JP7317958B2 - ガス検出システム - Google Patents

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本出願は、２０１９年５月２９日に日本国に特許出願された特願２０１９－１００５９８、及び、２０１９年５月２９日に日本国に特許出願された特願２０１９－１００６４４の優先権を主張するものであり、これらの先の出願の開示全体を、ここに参照のために取り込む。

本開示は、ガス検出システムに関する。

従来、被検者が排出した便から発生する臭気性ガスを検出するシステムが知られている（例えば、特許文献１）。

特開２０１６－１４２５８４号公報

本開示の一実施形態に係るガス検出システムは、
特定のガスの濃度に応じた信号を出力するセンサ部と、
検出対象のガスを吸着する吸着剤を内部に有する濃縮部と、
サンプルガス及びパージガスを前記濃縮部に供給可能である供給部と、
前記吸着剤を加熱可能なヒータと、
前記サンプルガスが前記濃縮部を通過するように前記供給部を制御した後、前記吸着剤の温度が上昇するように前記ヒータを制御しつつ前記パージガスが前記濃縮部を通過するように前記供給部を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記吸着剤の温度が前記検出対象のガスが前記吸着剤から離脱し始める温度に基づいて設定される温度に到達した時点であるか又は前記吸着剤の温度が前記検出対象のガスの脱離温度に到達した時点である第１時点から、該第１時点よりも後の第２時点まで、前記濃縮部への前記パージガスの通過を停止させ、前記第２時点以降、前記パージガスが前記濃縮部を通過して前記濃縮部内の前記検出対象のガスとともに前記センサ部に供給されるように制御する。

本開示の第１実施形態に係るガス検出システムの外観図である。 図１に示すガス検出システムが備える筐体内の概略図である。 図１に示すガス検出システムの機能ブロック図である。 所定ガスを吸着させた吸着剤の温度を変化させながら、吸着剤から脱離したガスの濃度を検出したときの模式的なグラフである。 図１に示すガス検出システムの動作の一例のタイミングチャートである。 図１に示すガス検出システムのガスの濃縮時の動作の一例のフローチャートである。 図１に示すガス検出システムのガスの種類及び濃度の検出時の動作の一例のフローチャートである。 本開示の第２実施形態に係るガス検出システムの動作の一例のタイミングチャートである。 本開示の第１時点及び第２時点の他の例を説明するタイミングチャートである。 本開示の第１実施形態及び第２実施形態の変形例に係るガス検出システムの機能ブロック図である。 本開示の第３実施形態に係るガス検出システムの外観図である。 図１１に示すガス検出システムが備える筐体内の概略図である。 図１１に示すガス検出システムの機能ブロック図である。 所定ガスを吸着させた吸着剤の温度を変化させながら、吸着剤から脱離したガスの濃度を検出したときの模式的なグラフである。 図１２に示す濃縮槽の吸着剤の断面図である。 図１１に示すガス検出システムの動作の一例のタイミングチャートである。 図１１に示すガス検出システムのガス濃縮時の動作の一例のフローチャートである。 図１１に示すガス検出システムのガスの種類及び濃度の検出時の動作の一例のフローチャートである。 本開示の第４実施形態に係るガス検出システムの動作の一例のタイミングチャートである。 本開示の第４実施形態に係るガス検出システムのガス濃縮時の動作の一例のフローチャートである。 本開示の第５実施形態における、吸着剤の温度と吸着剤から脱離したガスの濃度との関係を示す模式的なグラフである。 本開示の第３実施形態から第５実施形態の変形例に係るガス検出システムの機能ブロック図である。

従来のシステムには、ガス検出性能等を向上させる必要がある。

本開示は、ガス検出性能等が改善された、ガス検出システムを提供することに関する。

本開示の一実施形態によれば、ガス検出性能等が改善された、ガス検出システムが提供され得る。

以下、本開示に係る実施形態について、図面を参照して説明する。各図は模式的に示したものである。

（第１実施形態）
ガス検出システム１は、図１に示すように、便器２に設置されている。便器２は、限定ではないが、水洗便器であってよい。便器２は、便器ボウル２Ａと、便座２Ｂとを備える。ガス検出システム１は、便器２の任意の箇所に設置されていてよい。一例として、ガス検出システム１は、図１に示すように、便器ボウル２Ａと便座２Ｂとの間から便器２の外部にわたって配置されていてよい。ガス検出システム１の一部は、便座２Ｂの内部に埋め込まれていてよい。便器ボウル２Ａには、被検者の便が排出され得る。ガス検出システム１は、便器ボウル２Ａに排出された便から発生するガスを、サンプルガスとして取得し得る。ガス検出システム１は、サンプルガスに含まれるガスの種類及びガスの濃度等を検出し得る。ガス検出システム１は、検出結果等を電子機器３に送信し得る。図１に示すようなガス検出システム１は、「ガス検出装置」ともいう。

ガス検出システム１の用途は、上述の用途に限定されない。例えば、ガス検出システム１は、冷蔵庫に設置されていてよい。この場合、ガス検出システム１は、食品から発生するガスをサンプルガスとして取得し得る。その他の用途としては、例えば、ガス検出システム１は、工場又は実験室に設置されていてよい。この場合、ガス検出システム１は、薬品等から発生するガスをサンプルガスとして取得し得る。

便器２は、住宅又は病院等のトイレ室に設置され得る。便器２は、被検者によって使用され得る。上述のように、便器２は、便器ボウル２Ａと、便座２Ｂとを備える。便器ボウル２Ａには、被検者の便が排出され得る。

電子機器３は、例えば、被検者が利用するスマートフォンである。ただし、電子機器３は、スマートフォンに限定されない。電子機器３は、任意の電子機器であってよい。電子機器３は、被検者によってトイレ室に持ち込まれる場合、図１に示すようにトイレ室の内部に存在し得る。ただし、電子機器３は、例えば被検者がトイレ室に電子機器３を持ち込まない場合、トイレ室の外部に存在してよい。電子機器３は、ガス検出システム１から検出結果を、無線通信又は有線通信によって、受信し得る。電子機器３は、受信した検出結果を、表示部３Ａに表示し得る。表示部３Ａは、文字等を表示可能なディスプレイと、ユーザ（被検者）の指等の接触を検出可能なタッチスクリーンとを含んで構成されていてよい。当該ディスプレイは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ：Organic Electro‐Luminescence Display）又は無機ＥＬディスプレイ（ＩＥＬＤ：Inorganic Electro‐Luminescence Display）等の表示デバイスを含んで構成されていてよい。当該タッチスクリーンの検出方式は、静電容量方式、抵抗膜方式、表面弾性波方式、超音波方式、赤外線方式、電磁誘導方式又は荷重検出方式等の任意の方式でよい。

図２に示すように、ガス検出システム１は、筐体１０と、流入路２０，２１と、排出路２２，２３，２４とを備える。排出路２２、排出路２３及び排出路２４は、任意の箇所で合流してよい。ガス検出システム１は、流路３０，３１，３２，３３，３４，３５，３６，３７，３８，３９と、弁４０，４１，４２，４３，４４と、供給部５０とを備える。ガス検出システム１は、濃縮部としての濃縮槽６０と、貯留部としての貯留槽７０と、チャンバ８０と、回路部としての回路基板９０とを備える。図３に示すように、ガス検出システム１は、回路基板９０内に、記憶部９１と、通信部９２と、制御部９４とを備える。ガス検出システム１は、センサ部９３を備える。

筐体１０には、ガス検出システム１の各種部品が収容されている。筐体１０は、任意の材料で構成されていてよい。例えば、筐体１０は、金属又は樹脂等の材料で構成されていてよい。

流入路２０は、図１に示すように、便器ボウル２Ａの内側へ露出し得る。流入路２０の一部は、便座２Ｂに埋め込まれていてよい。流入路２０には、便器ボウル２Ａに排出された便から発生するガスが、サンプルガスとして流入する。流入路２０に流入したサンプルガスは、流路３０，３１，３２を経て、濃縮槽６０に供給される。図１に示すように、流入路２０の一端は、便器ボウル２Ａの内部に向けられてよい。図２に示すように、流入路２０の他端は、弁４０に接続されていてよい。流入路２０は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。

流入路２１は、図１に示すように、便器ボウル２Ａの外側へ露出し得る。流入路２１の一部は、便座２Ｂに埋め込まれていてよい。流入路２１には、例えば、便器ボウル２Ａの外側にあるトイレ室の空気が、パージガスとして流入する。流入路２１に流入したパージガスは、流路３０，３３，３４を経て、貯留槽７０に供給される。図１に示すように、流入路２１の一端は、便器２の外側に向けられてよい。図２に示すように、流入路２１の他端は、弁４０に接続されていてよい。流入路２１は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。

排出路２２の一部は、図１に示すように、便器ボウル２Ａの外側へ露出し得る。図２に示すような排出路２２は、チャンバ８０からの排気を外部に排出する。この排気には、検出処理後のサンプルガス及びパージガスが含まれ得る。図１に示すように、排出路２２の一端は、便器２の外側に向けられていてよい。図２に示すように、排出路２２の他端は、チャンバ８０に接続されていてよい。排出路２２は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。

排出路２３の一部は、図１に示すように、便器ボウル２Ａの外側へ露出し得る。図２に示すような排出路２３は、濃縮槽６０からの排気を外部に排出する。この排気には、後述のサンプルガスの濃縮処理にて生じる検出対象外のガス等が含まれる。図１に示すように、排出路２３の一端は、便器２の外側に向けられていてよい。図２に示すように、排出路２３の他端は、弁４３に接続されていてよい。排出路２３は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。

排出路２４の一部は、図１に示すように、便器ボウル２Ａの外側へ露出し得る。図２に示すような排出路２４は、貯留槽７０からの残留ガス等を外部に排出する。図１に示すように、排出路２４の一端は、便器２の外側に向けられていてよい。図２に示すように、排出路２４の他端は、弁４４に接続されていてよい。排出路２４は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。

図２に示すように、流路３０の一端は、弁４０に接続されている。流路３０の他端は、流路３１の一端及び流路３３の一端に接続されている。流路３１の一端は、流路３０の他端に接続されている。流路３１の他端は、弁４１に接続されている。流路３２の一端は、弁４１に接続されている。流路３２の他端は、濃縮槽６０の入口部に接続されている。流路３３の一端は、流路３０の他端に接続されている。流路３３の他端は、弁４２に接続されている。流路３４の一端は、弁４２に接続されている。流路３４の他端は、貯留槽７０の入口部に接続されている。流路３５の一端は、弁４１に接続されている。流路３５の他端は、弁４４に接続されている。流路３６の一端は、濃縮槽６０の出口部に接続されている。流路３６の他端は、弁４３に接続されている。流路３７の一端は、弁４３に接続されている。流路３７の他端は、チャンバ８０に接続されている。流路３８の一端は、貯留槽７０の出口部に接続されている。流路３８の他端は、弁４４に接続されている。流路３９の一端は、弁４４に接続されている。流路３９の他端は、チャンバ８０に接続されている。流路３０～３９は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。

図２に示すように、弁４０は、流入路２０と、流入路２１と、流路３０との間に、位置する。弁４０は、流入路２０に接続される接続口と、流入路２１に接続される接続口と、流路３０に接続される接続口とを含む。弁４０は、電磁駆動、ピエゾ駆動又はモータ駆動等の弁によって構成されていてよい。

図２に示すような弁４０は、図３に示すような制御部９４の制御に基づいて、流入路２０と流入路２１と流路３０との間の接続状態を切替える。例えば、弁４０は、これらの間の接続状態を、流入路２０と流路３０とを接続させた状態、流入路２１と流路３０とを接続させた状態、又は、流入路２０と流入路２１と流路３０とを接続させない状態に切替える。

図２に示すように、弁４１は、流路３１と、流路３２と、流路３５との間に、位置する。弁４１は、流路３１に接続される接続口と、流路３２に接続される接続口と、流路３５に接続される接続口とを含む。弁４１は、電磁駆動、ピエゾ駆動又はモータ駆動等の弁によって構成されていてよい。

図２に示すような弁４１は、図３に示すような制御部９４の制御に基づいて、流路３１と流路３２と流路３５との間の接続状態を切替える。例えば、弁４１は、これらの間の接続状態を、流路３１と流路３２とを接続させた状態、流路３５と流路３２とを接続させた状態、又は、流路３１と流路３２と流路３５とを接続させない状態に切替える。

図２に示すように、弁４２は、流路３３と、流路３４との間に、位置する。弁４２は、流路３３に接続される接続口と、流路３４に接続される接続口とを含む。弁４２は、電磁駆動、ピエゾ駆動又はモータ駆動等の弁によって構成されていてよい。

図２に示すような弁４２は、図３に示すような制御部９４の制御に基づいて、流路３３と流路３４との間の接続状態を切替える。例えば、弁４２は、これらの間の接続状態を、流路３３と流路３４とを接続させた状態、又は、流路３３と流路３４とを接続させない状態に切替える。

図２に示すように、弁４３は、排出路２３と、流路３６と、流路３７との間に、位置する。弁４３は、排出路２３に接続される接続口と、流路３６に接続される接続口と、流路３７に接続される接続口とを含む。弁４３は、電磁駆動、ピエゾ駆動又はモータ駆動等の弁によって構成されていてよい。

図２に示すような弁４３は、図３に示すような制御部９４の制御に基づいて、排出路２３と流路３６と流路３７との間の接続状態を切替える。例えば、弁４３は、これらの間の接続状態を、排出路２３と流路３６とを接続させた状態、流路３６と流路３７とを接続させた状態、又は、排出路２３と流路３６と流路３７とを接続させない状態に切替える。

図２に示すように、弁４４は、排出路２４と、流路３５と、流路３８と、流路３９との間に、位置する。弁４４は、排出路２４に接続される接続口と、流路３５に接続される接続口と、流路３８に接続される接続口と、流路３９に接続される接続口とを含む。弁４４は、電磁駆動、ピエゾ駆動又はモータ駆動等の弁によって構成されていてよい。

図２に示すような弁４４は、図３に示すような制御部９４の制御に基づいて、排出路２４と流路３５と流路３８と流路３９との間の接続状態を切替える。例えば、弁４４は、これらの間の接続状態を、排出路２４と流路３８とを接続させた状態、流路３８と流路３９とを接続させた状態、又は、流路３５と流路３８とを接続させた状態に切替える。又は、弁４４は、排出路２４と流路３５と流路３８と流路３９とを接続させない状態に切替える。

図２に示すように、供給部５０は、流路３０に取り付けられている。供給部５０は、図３に示すような制御部９４の制御に基づいて、流入路２０からのサンプルガスを濃縮槽６０に供給可能である。また、供給部５０は、図３に示すような制御部９４の制御に基づいて、流入路２１からのパージガスを貯留槽７０に供給可能である。供給部５０に示される矢印は、供給部５０がガスを送る方向を示す。供給部５０は、ピエゾポンプ又はモータポンプ等のポンプで構成されていてよい。ただし、供給部５０は、流入路２０からのサンプルガスを濃縮槽６０に供給可能な任意の部品で構成されていてよい。

図２に示すように、濃縮槽６０の入口部は、流路３２に接続されている。濃縮槽６０の出口部は、流路３６に接続されている。濃縮槽６０には、流入路２０から流入したサンプルガスが、流路３０，３１，３２を経て、供給される。濃縮槽６０内では、サンプルガスが、後述の処理により、濃縮される。本実施形態において「サンプルガスの濃縮」とは、サンプルガスに含まれる検出対象のガスの濃度を高めることを意味する。検出対象のガスの一例については、後述する。濃縮槽６０内で濃縮されたサンプルガスは、流路３６，３７を経て、チャンバ８０に供給される。

濃縮槽６０は、直方体状、円筒状、袋状、又は、筐体１０内部に収容される各種部品の隙間を埋めるような形状の容器等で構成されていてよい。濃縮槽６０は、吸着剤６１と、支持部材６２，６３と、ヒータ６４とを有する。

図２に示すように、吸着剤６１は、濃縮槽６０の内部に配されている。吸着剤６１は、ガス検出システム１の用途に応じた、任意の材料を含んでよい。吸着剤６１は、例えば、活性炭、シリカゲル、ゼオライト及びモレキュラーシーブの少なくとも何れかが含まれてよい。吸着剤６１は、複数種類のものであってよいし、多孔質材料を含んでよい。

吸着剤６１は、サンプルガスに含まれる検出対象のガスを吸着する。サンプルガスが便から発生するガスである場合、検出対象のガスの一例として、メタン、水素、二酸化炭素、メチルメルカプタン、硫化水素、酢酸及びトリメチルアミン等が挙げられる。検出対象のガスは、例えば、大便の便臭に含まれていて、便器ボウル２Ａ内に存在する大便以外の物質(水洗水及び尿等)に含まれないガス種である。サンプルガスが便から発生するガスである場合、吸着剤６１の例としては、活性炭及びモレキュラーシーブ等が挙げられる。ただし、これらの組み合わせは、吸着するガス分子の極性によって適宜変更されていてよい。

吸着剤６１に吸着された検出対象のガスは、吸着剤６１がヒータ６４で加熱されることにより所定温度になると、吸着剤６１から脱離し得る。吸着剤６１から検出対象のガスが脱離することにより、濃縮槽６０内において、検出対象のガスの濃度が高まる。つまり、サンプルガスが濃縮される。ここで、一般的に、ガスは、所定の温度範囲内で、吸着剤６１から脱離可能である。本実施形態において「ガスの脱離温度」とは、当該ガスが吸着剤６１から脱離可能な所定の温度範囲内において、吸着剤６１から脱離する当該ガスの量がピークとなる温度を意味する。

図４は、所定ガスを吸着させた吸着剤６１の温度を変化させながら、吸着剤６１から脱離したガスの濃度を検出したときの模式的なグラフである。図４において、横軸は、温度を示す。図４において、縦軸は、吸着剤６１から脱離したガスの濃度を示す。所定ガスは、メチルメルカプタン及び水を含む。水は、温度ｔ１を含む所定の温度範囲において、吸着剤６１から脱離し得る。また、温度ｔ１で、吸着剤６１から脱離する水の濃度（量）は、ピークとなる。そのため、水の脱離温度は、温度ｔ１となる。また、メチルメルカプタンは、温度ｔ２を含む所定の温度範囲において、吸着剤６１から脱離し得る。また、温度ｔ２で、吸着剤６１から脱離するメチルメルカプタンの濃度（量）は、ピークとなる。そのため、メチルメルカプタンの脱離温度は、温度ｔ２となる。

