JP7311842B2 - GLASS SUBSTRATE FOR DISPLAY AND METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE FOR DISPLAY - Google Patents
GLASS SUBSTRATE FOR DISPLAY AND METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE FOR DISPLAY Download PDFInfo
- Publication number
- JP7311842B2 JP7311842B2 JP2020513208A JP2020513208A JP7311842B2 JP 7311842 B2 JP7311842 B2 JP 7311842B2 JP 2020513208 A JP2020513208 A JP 2020513208A JP 2020513208 A JP2020513208 A JP 2020513208A JP 7311842 B2 JP7311842 B2 JP 7311842B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass plate
- face
- glass
- end surface
- polishing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 185
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 50
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 91
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 43
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 5
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 47
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 30
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 26
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 24
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 23
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 22
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 14
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 13
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 10
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 6
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 5
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B49/00—Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation
- B24B49/12—Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation involving optical means
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B9/00—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
- B24B9/02—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground
- B24B9/06—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
- B24B9/08—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain of glass
- B24B9/10—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain of glass of plate glass
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/958—Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
- G01N23/2251—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
- G01N2021/8887—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges based on image processing techniques
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Description
本発明は、ガラス板、ガラス板の製造方法および端面検査方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a glass plate, a method for manufacturing a glass plate, and an end face inspection method.
周知のように、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ(FPD)は、高精細化が推進されている。これに伴い、FPD用の基板として用いられるガラス板には、FPDの製造工程にて緻密な電気回路が形成される。 As is well known, flat panel displays (FPDs) such as liquid crystal displays, plasma displays, and organic EL displays are being promoted to have higher definition. Along with this, a dense electric circuit is formed in the glass plate used as the substrate for the FPD in the manufacturing process of the FPD.
FPD用のガラス板の端面に対しては、砥石による研削加工、研磨加工等の端面加工を施すことが通例となっているが、加工後の端面(砥石による加工面)の表面にはクラックが存在する。このクラックは、算術平均粗さRa等の表面粗さで評価される場合がある。また、加工後の端面に存在するクラックは、FPDの製造工程での各種処理によって成長し、端面からガラス粉(パーティクル)を発生させる原因となり得る。そして、端面から発生したガラス粉は、電気回路の形成を阻害(例えば、電気回路の断線等)する要因となって、FPDの製造不良を引き起こしやすい。そのため、端面加工後のガラス板について、端面の性状を検査することにより、後工程で端面から発生し得るガラス粉の量を把握することが求められる。 The end face of the glass plate for FPD is usually subjected to end face processing such as grinding or polishing with a grindstone, but cracks occur on the surface of the end face after processing (surface processed by the grindstone). exist. This crack may be evaluated by surface roughness such as arithmetic mean roughness Ra. In addition, cracks existing on the end face after processing grow due to various treatments in the FPD manufacturing process, and can cause generation of glass powder (particles) from the end face. The glass powder generated from the end faces tends to hinder the formation of the electric circuit (for example, disconnection of the electric circuit, etc.) and cause manufacturing defects of the FPD. Therefore, it is required to inspect the properties of the end surface of the glass plate after processing the end surface to grasp the amount of glass powder that may be generated from the end surface in the subsequent process.
ここで、特許文献1には、ガラス板の端面から発生し得るガラス粉の量を把握するための手法が開示されている。同手法では、ガラス板の端面に対して樹脂チューブの先端を押し当てながらスライドさせる。これにより、ガラス板の端面に摩擦を加えながら端面に存在するガラス粉を擦り取る。そして、擦り取ったガラス粉を樹脂チューブの先端から吸引して、その数をカウンタで計数する。
Here,
しかしながら、特許文献1に開示された手法によっても、発生し得るガラス粉の量を的確に把握できず、端面の性状を正確に検査することは困難である。このような事情に鑑みなされた本発明は、端面加工後のガラス板について、端面の性状を正確に検査できる技術を確立すること、及び、後工程で端面から発生し得るガラス粉が可及的に抑制されたガラス板を提供することを技術的な課題とする。
However, even with the method disclosed in
本発明の発明者等は、鋭意研究の結果、後工程で端面から発生するガラス粉は、算術平均粗さRa等の表面粗さで評価されるクラックのみに起因して発生するのではなく、算術平均粗さRa等の表面粗さで評価されない微小クラックや、表面よりも内側の内部に存在する潜在クラックに起因しても発生することを見出した。そして、微小クラックや潜在クラックの影響を考慮して端面の性状、すなわち、後工程(例えばFPDの製造工程)で端面から発生するガラス粉の量を正確に評価するには、微小クラックや潜在クラックを成長させ、これに伴って端面の表面に形成された凹部の多寡を評価するのが有効であることを知見するに至った。ここで、「凹部」には、端面の表面に存在するクラックのみならず、ガラス粉の剥離により端面の表面に形成された窪みを含むものとする(以下、同じ)。 As a result of extensive research, the inventors of the present invention have found that the glass powder generated from the end surface in the post-process is not caused only by cracks evaluated by surface roughness such as arithmetic mean roughness Ra, It was found that microcracks not evaluated by surface roughness such as arithmetic mean roughness Ra and latent cracks existing inside the surface are also generated. In order to accurately evaluate the properties of the end face in consideration of the effects of microcracks and latent cracks, that is, the amount of glass powder generated from the end face in a subsequent process (for example, the manufacturing process of FPD), microcracks and latent cracks It was found that it is effective to grow the surface of the end face and to evaluate the number of concave portions formed on the surface of the end face. Here, the term "recess" includes not only cracks present on the surface of the end face but also depressions formed on the surface of the end face due to peeling of glass powder (the same shall apply hereinafter).
上記の知見に基づき、上記の課題を解決するために創案された本発明に係るガラス板の端面検査方法は、砥石による加工面でなる端面を有するガラス板について、端面の性状を検査する方法であって、端面を化学処理して端面上での凹部の形成を促進させる処理工程と、化学処理後の端面の画像を撮像する撮像工程と、画像を用い、端面の面積に対して凹部の面積が占める割合を算出する算出工程とを備えることに特徴付けられる。 Based on the above findings, the method for inspecting the end face of a glass plate according to the present invention, which was invented to solve the above problems, is a method for inspecting the properties of the end face of a glass plate having an end face formed by a grindstone. A treatment step of chemically treating the end face to promote formation of recesses on the end face, an imaging step of taking an image of the end face after the chemical treatment, and an image is used to determine the area of the recess with respect to the area of the end face. is characterized by comprising a calculation step of calculating the ratio occupied by
本検査方法では、処理工程で化学処理(例えば化学洗浄)を実行することにより、研削面または研磨面でなる端面(端面加工後の端面)について、算術平均粗さRa等の表面粗さで評価されない微小クラックや、端面の表面よりも内側の内部に存在する潜在クラックを成長させる。これに伴って端面に凹部が形成され、走査型電子顕微鏡等で評価可能な状態となる。また、ガラスの一部が剥離してガラス粉が発生することによっても、端面の表面に凹部が形成される。そして、撮像工程及び算出工程の実行により、端面の面積に対して凹部の面積が占める割合が算出され、端面の表面に形成された凹部の多寡、及び、これに基づく性状の良否を評価できる。以上のことから、本検査方法によれば、端面加工後のガラス板について、端面の性状を正確に検査することが可能となる。 In this inspection method, chemical treatment (for example, chemical cleaning) is performed in the treatment process, and the end face (end face after end face processing) made of a ground or polished surface is evaluated by surface roughness such as arithmetic mean roughness Ra. It grows microcracks that are not exposed and latent cracks that exist inside the surface of the end face. As a result, a concave portion is formed on the end face, and a state that can be evaluated with a scanning electron microscope or the like is obtained. In addition, recesses are also formed on the surface of the end surface by partly peeling off the glass and generating glass powder. Then, by performing the imaging step and the calculation step, the ratio of the area of the recesses to the area of the end face is calculated, and the amount of recesses formed on the surface of the end face and the quality of the properties based on this can be evaluated. As described above, according to this inspection method, it is possible to accurately inspect the properties of the end face of the glass plate after the end face processing.
