JP7295203B2 - 質量分析におけるガスフローパラメータの異常検出 - Google Patents
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Description
フローインジェクションシステム(FIS)およびイオン化源を含み、フローインジェクションシステムがイオン化源に結合されている、化学分析のための質量分析装置に関連する技術の多くの態様が前のセクションにおいて記載されてきた。さらに、本開示の技術はまた、以下の態様に従って実施されることもできる:
質量分析計(10)と、
質量分析計に結合されたイオン化源(20)と、
イオン化源に結合されたフローインジェクションシステム(FIS)(30)と、を備え、
イオン化源が、質量分析計の入口(11)に向かって分析物(21)のイオン化ガスフローを供給するように構成され、
イオン化源が、第2のガスの第2のガスフロー(22;23;24)を供給するようにさらに構成され、
装置が、
分析物の質量分析計(MS)信号を測定し、
分析物のMS信号の第2のガスフローのパラメータまたは第2のガスフローの状態に対する依存性を分析し、
分析された依存性に基づいて装置の状態を判定する、ように構成されている、質量分析(MS)装置(1)装置。
グラフィカルユーザインタフェースにおける状態を示すこと、
状態に関する情報をリモート装置に提供すること、
警報または警告メッセージを生成すること、
装置の動作を変更または停止すること、および
リモート装置にメッセージを送信すること、
保守動作をスケジューリングすること、および
ログエントリを生成すること、のうちの1つ以上を含む、態様6に記載の装置。
イオン化源によって質量分析計の入口に向かう分析物のイオン化ガスフローを供給すること(101)と、
イオン化源によって第2のガスの第2のガスフローを供給すること(101)と、
質量分析計によって分析物の質量分析計(MS)信号を測定すること(102)と、
分析物のMS信号の第2のガスフローのパラメータまたは第2のガスフローの状態に対する依存性を分析すること(103)と、
分析された依存性に基づいて装置の状態を判定すること(105)と、を含む、方法。
本開示のコントローラは、任意の好適な形態で(例えば、任意の好適なハードウェアまたはソフトウェアを使用して)具体化されることができる。いくつかの例では、コントローラは、スタンドアロンのコンピュータ装置とすることができる。他の例では、コントローラは、本開示の技術のステップの実行とは別の目的でも機能するコンピュータ装置またはシステム内に組み込まれることができる。コントローラは、MS装置が配置される場所に(好適なネットワークを介して)ローカルにまたはリモートに配置されることができる。
Claims (15)
- 化学分析のための質量分析を行う装置(1)であって、
質量分析計(10)と、
前記質量分析計に結合されたイオン化源(20)と、
前記イオン化源に結合されたフローインジェクションシステム(FIS)(30)と
を備え、
前記イオン化源が、前記質量分析計の入口(11)に向かって分析物のイオン化ガスフロー(21)を供給するように構成され、
前記イオン化源が、第2のガスの第2のガスフロー(22;23;24)を供給するようにさらに構成され、
前記装置が、
前記分析物の質量分析計信号であるMS信号を測定し、
前記分析物の前記MS信号の前記第2のガスフローのパラメータまたは前記第2のガスフローの状態に対する依存性を分析し、
分析された前記依存性のプロファイルの形状と基準依存性のプロファイルの形状との比較結果に基づいて前記装置の状態を判定する、
ように構成されている、装置(1)。 - 前記第2のガスフローの前記パラメータが前記第2のガスの流量である、請求項1に記載の装置。
- 前記分析物の前記MS信号の前記依存性を分析することが、前記分析物の前記MS信号の前記依存性を基準依存性と比較することを含む、請求項1または2に記載の装置。
