JP7311312B2 - Base film for dicing sheet - Google Patents
Base film for dicing sheet Download PDFInfo
- Publication number
- JP7311312B2 JP7311312B2 JP2019093370A JP2019093370A JP7311312B2 JP 7311312 B2 JP7311312 B2 JP 7311312B2 JP 2019093370 A JP2019093370 A JP 2019093370A JP 2019093370 A JP2019093370 A JP 2019093370A JP 7311312 B2 JP7311312 B2 JP 7311312B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- base film
- dicing
- dicing sheet
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Dicing (AREA)
Description
本発明は、半導体ウェハをチップ状にダイシングする際に、半導体ウェハを固定するために使用される、ダイシングシート用基材フィルムに関する。 The present invention relates to a base film for a dicing sheet, which is used for fixing a semiconductor wafer when the semiconductor wafer is diced into chips.
半導体チップを製造する方法として、円柱状の単結晶シリコンインゴットをワイヤーソー等でスライスし、エッチング、研磨の後、製造された12インチ、8インチ径程度の半導体ウェハをチップ状にダイシング(切断分離)し、ダイシングされたチップがエキスパンド工程に移されピックアップされる方法は知られている。 As a method for manufacturing semiconductor chips, a cylindrical single-crystal silicon ingot is sliced with a wire saw or the like, etched and polished, and then the manufactured semiconductor wafers with a diameter of about 12 inches and 8 inches are diced into chips. ) and how the diced chips are transferred to the expanding process and picked up.
前記半導体ウェハのダイシング工程で半導体ウェハを固定するために用いられるのがダイシングシートである。 A dicing sheet is used to fix the semiconductor wafer in the semiconductor wafer dicing process.
ダイシングシートは当該半導体ウェハを固定するための粘着層とそれを支える支持体としての樹脂層からなるが、その樹脂層として用いられるのがダイシングシート用基材フィルムであり、一般的には前記ダイシングシート用基材フィルムを製造後、後工程で粘着層が加工され、ロール状に巻き取り後、ダイシングシートとして保管、運搬されダイシングメーカーにてロール状から繰り出され使用される。 A dicing sheet consists of an adhesive layer for fixing the semiconductor wafer and a resin layer as a support for supporting it. A base film for the dicing sheet is used as the resin layer. After manufacturing the sheet base film, the adhesive layer is processed in a post-process, wound into a roll, stored and transported as a dicing sheet, and unrolled from the roll by a dicing maker for use.
半導体チップ製造における、ダイシング工程では半導体ウェハとともに粘着剤層及び支持体であるダイシングシート用基材フィルムも一部切断される(一般的にはハーフカットと表現される)。その際にダイシングブレードによる衝撃や摩擦による熱でダイシングシート用基材フィルム由来の切削屑(ダイシング後にフィルムから発生する糸状又はヒゲ状の屑、バリ、ヒゲとも表現される)が発生する。この切削屑はウェハを汚染しチップの収率の低下を引き起こす可能性がある。 In the dicing process in the manufacture of semiconductor chips, the pressure-sensitive adhesive layer and the base film for a dicing sheet, which is a support, are partly cut (generally referred to as half-cutting) together with the semiconductor wafer. At that time, cutting waste derived from the base film for the dicing sheet (also referred to as thread-like or whisker-like waste, burrs, and whiskers generated from the film after dicing) is generated by the heat due to the impact and friction of the dicing blade. This debris can contaminate the wafer and cause a decrease in chip yield.
また、この切削屑が半導体チップのピックアップ時、センサー等機器の誤動作を引き起こすことで生産性の低下を引き起こすことを考慮すると、この切削屑が極力少ないという特性が要求される。 Considering that this cutting waste causes malfunction of devices such as sensors when picking up the semiconductor chip and causes a decrease in productivity, it is required that the cutting waste be as small as possible.
さらにダイシングシートは、通常ロール状に巻いて製造、保管、運搬等される。そのため、フィルム同士のブロッキングが生じると品質の低下等が生じてしまう。つまり、ダイシングシートとして優れた品質を有していても、かかるブロッキングによる課題が生じることがあった。 Furthermore, the dicing sheet is usually rolled into a roll for production, storage, transportation, and the like. Therefore, if blocking occurs between the films, the quality will be deteriorated. In other words, even if the dicing sheet has excellent quality, problems due to such blocking may occur.
そこでダイシング工程、ピックアップ工程およびロール状物の保管、運搬等における様々な不具合をなくすことを主な目的として、次のようなダイシングシートが報告されている。 Therefore, the following dicing sheets have been reported with the main purpose of eliminating various problems in the dicing process, the pick-up process, and the storage and transportation of roll-shaped materials.
特許文献1には、ダイシング工程時の切削屑を減らす手法として、ポリプロピレン系樹脂とオレフィン系熱可塑性エラストマーからなるダイシング用基体フィルム及びダイシングフィルムが提案されている。 Patent Literature 1 proposes a dicing base film and a dicing film made of a polypropylene resin and an olefin thermoplastic elastomer as a technique for reducing shavings during the dicing process.
特許文献2においては、ダイシング工程時の切削屑を減らす手法として、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体およびポリプロピレン系樹脂を含む層を設けたダイシング用基体フィルムが提案されている。 Patent Document 2 proposes a dicing substrate film provided with a layer containing a copolymer of a vinyl aromatic hydrocarbon and a conjugated diene hydrocarbon and a polypropylene-based resin as a technique for reducing cutting debris during the dicing process. there is
特許文献3には、多層構成でのダイシング用基体フィルムにおいて、第1層としてスチレン・ブタジエン共重合体(SEBS)30~80重量%とポリプロピレン系樹脂(PP)20~70重量%とからなる樹脂組成物100重量部及びオレフィン系熱可塑性エラストマー(TPO)10~100重量部を含み、第2層としてゴム弾性を有する熱可塑性樹脂を含み、上記第1層及び第2層を積層してなる2層ダイシング用基体フィルムが記載されている。 In Patent Document 3, in a substrate film for dicing having a multilayer structure, a resin composed of 30 to 80% by weight of a styrene-butadiene copolymer (SEBS) and 20 to 70% by weight of a polypropylene resin (PP) is used as the first layer. A composition comprising 100 parts by weight of a composition and 10 to 100 parts by weight of a thermoplastic olefinic elastomer (TPO), a thermoplastic resin having rubber elasticity as a second layer, and a laminate of the first layer and the second layer 2 A substrate film for layer dicing is described.
特許文献4には、少なくとも2層からなる基材フィルムにおいて、粘着剤層側の層の樹脂としてポリプロピレンが、粘着剤層側の樹脂層以外の層としてスチレン・ブタジエン共重合体の水素添加物を用いることが記載されている。 In Patent Document 4, in a base film consisting of at least two layers, polypropylene is used as a resin for the layer on the adhesive layer side, and hydrogenated styrene-butadiene copolymer is used for layers other than the resin layer on the adhesive layer side. It is stated to use
しかしながら、特許文献1に記載のダイシングシート用基材フィルムは、主要成分であるポリプロピレン系樹脂ではダイシングシート自身の柔軟性が損なわれ引張弾性率が高くなり過ぎ、充分なエキスパンド性が得られず破断しやすい問題がある。 However, in the base film for a dicing sheet described in Patent Document 1, the flexibility of the dicing sheet itself is impaired by the polypropylene-based resin, which is the main component, and the tensile elastic modulus becomes too high, and sufficient expandability cannot be obtained, resulting in breakage. I have an easy problem.
また、特許文献2および特許文献3に記載のダイシングシート用基材フィルムは、基材の両面でブロッキングが発生し、その後の粘着剤加工等の加工性が悪化するという問題がある。 In addition, the base films for dicing sheets described in Patent Documents 2 and 3 have the problem that blocking occurs on both sides of the base material, degrading processability such as subsequent pressure-sensitive adhesive processing.