上記の方法において、算出工程では、割合の算出前に、画像に対して二値化処理を施すことにより、凹部と、凹部以外の部分とを識別することが好ましい。 In the above method, in the calculation step, before calculating the ratio, it is preferable to discriminate between the concave portion and the portion other than the concave portion by performing a binarization process on the image.
このようにすれば、算出工程において、画像上にて凹部が占める面積の割合をより正確に算出しやすくなり、ひいては、端面の性状を正確かつ効率的に検査する上でより有利となる。 This makes it easier to more accurately calculate the ratio of the area occupied by the concave portion on the image in the calculation process, which is more advantageous in accurately and efficiently inspecting the properties of the end face.
上記の方法において、処理工程では、40℃~80℃の処理液を用いることが好ましい。 In the above method, it is preferable to use a treatment liquid at 40° C. to 80° C. in the treatment step.
このようにすれば、処理工程において、微小クラックや潜在クラックを効率よく成長させることができ、端面上での凹部の形成を効率よく促進させることが可能となる。 In this way, microcracks and latent cracks can be efficiently grown in the treatment process, and the formation of recesses on the end faces can be efficiently promoted.
また、上記の課題を解決するために創案された本発明に係るガラス板の製造方法は、砥石による加工面でなる端面を有するガラス板を同一条件の下で複数枚作製する作製工程と、複数枚のガラス板から検査用ガラス板を抜き取る抜取工程と、検査用ガラス板に対して上記の端面検査方法を実行する検査工程と、検査工程の結果に基づいて複数枚のガラス板における端面の性状を判定する判定工程とを備えることに特徴付けられる。 Further, a method for manufacturing a glass plate according to the present invention, which has been invented to solve the above problems, includes a manufacturing step of manufacturing a plurality of glass plates having an end surface formed by a grindstone-processed surface under the same conditions; A sampling step of extracting an inspection glass plate from a glass plate, an inspection step of performing the above end face inspection method on the inspection glass plate, and the properties of the end faces of the plurality of glass plates based on the results of the inspection step. It is characterized by comprising a determination step of determining
本製造方法では、作製工程の実行により、砥石による加工面でなる端面を有するガラス板が同一条件の下で複数枚作製される。そして、抜取工程の実行により、複数枚のガラス板から検査用ガラス板が抜き取られる。ここで、検査用ガラス板と、この検査用ガラス板を除く複数枚のガラス板との両者が、同一条件の下で作製されていることから、両者は実質的に同一のガラス板とみなすことができる。そのため、検査用ガラス板に対して実行した検査工程の結果、当該検査用ガラス板の端面の性状が良好であれば、判定工程を通じて、検査用ガラス板を除く複数枚のガラス板の各々を、端面の性状が良好なガラス板、すなわち、後工程で端面から発生し得るガラス粉が可及的に抑制されたガラス板として得ることが可能となる。 In this manufacturing method, a plurality of glass plates having end surfaces formed by grinding surfaces are manufactured under the same conditions by executing the manufacturing process. Then, the inspection glass plate is extracted from the plurality of glass plates by executing the extraction step. Here, both the glass plate for inspection and the plurality of glass plates excluding this glass plate for inspection are manufactured under the same conditions, so both are regarded as substantially the same glass plate. can be done. Therefore, as a result of the inspection process performed on the inspection glass plate, if the properties of the end face of the inspection glass plate are good, each of the plurality of glass plates excluding the inspection glass plate is subjected to the determination process. It is possible to obtain a glass plate having good end face properties, that is, a glass plate in which glass powder that may be generated from the end face in a post-process is suppressed as much as possible.
上記の製造方法において、作製工程では、動バランスが8g・mm以下である砥石を用いてガラス板を複数枚作製することが好ましい。 In the manufacturing method described above, in the manufacturing process, it is preferable to manufacture a plurality of glass plates using a grindstone having a dynamic balance of 8 g·mm or less.
このようにすれば、効率よく、端面の性状が良好なガラス板を得ることが可能となる。 In this way, it is possible to efficiently obtain a glass plate having good end face properties.
上記の製造方法において、作製工程では、ガラス板の端面に対して砥石を押し当てる力の大きさをF[N]、回転中の砥石の周速度をR[m/min]、ガラス板の端面に対して砥石を相対移動させる速度をV[m/min]としたとき、下記の[数1]式で表されるWの値を30以下にして研磨加工する工程を実行することが好ましい。
このようにすれば、端面の性状がさらに良好なガラス板を得ることが可能となる。 In this way, it is possible to obtain a glass plate with even better end face properties.
さらに、上記の課題を解決するために創案された本発明に係るガラス板は、研磨面でなる端面を有するガラス板であって、KOHを5質量%かつNaOHを5質量%含有する50℃のアルカリ溶液を用いて、端面を2時間化学処理して端面上での凹部の形成を促進させた後、走査型電子顕微鏡を用いて、倍率1000倍で観察した場合に、端面の面積に対して凹部の面積が占める割合が30%以下であることに特徴付けられる。 Further, a glass plate according to the present invention, which has been devised to solve the above problems, is a glass plate having a polished end face, and is a glass plate containing 5% by mass of KOH and 5% by mass of NaOH. After chemically treating the end face with an alkaline solution for 2 hours to promote the formation of recesses on the end face, when observed with a scanning electron microscope at a magnification of 1000 times, the area of the end face It is characterized in that the ratio of the area occupied by the concave portion is 30% or less.
このようなガラス板によれば、後工程で端面から発生し得るガラス粉を可及的に抑制することが可能となる。 According to such a glass plate, it is possible to suppress as much as possible glass powder that may be generated from the end surface in a post-process.
上記のガラス板において、上記の割合は7%以下であることが好ましい。 In the above glass plate, the above ratio is preferably 7% or less.
このようなガラス板によれば、後工程で端面から発生し得るガラス粉を更に抑制することができる。 According to such a glass plate, it is possible to further suppress glass powder that may be generated from the end surface in a post-process.
また、上記の課題を解決するために創案された本発明に係るガラス板の製造方法は、砥石によりガラス板の端面を研磨加工する工程を備えた方法であって、ガラス板の端面に対して砥石を押し当てる力の大きさをF[N]、回転中の砥石の周速度をR[m/min]、ガラス板の端面に対して砥石を相対移動させる速度をV[m/min]としたとき、上記の[数1]式で表されるWの値を30以下にして研磨加工する工程を実行することに特徴付けられる。 Further, a method for manufacturing a glass plate according to the present invention, which has been devised to solve the above-described problems, is a method comprising the step of polishing the end face of the glass plate with a whetstone, wherein the end face of the glass plate is F [N] is the force that presses the grindstone, R [m/min] is the peripheral speed of the rotating grindstone, and V [m/min] is the speed at which the grindstone moves relative to the end face of the glass plate. Then, the value of W represented by the above [Equation 1] is set to 30 or less, and the step of polishing is performed.
