JP7292455B1 - Aggregate substrate and manufacturing method - Google Patents
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Abstract
【課題】ターゲットマークの画像の認識性を簡単な構造により向上させることを可能にする集合基板及び製造方法を得る。【解決手段】ベースの複数を集合して形成するためのベース材11と、ベース材11上に設けられた絶縁層材13と、絶縁層材13上に設けられ複数の回路パターン17が集合した集合回路パターン15と、回路パターン17に着色保護材により設けられた着色保護膜19と、絶縁層材13上に設けられた画像認識用のターゲットマーク23と、ターゲットマーク23上に着色保護材で設けられ絶縁層材13に対して画像認識を可能とする色調の着色膜9とを備える。【選択図】図2An object of the present invention is to obtain an aggregate substrate and a manufacturing method that can improve the recognizability of an image of a target mark with a simple structure. A base material (11) for collectively forming a plurality of bases, an insulating layer material (13) provided on the base material (11), and a plurality of circuit patterns (17) provided on the insulating layer material (13) are assembled. A set circuit pattern 15, a colored protective film 19 provided on the circuit pattern 17 with a colored protective material, a target mark 23 for image recognition provided on the insulating layer material 13, and a colored protective material on the target mark 23. A colored film 9 having a color tone that enables image recognition with respect to the insulating layer material 13 is provided. [Selection drawing] Fig. 2
Description
本発明は、ベース上に絶縁層を介して回路パターンを有する複数の回路基板を集合した集合基板及びその製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an aggregate board in which a plurality of circuit boards having circuit patterns on bases with insulating layers interposed therebetween and a method for manufacturing the same.
従来の集合基板としては、特許文献1に記載された金属ベース基板がある。この金属ベース基板は、複数の回路基板を集合させて形成されると共に、回路基板を分割するためのV字溝を備えている。
As a conventional aggregate substrate, there is a metal base substrate described in
V字溝は、例えば金属ベース基板の両面からVカット加工により形成され、金属ベース基板から回路基板を人手により容易に折り曲げて分割できるようにしている。 The V-shaped grooves are formed, for example, by V-cutting from both sides of the metal base board so that the circuit board can be easily folded and separated from the metal base board by hand.
このV字溝は、品質の高い回路基板を得るために正確に形成することが肝要である。このため、集合基板は、V字溝の形成位置を画像認識により検出するターゲットマークを備えることがある。 It is essential to accurately form this V-groove in order to obtain a high-quality circuit board. For this reason, the collective substrate may have a target mark for detecting the formation position of the V-shaped groove by image recognition.
このターゲットマークの画像認識により、V字溝の形成位置を検出して、V字溝を正確に形成することが可能となる。 By recognizing the image of the target mark, it is possible to detect the forming position of the V-shaped groove and form the V-shaped groove accurately.
しかし、ターゲットマークは、集合基板の捨て板部等において絶縁層上に設けているため、色調によっては絶縁層に対して画像認識性が低下するという問題があった。 However, since the target marks are provided on the insulating layer in the discarded board portion of the collective substrate, there is a problem that the image recognizability with respect to the insulating layer deteriorates depending on the color tone.
かかる問題は、絶縁層上に設けられる他のターゲットマークにおいても同様に生じ得る。 Such problems may also occur in other target marks provided on the insulating layer.
解決しようとする問題点は、絶縁層に対するターゲットマークの画像認識性が低下する点である。 The problem to be solved is that the image recognizability of the target marks on the insulating layer is degraded.