また、特許文献4に記載のダイシングシート用基材フィルムにおいては、ポリプロピレンでは十分な切削屑改善効果が得られない問題がある。 Moreover, in the base film for a dicing sheet described in Patent Document 4, there is a problem that a sufficient effect of reducing shavings cannot be obtained with polypropylene.
本発明は、半導体ウェハのダイシング工程における切削屑の発生が抑制され、さらに破断強度とブロッキング防止性に優れたダイシングシート用基材フィルムを提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a base film for a dicing sheet that suppresses the generation of shavings in the dicing process of a semiconductor wafer and has excellent breaking strength and anti-blocking properties.
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。 The above objects of the present invention have been basically achieved by the following inventions.
少なくともA層、B層、C層を有する積層フィルムであって、A層は十点平均粗さRzが1.5~15.0μmであり、B層は低密度ポリエチレンを含み、該低密度ポリエチレンの含有量が50重量%~100重量%であり、C層はオレフィン系熱可塑性エラストマーからなることを特徴とするダイシングシート用基材フィルムである。 A laminated film having at least an A layer, a B layer, and a C layer, wherein the A layer has a ten-point average roughness Rz of 1.5 to 15.0 μm, and the B layer contains low-density polyethylene, the low-density polyethylene is 50% to 100% by weight, and the layer C is made of an olefinic thermoplastic elastomer.
本発明のダイシングシート用基材フィルムは、ダイシング工程における切削屑の発生が殆どないためダイシング工程後のシリコンチップの汚染の心配がなく、またA層の表面の十点平均粗さRzを特定範囲とすることで、ロール状で保管されても経時でのブロッキングが生じない。 Since the base film for a dicing sheet of the present invention hardly generates shavings in the dicing process, there is no concern about contamination of silicon chips after the dicing process, and the ten-point average roughness Rz of the surface of the A layer is within a specific range. As a result, blocking over time does not occur even when stored in a roll.
本発明のダイシングシート用基材フィルムは、少なくともA層、B層、C層の複層積層形態からなる積層フィルムである。A層は十点平均粗さRzが1.5~15.0μmであり、B層は低密度ポリエチレンを含み、当該低密度ポリエチレンの含有割合が50重量%~100重量%であり、かつC層がオレフィン系熱可塑性エラストマーからなる。本発明のダイシングシート用基材フィルムは、A層、B層、C層がこの順で構成されていることが好ましい。なお、各層間には他の機能を有する層が設けられていてもよい。また、A層は最表層であることが好ましい。このような層構成にすることにより、トータルバランスに極めて優れたダイシングシート用基材フィルムが得られる。すなわち、ダイシング工程における切削屑の発生を抑制でき、かつロール状で保管されても経時でのブロッキングの心配がなくなるとともに、ダイシング工程後のエキスパンド工程において積層フィルムが破断する不具合がなくなる。またダイシングステージとの摩擦が少ないため、良好なエキスパンド性を得ることができる。 The base film for a dicing sheet of the present invention is a laminated film having a multi-layer lamination form of at least A layer, B layer and C layer. The A layer has a ten-point average roughness Rz of 1.5 to 15.0 μm, the B layer contains low-density polyethylene, the content of the low-density polyethylene is 50% to 100% by weight, and the C layer consists of an olefinic thermoplastic elastomer. The base film for a dicing sheet of the present invention preferably comprises layers A, B and C in this order. A layer having another function may be provided between each layer. Moreover, it is preferable that the A layer is the outermost layer. With such a layer structure, a base film for a dicing sheet having an extremely excellent total balance can be obtained. That is, it is possible to suppress the generation of shavings in the dicing process, eliminate blocking over time even when stored in a roll form, and eliminate the problem of breakage of the laminated film in the expanding process after the dicing process. Moreover, since there is little friction with the dicing stage, good expandability can be obtained.
本発明のダイシングシート用基材フィルムを製造する方法は特に限定されず、例えば、共押出成形、Tダイ成形、予め共押出成形、Tダイ成形またはインフレーション成形にて得られた層上に、押出ラミネーション、押出コーティング等の公知の積層法により他の層を積層する方法、各々の層を独立してフィルムとした後、得られた各々のフィルムをドライラミネーションにより積層する方法等が挙げられるが、生産性の点から、前記A層、B層、C層の各材料を多層の押出機に供給して成形する共押出成形法が好ましく、厚み精度の点から、Tダイ成形法がより好ましい。 The method for producing the base film for a dicing sheet of the present invention is not particularly limited. Lamination, a method of laminating another layer by a known lamination method such as extrusion coating, a method of forming each layer independently into a film, and then laminating each of the obtained films by dry lamination, and the like. From the viewpoint of productivity, a coextrusion molding method in which the materials for the layers A, B, and C are fed to a multi-layer extruder and molded is preferable, and from the viewpoint of thickness accuracy, a T-die molding method is more preferable.
共押出成形により製造する場合、前記A層、B層、C層の構成成分を各々溶融押出機から押出を行う。この時、樹脂の押出温度の上限は、好ましくは240℃、より好ましくは230℃、さらに好ましくは220℃である。樹脂の押出温度が240℃を超える場合、樹脂の熱劣化が起こり、ゲルが発生しやすくなる場合がある。樹脂の押出温度の下限は特に設けないが、180℃未満の樹脂温度では溶融粘度が高くなりすぎるため、生産性が低下する場合がある。 In the case of co-extrusion molding, the constituent components of the layers A, B and C are extruded from a melt extruder. At this time, the upper limit of the resin extrusion temperature is preferably 240°C, more preferably 230°C, and still more preferably 220°C. If the extrusion temperature of the resin exceeds 240° C., thermal deterioration of the resin may occur, and gel may easily occur. Although there is no particular lower limit for the extrusion temperature of the resin, if the resin temperature is less than 180° C., the melt viscosity becomes too high, which may reduce the productivity.
以下に本発明のダイシングシート用基材フィルムを構成する各層の詳細を説明する。 Details of each layer constituting the base film for a dicing sheet of the present invention are described below.
[A層]
本発明におけるA層は、十点平均粗さRzが1.5~15.0μmである。半導体ウェハのダイシング後のエキスパンド工程においてダイシングされたチップをピックアップするためにダイシングステージ上で半導体チップがダイシングフィルムごとエキスパンドされる。その際にA層の十点平均粗さRzが1.5μm未満であるとダイシングステージとダイシングフィルムの滑りが悪く上手くエキスパンドできない。加えてA層の十点平均粗さRzが1.5μm未満であるとロール状で保管、運送の際にダイシングシート用基材フィルムのA層とC層間で固着(ブロッキング)し、後の粘着加工工程においてロールを繰り出す際に不具合が生じる。また十点平均粗さRzが15.0μmを超える場合、ダイシングステージとの滑り性やブロッキング性は改善されるものの、ダイシングシート用基材フィルムの平面性が低下する問題が生じやすくなる。
[Layer A]
The layer A in the present invention has a ten-point average roughness Rz of 1.5 to 15.0 μm. In order to pick up the diced chips in the expanding step after dicing the semiconductor wafer, the semiconductor chips are expanded together with the dicing film on the dicing stage. At this time, if the ten-point average roughness Rz of the A layer is less than 1.5 μm, the sliding between the dicing stage and the dicing film is poor, and expansion cannot be performed well. In addition, when the ten-point average roughness Rz of the A layer is less than 1.5 μm, it is stored in a roll and fixed (blocked) between the A layer and the C layer of the dicing sheet base film during transportation, and is subsequently adhered. A problem arises when the roll is paid out in the processing process. On the other hand, when the ten-point average roughness Rz exceeds 15.0 μm, the slipperiness with respect to the dicing stage and the blocking property are improved, but the flatness of the dicing sheet base film tends to deteriorate.