本製造方法によれば、後工程で端面から発生し得るガラス粉が可及的に抑制されたガラス板、詳しくは上記の割合が7%以下のガラス板を得ることが可能となる。 According to this production method, it is possible to obtain a glass plate in which glass powder that may be generated from the end surface in a post-process is suppressed as much as possible, specifically a glass plate in which the above ratio is 7% or less.
本発明によれば、端面加工後のガラス板について、端面の性状を正確に検査することが可能となる。また、後工程で端面から発生し得るガラス粉が可及的に抑制されたガラス板を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it becomes possible to test|inspect the property of the end face correctly about the glass plate after end face processing. In addition, it is possible to provide a glass plate in which glass powder that can be generated from the end surface in a post-process is suppressed as much as possible.
<第一実施形態>
以下、本発明の第一実施形態に係るガラス板、ガラス板の製造方法および端面検査方法について、添付の図面を参照しながら説明する。<First embodiment>
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A glass plate, a method for manufacturing a glass plate, and an end surface inspection method according to a first embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
本実施形態に係るガラス板の製造方法は、研磨面でなる端面Gaを有するガラス板Gを同一条件の下で複数枚作製する作製工程(図1)と、複数枚のガラス板Gから検査用ガラス板GXを抜き取る抜取工程(図2)と、検査用ガラス板GXに対して端面Gaの性状の検査を行う検査工程(図3~図6)と、検査工程の結果に基づいて複数枚のガラス板Gにおける端面Gaの性状を判定する判定工程とを含む。 The method for manufacturing a glass plate according to the present embodiment includes a manufacturing step ( FIG. 1 ) of manufacturing a plurality of glass plates G having end faces Ga made of polished surfaces under the same conditions (FIG. 1); A sampling process (FIG. 2) for extracting the glass plate GX, an inspection process (FIGS. 3 to 6) for inspecting the properties of the end surface Ga of the inspection glass plate GX, and a plurality of sheets based on the results of the inspection process. and a determination step of determining the properties of the end surface Ga of the glass plate G.
図1に示すように、作製工程では、ガラス板G一枚あたりの作製に、ガラス板Gの端面Gaを研削加工する研削砥石1と、研削加工後のガラス板Gの端面Gaを研磨加工する研磨砥石2とを用いる。本実施形態では、一つの端面Gaの加工に際し、研削砥石1と研磨砥石2とをそれぞれ一つずつ用いているが、両砥石1,2の少なくとも一方について複数を用いてもよい。なお、研削および研磨加工前のガラス板Gの端面Gaは、作製工程よりも前に実行済みの切断工程にて形成された切断端面である。
As shown in FIG. 1, in the production process, in the production of each glass plate G, the
研削砥石1および研磨砥石2は、図示省略の定盤の上に固定されたガラス板Gに対して、同期した状態でT方向に移動しつつX方向に平行な端面Gaの加工を行う。両砥石1,2の外周部(回転周部)には、端面Gaを加工するための溝(図示省略)が上下複数段に亘って形成されている。この複数段の溝の一つを端面Gaに押し当てることで端面Gaが加工される。また、両砥石1,2の回転方向は、Z方向から視て(平面視で)時計回りの場合もあるし、反時計回りの場合もある。ここで、両砥石1,2の動バランスは、いずれも8g・mm以下となっている(両砥石1,2の少なくとも一方を複数用いる場合についても同じ)。これにより、端面Gaに導入される微小クラック及び潜在クラックを低減でき、後述の端面の面積に対して凹部の面積が占める割合を30%以下にできる。なお、両砥石1,2のT方向への移動速度は任意に設定すればよい。
The
研削砥石1は、端面Gaの断面形状(X方向に直交する断面の形状)を形作るための砥石であり、Y方向における位置が固定された状態の下で端面Gaを加工していく。その際、端面が研削されると共に端面の稜線に面取りが施され、ラウンド状または平面状の面取り面が形成される。この研削砥石1による加工後の端面Gaは研削面となる。これに対し、研磨砥石2は、研削加工後の端面Gaに対して仕上げ加工を行うための砥石であり、端面Gaに対して一定の押圧力で押し当てられた状態の下で面取り面を含む端面Gaを加工していく。この研磨砥石2による加工後の端面Gaは研磨面となる。なお、研削砥石1は、端面Gaに対して一定の押圧力で押し当てられた状態の下で端面Gaを加工してもよい。
The
研削砥石1は、砥粒の結合材として金属結合材(メタルボンド)が採用されたメタルボンド砥石であることが好ましい。結合材として採用される金属は、鉄、銅、コバルト、ニッケル、タングステン等から選択される二種以上を混合したものが好ましく、特に鉄を含むものが好ましい。研削砥石1に結合される砥粒は、ダイヤモンド砥粒であることが好ましく、粒度は#300~600であることが好ましい。
The
研磨砥石2は、砥粒の結合材として樹脂結合材(レジンボンド)が採用されたレジンボンド砥石であることが好ましい。樹脂結合材としては、熱硬化性樹脂を採用することが好ましい。具体例としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂等を樹脂結合剤として採用することができる。研磨砥石2に結合される砥粒としては、ダイヤモンド粒子、酸化アルミニウム粒子、炭化珪素粒子、立方晶窒化硼素粒子、金属酸化物粒子、金属炭化物粒子、金属窒化物粒子等が使用できる。砥粒の粒度は、#100~3000であることが好ましく、#200~1000であることがより好ましい。
The polishing
X方向に平行な端面Gaの研削および研磨加工が完了したガラス板Gは、この時点でY方向に平行な端面Gaに対して研削および研磨加工を施すべく、その向きを平面視で90°転換させる。そして、向きの転換前にはY方向に平行であった端面Gaに対し、同様の態様の下、研削および研磨加工を施す。これにより、本実施形態においては、矩形のガラス板Gの四辺に対応する端面Gaの全てが研磨面となる。 At this point, the glass plate G whose end surface Ga parallel to the X direction has been ground and polished is turned 90° in plan view so that the end surface Ga parallel to the Y direction is ground and polished. Let Then, the end face Ga, which was parallel to the Y direction before the direction change, is ground and polished in the same manner. Thus, in the present embodiment, all of the end faces Ga corresponding to the four sides of the rectangular glass plate G are polished surfaces.
上記の両砥石1,2を用いて、定盤の上に順次に搬入されてくる複数枚のガラス板Gに対し、それぞれ研削および研磨加工を施すことで、研磨面でなる端面Gaを有するガラス板Gの複数枚が得られる。これにより、作製工程が完了する。複数枚のガラス板Gは、研削および研磨加工が完了するまでの全工程において、同一条件(例えば、同一の成形条件、同一の切断条件、同一の研削・研磨条件)の下で処理、或いは、加工がなされている。つまり、複数枚のガラス板Gは、実質的に相互に同一のガラス板となっている。
Using both the grinding
作製工程が完了すると抜取工程を実行する。図2に示すように、抜取工程では、複数枚のガラス板Gから無作為に抜き取ったガラス板Gを検査用ガラス板GXとする。なお、検査用ガラス板GXとして抜き取るガラス板Gの枚数は、一枚のみでもよいし、複数枚でもよい。本実施形態では、一枚のみを抜き取る場合を例示する。 When the manufacturing process is completed, the sampling process is performed. As shown in FIG. 2, in the sampling step, a glass plate G randomly extracted from a plurality of glass plates G is used as an inspection glass plate GX. The number of glass plates G extracted as the inspection glass plate GX may be one or more. In this embodiment, the case of extracting only one sheet will be exemplified.
