JP7297417B2 - Organic light-emitting display device and method for manufacturing organic light-emitting display device - Google Patents

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Description

本発明は、有機発光表示装置および有機発光表示装置の製造方法に関する。 The present invention relates to an organic light-emitting display device and a method for manufacturing an organic light-emitting display device.

有機発光表示装置(Organic Light Emitting Display:OLED)は、低電圧駆動が可能で薄型であり、視野角に優れて応答速度が速いという特徴がある。 An organic light emitting display (OLED) can be driven at a low voltage, is thin, has an excellent viewing angle, and has a fast response speed.

その一方で、有機発光表示装置は、酸素および水分の影響によって有機発光素子(有機発光ダイオード)の劣化が生じ、発光性能が低下してしまう。このため、有機発光表示装置への酸素および水分の透過を抑制する技術の開発が進められている。 On the other hand, in the organic light-emitting display device, the organic light-emitting element (organic light-emitting diode) deteriorates due to the influence of oxygen and moisture, resulting in a decrease in light-emitting performance. Therefore, techniques for suppressing permeation of oxygen and moisture to the organic light-emitting display device are being developed.

例えば、特許文献1には、素子基板と対向基板の間に設けられたダム材(封止壁)によって有機発光素子の周囲を封止することで酸素および水分の透過を抑制する有機発光表示装置が開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses an organic light-emitting display device in which permeation of oxygen and moisture is suppressed by sealing the periphery of an organic light-emitting element with a dam material (sealing wall) provided between an element substrate and a counter substrate. is disclosed.

特開2015-076195号公報JP 2015-076195 A

特許文献1に記載された有機発光表示装置では、ダム材は樹脂により形成されているため、酸素および水分に対する充分な遮蔽性を得るためにはダム材の幅(面方向における厚み)を広くすることが必要となる。その一方で、有機発光表示装置においては非表示領域の低減、デザイン性の向上、小型化および軽量化の観点から、ダム材の幅は狭いことが好ましく、狭ベゼル化(狭額縁化)が強く求められている。
したがって、酸素および水分に対する優れた遮蔽性と、狭ベゼル化とはトレードオフの関係にあり、これらを高次元に達成することが求められている。
In the organic light-emitting display device described in Patent Document 1, the dam material is made of resin, so the width (thickness in the plane direction) of the dam material is increased in order to obtain sufficient shielding properties against oxygen and moisture. is required. On the other hand, in organic light-emitting display devices, from the viewpoint of reducing the non-display area, improving design, miniaturization and weight reduction, it is preferable that the width of the dam material is narrow, and there is a strong desire to narrow the bezel (narrow frame). It has been demanded.
Therefore, there is a trade-off relationship between excellent shielding properties against oxygen and moisture and a narrow bezel, and it is required to achieve these at a high level.

本発明は、上述した従来技術における諸問題に鑑み、酸素および水分に対する優れた遮蔽性を有すると共に、狭ベゼル化が達成された有機発光表示装置および有機発光表示装置の製造方法を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-described problems in the prior art, it is an object of the present invention to provide an organic light-emitting display device that has excellent shielding properties against oxygen and moisture and achieves a narrow bezel, and a method for manufacturing the organic light-emitting display device. aim.

本発明の一観点によれば、素子基板と、前記素子基板上に設けられた有機発光素子層と、前記素子基板上において前記有機発光素子層の周囲に設けられたダム材と、前記素子基板と対向して前記ダム材上に設けられた対向基板と、前記ダム材の外壁面に設けられた封止膜と、を備える有機発光表示装置が提供される。 According to one aspect of the present invention, an element substrate, an organic light-emitting element layer provided on the element substrate, a dam material provided on the element substrate around the organic light-emitting element layer, and the element substrate and a sealing film provided on an outer wall surface of the dam member.

本発明の他の観点によれば、素子基板上に有機発光素子層を設ける工程と、前記素子基板上の前記有機発光素子層の周囲に、樹脂を含む塗工液を塗布して未硬化ダム材を設ける工程と、前記素子基板と対向して前記未硬化ダム材上に対向基板を設ける工程と、前記未硬化ダム材を硬化させてダム材を形成する工程と、前記ダム材の外壁面に封止膜を設ける工程と、を備える有機発光表示装置の製造方法が提供される。 According to another aspect of the present invention, a step of providing an organic light-emitting element layer on an element substrate; providing a counter substrate on the uncured dam material facing the element substrate; curing the uncured dam material to form a dam material; and an outer wall surface of the dam material. and providing a sealing film in the organic light-emitting display device.

本発明によれば、酸素および水分に対する優れた遮蔽性を有すると共に、狭ベゼル化が達成された有機発光表示装置および有機発光表示装置の製造方法が提供される。 According to the present invention, an organic light-emitting display device having excellent shielding properties against oxygen and moisture and achieving a narrow bezel and a method for manufacturing the organic light-emitting display device are provided.

本発明の第1の実施形態における有機発光表示装置を示す斜視図である。1 is a perspective view showing an organic light-emitting display device according to a first embodiment of the present invention; FIG. 本発明の第1の実施形態における有機発光表示装置を示すブロック図である。1 is a block diagram showing an organic light-emitting display device according to a first embodiment of the invention; FIG. 本発明の第1の実施形態における有機発光表示装置を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing an organic light-emitting display device according to a first embodiment of the present invention; FIG. 本発明の第1の実施形態における有機発光表示装置の製造方法を示すフローチャートである。4 is a flow chart showing a method for manufacturing an organic light-emitting display device according to the first embodiment of the present invention; 本発明の第1の実施形態における有機発光表示装置の製造方法を説明する図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a method for manufacturing the organic light-emitting display device according to the first embodiment of the present invention; 本発明の第2の実施形態における有機発光表示装置を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing an organic light emitting display device according to a second embodiment of the present invention; 本発明の第2の実施形態における有機発光表示装置の遮蔽構造を説明する要部拡大断面図である。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a main part for explaining a shielding structure of an organic light-emitting display device according to a second embodiment of the invention; 本発明の第2の実施形態における有機発光表示装置の製造方法を示すフローチャートである。6 is a flow chart showing a method of manufacturing an organic light emitting display device according to a second embodiment of the present invention; 本発明の第2の実施形態における有機発光表示装置の製造方法を説明する図である。8A to 8C are diagrams illustrating a method for manufacturing an organic light-emitting display device according to a second embodiment of the present invention; FIG. 本発明の変形実施形態における有機発光表示装置を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing an organic light-emitting display device according to a modified embodiment of the present invention; 本発明の変形実施形態における有機発光表示装置を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing an organic light-emitting display device according to a modified embodiment of the present invention;

[第1の実施形態]
図1は、本実施形態における有機発光表示装置100を示す斜視図である。図2は、本実施形態における有機発光表示装置100を示すブロック図である。なお、本実施形態において、各図面は説明のための模式図であり、寸法通りではない。特に、反復される多数の構成要素は、図示の明瞭化のためにその数量を大幅に減少して図示する。
[First embodiment]
FIG. 1 is a perspective view showing an organic light-emitting display device 100 according to this embodiment. FIG. 2 is a block diagram showing the organic light-emitting display device 100 according to this embodiment. In addition, in this embodiment, each drawing is a schematic diagram for description, and is not dimensional. In particular, many repetitive elements are shown in greatly reduced numbers for clarity of illustration.

図1および図2に示すように、本実施形態における有機発光表示装置100は、表示パネル110と、スキャン駆動部120と、データ駆動部130と、タイミングコントローラ160と、ホストシステム170とを備える。 As shown in FIGS. 1 and 2, the organic light emitting diode display 100 according to the present embodiment includes a display panel 110, a scan driver 120, a data driver 130, a timing controller 160, and a host system 170. FIG.