本発明では、十点平均粗さRzを1.5~15.0μmとするために、既存のエチレンプロピレンゴム(EPR)やポリエチレン(PE)が配合されたブロックポリプロピレンやエチレンプロピレンコポリマー(EPC)や無機粒子を用いて表面を粗らしても良いが、小粒径の有機微粒子を用いることが好ましい。具体的な有機微粒子としては、ポリエチレンやポリスチレンやポリメチルメタクリレート等を挙げることができるが、有機微粒子はポリエチレン微粒子であることがより好ましい。また有機微粒子の平均粒子径は、30μm以下が好ましく、20μm以下がより好ましく、15μm以下がさらに好ましく、10μm程度であることが特に好ましい。有機微粒子の平均粒子径を30μm以下とすることで、A層表面が適度な凹凸を有するようになり、またエキスパンド工程での滑り性が良好となる。加えて得られたダイシングシート用基材フィルムを巻き取った状態で製造・保管しても接する面にダメージを与えにくく、また有機微粒子の脱落が生じにくくなる。有機微粒子の平均粒子径が30μmを超えると製膜後のフィルムは粗大粒子の影響で平面性が劣り、また異物の原因となりうる。 In the present invention, in order to set the ten-point average roughness Rz to 1.5 to 15.0 μm, existing ethylene propylene rubber (EPR), block polypropylene blended with polyethylene (PE), ethylene propylene copolymer (EPC), Although inorganic particles may be used to roughen the surface, it is preferable to use small-sized organic fine particles. Specific examples of organic fine particles include polyethylene, polystyrene, polymethyl methacrylate, and the like, and the organic fine particles are more preferably polyethylene fine particles. The average particle size of the organic fine particles is preferably 30 µm or less, more preferably 20 µm or less, still more preferably 15 µm or less, and particularly preferably about 10 µm. By setting the average particle size of the organic fine particles to 30 μm or less, the surface of the layer A has moderate unevenness, and the slipperiness in the expanding step is improved. In addition, even if the obtained base film for a dicing sheet is produced and stored in a wound state, the contact surface is less likely to be damaged, and the organic fine particles are less likely to fall off. If the average particle size of the organic fine particles exceeds 30 μm, the formed film will be inferior in flatness due to the influence of coarse particles, and may cause foreign matter.
本発明ではA層の材質については特に限定しないが、後述するB層との相溶性やエキスパンド性、耐破断性を考慮すると、好ましくはポリオレフィン系樹脂であり、より好ましくはポリエチレン系樹脂であり、特に好ましくは低密度ポリエチレン系樹脂である。 Although the material of layer A is not particularly limited in the present invention, it is preferably a polyolefin-based resin, more preferably a polyethylene-based resin, in consideration of compatibility with the layer B described later, expandability, and rupture resistance, Low-density polyethylene resins are particularly preferred.
[B層]
本発明ではB層の材質についてはダイシングシート用基材フィルムとしての性能を満たすために、低密度ポリエチレンが好ましく用いられる。低密度ポリエチレンは高圧法低密度ポリエチレン(LDPE)と直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)に大別されるが、破断強度に優れる直鎖状低密度ポリエチレンを用いることが好ましい。さらに、前記直鎖状低密度ポリエチレンの中でもメタロセン触媒で重合された直鎖状低密度ポリエチレンが、より破断強度に優れるためより好ましい。
[B layer]
In the present invention, low-density polyethylene is preferably used as the material of layer B in order to satisfy performance as a base film for a dicing sheet. Low-density polyethylene is roughly classified into high-pressure low-density polyethylene (LDPE) and linear low-density polyethylene (LLDPE), and it is preferable to use linear low-density polyethylene, which has excellent breaking strength. Furthermore, among the linear low-density polyethylene, a linear low-density polyethylene polymerized with a metallocene catalyst is more preferable because of its excellent breaking strength.
本発明において、低密度ポリエチレンの含有割合は50重量%~100重量%である。これにより本発明におけるB層に適度な柔軟性を与え、引張弾性率を低下させることでダイシング工程後のエキスパンド工程で良好な拡張性を発現できる。当該低密度ポリエチレンの含有割合は柔軟性を考慮すると70重量%~100重量%がより好ましく、90重量%~100重量%がさらに好ましい。当該低密度ポリエチレンの含有割合が50重量%未満の場合、十分な靭性および柔軟性が得られなくなるため、エキスパンド時にダイシングシート用基材フィルムが破断する不具合が生じやすくなる。 In the present invention, the content of low-density polyethylene is 50% by weight to 100% by weight. This imparts appropriate flexibility to the layer B in the present invention and lowers the tensile elastic modulus, thereby exhibiting good expandability in the expanding step after the dicing step. The content of the low-density polyethylene is more preferably 70% to 100% by weight, more preferably 90% to 100% by weight, in consideration of flexibility. If the content of the low-density polyethylene is less than 50% by weight, sufficient toughness and flexibility cannot be obtained, and the dicing sheet base film tends to break during expansion.
本B層に含まれる低密度ポリエチレンは上記A層に含まれる低密度ポリエチレンと同一であることが層間の密着性向上の観点から好ましいが、異なっていてもよい。上記B層に含まれる低密度ポリエチレンは単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。該低密度ポリエチレン樹脂の密度は、0.890~0.920g/cm3が好ましい。該低密度ポリエチレン樹脂の密度が0.890g/cm3以上であれば所望する柔軟性やハンドリング性が得られるが、0.920g/cm3よりも密度が高くなるとB層に十分な靭性および柔軟性が得られないことがあるため、エキスパンド時にダイシングシート用基材フィルムが破断する不具合が生じることがある。また半導体ウェハのダイシング工程で切り屑が発生しやすくなり工程汚染の要因となりうることがある。 The low-density polyethylene contained in the present layer B is preferably the same as the low-density polyethylene contained in the layer A from the viewpoint of improving adhesion between layers, but may be different. The low-density polyethylene contained in the layer B may be used alone, or two or more of them may be used in combination. The density of the low-density polyethylene resin is preferably 0.890-0.920 g/cm 3 . If the density of the low-density polyethylene resin is 0.890 g/cm 3 or more, the desired flexibility and handleability can be obtained. In some cases, the dicing sheet base film may be broken during expansion because the properties may not be obtained. In addition, shavings are likely to be generated in the dicing process of semiconductor wafers, which may cause process contamination.
[C層]
本発明におけるC層は、オレフィン系熱可塑性エラストマーが用いられる。オレフィン系熱可塑性エラストマーを用いることにより、ダイシング時の切削屑が抑制されるとともに十分なエキスパンド性が得られる。
[C layer]
An olefinic thermoplastic elastomer is used for the layer C in the present invention. By using the olefinic thermoplastic elastomer, cutting chips during dicing can be suppressed and sufficient expandability can be obtained.