抜取工程が完了すると検査工程を実行する。検査工程は、本実施形態に係るガラス板の端面検査方法により実行される。この検査工程には、後述する切出工程、処理工程、撮像工程、及び、算出工程が含まれる。 When the sampling process is completed, the inspection process is executed. The inspection process is performed by the glass plate end surface inspection method according to the present embodiment. This inspection process includes an extraction process, a processing process, an imaging process, and a calculation process, which will be described later.
検査工程(ガラス板の端面検査方法)では、まず、図3に示すように、検査用ガラス板GXにおける外周端部の一部を切り出してガラスサンプルGSとする切出工程を実行する。このガラスサンプルGSには、検査用ガラス板GXの端面Ga(研磨面)が含まれている。ガラスサンプルGSのサイズは、任意の大きさにすればよいが、本実施形態においては、平面視で15mm×10mmである。 In the inspection step (glass plate end face inspection method), first, as shown in FIG. 3, a cutting step is performed to cut out a portion of the outer peripheral edge of the inspection glass plate GX to form a glass sample GS. The glass sample GS includes the end surface Ga (polished surface) of the inspection glass plate GX. The size of the glass sample GS may be any size, but in this embodiment, it is 15 mm×10 mm in plan view.
切出工程が完了すると、次いで、図4a~図4cに概念的に示すように、ガラスサンプルGSの端面Ga(切出工程の前には検査用ガラス板GXの端面Gaであった面)を化学処理して端面Ga上での凹部GCの形成を促進させる処理工程を実行する。本実施形態では、化学処理の処理液として、アルカリ洗浄液Lを用いる。具体的には、図4aに示すガラスサンプルGSの端面Gaを、図4bに示すアルカリ洗浄液Lに浸して洗浄することで、算術平均粗さRa等の表面粗さで評価されない微小クラックが成長して粗大化し、走査型電子顕微鏡等で評価可能な凹部GCが形成される(図4c参照)。また、端面Gaよりも内側の内部に存在する潜在クラックが成長し、粗大化すると共に表面に露出することによっても、走査型電子顕微鏡等で評価可能な凹部GCが形成される。さらに、ガラスの一部が剥離してガラス粉が発生するのに伴い、端面Gaの表面に窪みが形成される。これによっても、走査型電子顕微鏡等で評価可能な凹部GCが形成される。 When the cutting process is completed, next, as conceptually shown in FIGS. 4a to 4c, the end surface Ga of the glass sample GS (the surface that was the end surface Ga of the inspection glass plate GX before the cutting process) is cut. A treatment step is performed to promote the formation of the recesses GC on the end surface Ga by chemical treatment. In this embodiment, an alkaline cleaning liquid L is used as a processing liquid for chemical treatment. Specifically, by immersing the end face Ga of the glass sample GS shown in FIG. 4a in the alkaline cleaning liquid L shown in FIG. , forming a recess GC that can be evaluated with a scanning electron microscope or the like (see FIG. 4c). In addition, recesses GC that can be evaluated with a scanning electron microscope or the like are also formed when latent cracks existing inside the end face Ga grow, become coarser, and are exposed on the surface. In addition, a recess is formed on the surface of the end surface Ga as part of the glass is peeled off to generate glass powder. This also forms a concave portion GC that can be evaluated with a scanning electron microscope or the like.
アルカリ洗浄液Lには、市販のガラス基板用アルカリ洗浄剤を用いることができる。処理液として酸洗浄液を用いてもよく、酸洗浄液には、市販のガラス基板用酸洗浄剤を用いることができる。これらの場合、ガラス基板用洗浄剤を希釈することなく、原液をアルカリ洗浄液Lとしてもよい。あるいは、ガラス基板用洗浄剤を水で希釈して用いてもよい。処理液には、洗浄液に限らず、凹部GCの形成を促進させる能力が洗浄液と同等の溶液を用いてもよい。これらの処理液(洗浄液)の温度は、20℃~90℃であることが好ましく、より好ましくは40℃~80℃である。また、ガラスサンプルGSの端面Gaを処理液に浸す時間(処理時間)は、15分~3時間であることが好ましく、より好ましくは1時間~2時間である。 As the alkaline cleaning liquid L, a commercially available alkaline cleaning agent for glass substrates can be used. An acid cleaning liquid may be used as the treatment liquid, and a commercially available acid cleaning agent for glass substrates can be used as the acid cleaning liquid. In these cases, the undiluted solution may be used as the alkaline cleaning solution L without diluting the glass substrate cleaning agent. Alternatively, the cleaning agent for glass substrates may be diluted with water and used. The processing liquid is not limited to the cleaning liquid, and a solution having the same ability as the cleaning liquid to promote the formation of the concave portions GC may be used. The temperature of these treatment liquids (washing liquids) is preferably 20°C to 90°C, more preferably 40°C to 80°C. The time (treatment time) for immersing the end face Ga of the glass sample GS in the treatment liquid is preferably 15 minutes to 3 hours, more preferably 1 hour to 2 hours.
アルカリ洗浄液Lといったアルカリ性の処理液を用いる場合、アルカリ成分としては、例えばKOHや(CH3)4NOH、NaOH等のうちの一種または二種以上を使用することができる。アルカリ成分の合計含有量は、0.05質量%~20質量%とすることができ、3質量%~15質量%とすることが好ましい。酸洗浄液といった酸性の処理液を用いる場合、酸成分としては、例えばHF、HCl、HNO3、H2SO4等のうちの一種または二種以上を使用することができ、HFを必須とすることが好ましい。本実施形態においては、アルカリ洗浄液Lのアルカリ成分として、KOHおよびNaOHを用い、その濃度がいずれも5質量%である。また、アルカリ洗浄液Lの温度が50℃であり、ガラスサンプルGSの端面Gaをアルカリ洗浄液Lに2時間浸している。When an alkaline processing liquid such as the alkaline cleaning liquid L is used, one or more of KOH, (CH 3 ) 4 NOH, NaOH and the like can be used as the alkaline component. The total content of alkaline components can be 0.05% to 20% by mass, preferably 3% to 15% by mass. When an acidic treatment liquid such as an acid cleaning liquid is used, one or more of HF, HCl, HNO 3 , H 2 SO 4 and the like can be used as the acid component, and HF is essential. is preferred. In the present embodiment, KOH and NaOH are used as the alkaline components of the alkaline cleaning liquid L, and their concentrations are both 5% by mass. Further, the temperature of the alkaline cleaning liquid L is 50° C., and the end surface Ga of the glass sample GS is immersed in the alkaline cleaning liquid L for 2 hours.
ここで、図4bは、ガラスサンプルGSの端面Gaをアルカリ洗浄液Lに浸す態様を概念的に示す図であり、詳細には、図5に示す態様の下、ガラスサンプルGSの端面Gaをアルカリ洗浄液Lに浸している。 Here, FIG. 4b is a diagram conceptually showing a manner in which the end surface Ga of the glass sample GS is immersed in the alkaline cleaning solution L. Specifically, under the condition shown in FIG. soaked in L.