図1に示すように、表示パネル110は、対向する一対の基板である素子基板111と対向基板112とを備える。また、表示パネル110の外周方向の壁面(外壁面)には、封止膜113が設けられている。なお、以降の説明において、表示パネル110の表示面を画定する2辺の方向をそれぞれX方向およびY方向といい、表示面に垂直な方向(すなわち、X-Y平面に垂直な方向)をZ方向という。また、本実施形態において、「上」または「下」という表現は、現実の使用における位置関係を限定するものではない。 As shown in FIG. 1, the display panel 110 includes an element substrate 111 and a counter substrate 112, which are a pair of opposing substrates. A sealing film 113 is provided on a wall surface (outer wall surface) of the display panel 110 in the outer peripheral direction. In the following description, the directions of the two sides defining the display surface of the display panel 110 are referred to as the X direction and the Y direction, respectively, and the direction perpendicular to the display surface (that is, the direction perpendicular to the XY plane) is the Z direction. called direction. Moreover, in the present embodiment, the expressions "above" and "below" do not limit the positional relationship in actual use.

図2に示すように、表示パネル110は、画素Pが設けられ画像を表示する領域である表示領域を備える。表示パネル110には、データライン(D1~Dm、mは2以上の正の整数)とスキャンライン(S1~Sn、nは2以上の正の整数)が形成される。データライン(D1~Dm)は、スキャンライン(S1~Sn)と交差するように形成される。画素Pは、ゲートラインとデータラインの交差構造によって定義される領域に形成される。 As shown in FIG. 2, the display panel 110 includes a display area in which pixels P are provided and an image is displayed. Data lines (D1 to Dm, m is a positive integer of 2 or more) and scan lines (S1 to Sn, n is a positive integer of 2 or more) are formed on the display panel 110 . The data lines (D1-Dm) are formed to cross the scan lines (S1-Sn). Pixels P are formed in regions defined by crossing structures of gate lines and data lines.

表示パネル110の画素Pのそれぞれは、データライン(D1~Dm)のいずれか一つとスキャンライン(S1~Sn)のいずれか一つに接続され得る。表示パネル110の画素Pのそれぞれは、ゲート電極に印加されたデータ電圧に応じてドレイン・ソース間電流を調整する駆動トランジスタ(transistor)、スキャンラインのスキャン信号によってONにされ、データラインのデータ電圧を駆動トランジスタのゲート電極に供給するスキャントランジスタ、駆動トランジスタのドレイン・ソース間電流に応じて発光する有機発光ダイオード(Organic Light Emitting Diode)、および前記駆動トランジスタのゲート電極の電圧を保存するためのコンデンサ(Capacitor)を含み得る。これにより、画素Pのそれぞれは、有機発光ダイオードに供給される電流に応じて発光することができる。 Each of the pixels P of the display panel 110 can be connected to one of the data lines (D1-Dm) and one of the scan lines (S1-Sn). Each of the pixels P of the display panel 110 is turned on by a driving transistor that adjusts the current between the drain and the source according to the data voltage applied to the gate electrode, the scan signal of the scan line, and the data voltage of the data line. to the gate electrode of the drive transistor, an organic light emitting diode that emits light in accordance with the drain-source current of the drive transistor, and a capacitor for storing the voltage of the gate electrode of the drive transistor. (Capacitor). Thereby, each of the pixels P can emit light according to the current supplied to the organic light emitting diode.

スキャン駆動部120は、タイミングコントローラ160からスキャン制御信号(GCS)の入力を受ける。スキャン駆動部120は、スキャン制御信号(GCS)に基づいてスキャン信号をスキャンライン(S1~Sn)に供給する。 The scan driver 120 receives a scan control signal (GCS) from the timing controller 160 . The scan driver 120 supplies scan signals to the scan lines (S1 to Sn) based on the scan control signal (GCS).

スキャン駆動部120は、表示パネル110の表示領域の一側または両側の外側の非表示領域にGIP(gate driver in panel)方式で形成され得る。または、スキャン駆動部120は、駆動チップにて製作され、軟性フィルム140を用いて実装され、TAB(Tape Automated Bonding)方式で表示パネル110の表示領域の一側または両側の外側の非表示領域に付着させることもできる。 The scan driver 120 may be formed in a non-display area on one side or both sides of the display area of the display panel 110 using a gate driver in panel (GIP) method. Alternatively, the scan driver 120 is made of a driving chip, mounted using a flexible film 140, and attached to a non-display area on one side or both sides of the display area of the display panel 110 by a TAB (Tape Automated Bonding) method. It can also be attached.

データ駆動部130は、タイミングコントローラ160からのデジタルビデオデータ(DATA)とデータ制御信号(DCS)の入力を受ける。データ駆動部130は、データ制御信号(DCS)に基づいて、デジタルビデオデータ(DATA)をアナログ正極性/負極性データ電圧に変換してデータラインに供給する。つまり、スキャン駆動部120のスキャン信号によってデータ電圧が供給される画素Pが選択され、選択された画素Pにデータ電圧が供給される。 The data driver 130 receives digital video data (DATA) and a data control signal (DCS) from the timing controller 160 . The data driver 130 converts the digital video data (DATA) into analog positive/negative data voltages based on the data control signal (DCS) and supplies the analog positive/negative data voltages to the data lines. That is, the pixel P to which the data voltage is supplied is selected according to the scan signal of the scan driver 120, and the selected pixel P is supplied with the data voltage.

データ駆動部130は、図1に示すように、複数のソースドライブIC131を含むことができる。複数のソースドライブIC131の各々は、COF(Chip On Film)またはCOP(Chip On Plastic)方式で軟性フィルム140に実装され得る。軟性フィルム140は、異方性導電フィルム(antisotropic conducting film)を用いて、表示パネル110の非表示領域に設けられたパッド上に付着する。これにより、複数のソースドライブIC131は、パッドに接続ことができる。 The data driver 130 may include a plurality of source driver ICs 131, as shown in FIG. Each of the plurality of source drive ICs 131 may be mounted on the flexible film 140 in a COF (Chip On Film) or COP (Chip On Plastic) method. The flexible film 140 is attached on pads provided in the non-display area of the display panel 110 using an anisotropic conducting film. Thereby, a plurality of source driver ICs 131 can be connected to the pads.

回路基板150は、軟性フィルム140に付着することができる。回路基板150には、駆動チップに実装された多数の回路が実装され得る。例えば、回路基板150には、タイミングコントローラ160が実装され得る。回路基板150は、プリント回路基板(printed circuit board)またはフレキシブルプリント回路基板(flexible printed circuit board)であり得る。 A circuit board 150 can be attached to the flexible film 140 . Circuit board 150 may be mounted with a number of circuits mounted on a driver chip. For example, the timing controller 160 may be mounted on the circuit board 150 . Circuit board 150 may be a printed circuit board or a flexible printed circuit board.

タイミングコントローラ160は、ホストシステム170からのデジタルビデオデータ(DATA)とタイミング信号の入力を受ける。タイミング信号は、垂直同期信号(vertical synchronization signal)、水平同期信号(horizontal synchronization signal)、データイネーブル信号(data enable signal)、ドットクロック(dot clock)などを含むことができる。垂直同期信号は、1フレーム期間を定義する信号である。水平同期信号は、表示パネル110の1水平ラインの画素Pにデータ電圧を供給するのに必要な1水平期間を定義する信号である。データイネーブル信号は、有効なデータが入力される期間を定義する信号である。ドットクロックは、所定の短い周期で反復する信号である。 Timing controller 160 receives digital video data (DATA) from host system 170 and timing signals. The timing signals may include vertical synchronization signals, horizontal synchronization signals, data enable signals, dot clocks, and the like. A vertical sync signal is a signal that defines one frame period. A horizontal synchronizing signal is a signal that defines one horizontal period required to supply a data voltage to pixels P in one horizontal line of the display panel 110 . A data enable signal is a signal that defines a period in which valid data is input. A dot clock is a signal that repeats at a predetermined short period.