本発明は、ベース上に絶縁層を介して回路パターンを有し前記回路パターンの表面に白色系のめっきが施されている複数の回路基板を集合した集合基板であって、前記複数の回路基板の前記ベースを構成する板状のベース材と、前記ベース材上に設けられ前記複数の回路基板の前記絶縁層を構成する白色の絶縁層材と、前記絶縁層材上に設けられ前記複数の回路基板の複数の前記回路パターンが集合した集合回路パターンと、前記回路パターン上に設けられ二値化により前記絶縁層に対して画像認識可能な色調を有する着色保護材により形成された着色保護膜と、前記絶縁層材上に前記回路パターンと同材質の導電材で設けられた画像認識用のターゲットマークと、前記ターゲットマーク上に設けられ前記着色保護材で形成されて前記絶縁層材に対して画像認識を可能とする色調を有する着色膜と、を備えた集合基板を提供する。
The present invention relates to an assembly board in which a plurality of circuit boards are assembled, each of which has a circuit pattern on a base with an insulating layer interposed therebetween and the surface of the circuit pattern is plated with a white color , the plurality of circuit boards. a plate-like base material that constitutes the base of; a white insulating layer material that is provided on the base material and constitutes the insulating layers of the plurality of circuit boards; and a plurality of the insulating layer materials that are provided on the insulating layer material A colored protective film formed of a set circuit pattern in which a plurality of the circuit patterns of the circuit board are assembled, and a colored protective material provided on the circuit pattern and having a color tone that enables image recognition with respect to the insulating layer by binarization. and a target mark for image recognition provided on the insulating layer material with the same conductive material as the circuit pattern , and a target mark provided on the target mark and formed with the colored protective material against the insulating layer material and a colored film having a color tone that enables image recognition by using an aggregate substrate.
本発明は、前記集合基板を製造するための製造方法であって、前記回路パターンの着色保護膜及び前記ターゲットマークの着色膜を前記着色保護材により共に形成する着色膜形成工程を含む集合基板の製造方法を提供する。 The present invention provides a manufacturing method for manufacturing the aggregate substrate, which comprises a colored film forming step of forming a colored protective film for the circuit pattern and a colored film for the target marks with the colored protective material. A manufacturing method is provided.
本発明の集合基板は、着色膜により絶縁層を構成する白色の絶縁層材に対するターゲットマークの画像認識性を向上させることができる。しかも、着色膜は、回路パターンの着色保護膜と同材質の着色保護材で備えられたため、構造を簡単にすることができる。
The aggregate substrate of the present invention can improve the image recognizability of the target marks on the white insulating layer material that constitutes the insulating layer with the colored film. Moreover, since the colored film is made of the same colored protective material as the colored protective film of the circuit pattern, the structure can be simplified.
本発明の集合基板の製造方法は、ターゲットマークに回路パターンの着色保護膜と同材質の着色保護材により着色膜を簡単に形成することができる。しかも、ターゲットマークに対する着色膜のずれにより、共に形成される着色保護膜の回路パターンに対するずれを認識することが可能となる。 According to the method for manufacturing an aggregate substrate of the present invention, a colored film can be easily formed on a target mark using a colored protective material made of the same material as the colored protective film of the circuit pattern. Moreover, it is possible to recognize the deviation of the colored protective film formed together with the circuit pattern from the deviation of the colored film with respect to the target mark.
本発明は、絶縁層に対するターゲットマークの画像認識性を、簡単な構造の集合基板により実現した。 According to the present invention, image recognition of target marks on an insulating layer is realized by an aggregate substrate having a simple structure.
集合基板1は、ベース11a上に絶縁層13aを介して回路パターン17を有する複数の回路基板5を集合したものである。この集合基板1は、ベース材11と、絶縁層材13と、集合回路パターン17と、着色保護膜19と、ターゲットマーク23と、着色膜9とを備える。
The
ベース材11は、複数の回路基板5のベース11aを構成する。絶縁層材13は、ベース材11上に設けられ、複数の回路基板5の絶縁層13aを構成する。集合回路パターン17は、絶縁層材13上に設けられ、複数の回路基板5の複数の回路パターン17が集合したものである。着色保護膜19は、回路パターン17上に設けられ着色保護材により形成される。ターゲットマーク23は、絶縁層材13上に設けられた画像認識用のものである。着色膜9は、ターゲットマーク23上に設けられ着色保護材で形成されて、絶縁層材13に対して画像認識を可能とする色調を有している。
The
ターゲットマーク23は、回路パターン17と同材質の導電材で共に形成されたものであってもよい。
The
着色膜9は、ターゲットマーク23の表面に設けられ、この表面と同一の平面形状を有してもよい。
The
着色保護材は、ソルダーレジストとしてもよい。 The colored protective material may be a solder resist.