図5に示すように、ガラスサンプルGSは、支持部材3により吊り下げ支持された状態で、その端面Gaが容器4(例えば、ビーカー等)内に収容されたアルカリ洗浄液Lに浸漬される。この際、端面Gaは容器4の内側面や底面に接触しないように位置させる。容器4は超音波伝達媒体としての水Wが貯留された熱浴槽5内に配置されており、水Wを介してアルカリ洗浄液Lに伝搬した超音波振動により、端面Gaが超音波洗浄される。熱浴槽5内の水Wは、アルカリ洗浄液Lの温度を調節するべく、その温度の管理が可能となっている。なお、超音波洗浄は、実施しなくてもよく、端面Gaに化学洗浄のみを施してもよい。
As shown in FIG. 5, the glass sample GS is immersed in an alkaline cleaning liquid L contained in a container 4 (for example, a beaker) while being suspended and supported by a
超音波洗浄を実施する場合、上記の洗浄時間内において超音波洗浄を行う時間は、1分~60分が好ましく、3分~30分がより好ましい。また、超音波洗浄時の水Wの温度は、15℃~80℃が好ましく、25℃~60℃がより好ましい。さらに、超音波洗浄の周波数は、10kHz~1000kHzが好ましく、20kHz~200kHzがより好ましい。 When ultrasonic cleaning is performed, the time for performing ultrasonic cleaning within the above cleaning time is preferably 1 minute to 60 minutes, more preferably 3 minutes to 30 minutes. The temperature of the water W during ultrasonic cleaning is preferably 15°C to 80°C, more preferably 25°C to 60°C. Furthermore, the frequency of ultrasonic cleaning is preferably 10 kHz to 1000 kHz, more preferably 20 kHz to 200 kHz.
上記の洗浄時間を経過したガラスサンプルGSは、アルカリ洗浄液Lから引き上げ、その端面Gaに付着したアルカリ洗浄液Lを洗浄して除去した後、水分がなくなるまで乾燥させる。これにより、処理工程が完了する。 After the above cleaning time has passed, the glass sample GS is pulled out of the alkaline cleaning solution L, washed to remove the alkaline cleaning solution L adhering to the end surface Ga thereof, and then dried until the water content disappears. This completes the process.
処理工程が完了すると、次いで、洗浄後の端面Gaの画像6を撮像する撮像工程を実行することにより、図6に示すような画像6を得る。この撮像工程では、顕微鏡を用いてガラスサンプルGSの端面Gaを拡大して撮像する。ここでいう「顕微鏡」には、光学顕微鏡、走査型電子顕微鏡、レーザー顕微鏡、X線CT、CCDカメラ等が含まれる。撮像の際の倍率は、100倍~10000倍とすることが好ましく、500倍~2000倍とすることがより好ましい。 After the treatment process is completed, an image 6 as shown in FIG. 6 is obtained by performing an imaging process of imaging an image 6 of the end face Ga after cleaning. In this imaging step, the end surface Ga of the glass sample GS is magnified and imaged using a microscope. The term "microscope" as used herein includes an optical microscope, a scanning electron microscope, a laser microscope, an X-ray CT, a CCD camera, and the like. Magnification for imaging is preferably 100 times to 10000 times, more preferably 500 times to 2000 times.
本実施形態では、走査型電子顕微鏡であるFEI社製のQuanta250FEGを用いて、倍率1000倍で且つ解像度173dpiの条件で洗浄後の端面Gaの画像6を撮像している。より詳細には、端面Gaを反射電子像で撮像した。また、輝度は90、コントラストは80に設定した。 In this embodiment, a scanning electron microscope, Quanta250FEG manufactured by FEI, is used to capture an image 6 of the end face Ga after cleaning under conditions of 1000 times magnification and 173 dpi resolution. More specifically, the backscattered electron image of the end face Ga was taken. Also, the brightness was set to 90 and the contrast was set to 80.
撮像工程が完了すると、次いで、画像6を用い、端面Gaの面積に対して凹部GCの面積が占める割合を算出する算出工程を実行する。この算出工程では、割合の算出前に、画像6に対して二値化処理を施すことにより、凹部GCと、凹部GC以外の部分とを識別する。 After the imaging process is completed, the image 6 is then used to perform a calculation process of calculating the ratio of the area of the recesses GC to the area of the end face Ga. In this calculation step, the image 6 is subjected to a binarization process before the ratio is calculated, thereby distinguishing between the concave portion GC and the portion other than the concave portion GC.
本実施形態では、図6に示す画像6に対して明度の閾値を100として二値化処理を施した。これに伴って、画像6上において凹部GCにあたる箇所が黒色となり、凹部GC以外にあたる箇所が白色となる。そして、画像6の画素数に対する二値化処理後の黒色の画素数の割合を算出し、その割合を端面Gaの面積に対して凹部GCの面積が占める割合とした。なお、上記の条件の下で算出した割合は、24.3%であった。画像解析ソフトには、Scion社製のScion Imageを使用した。これにより、算出工程が完了し、これをもって検査工程(ガラス板の端面検査方法)が完了する。 In this embodiment, the image 6 shown in FIG. Accordingly, the portion of the image 6 corresponding to the concave portion GC becomes black, and the portion corresponding to the portion other than the concave portion GC becomes white. Then, the ratio of the number of black pixels after the binarization processing to the number of pixels of the image 6 was calculated, and the ratio was defined as the ratio of the area of the concave portion GC to the area of the end surface Ga. The ratio calculated under the above conditions was 24.3%. Scion Image manufactured by Scion was used as image analysis software. Thereby, the calculation process is completed, and the inspection process (the end surface inspection method of the glass plate) is completed.
検査工程が完了すると、最後に、判定工程を実行する。本実施形態では、検査工程(算出工程)で算出された面積の割合が30%以下である場合に複数枚のガラス板Gを合格と判定し、面積の割合が30%を超える場合に複数枚のガラス板Gを不合格と判定した。ここで、上記のガラスサンプルGSの元となる検査用ガラス板GXと、当該検査用ガラス板GXを除く複数枚のガラス板Gとは、実質的に同一のガラス板である。このため、検査用ガラス板GXを用いて算出された面積の割合に基づき、複数枚のガラス板Gについて合否を判定できる。そして、合格と判定された場合には、複数枚のガラス板Gのそれぞれが、端面Gaから発生し得るガラス粉が可及的に抑制されたガラス板として出荷される。一方、不合格と判定された場合には、作製工程の研削および研磨加工の条件を調整する調整工程を実施してもよい。本実施形態であれば、調整工程で、研削砥石1および研磨砥石2の動バランスが8g・mm以下であるか確認し、8g・mmを上回る場合には、動バランスの調整や砥石の交換等を行えばよい。これにより、後続の複数枚のガラス板Gについて、上記面積の割合を30%以下にできる。
When the inspection process is completed, finally, the determination process is performed. In this embodiment, if the area ratio calculated in the inspection step (calculation step) is 30% or less, the plurality of glass plates G are judged to be acceptable, and if the area ratio exceeds 30%, the plurality of glass plates The glass plate G of was determined to be unacceptable. Here, the inspection glass plate GX, which is the base of the glass sample GS, and the plurality of glass plates G other than the inspection glass plate GX are substantially the same glass plate. Therefore, it is possible to determine pass/fail for a plurality of glass plates G based on the ratio of the area calculated using the inspection glass plate GX. Then, when it is judged as acceptable, each of the plurality of glass plates G is shipped as a glass plate in which glass powder that can be generated from the end surface Ga is suppressed as much as possible. On the other hand, if it is determined to be unsatisfactory, an adjustment process may be performed to adjust the grinding and polishing conditions in the manufacturing process. In this embodiment, in the adjustment process, it is confirmed whether the dynamic balance of the
このような本実施形態に係るガラス板の製造方法によれば、端面の面積に対して凹部の面積が占める割合が30%以下であるガラス板を得ることができる。このようなガラス板によれば、後工程で端面から発生し得るガラス粉を可及的に抑制することが可能となる。ガラス粉の発生をさらに抑制する観点から、上記割合は、25%以下であることが好ましく、20%以下であることがより好ましい。製造コストの増大を抑制する観点では、上記割合は、1%以上であることが好ましく、5%以上であることがより好ましく、10%以上であることが最も好ましい。 According to the method for manufacturing a glass plate according to this embodiment, it is possible to obtain a glass plate in which the ratio of the area of the concave portion to the area of the end face is 30% or less. According to such a glass plate, it is possible to suppress as much as possible glass powder that may be generated from the end surface in a post-process. From the viewpoint of further suppressing the generation of glass powder, the ratio is preferably 25% or less, more preferably 20% or less. From the viewpoint of suppressing an increase in manufacturing cost, the above ratio is preferably 1% or more, more preferably 5% or more, and most preferably 10% or more.