タイミングコントローラ160は、スキャン駆動部120と、データ駆動部130の動作タイミングを制御するために、タイミング信号に基づいて、データ駆動部130の動作タイミングを制御するためのデータ制御信号(DCS)と、スキャン駆動部120の動作タイミングを制御するためのスキャン制御信号(GCS)とを発生する。タイミングコントローラ160は、スキャン駆動部120にスキャン制御信号(GCS)を出力し、データ駆動部130にデジタルビデオデータ(DATA)とデータ制御信号(DCS)とを出力する。 The timing controller 160 controls the operation timing of the scan driver 120 and the data driver 130 based on the timing signal, a data control signal (DCS) for controlling the operation timing of the data driver 130; A scan control signal (GCS) for controlling the operation timing of the scan driver 120 is generated. The timing controller 160 outputs a scan control signal (GCS) to the scan driver 120 and outputs digital video data (DATA) and a data control signal (DCS) to the data driver 130 .

ホストシステム170は、ナビゲーションシステム、セットトップボックス、DVDプレーヤー、ブルーレイプレーヤー、パーソナルコンピュータ(PC)、ホームシアターシステム、放送受信機、携帯電話システム(Phone system)などで実装され得る。ホストシステム170は、スケーラー(scaler)を内蔵したSoC(System on chip)を含む入力映像のデジタルビデオデータ(DATA)を表示パネル110に表示するのに適した形式に変換する。ホストシステム170は、デジタルビデオデータ(DATA)とタイミング信号とをタイミングコントローラ160に伝送する。 Host system 170 may be implemented in a navigation system, set-top box, DVD player, Blu-ray player, personal computer (PC), home theater system, broadcast receiver, phone system, and the like. The host system 170 converts digital video data (DATA) of an input image including an SoC (System on chip) with a built-in scaler into a format suitable for display on the display panel 110 . Host system 170 transmits digital video data (DATA) and timing signals to timing controller 160 .

図3は、本実施形態における有機発光表示装置100を示す断面図である。なお、図3は、図1に示す表示パネル110のX-Z平面における断面図であるが、説明の便宜上、各部材の寸法および比率は図1とは異なるものとする。また、以下においてはトップエミッション型の有機発光表示装置100を例に挙げて説明するが、本発明の有機発光表示装置はトップエミッション型に限られるものではなく、ボトムエミッション型の有機発光表示装置であってもよい。 FIG. 3 is a cross-sectional view showing the organic light-emitting display device 100 according to this embodiment. Although FIG. 3 is a cross-sectional view of the display panel 110 shown in FIG. 1 taken along the XZ plane, for convenience of explanation, the dimensions and proportions of each member are different from those in FIG. Further, although the top emission type organic light emitting display device 100 will be described below as an example, the organic light emitting display device of the present invention is not limited to the top emission type, and may be a bottom emission type organic light emitting display device. There may be.

図3に示すように、本実施形態による有機発光表示装置100は、素子基板111と、対向基板112と、封止膜113と、有機発光素子層114と、パッシベーション層115と、ダム材116と、充填材117とを備える。
ている。
As shown in FIG. 3, the organic light-emitting display device 100 according to this embodiment includes an element substrate 111, a counter substrate 112, a sealing film 113, an organic light-emitting element layer 114, a passivation layer 115, and a dam material 116. , and a filler 117 .
ing.

素子基板111は、例えば、ガラス基板である。なお、素子基板111は、ガラス基板に限定されるものではなく、種々の材質の基板を用いることができる。また、素子基板111上には、バリア層(不図示)が形成される。バリア層の材料としては、酸素および水分に対する遮蔽性を有する材料であれば特に制限はなく、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アルミナなどが挙げられる。また、バリア層は単層であってもよく、2層以上の積層構成であってもよい。さらに、バリア層上には、有機発光素子層114を駆動する駆動回路を構成する薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:TFT)を含むTFT層(不図示)が形成される。 The element substrate 111 is, for example, a glass substrate. Note that the element substrate 111 is not limited to a glass substrate, and substrates made of various materials can be used. A barrier layer (not shown) is formed on the element substrate 111 . The material of the barrier layer is not particularly limited as long as it has a shielding property against oxygen and moisture, and examples thereof include silicon oxide, silicon nitride, and alumina. Also, the barrier layer may be a single layer, or may have a laminated structure of two or more layers. Furthermore, a TFT layer (not shown) including a thin film transistor (TFT) constituting a driving circuit for driving the organic light emitting element layer 114 is formed on the barrier layer.

対向基板112は、例えば、ガラス基板である。透明性を有する対向基板112が有機発光素子層114の発光方向に位置することにより、トップエミッション型の表示装置を構成することができる。対向基板112は、ダム材116および充填材117の上に接着・固定されている。 The counter substrate 112 is, for example, a glass substrate. A top-emission type display device can be configured by positioning the transparent counter substrate 112 in the light emitting direction of the organic light emitting element layer 114 . The opposing substrate 112 is adhered and fixed onto the dam material 116 and the filler material 117 .

封止膜113は、ダム材116の外壁面上に設けられている。本実施形態では、図1に示すように、封止膜113は、表示パネル110において図中XY平面に垂直な3つの外壁面上に連続して設けられている。また、封止膜113は、表示パネル110の厚み方向(Z方向)において、素子基板111、ダム材116および対向基板112の3つ部材の外壁面を跨るように連続して形成されている。なお、封止膜113は、金属酸化物および金属窒化物の少なくとも一つを含む蒸着膜であり、公知の成膜法の一つであるエアロゾルデポジション法(Aerosol Deposition method:AD法)により形成される。 The sealing film 113 is provided on the outer wall surface of the dam material 116 . In this embodiment, as shown in FIG. 1, the sealing film 113 is continuously provided on three outer wall surfaces of the display panel 110 perpendicular to the XY plane in the drawing. The sealing film 113 is formed continuously across the outer wall surfaces of the element substrate 111 , the dam member 116 and the opposing substrate 112 in the thickness direction (Z direction) of the display panel 110 . The sealing film 113 is a deposited film containing at least one of a metal oxide and a metal nitride, and is formed by an aerosol deposition method (AD method), which is one of known film forming methods. be done.

エアロゾルデポジション法は、金属酸化物や金属窒化物などからなる脆性材料の微粒子エアロゾルを、ノズルから高速で対象物の表面に向けて噴射することによって、対象物に微粒子を衝突させ、その機械的衝撃力を利用して脆性材料の多結晶構造物を対象物の表面に形成する方法である。エアロゾルデポジション法によれば、非湿式かつ非加熱の条件下にて焼成体と同等の機械的強度と酸素および水分に対する高い遮蔽性を併せ持つ緻密な構造物を得ることができる。 In the aerosol deposition method, a fine particle aerosol of brittle materials such as metal oxides and metal nitrides is sprayed from a nozzle toward the surface of the target object at high speed. This is a method of forming a polycrystalline structure of a brittle material on the surface of an object using impact force. According to the aerosol deposition method, it is possible to obtain a dense structure having both mechanical strength equivalent to that of a sintered body and high shielding against oxygen and moisture under non-wet and non-heated conditions.