オレフィン系熱可塑性エラストマーとしては、オレフィンブロックコポリマー、オレフィンランダムコポリマー、エチレンコポリマー、プロピレンコポリマー、エチレンオレフィンブロックコポリマー、プロピレンオレフィンブロックコポリマー、エチレンオレフィンランダムコポリマー、プロピレンオレフィンランダムコポリマー、エチレンプロピレンランダムコポリマー、エチレン(1-ブテン)ランダムコポリマー、エチレン(1-ペンテン)オレフィンブロックコポリマー、エチレン(1-ヘキセン)ランダムコポリマー、エチレン(1-ヘプテン)オレフィンブロックコポリマー、エチレン(1-オクテン)オレフィンブロックコポリマー、エチレン(1-ノネン)オレフィンブロックコポリマー、エチレン(1-デセン)オレフィンブロックコポリマー、プロピレンエチレンオレフィンブロックコポリマー、エチレン(α-オレフィン)コポリマー、エチレン(α-オレフィン)ランダムコポリマー、エチレン(α-オレフィン)ブロックコポリマー、アモルファスポリプロピレン、これらとポリエチレン(LLDPE、LDPE、HDPE(高密度ポリエチレン、あるいはその製法から中低圧法ポリエチレン)など)の組合せ、これらとポリプロピレンの組合せ、またはこれらの組み合わせが挙げられる。 Olefinic thermoplastic elastomers include olefin block copolymers, olefin random copolymers, ethylene copolymers, propylene copolymers, ethylene olefin block copolymers, propylene olefin block copolymers, ethylene olefin random copolymers, propylene olefin random copolymers, ethylene propylene random copolymers, ethylene (1 -butene) random copolymer, ethylene (1-pentene) olefin block copolymer, ethylene (1-hexene) random copolymer, ethylene (1-heptene) olefin block copolymer, ethylene (1-octene) olefin block copolymer, ethylene (1-nonene) ) olefin block copolymer, ethylene (1-decene) olefin block copolymer, propylene ethylene olefin block copolymer, ethylene (α-olefin) copolymer, ethylene (α-olefin) random copolymer, ethylene (α-olefin) block copolymer, amorphous polypropylene, Combinations of these with polyethylene (LLDPE, LDPE, HDPE (high-density polyethylene, or medium-low-pressure polyethylene from its manufacturing method), etc.), combinations of these with polypropylene, or combinations thereof can be mentioned.
オレフィン系熱可塑性エラストマーは好ましくは、α-オレフィン系熱可塑性エラストマーが好ましい。オレフィン系熱可塑性エラストマーとしてα-オレフィン系熱可塑性エラストマーを採用することにより、他のエラストマー樹脂(例えば、スチレン系エラストマー)に比べて熱安定性が向上し、例えば、本発明のダイシングシート用基材フィルムを製造する際の成膜時の熱劣化を抑制することが可能となる。また、オレフィン系熱可塑性エラストマーとしてα-オレフィン系熱可塑性エラストマーを採用することにより、他のエラストマー樹脂(例えば、スチレン系エラストマー)に比べて保存安定性が向上し、本発明のダイシングシート用基材フィルムを保存している間における物性値の変動を抑制することが可能となる。 The olefinic thermoplastic elastomer is preferably an α-olefinic thermoplastic elastomer. By adopting an α-olefin thermoplastic elastomer as the olefin thermoplastic elastomer, thermal stability is improved compared to other elastomer resins (e.g., styrene elastomers). It is possible to suppress heat deterioration during film formation when producing a film. In addition, by adopting an α-olefin thermoplastic elastomer as the olefin thermoplastic elastomer, the storage stability is improved compared to other elastomer resins (for example, styrene elastomer), and the base material for the dicing sheet of the present invention. It is possible to suppress fluctuations in physical property values while the film is being stored.
また、本発明において、オレフィン系熱可塑性エラストマーとしてα-オレフィン系熱可塑性エラストマーを採用すると、C層の製造における工程が簡素化でき、加工費の抑制が可能となる。これは、他のエラストマー樹脂、例えばスチレン系エラストマーを採用する場合には、物性値をコントロールするために数種類のスチレン系エラストマーをブレンドする必要があり、製造工程における作業が煩雑となる。 Further, in the present invention, if an α-olefinic thermoplastic elastomer is used as the olefinic thermoplastic elastomer, the steps in manufacturing the layer C can be simplified, and processing costs can be suppressed. This is because when other elastomer resins such as styrene-based elastomers are used, it is necessary to blend several types of styrene-based elastomers in order to control the physical properties, which complicates the work in the manufacturing process.
オレフィン系熱可塑性エラストマーとしてα-オレフィン系熱可塑性エラストマーを採用すると、C層の製造において用いる樹脂の種類を少なくして押出成形することが可能となり、多種類の原料を準備する必要がなくなり得る。 Employing an α-olefin thermoplastic elastomer as the olefin thermoplastic elastomer enables extrusion molding with a reduced number of resin types used in the production of the C layer, which eliminates the need to prepare many types of raw materials.
本発明において、オレフィン系熱可塑性エラストマーとしてα-オレフィン系熱可塑性エラストマーを採用する場合、該α-オレフィン系熱可塑性エラストマーは、1種のみであっても良いし、2種以上のブレンドであっても良い。 In the present invention, when an α-olefin thermoplastic elastomer is employed as the olefin thermoplastic elastomer, the α-olefin thermoplastic elastomer may be used alone or in a blend of two or more. Also good.
α-オレフィン系熱可塑性エラストマーとしては、例えばプロピレン系エラストマー、エチレン系エラストマー、1-ブテン系エラストマー(プロピレン・エチレン共重合体、プロピレン・1-ブテン共重合体、プロピレン・エチレン・1-ブテン共重合体、1-ブテン単独共重合体、1-ブテン・エチレン共重合体、1-ブテン・プロピレン共重合体、4-メチルペンテン-1単独共重合体、4-メチルペンテン-1・プロピレン共重合体、4-メチルペンテン-1・1-ブテン共重合体、4-メチルペンテン-1・プロピレン・1-ブテン共重合体、またはこれらの組み合わせ)が挙げられる。 Examples of α-olefin thermoplastic elastomers include propylene elastomers, ethylene elastomers, 1-butene elastomers (propylene/ethylene copolymer, propylene/1-butene copolymer, propylene/ethylene/1-butene copolymer, Coalescence, 1-butene homopolymer, 1-butene/ethylene copolymer, 1-butene/propylene copolymer, 4-methylpentene-1 homopolymer, 4-methylpentene-1/propylene copolymer , 4-methylpentene-1/1-butene copolymer, 4-methylpentene-1/propylene/1-butene copolymer, or combinations thereof).
本発明において、オレフィン系熱可塑性エラストマーとして採用し得るα-オレフィン系熱可塑性エラストマーとしては、その密度が、好ましくは0.830g/cm3~0.890g/cm3であり、より好ましくは0.835g/cm3~0.888g/cm3であり、さらに好ましくは0.835g/cm3~0.886g/cm3であり、特に好ましくは0.840g/cm3~0.885g/cm3であり、最も好ましくは0.845g/cm3~0.885g/cm3である。密度が上記範囲に収まるα-オレフィン系熱可塑性エラストマーを採用することにより、より優れたカット性を有するダイシングシート用基材フィルムを提供することが可能となるとともに、他のエラストマー(例えば、スチレン系エラストマー)に比べて熱安定性がより向上し、例えば、本発明のダイシングシート用基材フィルムを製造する際の成膜時の熱劣化をより抑制することが可能となり、また、他のエラストマー(例えば、スチレン系エラストマー)に比べて保存安定性がより向上し、本発明のダイシングシート用基材フィルムを保存している間における物性値の変動をより抑制することが可能となり、さらに、C層の製造における工程がより簡素化でき、加工費の一層の抑制が可能となる。 In the present invention, the α-olefin thermoplastic elastomer that can be employed as the olefin thermoplastic elastomer preferably has a density of 0.830 g/cm 3 to 0.890 g/cm 3 , more preferably 0.830 g/cm 3 to 0.890 g/cm 3 . 835 g/cm 3 to 0.888 g/cm 3 , more preferably 0.835 g/cm 3 to 0.886 g/cm 3 , particularly preferably 0.840 g/cm 3 to 0.885 g/cm 3 and most preferably 0.845 g/cm 3 to 0.885 g/cm 3 . By adopting an α-olefin thermoplastic elastomer whose density falls within the above range, it is possible to provide a base film for dicing sheets with superior cuttability, and other elastomers (e.g., styrene-based Elastomer), the thermal stability is further improved, for example, it is possible to further suppress thermal deterioration during film formation when manufacturing the base film for the dicing sheet of the present invention, and other elastomers ( For example, the storage stability is further improved compared to styrene-based elastomers), and it is possible to further suppress fluctuations in physical property values during storage of the base film for a dicing sheet of the present invention. The manufacturing process can be simplified, and the processing cost can be further suppressed.