集合基板1の製造方法は、回路パターン17の着色保護膜19及びターゲットマーク23の着色膜9を着色保護材により形成する着色膜形成工程を含む。
The manufacturing method of the
また、集合基板1の製造方法では、ベース材11に絶縁層材13を介して集合回路パターン17及び複数のターゲットマーク23を導電材により形成する回路形成工程を含んでもよい。
Further, the method for manufacturing the
[集合基板]
図1は、本発明の実施例に係る集合基板の平面図である。図2は、図1の集合基板の一部を拡大して示す概略断面図である。図3(A)は、図1の集合基板のターゲットマークを拡大して示す概略平面図、図3(B)は、比較例に係る集合基板のターゲットマークを拡大して示す概略平面図である。図4は、実施例に係る回路基板の概略断面図である。
[Collective board]
FIG. 1 is a plan view of an aggregate substrate according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an enlarged part of the collective substrate of FIG. FIG. 3A is a schematic plan view showing an enlarged target mark of the collective substrate of FIG. 1, and FIG. 3B is a schematic plan view showing an enlarged target mark of the collective substrate according to a comparative example. . FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a circuit board according to an example.
なお、以下の説明において、層方向とは、集合基板の積層方向を意味する。層交差方向とは、集合基板の面に沿った方向(面方向)を意味する。上とは、集合基板を水平に置いた時の重力方向の上を意味する。下とは、集合基板を水平に置いた時の重力方向の下を意味する。 In the following description, the layer direction means the stacking direction of the collective substrate. A layer crossing direction means a direction (surface direction) along the surface of the aggregate substrate. "Up" means above the direction of gravity when the collective substrate is placed horizontally. Below means below in the direction of gravity when the collective substrate is placed horizontally.
図1及び図2のように、集合基板1は、周囲の捨て板部Waの内側に集合した複数の回路基板5を備えている。集合基板1の回路基板5は、V字溝からなる分割ライン3により格子状に区画されており、分割ライン3で人手等により折り曲げることで分割可能となっている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
本実施例では、一つのワークW上に二つの集合基板1が形成されている。ただし、ワークWに対して形成される集合基板1の数は任意である。集合基板1内の複数の回路基板5は、同一の種類だけでなく異なる種類としてもよい。
In this embodiment, two
なお、分割ライン3は、回路基板5を分割することができればよく、異なる断面形状の溝、断続的に設けたV字溝、隣接する回路基板5を部分的に切り離すスリット等で形成することも可能である。
The dividing
各集合基板1は、ベース材11上に絶縁層材13を介して集合回路パターン15が積層されて構成されている。
Each
ベース材11は、複数の回路基板5のベース11aを形成するためのものであり、ベース11aの個数分の大きさに、捨て板部Waを含めた大きさを有している。本実施例のベース材11は、ワークW内の二つの集合基板1のベース11aの個数分の大きさ並びに捨て板部Waの大きさの合計となっている。
The
ベース材11の平面形状は、ワークWに応じて矩形形状を呈している。ただし、ワークW及びベース材11の平面形状は、円形等の他の形状にすることもできる。
The planar shape of the
ベース材11は、金属や樹脂等によって形成することができる。ベース材11を金属で形成する場合は、例えば、アルミニウム、鉄、銅、アルミニウム合金、又はステンレス等を用いることができる。この場合、ベース材11は、炭素などの非金属を更に含んでいてもよい。また、ベース材11は、クラッド材等であってもよい。
The
