは1.0~2.0
- 任意に、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムおよびバリウムの群の1種または複数のアルカリ土類金属の1種または複数の酸化物
0~20、好ましくは0~10、とりわけ好ましくは0~5、
- 任意に、酸化ホウ素、酸化スズおよび酸化亜鉛の群からの1種または複数の酸化物
0~10、好ましくは0~7、特に0~5
(総計は100重量パーセントである)。
SiO2 58.1±2.0
P2O5 5.0±1.5
Al2O3 4.0±2.5
Li2O 16.5±4.0
K2O 2.0±0.2
ZrO2 10.0±0.5
CeO2 0~3、好ましくは1.5±0.6
Tb4O7 0~3、好ましくは1.2±0.4、
Na2O 0~0.5、好ましくは0.2~0.5
総計が100重量パーセントである。
この塊を、白金合金製の高温耐熱性のるつぼ内で、1500℃の温度にて5時間溶融させた。次いで、溶融物を鋳型に注いで、四方体(ブロック)を得た。次いで、ブロックに第1の加熱工程と称する二段階加熱処理を施して、主たる結晶相としてメタケイ酸リチウム結晶を形成した(第1の処理工程)。ブロックを第1の加熱処理段階W1において2K/分の加熱速度で660℃まで加熱し、その温度にて40分間保持した。次いで、これを10K/分の加熱速度でさらに750℃までに加熱した。次いで、標本をこの温度にて20分間保持した。この加熱処理は、核形成に影響し、メタケイ酸リチウム結晶の形成をもたらす。
以下の出発組成(重量百分率)を使用して、製造業者の指示書に従っていくつかの試験系列を実施し、その結果ケイ酸リチウムガラスおよびそれ由来のケイ酸リチウムガラスセラミック材料を得た。
P2O5 5.8~5.9
Al2O3 1.9~2.0
Li2O 18.5~18.8
K2O 1.9~2.0
ZrO2 9.5~10.5
CeO2 1.0~2.0
Tb4O7 1.0~1.5
Na2O 0~0.2
ガラス相は容積で40~60%の範囲で存在した。
計20個のロッドをまず製造し、処理工程1~5に供した。最終結晶化(第2の加熱処理工程)を温度T2=830℃にて保持時間t2=5分間で実施した。釉焼(処理工程5)を温度T3=820℃にて保持時間t3=4分で実施した。
第2の試験系列では、試験系列#1に使用した方法により20個のロッドを得た。釉焼直後に3点曲げ測定に組み込まれた10個のロッドは、平均3点曲げ強度値が347MPaであった。次いで、残りの10個のロッドを、工業的に純粋なKNO3溶融物中で、温度480℃にて10時間アニールした。これにより、平均曲げ強度755Mpaを得た。
第1の試験系列と同一の方法により得られたロッドの化学溶解性を、KNO3溶融物中でアニールしたロッドとこのようなアニーリングをしなかったロッドとの両方について、DIN EN ISO 6872:2009-01に規定のとおり決定した。カリウムイオン溶融物中でアニールしなかったロッドは、出発値が96.35μg×cm-2であった。
次いで、上述の出発材料からロッドを得たが、これを処理工程1、2および3のみに供し、したがって、へりは丸めず、または研磨または釉焼を施さなかった。製造した20個のロッドのうち、それらの10個について、3点の曲げ強度を測定した。得られた平均値は187MPaであった。次いで、残りの10個のロッドを工業的に純粋なKNO3塩溶融物中で温度580℃にて10時間アニールした。平均3点曲げ強度は571MPaであった。
上述の組成のケイ酸リチウム材料のロッド20個を製造し、ここで、処理工程1~4を、すなわち釉焼を行わずに、実施した。アニールしなかった、試験ロッド10個について平均曲げ強度値は233MPaであった。次いで、残りのロッド10個をNaNO3溶融物中で480℃にて20分間アニールした。このロッドは、曲げ強度が620Mpaであった。
開始時の記述に従って、重量百分率で以下の組成のケイ酸リチウム材料を溶融させた:
SiO2 56.0~59.5
P2O5 4.0~6.0
Al2O3 2.5~5.5