- 前記装置の前記状態を判定することが、前記装置の前記状態を、誤動作のない正常または誤動作を有する異常として分類すること、および/または前記装置がエラー状態にあることを判定することを含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記イオン化源が、前記質量分析計の前記入口の外側にカウンターガスのカウンターガスフローを供給するように構成されたカウンターガス源をさらに備え、前記第2のガスが前記カウンターガス(22)であり、前記第2のガスフローが前記カウンターガスフローである、請求項1から4のいずれか一項に記載の装置。
- 化学分析のための質量分析を行う装置(1)であって、
質量分析計(10)と、
前記質量分析計に結合されたイオン化源(20)と、
前記イオン化源に結合されたフローインジェクションシステム(FIS)(30)と
を備え、
前記イオン化源が、前記質量分析計の入口(11)に向かって分析物のイオン化ガスフロー(21)を供給するように構成され、
前記イオン化源が、第2のガスの第2のガスフロー(22;23;24)を供給するようにさらに構成され、
前記装置が、
前記分析物の質量分析計信号であるMS信号を測定し、
前記分析物の前記MS信号の前記第2のガスフローのパラメータまたは前記第2のガスフローの状態に対する依存性を分析し、
分析された前記依存性に基づいて前記装置の状態を判定する、
ように構成され、
前記イオン化源が、前記質量分析計の前記入口の外側にカウンターガスのカウンターガスフローを供給するように構成されたカウンターガス源をさらに備え、前記第2のガスが前記カウンターガス(22)であり、前記第2のガスフローが前記カウンターガスフローであり、
前記分析物の前記MS信号が前記カウンターガスの流量の増加とともに減少する場合(41;42)、前記装置の前記状態が、漏れていないとして分類される、
装置。 - 化学分析のための質量分析を行う装置(1)であって、
質量分析計(10)と、
前記質量分析計に結合されたイオン化源(20)と、
前記イオン化源に結合されたフローインジェクションシステム(FIS)(30)と
を備え、
前記イオン化源が、前記質量分析計の入口(11)に向かって分析物のイオン化ガスフロー(21)を供給するように構成され、
前記イオン化源が、第2のガスの第2のガスフロー(22;23;24)を供給するようにさらに構成され、
前記装置が、
前記分析物の質量分析計信号であるMS信号を測定し、
前記分析物の前記MS信号の前記第2のガスフローのパラメータまたは前記第2のガスフローの状態に対する依存性を分析し、
分析された前記依存性に基づいて前記装置の状態を判定する、
ように構成され、
前記イオン化源が、前記質量分析計の前記入口の外側にカウンターガスのカウンターガスフローを供給するように構成されたカウンターガス源をさらに備え、前記第2のガスが前記カウンターガス(22)であり、前記第2のガスフローが前記カウンターガスフローであり、
前記分析物の前記MS信号が前記カウンターガスの流量に実質的に依存しない場合(51;52)、前記装置の前記状態が、漏れがあるとして分類される、
装置。 - 前記第2のガスが、前記イオン化源において使用されるネブライザガス(23)または補助ガス(24)である、請求項1から4のいずれか一項に記載の装置。
- 化学分析のための質量分析を行う装置(1)であって、
質量分析計(10)と、
前記質量分析計に結合されたイオン化源(20)と、
前記イオン化源に結合されたフローインジェクションシステム(FIS)(30)と
を備え、
前記イオン化源が、前記質量分析計の入口(11)に向かって分析物のイオン化ガスフロー(21)を供給するように構成され、
前記イオン化源が、第2のガスの第2のガスフロー(22;23;24)を供給するようにさらに構成され、
前記装置が、
前記分析物の質量分析計信号であるMS信号を測定し、
前記分析物の前記MS信号の前記第2のガスフローのパラメータまたは前記第2のガスフローの状態に対する依存性を分析し、
分析された前記依存性に基づいて前記装置の状態を判定する、
ように構成され、
前記第2のガスが、前記イオン化源において使用されるネブライザガス(23)または補助ガス(24)であり、
前記分析物の前記MS信号が前記ネブライザガスまたは前記補助ガスの流量の増加とともに増加する場合(43;44)、前記装置の前記状態が、漏れていないとして分類される、
装置。 - 化学分析のための質量分析を行う装置(1)であって、
質量分析計(10)と、