ベース材11の層方向の厚さは、例えば1.0~3.0mmの範囲内で設定されている。
The thickness of the
絶縁層材13は、ベース材11の表面に積層されることで、ベース材11上に設けられている。絶縁層材13の平面形状は、ベース材11と同一である。この絶縁層材13は、複数の回路基板5の絶縁層13aを構成するものである。集合基板1において、絶縁層材13は、集合回路パターン15をベース材11から電気的に絶縁する役割を果たし、且つそれらを互いに張り合わせる接着剤としての役割も果たしている。
The insulating
絶縁層材13の層方向の厚みは、例えば100~150μmに設定されている。この絶縁層材13は、樹脂製であり、本実施例において白色を有している。ただし、材質によっては、絶縁層材13が他の色調を有することもある。絶縁層材13を構成する樹脂は、エポキシ樹脂、シアネート樹脂等によって構成することができる。
The thickness of the insulating
エポキシ樹脂には、例えばアミン系硬化剤、フェノール系硬化剤、酸無水物系硬化剤、イミダゾール系硬化剤が組み合わされる。シアネート樹脂には、例えばジシアンジアミドやフェノール樹脂が硬化剤として組み合わされる。また、絶縁層材13は、熱可塑性樹脂である全芳香族ポリエステル等の液晶ポリマーやその他の熱可塑性樹脂によって構成してもよい。
Epoxy resins are combined with, for example, amine-based curing agents, phenol-based curing agents, acid anhydride-based curing agents, and imidazole-based curing agents. The cyanate resin is combined with, for example, dicyandiamide or phenol resin as a curing agent. Alternatively, the insulating
また、絶縁層材13は、無機充填材を更に含有することが好ましい。無機充填材としては、電気絶縁性に優れかつ熱伝導率の高いものが好ましく、例えば、アルミナ、シリカ、窒化アルミ、窒化ホウ素、窒化ケイ素、酸化マグネシウム等が挙げられ、これらの中から選ばれる1種又は2種以上を用いる。
Moreover, it is preferable that the insulating
絶縁層材13における無機充填材の充填率は、無機充填剤の種類に応じて適宜設定することができる。例えば、絶縁層材13に含有されるマトリクス樹脂の全体積を基準として85体積%以下であることが好ましく、30~85体積%がより好ましい。
The filling rate of the inorganic filler in the insulating
絶縁層材13は、上述したマトリックス樹脂及び無機充填材以外に、例えば、カップリング剤、分散剤等を更に含有してもよい。
The insulating
なお、絶縁層材13の材質等は、回路基板5の仕様に応じて設定でき、半硬化状態の絶縁シートを用いることもできる。
The material and the like of the insulating
集合回路パターン15は、絶縁層材13上に設けられ、複数の回路基板5用の後述する回路パターン17が格子状に集合して形成されている。各回路パターン17は、絶縁層材13の表面に形成されている。
The
この回路パターン17は、導電材の複数の回路導体17aによるパターンを備えている。導電材は、銅箔等の回路用のものであればよい。各回路パターン17の複数の回路導体17aによるパターン構成は、回路基板5の仕様に応じて設定できる。
The
回路導体17aの層方向の厚みは、例えば1.0~3.0mmの範囲で選択している。ただし、回路導体17aの層方向の厚み、材質等は、回路基板5の仕様により上記範囲外での選択も可能である。
The thickness of the
回路パターン17には、表面に白色系のNiめっきが施されており、絶縁層材13に対する画像処理が困難な色調を有する。この回路パターン17には、着色保護膜19が備えられている。
The surface of the
着色保護膜25は、回路パターン17上に着色保護材により形成されている。このソルダーレジストによる着色保護膜25は、緑色の絶縁性の膜であり、回路パターン17を保護する。
The colored
つまり、着色保護膜25は、回路パターン17を保護して絶縁性を保つ、ほこり、熱、湿気などから回路パターン17を守る、電子部品の実装時に不要な部分に半田が付いてショートするのを防ぐ、といった機能を奏する。
In other words, the colored
なお、着色保護膜25は、黒色等の他の色調を有してもよく、またソルダーレジストに限らず、他の樹脂によって形成してもよい。
The colored
着色保護膜19には、シルク印刷20が施されている。シルク印刷20は、型名、メーカー名、電子部品の位置などの情報を表示している。
A
図1のように、回路パターン17毎の回路基板5は、上記のように集合基板1上で分割ライン3により格子状に区切られている。
As shown in FIG. 1, the