本発明において、オレフィン系熱可塑性エラストマーとして採用し得るα-オレフィン系熱可塑性エラストマーとしては、その230℃で21.17NにおけるMFRが、好ましくは5.0g/10分~25.0g/10分であり、より好ましくは5.0g/10分~23.0g/10分であり、さらに好ましくは5.0g/10分~21.0g/10分であり、特に好ましくは5.0g/10分~20.0g/10分であり、最も好ましくは5.0g/10分~19.0g/10分である。MFRが上記範囲に収まるα-オレフィン系熱可塑性エラストマーを採用することにより、より優れたカット性を有するダイシングシート用基材フィルムを提供することが可能となるとともに、他のエラストマー(例えば、スチレン系エラストマー)に比べて熱安定性がより向上し、例えば、本発明のダイシングシート用基材フィルムを製造する際の成膜時の熱劣化をより抑制することが可能となり、また、他のエラストマー(例えば、スチレン系エラストマー)に比べて保存安定性がより向上し、本発明のダイシングシート用基材フィルムを保存している間における物性値の変動をより抑制することが可能となり、さらに、C層の製造における工程がより簡素化でき、加工費の一層の抑制が可能となる。 In the present invention, the α-olefin thermoplastic elastomer that can be employed as the olefin thermoplastic elastomer has an MFR at 230° C. and 21.17 N, preferably 5.0 g/10 min to 25.0 g/10 min. Yes, more preferably 5.0 g / 10 minutes to 23.0 g / 10 minutes, still more preferably 5.0 g / 10 minutes to 21.0 g / 10 minutes, particularly preferably 5.0 g / 10 minutes to 20.0 g/10 min, most preferably 5.0 g/10 min to 19.0 g/10 min. By adopting an α-olefin thermoplastic elastomer whose MFR falls within the above range, it is possible to provide a base film for a dicing sheet having superior cuttability, and other elastomers (e.g., styrene-based Elastomer), the thermal stability is further improved, for example, it is possible to further suppress thermal deterioration during film formation when manufacturing the base film for the dicing sheet of the present invention, and other elastomers ( For example, the storage stability is further improved compared to styrene-based elastomers), and it is possible to further suppress fluctuations in physical property values during storage of the base film for a dicing sheet of the present invention. The manufacturing process can be simplified, and the processing cost can be further suppressed.
本発明においては、オレフィン系熱可塑性エラストマーとして採用し得るα-オレフィン系熱可塑性エラストマーの中でも、特に、プロピレン系エラストマーが好ましい。プロピレン系エラストマーをオレフィン系熱可塑性エラストマーとして採用することにより、非常に優れたカット性を有するダイシングシート用基材フィルムを提供することが可能となるとともに、他のエラストマー(例えば、スチレン系エラストマー)に比べて熱安定性がより一層向上し、例えば、本発明のダイシングシート用基材フィルムを製造する際の成膜時の熱劣化をより一層抑制することが可能となり、また、他のエラストマー(例えば、スチレン系エラストマー)に比べて保存安定性がより一層向上し、本発明のダイシングシート用基材フィルムを保存している間における物性値の変動をより一層抑制することが可能となり、さらに、C層の製造における工程がより一層簡素化でき、加工費のより一層の抑制が可能となる。 In the present invention, among the α-olefin thermoplastic elastomers that can be employed as the olefin thermoplastic elastomer, propylene elastomers are particularly preferred. By adopting a propylene-based elastomer as an olefin-based thermoplastic elastomer, it is possible to provide a base film for dicing sheets with extremely excellent cuttability, as well as other elastomers (e.g., styrene-based elastomers). Compared to other elastomers (e.g., , styrene elastomer), the storage stability is further improved, and it is possible to further suppress fluctuations in physical property values during storage of the base film for a dicing sheet of the present invention. The steps in manufacturing the layer can be further simplified, and processing costs can be further suppressed.
また本発明においては、C層樹脂硬度がショアD硬度で20~60であることが好ましい。特にオレフィン系熱可塑性エラストマーとして、プロピレン系エラストマーのショアD硬度が20~60であることが好ましい。ショアD硬度が20未満の場合、製膜後のフィルムの粘着性が強くなりブロッキング性が悪化する要因となりうる。また物理特性の低下が懸念されエキスパンド工程でダイシングフィルムの破断の要因となりうる。またショアD硬度が60を超える場合、ダイシングフィルムとしての柔軟性が失われエキスパンド工程での拡張性や破断性が問題となりうる。 In the present invention, the C layer resin hardness is preferably 20 to 60 in Shore D hardness. In particular, as the olefinic thermoplastic elastomer, it is preferable that the propylene elastomer has a Shore D hardness of 20 to 60. If the Shore D hardness is less than 20, the adhesiveness of the film after film formation becomes strong, which may be a factor in deteriorating the blocking property. In addition, there is a concern that the physical properties may deteriorate, and it may cause breakage of the dicing film in the expanding process. On the other hand, when the Shore D hardness exceeds 60, the flexibility as a dicing film is lost, and extensibility and breakability in the expanding process may become a problem.
上記のようなプロピレン系エラストマーは、市販品として入手することも可能である。このような市販品としては、例えば、三井化学株式会社製の「タフマー」(登録商標)XMシリーズ、同社製の「タフマー」(登録商標)PNシリーズ、エクソンモービル社製の「ビスタマックス(Vistamaxx)」(登録商標)シリーズ(例えば、ビスタマックス6202、ビスタマックス3980FL等)が挙げられる。 The above propylene-based elastomers are also available as commercial products. Examples of such commercial products include "Tafmer" (registered trademark) XM series manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., "Tafmer" (registered trademark) PN series manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., and "Vistamaxx" manufactured by ExxonMobil. (registered trademark) series (eg, Vistamax 6202, Vistamax 3980FL, etc.).
本発明において、オレフィン系熱可塑性エラストマーとして採用し得るα-オレフィン系熱可塑性エラストマーは、好ましくはメタロセン触媒を用いて製造されたものが好ましい。メタロセン触媒を用いて製造されたα-オレフィン系熱可塑性エラストマーは、非常に優れたカット性を有するダイシングシート用基材フィルムを提供することが可能となるとともに、他のエラストマー(例えば、スチレン系エラストマー)に比べて熱安定性がより一層向上し、例えば、本発明のダイシングシート用基材フィルムを製造する際の成膜時の熱劣化をより一層抑制することが可能となり、また、他のエラストマー(例えば、スチレン系エラストマー)に比べて保存安定性がより一層向上し、本発明のダイシングシート用基材フィルムを保存している間における物性値の変動をより一層抑制することが可能となり、さらに、C層の製造における工程がより一層簡素化でき、加工費のより一層の抑制が可能となる。 In the present invention, the α-olefinic thermoplastic elastomer that can be employed as the olefinic thermoplastic elastomer is preferably produced using a metallocene catalyst. The α-olefin thermoplastic elastomer produced using a metallocene catalyst makes it possible to provide a base film for dicing sheets with extremely excellent cuttability, and other elastomers (e.g., styrene elastomers ), the thermal stability is further improved, for example, it is possible to further suppress thermal deterioration during film formation when manufacturing the base film for a dicing sheet of the present invention, and other elastomers (for example, styrene elastomer), the storage stability is further improved, and it is possible to further suppress fluctuations in physical property values during storage of the base film for a dicing sheet of the present invention. , the steps in manufacturing the C layer can be further simplified, and the processing cost can be further suppressed.