水分に対する高い遮蔽性(高水蒸気バリア性)は、一般的に水蒸気透過度(Water Vapor Transmission Rate:WVTR)で表される。水蒸気透過度の単位としては、水蒸気量を単位時間(1日)、単位面積(1m)当たりに換算したものが一般的に用いられる。特に、有機エレクトロニクス基板の用途では、10-5~10-6g/m/dayと極めて低い透過性が要求されており、本実施形態の封止膜113も当該基準を満たすものとする。 A high moisture shielding property (high water vapor barrier property) is generally represented by a water vapor transmission rate (WVTR). As the unit of water vapor transmission rate, the amount of water vapor converted per unit time (1 day) and per unit area (1 m 2 ) is generally used. In particular, applications for organic electronic substrates require extremely low permeability of 10 −5 to 10 −6 g/m 2 /day, and the sealing film 113 of the present embodiment also satisfies this standard.

封止膜113の材料としては、アルミナ、ジルコニア(二酸化ジルコニウム)、チタニア(酸化チタン)などが用いられる。また、封止膜113は、透明性を有すると好適である。封止膜113の厚みは、100nm~100umであると好適である。 Alumina, zirconia (zirconium dioxide), titania (titanium oxide), or the like is used as the material of the sealing film 113 . Moreover, it is preferable that the sealing film 113 has transparency. The thickness of the sealing film 113 is preferably 100 nm to 100 um.

有機発光素子層114は、上述したTFT層上に設けられている。有機発光素子層114は、有機発光素子(不図示)とバンク(不図示)を備える。有機発光素子は、アノード(陽極)と、アノード上に形成された有機化合物層(有機発光層)と、有機化合物層上に形成されたカソード(陰極)を有する。また、有機化合物層は、アノード側から順に、正孔注入層と、正孔輸送層と、発光層と、電子輸送層と、電子注入層を有する。なお、有機発光素子層114を構成する各層は、公知の材料を用いて形成できる。 The organic light emitting element layer 114 is provided on the TFT layer described above. The organic light emitting element layer 114 includes organic light emitting elements (not shown) and banks (not shown). An organic light-emitting element has an anode (anode), an organic compound layer (organic light-emitting layer) formed on the anode, and a cathode (cathode) formed on the organic compound layer. Also, the organic compound layer has, in order from the anode side, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. Each layer constituting the organic light-emitting element layer 114 can be formed using known materials.

アノードとしては、例えば、アルミニウム、銀、プラチナ、クロムなどの反射率の高い材料の薄膜からなる反射電極、および、これらの薄膜上にITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)などの透明導電性酸化物の薄膜を形成した反射電極が挙げられる。 As the anode, for example, a reflective electrode made of a thin film of a highly reflective material such as aluminum, silver, platinum, or chromium, and a transparent material such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide) is deposited on these thin films. A reflective electrode in which a thin film of a conductive oxide is formed can be used.

有機化合物層は、例えば、ピクセルを構成するサブピクセルに応じて、赤色光を発光するR用有機化合物層と、緑色光を発光するG用有機化合物層と、青色光を発光するB用有機化合物層とを含んでいる。R,G,B用有機化合物層は、それぞれの発光色に応じた公知の材料により構成されている。 The organic compound layers include, for example, an R organic compound layer that emits red light, a G organic compound layer that emits green light, and a B organic compound layer that emits blue light, depending on the sub-pixels constituting the pixel. layer and The organic compound layers for R, G, and B are composed of known materials corresponding to respective emission colors.

カソードとしては、例えば、銀、銀合金、ITO、IZOなどの薄膜からなる半透明電極または透明電極が用いられる。 As the cathode, for example, a translucent or transparent electrode made of a thin film of silver, silver alloy, ITO, IZO or the like is used.

バンクは、画素Pを区画するように、例えばアノードの端部を覆うように形成される。すなわち、バンクは、画素Pを定義する画素定義膜としての役割をする。バンクとしては、例えばアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの有機膜が用いられる。 The bank is formed so as to partition the pixel P, for example, so as to cover the end of the anode. That is, the bank serves as a pixel definition film that defines the pixel P. FIG. As the bank, for example, an organic film such as acrylic resin or epoxy resin is used.

パッシベーション層115は、有機発光素子層114を覆うように、有機発光素子層114の上面および側面に設けられている。パッシベーション層115は、透湿性の低い無機膜からなり、酸素および水分から有機発光素子層114を保護する保護膜として機能する。パッシベーション層115としては、例えば、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜などが用いられる。 The passivation layer 115 is provided on the upper and side surfaces of the organic light emitting element layer 114 so as to cover the organic light emitting element layer 114 . The passivation layer 115 is made of an inorganic film with low moisture permeability and functions as a protective film that protects the organic light emitting element layer 114 from oxygen and moisture. As the passivation layer 115, for example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or the like is used.

ダム材116は、素子基板111上にマトリクス状に形成された複数の有機発光素子層114の周囲に設けられている。ダム材116は、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂などの透明な樹脂からなる。ダム材116の材料としては、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂などが用いられる。 The dam material 116 is provided around the plurality of organic light-emitting element layers 114 formed in a matrix on the element substrate 111 . The dam member 116 is made of transparent resin such as thermosetting resin or photo-setting resin. As a material of the dam member 116, for example, epoxy resin, acrylic resin, or the like is used.

ダム材116上には、素子基板111に対向して対向基板112が設けられる。ダム材116は、素子基板111(バリア層)と対向基板112との間に設けられ、熱や光によって硬化することで一対の基板の接着部材としても機能する。なお、製造された表示パネル110の厚み方向において、素子基板111、ダム材116および対向基板112の積層領域を通過する光の透過度が80%以上になるように、各部材の材質が選択されていると好適である。 A counter substrate 112 is provided on the dam material 116 so as to face the element substrate 111 . The dam material 116 is provided between the element substrate 111 (barrier layer) and the counter substrate 112, and functions as an adhesive member between the pair of substrates by curing with heat or light. The material of each member is selected so that the transmittance of light passing through the layered region of the element substrate 111, the dam member 116, and the counter substrate 112 in the thickness direction of the manufactured display panel 110 is 80% or more. It is preferable to have

充填材117は、パッシベーション層115、ダム材116および対向基板112により囲まれた空間領域に充填されている。充填材117は、ダム材116と同様に、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂などの透明な樹脂からなる。充填材117は、ダム材116と同様に、熱や光によって硬化することで一対の基板の接着部材としても機能する。なお、ダム材116および充填材117の屈折率は、0.5~0.55であると好適である。上下の基板(素子基板111および対向基板112)とダム材116との屈折率の差は、0.1以下であると好適である。 Filling material 117 fills a spatial region surrounded by passivation layer 115 , dam material 116 and opposing substrate 112 . Like the dam material 116, the filler 117 is made of a transparent resin such as a thermosetting resin or a photocurable resin. The filling material 117, like the dam material 116, also functions as an adhesive member for a pair of substrates by curing with heat or light. It is preferable that the dam material 116 and the filler material 117 have a refractive index of 0.5 to 0.55. The difference in refractive index between the upper and lower substrates (the element substrate 111 and the counter substrate 112) and the dam member 116 is preferably 0.1 or less.

続いて、本実施形態における有機発光表示装置100の製造方法について図4および図5を用いて説明する。図4は、本実施形態における有機発光表示装置100の製造方法を示すフローチャートである。図5は、本実施形態における有機発光表示装置100の製造方法を説明する図である。 Next, a method for manufacturing the organic light-emitting display device 100 according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 4 and 5. FIG. FIG. 4 is a flow chart showing a method for manufacturing the organic light emitting display device 100 according to this embodiment. 5A and 5B are diagrams illustrating a method for manufacturing the organic light-emitting display device 100 according to this embodiment.