Li2O 13.0~15.0
K2O 1.0~2.0
ZrO2 9.5~10.5
CeO2 1.0~2.0
Tb4O7 1.0~1.2
Na2O 0.2~0.5
ガラス相の百分率は容積で40~60%の範囲であった。
10個の標本のヘリを丸め、表面を研磨した。これらの標本は、平均曲げ強度が264MPAであった。次いで、10個の標本を工業的に純粋なKNO3塩溶融物中で420℃にて10時間アニールした。平均曲げ強度は464MPaであった。
10個の標本は、平均曲げ強度が254MPAであった。次いで、10個の標本を工業的に純粋なKNO3塩溶融物中で500℃にて10時間アニールした。平均曲げ強度は494MPaであった。
アニールを施さなかった10個の標本は、平均曲げ強度が204MPAであった。さらなる10個の標本を工業的に純粋なNaNO3溶融物中で480℃にて10分間アニールした。平均曲げ強度は475MPaであった。
セラミックをプレスするための歯科用ファーネス中でのプレス向けの市販ペレットを使用した。製造業者のデータによれば、ペレットは重量百分率で以下の組成を有していた:
SiO2 65.0~72.0
P2O5 2.5~5.0
Al2O3 1.5~3.5
Li2O 12.0~15.5
K2O 3.0~4.0
ZrO2 0~1.5
CeO2 0.5~2.3
Tb4O7 0.5~1.0
Na2O 0~0.1
ガラス相百分率は、容積で5~15%の範囲であった。
10個の標本の測定により、平均曲げ強度422MPaが得られた。
製造業者のデータによる組成を有するケイ酸リチウムセラミックの市販で入手可能なブロックは重量百分率で、以下のとおりである:
SiO2 65.0~72.0
P2O5 2.5~5.0
Al2O3 1.5~3.5
Li2O 12.0~15.5
K2O 3.0~4.0
ZrO2 0~1.5
CeO2 0.5~2.3
Tb4O7 0.5~1.0
Na2O 0~0.1。
上述の特性に関する曲げ強度測定を10個の標本について実施した。平均値352MPaを見出した。さらなる10個の標本を工業的に純粋なKNO3溶融物中で温度480℃にて10時間アニールした。平均曲げ強度は594MPaであった。
さらなる20個の標本を相応するバッチから調製したが、この場合、第4の処理工程を除いて、したがって標本の良好な機械的な調製を行わずに(研磨せずにまたはへりを丸くすることをせずに)、最終の結晶化を含めて、同一の処理工程を実施した。
標本を試験系列10に記載の通り調製した。アニールを施さなかった10個の標本は、平均曲げ強度が381MPaであった。10個の標本を工業的に純粋なNaNO3溶融物中で480℃にて20分間アニールした。その場合、平均曲げ強度は348MPaであった。
以下に、本願の出願当初の請求項を実施の態様として付記する。
[1] ケイ酸リチウムガラスセラミックを含むまたは含有する、医療用、好ましくは歯科用の成形体またはその部品、特にブリッジ、クラウン、キャップ、インレー、オンレーまたはベニヤの製造方法であって、
前記成形体に相応する形状を持つ、ケイ酸リチウムガラスセラミックを含むまたは含有する予備成形体において、リチウムイオンをより直径の大きいアルカリイオンで置きかえることにより表面圧縮応力を発生させ、前記イオンを置換した後に前記予備成形体を前記成形体として使用する、方法。
[2] 前記表面圧縮応力を発生させるためにアルカリイオンとしてNaイオン、Kイオン、Csイオンおよび/またはRbイオンを使用する、[1]に記載の方法。
[3] 前記予備成形体を、アルカリイオンを含有する溶融物中でアニールする、[1]または[2]に記載の方法。
[4] 前記溶融物が、前記予備成形体に色を付与する1種以上の元素を含有する、先行する請求項の少なくとも一項に記載の方法。
[5] 58~70の原子番号を持つ1種以上のランタニド、好ましくはセリウム、プラセオジム、テルビウムまたはエルビウムを1種または複数の着色元素として使用する、少なくとも[4]に記載の方法。