C層は、本発明における効果を損なわない範囲で、任意の適切な他の成分を含んでよい。このような他の成分としては、例えば、他のポリマー、粘着付与剤、可塑剤、劣化防止剤、顔料、染料、酸化防止剤、帯電防止剤、滑剤、発泡剤、熱安定化剤、光安定化剤、無機フィラー、有機フィラーなどが挙げられる。これらは、1種のみであっても、2種以上であっても良い。C層中の他の成分の含有割合は、好ましくは10重量%以下であり、より好ましくは7重量%以下であり、さらに好ましくは5重量%以下であり、特に好ましくは2重量%以下であり、最も好ましくは1重量%以下である。 The C layer may contain any appropriate other component within a range that does not impair the effects of the present invention. Such other ingredients include, for example, other polymers, tackifiers, plasticizers, antidegradants, pigments, dyes, antioxidants, antistatic agents, lubricants, foaming agents, heat stabilizers, light stabilizers. agents, inorganic fillers, organic fillers, and the like. These may be one kind or two or more kinds. The content of other components in layer C is preferably 10% by weight or less, more preferably 7% by weight or less, still more preferably 5% by weight or less, and particularly preferably 2% by weight or less. , most preferably not more than 1% by weight.
C層の厚さは、好ましくは10μm~100μmであり、より好ましくは10μm~80μmであり、さらに好ましくは10μm~60μmであり、特に好ましくは20μm~50μmである。C層の厚さがこのような範囲に収まることにより、より優れたダイシング性を有するダイシングシート用基材フィルムを提供することが可能となる。 The thickness of the C layer is preferably 10 μm to 100 μm, more preferably 10 μm to 80 μm, still more preferably 10 μm to 60 μm, particularly preferably 20 μm to 50 μm. By keeping the thickness of the C layer within such a range, it is possible to provide a base film for a dicing sheet having superior dicing properties.
本発明のダイシングシート用基材フィルムは製膜された後、C層上に粘着剤が加工されダイシングシートとして半導体ウェハのダイシング工程、エキスパンド工程で使用される。粘着剤が加工されるC層は、粘着剤の密着性を向上するために表面処理されることが好ましい。その表面処理方法としてはエンボス加工、ヘアライン加工などの機械的処理、プラズマ処理、コロナ処理、フレーム処理などの物理化学的処理、カップリング剤を用いたプライマー処理などの科学的処理が例示される。中でもその簡便さや処理時の環境負荷低減を考慮するとプラズマ処理、コロナ処理、フレーム処理などの物理化学的処理がより好ましい。 After the base film for a dicing sheet of the present invention is formed into a film, an adhesive is processed on the layer C, and the film is used as a dicing sheet in the dicing process and the expanding process of semiconductor wafers. The layer C on which the adhesive is processed is preferably surface-treated in order to improve the adhesiveness of the adhesive. Examples of surface treatment methods include mechanical treatments such as embossing and hairline treatment, physicochemical treatments such as plasma treatment, corona treatment and flame treatment, and chemical treatments such as primer treatment using a coupling agent. Among them, physicochemical treatments such as plasma treatment, corona treatment, and flame treatment are more preferable in consideration of their convenience and reduction of environmental load during treatment.
以下に本発明について実施例、比較例を用いてより詳細に説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。本実施例、比較例は以下に示した評価方法を用いて評価を行った。その結果を表1に示した。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail below using examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. The present examples and comparative examples were evaluated using the following evaluation methods. The results are shown in Table 1.
(1)十点平均粗さRz
十点平均粗さRzは、(株)小坂研究所製の高精度微細形状測定器(SURFCORDER ET4000A)を用い、JIS B0601-2013に準拠し、フィルム横方向に2mm、フィルム縦方向に0.2mmの範囲について、走査方向を横方向とし、縦方向10μm間隔で11回の測定を実施し3次元解析を行い、評価した。なお、触針先端半径2.0μmのダイヤモンド針を使用、測定力100μN、カットオフ0.8mmで測定した。
(1) Ten-point average roughness Rz
Ten-point average roughness Rz is compliant with JIS B0601-2013 using a high-precision fine shape measuring instrument (SURFCORDER ET4000A) manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd. 2 mm in the horizontal direction of the film and 0.2 mm in the vertical direction of the film. With respect to the range of , the scanning direction was set to the horizontal direction, and measurements were performed 11 times at intervals of 10 μm in the vertical direction, and three-dimensional analysis was performed and evaluated. A diamond stylus with a stylus tip radius of 2.0 μm was used, and the measurement was performed with a measuring force of 100 μN and a cutoff of 0.8 mm.
(2)ショアD硬度
ASTM D2240に準拠する形でC層に使用される原料の硬度を測定した。
(2) Shore D hardness The hardness of the raw material used for the C layer was measured according to ASTM D2240.
(3)バリ(ヒゲ)状切削屑発生評価
A.ダイシング
株式会社DISCO製セミオートマチックダイシングソー(DAD-3350)を用いた。
ブレード:ZH05-SD4000-N1-70 ED
ブレード回転数:25000rpm
カット速度:50mm/sec
カット深さ:30μm
切削水量:1.25リットル/min
切削水温度:23℃
上記条件を設定し、A4サイズのフィルムをダイシングソーにセットしてMD方向(Machine Direction:樹脂の流れ方向)に長さ100mm、5mm間隔で3本、90°反転し同じくTD方向(Transverse Direction:樹脂の幅方向)に長さ100mm、5mm間隔で3本表層をカットした。
(3) Evaluation of generation of burr (whiskers)-like chips A. Dicing A semi-automatic dicing saw (DAD-3350) manufactured by DISCO Corporation was used.
Blade: ZH05-SD4000-N1-70 ED
Blade rotation speed: 25000rpm
Cutting speed: 50mm/sec
Cut depth: 30 μm
Cutting water volume: 1.25 liters/min
Cutting water temperature: 23°C
Set the above conditions, set the A4 size film on the dicing saw, and set the film in the MD direction (Machine Direction: flow direction of the resin) with a length of 100 mm, three at 5 mm intervals, reverse 90 ° and also in the TD direction (Transverse Direction: Three surface layers were cut at 100 mm length and 5 mm intervals in the width direction of the resin.
B.切削面観測
キーエンス製光学顕微鏡VHX-5000を用い、MD、TD交差した十字の9個所を観測した。
倍率:×1000
判定基準
〇:バリ(ヒゲ)0個
△:バリ(ヒゲ)1~4個
×:バリ(ヒゲ)5個以上。
B. Observation of Cut Surface Using an optical microscope VHX-5000 manufactured by Keyence, 9 points of a cross crossing MD and TD were observed.
Magnification: ×1000
Judgment criteria ◯: 0 burrs (whiskers) △: 1 to 4 burrs (whiskers) ×: 5 or more burrs (whiskers).
(4)ブロッキング性評価
幅30mmで長さ100mmのフィルムサンプルを準備し、A層(表面)とC層(裏面)を30mm×40mmの範囲を重ね合わせて、4.9N(0.5kgf)/12cm2の荷重をかけ、23℃×24時間エージングした後、エー・アンド・ディ社製テンシロンを使用して300mm/分の引張速度で剪断剥離力を測定した。
判定基準
〇:0.5N/12cm2未満
×:0.5N/12cm2以上。
(4) Blocking evaluation A film sample with a width of 30 mm and a length of 100 mm was prepared, and the A layer (front surface) and the C layer (back surface) were overlapped in an area of 30 mm × 40 mm, and 4.9 N (0.5 kgf) / After applying a load of 12 cm 2 and aging at 23° C. for 24 hours, the shear peel strength was measured using Tensilon manufactured by A&D at a tensile speed of 300 mm/min.
Judgment criteria ◯: less than 0.5 N/12 cm 2 ×: 0.5 N/12 cm 2 or more.