図２に示すような吸着剤６１は、サンプルガスに含まれる検出対象外のガスを吸着する場合がある。検出対象外のガスは、「ノイズガス」とも称される。サンプルガスが便から発生するガスである場合、検出対象外のガスの一例として、アンモニア及び水等が挙げられる。ここで、ガスの種類に応じて、ガスの脱離温度は、異なり得る。そのため、検出対象のガスの脱離温度と、検出対象外のガスの脱離温度は、異なり得る。例えば、図４では、サンプルガスが便から発生するガスである場合、検出対象のガスは、メチルメルカプタンとなる。また、検出対象外のガスは、水となる。図４に示すように、水の脱離温度である温度ｔ１と、メチルカプタンの脱離温度である温度ｔ２は、異なる。本実施形態では、ガスの種類に応じてガスの脱離温度が異なることを利用して、サンプルガスに含まれる検出対象外のガスを、後述の処理により、サンプルガスから除外する。サンプルガスから除外された検出対象外のガスは、排出路２３から外部に排出される。

図２に示すような支持部材６２は、濃縮槽６０の入口部付近において、吸着剤６１を支持する。支持部材６２は、粉末又は繊維状の、ガラス又はフッ素樹脂を含んで構成されていてよい。

図２に示すような支持部材６３は、濃縮槽６０の出口部付近において、吸着剤６１を支持する。支持部材６３は、粉末又は繊維状の、ガラス又はフッ素樹脂を含んで構成されていてよい。

図２に示すようなヒータ６４は、吸着剤６１を加熱可能である。例えば、ヒータ６４は、図３に示すような制御部９４の制御に基づいて、通電状態になることにより、吸着剤６１を加熱する。ヒータ６４は、濃縮槽６０の外側に配されている。ヒータ６４は、濃縮槽６０の外側を包囲してよい。ヒータ６４は、抵抗加熱ヒータ又はラバーヒータ等であってよい。

図２に示すように、貯留槽７０の入口部は、流路３４に接続されている。貯留槽７０の出口部は、流路３８に接続されている。貯留槽７０には、流入路２１から流入したパージガスが、流路３０，３３，３４を経て、供給される。貯留槽７０は、供給されたパージガスを貯留する。貯留槽７０に貯留されたパージガスは、流路３８，３９を経て、チャンバ８０に供給される。また、貯留槽７０に貯留されたパージガスは、流路３８，３５，３２を経て、濃縮槽６０に供給される。

貯留槽７０は、直方体状、円筒状、袋状、又は、筐体１０内部に収容される各種部品の隙間を埋めるような形状の容器等で構成されていてよい。貯留槽７０の容量は、濃縮槽６０の容量よりも大きくてよい。貯留槽７０は、吸着剤７１と、支持部材７２，７３とを有する。

図２に示すように、吸着剤７１は、貯留槽７０の内部に配されている。吸着剤７１は、ガス検出システム１の用途に応じた、任意の材料を含んでよい。吸着剤７１は、例えば、活性炭、シリカゲル、ゼオライト及びモレキュラーシーブの少なくとも何れかを含んでよい。吸着剤７１は、複数種類のものであってよいし、多孔質材料を含んでよい。

吸着剤７１は、パージガスに混入した検出対象のガスを吸着するものを含んでよい。トイレ室内の空気をパージガスとする場合、パージガスに、検出対象のガスが混入する場合がある。吸着剤７１がパージガスに混入した検出対象のガスを吸着することにより、貯留槽７０内のパージガスが浄化され得る。サンプルガスが便から発生するガスである場合、検出対象のガスを吸着する吸着剤７１の例として、活性炭及びモレキュラーシーブ等が挙げられる。ただし、これらの組み合わせは、吸着するガス分子の極性によって適宜変更されていてよい。

吸着剤７１は、パージガスに混入した検出対象外のガスを吸着するものを含んでよい。トイレ室内の空気をパージガスとする場合、パージガスに、検出対象外のガスが混入する場合がある。吸着剤７１がパージガスに混入した検出対象外のガスを吸着することにより、貯留槽７０内のパージガスが浄化され得る。サンプルガスが便から発生するガスである場合、検出対象外のガスを吸着する吸着剤７１の例として、シリカゲル及びゼオライト等が挙げられる。ただし、これらの組み合わせは、吸着するガス分子の極性によって適宜変更させてよい。

支持部材７２は、貯留槽７０の入口部付近において、吸着剤７１を支持する。支持部材７２は、粉末又は繊維状の、ガラス又はフッ素樹脂を含んで構成されていてよい。

支持部材７３は、貯留槽７０の出口部付近において、吸着剤７１を支持する。支持部材７３は、粉末又は繊維状の、ガラス又はフッ素樹脂を含んで構成されていてよい。

図２に示すように、チャンバ８０は、その内部に、センサ部８１を有する。チャンバ８０は、複数のセンサ部８１を有してよい。チャンバ８０は、複数に分かれていてよい。各センサ部８１は、複数に分かれた各チャンバ８０に配されていてよい。複数に分かれた各チャンバ８０同士は、接続されていてよい。チャンバ８０は、流路３７に接続されている。チャンバ８０には、流路３７からサンプルガスが供給される。また、チャンバ８０は、流路３９に接続されている。チャンバ８０には、流路３９からパージガスが供給される。また、チャンバ８０は、排出路２２に接続されている。チャンバ８０は、検出処理後のサンプルガス及びパージガスを排出路２２から排出する。

図２に示すように、センサ部８１は、チャンバ８０内に配置されている。センサ部８１は、特定のガスの濃度に応じた信号を、制御部９４に出力する。センサ部８１は、半導体式センサ、接触燃焼式センサ又は固体電解質センサ等の任意のセンサを含んで構成されていてよい。以下、センサ部８１は、特定のガスの濃度に応じた信号として、特定のガスの濃度に応じた電圧を、制御部９４に出力するものとして説明する。ただし、センサ部８１が出力する特定のガスの濃度に応じた信号は、特定のガスの濃度に応じた電圧に限定されない。例えば、センサ部８１は、特定のガスの濃度に応じた信号として、特定のガスの濃度に応じた電流を、制御部９４に出力してよい。特定のガスには、特定の検出対象のガスと、特定の検出対象外のガスとが含まれる。サンプルガスが便から発生するガスである場合には、特定の検出対象のガスの一例として、メタン、水素、二酸化炭素、メチルメルカプタン、硫化水素、酢酸及びトリメチルアミン等が挙げられる。また、サンプルガスが便から発生するガスである場合には、特定の検出対象外のガスの一例として、アンモニア及び水等が挙げられる。複数のセンサ部８１の各々は、これらのガスの少なくとも何れかの濃度に応じた電圧を、制御部９４に出力し得る。

図３に示すような回路基板９０は、電気信号が伝搬する配線、記憶部９１、通信部９２及び制御部９４等を実装する。

図３に示すような記憶部９１は、例えば、半導体メモリ又は磁気メモリ等で構成される。記憶部９１は、各種情報、及び、ガス検出システム１を動作させるためのプログラムを記憶する。記憶部９１は、ワークメモリとして機能してもよい。

図３に示すような通信部９２は、図１に示すような電子機器３と通信可能である。通信部９２は、外部サーバと通信可能であってよい。通信部９２と電子機器３及び外部サーバとの通信において用いられる通信方式は、近距離無線通信規格又は携帯電話網へ接続する無線通信規格であってよいし、有線通信規格であってよい。近距離無線通信規格は、例えば、ＷｉＦｉ（登録商標）、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）、赤外線及びＮＦＣ（Near Field Communication）等を含んでよい。携帯電話網へ接続する無線通信規格は、例えば、ＬＴＥ（Long Term Evolution）又は第４世代以上の移動通信システム等を含んでよい。また、通信部９２と電子機器３及び外部サーバとの通信において用いられる通信方式は、例えばＬＰＷＡ（Low Power Wide Area）又はＬＰＷＡＮ（Low Power Wide Area Network）等の通信規格でもよい。

図３に示すようなセンサ部９３は、画像カメラ、個人識別スイッチ、赤外線センサ及び圧力センサ等の少なくとも何れかを含んで構成されていてよい。センサ部９３は、検出結果を、制御部９４に出力する。

例えば、センサ部９３は、赤外線センサを含んで構成される場合には、赤外線センサが照射した赤外線の対象物からの反射光を検出することにより、被検者がトイレ室に入室したことを検出し得る。センサ部９３は、検出結果として、被検者がトイレ室に入室したことを示す信号を制御部９４に出力する。

例えば、センサ部９３は、圧力センサを含んで構成される場合には、図１に示すような便座２Ｂにかかる圧力を検出することにより、被検者が便座２Ｂに座ったことを検出し得る。センサ部９３は、検出結果として、被検者が便座２Ｂに座ったことを示す信号を制御部９４に出力する。

例えば、センサ部９３は、圧力センサを含んで構成される場合には、図１に示すような便座２Ｂにかかる圧力の低減を検出することにより、被検者が便座２Ｂから立ち上がったことを検出し得る。センサ部９３は、検出結果として、被検者が便座２Ｂから立ち上がったことを示す信号を制御部９４に出力する。

例えば、センサ部９３は、画像カメラ及び個人識別スイッチ等を含んで構成される場合には、顔画像、座高及び体重等のデータを収集する。センサ部９３は、収集したデータから個人を特定識別して検出する。センサ部９３は、検出結果として、特定識別した個人を示す信号を制御部９４に出力する。

例えば、センサ部９３は、個人識別スイッチ等を含んで構成される場合には、個人識別スイッチの操作に基づいて、個人を特定（検出）する。この場合、記憶部９１には、予め個人情報が登録（記憶）されていてよい。センサ部９３は、検出結果として、特定した個人を示す信号を制御部９４に出力する。

図３に示すような制御部９４は、１以上のプロセッサを含む。プロセッサは、特定のプログラムを読み込ませて特定の機能を実行する汎用のプロセッサ、及び、特定の処理に特化した専用のプロセッサの少なくとも何れかを含んでよい。専用のプロセッサは、特定用途向けＩＣ（ＡＳＩＣ；Application Specific Integrated Circuit）を含んでよい。プロセッサは、プログラマブルロジックデバイス（ＰＬＤ；Programmable Logic Device）を含んでよい。ＰＬＤは、ＦＰＧＡ（Field-Programmable Gate Array）を含んでよい。制御部９４は、１つ又は複数のプロセッサが協働するＳｏＣ（System-on-a-chip）、及び、ＳｉＰ（System-in-a-Package）の少なくとも何れかを含んでもよい。

＜パージガスの貯留処理＞
制御部９４は、センサ部９３の検出結果に基づいて、被検者が便座２Ｂから立ち上がったことを検出し得る。制御部９４は、被検者が便座２Ｂから立ち上がったことを検出してから所定の第１設定時間が経過した後、トイレ室の空気が、パージガスとして、流入路２１に流入するように制御する。制御部９４は、流入路２１から流入したパージガスが、貯留槽７０に貯留されるように制御する。第１設定時間は、被検者のトイレ室からの退出後、トイレ室内の換気扇等によって、トイレ室内の空気が、トイレ室外の空気と入れ替わる時間を考慮して、適宜設定されていてよい。

例えば、制御部９４は、図２に示すような弁４０によって流入路２１と流路３０とを接続させた状態にし、図２に示すような弁４２によって流路３３と流路３４とを接続させた状態にする。さらに、制御部９４は、図２に示すような弁４４によって流路３８と排出路２４とを接続させた状態にする。加えて、制御部９４は、供給部５０を制御することにより、流入路２１から、流路３０，３３，３４、貯留槽７０及び流路３８を経て、排出路２４に向かうガスの流れを生じさせる。当該ガスの流れが生じることにより、トイレ室の空気は、パージガスとして、流入路２１に流入する。流入路２１から流入したパージガスは、流路３０，３３，３４を経て、貯留槽７０に供給される。貯留槽７０にパージガスが供給されることにより、当該パージガスによって貯留槽７０内の残留ガスは、流路３８へ押し出されて、排出路２４から排出される。制御部９４は、パージガスを流入路２１に流入させ始めてから所定の第２設定時間が経過した時点で、供給部５０を停止させる。さらに、制御部９４は、弁４０によって流入路２１と流路３０とを接続させない状態にし、弁４２によって流路３３と流路３４とを接続させない状態にする。加えて、制御部９４は、弁４４によって流路３８と排出路２４とを接続させない状態にする。このような構成により、流入路２１からのパージガスが貯留槽７０に貯留される。第２設定時間は、貯留槽７０の容量等を考慮して、適宜設定されていてよい。貯留槽７０に貯留されたパージガスは、貯留槽７０内の吸着剤７１と接触し得る。パージガスが吸着剤７１に接触することにより、パージガスに混入した検出対象のガス及び検出対象外のガスが吸着剤７１に吸着され得る。パージガスに混入した検出対象のガス及び検出対象外のガスが吸着剤７１に吸着されることにより、貯留槽７０内のパージガスが浄化され得る。

＜サンプルガスの貯留及び濃縮処理＞
図３に示すような制御部９４は、センサ部９３の検出結果に基づいて、被検者が便座２Ｂに座ったことを検出し得る。制御部９４は、被検者が便座２Ｂに座ったことを検出してから所定の第３設定時間が経過した後、便器ボウル２Ａに排出された便から発生するガスが、サンプルガスとして、流入路２０に流入するように制御する。制御部９４は、流入路２０から流入したサンプルガスが、濃縮槽６０を通過するように制御する。第３設定時間は、被検者が便座２Ｂに座ってから、被検者が便を排出するまでにかかる時間を考慮して、適宜設定されていてよい。

例えば、制御部９４は、図２に示すような弁４０によって流入路２０と流路３０とを接続させた状態にし、弁４１によって流路３１と流路３２とを接続させた状態にする。さらに、制御部９４は、図２に示すような弁４３によって流路３６と排出路２３とを接続させた状態にする。加えて、制御部９４は、図２に示すような供給部５０を制御することにより、流入路２０から、流路３０，３１，３２、濃縮槽６０及び流路３６を経て、排出路２３に向かうガスの流れを生じさせる。当該ガスの流れが生じることにより、流入路２０から流入したサンプルガスは、濃縮槽６０を通過する。

図３に示すような制御部９４は、サンプルガスが濃縮槽６０を通過するように制御することにより、吸着剤６１にサンプルガスに含まれる検出対象ガスを吸着させる。制御部９４は、例えば所定の第１時間、サンプルガスが濃縮槽６０を通過するように制御してよい。第１時間は、吸着剤６１に吸着可能な検出対象のガスの量を考慮して、適宜設定されていてよい。また、制御部９４は、濃縮槽６０内を通過するサンプルガスの流量が第１流量となるように、供給部５０を制御してよい。第１流量は、濃縮槽６０の容積又は吸着剤６１の面積等を考慮して、適宜設定されていてよい。また、制御部９４は、サンプルガスが濃縮槽６０内を通過している間、ヒータ６４を非駆動状態に維持してよい。ヒータ６４を非駆動状態に維持することにより、吸着剤６１の温度は、室温となり得る。制御部９４は、サンプルガスの流量を、供給部５０を構成するポンプ等の駆動電圧及び周波数等の少なくとも何れかから、推定してよい。また、サンプルガスの流量を検出する流量センサが、ガス検出システム１に設けられてよい。この構成では、流量センサは、サンプルガスの流量を示す検出信号を、制御部９４に出力する。制御部９４は、流量センサが出力する検出信号に基づいて、サンプルガスの流量を検出する。制御部９４は、パージガスの流量に関しても、サンプルガスと同一又は類似にして検出してよい。

図５は、図１に示すガス検出システム１の動作の一例のタイミングチャートである。図５の上部には、時刻に対する吸着剤６１の温度の変化を示す。図５の中央部には、時刻に対する濃縮槽６０内のガスの流量の変化を示す。図５の下部には、時刻に対する濃縮槽６０の出口部付近の検出対象のガスの濃度の変化を示す。制御部９４は、吸着剤６１の温度を、ヒータ６４の電流等から推定してよい。また、吸着剤６１の近傍に温度センサが設けられていてよい。この構成では、温度センサは、吸着剤６１の近傍の温度を示す信号を、制御部９４に出力する。制御部９４は、温度センサが出力する検出信号に基づいて、吸着剤６１の温度を取得してよい。

図５に示すような時刻Ｓ０は、被検者が便座２Ｂに座ったことを制御部９４が検出してから第３設定時間が経過した時点である。時刻Ｓ０で、制御部９４は、便器ボウル２Ａに排出された便から発生するガスが、サンプルガスとして、流入路２０に流入するように制御する。さらに、制御部９４は、サンプルガスが濃縮槽６０を通過するように制御する。この際、制御部９４は、濃縮槽６０を通過するサンプルガスの流量が第１流量Ｆ１になるように、供給部５０を制御する。また、制御部９４は、ヒータ６４を非駆動状態に維持する。ヒータ６４が非駆動状態に維持されることにより、吸着剤６１は、室温Ｔ０に維持される。制御部９４は、時刻Ｓ０から時刻Ｓ１までの第１時間、サンプルガスが濃縮槽６０を通過するように制御する。

図５に示すような時刻Ｓ０で、サンプルガスが濃縮槽６０を通過し始める。サンプルガスが濃縮槽６０を通過し始めることにより、吸着剤６１は、サンプルガスに含まれる検出対象のガスを吸着し始める。濃縮槽６０を通過することにより、吸着剤６１に検出対象のガスを吸着されたサンプルガスは、排出路２３から排出される。また、時刻Ｓ０以降、サンプルガスに検出対象外のガスが含まれる場合、当該検出対象外のガスも吸着剤６１に吸着され得る。

図３に示すような制御部９４は、サンプルガスが濃縮槽６０を通過し始めてから第１時間が経過した時点で、濃縮槽６０へのサンプルガスの通過を停止させる。例えば、制御部９４は、第１時間が経過した時点で、供給部５０を停止させる。さらに、制御部９４は、弁４１によって流路３１と流路３２を接続させない状態にし、弁４３によって流路３６と排出路２３を接続させない状態にする。また、制御部９４は、第１時間が経過した時点で、ヒータ６４を駆動状態にすることにより、吸着剤６１の温度を上昇させる。

図５に示すような時刻Ｓ１は、サンプルガスが濃縮槽６０を通過し始めてから第１時間が経過した時点である。時刻Ｓ１で、制御部９４は、濃縮槽６０へのサンプルガスの通過を停止させる。濃縮槽６０へのサンプルガスの通過が停止されることにより、濃縮槽６０内のガスの流量は、０になる。また、時刻Ｓ１で、制御部９４は、ヒータ６４を駆動状態にする。時刻Ｓ１でヒータ６４が駆動状態になることにより、吸着剤６１の温度は、時刻Ｓ１以降、上昇する。