本発明のガラス板において、端面の面積に対して凹部の面積が占める割合は、KOHを5質量%かつNaOHを5質量%含有する50℃のアルカリ溶液を用いて、端面を2時間化学処理して端面上での凹部の形成を促進させた後、走査型電子顕微鏡を用いて倍率1000倍で観察することにより、測定するものとする。上記の化学処理では、超音波洗浄を実施しないものとする。また、上記の観察では、走査型電子顕微鏡としてFEI社製のQuanta250FEGを用い、端面を反射電子像で撮像し、撮像された画像に対して二値化処理を施すことにより、凹部と、凹部以外の部分とを識別するものとする。画像の撮像では、解像度173dpi、輝度90、コントラスト80に設定するものとする。二値化処理は、画像解析ソフトとしてScion社製のScion Imageを用い、閾値を明度100とするものとする。 In the glass plate of the present invention, the ratio of the area of the concave portion to the area of the edge surface is determined by chemically treating the edge surface for 2 hours using an alkaline solution containing 5% by mass of KOH and 5% by mass of NaOH at 50 ° C. After promoting the formation of recesses on the end face by using a scanning electron microscope, the measurement shall be made by observing at a magnification of 1000 times. Ultrasonic cleaning shall not be performed in the above chemical treatment. Further, in the above observation, a Quanta250FEG manufactured by FEI was used as a scanning electron microscope, and the end surface was imaged as a backscattered electron image. shall identify the part of Assume that the resolution is set to 173 dpi, the brightness is set to 90, and the contrast is set to 80 for image pickup. For the binarization processing, Scion Image manufactured by Scion Co. is used as image analysis software, and brightness is set to 100 as a threshold value.
端面の形状は、例えば、平面状の端面と、ラウンド状または平面状の面取り面とを有する形状とすることができる。この場合、走査型電子顕微鏡で平面状の端面を撮像するものとする。また、端面の形状は、平面がない、曲面(例えば半円柱面)のみからなる形状であってもよい。この場合、走査型電子顕微鏡で曲面の先端(頂部)を撮像するものとする。 The shape of the end face can be, for example, a shape having a planar end face and a round or planar chamfered surface. In this case, it is assumed that a scanning electron microscope is used to take an image of a planar end surface. Moreover, the shape of the end face may be a shape consisting only of a curved surface (for example, a semi-cylindrical surface) without a flat surface. In this case, the tip (top) of the curved surface is imaged with a scanning electron microscope.
<第二実施形態>
以下、本発明の第二実施形態に係るガラス板の製造方法について、添付の図面を参照しながら説明する。<Second embodiment>
Hereinafter, a method for manufacturing a glass plate according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
図7に示すように、第二実施形態に係るガラス板の製造方法は、上記の第一実施形態に係るガラス板の製造方法における作製工程と類似している。そのため、第二実施形態の説明において、上記の第一実施形態で説明済みの要素と実質的に同一の要素については、同一の符号を付すことで重複する説明を省略し、第一実施形態(作製工程)との相違点についてのみ説明する。 As shown in FIG. 7, the method for manufacturing a glass plate according to the second embodiment is similar to the manufacturing process in the method for manufacturing a glass plate according to the first embodiment. Therefore, in the description of the second embodiment, elements that are substantially the same as the elements already described in the first embodiment are given the same reference numerals to omit duplicate descriptions, and the first embodiment ( Only differences from the manufacturing process) will be described.
第二実施形態に係るガラス板の製造方法は、上述した端面Gaの面積に対して凹部GCの面積が占める割合(以下、クラック率と表記)が、7%以下となるガラス板Gを製造するための方法である。第二実施形態が上記の第一実施形態の作製工程と相違している点は、ガラス板Gの端面Gaを加工するに際して、研磨用の砥石を二つ用いている点である。すなわち、第二実施形態では、研削砥石1および研磨砥石2に加えて、両砥石1,2の相互間で端面Gaを研磨加工する研磨砥石7を用いる。これにより、ガラス板Gの端面Gaに対して、研削砥石1による研削加工、研磨砥石7による研磨加工(粗研磨)、研磨砥石2による研磨加工(仕上げ研磨)を順次に施していく。
The method for manufacturing a glass plate according to the second embodiment manufactures a glass plate G in which the ratio of the area of the concave portions GC to the area of the end surface Ga (hereinafter referred to as crack rate) is 7% or less. It is a method for The second embodiment differs from the manufacturing process of the first embodiment described above in that two grindstones are used for processing the end surface Ga of the glass plate G. FIG. That is, in the second embodiment, in addition to the
研削砥石1は、砥粒の結合材として金属結合材(メタルボンド)が採用されたメタルボンド砥石であることが好ましい。結合材として採用される金属は、銅、鉄、コバルト等であることが好ましい。研削砥石1に結合される砥粒は、ダイヤモンド砥粒であることが好ましく、粒度は#350~500であることが好ましい。なお、研削砥石1による研削加工後の端面Gaについて、その表面粗さRaは、例えば0.5μm~0.8μmとなる。
The
粗研磨に用いられる研磨砥石7は、砥粒の結合材として樹脂結合材(レジンボンド)が採用されたレジンボンド砥石であることが好ましい。結合材として採用される樹脂は、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂等であることが好ましい。研磨砥石7に結合される砥粒は、ダイヤモンド粒子であることが好ましく、粒度は#400~600であることが好ましい。なお、研磨砥石7による研磨加工後の端面Gaについて、その表面粗さRaは、例えば0.1μm~0.3μmとなる。
The polishing
仕上げ研磨に用いられる研磨砥石2は、砥粒の結合材として樹脂結合材(レジンボンド)が採用されたレジンボンド砥石であることが好ましい。結合材として採用される樹脂は、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂等であることが好ましい。研磨砥石2に結合される砥粒は、ダイヤモンド粒子又は炭化珪素粒子であることが好ましい。ダイヤモンド粒子を採用した場合の粒度は、#1000~1500であることが好ましく、炭化珪素粒子を採用した場合の粒度は、#400~800であることが好ましい。なお、研磨砥石2による研磨加工後の端面Gaについて、その表面粗さRaは、例えば0.06μm~0.09μmとなる。
The polishing
本実施形態では、研磨砥石2による端面Gaの研磨加工を行うに際し、端面Gaに対して研磨砥石2を押し当てる力の大きさ(Y方向に沿った力の大きさ)をF[N]、回転中の研磨砥石2の周速度をR[m/min]、端面Gaに対して研磨砥石2を相対移動させる速度(X方向に沿った速度)をV[m/min]としたとき、下記の[数2]式(前記[数1]式)で表されるWの値を30以下となるように調節する。このようにすることで、上記のクラック率が7%以下となるガラス板Gの製造が可能となる。なお、端面Ga上の微小クラックおよび端面Gaよりも内側の内部に存在する潜在クラックを確実に除去する観点から、Wの値は1以上とすることが好ましい。
In the present embodiment, when polishing the end face Ga with the
上記のFの値は、10N~70Nの範囲内で調節することが好ましい。また、上記のRの値は、500m/min~5000m/minの範囲内で調節することが好ましい。さらに、上記のVの値は、0.5m/min~50m/minの範囲内で調節することが好ましい。 The above value of F is preferably adjusted within the range of 10N to 70N. Moreover, it is preferable to adjust the value of R in the range of 500 m/min to 5000 m/min. Furthermore, the value of V is preferably adjusted within the range of 0.5 m/min to 50 m/min.