[6] 少なくとも1種の前記着色元素が、バナジウム、マンガン、鉄、イットリウムおよびアンチモンの群の元素である、少なくとも[4]に記載の方法。
[7] 少なくとも1種の前記着色元素を、アルカリイオンを含有する前記溶融物に溶解させる、少なくとも[4]に記載の方法。
[8] 前記予備成形体を、カリウムイオンを含有する溶融物中、特にKNO 3 、KClもしくはK 2 CO 3 を含有する溶融物中で、またはナトリウムを含有する溶融物中、特にNaNO 3 を含有する溶融物中で、またはカリウムイオンおよびナトリウムイオンの、特に50:50mol%の比の混合物を含有する溶融物中で、好ましくはNaNO 3 およびKNO 3 を含有する溶融物中でアニールする、先行する請求項の少なくとも一項に記載の方法。
[9] 前記予備成形体を、T≧300℃、特に350℃≦T≦600℃、好ましくは430℃≦T≦530℃の温度Tにて、特にt≧5分、好ましくは0.5時間≦t≦10時間、とりわけ好ましくは3時間≦t≦8時間の時間tの間、アニールする、先行する請求項の少なくとも一項に記載の方法。
[10] 出発構成成分として少なくともSiO 2 、Al 2 O 3 、Li 2 O、K 2 O、少なくとも1種の核形成剤、たとえばP 2 O 5 、および少なくとも1種の安定剤、たとえばZrO 2 を含有するガラス溶融物から、前記予備成形体を作製する、先行する請求項の少なくとも一項に記載の方法。
[11] 前記ガラス溶融物が少なくとも1種の着色金属酸化物、たとえば、CeO 2 および/またはTb 4 O 7 を含有する、先行する請求項の少なくとも一項に記載の方法。
[12] 前記予備成形体を、重量百分率で以下の組成のガラス溶融物から製造し:
- SiO 2 50~80、好ましくは52~70、とりわけ好ましくは56~61
- 核形成剤、たとえば、
P 2 O 5 0.5~11、好ましくは3~8、とりわけ好ましくは4~7
- Al 2 O 3 0~10、好ましくは0.5~5、とりわけ好ましくは1.5~3.2
- Li 2 O 10~25、好ましくは13~22、とりわけ好ましくは14~21
- K 2 O 0~13、好ましくは0.5~8、とりわけ好ましくは1.0~2.5
- Na 2 O 0~1、好ましくは0~0.5、とりわけ好ましくは0.2~0.5
- ZrO 2 0~20、好ましくは4~16、特に6~14、とりわけ好ましくは8~12
- CeO 2 0~10、好ましくは0.5~8、とりわけ好ましくは1.0~2.5
- Tb 4 O 7 0~8、好ましくは0.5~6、とりわけ好ましくは1.0~2.0
- 任意に、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムおよびバリウムの群の1種または複数のアルカリ土類金属の1種または複数の酸化物
0~20、好ましくは0~10、とりわけ好ましくは0~5、
- 任意に、酸化ホウ素、酸化スズおよび酸化亜鉛の群からの1種または複数の酸化物
0~10、好ましくは0~7、特に0~5、
総計が100重量パーセントである、
先行する請求項の少なくとも一項に記載の方法。
[13] 前記ガラス溶融物が出発構成成分として重量百分率で以下の成分を含有し、
SiO 2 58.1±2.0
P 2 O 5 5.0±1.5
Al 2 O 3 4.0±2.5
Li 2 O 16.5±4.0
K 2 O 2.0±0.2
ZrO 2 10.0±0.5
CeO 2 0~3、好ましくは1.5±0.6
Tb 4 O 7 0~3、好ましくは1.2±0.4、
Na 2 O 0~0.5、好ましくは0.2~0.5
総計が100重量パーセントである、
先行する請求項の少なくとも一項に記載の方法。
[14] 室温への冷却時または室温に冷却後に前記ガラス溶融物からブランクを形成し、前記ブランクを温度T w1 にて時間t w1 にわたって少なくとも第1の加熱処理W1に供し、620℃≦T w1 ≦800℃、特に650℃≦T w1 ≦750℃、および/または1分≦t w1 ≦200分、好ましくは10分≦t w1 ≦60分である、先行する請求項の少なくとも一項に記載の方法。