分割ライン3は、格子状に形成された場合において、一方向(以下、「X方向」という。)に沿った複数のX分割ライン3a及び一方向に直交する他方向(以下、「Y方向」と言う。)に沿った複数のY分割ライン3bを有する。複数のX分割ライン3aは、直線状に形成され、相互に平行であり、複数のY分割ライン3bは、直線状に形成され、相互に平行である。
When the
分割ライン3の端部となる位置に対応して、加工用マーク21が備えられている。なお、加工用マーク21は省略することもできる。
A
分割ライン3の端部となる位置は、X方向において、X分割ライン3aの端部に直列的に隣接する位置である。Y方向においては、Y分割ライン3bの端部に直列的に隣接する位置である。この位置は、X分割ライン3aの端部のY分割ライン3b、Y分割ライン3bの端部のX分割ライン3aに接する位置又は僅かに間隔を有する位置となる。
The position of the end of the
加工用マーク21は、ワークWの捨て板部Wa上の絶縁層材13の表面に形成されている。この加工用マーク21は、2本の短い平行線で表示され、直線状の分割ライン3が平行線の間に位置するようにV字溝の加工がなされている。加工用マーク21は、分割ライン3の位置を認識するためのものであり、加工された分割ライン3のずれ等を確認可能とする。
The processing marks 21 are formed on the surface of the insulating
加工用マーク21に対応して画像認識用のターゲットマーク23がそれぞれ備えられている。ターゲットマーク23は、絶縁層材13上に設けられている。本実施例では、ターゲットマーク23がワークWの捨て板部Wa上に位置する。ただし、ターゲットマーク23は、所定の回路基板5上に位置させることも可能である。
Target marks 23 for image recognition are provided corresponding to the processing marks 21, respectively. A
このターゲットマーク23は、板部Waの絶縁層材13の表面に回路パターン17と同材質、同厚の導電材で形成されている。ただし、ターゲットマーク23の表面には、Niメッキは施されていない。また、ターゲットマーク23は、回路パターン17とは別材質で別の厚みを有することも可能である。
The
かかるターゲットマーク23は、集合基板1の製造時において、画像認識により分割ライン3を形成するための位置を確定する基準となる。ターゲットマーク23の平面形状は、円形であるが、画像認識により分割ライン3を形成する際の基準となるものであればよい。この限りにおいて、ターゲットマーク23の形状や大きさは、任意に設定できる。
Such target marks 23 serve as a reference for determining the positions for forming the
ターゲットマーク23の位置も、任意に設定可能であるが、分割ライン3の形成箇所や加工用マーク21等との関係で相対的に決められている。このターゲットマーク23は、加工用マーク21の近傍に配置されるのが好ましい。加工用マーク21の近傍の位置は、分割ライン3の端部に隣接する領域である。
The position of the
ターゲットマーク23上には、図3(A)のように、着色保護材で形成されて、絶縁層材13に対して画像認識可能な色調を有する着色膜9が設けられている。なお、図3(B)は、比較例であり、ターゲットマーク23に回路パターン17と同様にNiメッキが施され、着色膜は備えていない。
On the
着色膜9は、回路基板5のソルダーレジストによる着色保護膜19と共に形成されている。つまり、着色膜9は、着色保護膜19と同材質の着色保護材で形成され、着色保護膜19と共に形成されている。これにより、着色膜9は、着色保護膜19と同一色調の緑色で、ターゲットマーク23の表面を着色している。
The
なお、着色膜9は、絶縁層材13に対してターゲットマーク23の画像認識を可能とする色調であればよく、色調の設定は任意である。本実施例において、ターゲットマーク23を二値化処理による画像認識を行うため、絶縁層材13とターゲットマーク23とは、明度が離れた色調であることが好ましい。
The
また、着色膜9は、ターゲットマーク23の表面全体に設けられている。つまり、着色9膜は、ターゲットマーク23の表面に設けられ、この表面と同一の平面形状を有する。ただし、着色膜9は、画像認識によりターゲットマーク23を絶縁層材13の表面に対して区別できればよいので、ターゲットマーク23の周面を囲む形状やターゲットマーク23よりも小さい形状、例えばターゲットマーク23の中心部にのみ位置する形状等にすることもできる。また、着色膜9の平面形状は、ターゲットマーク23と同一の円形であるが、他の幾何学形状としてもよい。
Also, the
本実施例では、かかるターゲットマーク23に対する予備のマーク7が絶縁層材13の表面に設定されている。予備のマーク7は、ターゲットマーク23を認識できない場合に使用されるものである。予備のマーク7は、ターゲットマーク23とは別に形成されるものであり、例えばシルク印刷20によって形成することが可能である。