先ず、図5(A)に示すように、素子基板111の上面に有機発光素子層114を形成する(ステップS11)。 First, as shown in FIG. 5A, the organic light-emitting element layer 114 is formed on the upper surface of the element substrate 111 (step S11).

次に、図5(B)に示すように、有機発光素子層114の上面および側面にパッシベーション層115を形成し、有機発光素子層114を覆う(ステップS12)。 Next, as shown in FIG. 5B, a passivation layer 115 is formed on the upper and side surfaces of the organic light emitting element layer 114 to cover the organic light emitting element layer 114 (step S12).

次に、後述する充填材117の注入に備えて、図5(C)に示すように、素子基板111において有機発光素子層114およびパッシベーション層115の周囲に未硬化樹脂であるダム材116を塗布する(ステップS13)。 Next, as shown in FIG. 5C, a dam material 116, which is an uncured resin, is applied around the organic light emitting element layer 114 and the passivation layer 115 on the element substrate 111 in preparation for the injection of the filler 117, which will be described later. (step S13).

次に、ダム材116に対して紫外線を所定時間照射することにより、ダム材116を仮硬化する(ステップS14)。 Next, the dam material 116 is temporarily cured by irradiating the dam material 116 with ultraviolet light for a predetermined time (step S14).

次に、図5(D)に示すように、素子基板111、パッシベーション層115およびダム材116により囲まれた空間に充填材117を注入する(ステップS15)。 Next, as shown in FIG. 5D, a filling material 117 is injected into the space surrounded by the element substrate 111, the passivation layer 115 and the dam material 116 (step S15).

次に、図5(E)に示すように、素子基板111と対向してダム材116および充填材117の上に対向基板112を貼り合せる(ステップS16)。 Next, as shown in FIG. 5E, the opposing substrate 112 is attached on the dam material 116 and the filling material 117 so as to face the element substrate 111 (step S16).

次に、図5(F)に示すように、例えば約100Paに減圧された常温状態のチャンバーC1内に表示パネル110の中間体(図5(E)参照)を搬入した後、当該中間体におけるダム材116、素子基板111、対向基板112の各外壁面に微粒子エアロゾルASをノズルN1から噴射することで、AD法に基づいて外壁面上に封止膜113を形成する(ステップS17)。 Next, as shown in FIG. 5(F), after the intermediate body of the display panel 110 (see FIG. 5(E)) is carried into the chamber C1 at normal temperature, which is depressurized to about 100 Pa, the intermediate body A sealing film 113 is formed on the outer wall surfaces of the dam material 116, the element substrate 111, and the counter substrate 112 by spraying the fine particle aerosol AS from the nozzle N1 on the outer wall surfaces based on the AD method (step S17).

そして、内部温度を例えば100℃まで温度を上昇させたチャンバーC1内で中間体を所定時間継続して熱処理、あるいは、中間体に紫外線を30分間照射することで、充填材117およびダム材116を本硬化させる(ステップS18)。硬化条件は、充填材117およびダム材116材質に応じて適宜選択される。これにより、有機発光表示装置100の表示パネル110の製造処理が完了する。 Then, the filler 117 and the dam material 116 are removed by continuously heat-treating the intermediate for a predetermined period of time in the chamber C1 whose internal temperature is raised to, for example, 100° C., or by irradiating the intermediate with ultraviolet rays for 30 minutes. Final curing is performed (step S18). Curing conditions are appropriately selected according to the material of the filler 117 and the dam material 116 . Thus, the manufacturing process of the display panel 110 of the organic light emitting display device 100 is completed.

以上のように、本実施形態における有機発光表示装置100によれば、酸素および水分に対する優れた遮蔽性を有すると共に、狭ベゼル化が達成される。 As described above, according to the organic light-emitting display device 100 of the present embodiment, excellent shielding properties against oxygen and moisture are achieved, and a narrow bezel is achieved.

詳述すると、極めて薄い厚み(100nm~100um)で形成された封止膜113のみで遮蔽性(高水蒸気バリア性)が確保される構造のため、従来装置よりもダム材116の幅を大幅に狭くすることが可能になる。また、従来装置のダム材116は、吸湿機能を有するゲッター材を含むため、表示パネル110の縁部が白濁し、非表示領域の増大の原因となっていた。これに対し、本実施形態における有機発光表示装置100は、封止膜113の遮蔽性により、ダム材116の内部にゲッター材を含む必要がない構造のため、ダム材116を透明樹脂のみから形成でき、その結果、透明な表示領域の拡大(狭ベゼル化)を達成できる。 More specifically, the width of the dam material 116 is significantly reduced compared to the conventional device because of the structure in which the shielding property (high water vapor barrier property) is ensured only by the sealing film 113 formed with an extremely thin thickness (100 nm to 100 um). can be made narrower. In addition, since the dam material 116 of the conventional device contains a getter material having a moisture absorption function, the edge of the display panel 110 becomes cloudy, causing an increase in the non-display area. In contrast, in the organic light-emitting display device 100 according to the present embodiment, the dam material 116 does not need to contain a getter material inside the dam material 116 due to the shielding properties of the sealing film 113. Therefore, the dam material 116 is formed only from a transparent resin. As a result, expansion of the transparent display area (narrow bezel) can be achieved.

また、ダム材116が樹脂のみから形成されるため、ダム材116がゲッター材を包含する場合と比較して、ダム材116と素子基板111および対向基板112との接着力を向上させることができる利点もある。 In addition, since the dam member 116 is made of resin only, the adhesive force between the dam member 116 and the element substrate 111 and the opposing substrate 112 can be improved compared to the case where the dam member 116 includes a getter material. There are also advantages.

また、AD法を用いることで、高温状態(例えば250℃)のチャンバー内で基板を高速回転させながら成膜を行うCVD(Chemical Vapor Deposition)法と比較して以下のような利点もある。
(A)常温環境の下で基板の外壁面(側面)に封止膜113を蒸着可能なため、成膜工程に要するコストを抑制できる。
(B)基板の表面のすべてを成膜するCVD法とは異なり、所望の部分への限定的な封止膜113の形成が可能である。
In addition, the AD method has the following advantages over the CVD (Chemical Vapor Deposition) method in which film formation is performed while a substrate is rotated at high speed in a chamber at a high temperature (for example, 250° C.).
(A) Since the sealing film 113 can be vapor-deposited on the outer wall surface (side surface) of the substrate under a room temperature environment, the cost required for the film formation process can be suppressed.
(B) Unlike the CVD method that forms a film on the entire surface of the substrate, it is possible to form the sealing film 113 only on a desired portion.

さらに、封止膜113のみで遮蔽性(高水蒸気バリア性)が確保される構造により、ダム材116の厚みを薄くできる利点もある。これにより、表示パネル110全体での厚みも薄くなるため、表示パネル110の柔軟性も向上できる利点もある。 Furthermore, there is an advantage that the thickness of the dam material 116 can be made thinner due to the structure in which the shielding property (high water vapor barrier property) is ensured only by the sealing film 113 . As a result, the thickness of the display panel 110 as a whole is reduced, so that there is an advantage that the flexibility of the display panel 110 can be improved.

[第2の実施形態]
続いて、本実施形態における有機発光表示装置200を図6乃至図9に基づいて説明する。なお、第1の実施形態の図中において付与した符号と共通する符号は同一の対象を示す。以下では、第1の実施形態と共通する箇所の説明は省略し、第1の実施形態と異なる構成および動作を中心に説明する。
[Second embodiment]
Next, the organic light-emitting display device 200 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 6 to 9. FIG. Reference numerals common to the reference numerals given in the drawings of the first embodiment indicate the same objects. In the following, descriptions of parts common to the first embodiment will be omitted, and descriptions will focus on configurations and operations that differ from the first embodiment.