[15] 前記第1の加熱処理W1を2段階で実行し、特に第1の段階において630℃≦T st1 ≦690℃の温度T st1 および/または第2の段階において720℃≦T st2 ≦780℃の温度T st2 を設定し、かつ/または前記温度T st1 となるまでの加熱速度A st1 を1.5K/分≦A st1 ≦2.5K/分としかつ/または前記温度A st2 となるまでの加熱速度A st2 を8K/分≦A st2 ≦12K/分とする、先行する請求項の少なくとも一項に記載の方法。
[16] 前記第1の加熱処理W1に続いて、ケイ酸リチウムガラスセラミックブランクを温度T w2 にて時間t w2 にわたって第2の加熱処理W2に供し、800℃≦T w2 ≦1040℃、好ましくは800℃≦T w2 ≦870℃、および/または2分≦t w2 ≦200分、好ましくは3分≦t w2 ≦30分である、先行する請求項の少なくとも一項に記載の方法。
[17] 前記加熱工程のうち一方の後に、特に第1の加熱処理工程の後に、研削することおよび/またはミリング加工することにより前記ブランクから前記予備成形体を得る、先行する請求項の少なくとも一項に記載の方法。
[18] 医療用、特に歯科用の対象物またはその部品、特にブリッジ、クラウン、キャップ、インレー、オンレー、ベニヤの形態である、ケイ酸リチウムガラスセラミックを含むまたは含有する成形体であって、
リチウムイオンをより直径の大きいアルカリイオンで置きかえることにより、表面圧縮応力が前記成形体に発生させられる、前記成形体。
[19] 前記アルカリイオンが、Naイオン、Kイオン、Csイオンおよび/またはRbイオンであり、特にNaイオンもしくはKイオンであり、またはNaイオンおよびKイオンである、[18]に記載の成形体。
[20] 前記成形体のガラス相中に、前記成形体の剛性を向上させる少なくとも1種の安定剤が、とりわけZrO 2 の形態で、前記成形体の初期組成において好ましくは8~12重量%である重量百分率で存在する、[18]または[19]に記載の成形体。
[21] 前記成形体が、重量百分率で以下の組成であるガラス溶融物から製造され、
- SiO 2 50~80、好ましくは52~70、とりわけ好ましくは56~61
- 核形成剤、たとえば、
P 2 O 5 0.5~11、好ましくは3~8、とりわけ好ましくは4~7
- Al 2 O 3 0~10、好ましくは0.5~5、とりわけ好ましくは1.5~3.2
- Li 2 O 10~25、好ましくは13~22、とりわけ好ましくは14~21
- K 2 O 0~13、好ましくは0.5~8、とりわけ好ましくは1.0~2.5
- Na 2 O 0~1、好ましくは0~0.5、とりわけ好ましくは0.2~0.5
- ZrO 2 0~20、好ましくは4~16、特に6~14、とりわけ好ましくは8~12
- CeO 2 0~10、好ましくは0.5~8、とりわけ好ましくは1.0~2.5
- Tb 4 O 7 0~8、好ましくは0.5~6、とりわけ好ましくは1.0~2.0
- 任意に、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムおよびバリウムの群からの1種または複数のアルカリ土類金属の1種または複数の酸化物
0~20、好ましくは0~10、とりわけ好ましくは0~5、
- 任意に、酸化ホウ素、酸化スズおよび酸化亜鉛の群からの1種または複数の酸化物
0~10、好ましくは0~7、特に0~5、
総計が100重量パーセントである、
[18]~[20]の少なくとも一項に記載の成形体。
[22] 前記成形体が、重量百分率で以下の組成を有するガラス溶融物から製造され:
SiO 2 58.1±2.0
P 2 O 5 5.0±1.5
Al 2 O 3 4.0±2.5
Li 2 O 16.5±4.0
K 2 O 2.0±0.2
ZrO 2 10.0±0.5
CeO 2 0~3、好ましくは1.5±0.6
Tb 4 O 7 0~3、好ましくは1.2±0.4、