図３に示すような制御部９４は、図２に示すような吸着剤６１の温度が温度Ｔ１に到達すると、例えば所定の第２時間、吸着剤６１の温度が温度Ｔ１に維持されるように制御する。第２時間は、サンプルガスに含まれ得る検出対象外のガスの量を考慮して、適宜設定されていてよい。温度Ｔ１は、サンプルガスに含まれ得る検出対象外のガスの脱離温度であってよい。例えば、検出対象外のガスが水である場合、温度Ｔ１は、図４に示すような温度ｔ１となり得る。吸着剤６１が温度Ｔ１に維持されることにより、検出対象外のガスは、吸着剤６１から脱離し得る。制御部９４は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ１に維持されるように制御しつつ、パージガスが濃縮槽６０を通過するように制御する。制御部９４は、濃縮槽６０を通過したパージガスが、排出路２３から排出されるように制御する。このような構成により、吸着剤６１から脱離した検出対象外のガスは、パージガスとともに、排出路２３から排出され得る。つまり、吸着剤６１から脱離した検出対象外のガスは、濃縮槽６０から除去され得る。制御部９４は、濃縮槽６０内を通過するパージガスの流量が第１流量となるように、供給部５０を制御してよい。

例えば、制御部９４は、図２に示すような吸着剤６１の温度が温度Ｔ１に到達すると、弁４０によって流入路２１と流路３０とを接続させた状態にし、弁４２によって流路３３と流路３４とを接続させた状態にする。さらに、制御部９４は、弁４４によって流路３８と流路３５とを接続させた状態にし、弁４１によって流路３５と流路３２とを接続させた状態にし、弁４３によって流路３６と排出路２３とを接続させた状態にする。加えて、制御部９４は、供給部５０を制御することにより、流入路２１から、流路３０，３３，３４、貯留槽７０、流路３８，３５，３２、濃縮槽６０及び流路３６を経て、排出路２３に向かうガスの流れを生じさせる。当該ガスの流れを生じさせることにより、パージガスは、濃縮槽６０を通過して排出路２３から排出される。パージガスが濃縮槽６０を通過することにより、吸着剤６１から脱離した検出対象外のガスは、濃縮槽６０から除去されて、排出路２３から排出される。

図５に示すような時刻Ｓ２で、吸着剤６１の温度が温度Ｔ１に到達する。制御部９４は、時刻Ｓ２から時刻Ｓ３までの第２時間、吸着剤６１の温度が温度Ｔ１に維持されるようにヒータ６４を制御する。時刻Ｓ２以降、吸着剤６１の温度が温度Ｔ１に維持されることにより、検出対象外のガスは、吸着剤６１から脱離し得る。また、時刻Ｓ２で、制御部９４は、パージガスが濃縮槽６０を通過して排出路２３から排出されるように制御する。パージガスが濃縮槽６０を通過して排出路２３から排出されることにより、脱離した検出対象外のガスは、濃縮槽６０から除去されて排出路２３から排出され得る。制御部９４は、濃縮槽６０内を通過するパージガスの流量が第１流量Ｆ１となるように、供給部５０を制御してよい。

図３に示すような制御部９４は、図２に示すような吸着剤６１の温度が温度Ｔ１に到達してから第２時間が経過した時点で、吸着剤６１の温度が上昇するようにヒータ６４を制御する。制御部９４は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２まで上昇するようにヒータ６４を制御する。温度Ｔ２は、サンプルガスに含まれる検出対象のガスの脱離温度であってよい。例えば、検出対象のガスがメチルメルカプタンである場合、温度Ｔ２は、図４に示すような温度ｔ２となり得る。制御部９４は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２になると、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に維持されるようにヒータ６４を制御する。

図５に示すような時刻Ｓ３は、第２時間が経過した時点である。時刻Ｓ３で、制御部９４は、吸着剤６１の温度が上昇するようにヒータ６４を制御する。時刻Ｓ５で、吸着剤６１の温度は、温度Ｔ２に到達する。制御部９４は、時刻Ｓ５以降、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に維持されるように制御する。

ここで、本開示では、図３に示すような制御部９４は、第１時点から、当該第１時点よりも後の第２時点まで、濃縮槽６０へのパージガスの通過を停止させる。本開示の第１時点は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に到達する前か又は温度Ｔ２に到達した時点である。第１実施形態では、第１時点は、吸着剤６１の温度が、温度Ｔ３に到達した時点である。温度Ｔ３は、検出対象のガスが吸着剤６１から脱離し始める温度に基づいて設定されていてよい。例えば、温度Ｔ３は、検出対象のガスがメチルメルカプタンである場合、図４に示すような温度ｔ３となり得る。また、第１実施形態では、第２時点は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に到達してから例えば所定の第３時間が経過した時点である。吸着剤６１の温度が温度Ｔ３に到達すると、濃縮槽６０の内部では、検出対象のガスが、吸着剤６１から脱離し始める。第１時点から第２時点までの時間、濃縮槽６０へのパージガスの通過を停止することで、吸着剤６１から脱離した多くの検出対象のガスが、濃縮槽６０に留まり得る。多くの検出対象のガスが、濃縮槽６０に留まることで、濃縮槽６０内の検出対象のガスの濃度が高まり得る。つまり、濃縮槽６０においてサンプルガスがより濃縮され得る。第３時間は、吸着剤６１に吸着され得る検出対象ガスの量を考慮して、適宜設定されていてよい。

例えば、制御部９４は、図２に示すような吸着剤６１の温度が温度Ｔ３に到達すると、供給部５０を停止させる。さらに、制御部９４は、弁４１によって流路３１と流路３２と流路３５とを接続させない状態にし、弁４３によって排出路２３と流路３６と流路３７とを接続させない状態にする。このような構成により、濃縮槽６０へのパージガスの通過が停止される。

図３に示すような制御部９４は、第２時点以降、パージガスが濃縮槽６０を通過するように制御する。本実施形態では、制御部９４は、第２時点から、すなわち、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に到達してから第３時間が経過した時点から、パージガスが濃縮槽６０を通過するように制御する。制御部９４は、パージガスが、濃縮槽６０を通過して、濃縮槽６０内の検出対象のガスとともにチャンバ８０のセンサ部８１に供給されるよう制御する。このような構成により、濃縮槽６０内の濃度が高められた検出対象のガスが、すなわち、濃縮槽６０内のより濃縮されたサンプルガスが、パージガスによってチャンバ８０のセンサ部８１に搬送され得る。パージガスは、ガスを搬送する用途で使用される場合、「キャリアガス」とも称される。

例えば、制御部９４は、第２時点になると、図２に示すような弁４０によって流入路２１と流路３０とを接続させた状態にし、弁４２によって流路３３と流路３４とを接続させた状態にする。さらに、制御部９４は、弁４４によって流路３８と流路３５とを接続させた状態にし、弁４１によって流路３５と流路３２とを接続させた状態にし、弁４３によって流路３６と流路３７とを接続させた状態にする。加えて、制御部９４は、供給部５０を制御することにより、流入路２１から、流路３０，３３，３４、貯留槽７０、流路３８，３５，３２、濃縮槽６０及び流路３６，３７を経て、チャンバ８０に向かうガスの流れを生じさせる。当該ガスの流れが生じることにより、パージガスは、濃縮槽６０を通過して、濃縮槽６０内の検出対象のガスを、チャンバ８０に搬送する。

図５に示すような時刻Ｓ４で、吸着剤６１の温度は、温度Ｔ３に到達する。つまり、時刻Ｓ４が第１時点に対応する。また、時刻Ｓ５で、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に到達する。また、時刻Ｓ５から時刻Ｓ６までの時間が第３時間となる。つまり、時刻Ｓ６が第２時点に対応する。制御部９４は、時刻Ｓ４から時刻Ｓ６まで、濃縮槽６０へのパージガスの通過を停止する。制御部９４は、時刻Ｓ６で、パージガスが、濃縮槽６０を通過して、濃縮槽６０内の検出対象のガスとともに、チャンバ８０に供給されるよう制御する。制御部９４は、時刻Ｓ６から時刻Ｓ８までの時間、パージガスが濃縮槽６０を通過するように制御してよい。時刻Ｓ６から時刻Ｓ８までの時間は、貯留槽７０の容積等に応じて適宜設定されていてよい。

ここで、濃縮槽６０の入口部から供給されたパージガスは、濃縮槽６０内の検出対象のガスを、濃縮槽６０の出口部に向けて、徐々に押出し得る。そのため、濃縮槽６０内の出口部付近の検出対象のガスの濃度は、検出対象のガスの種類に応じては、パージガスが濃縮槽６０に供給され始めてから、ある程度の時間が経過した後、最大となる場合がある。図５に示すような例では、時刻Ｓ７で、濃縮槽６０内の出口部付近の検出対象のガスの濃度が、最大値Ｃ１となる。つまり、パージガスが濃縮槽６０を通過し始めた当初は、パージガスにより搬送される検出対象ガスの濃度がそれほど高くない場合がある。

そこで、制御部９４は、パージガスが濃縮槽６０を通過し始めてから所定の第４時間が経過するまで、濃縮槽６０を通過したパージガスを、センサ部８１に供給せずに、例えば排出路２３から、排気してよい。さらに、制御部９４は、第４時間が経過した後、濃縮槽６０を通過したパージガスをセンサ部８１に供給してよい。この場合、制御部９４は、パージガスが濃縮槽６０を通過し始めてから第４時間が経過するまで、弁４３によって流路３６と排出路２３とを接続させた状態にすることにより、濃縮槽６０を通過したパージガスを排出路２３から排出させてよい。また、制御部９４は、第４時間が経過した後、弁４３によって流路３６と流路３７とを接続させた状態にすることにより、濃縮槽６０を通過したパージガスをセンサ部８１に供給してよい。第４時間は、濃縮槽６０の長さ及び断面積等を考慮して、適宜設定されていてよい。第４時間は、図５に示すような時刻Ｓ６から、時刻Ｓ６ａまでの時間程度であってよい。時刻Ｓ６ａは、時刻Ｓ６の以後の時刻であり、時刻Ｓ７の直前の時刻である。また、制御部９４は、濃縮槽６０内を通過するパージガスの流量が第２流量となるように供給部５０を制御してよい。図５では、時刻Ｓ６以降、制御部９４は、パージガスの流量が第２流量Ｆ２になるように供給部５０を制御してよい。第２流量は、第１流量よりも小さい。第２流量は、濃縮槽６０の容積及び弁４３のスペック等を考慮して適宜決定されていてよい。濃縮槽６０内を通過するパージガスの流量を第１流量よりも小さい第２流量にすることで、制御部９４は、第４時間経過後、弁４３によって流路３６の接続先を排出路２３から流路３７に、スムーズに切替えることができる。

＜ガスの種類及び濃度の検出処理＞
制御部９４は、貯留槽７０に貯留されたパージガスが、チャンバ８０のセンサ部８１に供給されるように制御する。例えば、制御部９４は、弁４０によって流入路２１と流路３０とを接続させた状態にし、弁４２によって流路３３と流路３４とを接続させた状態にし、弁４４によって流路３８と流路３９とを接続させた状態にする。さらに、制御部９４は、供給部５０を制御することにより、流入路２１から、流路３０，３３，３４、貯留槽７０、流路３８，３９を経て、チャンバ８０に向かうガスの流れを生じさせる。当該ガスの流れが生じることにより、貯留槽７０に貯留されたパージガスは、チャンバ８０のセンサ部８１に供給される。

制御部９４は、上述の＜サンプルガスの貯留及び濃縮処理＞にて説明したようにして、パージガスが、濃縮槽６０を通過して、濃縮槽６０内の検出対象のガスとともにチャンバ８０のセンサ部８１に供給されるよう制御する。

制御部９４は、貯留槽７０に貯留されたパージガスと、濃縮槽６０にて濃縮されたサンプルガスとが、チャンバ８０のセンサ部８１に交互に供給されるよう制御する。制御部９４は、パージガスと濃縮されたサンプルガスとをチャンバ８０に交互に供給することにより、チャンバ８０のセンサ部８１から、電圧波形を取得する。制御部９４は、取得した電圧波形に対する機械学習により、サンプルガスに含まれるガスの種類及び濃度を検出する。制御部９４は、検出したガスの種類及び濃度を、検出結果として、通信部９２を介して電子機器３に送信してよい。

［ガス検出システムの動作］
図６は、図１に示すガス検出システム１のガス濃縮時の動作の一例のフローチャートである。制御部９４は、センサ部９３の検出結果に基づいて、被検者が便座２Ｂから立ち上がったことを検出してから第１設定時間が経過した後、図６に示すような処理を開始してよい。

制御部９４は、トイレ室の空気が、パージガスとして、流入路２１に流入するように制御する（ステップＳ１１０）。制御部９４は、流入路２１に流入したパージガスが、貯留槽７０に貯留されるように制御する（ステップＳ１１１）。

制御部９４は、被検者が便座２Ｂに座ったことを検出してから第３設定時間が経過した後、便器ボウル２Ａに排出された便から発生するガスが、サンプルガスとして、流入路２０に流入するように制御する（ステップＳ１１２）。制御部９４は、流入路２０から流入したサンプルガスが、第１時間、濃縮槽６０を通過するように制御する（ステップＳ１１３）。

制御部９４は、サンプルガスが濃縮槽６０を通過し始めてから第１時間が経過したことを検出する（ステップＳ１１４）。制御部９４は、第１時間が経過した時点で、濃縮槽６０へのサンプルガスの通過を停止させる（ステップＳ１１５）。制御部９４は、吸着剤６１の温度が上昇するように、ヒータ６４を制御する（ステップＳ１１６）。

制御部９４は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ１に到達したことを検出する（ステップＳ１１７）。制御部９４は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ１に到達すると、第２時間、吸着剤６１の温度が温度Ｔ１に維持されるようにヒータ６４を制御する（ステップＳ１１８）。制御部９４は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ１に維持されるように制御しつつ、パージガスが濃縮槽６０を通過するように制御する（ステップＳ１１９）。

制御部９４は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ１に到達してから、第２時間が経過したことを検出する（ステップＳ１２０）。制御部９４は、第２時間が経過した時点で、吸着剤６１の温度が上昇するようにヒータ６４を制御する（ステップＳ１２１）。

制御部９４は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ３に到達したことを検出する（ステップＳ１２２）。制御部９４は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ３に到達すると、濃縮槽６０へのパージガスの通過を停止させる（ステップＳ１２３）。

制御部９４は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に到達したことを検出する（ステップＳ１２４）。制御部９４は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に維持されるようにヒータ６４を制御する（ステップＳ１２５）。

制御部９４は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に到達してから、第３時間が経過したことを検出する（ステップＳ１３５）。制御部９４は、第３時間が経過した時点で、パージガスが、濃縮槽６０を通過して、濃縮槽６０内の検出対象のガスとともにチャンバ８０のセンサ部８１に供給されるよう制御する（ステップＳ１２７）。

ステップＳ１１３の処理では、制御部９４は、濃縮槽６０内を通過するサンプルガスの流量が第１流量となるように、供給部５０を制御してよい。また、ステップＳ１１７の処理において、制御部９４は、濃縮槽６０内を通過するパージガスの流量が第１流量となるように、供給部５０を制御してよい。

ステップＳ１２７の処理では、制御部９４は、パージガスが濃縮槽６０を通過し始めてから第４時間が経過するまで、濃縮槽６０を通過したパージガスを、センサ部８１に供給せずに、例えば排出路２３から、排気してよい。さらに、制御部９４は、第４時間が経過した後、濃縮槽６０を通過したパージガスをセンサ部８１に供給してよい。この場合、制御部９４は、濃縮槽６０内を通過するパージガスの流量が第２流量となるように供給部５０を制御してよい。制御部９４は、ステップＳ１２７の処理の終了後、ガスの濃縮処理を終了する。

図７は、図１に示すガス検出システム１のガスの種類及び濃度の検出時の動作の一例のフローチャートである。

制御部９４は、貯留槽７０に貯留されたパージガスが、チャンバ８０のセンサ部８１に供給されるように制御する（ステップＳ１３０）。制御部９４は、図６に示すような処理を実行することにより、パージガスが、濃縮槽６０を通過して、濃縮槽６０内の検出対象のガスとともにチャンバ８０のセンサ部８１に供給されるよう制御する（ステップＳ１３１）。

制御部９４は、ステップＳ１３０の処理とステップＳ１３１の処理を交互に実行することにより、貯留槽７０のパージガスと、濃縮槽６０のサンプルガスとが、チャンバ８０のセンサ部８１に交互に供給されるよう制御する。

制御部９４は、パージガスと濃縮されたサンプルガスとをチャンバ８０に交互に供給することにより、チャンバ８０のセンサ部８１から、電圧波形を取得する（ステップＳ１３２）。制御部９４は、取得した電圧波形に対する機械学習により、サンプルガスに含まれるガスの種類及び濃度を検出する（ステップＳ１３３）。制御部９４は、ステップＳ１３３の処理の終了後、ガスの種類及び濃度の検出処理を終了する。

以上のように、第１実施形態に係るガス検出システム１では、制御部９４は、第１時点から第２時点まで、濃縮槽６０へのパージガスの通過を停止させる。さらに、制御部９４は、第２時点からパージガスが濃縮槽６０を通過してチャンバ８０のセンサ部８１に供給されるように制御する。このような構成により、濃縮槽６０内のより濃縮されたサンプルガスが、パージガスによってチャンバ８０のセンサ部８１に供給され得る。センサ部８１により濃縮されたサンプルガスが供給されることで、センサ部８１が出力する電圧に、サンプルガスに含まれる検出対象のガスが、より反映され得る。センサ部８１が出力する電圧に検出対象のガスがより反映されることで、ガス検出システム１は、サンプルガスに含まれるガスの種類及び濃度をより正確に検出することができる。従って、本実施形態によれば、ガス検出性能等が改善された、ガス検出システム１が提供され得る。

（第２実施形態）
以下、本開示の第２実施形態に係るガス検出システムについて説明する。第２実施形態に係るガス検出システムは、第１実施形態に係るガス検出システム１と同一又は類似の構成を採用することができる。従って、以下では、図１から図３を参照しつつ、第１実施形態との相違点を中心に説明する。

図３に示すような制御部９４は、第１実施形態にて上述したように、サンプルガスが図２に示すような濃縮槽６０を通過するように供給部５０を制御する。この際、制御部９４は、第１実施形態と同一又は類似に、濃縮槽６０内を通過するサンプルガスの流量が第１流量となるように供給部５０を制御する。

図３に示すような制御部９４は、第１実施形態にて上述したように、図２に示すような吸着剤６１の温度が上昇するようにヒータ６４を制御しつつ、パージガスが濃縮槽６０を通過するように供給部５０を制御する。この際、制御部９４は、第１実施形態と同一又は類似に、濃縮槽６０内を通過するパージガスの流量が第１流量となるように供給部５０を制御する。