図6は、本実施形態における有機発光表示装置200を示す断面図である。本実施形態における封止膜118は、層状無機化合物から分離されたナノシート118aと、有機樹脂層118bとをナノメートル単位で交互に積層したナノシート複合膜である点で第1の実施形態と異なっている。ナノシート118aの材質は、例えば、モンモリロナイト、ベントナイト、ヘクトライト、オクトシリケーなどである。また、封止膜118のアスペクト比は、300:1以上、含油率は30wt%以上であると好適である。封止膜118の厚みは、100nm~100umであると好適である。 FIG. 6 is a cross-sectional view showing the organic light-emitting display device 200 according to this embodiment. The sealing film 118 in this embodiment differs from the first embodiment in that it is a nanosheet composite film in which nanosheets 118a separated from a layered inorganic compound and organic resin layers 118b are alternately laminated in units of nanometers. there is The material of the nanosheet 118a is, for example, montmorillonite, bentonite, hectorite, octosilicate, or the like. Further, it is preferable that the sealing film 118 has an aspect ratio of 300:1 or more and an oil content of 30 wt % or more. The thickness of the sealing film 118 is preferably 100 nm to 100 um.

図7は、本実施形態における有機発光表示装置200の遮蔽構造を説明する要部拡大断面図である。図7に示すように、ナノシート118aは、封止膜118の内部で分散し、かつ、ナノシート118aの面方向は封止膜118の面方向(図中Z方向)と略平行となるように設けられている。また、図中の破線矢印は、有機樹脂層118b内に侵入した水分(HO)の進行方向を示している。図7においては、酸素および水分が、封止膜118の内部において最短の経路を取り得ず、最短経路から大きく逸れた複雑で非常に長い経路を辿らなければダム材116まで到達できないことを示している。すなわち、封止膜118は、ナノシート118aと有機樹脂層118bがナノメートル単位でX方向またはY方向に積層されることで形成されるため、高度な遮蔽性を有していることを意味する。 FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of a main part for explaining the shielding structure of the organic light-emitting display device 200 according to this embodiment. As shown in FIG. 7, the nanosheets 118a are dispersed inside the sealing film 118, and the surface direction of the nanosheets 118a is provided so as to be substantially parallel to the surface direction of the sealing film 118 (the Z direction in the figure). It is Also, the dashed arrows in the drawing indicate the traveling direction of water (H 2 O) that has entered the organic resin layer 118b. FIG. 7 shows that oxygen and moisture cannot take the shortest path inside the sealing film 118 and cannot reach the dam material 116 unless they follow a complicated and very long path that deviates greatly from the shortest path. there is That is, since the sealing film 118 is formed by laminating the nanosheet 118a and the organic resin layer 118b in units of nanometers in the X direction or the Y direction, it means that the sealing film 118 has a high shielding property.

続いて、本実施形態における有機発光表示装置200の製造方法について図8および図9を用いて説明する。図8は、本実施形態における有機発光表示装置200の製造方法を示すフローチャートである。図9は、本実施形態における有機発光表示装置200の製造方法を説明する図である。 Next, a method for manufacturing the organic light-emitting display device 200 according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 8 and 9. FIG. FIG. 8 is a flowchart showing a method for manufacturing the organic light emitting display device 200 according to this embodiment. 9A and 9B are diagrams illustrating a method for manufacturing the organic light-emitting display device 200 according to this embodiment.

先ず、図9(A)に示すように、素子基板111の上面に有機発光素子層114を形成する(ステップS21)。 First, as shown in FIG. 9A, the organic light-emitting element layer 114 is formed on the upper surface of the element substrate 111 (step S21).

次に、図9(B)に示すように、有機発光素子層114の上面および側面にパッシベーション層115を形成し、有機発光素子層114を覆う(ステップS22)。 Next, as shown in FIG. 9B, a passivation layer 115 is formed on the top and side surfaces of the organic light emitting element layer 114 to cover the organic light emitting element layer 114 (step S22).

次に、図9(C)に示すように、素子基板111において有機発光素子層114およびパッシベーション層115の周囲に、未硬化樹脂であるダム材116を塗布する(ステップS23)。 Next, as shown in FIG. 9C, a dam material 116, which is an uncured resin, is applied around the organic light emitting element layer 114 and the passivation layer 115 on the element substrate 111 (step S23).

次に、ダム材116に対して紫外線を所定時間照射することにより、ダム材116を仮硬化する(ステップS24)。 Next, the dam material 116 is temporarily cured by irradiating the dam material 116 with ultraviolet light for a predetermined time (step S24).

次に、図9(D)に示すように、素子基板111、パッシベーション層115およびダム材116により囲まれた空間に充填材117を注入する(ステップS25)。 Next, as shown in FIG. 9D, filling material 117 is injected into the space surrounded by element substrate 111, passivation layer 115 and dam material 116 (step S25).

次に、図9(E)に示すように、素子基板111と対向して、ダム材116および充填材117の上に対向基板112を貼り合せる(ステップS26)。 Next, as shown in FIG. 9E, the opposing substrate 112 is attached on the dam material 116 and the filling material 117 so as to face the element substrate 111 (step S26).

次に、図9(F)に示すように、表示パネル110の中間体(図9(E)参照)をチャンバーC2内に搬入した後、ノズルN2から封止膜118の形成用に調整された塗工液を中間体におけるダム材116、素子基板111、対向基板112の各外壁面に繰り返し塗布する(ステップS27)。この際、チャンバーC2内の温度は、常温でよい。なお、塗工液は、例えばアスペクト比が1000:1程度のナノシート118aを溶媒と樹脂に単層剥離・分散させることによって調整されると好適である。 Next, as shown in FIG. 9(F), after the intermediate body of the display panel 110 (see FIG. 9(E)) was carried into the chamber C2, it was adjusted for forming the sealing film 118 from the nozzle N2. The coating liquid is repeatedly applied to each outer wall surface of the dam material 116, the element substrate 111, and the counter substrate 112 in the intermediate body (step S27). At this time, the temperature in the chamber C2 may be room temperature. The coating liquid is preferably prepared by exfoliating and dispersing nanosheets 118a having an aspect ratio of about 1000:1 in a solvent and a resin.

そして、チャンバーC2内の温度を例えば100℃まで上昇させ、表示パネル110の中間体に紫外線を30分間照射し、充填材117、ダム材116および封止膜118をそれぞれ本硬化させる(ステップS28)。これにより、有機発光表示装置200の表示パネル110の製造処理が完了する。 Then, the temperature in the chamber C2 is raised to, for example, 100° C., and the intermediate body of the display panel 110 is irradiated with ultraviolet rays for 30 minutes to fully cure the filling material 117, the dam material 116 and the sealing film 118 (step S28). . Thus, the manufacturing process of the display panel 110 of the organic light emitting display device 200 is completed.

以上のように、本実施形態における有機発光表示装置200によれば、酸素および水分に対する優れた遮蔽性を有すると共に、狭ベゼル化が達成される。これにより、上述した第1の実施形態と同様の効果を奏する。 As described above, according to the organic light-emitting display device 200 of the present embodiment, it has excellent shielding properties against oxygen and moisture and achieves a narrow bezel. This provides the same effects as the first embodiment described above.