In this embodiment,
その他、捨て板部Waには、集合基板1相互間で分割するための分割マーク24、挿入方向を示す△マーク25等、各種マークが形成されている。
In addition, various marks such as a
かかるワークWにおいて、分割マーク24を基準に分割して各集合基板1を得ることができる。集合基板1は、上記のようにベース材11及び絶縁層材13を分割ライン3に沿って折り曲げ、分割した回路基板5を得ることができる。
The work W can be divided on the basis of the division marks 24 to obtain the respective
分割された回路基板5は、図4のように、分割されたベース材11からなるベース11a上に、分割された絶縁層材13からなる絶縁層13aを介して回路パターン17を有する。
As shown in FIG. 4, the divided
[集合基板の製造方法]
図5は、実施例に係る集合基板の製造工程を示すフローチャートである。図6は、図5に続く集合基板の製造工程のフローチャートである。図7(A)~図7(E)は、図5の製造工程を示す概略断面図であり、それぞれパターン形成、エッチング、アルカリ剥離、ソルダーレジスト形成、及びシルク印刷を示す。
[Manufacturing method of aggregate substrate]
FIG. 5 is a flow chart showing the manufacturing process of the aggregate substrate according to the embodiment. FIG. 6 is a flow chart of the manufacturing process of the collective substrate following FIG. 7A to 7E are schematic cross-sectional views showing the manufacturing process of FIG. 5, showing pattern formation, etching, alkali peeling, solder resist formation, and silk printing, respectively.
集合基板1の製造は、図5、図6の積層板製造工程S1、回路形成工程S2、成形工程S3、及び検査工程S4により実行される。
The
積層板製造工程S1では、ベース材11に絶縁層材13を介して銅箔等の導電材27を積層し、それらベース材11、絶縁層材13及び導電材27を熱プレスにより一体にする。
In the laminated board manufacturing step S1, a
回路形成工程S2は、ベース材11に絶縁層材13を介して集合回路パターン15及び複数のターゲットマーク23を導電材27である回路用銅材料により形成する。本実施例の回路形成工程S2では、パターン形成S21、エッチングS22、アルカリ剥離S23、回路検査S24、ソルダーレジスト形成S25、シルク印刷S26が実行される。このうち、ソルダーレジスト形成S25は、着色膜形成工程を構成する。
In the circuit forming step S2, the
着色膜形成工程は、集合回路パターン15の着色保護膜19及びターゲットマーク23の着色膜9を着色保護材により形成する。
In the colored film forming step, the colored
パターン形成S21では、積層板製造工程S1から受けたワークWをローラー等に通し、ドライフィルム29を図7(A)の導電材27に貼り付ける。なお、図7(A)のドライフィルム29は、露光・現像後の状態であり、回路パターン17及びターゲットマーク23の対応部分を覆っている。
In pattern formation S21, the workpiece W received from the laminate manufacturing step S1 is passed through a roller or the like, and the
エッチングS22では、図7(A)の回路パターン17及びターゲットマーク23の対応部分以外で露出した導電材27が薬液等によって図7(B)のように除去される。
In the etching S22, the exposed
アルカリ剥離S23では、図7(B)の回路パターン17上のドライフィルム29をアルカリ系薬液により図7(C)のように除去する。このアルカリ剥離後には、回路パターン17及びターゲットマーク23として残った導電材27を研磨する。
In alkali stripping S23, the
回路検査S24では、自動光学検査(AOI)によりワークWの回路のショート、オープン、傷、汚れ等の検査を行なう。 In the circuit inspection S24, the circuit of the work W is inspected for short circuits, open circuits, scratches, stains, etc. by automatic optical inspection (AOI).