(5)破断性評価
直径6インチの塩化ビニル樹脂管にダイシングシート用基材フィルムを固定し、上から直径5mmのニードルで14.7N(1.5kgf)の荷重で突き刺した際の、ダイシングシート用基材フィルムの引き裂きを、以下の基準で評価した。
○:引き裂かれない
△:一部に破れが生じる
×:引き裂かれる。
(5) Breakability evaluation A dicing sheet when a base film for a dicing sheet is fixed to a vinyl chloride resin pipe with a diameter of 6 inches and a needle with a diameter of 5 mm is pierced from above with a load of 14.7 N (1.5 kgf). The following criteria were used to evaluate the tearing of the base film for .
○: Not torn △: Partially torn ×: Torn.
<ポリエチレン微粒子マスターバッチ>
(A1):平均粒子径が10μmの三井化学社製の高分子量ポリエチレン微粒子「ミペロン」PM200とメタロセン系直鎖状低密度ポリエチレン(プライムポリマー社製「エボリュー」SP1540、MFR 3.8g/min(190℃、21.17Nで測定))の、重量比10:90からなるポリエチレン微粒子マスターバッチ(A1)を作製した。
(A2):平均粒子径が15μmの綜研化学社製の架橋アクリル単分散粒子MX-1500Hとメタロセン系直鎖状低密度ポリエチレン(プライムポリマー社製「エボリュー」SP1540、MFR 3.8g/min(190℃、21.17Nで測定))の、重量比10:90からなるアクリル微粒子マスターバッチ(A2)を作製した。
<Polyethylene fine particle masterbatch>
(A1): High-molecular-weight polyethylene fine particles "Mipelon" PM200 manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. with an average particle diameter of 10 µm and metallocene-based linear low-density polyethylene ("Evolue" SP1540 manufactured by Prime Polymer, MFR 3.8 g/min (190 ° C., 21.17 N)), and a polyethylene fine particle masterbatch (A1) consisting of a weight ratio of 10:90.
(A2): Crosslinked acrylic monodisperse particles MX-1500H manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. having an average particle diameter of 15 μm and metallocene-based linear low-density polyethylene (“Evolue” SP1540 manufactured by Prime Polymer Co., Ltd., MFR 3.8 g / min (190 ° C., 21.17 N)), and an acrylic fine particle masterbatch (A2) consisting of a weight ratio of 10:90.
<樹脂>
(PE1)商品名「エボリュー」SP1540、メタロセン系直鎖状低密度ポリエチレン、プライムポリマー社製、密度0.913g/cm3、MFR3.8g/min(190℃、21.17Nで測定)
(PE2)商品名「ハーモレックス」NH745N、メタロセン系直鎖状低密度ポリエチレン、日本ポリエチレン社製、密度0.913g/cm3、MFR8.0g/min(190℃、21.17Nで測定)
(PE3)商品名「ノバテック」HF562、高密度ポリエチレン、日本ポリエチレン社製、密度0.963g/cm3、MFR7.5g/min(190℃、21.17Nで測定)
(PE4)商品名「サンテック」L6810、低密度ポリエチレン、旭化成社製、密度0.918g/cm3、MFR10.5g/min(190℃、21.17Nで測定)
(PP1)商品名「ビスタマックス」3980FL、プロピレン系エラストマー、エクソンモービル社製、密度0.879g/cm3、MFR8.0g/min(230℃、21.17Nで測定)
(PP2)商品名「タフマー」XM7070、プロピレン系エラストマー、三井化学社製、密度0.870g/cm3、MFR7.0g/min(230℃、21.17Nで測定)。
<Resin>
(PE1) Trade name “Evolue” SP1540, metallocene-based linear low-density polyethylene, manufactured by Prime Polymer, density 0.913 g/cm 3 , MFR 3.8 g/min (measured at 190°C, 21.17 N)
(PE2) Trade name "Harmolex" NH745N, metallocene-based linear low-density polyethylene, manufactured by Nippon Polyethylene Co., Ltd., density 0.913 g/cm 3 , MFR 8.0 g/min (measured at 190°C, 21.17 N)
(PE3) Trade name "Novatec" HF562, high-density polyethylene, manufactured by Nippon Polyethylene Co., Ltd., density 0.963 g/cm 3 , MFR 7.5 g/min (measured at 190°C, 21.17N)
(PE4) Trade name “Suntec” L6810, low-density polyethylene, manufactured by Asahi Kasei Corporation, density 0.918 g/cm 3 , MFR 10.5 g/min (measured at 190°C, 21.17N)
(PP1) Trade name "Vistamax" 3980FL, propylene-based elastomer, manufactured by Exxon Mobil, density 0.879 g/cm 3 , MFR 8.0 g/min (measured at 230°C, 21.17 N)
(PP2) Trade name "Tafmer" XM7070, propylene elastomer, manufactured by Mitsui Chemicals, density 0.870 g/cm 3 , MFR 7.0 g/min (measured at 230°C, 21.17 N).
(実施例1)
各層の構成樹脂を次のように準備した。
A層:(PE1)を90重量%と、(A1)を10重量%とを用いた。
B層:(PE1)を100重量%用いた。
C層:(PP1)を100重量%用いた。
(Example 1)
Constituent resins for each layer were prepared as follows.
Layer A: 90% by weight of (PE1) and 10% by weight of (A1) were used.
Layer B: 100% by weight of (PE1) was used.
C layer: 100% by weight of (PP1) was used.
次に、各層の構成樹脂を、3台の押出機を有するTダイ複合製膜機のそれぞれの押出機に投入し、A層12.5μm、B層67.5μm、C層20.0μmになるように各押出機の吐出量を調整し、この順で積層して複合Tダイから押出温度210℃にて押出し、総厚さ100μmのフィルム状に成形した。 Next, the constituent resin of each layer is put into each extruder of a T-die composite film forming machine having three extruders, and the A layer is 12.5 μm, the B layer is 67.5 μm, and the C layer is 20.0 μm. The discharge rate of each extruder was adjusted as above, and the layers were laminated in this order and extruded from a composite T die at an extrusion temperature of 210° C. to form a film having a total thickness of 100 μm.
その後、得られた積層フィルムについて、上記した方法により積層フィルムの評価を実施した。 After that, the laminate film obtained was evaluated by the method described above.
(実施例2)
A層:(PE1)を80重量%、(A1)を20重量%の比率に変更した以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを成形、評価を実施した。
(Example 2)
Layer A: A laminated film was formed and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the ratio of (PE1) was changed to 80% by weight and (A1) was changed to 20% by weight.
(実施例3)
A層:(PE1)を70重量%、(A1)を30重量%の比率に変更した以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを成形、評価を実施した。
(Example 3)
Layer A: A laminate film was molded and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the ratio of (PE1) was changed to 70% by weight and (A1) was changed to 30% by weight.
(実施例4)
実施例1のA層およびB層を、(PE1)から(PE2)に変更した以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを成形、評価を実施した。
(Example 4)
A laminated film was molded and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the layers A and B of Example 1 were changed from (PE1) to (PE2).
(実施例5)
実施例2のA層およびB層のポリオレフィン系樹脂(ポリエチレン)を、(PE1)から(PE2)に変更した以外は実施例2と同様にして、積層フィルムを成形、評価を実施した。
(Example 5)
A laminated film was molded and evaluated in the same manner as in Example 2, except that the polyolefin resin (polyethylene) of the A layer and the B layer of Example 2 was changed from (PE1) to (PE2).
(実施例6)
実施例3のA層およびB層のポリオレフィン系樹脂(ポリエチレン)を、(PE1)から(PE2)に変更した以外は実施例3と同様にして、積層フィルムを成形、評価を実施した。
(Example 6)
A laminated film was molded and evaluated in the same manner as in Example 3, except that the polyolefin resin (polyethylene) of the A layer and the B layer of Example 3 was changed from (PE1) to (PE2).