図３に示すような制御部９４は、第１実施形態にて上述したように、第１時点から第２時点まで、濃縮槽６０へのパージガスの通過を停止させ、第２時点からパージガスが濃縮槽６０を通過してセンサ部８１に供給されるように制御する。この際、第２実施形態では、濃縮槽６０内を通過するパージガスの流量が第３流量となるように供給部５０を制御する。第３流量は、第１流量よりも大きい。第３流量は、濃縮槽６０の容積及びガス検出システム１における所望の検出時間等を考慮して適宜決定されていてよい。濃縮槽６０内を通過するパージガスの流量を第１流量よりも大きい第３流量にすることで、パージガスによって濃縮槽６０内のサンプルガスをチャンバ８０に供給する際にかかる時間が、短くなり得る。このような構成により、ガス検出システム１における検出時間が短くなり得る。

以下、第２実施形態に係る第１時点は、第１実施形態と同一又は類似に、吸着剤６１の温度が、温度Ｔ３に到達した時点であるものとして説明する。また、第２実施形態に係る第２時点は、第１実施形態と同一又は類似に、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に到達してから第３時間が経過した時点であるものとして説明する。第１実施形態と同一又は類似に、第２実施形態に係る第３時間は、吸着剤６１に吸着され得る検出対象ガスの量を考慮して、適宜設定されていてよい。ただし、第２実施形態に係る第３時間は、第１実施形態に係る第３時間とは独立して、設定されていてよい。例えば、上述のように、濃縮槽６０内を通過するパージガスの流量を第３流量にすることにより、パージガスによって濃縮槽６０内のサンプルガスをチャンバ８０に供給する際にかかる時間が、短くなり得る。サンプルガスをチャンバ８０に供給する際にかかる時間が短くなる分、第３時間を長くしてよい。第３時間を長くすることにより、濃縮槽６０へのパージガスの通過を停止させる時間が長くなり得る。濃縮槽６０へのパージガスの通過を停止させる時間が長くなることにより、濃縮槽６０へのパージガスの通過を停止させている間、より多くの検出対象のガスが、吸着剤６１から脱離し得る。つまり、濃縮槽６０にてサンプルガスをより濃縮することができる。そのため、より濃縮されたサンプルガスを、センサ部８１に供給することができる。

図８は、本開示の第２実施形態に係るガス検出システム１の動作の一例のタイミングチャートである。図８の上部には、時刻に対する吸着剤６１の温度の変化を示す。図８の中央部には、時刻に対する濃縮槽６０内のガスの流量の変化を示す。図８の下部には、時刻に対する濃縮槽６０の出口部付近の検出対象のガスの濃度の変化を示す。

図８に示すような時刻Ｓ０から時刻Ｓ５まで、制御部９４は、図５に示すような時刻Ｓ０から時刻Ｓ５までと同一又は類似に制御する。図８に示すような時刻Ｓ４で、図５と同一又は類似に、吸着剤６１の温度は、温度Ｔ３に到達する。つまり、図８に示すような時刻Ｓ４は、図５と同一又は類似に、第１時点に対応する。また、図８に示すような時刻Ｓ５で、図５と同一又は類似に、吸着剤６１の温度は、温度Ｔ２に到達する。

図８では、時刻Ｓ５から時刻Ｓ９までの時間が、第３時間となる。つまり、時刻Ｓ９が第２時点に対応する。制御部９４は、時刻Ｓ４から時刻Ｓ９まで、濃縮槽６０へのパージガスの通過を停止する。制御部９４は、時刻Ｓ９で、パージガスが、濃縮槽６０を通過して、濃縮槽６０内の検出対象のガスとともに、チャンバ８０に供給されるよう制御する。制御部９４は、パージガスの流量が第３流量Ｆ３となるように制御する。時刻Ｓ１０で、濃縮槽６０内の出口部付近の検出対象のガスの濃度は、最大値Ｃ２となる。制御部９４は、時刻Ｓ９から時刻Ｓ１１までの時間、パージガスが濃縮槽６０を通過するように制御してよい。時刻Ｓ９から時刻Ｓ１１までの時間は、第３流量Ｆ３に基づいて、適宜設定されていてよい。

以上のように、第２実施形態に係るガス検出システム１では、制御部９４は、第２時点からパージガスが濃縮槽６０を通過するように制御する際、濃縮槽６０内を通過するパージガスの流量が第３流量となるように制御する。第３流量は、第１流量よりも大きい。このような構成により、第２実施形態では、ガス検出システム１における検出時間を短縮することができる。

第２実施形態に係るガス検出システム１のその他の構成及び効果は、第１実施形態に係るガス検出システム１と同一又は類似である。

（第１実施形態及び第２実施形態の変形例）
以下、第１実施形態及び第２実施形態の変形例について説明する。

例えば、上述の第１実施形態では、図５に示すように、制御部９４は、時刻Ｓ６から時刻Ｓ８までの時間、パージガスを濃縮槽６０に通過させて、チャンバ８０のセンサ部８１に供給するものとして説明した。ただし、制御部９４の制御は、これに限定されない。例えば、制御部９４は、時刻Ｓ６から時刻Ｓ８までの時間、濃縮槽６０内のサンプルガスと、貯留槽７０内のパージガスとを交互に、センサ部８１に供給してよい。この場合、制御部９４は、検出対象のガスの濃度が最大値Ｃ１となる時刻Ｓ７付近において、センサ部８１が出力する電圧に基づいて、サンプルガスに含まれるガスの種類及び濃度を検出してよい。第２実施形態についても同一又は類似である。

例えば、上述の第１実施形態及び第２実施形態では、制御部９４は、第２時点から、パージガスが、濃縮槽６０を通過して、濃縮槽６０内の検出対象のガスとともにチャンバ８０のセンサ部８１に供給されるよう制御するものとして説明した。ただし、本開示では、制御部９４は、第２時点以降、パージガスが、濃縮槽６０を通過して、濃縮槽６０内の検出対象のガスとともにチャンバ８０のセンサ部８１に供給されるよう制御すればよい。例えば、ガス検出システム１は、濃縮槽６０とチャンバ８０との間に緩衝槽を備えてよい。この場合、制御部９４は、第２時点からパージガスが濃縮槽６０を通過して、当該緩衝槽に貯留されるように制御してよい。さらに、制御部９４は、パージガスが濃縮槽６０を通過して緩衝槽に貯留されるように制御した後、パージガスの濃縮槽６０への供給を停止させてよい。パージガスの濃縮槽６０への供給が停止されることにより、緩衝槽にて、吸着剤６１から脱離した検出対象のガスの濃度が均一化され得る。加えて、制御部９４は、パージガスの濃縮槽６０への供給を停止させた後、緩衝槽に貯留されたサンプルガスが、チャンバ８０のセンサ部８１に供給されるように制御してよい。このような構成により、検出対象のガスの濃度が均一化されたサンプルガスが、チャンバ８０のセンサ部８１に供給され得る。

例えば、上述の第１実施形態及び第２実施形態では、第１時点は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ３に到達した時点であるものとして説明した。ただし、第１時点は、これに限定されない。上述のように、本開示の第１時点は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に到達する前か又は温度Ｔ２到達した時点であればよい。また、上述の第１実施形態及び第２実施形態では、第２時点は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に到達してから第３時間が経過した時点であるものとして説明した。ただし、第２時点は、これに限定されない。上述のように、本開示の第２時点は、第１時点よりも後の時点であればよい。第１時点及び第２時点の他の例について、図９を参照して説明する。

図９は、本開示の第１時点及び第２時点の他の例を説明するタイミングチャートである。図５と同一又は類似に、時刻Ｓ３で、制御部９４は、吸着剤６１の温度が上昇するようにヒータ６４を制御する。図５と同一又は類似に、時刻Ｓ４で、吸着剤６１の温度は、温度Ｔ３に到達する。図５と同一又は類似に、時刻Ｓ５で、吸着剤６１の温度は、温度Ｔ２に到達する。

例えば、第１時点は、温度Ｔ３に到達した時点であってよい。つまり、図９に示すような時刻Ｓ４が第１時点に対応してよい。また、第２時点は、吸着剤６１の温度が検出対象のガスの脱離温度に到達した時点であってよい。つまり、時刻Ｓ５が第２時点に対応してよい。この場合、制御部９４は、図９に示すような時刻Ｓ４から時刻Ｓ５までの時間Ａ１、パージガスの濃縮槽６０への通過を停止する。さらに、制御部９４は、図９に示すような時刻Ｓ５から、パージガスが濃縮槽６０を通過してチャンバ８０のセンサ部８１に供給されるように制御する。このような構成とすることで、パージガスの濃縮槽６０への通過を停止させる時間が、例えば図５に示すような時刻Ｓ４から時刻Ｓ６までパージガスを停止させる場合よりも、短くなり得る。パージガスの通過を停止させる時間が短くなることで、図９に示すような第２時点の時刻Ｓ５で吸着剤６１から脱離していない検出対象のガスの量が、図５に示すような第２時点の時刻Ｓ６で吸着剤６１から脱離していない検出対象のガスの量よりも、多くなり得る。第２時点において吸着剤６１から脱離していない検出対象のガスの量が多くなることで、第２時点からパージガスが濃縮槽６０を通過するように制御している間も、吸着剤６１から検出対象のガスが脱離し得る。このような構成により、より長い間、検出対象のガスの濃度がある程度高いサンプルガスを、センサ部８１に供給し続けることができる。

例えば、第１時点は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に到達した時点であってよい。つまり、図９に示すような時刻Ｓ５が第１時点に対応してよい。また、第２時点は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に到達した時点から第３時間が経過して時点であってよい。図９に示すような時刻Ｓ５から時刻Ｓ１２までの時間が第３時間であってよい。つまり、図９に示すような時刻Ｓ１２が第２時点に対応してよい。この場合、制御部９４は、図９に示すような時刻Ｓ５から時刻Ｓ１２までの時間Ａ２、パージガスの濃縮槽６０への通過を停止する。さらに、制御部９４は、図９に示すような時刻Ｓ１２から、パージガスが濃縮槽６０を通過してチャンバ８０のセンサ部８１に供給されるように制御する。このような構成とすることで、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に到達してから、パージガスの濃縮槽６０への通過が停止され得る。吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に到達してからパージガスの濃縮槽６０への通過が停止されることで、パージガスの通過が停止されている間、検出対象外のガスが吸着剤６１から脱離する蓋然性が低減され得る。検出対象外のガスが吸着剤６１から脱離する蓋然性が低減されることにより、検出対象のガスの濃度を高めることができる。

例えば、第１時点は、吸着剤６１の温度が検出対象ガスの脱離温度である温度Ｔ１を超えた時点であってよい。つまり、図９に示すような時刻Ｓ３が第１時点に対応してよい。また、第２時点は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に到達した時点から第３時間が経過した時点であってよい。図９に示すような時刻Ｓ５から時刻Ｓ１２までの時間が第３時間であってよい。つまり、図９に示すような時刻Ｓ１２が第２時点に対応してよい。この場合、制御部９４は、図９に示すような時刻Ｓ３から時刻Ｓ１２までの時間Ａ３、パージガスの濃縮槽６０への通過を停止する。さらに、制御部９４は、図９に示すような時刻Ｓ１２から、パージガスが濃縮槽６０を通過してチャンバ８０のセンサ部８１に供給されるように制御する。

例えば、第１時点は、吸着剤６１の温度が検出対象ガスの脱離温度である温度Ｔ１を超えた時点であってよい。つまり、図９に示すような時刻Ｓ３が第１時点に対応してよい。また、第２時点は、吸着剤６１の温度が温度Ｔ２に到達した時点であってよい。つまり、図９に示すような時刻Ｓ５が第２時点に対応してよい。この場合、制御部９４は、図９に示すような時刻Ｓ３から時刻Ｓ５までの時間Ａ４、パージガスの濃縮槽６０への通過を停止する。さらに、制御部９４は、図９に示すような時刻Ｓ５から、パージガスが濃縮槽６０を通過してチャンバ８０のセンサ部８１に供給されるように制御する。

例えば、第１時点は、吸着剤６１の温度が検出対象ガスの脱離温度である温度Ｔ１を超えた時点であってよい。つまり、図９に示すような時刻Ｓ３が第１時点に対応してよい。また、第２時点は、温度Ｔ３に到達した時点であってよい。つまり、図９に示すような時刻Ｓ４が第２時点に対応してよい。この場合、制御部９４は、図９に示すような時刻Ｓ３から時刻Ｓ４までの時間Ａ５、パージガスの濃縮槽６０への通過を停止する。さらに、制御部９４は、図９に示すような時刻Ｓ４から、パージガスが濃縮槽６０を通過してチャンバ８０のセンサ部８１に供給されるように制御する。

例えば、上述の第１実施形態及び第２実施形態では、図３に示すように、ガス検出システム１は、１つの装置であるものとして説明した。ただし、本開示のガス検出システムは、１つの装置に限定されない。本開示のガス検出システムは、独立した複数の装置を含んでよい。例えば、上述の第１実施形態及び第２実施形態に、図１０に示すような構成のガス検出システム１Ａが採用されてよい。

図１０に示すように、ガス検出システム１Ａは、ガス検出装置４と、サーバ装置５とを備える。ガス検出装置４とサーバ装置５は、ネットワーク６を介して通信可能である。ネットワーク６の一部は、有線であってよいし、無線であってよい。ガス検出装置４の構成は、図２及び図３に示すようなガス検出システム１の構成と同一又は類似である。サーバ装置５は、記憶部５Ａと、通信部５Ｂと、制御部５Ｃとを備える。制御部５Ｃは、上述した図３に示すような制御部９４の処理を実行可能である。例えば、制御部５Ｃは、第１時点から第２時点まで、図２に示すような濃縮槽６０へのパージガスの通過を停止させ、第２時点以降、パージガスが濃縮槽６０を通過してチャンバ８０のセンサ部８１に供給されるように制御する。

（第３実施形態）
ガス検出システム１０１は、図１１に示すように、便器１０２に設置されている。便器１０２は、限定ではないが、水洗便器であってよい。便器１０２は、便器ボウル１０２Ａと、便座１０２Ｂとを備える。ガス検出システム１０１は、便器１０２の任意の箇所に設置されていてよい。一例として、ガス検出システム１０１は、図１１に示すように、便器ボウル１０２Ａと便座１０２Ｂとの間から便器１０２の外部にわたって配置されていてよい。ガス検出システム１０１の一部は、便座１０２Ｂの内部に埋め込まれていてよい。便器ボウル１０２Ａには、被検者の便が排出され得る。ガス検出システム１０１は、便器ボウル１０２Ａに排出された便から発生するガスを、サンプルガスとして取得し得る。ガス検出システム１０１は、サンプルガスに含まれるガスの種類及びガスの濃度等を検出し得る。ガス検出システム１０１は、検出結果等を電子機器１０３に送信し得る。図１１に示すようなガス検出システム１０１は、「ガス検出装置」ともいう。

ガス検出システム１０１の用途は、上述の用途に限定されない。例えば、ガス検出システム１０１は、冷蔵庫に設置されていてよい。この場合、ガス検出システム１０１は、食品から発生するガスをサンプルガスとして取得し得る。その他の用途としては、例えば、ガス検出システム１０１は、工場又は実験室に設置されていてよい。この場合、ガス検出システム１０１は、薬品等から発生するガスをサンプルガスとして取得し得る。

便器１０２は、住宅又は病院等のトイレ室に設置され得る。便器１０２は、被検者によって使用され得る。上述のように、便器１０２は、便器ボウル１０２Ａと、便座１０２Ｂとを備える。便器ボウル１０２Ａには、被検者の便が排出され得る。

電子機器１０３は、例えば、被検者が利用するスマートフォンである。ただし、電子機器１０３は、スマートフォンに限定されない。電子機器１０３は、任意の電子機器であってよい。電子機器１０３は、被検者によってトイレ室に持ち込まれる場合、図１１に示すようにトイレ室の内部に存在し得る。ただし、電子機器１０３は、例えば被検者がトイレ室に電子機器１０３を持ち込まない場合、トイレ室の外部に存在してよい。電子機器１０３は、ガス検出システム１０１から検出結果を、無線通信又は有線通信によって、受信し得る。電子機器１０３は、受信した検出結果を、表示部１０３Ａに表示し得る。表示部１０３Ａは、文字等を表示可能なディスプレイと、ユーザ（被検者）の指等の接触を検出可能なタッチスクリーンとを含んで構成されていてよい。当該ディスプレイは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ）又は無機ＥＬディスプレイ（ＩＥＬＤ）等の表示デバイスを含んで構成されていてよい。当該タッチスクリーンの検出方式は、静電容量方式、抵抗膜方式、表面弾性波方式、超音波方式、赤外線方式、電磁誘導方式又は荷重検出方式等の任意の方式でよい。

図１２に示すように、ガス検出システム１０１は、筐体１１０と、流入路１２０，１２１と、排出路１２２，１２３，１２４とを備える。排出路１２２、排出路１２３及び排出路１２４は、任意の箇所で合流してよい。ガス検出システム１０１は、流路１３０，１３１，１３２，１３３，１３４，１３５，１３６，１３７，１３８，１３９と、弁１４０，１４１，１４２，１４３，１４４と、供給部１５０とを備える。ガス検出システム１０１は、ガスの濃縮部としての濃縮槽１６０と、ガスの貯留部としての貯留槽１７０と、チャンバ１８０と、回路部としての回路基板１９０とを備える。図１３に示すように、ガス検出システム１０１は、回路基板１９０内に、記憶部１９１と、通信部１９２と、制御部１９４とを備える。ガス検出システム１０１は、センサ部１９３を備える。

筐体１１０には、ガス検出システム１０１の各種部品が収容されている。筐体１１０は、任意の材料で構成されていてよい。例えば、筐体１１０は、金属又は樹脂等の材料で構成されていてよい。

図１１に示すように、流入路１２０は、便器ボウル１０２Ａの内側へ露出し得る。流入路１２０の一部は、便座１０２Ｂに埋め込まれていてよい。流入路１２０には、便器ボウル１０２Ａに排出された便から発生するガスが、サンプルガスとして流入する。流入路１２０に流入したサンプルガスは、流路１３０，１３１，１３２を経て、濃縮槽１６０に供給される。図１１に示すように、流入路１２０の一端は、便器ボウル１０２Ａの内部に向けられてよい。図１２に示すように、流入路１２０の他端は、弁１４０に接続されていてよい。流入路１２０は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。

図１１に示すように、流入路１２１は、便器ボウル１０２Ａの外側へ露出し得る。流入路１２１の一部は、便座１０２Ｂに埋め込まれていてよい。流入路１２１には、例えば、便器ボウル１０２Ａの外側にあるトイレ室の空気が、パージガスとして流入する。流入路１２１に流入したパージガスは、流路１３０，１３３，１３４を経て、貯留槽１７０に供給される。図１１に示すように、流入路１２１の一端は、便器１０２の外側に向けられてよい。図１２に示すように、流入路１２１の他端は、弁１４０に接続されていてよい。流入路１２１は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。

図１１に示すように、排出路１２２の一部は、便器ボウル１０２Ａの外側へ露出し得る。図１２に示すような排出路１２２は、チャンバ１８０からの排気を外部に排出する。この排気には、検出処理後のサンプルガス及びパージガスが含まれ得る。図１１に示すように、排出路１２２の一端は、便器１０２の外側に向けられていてよい。図１２に示すように、排出路１２２の他端は、チャンバ１８０に接続されていてよい。排出路１２２は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。

図１１に示すように、排出路１２３の一部は、便器ボウル１０２Ａの外側へ露出し得る。図１２に示すような排出路１２３は、濃縮槽１６０からの排気を外部に排出する。この排気には、後述のサンプルガスの濃縮処理にて生じる検出対象外のガス等が含まれる。図１１に示すように、排出路１２３の一端は、便器１０２の外側に向けられていてよい。図１２に示すように、排出路１２３の他端は、弁１４３に接続されていてよい。排出路１２３は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。

図１１に示すように、排出路１２４の一部は、便器ボウル１０２Ａの外側へ露出し得る。図１２に示すような排出路１２４は、貯留槽１７０からの残留ガス等を外部に排出する。図１１に示すように、排出路１２４の一端は、便器１０２の外側に向けられていてよい。図１２に示すように、排出路１２４の他端は、弁１４４に接続されていてよい。排出路１２４は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。

図１２に示すように、流路１３０の一端は、弁１４０に接続されている。流路１３０の他端は、流路１３１の一端及び流路１３３の一端に接続されている。流路１３１の一端は、流路１３０の他端に接続されている。流路１３１の他端は、弁１４１に接続されている。流路１３２の一端は、弁１４１に接続されている。流路１３２の他端は、濃縮槽１６０の入口部に接続されている。流路１３３の一端は、流路１３０の他端に接続されている。流路１３３の他端は、弁１４２に接続されている。流路１３４の一端は、弁１４２に接続されている。流路１３４の他端は、貯留槽１７０の入口部に接続されている。流路１３５の一端は、弁１４１に接続されている。流路１３５の他端は、弁１４４に接続されている。流路１３６の一端は、濃縮槽１６０の出口部に接続されている。流路１３６の他端は、弁１４３に接続されている。流路１３７の一端は、弁１４３に接続されている。流路１３７の他端は、チャンバ１８０に接続されている。流路１３８の一端は、貯留槽１７０の出口部に接続されている。流路１３８の他端は、弁１４４に接続されている。流路１３９の一端は、弁１４４に接続されている。流路１３９の他端は、チャンバ１８０に接続されている。流路１３０～１３９は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。

図１２に示すように、弁１４０は、流入路１２０と、流入路１２１と、流路１３０との間に、位置する。弁１４０は、流入路１２０に接続される接続口と、流入路１２１に接続される接続口と、流路１３０に接続される接続口とを含む。弁１４０は、電磁駆動、ピエゾ駆動又はモータ駆動等の弁によって構成されていてよい。

図１２に示すような弁１４０は、図１３に示すような制御部１９４の制御に基づいて、流入路１２０と流入路１２１と流路１３０との間の接続状態を切替える。例えば、弁１４０は、これらの間の接続状態を、流入路１２０と流路１３０とを接続させた状態、流入路１２１と流路１３０とを接続させた状態、又は、流入路１２０と流入路１２１と流路１３０とを接続させない状態に切替える。

図１２に示すように、弁１４１は、流路１３１と、流路１３２と、流路１３５との間に、位置する。弁１４１は、流路１３１に接続される接続口と、流路１３２に接続される接続口と、流路１３５に接続される接続口とを含む。弁１４１は、電磁駆動、ピエゾ駆動又はモータ駆動等の弁によって構成されていてよい。

図１２に示すような弁１４１は、図１３に示すような制御部１９４の制御に基づいて、流路１３１と流路１３２と流路１３５との間の接続状態を切替える。例えば、弁１４１は、これらの間の接続状態を、流路１３１と流路１３２とを接続させた状態、流路１３５と流路１３２とを接続させた状態、又は、流路１３１と流路１３２と流路１３５とを接続させない状態に切替える。

図１２に示すように、弁１４２は、流路１３３と、流路１３４との間に、位置する。弁１４２は、流路１３３に接続される接続口と、流路１３４に接続される接続口とを含む。弁１４２は、電磁駆動、ピエゾ駆動又はモータ駆動等の弁によって構成されていてよい。

図１２に示すような弁１４２は、図１３に示すような制御部１９４の制御に基づいて、流路１３３と流路１３４との間の接続状態を切替える。例えば、弁１４２は、これらの間の接続状態を、流路１３３と流路１３４とを接続させた状態、又は、流路１３３と流路１３４とを接続させない状態に切替える。

図１２に示すように、弁１４３は、排出路１２３と、流路１３６と、流路１３７との間に、位置する。弁１４３は、排出路１２３に接続される接続口と、流路１３６に接続される接続口と、流路１３７に接続される接続口とを含む。弁１４３は、電磁駆動、ピエゾ駆動又はモータ駆動等の弁によって構成されていてよい。

図１２に示すような弁１４３は、図１３に示すような制御部１９４の制御に基づいて、排出路１２３と流路１３６と流路１３７との間の接続状態を切替える。例えば、弁１４３は、これらの間の接続状態を、排出路１２３と流路１３６とを接続させた状態、流路１３６と流路１３７とを接続させた状態、又は、排出路１２３と流路１３６と流路１３７とを接続させない状態に切替える。

図１２に示すように、弁１４４は、排出路１２４と、流路１３５と、流路１３８と、流路１３９との間に、位置する。弁１４４は、排出路１２４に接続される接続口と、流路１３５に接続される接続口と、流路１３８に接続される接続口と、流路１３９に接続される接続口とを含む。弁１４４は、電磁駆動、ピエゾ駆動又はモータ駆動等の弁によって構成されていてよい。

図１２に示すような弁１４４は、図１３に示すような制御部１９４の制御に基づいて、排出路１２４と流路１３５と流路１３８と流路１３９との間の接続状態を切替える。例えば、弁１４４は、これらの間の接続状態を、排出路１２４と流路１３８とを接続させた状態、流路１３８と流路１３９とを接続させた状態、又は、流路１３５と流路１３８とを接続させた状態に切替える。又は、弁１４４は、排出路１２４と流路１３５と流路１３８と流路１３９とを接続させない状態に切替える。

図１２に示すように、供給部１５０は、流路１３０に取り付けられている。供給部１５０は、図１３に示すような制御部１９４の制御に基づいて、流入路１２０からのサンプルガスを濃縮槽１６０に供給可能である。また、供給部１５０は、図１３に示すような制御部１９４の制御に基づいて、流入路１２１からのパージガスを貯留槽１７０に供給可能である。供給部１５０に示される矢印は、供給部１５０がガスを送る方向を示す。供給部１５０は、ピエゾポンプ又はモータポンプ等のポンプで構成されていてよい。ただし、供給部１５０は、流入路１２０からのサンプルガスを濃縮槽１６０に供給可能な任意の部品で構成されていてよい。

図１２に示すように、濃縮槽１６０の入口部は、流路１３２に接続されている。濃縮槽１６０の出口部は、流路１３６に接続されている。濃縮槽１６０には、流入路１２０から流入したサンプルガスが、流路１３０，１３１，１３２を経て、供給される。濃縮槽１６０内では、サンプルガスが、後述の処理により、濃縮される。本実施形態において「サンプルガスの濃縮」とは、サンプルガスに含まれる検出対象のガスの濃度を高めることを意味する。検出対象のガスの一例については、後述する。濃縮槽１６０内で濃縮されたサンプルガスは、流路１３６，１３７を経て、チャンバ１８０に供給される。

濃縮槽１６０は、直方体状、円筒状、袋状、又は、筐体１１０内部に収容される各種部品の隙間を埋めるような形状の容器等で構成されていてよい。濃縮槽１６０は、吸着剤１６１と、支持部材１６２，１６３と、ヒータ１６４とを有する。

図１２に示すように、吸着剤１６１は、濃縮槽１６０の内部に配されている。吸着剤１６１は、ガス検出システム１の用途に応じた、任意の材料を含んでよい。吸着剤１６１は、例えば、活性炭、シリカゲル、ゼオライト及びモレキュラーシーブの少なくとも何れかが含まれてよい。吸着剤１６１は、複数種類のものであってよいし、多孔質材料を含んでよい。

吸着剤１６１は、サンプルガスに含まれる検出対象のガスを吸着する。サンプルガスが便から発生するガスである場合、検出対象のガスの一例として、メタン、水素、二酸化炭素、メチルメルカプタン、硫化水素、酢酸及びトリメチルアミン等が挙げられる。検出対象のガスは、例えば、大便の便臭に含まれていて、便器ボウル１０２Ａ内に存在する大便以外の物質（例えば、水洗水及び尿等）に含まれないガス種である。サンプルガスが便から発生するガスである場合、吸着剤１６１の例としては、活性炭及びモレキュラーシーブ等が挙げられる。ただし、これらの組み合わせは、吸着するガス分子の極性によって適宜変更されていてよい。

吸着剤１６１に吸着された検出対象のガスは、吸着剤１６１がヒータ１６４で加熱されることにより所定温度になると、吸着剤１６１から脱離し得る。吸着剤１６１から検出対象のガスが脱離することにより、濃縮槽１６０内において、検出対象のガスの濃度が高まる。つまり、サンプルガスが濃縮される。ここで、一般的に、ガスは、所定の温度範囲内で、吸着剤１６１から脱離可能である。本実施形態において「ガスの脱離温度」とは、当該ガスが吸着剤１６１から脱離可能な所定の温度範囲内において、吸着剤１６１から脱離する当該ガスの量がピークとなる温度を意味する。

吸着剤１６１は、サンプルガスに含まれる検出対象外のガスを吸着する場合がある。検出対象外のガスは、「ノイズガス」とも称される。サンプルガスが便から発生するガスである場合、検出対象外のガスの一例として、アンモニア及び水等が挙げられる。ここで、ガスの種類に応じて、ガスの脱離温度は、異なり得る。そのため、検出対象のガスの脱離温度と、検出対象外のガスの脱離温度は、異なり得る。本実施形態では、ガスの種類に応じてガスの脱離温度が異なることを利用して、サンプルガスに含まれる検出対象外のガスを、後述の処理により、サンプルガスから除外する。サンプルガスから除外された検出対象外のガスは、排出路１２３から外部に排出される。

図１４は、所定ガスを吸着させた吸着剤１６１Ｘの温度を変化させながら、吸着剤１６１Ｘから脱離したガスの濃度を検出したときの模式的なグラフである。ここで、吸着剤１６１Ｘは、後述の細孔１６１ａを有さない。図１４において、横軸は、温度を示す。図１４において、縦軸は、吸着剤１６１Ｘから脱離したガスの濃度を示す。所定ガスは、検出対象のガス及び検出対象外のガスを含む。検出対象外のガスは、温度ｔ１０１を含む所定の温度範囲において、吸着剤１６１Ｘから脱離し得る。また、温度ｔ１０１で、吸着剤１６１Ｘから脱離する検出対象外のガスの濃度（量）は、ピークとなる。そのため、検出対象外のガスの脱離温度は、温度ｔ１０１となる。また、検出対象のガスは、温度ｔ１０２を含む所定の温度範囲において、吸着剤１６１Ｘから脱離し得る。また、温度ｔ１０２で、吸着剤１６１Ｘから脱離する検出対象のガスの濃度（量）は、ピークとなる。そのため、検出対象のガスの脱離温度は、温度ｔ１０２となる。このように、検出対象外のガスの脱離温度の温度ｔ１０１と、検出対象のガスの脱離温度の温度ｔ１０２とは、異なる。本実施形態では、検出対象外のガスの脱離温度と検出対象のガスの脱離温度とが異なることを利用して、サンプルガスに含まれる検出対象外のガスを、後述の処理により、サンプルガスから除外する。

図１５に示すように、吸着剤１６１は、細孔１６１ａを有する。細孔１６１ａの細孔径は、検出対象のガス２０１の有効分子径（以下、「有効分子径」は、単に「分子径」とも記載する）及び検出対象外のガス２０２の分子径よりも、大きい。本開示において「細孔径」とは、吸着剤１６１が有する細孔１６１ａの、吸着剤１６１の表面における直径の平均値を意味する。細孔１６１ａの細孔径は、例えば細孔分布測定装置を用いて測定され得る。この場合、細孔径の平均値は、例えば平均細孔直径（４Ｖ／Ａ）で計算され得る。つまり、比表面積（Ａ）と全細孔容積（Ｖ）から、平均細孔直径が求められ得る。また、比表面積は、ＢＥＴ１点法を用いることによって求められ得る。全細孔容積は、１点法全細孔容積を用いることによって、求められ得る。このように比表面積及び全細孔容積を求めることにより、平均細孔直径は、簡便に求められ得る。また、細孔１６１ａの細孔径は、走査型電子顕微鏡を用いた画像解析によっても、簡便に測定され得る。

細孔１６１ａの細孔径がガス２０１，２０２の分子径よりも大きいことにより、サンプルガスに含まれるガス２０１，２０２は、細孔１６１ａに入り込み得る。一般的に、細孔１６１ａに入り込んだガスは、その周囲に存在する細孔１６１ａの壁からの吸引力を受け得る。つまり、細孔１６１ａを有する吸着剤１６１は、その細孔１６１ａに入り込んだガスに吸引力を働かせることができる。細孔１６１ａを有する吸着剤１６１は、その細孔１６１ａに入り込んだガスに吸引力を働かせることができるため、細孔１６１ａを有さない吸着剤１６１Ｘよりも、ガスを強く吸着し得る。細孔１６１ａを有する吸着剤１６１の方が、細孔１６１ａを有さない吸着剤１６１Ｘよりもガスを強く吸引できるため、吸着剤１６１からのガスの脱離温度の方が、吸着剤１６１Ｘからのガスの脱離温度よりも、高くなり得る。換言すると、吸着剤１６１からのガスの脱離温度は、吸着剤１６１が細孔１６１ａを有することにより、細孔１６１ａを有さない吸着剤１６１Ｘからのガスの脱離温度よりも、高くなり得る。従って、細孔１６１ａを有する吸着剤１６１からのガス２０１，２０２の脱離温度は、細孔１６１ａを有さない吸着剤１６１Ｘからのガス２０１，２０２の脱離温度よりも、高くなり得る。

図１５に示すような検出対象のガス２０１は、サンプルガスが便から発生するガスである場合、上述のように、メタン、水素、二酸化炭素、メチルメルカプタン、硫化水素、酢酸及びトリメチルアミンの何れかとなり得る。また、検出対象外のガス２０２は、サンプルガスが便から発生するガスである場合、上述のように、水及びアンモニアの何れかとなり得る。ここで、（検出対象のガス２０１となり得る）メタン、水素、二酸化炭素、メチルメルカプタン、硫化水素、酢酸及びトリメチルアミンの分子径は、（検出対象外のガス２０２となり得る）水及びアンモニアの分子径よりも、大きくなり得る。つまり、サンプルガスが便から発生するガスである場合、検出対象のガス２０１の分子径は、検出対象外のガス２０２の分子径よりも大きくなり得る。

図１５に示すようなガス２０１の分子径がガス２０２の分子径よりも大きい構成では、ガス２０１，２０２が細孔１６１ａに入り込んだ場合、ガス２０１と細孔１６１ａの壁との間に生じる隙間の方が、ガス２０２と細孔１６１ａの壁との間に生じる隙間よりも、小さくなり得る。ガス２０１と細孔１６１ａの壁との間に生じる隙間の方が、ガス２０２と細孔１６１ａの壁との間に生じる隙間よりも、小さくなることにより、検出対象のガス２０１の方が、検出対象外のガス２０２よりも、細孔１６１ａの壁からの吸引力を強く受け得る。上述のように、吸着剤１６１からのガスの脱離温度は、吸着剤１６１が細孔１６１ａを有することにより、細孔１６１ａを有さない吸着剤１６１Ｘからのガスの脱離温度よりも、高くなり得る。ここで、ガスが細孔１６１ａの壁から受ける吸引力が強いほど、吸着剤１６１が細孔１６１ａを有することにより、吸着剤１６１からのガスの脱離温度が、細孔１６１ａを有さない吸着剤１６１Ｘからのガスの脱離温度よりも、高くなる度合いが大きくなる。従って、ガス２０１の分子径がガス２０２の分子径よりも大きい場合、検出対象のガス２０１の方が、検出対象外のガス２０２よりも、細孔１６１ａを有することにより脱離温度が高くなる度合いが大きくなる。このような構成により、吸着剤１６１における検出対象のガス２０１の脱離温度と検出対象外のガス２０２の脱離温度との差は、吸着剤１６１Ｘにおける検出対象のガス２０１の脱離温度と検出対象外のガス２０２の脱離温度との差よりも、広がり得る。

例えば、図１４に示すような構成において、検出対象のガスの分子径が検出対象外のガスの分子径よりも大きいものとする。上述のように、細孔１６１ａを有さない吸着剤１６１Ｘからの検出対象外のガスの脱離温度は、温度ｔ１０１である。これに対し、細孔１６１ａを有する吸着剤１６１からの検出対象外のガスの脱離温度は、温度ｔ１０１よりも高くなり、温度ｔ１１１になる。また、上述のように、細孔１６１ａを有さない吸着剤１６１Ｘからの検出対象のガスの脱離温度は、温度ｔ１０２である。これに対し、細孔１６１ａを有する吸着剤１６１からの検出対象のガスの脱離温度は、温度ｔ１０２よりも高くなり、温度ｔ１２１になる。このように、検出対象のガスの方が、検出対象外のガスよりも、細孔１６１ａを有することにより脱離温度が高くなる度合いが、大きくなる。このような構成により、吸着剤１６１における検出対象のガスの脱離温度と検出対象外のガスの脱離温度との差（ｔ１２１－ｔ１１１）は、吸着剤１６１Ｘにおける検出対象のガスの脱離温度と検出対象外のガスの脱離温度との差（ｔ１０２－ｔ１０１）よりも、広がり得る。本実施形態では、検出対象のガスの脱離温度と検出対象外のガスの脱離温度との差を広げることにより、サンプルガスから、サンプルガスに含まれる検出対象外のガスをより確実に除去することができる。

図１５に示すような吸着剤１６１における細孔１６１ａの密度は、吸着剤１６１の材料及び検出対象のガスの種類に応じて、適宜選択されていてよい。また、細孔１６１ａの形状は、逆円錐形状である。ただし、細孔１６１ａの形状は、逆円錐形状に限定されない。例えば、細孔１６１ａの形状は、円筒形状等であってよい。

図１２に示すような支持部材１６２は、濃縮槽１６０の入口部付近において、吸着剤１６１を支持する。支持部材１６２は、粉末又は繊維状の、ガラス又はフッ素樹脂を含んで構成されていてよい。

図１２に示すような支持部材１６３は、濃縮槽１６０の出口部付近において、吸着剤１６１を支持する。支持部材１６３は、粉末又は繊維状の、ガラス又はフッ素樹脂を含んで構成されていてよい。

図１２に示すようなヒータ１６４は、吸着剤１６１を加熱可能である。例えば、ヒータ１６４は、図１３に示すような制御部１９４の制御に基づいて、通電状態になることにより、吸着剤１６１を加熱する。ヒータ１６４は、濃縮槽１６０の外側に配されている。ヒータ１６４は、濃縮槽１６０の外側を包囲してよい。ヒータ１６４は、抵抗加熱ヒータ又はラバーヒータ等であってよい。

図１２に示すように、貯留槽１７０の入口部は、流路１３４に接続されている。貯留槽１７０の出口部は、流路１３８に接続されている。貯留槽１７０には、流入路１２１から流入したパージガスが、流路１３０，１３３，１３４を経て、供給される。貯留槽１７０は、供給されたパージガスを貯留する。貯留槽１７０に貯留されたパージガスは、流路１３８，１３９を経て、チャンバ１８０に供給される。また、貯留槽１７０に貯留されたパージガスは、流路１３８，１３５，１３２を経て、濃縮槽１６０に供給される。

貯留槽７０は、直方体状、円筒状、袋状、又は、筐体１１０内部に収容される各種部品の隙間を埋めるような形状の容器等で構成されていてよい。貯留槽１７０の容量は、濃縮槽１６０の容量よりも大きくてよい。貯留槽１７０は、吸着剤１７１と、支持部材１７２，１７３とを有する。

図１２に示すように、吸着剤１７１は、貯留槽１７０の内部に配されている。吸着剤１７１は、ガス検出システム１０１の用途に応じた、任意の材料を含んでよい。吸着剤１７１は、例えば、活性炭、シリカゲル、ゼオライト及びモレキュラーシーブの少なくとも何れかを含んでよい。吸着剤１７１は、複数種類のものであってよいし、多孔質材料を含んでよい。

吸着剤１７１は、パージガスに混入した検出対象のガスを吸着するものを含んでよい。トイレ室内の空気をパージガスとする場合、パージガスに、検出対象のガスが混入する場合がある。吸着剤１７１がパージガスに混入した検出対象のガスを吸着することにより、貯留槽１７０内のパージガスが浄化され得る。サンプルガスが便から発生するガスである場合、検出対象のガスを吸着する吸着剤１７１の例として、活性炭及びモレキュラーシーブ等が挙げられる。ただし、これらの組み合わせは、吸着するガス分子の極性によって適宜変更されていてよい。

吸着剤１７１は、パージガスに混入した検出対象外のガスを吸着するものを含んでよい。トイレ室内の空気をパージガスとする場合、パージガスに、検出対象外のガスが混入する場合がある。吸着剤１７１がパージガスに混入した検出対象外のガスを吸着することにより、貯留槽１７０内のパージガスが浄化され得る。サンプルガスが便から発生するガスである場合、検出対象外のガスを吸着する吸着剤１７１の例として、シリカゲル及びゼオライト等が挙げられる。ただし、これらの組み合わせは、吸着するガス分子の極性によって適宜変更されていてよい。

支持部材１７２は、貯留槽１７０の入口部付近において、吸着剤１７１を支持する。支持部材１７２は、粉末又は繊維状の、ガラス又はフッ素樹脂を含んで構成されていてよい。

支持部材１７３は、貯留槽１７０の出口部付近において、吸着剤１７１を支持する。支持部材１７３は、粉末又は繊維状の、ガラス又はフッ素樹脂を含んで構成されていてよい。

図１２に示すように、チャンバ１８０は、その内部に、センサ部１８１を有する。チャンバ１８０は、複数のセンサ部１８１を有してよい。チャンバ１８０は、複数に分かれていてよい。各センサ部１８１は、複数に分かれた各チャンバ１８０に配されていてよい。複数に分かれた各チャンバ１８０同士は、接続されていてよい。チャンバ１８０は、流路１３７に接続されている。チャンバ１８０には、流路１３７からサンプルガスが供給される。また、チャンバ１８０は、流路１３９に接続されている。チャンバ１８０には、流路１３９からパージガスが供給される。また、チャンバ１８０は、排出路１２２に接続されている。チャンバ１８０は、検出処理後のサンプルガス及びパージガスを排出路１２２から排出する。

図１２に示すように、センサ部１８１は、チャンバ１８０内に配置されている。センサ部１８１は、特定のガスの濃度に応じた信号を、制御部１９４に出力する。センサ部１８１は、半導体式センサ、接触燃焼式センサ又は固体電解質センサ等の任意のセンサを含んで構成されていてよい。以下、センサ部１８１は、特定のガスの濃度に応じた信号として、特定のガスの濃度に応じた電圧を、制御部１９４に出力するものとして説明する。ただし、センサ部１８１が出力する特定のガスの濃度に応じた信号は、特定のガスの濃度に応じた電圧に限定されない。例えば、センサ部１８１は、特定のガスの濃度に応じた信号として、特定のガスの濃度に応じた電流を、制御部１９４に出力してよい。特定のガスには、特定の検出対象のガスと、特定の検出対象外のガスとが含まれる。サンプルガスが便から発生するガスである場合には、特定の検出対象のガスの一例として、メタン、水素、二酸化炭素、メチルメルカプタン、硫化水素、酢酸及びトリメチルアミン等が挙げられる。また、サンプルガスが便から発生するガスである場合には、特定の検出対象外のガスの一例として、アンモニア及び水等が挙げられる。複数のセンサ部１８１の各々は、これらのガスの少なくとも何れかの濃度に応じた電圧を、制御部１９４に出力し得る。

図１３に示すような回路基板１９０は、電気信号が伝搬する配線、記憶部１９１、通信部１９２及び制御部１９４等を実装する。

図１３に示すような記憶部１９１は、例えば、半導体メモリ又は磁気メモリ等で構成され得る。記憶部１９１は、各種情報、及び、ガス検出システム１０１を動作させるためのプログラムを記憶する。記憶部１９１は、ワークメモリとして機能してもよい。

図１３に示すような通信部１９２は、図１１に示すような電子機器１０３と通信可能である。通信部１９２は、外部サーバと通信可能であってよい。通信部１９２と電子機器１０３及び外部サーバとの通信において用いられる通信方式は、近距離無線通信規格又は携帯電話網へ接続する無線通信規格であってよいし、有線通信規格であってよい。近距離無線通信規格は、例えば、ＷｉＦｉ（登録商標）、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）、赤外線及びＮＦＣ等を含んでよい。携帯電話網へ接続する無線通信規格は、例えば、ＬＴＥ又は第４世代以上の移動通信システム等を含んでよい。また、通信部１９２と電子機器１０３及び外部サーバとの通信において用いられる通信方式は、例えばＬＰＷＡ又はＬＰＷＡＮ等の通信規格でもよい。

図１３に示すようなセンサ部１９３は、画像カメラ、個人識別スイッチ、赤外線センサ及び圧力センサ等の少なくとも何れかを含んで構成されていてよい。センサ部１９３は、検出結果を、制御部１９４に出力する。

例えば、センサ部１９３は、赤外線センサを含んで構成される場合には、赤外線センサが照射した赤外線の対象物からの反射光を検出することにより、被検者がトイレ室に入室したことを検出し得る。センサ部１９３は、検出結果として、被検者がトイレ室に入室したことを示す信号を制御部１９４に出力する。

例えば、センサ部１９３は、圧力センサを含んで構成される場合には、図１１に示すような便座１０２Ｂにかかる圧力を検出することにより、被検者が便座１０２Ｂに座ったことを検出し得る。センサ部１９３は、検出結果として、被検者が便座１０２Ｂに座ったことを示す信号を制御部１９４に出力する。

例えば、センサ部１９３は、圧力センサを含んで構成される場合には、図１１に示すような便座１０２Ｂにかかる圧力の低減を検出することにより、被検者が便座１０２Ｂから立ち上がったことを検出し得る。センサ部１９３は、検出結果として、被検者が便座１０２Ｂから立ち上がったことを示す信号を制御部１９４に出力する。

例えば、センサ部１９３は、画像カメラ及び個人識別スイッチ等を含んで構成される場合には、顔画像、座高及び体重等のデータを収集する。センサ部１９３は、収集したデータから個人を特定識別して検出する。センサ部１９３は、検出結果として、特定識別した個人を示す信号を制御部１９４に出力する。

例えば、センサ部１９３は、個人識別スイッチ等を含んで構成される場合には、個人識別スイッチの操作に基づいて、個人を特定（検出）する。この場合、記憶部１９１には、予め個人情報が登録（記憶）されていてよい。センサ部１９３は、検出結果として、特定した個人を示す信号を制御部１９４に出力する。

図１３に示すような制御部１９４は、１以上のプロセッサを含む。プロセッサは、特定のプログラムを読み込ませて特定の機能を実行する汎用のプロセッサ、及び、特定の処理に特化した専用のプロセッサの少なくとも何れかを含んでよい。専用のプロセッサは、特定用途向けＩＣ（ＡＳＩＣ）を含んでよい。プロセッサは、プログラマブルロジックデバイス（ＰＬＤ）を含んでよい。ＰＬＤは、ＦＰＧＡを含んでよい。制御部１９４は、１つ又は複数のプロセッサが協働するＳｏＣ、及び、ＳｉＰの少なくとも何れかを含んでもよい。

＜パージガスの貯留処理＞
制御部１９４は、センサ部１９３の検出結果に基づいて、被検者が便座１０２Ｂから立ち上がったことを検出し得る。制御部１９４は、被検者が便座１０２Ｂから立ち上がったことを検出してから第１特定時間が経過した後、トイレ室の空気が、パージガスとして、流入路１２１に流入するように制御する。制御部１９４は、流入路１２１から流入したパージガスが、貯留槽１７０に貯留されるように制御する。第１特定時間は、被検者のトイレ室からの退出後、トイレ室内の換気扇等によって、トイレ室内の空気が、トイレ室外の空気と入れ替わる時間を考慮して、適宜設定されていてよい。

例えば、制御部１９４は、図１２に示すような弁１４０によって流入路１２１と流路１３０とを接続させた状態にし、図１２に示すような弁１４２によって流路１３３と流路１３４とを接続させた状態にする。さらに、制御部１９４は、図１２に示すような弁１４４によって流路１３８と排出路１２４とを接続させた状態にする。加えて、制御部１９４は、供給部１５０を制御することにより、流入路１２１から、流路１３０，１３３，１３４、貯留槽１７０及び流路１３８を経て、排出路１２４に向かうガスの流れを生じさせる。当該ガスの流れが生じることにより、トイレ室の空気は、パージガスとして、流入路１２１に流入する。流入路１２１から流入したパージガスは、流路１３０，１３３，１３４を経て、貯留槽１７０に供給される。貯留槽１７０にパージガスが供給されることにより、当該パージガスによって貯留槽１７０内の残留ガスは、流路１３８へ押し出されて、排出路１２４から排出される。制御部１９４は、パージガスを流入路１２１に流入させ始めてから第２特定時間が経過した時点で、供給部１５０を停止させる。さらに、制御部１９４は、弁１４０によって流入路１２１と流路１３０とを接続させない状態にし、弁１４２によって流路１３３と流路１３４とを接続させない状態にする。加えて、制御部１９４は、弁１４４によって流路１３８と排出路１２４とを接続させない状態にする。このような構成により、流入路１２１からのパージガスが貯留槽１７０に貯留される。第２特定時間は、貯留槽１７０の容量等を考慮して、適宜設定されていてよい。貯留槽１７０に貯留されたパージガスは、貯留槽１７０内の吸着剤１７１と接触し得る。パージガスが吸着剤１７１に接触することにより、パージガスに混入した検出対象のガス及び検出対象外のガスが吸着剤１７１に吸着され得る。パージガスに混入した検出対象のガス及び検出対象外のガスが吸着剤１７１に吸着されることにより、貯留槽１７０内のパージガスが浄化され得る。

＜サンプルガスの貯留及び濃縮処理＞
図１３に示すような制御部１９４は、センサ部１９３の検出結果に基づいて、被検者が便座１０２Ｂに座ったことを検出し得る。制御部１９４は、被検者が便座１０２Ｂに座ったことを検出してから第３特定時間が経過した後、便器ボウル１０２Ａに排出された便から発生するガスが、サンプルガスとして、流入路１２０に流入するように制御する。制御部１９４は、流入路１２０から流入したサンプルガスが、濃縮槽１６０を通過するように制御する。例えば、制御部１９４は、サンプルガスが濃縮槽１６０を通過して排出路１２３から排出されるように制御する。第３特定時間は、被検者が便座１０２Ｂに座ってから、被検者が便を排出するまでにかかる時間を考慮して、適宜設定されていてよい。

例えば、制御部１９４は、図１２に示すような弁１４０によって流入路１２０と流路１３０とを接続させた状態にし、弁１４１によって流路１３１と流路１３２とを接続させた状態にする。さらに、制御部１９４は、図１２に示すような弁１４３によって流路１３６と排出路１２３とを接続させた状態にする。加えて、制御部１９４は、図１２に示すような供給部１５０を制御することにより、流入路１２０から、流路１３０，１３１，１３２、濃縮槽１６０及び流路１３６を経て、排出路１２３に向かうガスの流れを生じさせる。当該ガスの流れが生じることにより、流入路１２０から流入したサンプルガスは、濃縮槽１６０を通過する。

図１３に示すような制御部１９４は、サンプルガスが濃縮槽１６０を通過するように制御することにより、吸着剤１６１にサンプルガスに含まれる検出対象のガスを吸着させる。この際、制御部１９４は、ヒータ１６４を非駆動状態に維持する。ヒータ１６４を非駆動状態に維持することにより、吸着剤１６１の温度は、室温となり得る。制御部１９４は、第１規定時間、サンプルガスが濃縮槽１６０を通過するように制御してよい。第１規定時間は、吸着剤１６１に吸着可能な検出対象のガスの量を考慮して、適宜設定されていてよい。また、濃縮槽１６０内を通過するサンプルガスの流量は、濃縮槽１６０の容積又は吸着剤１６１の面積等を考慮して、適宜設定されていてよい。制御部１９４は、サンプルガスの流量を、供給部１５０を構成するポンプ等の駆動電圧及び周波数等の少なくとも何れかから、推定してよい。また、サンプルガスの流量を検出する流量センサが、ガス検出システム１０１に設けられてよい。この構成では、流量センサは、サンプルガスの流量を示す検出信号を、制御部１９４に出力する。制御部１９４は、流量センサが出力する検出信号に基づいて、サンプルガスの流量を検出する。制御部１９４は、パージガスの流量に関しても、サンプルガスと同一又は類似にして検出してよい。

図１６は、図１１に示すガス検出システム１０１の動作の一例のタイミングチャートである。図１６には、時刻に対する吸着剤１６１の温度の変化を示す。制御部１９４は、吸着剤１６１の温度を、ヒータ１６４の電流等から推定してよい。また、吸着剤１６１の近傍に温度センサが設けられていてよい。この構成では、温度センサは、吸着剤１６１の近傍の温度を示す信号を、制御部１９４に出力する。制御部１９４は、温度センサが出力する検出信号に基づいて、吸着剤１６１の温度を取得してよい。

図１６に示すような時刻Ｓ１００は、被検者が便座１０２Ｂに座ったことを制御部１９４が検出してから第３特定時間が経過した時点である。時刻Ｓ１００で、制御部１９４は、便器ボウル１０２Ａに排出された便から発生するガスが、サンプルガスとして、流入路１２０に流入するように制御する。さらに、制御部１９４は、流入路１２０に流入したサンプルガスが濃縮槽１６０を通過するように制御する。この際、制御部１９４は、ヒータ１６４を非駆動状態に維持する。ヒータ１６４が非駆動状態に維持されることにより、吸着剤１６１は、時刻Ｓ１００以降、室温Ｔ１００に維持される。制御部１９４は、時刻Ｓ１００から時刻Ｓ１０１までの第１規定時間、サンプルガスが濃縮槽１６０を通過するように制御する。サンプルガスが濃縮槽１６０を通過することにより、サンプルガスに含まれる検出対象ガスは、吸着剤１６１に吸着される。吸着剤１６１に検出対象のガスを吸着されたサンプルガスは、排出路１２３から排出される。時刻Ｓ１００以降、サンプルガスに検出対象外のガスが含まれる場合、当該検出対象外のガスも吸着剤１６１に吸着され得る。

図１３に示すような制御部１９４は、サンプルガスが濃縮槽１６０を通過し始めてから第１規定時間が経過した時点で、濃縮槽１６０へのサンプルガスの通過を停止させる。例えば、制御部１９４は、第１規定時間が経過した時点で、供給部１５０を停止させる。さらに、制御部１９４は、弁１４１によって流路１３１と流路１３２を接続させない状態にし、弁１４３によって流路１３６と排出路１２３を接続させない状態にする。また、制御部１９４は、第１規定時間が経過した時点で、ヒータ１６４を駆動状態にすることにより、吸着剤１６１の温度を上昇させる。

図１６では、時刻Ｓ１０１が、サンプルガスが濃縮槽６０を通過し始めてから第１規定時間が経過した時点である。時刻Ｓ１０１で、制御部１９４は、濃縮槽１６０へのサンプルガスの通過を停止させる。また、時刻Ｓ１０１で、制御部１９４は、ヒータ１６４を駆動状態にする。時刻Ｓ１０１でヒータ１６４が駆動状態になることにより、吸着剤１６１の温度は、時刻Ｓ１０１以降、上昇する。

図１３に示すような制御部１９４は、図１２に示すような吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に到達すると、第２規定時間、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に維持されるように制御する。第２規定時間は、サンプルガスに含まれ得る検出対象外のガスの量を考慮して、適宜設定されていてよい。温度Ｔ１０１は、サンプルガスに含まれ得る検出対象外のガスの脱離温度であってよい。図１５に示すように吸着剤１６１が細孔１６１ａを有する場合、温度Ｔ１０１は、図１４に示すような温度ｔ１１１となり得る。吸着剤１６１が温度Ｔ１０１に維持されることにより、検出対象外のガスは、吸着剤１６１から脱離し得る。制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に維持されるように制御しつつ、パージガスが濃縮槽１６０を通過するように制御する。例えば、制御部１９４は、濃縮槽１６０を通過したパージガスが、排出路１２３から排出されるように制御する。このような構成により、吸着剤１６１から脱離した検出対象外のガスは、パージガスとともに、排出路１２３から排出され得る。つまり、吸着剤１６１から脱離した検出対象外のガスは、濃縮槽１６０から除去され得る。濃縮槽１６０内を通過するパージガスの流量は、濃縮槽１６０の容積又は吸着剤１６１の面積等を考慮して、適宜設定されていてよい。

例えば、制御部１９４は、図１２に示すような吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に到達すると、弁１４０によって流入路１２１と流路１３０とを接続させた状態にし、弁１４２によって流路１３３と流路１３４とを接続させた状態にする。さらに、制御部１９４は、弁１４４によって流路１３８と流路１３５とを接続させた状態にし、弁１４１によって流路１３５と流路１３２とを接続させた状態にし、弁１４３によって流路１３６と排出路１２３とを接続させた状態にする。加えて、制御部１９４は、供給部１５０を制御することにより、流入路１２１から、流路１３０，１３３，１３４、貯留槽１７０、流路１３８，１３５，１３２、濃縮槽１６０及び流路１３６を経て、排出路１２３に向かうガスの流れを生じさせる。当該ガスの流れを生じさせることにより、パージガスは、濃縮槽１６０を通過して排出路１２３から排出される。パージガスが濃縮槽１６０を通過することにより、吸着剤１６１から脱離した検出対象外のガスは、パージガスによって、濃縮槽１６０から除去されて排出路１２３から排出され得る。

図１６では、時刻Ｓ１０２で、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に到達する。制御部１９４は、時刻Ｓ１０２から時刻Ｓ１０３までの第２規定時間、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に維持されるようにヒータ１６４を制御する。時刻Ｓ１０２以降、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に維持されることにより、検出対象外のガスは、吸着剤１６１から脱離し得る。また、時刻Ｓ１０２で、制御部１９４は、パージガスが濃縮槽１６０を通過して排出路１２３から排出されるように制御する。パージガスが濃縮槽１６０を通過して排出路１２３から排出されることにより、脱離した検出対象外のガスは、パージガスによって、濃縮槽１６０から除去されて排出路１２３から排出され得る。

図１３に示すような制御部１９４は、図１２に示すような吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に到達してから第２規定時間が経過した時点で、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２まで上昇するようにヒータ１６４を制御する。温度Ｔ１０２は、サンプルガスに含まれる検出対象のガスの脱離温度であってよい。図１５に示すように吸着剤１６１が細孔１６１ａを有する場合、温度Ｔ１０２は、図１４に示すような温度ｔ１２１となり得る。図１６では、時刻Ｓ１０３が、第２規定時間が経過した時点である。図１６では、時刻Ｓ１０３で、制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２まで上昇するようにヒータ１６４を制御する。

図１３に示すような制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２に到達すると、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２に維持されるようにヒータ１６４を制御する。制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２に維持されるようにヒータ１６４を制御しつつ、パージガスが濃縮槽１６０を通過するように供給部１５０を制御する。例えば、制御部１９４は、パージガスが、濃縮槽１６０を通過して、濃縮槽１６０内の検出対象のガスとともにチャンバ１８０のセンサ部１８１に供給されるよう制御する。このような構成により、濃縮槽１６０内の濃度が高められた検出対象のガスが、すなわち、濃縮槽１６０内のより濃縮されたサンプルガスが、パージガスによってチャンバ１８０のセンサ部１８１に搬送され得る。パージガスは、ガスを搬送する用途で使用される場合、「キャリアガス」とも称される。制御部１９４は、第３規定時間、パージガスが、濃縮槽１６０を通過して、濃縮槽１６０内の検出対象のガスとともにチャンバ１８０のセンサ部１８１に供給されるよう制御してよい。第３規定時間は、パージガスの流量及び吸着剤１６１に吸着され得る検出対象のガスの量を考慮して、適宜設定されていてよい。また、濃縮槽１６０をキャリアガスとして通過するパージガスの流量は、吸着剤１６１に吸着され得る検出対象のガスの量及び濃縮槽１６０の断面積等を考慮して、適宜設定されていてよい。

例えば、制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２に到達すると、図１２に示すような弁１４０によって流入路１２１と流路１３０とを接続させた状態にし、弁１４２によって流路１３３と流路１３４とを接続させた状態にする。さらに、制御部１９４は、弁１４４によって流路１３８と流路１３５とを接続させた状態にし、弁１４１によって流路１３５と流路１３２とを接続させた状態にし、弁１４３によって流路１３６と流路１３７とを接続させた状態にする。加えて、制御部１９４は、供給部１５０を制御することにより、流入路１２１から、流路１３０，１３３，１３４、貯留槽１７０、流路１３８，１３５，１３２、濃縮槽１６０及び流路１３６，１３７を経て、チャンバ１８０に向かうガスの流れを生じさせる。当該ガスの流れが生じることにより、パージガスは、濃縮槽１６０を通過して、濃縮槽１６０内の検出対象のガスを、チャンバ１８０に搬送する。

図１６では、時刻Ｓ１０４で、吸着剤１６１の温度が、温度Ｔ１０２に到達する。時刻Ｓ１０４以降、制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２に維持されるように制御しつつ、パージガスが、濃縮槽１６０を通過して、濃縮槽１６０内の検出対象のガスとともにチャンバ１８０のセンサ部１８１に供給されるよう制御する。また、制御部１９４は、時刻Ｓ１０４から時刻Ｓ１０５の第３規定時間、パージガスが、濃縮槽１６０を通過して、濃縮槽１６０内の検出対象のガスとともにチャンバ１８０のセンサ部１８１に供給されるよう制御する。

＜ガスの種類及び濃度の検出処理＞
制御部１９４は、貯留槽１７０に貯留されたパージガスが、チャンバ１８０のセンサ部１８１に供給されるように制御する。例えば、制御部１９４は、弁１４０によって流入路１２１と流路１３０とを接続させた状態にし、弁１４２によって流路１３３と流路１３４とを接続させた状態にし、弁１４４によって流路１３８と流路１３９とを接続させた状態にする。さらに、制御部１９４は、供給部１５０を制御することにより、流入路１２１から、流路１３０，１３３，１３４、貯留槽１７０、流路１３８，１３９を経て、チャンバ１８０に向かうガスの流れを生じさせる。当該ガスの流れが生じることにより、貯留槽１７０に貯留されたパージガスは、チャンバ１８０のセンサ部１８１に供給される。

制御部１９４は、上述の＜サンプルガスの貯留及び濃縮処理＞にて説明したようにして、パージガスが、濃縮槽１６０を通過して、濃縮槽１６０内の検出対象のガスとともにチャンバ１８０のセンサ部１８１に供給されるよう制御する。

制御部１９４は、貯留槽１７０に貯留されたパージガスと、濃縮槽１６０にて濃縮されたサンプルガスとが、チャンバ１８０のセンサ部１８１に交互に供給されるよう制御する。制御部１９４は、パージガスと濃縮されたサンプルガスとをチャンバ１８０に交互に供給することにより、チャンバ１８０のセンサ部１８１から、電圧波形を取得する。制御部１９４は、取得した電圧波形に対する機械学習により、サンプルガスに含まれるガスの種類及び濃度を検出する。制御部１９４は、検出したガスの種類及び濃度を、検出結果として、通信部１９２を介して電子機器１０３に送信してよい。

［ガス検出システムの動作］
図１７は、図１１に示すガス検出システム１０１のガス濃縮時の動作の一例のフローチャートである。制御部１９４は、センサ部１９３の検出結果に基づいて、被検者が便座１０２Ｂから立ち上がったことを検出してから第１特定時間が経過した後、図１７に示すような処理を開始してよい。

制御部１９４は、トイレ室の空気が、パージガスとして、流入路１２１に流入するように制御する（ステップＳ２１０）。制御部１９４は、流入路１２１に流入したパージガスが、貯留槽１７０に貯留されるように制御する（ステップＳ２１１）。

制御部１９４は、被検者が便座１０２Ｂに座ったことを検出してから第３特定時間が経過した後、便器ボウル１０２Ａに排出された便から発生するガスが、サンプルガスとして、流入路１２０に流入するように制御する（ステップＳ２１２）。制御部１９４は、流入路１２０から流入したサンプルガスが、第１規定時間、濃縮槽１６０を通過するように制御する（ステップＳ２１３）。ステップＳ２１３の処理では、制御部１９４は、ヒータ１６４を非駆動状態に維持する。

制御部１９４は、サンプルガスが濃縮槽１６０を通過し始めてから第１規定時間が経過したことを検出する（ステップＳ２１４）。制御部１９４は、第１規定時間が経過した時点で、濃縮槽１６０へのサンプルガスの通過を停止させる（ステップＳ２１５）。制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が上昇するように、ヒータ１６４を制御する（ステップＳ２１６）。

制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に到達したことを検出する（ステップＳ２１７）。制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に到達すると、第２規定時間、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に維持されるようにヒータ１６４を制御する（ステップＳ２１８）。制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に維持されるように制御しつつ、パージガスが濃縮槽１６０を通過するように制御する（ステップＳ２１９）。ステップＳ２１９の処理では、制御部１９４は、濃縮槽１６０を通過したパージガスが、排出路１２３から排出されるように制御する。

制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に到達してから、第２規定時間が経過したことを検出する（ステップＳ２２０）。制御部１９４は、第２規定時間が経過した時点で、吸着剤１６１の温度が吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２まで上昇するようにヒータ１６４を制御する（ステップＳ２２１）。

制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２に到達したことを検出する（ステップＳ２２２）。制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２に維持されるようにヒータ６４を制御しつつ（ステップＳ２２３）、パージガスが濃縮槽１６０を通過するように制御する（ステップＳ２２４）。ステップＳ２２４の処理では、制御部１９４は、パージガスが濃縮槽１６０を通過して、濃縮槽１６０内の検出対象のガスとともにチャンバ１８０のセンサ部１８１に供給されるよう制御する。制御部１９４は、ステップＳ２２４の処理の終了後、ガスの濃縮処理を終了する。

図１８は、図１１に示すガス検出システム１０１のガスの種類及び濃度の検出時の動作の一例のフローチャートである。

制御部１９４は、貯留槽１７０に貯留されたパージガスが、チャンバ１８０のセンサ部１８１に供給されるように制御する（ステップＳ２３０）。制御部１９４は、図１７に示すような処理を実行することにより、濃縮槽１６０にて濃縮されたサンプルガスが、チャンバ１８０のセンサ部１８１に供給されるよう制御する（ステップＳ２３１）。

制御部１９４は、ステップＳ２３０の処理とステップＳ２３１の処理を交互に実行することにより、貯留槽１７０のパージガスと、濃縮槽１６０のサンプルガスとが、チャンバ１８０のセンサ部１８１に交互に供給されるよう制御する。

制御部１９４は、パージガスと濃縮されたサンプルガスとをチャンバ１８０に交互に供給することにより、チャンバ１８０のセンサ部１８１から、電圧波形を取得する（ステップＳ２３２）。制御部１９４は、取得した電圧波形に対する機械学習により、サンプルガスに含まれるガスの種類及び濃度を検出する（ステップＳ２３３）。制御部１９４は、ステップＳ２３３の処理の終了後、ガスの種類及び濃度の検出処理を終了する。

以上のように、第３実施形態に係るガス検出システム１０１では、図１５に示すように、吸着剤１６１の細孔１６１ａの細孔径は、検出対象のガス２０１の分子径及び検出対象外のガス２０２の分子径よりも大きい。さらに、検出対象のガス２０１の分子径は、検出対象外のガス２０２の分子径よりも大きい。このような構成により、上述のように、吸着剤１６１における検出対象のガスの脱離温度と検出対象外のガスの脱離温度との差（ｔ１２１－ｔ１１１）が、広がり得る。つまり、図１６に示すような温度Ｔ１０１と温度Ｔ１０２との差が広がり得る。温度Ｔ１０１と温度Ｔ１０２との差が広がることにより、検出対象外のガスは、サンプルガスからより確実に除去され得る。検出対象外のガスがサンプルガスからより確実に除去されることにより、ガス検出システム１０１は、サンプルガスに含まれる検出対象のガスの種類及び濃度をより精度良く検出することができる。よって、第３実施形態によれば、改善された、ガス検出システム１０１が提供され得る。

（第４実施形態）
以下、本開示の第４実施形態に係るガス検出システムについて説明する。第４実施形態に係るガス検出システムは、第３実施形態に係るガス検出システム１０１と同一又は類似の構成を採用することができる。従って、以下では、図１１から図１３を参照しつつ、第３実施形態との相違点を中心に説明する。

図１３に示すような制御部１９４は、図１２に示すような濃縮槽１６０にてサンプルガスを濃縮する際、第３実施形態と同一又は類似に、サンプルガスが図１２に示すような濃縮槽１６０を通過するように供給部１５０を制御する。この際、第４実施形態では、制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に維持されるように制御する。温度Ｔ１０１は、上述のように、サンプルガスに含まれ得る検出対象外のガスの脱離温度であってよい。サンプルガスが図１２に示すような濃縮槽１６０を通過する際に、吸着剤１６１の温度を温度Ｔ１０１に維持することにより、サンプルガスに含まれる検出対象外のガスは、図１２に示すような吸着剤１６１に吸着されずに、図１２に示すような排出路１２３から排出され得る。サンプルガスに含まれる検出対象外のガスが、図１２に示すような吸着剤１６１に吸着されずに、図１２に示すような排出路１２３から排出されることで、第４実施形態では、例えば図１６に示すようなノイズガスを除去するための第２規定時間を削減することができる。このような構成とすることで、第４実施形態では、濃縮槽１６０にてサンプルガスを濃縮する際にかかる時間が短くなり得る。

図１９は、本開示の第４実施形態に係るガス検出システム１０１の動作の一例のタイミングチャートである。図１９には、時刻に対する吸着剤１６１の温度の変化を示す。

図１９に示すような時刻Ｓ１００は、被検者が便座１０２Ｂに座ったことを制御部１９４が検出してから第３特定時間が経過した時点である。時刻Ｓ１００で、制御部１９４は、便器ボウル１０２Ａに排出された便から発生するガスが、サンプルガスとして、流入路１２０に流入するように制御する。さらに、制御部１９４は、流入路１２０に流入したサンプルガスが濃縮槽１６０を通過するように制御する。また、時刻Ｓ１００以降、制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に維持されるようにヒータ１６４を制御する。制御部１９４は、時刻Ｓ１００よりも以前にヒータ１６４を制御することにより、吸着剤１６１の温度を予め上昇させておいてよい。例えば、制御部１９４は、被検者が便座１０２Ｂに座ったことを制御部１９４が検出した時点で、ヒータ１６４を非駆動状態から駆動状態に切替えてよい。サンプルガスが濃縮槽１６０を通過する際、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に維持させることで、サンプルガスに含まれる検出対象外のガスは、吸着剤１６１に吸着されずに、図１２に示すような排出路１２３から排出され得る。また、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２よりも低い温度Ｔ１０１に維持されることで、サンプルガスに含まれる検出対象のガスは、吸着剤１６１に吸着され得る。

図１３に示すような制御部１９４は、第４規定時間、サンプルガスが濃縮槽１６０を通過するように供給部１５０を制御しつつ、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に維持されるようにヒータ１６４を制御してよい。図１９では、第４規定時間は、時刻Ｓ１００から時刻Ｓ１０６までの時間である。第４規定時間は、吸着剤１６１に吸着可能な検出対象のガスの量及びサンプルガスに含まれ得る検出対象外のガスの量の少なくとも何れかを考慮して、適宜設定されていてよい。第４規定時間は、図１６に示すような第１規定時間又は第２規定時間と同等の時間であってよい。又は、第４規定時間は、第１規定時間及び第２規定時間とは独立して、設定されていてよい。

図１３に示すような制御部１９４は、サンプルガスが図１２に示すような濃縮槽１６０を通過し始めてから第４規定時間が経過した時点で、吸着剤１６１の温度が上昇するようにヒータ１６４を制御する。第３実施形態と同一又は類似に、制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２まで上昇するようにヒータ１６４を制御する。第３実施形態と同一又は類似に、制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２に到達すると、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２に維持されるようにヒータ１６４を制御する。第３実施形態と同一又は類似に、制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２に維持されるようにヒータ１６４を制御しつつ、パージガスが、濃縮槽１６０を通過して、濃縮槽１６０内の検出対象のガスとともにチャンバ１８０のセンサ部１８１に供給されるよう制御する。

図１９では、時刻Ｓ１０６が、第４規定時間が経過した時点である。時刻Ｓ１０６で、制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２まで上昇するようにヒータ１６４を制御する。時刻Ｓ１０７で、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２に到達する。時刻Ｓ１０７で、制御部１９４は、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０２に維持されるようにヒータ１６４を制御しつつ、パージガスが濃縮槽１６０を通過するように供給部１５０を制御する。制御部１９４は、パージガスが、濃縮槽１６０を通過して、濃縮槽１６０内の検出対象のガスとともにチャンバ１８０のセンサ部１８１に供給されるよう制御する。

図１３に示すような制御部１９４は、第３実施形態と同一又は類似に、第３規定時間、パージガスが、濃縮槽１６０を通過して、濃縮槽１６０内の検出対象のガスとともにチャンバ１８０のセンサ部１８１に供給されるよう制御してよい。図１９では、第３規定時間は、時刻Ｓ１０７から時刻Ｓ１０８までの時間である。

［ガス検出システムの動作］
図２０は、本開示の第４実施形態に係るガス検出システム１０１のガス濃縮時の動作の一例のフローチャートである。制御部１９４は、センサ部１９３の検出結果に基づいて、被検者が便座１０２Ｂから立ち上がったことを検出してから第１特定時間が経過した後、図２０に示すような処理を開始してよい。

制御部１９４は、図１７に示すようなステップＳ２１０，Ｓ２１１，Ｓ２１２，Ｓ２１３の処理と同一又は類似にして、ステップＳ２４０，Ｓ２４１，Ｓ２４２，Ｓ２４３の処理を実行する。制御部１９４は、ステップＳ２４３の処理を実行する際、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に維持させるようにヒータ１６４を制御する（ステップＳ２４４）。

制御部１９４は、ステップＳ２１３の処理を実行してから第４規定時間が経過したことを検出する（ステップＳ２４５）。制御部１９４は、図１７に示すようなステップＳ２１５と同一又は類似にして、ステップＳ２４６の処理を実行する。

制御部１９４は、図１７に示すようなステップＳ２２１，Ｓ２２２，Ｓ２２３，Ｓ２２４の処理と同一又は類似にして、ステップＳ２４７，Ｓ２４８，Ｓ２４９，Ｓ２５０の処理を実行する。制御部１９４は、ステップＳ２５０の処理の終了後、ガスの濃縮処理を終了する。

以上のように、第４実施形態に係るガス検出システム１０１では、制御部１９４は、サンプルガスが図１２に示すような濃縮槽１６０を通過するように供給部１５０を制御する際、吸着剤１６１の温度が温度Ｔ１０１に維持されるようにヒータ１６４を制御する。このような構成により、第４実施形態に係るガス検出システム１０１では、濃縮槽１６０にてサンプルガスを濃縮する際にかかる時間が短くなり得る。第４実施形態では、濃縮槽１６０にてサンプルガスを濃縮する際にかかる時間が短くなることで、ガス検出システム１０１における検出時間が短くなり得る。

第４実施形態に係るガス検出システム１０１のその他の効果及び構成は、第３実施形態に係るガス検出システム１０１と同一又は類似である。

（第５実施形態）
第５実施形態では、吸着剤１６１の細孔１６１ａの細孔径について説明する。第５実施形態に係る吸着剤１６１は、第３実施形態及び第４実施形態に適用可能である。

図１５に示すような吸着剤１６１の細孔１６１ａの細孔径は、上述のように、検出対象のガス２０１の分子径よりも大きい。さらに、吸着剤１６１の細孔１６１ａの細孔径は、検出対象のガス２０１の分子径の２倍以下であってよい。

図２１は、本開示の第５実施形態における、吸着剤の温度と吸着剤から脱離したガスの濃度との関係を示す模式的なグラフである。具体的には、曲線Ｐ１及び曲線Ｐ２は、検出対象のガス及び検出対象外のガスを吸着させた吸着剤１６１の温度を変化させながら、吸着剤１６１から脱離した、検出対象外のガスに対する検出対象のガスの比率をプロットしていくことにより得られたものである。図２１では、アセトンを検出対象のガスとして使用し、水を検出対象外のガスとして使用した。アセトンの分子径は、０．４６７ｎｍである。水の分子径は、０．２６５ｎｍである。曲線Ｐ１では、細孔１６１ａの細孔径が５ｎｍである吸着剤１６１を使用した。曲線Ｐ２では、細孔１６１ａの細孔径が０．５ｎｍである吸着剤１６１を使用した。曲線Ｐ１及び曲線Ｐ２の両方とも、使用した吸着剤１６１の細孔１６１ａの細孔径は、アセトンの分子径０．４６７ｎｍ及び水の分子径０．２６５ｎｍよりも大きい。

曲線Ｐ２が示すピーク値は、曲線Ｐ１が示すピーク値よりも、１０倍程度大きかった。この結果から、細孔１６１ａの細孔径が０．５ｎｍである吸着剤１６１を使用した方が、細孔１６１ａの細孔径が５ｎｍである吸着剤１６１を使用する場合よりも、検出対象の濃度が高いサンプルガスが得られることが分かる。ここで、曲線Ｐ１で使用した吸着剤１６１の細孔１６１ａの細孔径５ｎｍは、アセトンの分子径０．４６７ｎｍの２倍よりも大きい（細孔径５ｎｍ＞分子径０．４６７ｎｍ×２）。また、曲線Ｐ２で使用した吸着剤１６１の細孔１６１ａの細孔径０．５ｎｍは、アセトンの分子径０．４６７ｎｍの２倍以下である（細孔径０．５ｎｍ≦分子径０．４６７ｎｍ×２）。細孔１６１ａの細孔径がアセトンの分子径２倍以下となる場合、アセトンと細孔１６１ａとの間に生じる隙間は、細孔１６１ａの細孔径がアセトンの分子径の２倍よりも大きくなる場合よりも、狭くなり得る。そのため、細孔１６１ａの細孔径がアセトンの分子径２倍以下となる場合、アセトンは、細孔１６１ａの細孔径がアセトンの分子径の２倍よりも大きくなる場合よりも、アセトンの脱離温度を除く温度において、細孔１６１ａから抜けにくくなり得る。他方、曲線Ｐ１で使用した吸着剤１６１の細孔１６１ａの細孔径５ｎｍ及び曲線Ｐ２で使用した吸着剤１６１の細孔１６１ａの細孔径０．５ｎｍの両方とも、水の分子径０．２６５ｎｍの１．８倍程度よりも大きい。そのため、多くの水は、細孔１６１ａの細孔径が５ｎｍである場合及び細孔１６１ａの細孔径が０．５ｎｍである場合の何れにおいても、水の脱離温度で吸着剤１６１から脱離し得る。このような構成により、曲線Ｐ２が示すピーク値は、曲線Ｐ１が示すピーク値よりも、１０倍程度大きくなったものと考えられる。従って、細孔１６１ａの細孔径が検出対象のガスの分子径よりも大きく、且つ、検出対象のガスの分子径の２倍以下である場合（分子径０．４６７ｎｍ＜細孔径０．５ｎｍ≦分子径０．４６７ｎｍ×２）、検出対象の濃度が高いサンプルガスが得られる。

曲線Ｐ１が示すように、吸着剤１６１の細孔１６１ａの細孔径が５ｎｍである場合、アセトンの脱離温度は、１６２度程度であった。曲線Ｐ２が示すように、吸着剤１６１の細孔１６１ａの細孔径が０．５ｎｍである場合、アセトンの脱離温度は、１６７度程度であった。細孔１６１ａの細孔径が５ｎｍである場合及び細孔１６１ａの細孔径が０．５ｎｍである場合の両方とも、アセトンの脱離温度は、吸着剤が細孔１６１ａを有さない場合よりも、高くなった。また、細孔１６１ａの細孔径が０．５ｎｍである場合のアセトンの脱離温度（１６７度）は、細孔１６１ａの細孔径が５ｎｍである場合のアセトンの脱離温度（１６２度）よりも、５度程度高い。この結果から、細孔１６１ａの細孔径が検出対象のガスの分子径よりも大きく、且つ、検出対象のガスの分子径の２倍以下である場合（分子径０．４６７ｎｍ＜細孔径０．５ｎｍ≦分子径０．４６７ｎｍ×２）、検出対象のガスの脱離温度が高くなることが分かる。

（第３実施形態から第５実施形態の変形例）
以下、第３実施形態から第５実施形態の変形例について説明する。

例えば、上述の第３実施形態から第５実施形態では、図１３に示すように、ガス検出システム１０１は、１つの装置であるものとして説明した。ただし、本開示のガス検出システムは、１つの装置に限定されない。本開示のガス検出システムは、独立した複数の装置を含んでよい。例えば、上述の第３実施形態から第５実施形態に、図２２に示すような構成のガス検出システム１０１Ａが採用されてよい。

図２２に示すように、ガス検出システム１０１Ａは、ガス検出装置１０４と、サーバ装置１０５とを備える。ガス検出装置１０４とサーバ装置１０５は、ネットワーク１０６を介して通信可能である。ネットワーク１０６の一部は、有線であってよいし、無線であってよい。ガス検出装置１０４の構成は、図１２及び図１３に示すような、ガス検出システム１０１の構成と同一又は類似である。サーバ装置１０５は、記憶部１０５Ａと、通信部１０５Ｂと、制御部１０５Ｃとを備える。制御部１０５Ｃは、上述した図１３に示すような制御部１９４の処理を実行可能である。例えば、制御部１０５Ｃは、濃縮槽１６０にて濃縮されたサンプルガスがチャンバ１８０のセンサ部１８１に供給されるように供給部１５０を制御可能である。

上述した第３実施形態から第５実施形態までの構成は、以下の付記にまとめられ得る。

（付記１）
特定のガスの濃度に応じた信号を出力するセンサ部と、
細孔を有する吸着剤を内部に有する濃縮部と、
サンプルガスを前記濃縮部に供給可能な供給部と、を備え、
前記細孔の細孔径は、前記サンプルガスに含まれる検出対象のガスの有効分子径及び検出対象外のガスの有効分子径よりも大きく、
前記検出対象のガスの有効分子径は、前記検出対象外のガスの有効分子径よりも大きい、ガス検出システム。

（付記２）
付記１に記載のガス検出システムであって、
前記細孔径は、前記検出対象のガスの有効分子径の２倍以下である、ガス検出システム。

（付記３）
付記１又は２に記載のガス検出システムであって、
前記検出対象のガスは、メタン、水素、二酸化炭素、メチルメルカプタン、硫化水素、酢酸及びトリメチルアミンの少なくとも１つを含み、
前記検出対象外のガスは、水及びアンモニアの少なくとも１つを含む、ガス検出システム。

（付記４）
付記１から３までの何れか一項に記載のガス検出システムであって、
前記吸着剤を加熱可能なヒータをさらに備える、ガス検出システム。

（付記５）
付記４に記載のガス検出システムであって、
前記濃縮部にて濃縮された前記サンプルガスが前記センサ部に供給されるように前記供給部を制御可能な制御部をさらに備え、
前記制御部は、前記濃縮部にて前記サンプルガスを濃縮する際、前記サンプルガスが前記濃縮部を通過するように前記供給部を制御した後、前記吸着剤の温度が前記検出対象のガスの脱離温度まで上昇するように前記ヒータを制御する、ガス検出システム。

（付記６）
付記５に記載のガス検出システムであって、
前記制御部は、前記サンプルガスが前記濃縮部を通過するように前記供給部を制御する際、前記ヒータを非駆動状態に維持する、ガス検出システム。

（付記７）
付記５に記載のガス検出システムであって、
前記制御部は、前記サンプルガスが前記濃縮部を通過するように前記供給部を制御する際、前記吸着剤の温度が前記検出対象外のガスの脱離温度に維持されるように前記ヒータを制御する、ガス検出システム。

本開示に係る実施形態について説明する図は模式的なものである。図面上の寸法比率等は、現実のものとは必ずしも一致していない。

本開示に係る実施形態について、諸図面及び実施例に基づき説明してきたが、当業者であれば本開示に基づき種々の変形又は修正を行うことが容易であることに注意されたい。従って、これらの変形又は修正は本開示の範囲に含まれることに留意されたい。例えば、各構成部等に含まれる機能等は論理的に矛盾しないように再配置可能であり、複数の構成部等を１つに組み合わせたり、或いは、分割したりすることが可能である。

本開示において「第１」及び「第２」等の記載は、当該構成を区別するための識別子である。本開示における「第１」及び「第２」等の記載で区別された構成は、当該構成における番号を交換することができる。識別子の交換は同時に行われる。識別子の交換後も当該構成は区別される。識別子は削除してよい。識別子を削除した構成は、符号で区別される。本開示における「第１」及び「第２」等の識別子の記載のみに基づいて、当該構成の順序の解釈、小さい番号の識別子が存在することの根拠に利用してはならない。

１，１Ａ ガス検出システム
２ 便器
２Ａ 便器ボウル
２Ｂ 便座
３ 電子機器
３Ａ 表示部
４ ガス検出装置
５ サーバ装置
５Ａ 記憶部
５Ｂ 通信部
５Ｃ 制御部
６ ネットワーク
１０ 筐体
２０，２１ 流入路
２２，２３，２４ 排出路
３０，３１，３２，３３，３４，３５，３６，３７，３８，３９ 流路
４０，４１，４２，４３，４４ 弁
５０ 供給部
６０ 濃縮槽（濃縮部）
６１ 吸着剤
６２，６３ 支持部材
６４ ヒータ
７０ 貯留槽（貯留部）
７１ 吸着剤
７２，７３ 支持部材
８０ チャンバ
８１ センサ部
９０ 回路基板
９１ 記憶部
９２ 通信部
９３ センサ部
９４ 制御部
１０１，１０１Ａ ガス検出システム
１０２ 便器
１０２Ａ 便器ボウル
１０２Ｂ 便座
１０３ 電子機器
１０３Ａ 表示部
１０４ ガス検出装置
１０５ サーバ装置
１０５Ａ 記憶部
１０５Ｂ 通信部
１０５Ｃ 制御部
１０６ ネットワーク
１１０ 筐体
１２０，１２１ 流入路
１２２，１２３，１２４ 排出路
１３０，１３１，１３２，１３３，１３４，１３５，１３６，１３７，１３８，１３９ 流路
１４０，１４１，１４２，１４３，１４４ 弁
１５０ 供給部
１６０ 濃縮槽（濃縮部）
１６１ 吸着剤
１６１ａ 細孔
１６２，１６３ 支持部材
１６４ ヒータ
１７０ 貯留槽（貯留部）
１７１ 吸着剤
１７２，７３ 支持部材
１８０ チャンバ
１８１ センサ部
１９０ 回路基板
１９１ 記憶部
１９２ 通信部
１９３ センサ部
１９４ 制御部
２０１，２０２ ガス

Claims (15)

1. 特定のガスの濃度に応じた信号を出力するセンサ部と、
   検出対象のガスを吸着する吸着剤を内部に有する濃縮部と、
   サンプルガス及びパージガスを前記濃縮部に供給可能である供給部と、
   前記吸着剤を加熱可能なヒータと、
   前記サンプルガスが前記濃縮部を通過するように前記供給部を制御した後、前記吸着剤の温度が上昇するように前記ヒータを制御しつつ前記パージガスが前記濃縮部を通過するように前記供給部を制御する制御部と、を備え、
   前記制御部は、
   前記吸着剤の温度が前記検出対象のガスが前記吸着剤から離脱し始める温度に基づいて設定される温度に到達した時点であるか又は前記吸着剤の温度が前記検出対象のガスの脱離温度に到達した時点である第１時点から、該第１時点よりも後の第２時点まで、前記濃縮部への前記パージガスの通過を停止させ、前記第２時点以降、前記パージガスが前記濃縮部を通過して前記濃縮部内の前記検出対象のガスとともに前記センサ部に供給されるように制御する、ガス検出システム。
2. 請求項１に記載のガス検出システムであって、
   前記制御部は、前記サンプルガスが前記濃縮部を通過するように前記供給部を制御する際、第１時間、前記サンプルガスが前記濃縮部を通過するように制御する、ガス検出システム。
3. 請求項２に記載のガス検出システムであって、
   前記制御部は、前記吸着剤の温度が上昇するように前記ヒータを制御する際、前記吸着剤の温度が検出対象外のガスの脱離温度に到達すると、前記吸着剤の温度が前記検出対象外のガスの脱離温度に第２時間維持されるように前記ヒータを制御しつつ、前記パージガスが前記濃縮部を通過するように前記供給部を制御し、
   前記検出対象外のガスの脱離温度は、前記検出対象のガスの脱離温度よりも低い、ガス検出システム。
4. 請求項１から３までの何れか一項に記載のガス検出システムであって、
   前記第１時点は、前記吸着剤の温度が、前記検出対象のガスが前記吸着剤から脱離し始める温度に基づいて設定される温度に到達した時点であり、
   前記第２時点は、前記吸着剤の温度が前記検出対象のガスの脱離温度に到達してから第３時間が経過した時点である、ガス検出システム。
5. 請求項１から３までの何れか一項に記載のガス検出システムであって、
   前記第１時点は、前記吸着剤の温度が、前記検出対象のガスが前記吸着剤から脱離し始める温度に基づいて設定される温度に到達した時点であり、
   前記第２時点は、前記吸着剤の温度が前記検出対象のガスの脱離温度に到達した時点である、ガス検出システム。
6. 請求項１から３までの何れか一項に記載のガス検出システムであって、
   前記第１時点は、前記吸着剤の温度が、前記検出対象のガスの脱離温度に到達した時点であり、
   前記第２時点は、前記吸着剤の温度が前記検出対象のガスの脱離温度に到達してから第３時間が経過した時点である、ガス検出システム。
7. 請求項１から３までの何れか一項に記載のガス検出システムであって、
   前記第１時点は、前記吸着剤の温度が、検出対象外のガスの脱離温度を超えた時点であり、
   前記第２時点は、前記吸着剤の温度が前記検出対象のガスの脱離温度に到達してから第３時間が経過した時点である、ガス検出システム。
8. 請求項１から７までの何れか一項に記載のガス検出システムであって、
   前記制御部は、
   前記サンプルガスが前記濃縮部を通過するように前記供給部を制御する際、前記濃縮部内を通過する前記サンプルガスの流量が第１流量となるように制御し、
   前記第２時点から前記パージガスが前記濃縮部を通過するように制御する際、前記濃縮部内を通過する前記パージガスの流量が、前記第１流量よりも小さい第２流量となるよう制御し、前記パージガスが前記濃縮部を通過し始めてから第４時間が経過するまで、前記濃縮部を通過したパージガスを、前記センサ部に供給せずに排気し、前記第４時間が経過した後、前記パージガスが前記濃縮部を通過して前記濃縮部内の前記検出対象のガスとともに前記センサ部に供給されるように制御する、ガス検出システム。
9. 請求項１から７までの何れか一項に記載のガス検出システムであって、
   前記制御部は、
   前記サンプルガスが前記濃縮部を通過するように前記供給部を制御する際、前記濃縮部内を通過する前記サンプルガスの流量が第１流量となるように制御し、
   前記第２時点から前記パージガスが前記濃縮部を通過するように制御する際、前記濃縮部内を通過する前記パージガスの流量が、前記第１流量よりも大きい第３流量となるよう制御する、ガス検出システム。
10. 請求項１から９までの何れか一項に記載のガス検出システムであって、
    前記吸着剤は、細孔を有し、
    前記細孔の細孔径は、前記サンプルガスに含まれる検出対象のガスの有効分子径及び検出対象外のガスの有効分子径よりも大きく、
    前記検出対象のガスの有効分子径は、前記検出対象外のガスの有効分子径よりも大きい、ガス検出システム。
11. 請求項１０に記載のガス検出システムであって、
    前記細孔径は、前記検出対象のガスの有効分子径の２倍以下である、ガス検出システム。
12. 請求項１０又は１１に記載のガス検出システムであって、
    前記検出対象のガスは、メタン、水素、二酸化炭素、メチルメルカプタン、硫化水素、酢酸及びトリメチルアミンの少なくとも１つを含み、
    前記検出対象外のガスは、水及びアンモニアの少なくとも１つを含む、ガス検出システム。
13. 請求項１０から１２までの何れか一項に記載のガス検出システムであって、
    前記制御部は、前記濃縮部にて前記サンプルガスを濃縮する際、前記サンプルガスが前記濃縮部を通過するように前記供給部を制御した後、前記吸着剤の温度が前記検出対象のガスの脱離温度まで上昇するように前記ヒータを制御する、ガス検出システム。
14. 請求項１３に記載のガス検出システムであって、
    前記制御部は、前記サンプルガスが前記濃縮部を通過するように前記供給部を制御する際、前記ヒータを非駆動状態に維持する、ガス検出システム。
15. 請求項１３に記載のガス検出システムであって、
    前記制御部は、前記サンプルガスが前記濃縮部を通過するように前記供給部を制御する際、前記吸着剤の温度が前記検出対象外のガスの脱離温度に維持されるように前記ヒータを制御する、ガス検出システム。

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