さらに、上述した第1の実施形態と異なり、ナノシート118aを包含する塗工液を外壁面に塗布したのちに、チャンバーC2内で紫外線照射しながら所定の温度条件の下で塗工液を乾燥させるだけで封止膜118を容易に形成できるため、第1の実施形態の場合よりも、さらに限定的な範囲に対する成膜が可能になる利点もある。 Furthermore, unlike the first embodiment described above, after the coating liquid containing the nanosheets 118a is applied to the outer wall surface, the coating liquid is dried under a predetermined temperature condition while irradiating ultraviolet rays in the chamber C2. Since the sealing film 118 can be easily formed with only one step, there is an advantage that the film can be formed in a more limited range than in the case of the first embodiment.

[変形実施形態]
以上に本発明の好適な実施形態を示したが、本発明は、例えば以下に示すように種々の態様に変形可能である。
[Modified embodiment]
Although preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention can be modified in various ways, for example, as shown below.

図10は、変形実施形態における有機発光表示装置300を示す断面図である。ここでは、ダム材116の外壁面上に、有機樹脂および無機樹脂から形成されたハイブリッド膜119が形成され、封止膜113は、ハイブリッド膜119上に蒸着される場合が示されている。ハイブリッド膜119は、例えば、シラン変性エポキシ樹脂、POSS(polyhedral oligomeric silsesquioxane)ハイブリッド膜などである。このように、中間層として素子基板111、ダム材15および対向基板112の外壁面(側面)上にハイブリッド膜119が設けられる場合には、AD法により蒸着された封止膜113と外壁面との密着力および封止膜113の強度を高められる利点がある。 FIG. 10 is a cross-sectional view showing an OLED display 300 according to a modified embodiment. Here, a hybrid film 119 made of an organic resin and an inorganic resin is formed on the outer wall surface of the dam material 116, and the sealing film 113 is vapor-deposited on the hybrid film 119. As shown in FIG. The hybrid film 119 is, for example, a silane-modified epoxy resin, a POSS (polyhedral oligomeric silsesquioxane) hybrid film, or the like. In this way, when the hybrid film 119 is provided as an intermediate layer on the outer wall surfaces (side surfaces) of the element substrate 111, the dam material 15, and the counter substrate 112, the sealing film 113 deposited by the AD method and the outer wall surface are separated from each other. , and the strength of the sealing film 113 can be increased.

また、上述の第1および第2の実施形態においては、説明の便宜上、素子基板111、ダム材116および対向基板112の外壁面がZ方向において揃っている場合について説明した。しかし、AD法に基づく蒸着膜およびナノシート複合膜は、表示パネル110の所望の部分に形成できる。このため、素子基板111、ダム材116および対向基板112の境界部分に段部が設けられている場合も、上述の実施形態と同様に各外壁面に封止膜113、118を形成できる。例えば、素子基板111および対向基板112の外壁面がダム材116の外壁面よりも外側に突出している場合、少なくともダム材116の外壁面、ダム材116と素子基板111との境界領域、ダム材116と対向基板112との境界領域に封止膜113、118を設けることで、外壁面に垂直な方向(X方向およびY方向)からの酸素および水分の浸入を抑制できる。 Further, in the first and second embodiments described above, for convenience of explanation, the case where the outer wall surfaces of the element substrate 111, the dam member 116 and the opposing substrate 112 are aligned in the Z direction has been explained. However, the deposition film and nanosheet composite film based on the AD method can be formed on desired portions of the display panel 110 . Therefore, even when a stepped portion is provided at the boundary between the element substrate 111, the dam member 116, and the opposing substrate 112, the sealing films 113 and 118 can be formed on the respective outer wall surfaces in the same manner as in the above-described embodiment. For example, when the outer wall surfaces of the element substrate 111 and the counter substrate 112 protrude outside the outer wall surface of the dam member 116, at least the outer wall surface of the dam member 116, the boundary region between the dam member 116 and the element substrate 111, the dam member By providing the sealing films 113 and 118 in the boundary region between 116 and the opposing substrate 112, it is possible to suppress the intrusion of oxygen and moisture from directions (X direction and Y direction) perpendicular to the outer wall surface.

また、上述の第1および第2の実施形態において説明した遮蔽構造は、有機発光表示装置に限られず、液晶表示装置やプラズマ表示装置などの他の表示装置、照明装置などにも適用可能である。照明装置は、その用途に特に制限はなく、例えば、室内用照明、屋外用照明として用いてもよく、液晶表示装置のバックライトなど電子デバイス用照明としても用いてもよい。 In addition, the shielding structure described in the above-described first and second embodiments is not limited to organic light-emitting display devices, and can be applied to other display devices such as liquid crystal display devices and plasma display devices, lighting devices, and the like. . The use of the lighting device is not particularly limited, and for example, it may be used as indoor lighting or outdoor lighting, or may be used as electronic device lighting such as the backlight of a liquid crystal display device.

また、上述した第1および第2の実施形態では、有機発光素子層114が、赤色光を発光するR用有機化合物層と、緑色光を発光するG用有機化合物層と、青色光を発光するB用有機化合物層とを含む構成について例示したが、表示方式はこれに限られない。例えば、画素Pについて、発光色が赤色の発光素子、発光色が緑色の発光素子、発光色が青色の発光素子および発光色が白色の発光素子が設けられる構成でもよい。また、全ての発光素子が同じ発光色(例えば白色または青色)であり、画素P毎に必要なカラーフィルタが付加された構成を採用してもよい。 In addition, in the first and second embodiments described above, the organic light-emitting element layer 114 includes an R organic compound layer that emits red light, a G organic compound layer that emits green light, and a G organic compound layer that emits blue light. Although the configuration including the organic compound layer for B has been exemplified, the display method is not limited to this. For example, the pixel P may be provided with a light emitting element emitting red light, a light emitting element emitting green light, a light emitting element emitting blue light, and a light emitting element emitting white light. Further, a configuration in which all the light emitting elements emit the same color (for example, white or blue) and a necessary color filter is added to each pixel P may be employed.

また、上述した第1および第2の実施形態では、模式化した図面に基づいて表示パネル110の内部構造を説明したが、表示パネル110の内部構造は任意に変更可能である。図11は、変形実施形態における有機発光表示装置400を示す断面図である。ここでは、有機発光素子層114は、カソード114aと、バンク114bと、有機化合物層114cとを備えている。充填材117の層内には、バンク114bによって区画された有機発光素子層114にZ方向で対向する位置に、カラーフィルタ401が設けられている。これにより、例えば、有機化合物層114cの発光素子が白色または青色に発光したとき、カラーフィルタ401による色変換によってRGBの発色が得られる。 Further, in the first and second embodiments described above, the internal structure of the display panel 110 has been described based on schematic drawings, but the internal structure of the display panel 110 can be arbitrarily changed. FIG. 11 is a cross-sectional view showing an OLED display 400 according to a modified embodiment. Here, the organic light emitting element layer 114 comprises a cathode 114a, a bank 114b and an organic compound layer 114c. A color filter 401 is provided in the layer of the filler 117 at a position facing the organic light emitting element layer 114 partitioned by the bank 114b in the Z direction. As a result, for example, when the light-emitting elements of the organic compound layer 114c emit white or blue light, the color conversion by the color filter 401 produces RGB colors.

また、図11においては、素子基板111と有機発光素子層114との間に、下から順にパッシベーション(Passivation:PAS)層402と、オーバーコート(Over coat)層403とが積層されている。パッシベーション層402は、絶縁物質、例えば無機絶縁物質である酸化シリコンまたは窒化シリコンなどから形成され、保護層として機能する。パッシベーション層402は、素子基板111の上面全体に形成されている。このため、パッシベーション層402は、素子基板111側からの酸素や水分の浸透を抑制できる。また、パッシベーション層402の内部には、スキャン駆動部120がGIP形式で設けられている。 In FIG. 11, a passivation (PAS) layer 402 and an overcoat layer 403 are laminated in order from the bottom between the element substrate 111 and the organic light emitting element layer 114 . The passivation layer 402 is made of an insulating material, such as inorganic insulating material such as silicon oxide or silicon nitride, and functions as a protective layer. A passivation layer 402 is formed over the entire upper surface of the element substrate 111 . Therefore, the passivation layer 402 can suppress permeation of oxygen and moisture from the element substrate 111 side. Further, inside the passivation layer 402, the scan driver 120 is provided in the GIP format.