前記質量分析計に結合されたイオン化源(20)と、
前記イオン化源に結合されたフローインジェクションシステム(FIS)(30)と
を備え、
前記イオン化源が、前記質量分析計の入口(11)に向かって分析物のイオン化ガスフロー(21)を供給するように構成され、
前記イオン化源が、第2のガスの第2のガスフロー(22;23;24)を供給するようにさらに構成され、
前記装置が、
前記分析物の質量分析計信号であるMS信号を測定し、
前記分析物の前記MS信号の前記第2のガスフローのパラメータまたは前記第2のガスフローの状態に対する依存性を分析し、
分析された前記依存性に基づいて前記装置の状態を判定する、
ように構成され、
前記第2のガスが、前記イオン化源において使用されるネブライザガス(23)または補助ガス(24)であり、
前記分析物の前記MS信号が前記ネブライザガスまたは前記補助ガスの流量に実質的に依存しない場合(53;54)、前記装置の前記状態が、漏れがあるとして分類される、
装置。 - 化学分析のための質量分析を行う装置(1)であって、
質量分析計(10)と、
前記質量分析計に結合されたイオン化源(20)と、
前記イオン化源に結合されたフローインジェクションシステム(FIS)(30)と
を備え、
前記イオン化源が、前記質量分析計の入口(11)に向かって分析物のイオン化ガスフロー(21)を供給するように構成され、
前記イオン化源が、第2のガスの第2のガスフロー(22;23;24)を供給するようにさらに構成され、
前記装置が、
前記分析物の質量分析計信号であるMS信号を測定し、
前記分析物の前記MS信号の前記第2のガスフローのパラメータまたは前記第2のガスフローの状態に対する依存性を分析し、
分析された前記依存性に基づいて前記装置の状態を判定する、
ように構成され、
前記第2のガスフローが漏れていない状態にある場合、前記分析物の前記MS信号が第1の特徴を有し、前記分析物の前記MS信号の前記依存性を分析することが、前記第1の特徴が存在するかどうかの判定を含む、
装置。 - 化学分析のための質量分析を行う装置(1)であって、
質量分析計(10)と、
前記質量分析計に結合されたイオン化源(20)と、
前記イオン化源に結合されたフローインジェクションシステム(FIS)(30)と
を備え、
前記イオン化源が、前記質量分析計の入口(11)に向かって分析物のイオン化ガスフロー(21)を供給するように構成され、
前記イオン化源が、第2のガスの第2のガスフロー(22;23;24)を供給するようにさらに構成され、
前記装置が、
前記分析物の質量分析計信号であるMS信号を測定し、
前記分析物の前記MS信号の前記第2のガスフローのパラメータまたは前記第2のガスフローの状態に対する依存性を分析し、
分析された前記依存性に基づいて前記装置の状態を判定する、
ように構成され、
前記第2のガスフローが漏れ状態にある場合、前記分析物の前記MS信号が第2の特徴を有し、前記分析物の前記MS信号の前記依存性を分析することが、前記第2の特徴が存在するかどうかの判定を含む、
装置。 - 前記分析物がダミー分析物を含み、前記ダミー分析物が、前記第2のガスフローのパラメータまたは前記第2のガスフローの状態に対する前記依存性を示す前記MS信号を生成するように選択される、請求項1から12のいずれか一項に記載の装置。
- 前記装置が、前記ダミー分析物を前記イオン化源に供給するための専用流路をさらに備える、請求項13に記載の装置。
- 化学分析のための質量分析を行う装置における方法であって、
イオン化源によって質量分析計の入口に向かう分析物のイオン化ガスフローを供給すること(101)と、
前記イオン化源によって第2のガスの第2のガスフローを供給すること(101)と、
前記質量分析計によって前記分析物の質量分析計信号であるMS信号を測定すること(102)と、
前記分析物の前記MS信号の前記第2のガスフローのパラメータまたは前記第2のガスフローの状態に対する依存性を分析すること(103)と、
分析された前記依存性のプロファイルの形状と基準依存性のプロファイルの形状との比較結果に基づいて前記装置の状態を判定すること(105)と
を含む、方法。
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