Na 2 O 0~0.5、好ましくは0.2~0.5
総計が100重量パーセントである、
[18]~[21]の少なくとも一項に記載の成形体。
[23] 前記成形体が、容積で20~65%の範囲のガラス相を含有する、[18]~[22]の少なくとも一項に記載の成形体。
[24] 前記成形体の容積で35~80%がケイ酸リチウム結晶である、[18]~[23]の少なくとも一項に記載の成形体。
[25] 表面から始まり深さ10μmまでの、前記リチウムイオンと置きかわっている前記アルカリイオンの百分率が5~20重量%の範囲であり、および/または表面から深さ8~12μmの前記アルカリイオンの百分率が5~10重量%の範囲であり、および/または表面から深さ12~14μmの層のアルカリイオンの百分率が4~8重量%の範囲であり、および/または表面からの深さ14~18μmのアルカリイオンの百分率が1~3重量%の範囲であり、前記アルカリイオンの重量百分率が層毎に低下する、[18]~[24]の少なくとも一項に記載の成形体。
Claims (20)
- ケイ酸リチウムガラスセラミックを含む、医療用の成形体またはその部品の製造方法であって、
前記成形体に相応する形状を持つ、ケイ酸リチウムガラスセラミックを含む予備成形体において、リチウムイオンをより直径の大きいアルカリイオンで置きかえることにより表面圧縮応力を発生させ、前記イオンを置換した後に前記予備成形体を容積で40~60%の範囲のガラス相を含有する前記成形体として使用し、
前記予備成形体を、出発構成成分として重量百分率で以下の組成:
- SiO2 50~80
- P2O5 0.5~11
- Al2O3 0~10
- Li2O 10~25
- K2O 0~13
- Na2O 0~1
- ZrO2 9.5~10.5
- CeO2 0~10
- Tb4O7 0~8
- マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムおよびバリウムの群の1種または複数のアルカリ土類金属の1種または複数の酸化物 0~20
- 酸化ホウ素、酸化スズおよび酸化亜鉛の群からの1種または複数の酸化物 0~10、
総計が100重量パーセントであり、
K2OとNa2Oの合計が2.5重量パーセント以下である、
のガラス溶融物から製造する、方法。 - 前記表面圧縮応力を発生させるためにアルカリイオンとしてNaイオン、Kイオン、Csイオンおよび/またはRbイオンを使用する、請求項1に記載の方法。
- 前記予備成形体を、アルカリイオンを含有する溶融物中でアニールする、請求項1または2に記載の方法。
- 前記溶融物が、前記予備成形体に色を付与する1種以上の元素を含有する、請求項3に記載の方法。
- 58~70の原子番号を持つ1種以上のランタニドを1種または複数の着色元素として使用する、請求項4に記載の方法。
- 少なくとも1種の前記着色元素が、バナジウム、マンガン、鉄、イットリウムおよびアンチモンの群の元素である、請求項4に記載の方法。
- 少なくとも1種の前記着色元素を、アルカリイオンを含有する前記溶融物に溶解させる、請求項4に記載の方法。
- 前記予備成形体を、カリウムイオンを含有する溶融物中で、またはナトリウムを含有する溶融物中で、またはカリウムイオンおよびナトリウムイオンの混合物を含有する溶融物中でアニールする、請求項1~7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記予備成形体を、T≧300℃の温度Tにてアニールする、請求項1~8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ガラス溶融物が少なくとも1種の着色金属酸化物を含有する、請求項1~9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ガラス溶融物が出発構成成分として重量百分率で以下の成分を含有し、
SiO2 58.1±2.0
P2O5 5.0±1.5
Al2O3 4.0±2.5
Li2O 16.5±4.0
K2O 2.0±0.2