一方、オーバーコート層403は、素子基板111上に形成される薄膜トランジスタ(不図示)などによってパッシベーション層402の上面側に生じた段差を除去する平坦化層として機能する。オーバーコート層403は、絶縁物質、例えば有機絶縁物質から形成される。オーバーコート層403の材料としては、例えばオレフィン系高分子(ポリエチレンやポリプロピレンなど)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、ポリシロキサンなどが用いられる。 On the other hand, the overcoat layer 403 functions as a planarization layer that removes a step formed on the upper surface side of the passivation layer 402 by a thin film transistor (not shown) or the like formed on the element substrate 111 . Overcoat layer 403 is formed from an insulating material, such as an organic insulating material. As a material for the overcoat layer 403, for example, an olefin polymer (polyethylene, polypropylene, etc.), polyethylene terephthalate (PET), epoxy resin, fluororesin, polysiloxane, or the like is used.

さらに、図11において、パッシベーション層115は、有機発光素子層114の上面および側面、オーバーコート層403の端部を覆うように形成されることから、パッシベーション層115の外周方向(図中X方向)の端部には複数の段部が形成されている。また、ダム材116は、パッシベーション層115の端部を覆うようにパッシベーション層402上に形成されている。すなわち、図3と異なり、ダム材116は、パッシベーション層115から離間しておらず、ダム材116、素子基板111および対向基板112によってパッシベーション層115およびパッシベーション層402並びにその内部の有機発光素子層114を挟持・固定する構造である。このため、表示パネル110の耐衝撃性をさらに高めることができる利点がある。また、有機発光素子層114は、パッシベーション層115とパッシベーション層402によって上下方向および左右方向で保護されている。このため、装置の遮蔽性をさらに高めることができる利点もある。 Furthermore, in FIG. 11, the passivation layer 115 is formed so as to cover the top and side surfaces of the organic light-emitting element layer 114 and the end portion of the overcoat layer 403. A plurality of stepped portions are formed at the ends of the . Also, the dam material 116 is formed on the passivation layer 402 so as to cover the end of the passivation layer 115 . That is, unlike FIG. 3, the dam material 116 is not separated from the passivation layer 115, and the passivation layer 115, the passivation layer 402, and the organic light emitting element layer 114 therein are formed by the dam material 116, the element substrate 111, and the counter substrate 112. It is a structure that clamps and fixes the Therefore, there is an advantage that the impact resistance of the display panel 110 can be further enhanced. Also, the organic light-emitting element layer 114 is protected vertically and horizontally by the passivation layer 115 and the passivation layer 402 . Therefore, there is an advantage that the shielding property of the device can be further improved.

100,200,300,400 有機発光表示装置
110 表示パネル
111 素子基板
112 対向基板
113 封止膜(セラミック蒸着膜)
114 有機発光素子層
115 パッシベーション層
116 ダム材
117 充填材
118 封止膜(ナノシート複合膜)
118a ナノシート
118b 有機樹脂層
119 ハイブリッド膜
120 スキャン駆動部
130 データ駆動部
131 ソースドライブIC
140 軟性フィルム
150 回路基板
160 タイミングコントローラ
170 ホストシステム
REFERENCE SIGNS LIST 100, 200, 300, 400 Organic Light Emitting Display Device 110 Display Panel 111 Element Substrate 112 Counter Substrate 113 Sealing Film (Ceramic Deposition Film)
114 Organic Light Emitting Element Layer 115 Passivation Layer 116 Dam Material 117 Filler 118 Sealing Film (Nanosheet Composite Film)
118a nanosheet 118b organic resin layer 119 hybrid film 120 scan driver 130 data driver 131 source drive IC
140 flexible film 150 circuit board 160 timing controller 170 host system

Claims (4)

素子基板と、
前記素子基板上に設けられた有機発光素子層と、
前記素子基板上において前記有機発光素子層の周囲に設けられたダム材と、
前記素子基板と対向して前記ダム材上に設けられた対向基板と、
前記ダム材の外壁面に設けられた封止膜と、
を備え、
前記封止膜は、金属酸化物および金属窒化物の少なくとも一つを含
前記ダム材の外壁面上、前記素子基板の外壁面上、および前記対向基板の外壁面上に、有機樹脂および無機樹脂から形成されたハイブリッド膜が設けられ、
前記封止膜が前記ハイブリッド膜上に設けられる有機発光表示装置。
an element substrate;
an organic light-emitting element layer provided on the element substrate;
a dam material provided around the organic light-emitting element layer on the element substrate;
a counter substrate provided on the dam member so as to face the element substrate;
a sealing film provided on the outer wall surface of the dam material;
with
the sealing film includes at least one of a metal oxide and a metal nitride;
a hybrid film made of an organic resin and an inorganic resin is provided on the outer wall surface of the dam material, the outer wall surface of the element substrate, and the outer wall surface of the counter substrate;
An organic light-emitting display device, wherein the sealing film is provided on the hybrid film.
前記対向基板、前記ダム材および前記封止膜は、透明性を有し、
前記対向基板は、前記有機発光素子層の発光方向に位置する、
請求項1に記載の有機発光表示装置。
the counter substrate, the dam material and the sealing film have transparency,
The counter substrate is positioned in the light emitting direction of the organic light emitting element layer,
The organic light-emitting display device of claim 1.
透明性を有し、前記ダム材、前記有機発光素子層および前記対向基板に囲まれた領域に設けられた充填材、
をさらに備える請求項1または2に記載の有機発光表示装置。
a filling material having transparency and provided in a region surrounded by the dam material, the organic light-emitting element layer, and the counter substrate;
3. The organic light-emitting display device according to claim 1, further comprising:
素子基板上に有機発光素子層を設ける工程と、
前記素子基板上の前記有機発光素子層の周囲に、樹脂を含む塗工液を塗布して未硬化ダム材を設ける工程と、
前記素子基板と対向して前記未硬化ダム材上に対向基板を設ける工程と、
前記未硬化ダム材を硬化させてダム材を形成する工程と、
有機樹脂および無機樹脂から形成されたハイブリッド膜を、前記ダム材の外壁面上、前記素子基板の外壁面上、および前記対向基板の外壁面上に設ける工程と、
前記ハイブリッド膜上に封止膜を設ける工程と、
を備え、
前記封止膜を設ける前記工程は、金属の酸化物または窒化物を含む微粒子エアロゾルを前記ハイブリッド膜上に噴射する工程を含む有機発光表示装置の製造方法。
providing an organic light-emitting element layer on the element substrate;
a step of applying a coating liquid containing a resin around the organic light-emitting element layer on the element substrate to provide an uncured dam material;
providing a counter substrate on the uncured dam material so as to face the element substrate;
curing the uncured dam material to form a dam material;
providing a hybrid film made of an organic resin and an inorganic resin on the outer wall surface of the dam material, the outer wall surface of the element substrate, and the outer wall surface of the counter substrate;
providing a sealing film on the hybrid film;
with
The method of manufacturing an organic light-emitting display device, wherein the step of providing the sealing film includes the step of injecting fine particle aerosol containing a metal oxide or nitride onto the hybrid film.
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