(実施例7)
実施例1のC層を、(PP1)から(PP2)に変更した以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを成形、評価を実施した。
(Example 7)
A laminate film was formed and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the layer C in Example 1 was changed from (PP1) to (PP2).
(実施例8)
実施例1のB層を、(PE1)100重量%から、(PE1)が50重量%、(PP1)が50重量%に変更した以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを成形、評価を実施した。
(Example 8)
A laminated film was molded and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the layer B in Example 1 was changed from 100% by weight (PE1) to 50% by weight (PE1) and 50% by weight (PP1). carried out.
(実施例9)
実施例1のA層を、(A1)から(A2)に変更した以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを成形、評価を実施した。
(Example 9)
A laminated film was formed and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the layer A in Example 1 was changed from (A1) to (A2).
(比較例1)
実施例1のA層を、(PE1)が90重量%、(A1)が10重量%から、(PE1)100重量%に変更した以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを成形、評価を実施した。
(Comparative example 1)
A laminated film was formed and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the A layer of Example 1 was changed from 90% by weight (PE1) and 10% by weight (A1) to 100% by weight (PE1). carried out.
(比較例2)
実施例1のB層を、(PE1)から、(PE3)に変更した以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを成形、評価を実施した。
(Comparative example 2)
A laminate film was molded and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the layer B in Example 1 was changed from (PE1) to (PE3).
(比較例3)
実施例1のA層の(PP1)を、(PE1)に変更した以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを成形、評価を実施した。
(Comparative Example 3)
A laminate film was molded and evaluated in the same manner as in Example 1, except that (PP1) in the A layer of Example 1 was changed to (PE1).
(比較例4)
実施例1のC層の(PP1)を、(PE4)に変更した以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを成形、評価を実施した。
(Comparative Example 4)
A laminate film was molded and evaluated in the same manner as in Example 1, except that (PP1) in the C layer of Example 1 was changed to (PE4).
(比較例5)
実施例1のC層の(PP1)を、(PE3)に変更した以外は実施例1と同様にして、積層フィルムを成形、評価を実施した。
(Comparative Example 5)
A laminate film was molded and evaluated in the same manner as in Example 1, except that (PP1) in the C layer of Example 1 was changed to (PE3).
表1の結果から、実施例は、ダイシング時の切削屑の発生が抑制され、かつロール状に巻いた時のブロッキングが起こりにくく、また破断しにくいフィルムであることがわかる。 From the results in Table 1, it can be seen that the Examples are films that suppress the generation of shavings during dicing, are less likely to cause blocking when wound into a roll, and are less likely to break.
一方、比較例1は、A層の表面粗さが小さいためにブロッキングが発生した。比較例2は、B層が低密度ポリエチレンを主成分としたものでないため破断強度が劣る。比較例3~5はC層にオレフィン系熱可塑性エラストマーを用いておらず、ダイシング時の切削屑が発生しやすい。 On the other hand, in Comparative Example 1, blocking occurred because the surface roughness of the A layer was small. Comparative Example 2 is inferior in breaking strength because the layer B does not contain low-density polyethylene as a main component. Comparative Examples 3 to 5 do not use an olefinic thermoplastic elastomer for the layer C, and are likely to generate chips during dicing.
Claims (7)
The base film for a dicing sheet according to any one of claims 1 to 6, wherein said layer C is flame-treated, plasma-treated or corona-treated.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019093370A JP7311312B2 (en) | 2019-05-17 | 2019-05-17 | Base film for dicing sheet |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019093370A JP7311312B2 (en) | 2019-05-17 | 2019-05-17 | Base film for dicing sheet |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020188215A JP2020188215A (en) | 2020-11-19 |
JP7311312B2 true JP7311312B2 (en) | 2023-07-19 |
Family
ID=73222073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019093370A Active JP7311312B2 (en) | 2019-05-17 | 2019-05-17 | Base film for dicing sheet |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7311312B2 (en) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006335787A (en) | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Pressure-sensitive adhesive sheet and method for producing electronic part |
JP2008091765A (en) | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Nitto Denko Corp | Adhesive sheet for laser machining |
JP2008159701A (en) | 2006-12-21 | 2008-07-10 | Gunze Ltd | Substrate film for dicing |
JP2012015341A (en) | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Dainippon Printing Co Ltd | Separator-less type dicing tape |
JP2014201672A (en) | 2013-04-05 | 2014-10-27 | 日東電工株式会社 | Adhesive tape |
JP2015070092A (en) | 2013-09-27 | 2015-04-13 | グンゼ株式会社 | Substrate film for dicing |
JP2015211172A (en) | 2014-04-28 | 2015-11-24 | 古河電気工業株式会社 | Front face protection adhesive tape for rear face grinding for semiconductor wafer, and grinding method of semiconductor wafer |
JP2016082165A (en) | 2014-10-21 | 2016-05-16 | 三井化学東セロ株式会社 | Dicing film, and method for manufacturing semiconductor device |
-
2019
- 2019-05-17 JP JP2019093370A patent/JP7311312B2/en active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006335787A (en) | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Pressure-sensitive adhesive sheet and method for producing electronic part |
JP2008091765A (en) | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Nitto Denko Corp | Adhesive sheet for laser machining |
JP2008159701A (en) | 2006-12-21 | 2008-07-10 | Gunze Ltd | Substrate film for dicing |
JP2012015341A (en) | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Dainippon Printing Co Ltd | Separator-less type dicing tape |
JP2014201672A (en) | 2013-04-05 | 2014-10-27 | 日東電工株式会社 | Adhesive tape |
JP2015070092A (en) | 2013-09-27 | 2015-04-13 | グンゼ株式会社 | Substrate film for dicing |
JP2015211172A (en) | 2014-04-28 | 2015-11-24 | 古河電気工業株式会社 | Front face protection adhesive tape for rear face grinding for semiconductor wafer, and grinding method of semiconductor wafer |
JP2016082165A (en) | 2014-10-21 | 2016-05-16 | 三井化学東セロ株式会社 | Dicing film, and method for manufacturing semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020188215A (en) | 2020-11-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI509042B (en) | Extension film, dicing film and manufacturing method of semiconductor device | |
JP4780828B2 (en) | Adhesive tape for wafer processing, method for producing the same and method for using the same | |
KR101690353B1 (en) | Surface protection film | |
KR102509299B1 (en) | laminated film | |
JP2015213096A (en) | Base film for dicing sheets, and dicing sheet | |
JP6253327B2 (en) | Dicing substrate film | |
KR20120112846A (en) | Surface protective film | |
JP6323690B2 (en) | Self-adhesive surface protective film | |
JP5113991B2 (en) | Surface protection film | |
JP7311312B2 (en) | Base film for dicing sheet | |
JP2018119138A (en) | Laminate film | |
TW201439272A (en) | Adhesive sheet | |
TWI637035B (en) | Self-adhesive surface protection film | |
JP5031320B2 (en) | Surface protection film | |
CN111699091B (en) | Laminated film | |
JP5031325B2 (en) | Surface protection film | |
JP2005297247A (en) | Substrate for pressure-sensitive adhesive tape and pressure-sensitive adhesive sheet | |
WO2021193312A1 (en) | Adhesive sheet laminate and method for manufacturing same | |
KR20120112848A (en) | Surface protective film | |
JP4937704B2 (en) | Surface protection film | |
JP6106526B2 (en) | Adhesive sheet for semiconductor wafer processing | |
TW202428455A (en) | Substrate film for semiconductor manufacturing tape | |
TW202432381A (en) | Substrate film for semiconductor manufacturing tape | |
JP2024155684A (en) | Thermoplastic resin film, adhesive film, and adhesive film for semiconductor manufacturing process | |
JP2023134934A (en) | Surface protective film |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220105 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20220105 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20220105 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20221226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230110 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20230523 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230609 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20230619 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230704 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230706 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7311312 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |