JP7313460B2 - 高コントラスト撮像のための装置、装置の使用、及び方法 - Google Patents
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Description
a.ビームスプリッタに向けられた入射ビームを供給するステップであって、前記ビームスプリッタは前記ビームを探査ビームと基準ビームに分割し、前記探査ビームは物体に向けられる、ステップと、
b.前記探査ビームの物体との1度目の相互作用をさせるステップと、
c.物体の像をその物体上に結像するステップであって、好ましくは前記探査ビームの分散を防ぎながら、反射された探査ビームは前記物体と少なくとも2度相互作用する、ステップと、
d.最後の相互作用後に前記反射された探査ビームを前記ビームスプリッタに向けるステップと、
e.前記ビームを検出するステップと、
を含む。
f.前記探査ビームを結像システムによって集束させるステップと、
g.前記探査ビームを凹面鏡で反射し、反射された探査ビームを供給するステップと、
h.前記反射された探査ビームを結像システム及び物体に向けて戻すステップと
を更に含む。
i.干渉縞を再結合されたビームにより検出するステップ
を更に含む。
j.前記探査ビームを偏光ビームスプリッタに更に向けるステップと、
k.前記探査ビームをその偏光に従って分割するステップであって、前記探査ビームは物体に向けられる、ステップと、
l.4分の1波長板を2度透過させることで偏光を変えるステップと、
m.前記探査ビームを前記物体の第1自己結像システムに集束させ反射させるステップと、
n.前記偏光ビームスプリッタを透過するか又は反射されるステップと、
o.前記探査ビームを前記物体の第2自己結像システムに集束させ反射させるステップと、
p.前記偏光ビームスプリッタを透過するか又は反射されるステップと、
q.前記4分の1波長板を2度透過させることで偏光を変えるステップと、
r.前記探査ビームを前記物体の第1自己結像システムに集束させ反射させるステップと、
s.前記偏光ビームスプリッタによって反射されるか又は透過するステップと
を更に含む。
t.前記探査ビームを偏光ビームスプリッタに更に向けるステップと、
u.前記探査ビームをその偏光に従って分割するステップであって、前記探査ビームは物体に向けられる、ステップと、
v.ポッケルス・セルを透過させることで偏光を変えるステップと、
w.前記探査ビームを前記物体の第1自己結像システムに集束させ反射させるステップと、
x.前記偏光ビームスプリッタを透過するか又は反射されるステップと、
y.前記探査ビームを前記物体の第2自己結像システムに集束させ反射させるステップと、
z.前記偏光ビームスプリッタを透過するか又は反射されるステップと、
aa.前記ポッケルス・セルによって偏光を変えるステップと、
bb.前記探査ビームを前記物体の第1自己結像システムに集束させ反射させるステップと、
cc.前記偏光ビームスプリッタによって反射されるか又は透過するステップと
を更に含む。
2)物体により引き起こされた探査ビームの空間分解された位相シフト。単一の相互作用に対して位相シフトを増大させる、又は
3)空間分解された光学的異方性。複数回の相互作用により探査ビームの偏光への物体の影響を増加させる。
測定の感度(信号対ノイズ比)を増加させ、光学的に等方性の物体に特に有利である。
1’ 再結合ビーム
21 ビームスプリッタ
22 偏光ビームスプリッタ
3 第1部分ビーム(探査ビーム)
30 物体をその物体上に結像する手段(ビームの分散を防ぎながら)
31 反射された第1部分ビーム
4 結像システム(例えば、レンズ)
5 凹面反射器、例えば凹面鏡
6 物体(幾何光学的な)
6’ 物体(6)の像
7 第2部分ビーム(基準ビーム)
8 平面反射器、例えば平面鏡
9 物体平面を検出器上に結像するためのシステム、例えばレンズ
10 物体(6)の像(検出に適した)
11 検出器、例えば結像レンズ、波面センサー、又はビーム特性の空間マッピングを可能にする別の検出素子を有する領域アレイ検出器(例えば、CCDカメラ)
110 領域アレイ検出器(例えば、CCDカメラ)
12 ポッケルス・セル
λ/4 4分の1波長板
λ/2 半波長板
Claims (19)
- 高コントラスト撮像のための装置であって、
ビームを探査ビームと基準ビームに分割するためのビームスプリッタであって、前記探査ビームは物体に向けられる、ビームスプリッタと、
前記探査ビームを前記物体から受光し、前記物体をその物体上に結像する自己結像システムであって、
前記探査ビーム及び反射された探査ビームは前記物体と少なくとも2度相互作用し、
前記反射された探査ビームは最後の相互作用後に更に前記ビームスプリッタに向けられる、自己結像システムと、
前記反射された探査ビームを前記ビームスプリッタから受光する検出手段と
を備える装置。 - 前記自己結像システムは結像素子と、前記探査ビームを前記物体との1度目の相互作用から受光する凹面鏡とを備え、前記凹面鏡は前記探査ビームを反射し前記結像素子に戻し、前記反射された探査ビームを供給する、請求項1記載の装置。
- 前記ビームスプリッタは部分反射するミラー又は偏光ビームスプリッタ又は回折格子である、請求項1または2に記載の装置。
- 前記基準ビームは平面鏡によって反射されて前記ビームスプリッタに戻され、前記反射された探査ビームと再結合され、前記検出手段は干渉縞を検出する、請求項1から3のいずれか1項に記載の装置。
- 着目する前記物体は透明な物体である、請求項1から4のいずれか1項に記載の装置。
- 着目する前記物体は反射性の界面である、請求項1から4のいずれか1項に記載の装置。
- 前記ビームスプリッタと前記物体の間に配置された4分の1波長板(λ/4)を更に備える請求項1から6のいずれか1項に記載の装置。
- 前記ビームスプリッタと前記物体の間に配置された半波長板(λ/2)を更に備える請求項1から7のいずれか1項に記載の装置。
- 前記検出手段は、再結合ビームを検出器上に集束させるための結像システムを更に備える、請求項1から8のいずれか1項に記載の装置。
- 高コントラスト撮像のための装置であって、
請求項1に記載のビームスプリッタと、
前記ビームスプリッタから前記探査ビームを受光し前記探査ビームをその偏光に従って物体に向ける偏光ビームスプリッタであって、前記探査ビームは電磁放射ビームである、偏光ビームスプリッタと、
第1枝路と、
前記第1枝路から前記探査ビームを受光する第2枝路を含む第2自己結像システムと、
請求項1に記載の検出手段と
を備え、
前記第1枝路は、
前記物体から前記探査ビームを受光する4分の1波長板(λ/4)と、
前記4分の1波長板(λ/4)から前記探査ビームを受光し、前記探査ビームを反射して前記4分の1波長板(λ/4)に戻す第1自己結像システムと、
前記物体及び偏光ビームスプリッタと
を含む、装置。 - 基準ビームは平面鏡によって反射され前記ビームスプリッタに戻され、前記反射された探査ビームと再結合され、前記検出手段は干渉縞を検出する、請求項10記載の装置。
- 高コントラスト撮像のための装置であって、
請求項1に記載のビームスプリッタと、
前記ビームスプリッタから前記探査ビームを受光し前記探査ビームをその偏光に従って物体に向ける偏光ビームスプリッタであって、前記探査ビームは電磁放射ビームである、偏光ビームスプリッタと、
第1枝路と、
前記第1枝路から前記探査ビームを受光する第2枝路を含む第2自己結像システムと、
請求項1に記載の検出手段と
を備え、
前記ビームはパルスレーザー放射ビームであり、
前記第1枝路は、
前記偏光ビームスプリッタから前記探査ビームを受光し着目する物体からの前記探査ビームを透過させるポッケルス・セルと、
前記着目する物体から前記探査ビームを受光し、前記探査ビームを反射して前記ポッケルス・セルに戻す第1自己結像システムと、
前記物体及び前記偏光ビームスプリッタと
を含む、装置。 - 高コントラスト撮像のための方法であって、
a.ビームスプリッタに向けられた入射ビームを供給するステップであって、前記ビームスプリッタは前記入射ビームを探査ビームと基準ビームに分割し、前記探査ビームは物体に向けられる、ステップと、
b.前記探査ビームの物体との1度目の相互作用をさせるステップと、
c.物体の像をその物体上に結像するステップであって、反射された探査ビームは前記物体と少なくとも2度相互作用する、ステップと、
d.最後の相互作用後に前記反射された探査ビームを前記ビームスプリッタに向けるステップと、
e.前記反射された探査ビームを検出するステップと、
を含む方法。 - 前記ステップcは
f.前記探査ビームを結像システムによって集束させるステップと、
g.前記探査ビームを凹面鏡で反射し、反射された探査ビームを供給するステップと、
h.前記反射された探査ビームを結像システム及び物体に向けて戻すステップと
を更に含む、請求項13記載の方法。 - 前記探査ビームの物体との相互作用は透過又は反射であり、前記物体は前記探査ビームの振幅、位相、又は偏光に影響を及ぼす、請求項13または14に記載の方法。
- ステップbの前に前記探査ビームを円偏光にするステップを含む請求項13または14に記載の方法。
- ステップbの前に前記探査ビームの偏光ベクトルを回転させるステップを更に含む請求項13または14に記載の方法。
- 前記探査ビームは電磁放射ビームであり、次の順に
j.前記探査ビームを偏光ビームスプリッタに更に向けるステップと、
k.前記探査ビームをその偏光に従って分割するステップであって、前記探査ビームは物体に向けられる、ステップと、
l.4分の1波長板(λ/4)を2度透過させることで偏光を変えるステップと、
m.前記探査ビームを前記物体の第1自己結像システムに集束させ反射させるステップと、
n.前記偏光ビームスプリッタを透過するか又は反射されるステップと、
o.前記探査ビームを前記物体の第2自己結像システムに集束させ反射させるステップと、
p.前記偏光ビームスプリッタを透過するか又は反射されるステップと、
q.前記4分の1波長板(λ/4)を2度透過させることで偏光を変えるステップと、
r.前記探査ビームを前記物体の第1自己結像システムに集束させ反射させるステップと、
s.前記偏光ビームスプリッタによって反射されるか又は透過するステップと
を更に含む請求項15記載の方法。 - 前記探査ビームはパルスレーザー放射であり、次の順に
t.前記探査ビームを偏光ビームスプリッタに更に向けるステップと、
u.前記探査ビームをその偏光に従って分割するステップであって、前記探査ビームは物体に向けられる、ステップと、
v.ポッケルス・セルを透過させることで偏光を変えるステップと、
w.前記探査ビームを前記物体の第1自己結像システムに集束させ反射させるステップと、
x.前記偏光ビームスプリッタを透過するか又は反射されるステップと、
y.前記探査ビームを前記物体の第2自己結像システムに集束させ反射させるステップと、
z.前記偏光ビームスプリッタを透過するか又は反射されるステップと、
aa.前記ポッケルス・セルによって偏光を変えるステップと、
bb.前記探査ビームを前記物体の第1自己結像システムに集束させ反射させるステップと、
cc.前記偏光ビームスプリッタによって反射されるか又は透過するステップと
を更に含む請求項15記載の方法。
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