ソルダーレジスト形成S25では、着色保護材である緑色のソルダーレジストインクで着色保護膜19の形成と共に着色膜9が形成される。つまり、ソルダーレジストインクをワークWの全面に塗布した後に露光により硬化させ、不要部分を現像して除去する。従って、着色膜9は、着色保護膜19と同材質のインクにより図7(D)のように形成される。
In the solder resist formation S25, the
このとき、回路パターン17及びターゲットマーク23は、絶縁層材13に対して画像認識が可能な十分な色調を有するため、画像認識等を通じて正確に着色保護膜19を形成することができる。
At this time, since the
ただし、着色保護膜19は、画像認識精度、露光精度、ターゲットマーク23の形成精度等によりずれが生じることもある。この着色保護膜19のずれは、着色膜9のターゲットマーク23の表面に対するずれにより作業者に視認させることが可能となる。
However, the colored
このように、着色膜9は、回路パターン17の着色保護膜19と同材質の着色保護材であるソルダーレジストにより設けるため、着色膜9形成の工数がかからず、生産性を大幅に向上させることができると共に構造が簡単となる。
As described above, since the
つまり、ターゲットマーク23を集合回路パターン15と共に形成し、着色膜9を着色保護膜1と共に形成することができ、特別な工程を設けることなく、ソルダーレジスト本来の色調を利用して絶縁層材13とは異なる色の着色膜9を簡単に形成することができる。
In other words, the target marks 23 can be formed together with the
シルク印刷S26では、ソルダーレジストの着色保護膜19で覆われた部分に、型名などの情報が図7(E)のように印刷される。
In the silk printing S26, information such as the model name is printed on the portion covered with the colored
図6の成形工程S3では、回路メッキ処理S31、VカットS32、形状検査S33、分割S34が実行される。 In the forming step S3 of FIG. 6, a circuit plating process S31, a V-cut S32, a shape inspection S33, and a division S34 are performed.
回路メッキ処理S31では、回路パターン17にNiメッキ等が行われる。この処理により、回路パターン17の酸化を防ぎ、半田濡れ性を高める。
In the circuit plating process S31, the
VカットS32では、図1及び図2のワークWのように分割ライン3をマトリクス状に形成する。このとき、ターゲットマーク23を画像認識することで分割ライン3を正確に形成することができる。特に、図3(A)のようにターゲットマーク23は、白色系の絶縁層材13とは明確に区別可能な色調の緑色の着色膜9を表面に有している。
In the V-cut S32, dividing
このため、ターゲットマーク23は、画像認識性が向上する。本実施例では、ターゲットマーク23の二値化による画像認識において、絶縁層材13に対するコントラストを明確にできる。このため、ターゲットマーク23を確実に認識して、分割ライン3の正確な形成を行うことができる。なお、画像認識は、二値化に限れられず、他の画像認識とすることも可能である。
Therefore, the
一方、図3(B)の比較例のように、ターゲットマーク23にNiメッキが施された状態では、ターゲットマーク23と絶縁層材13との色調が近似する。結果として、二値化でのターゲットマーク23の認識が困難となり、分割ライン3の形成ができなくなる。
On the other hand, as in the comparative example of FIG. 3B, when the target marks 23 are Ni-plated, the target marks 23 and the insulating
形状検査S33では、ワークWの回路基板5にスルーホール等の異常がないか、回路基板1の表面と外観にキズや汚れがないか等を検査し、異常があるワークWは除去される。
このとき、分割ライン3のずれ等も検査される。分割ライン3のずれは、加工用マーク21によって認識することが可能である。
In the shape inspection S33, it is inspected whether the
At this time, deviation of the
分割S34では、ワークWが分割マーク24において切断され、集合基板1毎に分割される。
In the division S34, the work W is cut at the division marks 24 to be divided into the
検査工程S4では、電気検査により回路導通検査や耐電圧検査等が行われ、外観検査により集合基板1の表面及び裏面の検査が行われる。外観検査後には、出荷検査が行われて出荷される。
In the inspection step S4, an electrical test such as a circuit continuity test and a withstand voltage test is performed, and an appearance test is performed to inspect the front surface and the back surface of the
1 集合基板
3 V字溝
5 回路基板
9 着色膜
11 金属板材
11a 金属ベース
13 集合基板の絶縁層材
13a 回路基板の絶縁層
15 集合回路パターン
17 回路パターン
19 着色保護膜
23 ターゲットマーク
S2 回路形成工程
S21 パターン形成(回路形成工程)
S22 エッチング(回路形成工程)
S23 アルカリ剥離(回路形成工程)
S25 ソルダーレジスト形成(着色膜形成工程、回路形成工程)
S26 シルク印刷(回路形成工程)
1 Collective substrate 3 V-shaped
S22 etching (circuit formation process)
S23 Alkaline stripping (circuit forming step)
S25 Solder resist formation (colored film formation process, circuit formation process)
S26 Silk printing (circuit formation process)
Claims (5)
前記複数の回路基板の前記ベースを構成する板状のベース材と、
前記ベース材上に設けられ前記複数の回路基板の前記絶縁層を構成する白色の絶縁層材と、
前記絶縁層材上に設けられ前記複数の回路基板の複数の前記回路パターンが集合した集合回路パターンと、
前記回路パターン上に設けられ二値化により前記絶縁層に対して画像認識可能な色調を有する着色保護材により形成された着色保護膜と、
前記絶縁層材上に前記回路パターンと同材質の導電材で設けられた画像認識用のターゲットマークと、
前記ターゲットマーク上に設けられ前記着色保護材で形成されて前記絶縁層材に対して画像認識を可能とする色調を有する着色膜と、
を備えた集合基板。 An assembly board in which a plurality of circuit boards are assembled, each of which has a circuit pattern on a base with an insulating layer interposed therebetween and the surface of the circuit pattern is plated with a white color ,
a plate-shaped base material constituting the bases of the plurality of circuit boards;
a white insulating layer material provided on the base material and constituting the insulating layers of the plurality of circuit boards;
a set circuit pattern provided on the insulating layer material and in which a plurality of the circuit patterns of the plurality of circuit boards are assembled;
a colored protective film provided on the circuit pattern and formed of a colored protective material having a color tone that allows image recognition with respect to the insulating layer by binarization ;
a target mark for image recognition provided on the insulating layer material with the same conductive material as the circuit pattern ;
a colored film provided on the target mark and formed of the colored protective material and having a color tone that enables image recognition with respect to the insulating layer material;
An aggregate board with
前記着色膜は、前記ターゲットマークの表面に設けられ、該表面と同一の平面形状を有する、
集合基板。 The aggregate substrate of claim 1,
The colored film is provided on the surface of the target mark and has the same planar shape as the surface.
aggregate board.
前記着色保護材は、ソルダーレジストである、
集合基板。 The aggregate substrate according to claim 1 or 2,
The colored protective material is a solder resist,
aggregate board.
前記回路パターンの着色保護膜及び前記ターゲットマークの着色膜を前記着色保護材により共に形成する着色膜形成工程を含む、
集合基板の製造方法。 A manufacturing method for manufacturing an aggregate substrate according to any one of claims 1 to 3,
a colored film forming step of forming a colored protective film for the circuit pattern and a colored film for the target mark together with the colored protective material;
A method of manufacturing an aggregate substrate.
金属板材に前記絶縁層材を介して前記集合回路パターン及び複数のターゲットマークを導電材により共に形成する回路形成工程を含む、
集合基板の製造方法。
A manufacturing method for manufacturing the aggregate substrate of claim 4 ,
A circuit forming step of forming the collective circuit pattern and the plurality of target marks on the metal plate through the insulating layer using a conductive material;
A method of manufacturing an aggregate substrate.
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JP3105790U (en) | 2004-06-09 | 2004-11-25 | 日本メクトロン株式会社 | Printed circuit board |
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