ZrO2 10.0±0.5
CeO2 0~3
Tb4O7 0~3
Na2O 0~0.5
総計が100重量パーセントである、
請求項1~10のいずれか一項に記載の方法。 - 室温への冷却時または室温に冷却後に前記ガラス溶融物からブランクを形成し、前記ブランクを温度Tw1にて時間tw1にわたって少なくとも第1の加熱処理W1に供し、620℃≦Tw1≦800℃、および/または1分≦tw1≦200分である、請求項1~11のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の加熱処理W1を2段階で実行し、第1の段階において630℃≦Tst1≦690℃の温度Tst1および/または第2の段階において720℃≦Tst2≦780℃の温度Tst2を設定し、かつ/または前記温度Tst1となるまでの加熱速度Ast1を1.5K/分≦Ast1≦2.5K/分としかつ/または前記温度T st2となるまでの加熱速度Ast2を8K/分≦Ast2≦12K/分とする、請求項12に記載の方法。
- 前記第1の加熱処理W1に続いて、前記ブランクを温度Tw2にて時間tw2にわたって第2の加熱処理W2に供し、800℃≦Tw2≦1040℃、および/または2分≦tw2≦200分である、請求項12に記載の方法。
- 前記加熱処理工程のうち一方の後に研削することおよび/またはミリング加工することにより前記ブランクから前記予備成形体を得る、請求項14に記載の方法。
- 医療用の対象物またはその部品の形態である、ケイ酸リチウムガラスセラミックを含む成形体であって、前記成形体は、容積で40~60%の範囲のガラス相を含有し、リチウムイオンをより直径の大きいアルカリイオンで置きかえることにより、表面圧縮応力が前記成形体に発生させられ、前記成形体が、出発構成成分として重量百分率で以下の組成:
- SiO2 50~80
- P2O5 0.5~11
- Al2O3 0~10
- Li2O 10~25
- K2O 0~13
- Na2O 0~1
- ZrO2 9.5~10.5
- CeO2 0~10
- Tb4O7 0~8
- マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムおよびバリウムの群の1種または複数のアルカリ土類金属の1種または複数の酸化物 0~20、
- 酸化ホウ素、酸化スズおよび酸化亜鉛の群からの1種または複数の酸化物 0~10、
総計が100重量パーセントであり、
K2OとNa2Oの合計が2.5重量パーセント以下である、
のガラス溶融物から製造されたものである、成形体。 - 前記アルカリイオンが、Naイオン、Kイオン、Csイオンおよび/またはRbイオンである、請求項16に記載の成形体。
- 前記成形体のガラス相中に、前記成形体の剛性を向上させる少なくとも1種の安定剤が存在する、請求項16または請求項17に記載の成形体。
- 前記成形体が、重量百分率で以下の組成を有するガラス溶融物から製造され:
SiO2 58.1±2.0
P2O5 5.0±1.5
Al2O3 4.0±2.5
Li2O 16.5±4.0
K2O 2.0±0.2
ZrO2 10.0±0.5
CeO2 0~3
Tb4O7 0~3
Na2O 0~0.5
総計が100重量パーセントである、
請求項16~18のいずれか一項に記載の成形体。 - 表面から始まり深さ10μmまでの、前記リチウムイオンと置きかわっている前記アルカリイオンの百分率が5~20重量%の範囲であり、および/または表面から深さ8~12μmの前記アルカリイオンの百分率が5~10重量%の範囲であり、および/または表面から深さ12~14μmの層の前記アルカリイオンの百分率が4~8重量%の範囲であり、および/または表面からの深さ14~18μmの前記アルカリイオンの百分率が1~3重量%の範囲であり、前記アルカリイオンの重量百分率が層毎に低下する、請求項16~19のいずれか一項に記載の成形体。
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