本発明による効果を検証するため、上記の第二実施形態と同様の態様により製造したガラス板Gについて、上記の[数2]式([数1]式)で表されるWの値と、上記のクラック率との関係を調査した。 In order to verify the effect of the present invention, regarding the glass plate G manufactured in the same manner as in the second embodiment, the value of W represented by the above [Formula 2] formula ([Formula 1] formula), The relationship with the above crack rate was investigated.
ガラス板Gは、上記のF,R,Vの値をそれぞれ変更しながら、合計26の条件の下で製造した。詳細には、Wの値が30以下となる17条件、及び、Wの値が30を超える9条件のそれぞれの下でガラス板Gを製造した。そして、各条件の下で製造したガラス板Gに対し、上記の第一実施形態の検査工程と同様の態様によりクラック率の値を割り出した。 The glass plate G was manufactured under a total of 26 conditions while changing the values of F, R and V above. Specifically, the glass plate G was manufactured under each of 17 conditions under which the value of W was 30 or less and 9 conditions under which the value of W was over 30. Then, the value of the crack rate was calculated for the glass plate G manufactured under each condition in the same manner as the inspection process of the first embodiment.
本検証から明らかになった、Wの値とクラック率との関係を図8に示す。同図に示すように、Wの値が30以下となる17条件で製造したガラス板Gについては、いずれもクラック率が7%以下となっていることが分かる。一方、Wの値が30を超える9条件で製造したガラス板Gについては、クラック率が7%を超えるものが大半であった。 FIG. 8 shows the relationship between the value of W and the crack rate clarified from this verification. As shown in the figure, the glass sheets G manufactured under 17 conditions in which the value of W is 30 or less have a crack rate of 7% or less. On the other hand, most of the glass sheets G manufactured under the nine conditions in which the value of W exceeds 30 had a crack rate of more than 7%.
以上のことから、上記の第二実施形態と同様の態様でガラス板Gを製造すれば、クラック率が7%以下となるガラス板G(後工程で端面Gaから発生し得るガラス粉が可及的に抑制されたガラス板G)を好適に製造できることが分かる。 From the above, if the glass plate G is manufactured in the same manner as in the second embodiment, the glass plate G having a crack rate of 7% or less (glass powder that can be generated from the end surface Ga in a later process can be used as much as possible. It can be seen that it is possible to suitably produce a glass sheet G) which is effectively suppressed.
ここで、本発明に係るガラス板の製造方法および端面検査方法は、上記の実施形態で説明した構成や態様に限定されるものではない。上記の第一実施形態では、研磨面でなる端面の性状を検査する態様となっているが、研削面でなる端面の性状を検査する態様としてもよい。 Here, the method for manufacturing a glass plate and the method for inspecting an end face according to the present invention are not limited to the configurations and modes described in the above embodiments. In the above-described first embodiment, the properties of the end face formed by the polished surface are inspected, but the properties of the end face formed by the ground surface may be inspected.
また、端面の複数箇所について画像を撮像してもよい。例えば、平面状の端面と、ラウンド状または平面状の面取り面とを有する場合、平面状の端面と、端面を挟む両方の面取り面とについて画像を撮像し、それぞれの画像について、凹部の面積が占める割合を算出してもよい。端面の複数箇所について画像を撮像する場合、判定工程には、複数箇所の上記割合から平均値を算出して用いてもよい。あるいは、判定工程には、複数箇所の上記割合のうちで最大値を用いてもよい。 Also, images may be captured at a plurality of locations on the end surface. For example, in the case of having a planar end surface and a round or planar chamfered surface, images are taken of the planar end surface and both chamfered surfaces sandwiching the end surface, and the area of the recess is determined for each image. You may calculate the ratio which occupies. When images are taken at a plurality of locations on the end face, an average value may be calculated from the ratios at the plurality of locations and used in the determination step. Alternatively, the determination step may use the maximum value among the above ratios at a plurality of locations.
また、上記の第二実施形態では、研磨用の砥石を二つ用いているが、これに限定されるものではない。研磨用の砥石は一つのみを用いてもよいし、三つ以上を用いてもよい。いずれの形態を採用する場合であっても、Wの値を30以下に調節される研磨砥石がガラス板の端面を加工する直前の時点において、ガラス板の端面の表面粗さRaを0.1μm~0.3μmの範囲内としておくことが好ましい。 Also, in the second embodiment described above, two whetstones for polishing are used, but the present invention is not limited to this. Only one whetstone may be used for polishing, or three or more may be used. In either case, the surface roughness Ra of the end face of the glass plate is reduced to 0.1 μm immediately before the end face of the glass plate is processed by the polishing grindstone whose W value is adjusted to 30 or less. It is preferable to keep the thickness within the range of up to 0.3 μm.
F 砥石を押し当てる力の大きさ
G ガラス板
Ga 端面
GC 凹部
GX 検査用ガラス板
L アルカリ洗浄液
R 砥石の周速度
V ガラス板の端面に対する砥石の相対移動速度
2 研磨砥石
6 画像G Glass plate Ga End surface GC Recess GX Glass plate for inspection L Alkaline cleaning solution R Peripheral speed of grindstone V Speed of relative movement of grindstone to the end surface of the
Claims (3)
KOHを5質量%かつNaOHを5質量%含有する50℃のアルカリ溶液を用いて、前記端面を2時間化学処理して該端面上での複数の凹部の形成を促進させた後、走査型電子顕微鏡を用いて、倍率1000倍で観察した場合に、前記端面の面積に対して前記複数の凹部の面積が占める割合が1%以上30%以下であることを特徴とするディスプレイ用ガラス基板。 A display glass substrate having an end face made of a polished surface,
Using an alkaline solution containing 5% by mass of KOH and 5% by mass of NaOH at 50° C., the end face was chemically treated for 2 hours to promote the formation of a plurality of recesses on the end face. A glass substrate for a display, wherein the ratio of the area of the plurality of concave portions to the area of the end face is 1% or more and 30% or less when observed with a microscope at a magnification of 1000 times.
前記ガラス板の端面に対して前記砥石を押し当てる力の大きさをF[N]、回転中の前記砥石の周速度をR[m/min]、前記ガラス板の端面に対して前記砥石を相対移動させる速度をV[m/min]としたとき、下記の[数1]式で表されるWの値を30以下にして前記研磨加工する工程を実行することを特徴とするディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
F [N] is the force of pressing the grindstone against the end surface of the glass plate, R [m/min] is the peripheral speed of the grindstone during rotation, and the grindstone is pressed against the end surface of the glass plate. A display glass characterized in that the polishing step is performed with the value of W represented by the following formula [Equation 1 ] set to 30 or less, where V [m/min] is the speed of relative movement. Substrate manufacturing method.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018075306 | 2018-04-10 | ||
JP2018075306 | 2018-04-10 | ||
PCT/JP2019/014512 WO2019198558A1 (en) | 2018-04-10 | 2019-04-01 | Glass plate, and glass plate manufacturing method and end surface inspection method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2019198558A1 JPWO2019198558A1 (en) | 2021-05-13 |
JP7311842B2 true JP7311842B2 (en) | 2023-07-20 |
Family
ID=68163637
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020513208A Active JP7311842B2 (en) | 2018-04-10 | 2019-04-01 | GLASS SUBSTRATE FOR DISPLAY AND METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE FOR DISPLAY |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7311842B2 (en) |
KR (1) | KR20200139663A (en) |
CN (1) | CN111465842A (en) |
TW (1) | TWI803612B (en) |
WO (1) | WO2019198558A1 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114088729B (en) * | 2022-01-21 | 2022-04-12 | 潍坊佳昇光电科技有限公司 | Device and method for detecting quality of glass end face of carrier plate |
CN116394161B (en) * | 2023-06-05 | 2023-08-11 | 深圳市鑫冠亚科技有限公司 | Electrode production management method and system based on data analysis |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004082226A (en) | 2002-08-22 | 2004-03-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Method of determining grinding conditions for glass sheet end face and ways of working glass sheet end face |
JP2006030067A (en) | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Asahi Glass Co Ltd | Method and device for inspecting defect of glass plate |
JP2015187042A (en) | 2012-08-13 | 2015-10-29 | 旭硝子株式会社 | Glass substrate and method for manufacturing glass substrate |
JP2017100933A (en) | 2015-11-20 | 2017-06-08 | 旭硝子株式会社 | Glass substrate and glass plate packaging body |
CN107843604A (en) | 2017-12-19 | 2018-03-27 | 苏州精濑光电有限公司 | A kind of device and detection method for being used to detect double layer substrate edge defect |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU1057864A1 (en) * | 1982-07-21 | 1983-11-30 | Предприятие П/Я А-7840 | Glass surface quality evaluation method |
JPH02151749A (en) * | 1988-12-05 | 1990-06-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Analysis of very small part |
JP2009300313A (en) * | 2008-06-16 | 2009-12-24 | Asahi Glass Co Ltd | Inspection method for glass substrate, glass substrate inspected by the same method, inspection device for glass substrate, and manufacturing method for glass substrate |
JP5064461B2 (en) | 2009-03-04 | 2012-10-31 | AvanStrate株式会社 | Particle measuring method and measuring apparatus for glass plate end face |
JP5708169B2 (en) * | 2011-04-07 | 2015-04-30 | 旭硝子株式会社 | Optical glass latent scratch evaluation method and latent scratch evaluation apparatus |
TWI840888B (en) * | 2011-08-29 | 2024-05-01 | 美商安美基公司 | Methods and apparati for nondestructive detection of undissolved particles in a fluid |
JP6671639B2 (en) * | 2015-09-29 | 2020-03-25 | Agc株式会社 | Glass interleaving paper, glass plate laminate, and glass plate package |
-
2019
- 2019-04-01 CN CN201980006349.7A patent/CN111465842A/en active Pending
- 2019-04-01 KR KR1020207018843A patent/KR20200139663A/en not_active Application Discontinuation
- 2019-04-01 JP JP2020513208A patent/JP7311842B2/en active Active
- 2019-04-01 WO PCT/JP2019/014512 patent/WO2019198558A1/en active Application Filing
- 2019-04-03 TW TW108111789A patent/TWI803612B/en active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004082226A (en) | 2002-08-22 | 2004-03-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Method of determining grinding conditions for glass sheet end face and ways of working glass sheet end face |
JP2006030067A (en) | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Asahi Glass Co Ltd | Method and device for inspecting defect of glass plate |
JP2015187042A (en) | 2012-08-13 | 2015-10-29 | 旭硝子株式会社 | Glass substrate and method for manufacturing glass substrate |
JP2017100933A (en) | 2015-11-20 | 2017-06-08 | 旭硝子株式会社 | Glass substrate and glass plate packaging body |
CN107843604A (en) | 2017-12-19 | 2018-03-27 | 苏州精濑光电有限公司 | A kind of device and detection method for being used to detect double layer substrate edge defect |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200139663A (en) | 2020-12-14 |
WO2019198558A1 (en) | 2019-10-17 |
JPWO2019198558A1 (en) | 2021-05-13 |
CN111465842A (en) | 2020-07-28 |
TWI803612B (en) | 2023-06-01 |
TW201944060A (en) | 2019-11-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6550173B2 (en) | Glass edge finishing method | |
US6406923B1 (en) | Process for reclaiming wafer substrates | |
US9881783B2 (en) | Method for processing semiconductor wafer | |
JP7311842B2 (en) | GLASS SUBSTRATE FOR DISPLAY AND METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE FOR DISPLAY | |
US20160136776A1 (en) | Method of planarizing a wafer | |
JP5469840B2 (en) | Method for manufacturing silicon carbide single crystal substrate | |
JP6327329B1 (en) | Silicon wafer polishing method and silicon wafer manufacturing method | |
CN103158060A (en) | Grinding brush, grinding method of end surface of glass substrate, production method of glass substrate | |
TW201901779A (en) | GaAs substrate and production method therefor | |
JP6955537B2 (en) | How to process semiconductor wafers with polycrystalline finish | |
JP2015187042A (en) | Glass substrate and method for manufacturing glass substrate | |
WO2023026948A1 (en) | SURFACE PROCESSING METHOD FOR GaN SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD FOR GaN SUBSTRATE | |
JP5327275B2 (en) | End polishing brush and method for manufacturing glass substrate for magnetic recording medium | |
JP5585269B2 (en) | Method for manufacturing glass substrate for magnetic recording medium | |
JP5906823B2 (en) | Method for manufacturing glass substrate for magnetic recording medium | |
JP3575349B2 (en) | Cleaning solution and cleaning method for aluminosilicate glass substrate | |
JP5152357B2 (en) | Method for manufacturing glass substrate for magnetic recording medium | |
JP6727170B2 (en) | Substrate for photomask | |
KR101303183B1 (en) | 3-d microstructure observation method of aluminum matrix composite | |
JP4075426B2 (en) | Silicon wafer manufacturing method | |
JP2015066657A (en) | Manufacturing method for glass substrate | |
JP6131749B2 (en) | Method for polishing glass substrate for magnetic recording medium, method for manufacturing glass substrate for magnetic recording medium | |
JP5700015B2 (en) | Glass substrate for magnetic recording media | |
CN111152072B (en) | Method for polishing semiconductor sample | |
TW202336847A (en) | Method for evaluating silicon wafer and method for removing process-affected layer of silicon wafer |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211109 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220927 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20221110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230111 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20230404 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230510 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20230518 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230607 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230620 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7311842 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |