JP2008205244A - Printed wiring board and its manufacturing method - Google Patents

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浩之 菅山
Masahiro Fukuda
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To form an opening for connection without damaging a surface of a base film. <P>SOLUTION: In the printed wiring board, a protection film (c) is overlapped with the base film (b) where a wiring pattern is formed by conductor foil (e) and it is thermocompression-bonded by a heating/pressurizing means. The base film (b) and the protection film (c) are polyimide. First opening parts h1, h2 and h3 from which the base film (b) is exposed and second opening parts k4, k5 and k6 from which only conductor foil (e) is exposed are formed in the protection film (c) and an adhesive layer (a). <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、プリント配線板及びプリント配線板の製造方法に関する。   The present invention relates to a printed wiring board and a method for manufacturing a printed wiring board.

携帯情報端末やデジタルカメラなどの電子機器は、小型化、高性能化、薄型化が求められており、これら電子機器の要求に対応するため、大きな容積を占める内部の信号接続コネクタを省き各種モジュール部をコネクタレスでフレキシブル接続したプリント配線板が開発され商品化されている。   Electronic devices such as personal digital assistants and digital cameras are required to be smaller, have higher performance, and be thinner. To meet the demands of these electronic devices, various modules can be used without internal signal connection connectors that occupy a large volume. Printed wiring boards with flexible connections without connector have been developed and commercialized.

従来のいわゆるフレキシブルプリント配線板(FPC:Flexible Printed Circuit)としては、ベースフィルムに銅箔などからなる配線パターンが形成され、この配線パターンが形成されている面に保護フィルム(カバーレイフィルム)が接着されて構成されている。ベースフィルムとしては、液晶ポリマーも使用されてはいるが、近年、そのほとんどはポリイミドフィルムが使用され、上記保護フィルムもポリイミドフィルムが使用されることが一般的になりつつある。上記従来のプリント配線板には、搭載部品などを接続する開口部(ランド部)が形成されるが、この開口部の形成は、金型による打ち抜きプレスで開口されるものであった。   As a conventional so-called flexible printed circuit board (FPC), a wiring pattern made of copper foil or the like is formed on a base film, and a protective film (coverlay film) is bonded to the surface on which the wiring pattern is formed. Has been configured. Although a liquid crystal polymer is also used as the base film, in recent years, most of the polyimide film is used, and it is becoming common that the protective film is also used as the protective film. In the conventional printed wiring board, an opening (land portion) for connecting a mounted component or the like is formed. The opening is formed by a punching press using a mold.

しかし、打ち抜きプレスでの開口では、比較的大きな開口は可能であるが、高密度実装のために小さな開口が必要になってくると、上記打ち抜きプレスでの開口では対応が困難である。このため、特許文献1には、少なくとも一方の面に導体回路が形成されたベース板の該導体回路形成されている面に、非熱可塑性ポリイミドフィルムが熱可塑性ポリイミドフィルムを介して加熱接着され、該加熱接着されている非熱可塑性ポリイミドフィルム及び熱可塑性ポリイミドフィルムがエッチング穴あけ加工されていることを特徴とするプリント配線板が開示されている(請求項1)。また、ベース板に導体回路を形成する工程と、前記導体回路が形成されたベース板上に熱可塑性ポリイミドフィルムを介して非熱可塑性ポリイミドフィルムを加熱接着する工程と、前記非熱可塑性ポリイミドフィルム上に前記導体回路に適合させてレジスト膜によるパターンを形成する工程と、前記接着された非熱可塑性ポリイミドフィルムと熱可塑性ポリイミドフィルムとを一体的にレジスト膜による所望のパターンにアルカリによりエッチングする工程と、を含むことを特徴とするプリント配線板の製造方法が開示されている(請求項7)。
特許第3356298号公報
However, a relatively large opening is possible with an opening with a punching press. However, when a small opening is required for high-density mounting, it is difficult to cope with the opening with the punching press. For this reason, in Patent Document 1, a non-thermoplastic polyimide film is heated and bonded via a thermoplastic polyimide film to the surface of the base plate on which the conductor circuit is formed on at least one surface. There is disclosed a printed wiring board in which the non-thermoplastic polyimide film and the thermoplastic polyimide film that are heat-bonded are etched with holes (Claim 1). A step of forming a conductor circuit on the base plate; a step of thermally bonding a non-thermoplastic polyimide film on the base plate on which the conductor circuit is formed via a thermoplastic polyimide film; and Forming a pattern with a resist film in conformity with the conductor circuit, and etching the bonded non-thermoplastic polyimide film and thermoplastic polyimide film into a desired pattern with a resist film integrally with alkali. A method for manufacturing a printed wiring board is disclosed. (Claim 7)
Japanese Patent No. 3356298

しかしながら、上記特許文献1に記載のカバーレイ(ポリイミドフィルム、ポリイミド層)の開口方法は、ベースフィルムとしての非熱可塑性ポリイミドフィルム12の一方の面に耐薬品性を有する接着剤14を介して銅箔などから成る導体回路16が形成され、さらにこの上に熱可塑性ポリイミドフィルム18を介してカバーレイとしての非熱可塑性ポリイミドフィルム20が加熱接着されて構成されている。そして、この導体回路16の一部には搭載部品などと接続するために他の部分よりも少し大面積のランド部22が形成されていて、このランド部22上の熱可塑性ポリイミドフィルム18と非熱可塑性ポリイミドフィルム20には加熱接着されて一体化した状態で接続孔24がエッチングにより形成され、この接続孔24においてランド部22と搭載部品などとがはんだ付け可能なように構成されている(段落0028、図1等参照)。つまり、前記導体回路22に適合させてレジスト膜によるパターンを形成することから、上記接続孔24は、上記ランド部22の一部が露出する大きさとなるため、上記接続孔24から浸入したエッチング液が上記ランド部22と上記ベース板としての非熱可塑性ポリイミドフィルム12との境界部に浸入してしまい、上記ランド部22と上記ベース板としての非熱可塑性ポリイミドフィルム12の境界に介在する接着剤層14の一部が浸食されて配線パターンがベースフィルムから剥がれやすくなるという問題を有する。また、ベースフィルムにもエッチングによる浸食が生じると、ベースフィルムが弱くなる恐れがある。これを防止するためには、このような悪影響を与えないエッチング液を使用する必要があるが、そのような完全なエッチング液は未だ開発されていない。なお、配線パターンにアライメントマークが施され加工位置の目安にされる場合があるが、従来は、エッチングにより開口部を形成してアライメントマークを露出させていたことから、エッチング液にアライメントマークの周辺が侵食され、アライメントマークの輪郭がぼやけて形成される問題も有していた。また、上記エッチングによる開口形成では、ベース基板の表面や、上記特許文献1ではベース基板12上の接着剤層14の表面が荒らされてしまい、例えば液晶ディスプレイ用のガラス基板等に接着する際に接着力が低下するという問題を生じさせていた。   However, the opening method of the coverlay (polyimide film, polyimide layer) described in Patent Document 1 described above is based on copper via an adhesive 14 having chemical resistance on one surface of the non-thermoplastic polyimide film 12 as a base film. A conductor circuit 16 made of foil or the like is formed, and a non-thermoplastic polyimide film 20 as a cover lay is further heat-bonded thereon via a thermoplastic polyimide film 18. A land portion 22 having a slightly larger area than the other portions is formed in a part of the conductor circuit 16 so as to be connected to a mounted component or the like, and is not connected to the thermoplastic polyimide film 18 on the land portion 22. A connection hole 24 is formed by etching in the thermoplastic polyimide film 20 in a state of being heat-bonded and integrated, and the land portion 22 and the mounted component can be soldered in the connection hole 24 ( (See paragraph 0028, FIG. 1, etc.). That is, since the resist film is formed in conformity with the conductor circuit 22, the connection hole 24 is sized so that a part of the land portion 22 is exposed. Enters the boundary portion between the land portion 22 and the non-thermoplastic polyimide film 12 as the base plate, and the adhesive is interposed at the boundary between the land portion 22 and the non-thermoplastic polyimide film 12 as the base plate. There is a problem that a part of the layer 14 is eroded and the wiring pattern is easily peeled off from the base film. In addition, if the base film is eroded by etching, the base film may be weakened. In order to prevent this, it is necessary to use an etching solution that does not cause such adverse effects, but such a complete etching solution has not yet been developed. In some cases, the alignment mark is applied to the wiring pattern, which may be used as a guideline for the processing position. Conventionally, the alignment mark is exposed by forming an opening by etching. Is eroded and the contour of the alignment mark is blurred. In addition, in the opening formation by the etching, the surface of the base substrate and the surface of the adhesive layer 14 on the base substrate 12 in the above-mentioned Patent Document 1 are roughened. For example, when bonding to a glass substrate for a liquid crystal display or the like. The problem was that the adhesive strength was reduced.

そこで、本発明の目的は、ベースフィルムの表面を荒らすことなく接続のための開口を形成することができるとともに、配線のための大小様々な大きさの開口部を形成することが可能なプリント配線板及びプリント配線板の製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a printed wiring capable of forming an opening for connection without roughening the surface of the base film, and capable of forming openings of various sizes for wiring. It is providing the manufacturing method of a board and a printed wiring board.

本発明のプリント配線板は、導体箔により配線パターンが形成されたベースフィルムに保護フィルムが接着剤を介して重ね合わされて加熱・加圧手段により熱圧着されるプリント配線板であって、保護フィルムと接着剤層には、ベースフィルムを露出させる第1の開口部と、導体箔のみを露出させる第2の開口部が形成されていることを特徴とする。このプリント配線板は、次の製造方法により製造される。   The printed wiring board of the present invention is a printed wiring board in which a protective film is superposed on a base film on which a wiring pattern is formed with a conductive foil via an adhesive, and is thermocompression bonded by a heating / pressurizing means. The adhesive layer is formed with a first opening for exposing the base film and a second opening for exposing only the conductive foil. This printed wiring board is manufactured by the following manufacturing method.

本発明のプリント配線板の製造方法は、導体箔により配線パターンが形成されたベースフィルムに保護フィルムが重ね合わせて加熱・加圧手段により熱圧着されるプリント配線板の製造方法であって、保護フィルムと接着剤層には、ベースフィルムを露出させる第1の開口部と、導体箔のみを露出させる第2の開口部が形成され、上記ベースフィルムを露出させる第1の開口部は、金型により形成され、上記導体箔を露出させる第2の開口部は、金型、又は、エッチングにより形成されることを特徴とする。また、前記第1の開口部と第2の開口部を覆うレジスト膜を形成した後、エッチングにより第2の開口部を形成することを特徴とする。   The method for producing a printed wiring board according to the present invention is a method for producing a printed wiring board in which a protective film is superposed on a base film on which a wiring pattern is formed with a conductive foil, and is thermocompression bonded by a heating / pressurizing means. A first opening for exposing the base film and a second opening for exposing only the conductive foil are formed in the film and the adhesive layer, and the first opening for exposing the base film is a mold. The second opening that is formed by the above and exposes the conductor foil is formed by a mold or etching. Further, after forming a resist film covering the first opening and the second opening, the second opening is formed by etching.

この発明によれば、上記ベースフィルムを露出させる第1の開口部は、金型により形成されることから、エッチングにより形成する場合のように、上記ベースフィルムの表面がエッチングにより侵食されることがない。すなわち、上記導体箔を露出させる第2の開口部をエッチングにより形成するときでも、第1の開口部から露出するベースフィルムはレジスト膜で保護されるため、エッチングにより侵食されることがなく、外部接続部品との密着性を損なうことがなくなるとともに、ベースフィルムの強度も維持することができる。そして、このプリント配線板の製造方法によれば、配線のための大小様々な大きさの開口部を形成することができる。   According to this invention, since the first opening exposing the base film is formed by the mold, the surface of the base film may be eroded by etching as in the case of forming by etching. Absent. That is, even when the second opening for exposing the conductor foil is formed by etching, the base film exposed from the first opening is protected by the resist film, so that it is not eroded by the etching, The strength of the base film can be maintained while the adhesiveness with the connecting parts is not impaired. And according to this printed wiring board manufacturing method, openings of various sizes can be formed for wiring.

本発明としては、前記ベースフィルムと保護フィルムと接着剤は、ポリイミドを使用することが好ましい。   As this invention, it is preferable to use a polyimide for the said base film, a protective film, and an adhesive agent.

この発明によれば、前記ベースフィルムと保護フィルムと接着剤は、ポリイミドという統一した材料を使用して、銅箔等の導体箔とポリイミドのみでプリント配線板を構成することが可能となり、ハロゲンフリー及びUL規格に対応するフレキシブルプリント基板を実現できるとともに、リサイクル処理の容易化を図ることができる。   According to this invention, the base film, the protective film, and the adhesive can be made of a unified material called polyimide, and a printed wiring board can be configured only with a conductive foil such as copper foil and polyimide, and is halogen-free. In addition, it is possible to realize a flexible printed circuit board corresponding to the UL standard, and to facilitate the recycling process.

本発明によれば、上記ベースフィルムを露出させる第1の開口部は、金型により形成されることから、上記ベースフィルムの表面がエッチングにより侵食されることがない。したがって、ベースフィルムの強度に悪影響を及ぼすことがないと共に、ベースフィルムの表面が荒れてガラス基板等に接着する際に接着力が低下するようなことを防止して、例えば液晶ディスプレイ用のガラス基板と制御回路とを接続するプリント配線板として好適なものになる。また、配線のための大小様々な大きさの開口部を形成することができ、高密度実装が可能になる。さらに、エッチング液も一般的なものが使用可能である。そして、前記ベースフィルムと保護フィルムと接着剤は、ポリイミドという統一した材料を使用することで、銅箔等の導体箔とポリイミドのみでプリント配線板を構成することが可能となり、ハロゲンフリー及びUL規格に対応するフレキシブルプリント基板を実現できるとともに、リサイクル処理の容易化を図ることが可能になる。   According to the present invention, the first opening for exposing the base film is formed by the mold, so that the surface of the base film is not eroded by etching. Accordingly, the strength of the base film is not adversely affected, and the base film surface is roughened to prevent the adhesive force from being lowered when adhering to a glass substrate or the like. For example, a glass substrate for a liquid crystal display And a printed wiring board connecting the control circuit and the control circuit. Also, openings of various sizes can be formed for wiring, and high-density mounting becomes possible. Further, a general etching solution can be used. The base film, the protective film, and the adhesive are made of a unified material called polyimide, so that a printed wiring board can be composed only of a conductive foil such as copper foil and polyimide, and is halogen-free and UL standard. A flexible printed circuit board corresponding to the above can be realized and the recycling process can be facilitated.

以下、本発明を実施するための最良の形態を図面を引用しながら説明する。
図1(a)は、本発明を適用したプリント配線板Z1を上面から見た模式図である。また、図1(b)は、図1(a)のA−A断面図である。本実施の形態は、銅などの導体箔eにより配線パターン1e,2e,・・・,10eが形成されたベースフィルムbと、配線パターン1e,2e,・・・,10eを覆う保護フィルムcと、保護フィルムcとベースフィルムbとを接着する接着剤層aとからなる。ベースフィルムbは、ポリイミドフィルムからなり、接着剤層aはポリイミド接着剤からなり、保護フィルム(カバーレイ)cはポリイミドフィルムで構成されている。ベースフィルムbがポリイミドフィルムで構成されていることから、プリント配線板Z1は、可撓性と耐熱性を兼ね備えているが、曲げ強度を高くしたい部位やソケットなどの挿入先との厚みを一致させる場合には、ポリイミドなどの補強板を適宜、ベースフィルムbの外側(図1(b)の基材bの下側)に貼り合わせる。補強板は位置合わせ用のマークを基準として基板に貼り合せた後に外形を抜くことが好ましい。補強板を所望の位置に正確に貼り合わせることができるからである。
The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.
Fig.1 (a) is the schematic diagram which looked at the printed wiring board Z1 to which this invention was applied from the upper surface. Moreover, FIG.1 (b) is AA sectional drawing of Fig.1 (a). In this embodiment, a base film b in which wiring patterns 1e, 2e,..., 10e are formed of a conductive foil e such as copper, and a protective film c covering the wiring patterns 1e, 2e,. And an adhesive layer a for adhering the protective film c and the base film b. The base film b is made of a polyimide film, the adhesive layer a is made of a polyimide adhesive, and the protective film (coverlay) c is made of a polyimide film. Since the base film b is made of a polyimide film, the printed wiring board Z1 has both flexibility and heat resistance. However, the thickness of the portion where the bending strength is desired to be increased and the insertion destination such as a socket are made to coincide. In this case, a reinforcing plate such as polyimide is appropriately bonded to the outside of the base film b (the lower side of the base material b in FIG. 1B). The reinforcing plate is preferably removed from the outer shape after being bonded to the substrate with reference to the alignment mark. This is because the reinforcing plate can be accurately bonded to a desired position.

保護フィルムcと接着剤層aには、第1の開口部h1,h2,h3と、第2の開口部k4,k5,k6とが配線形成のために設けられている。第1の開口部h1,h2,h3は、ベースフィルムbを露出させる目的のものであり、金型により形成されている。第1の開口部h1,h2,h3は、それぞれ導体箔eによる配線パターン1e,6eと7e,9eと10eよりも大きく形成されている。第2の開口部k4,k5,k6は、導体箔eのみを露出させる目的のものであり、金型のほかエッチングにより形成されている。すなわち、第2の開口部k4,k5,k6はその大きさに依って金型とエッチングとを使い分けるとよい。但し、製造工程を簡単にするためには、まず、大きな開口を形成してから、次に、導体箔eの上に、これよりも小さな開口を形成するようにすることが好ましい。金型では、比較的大きな開口の形成に優れ、エッチングでは、微細な開口の高密度形成に優れる。つまり、金型では瞬時に大きな開口を形成することができる。また、エッチングでは、保護シートcとベースフィルムbとの貼り合わせ位置精度の影響を受けずに微細な開口部を形成することができ、ICなどのチップ部品の実装密度を高くすることができる。   The protective film c and the adhesive layer a are provided with first openings h1, h2, h3 and second openings k4, k5, k6 for wiring formation. The first openings h1, h2, h3 are for the purpose of exposing the base film b, and are formed by a mold. The first openings h1, h2, h3 are formed larger than the wiring patterns 1e, 6e and 7e, 9e and 10e made of the conductor foil e, respectively. The second openings k4, k5, k6 are for the purpose of exposing only the conductor foil e, and are formed by etching in addition to the mold. That is, the second openings k4, k5, and k6 may be used separately depending on the size. However, in order to simplify the manufacturing process, it is preferable to first form a large opening and then form a smaller opening on the conductor foil e. The mold is excellent in forming a relatively large opening, and the etching is excellent in forming a high density of fine openings. That is, a large opening can be formed instantaneously in the mold. In the etching, a fine opening can be formed without being affected by the accuracy of the bonding position between the protective sheet c and the base film b, and the mounting density of chip parts such as ICs can be increased.

配線パターン(配線電極)2e,3e,4eは、それぞれの配線パターン2e,3e,4eの幅よりも小さいサイズの第2の開口部k4,k5,k6により露出し、これにより導体箔eのみを露出させている。配線パターン2e,3e,4eは、例えばICなどのチップ部品を実装するための電極として使用される。ただし、2mm程度以上のような大きな開口は、金型による形成でも良い。なお、導体箔eが露出されるその表面は、化学研磨等の表面処理により鏡面加工が容易である。   The wiring patterns (wiring electrodes) 2e, 3e, and 4e are exposed through the second openings k4, k5, and k6 having a size smaller than the width of each wiring pattern 2e, 3e, and 4e. It is exposed. The wiring patterns 2e, 3e, 4e are used as electrodes for mounting a chip component such as an IC, for example. However, a large opening of about 2 mm or more may be formed by a mold. In addition, the surface where the conductor foil e is exposed can be easily mirror-finished by a surface treatment such as chemical polishing.

配線パターン6eと7eは、配線パターン6eと7eよりも大きいサイズの金型により形成された開口部h2により露出している。配線パターン6eと7eとの間は、これらの厚み分だけ高さが低くなっており、例えば実装面の平坦度が重要となるような部品を実装するのに適している。   The wiring patterns 6e and 7e are exposed through an opening h2 formed by a mold having a larger size than the wiring patterns 6e and 7e. The height between the wiring patterns 6e and 7e is reduced by these thicknesses, which is suitable for mounting a component in which the flatness of the mounting surface is important, for example.

配線パターン5eと8eは、配線電極同士を接続して配線回路を形成しており、外部からダメージを受けないように接着剤層aと保護シートcにより保護されている。   The wiring patterns 5e and 8e connect the wiring electrodes to form a wiring circuit, and are protected by the adhesive layer a and the protective sheet c so as not to be damaged from the outside.

多数の配線電極からなる配線パターン9eと両側に形成された位置決め用の配線パターン10eは、配線パターン9eと10eよりも大きいサイズの金型により形成された開口部h3により露出している。ラインmが保護シートcと接着剤層aの終端となっており、開口部h3は、片側(図1(a)のラインmより上方向)が開いた空間となっている。配線パターン9eは、ターミナル電極とも呼ばれ、例えば外部機器のコネクタに挿入されて電気接続したり、液晶ディスプレイのガラス基板に接着されて電気接続するためのものである。配線パターン10eは、ターミナル電極9eと外部のコネクタやガラス基板などとを接続する際の位置決め標識である。   The wiring pattern 9e composed of a large number of wiring electrodes and the positioning wiring pattern 10e formed on both sides are exposed through an opening h3 formed by a mold having a size larger than the wiring patterns 9e and 10e. The line m is the end of the protective sheet c and the adhesive layer a, and the opening h3 is a space opened on one side (upward from the line m in FIG. 1A). The wiring pattern 9e is also called a terminal electrode. For example, the wiring pattern 9e is inserted into a connector of an external device for electrical connection, or is bonded to a glass substrate of a liquid crystal display for electrical connection. The wiring pattern 10e is a positioning mark for connecting the terminal electrode 9e to an external connector or a glass substrate.

配線パターン1eは、アライメントマークとも呼ばれ、ICなどのチップ部品をプリント配線板Z1に実装する際の実装位置を認識するための基準位置を示すためのものである。配線パターン1eによるアライメントマークは、小さくて輪郭がはっきりしているほど認識位置精度が高くなる。本実施の形態では、配線パターン1eは、配線パターン1eの幅よりも大きいサイズの金型により形成された第1の開口部h1により露出しているので、その輪郭が明確に認識できる。なお、従来は、エッチングにより開口部を形成してアライメントマーク1eを露出させていたことから、エッチング液にアライメントマーク1eの周辺が侵食され、アライメントマーク1eを小さくすることが困難であり、その輪郭がぼやけることが多かった。   The wiring pattern 1e is also called an alignment mark, and is used to indicate a reference position for recognizing a mounting position when a chip component such as an IC is mounted on the printed wiring board Z1. As the alignment mark of the wiring pattern 1e is smaller and the outline is clearer, the recognition position accuracy becomes higher. In the present embodiment, the wiring pattern 1e is exposed through the first opening h1 formed by a mold having a size larger than the width of the wiring pattern 1e, so that the outline can be clearly recognized. Conventionally, since the opening is formed by etching to expose the alignment mark 1e, the periphery of the alignment mark 1e is eroded by the etching solution, and it is difficult to reduce the alignment mark 1e. Was often blurred.

図2は、本実施形態の製造手順を示す工程フローチャートである。S1とS2はベースフィルムbと導体箔eからなる基材1を加工する工程である。S11とS12は保護フィルムcと接着剤層aからなる基材2を加工する工程である。S3からS6は基材1と基材2とを組み合わせて加工する工程である。図3は、主要な製造工程でのワーク断面図である。図2に示す工程フローチャートに従い、本発明を適用したプリント配線板Z1の製造方法を以下に説明する。   FIG. 2 is a process flowchart showing the manufacturing procedure of the present embodiment. S1 and S2 are processes for processing the base material 1 composed of the base film b and the conductor foil e. S11 and S12 are steps for processing the substrate 2 composed of the protective film c and the adhesive layer a. S3 to S6 are processes in which the base material 1 and the base material 2 are combined. FIG. 3 is a cross-sectional view of a work in the main manufacturing process. A method of manufacturing the printed wiring board Z1 to which the present invention is applied will be described below in accordance with the process flowchart shown in FIG.

まず、ポリイミドフィルムからなるベースフィルムbの一方の面に導体箔eを形成して基材1を形成する(図2(S1),図3(a))。導体箔eとしては、銅箔、アルミニウム箔やニッケル箔などの導電性材料が使用される。導体箔eの形成は、めっき法やアディティブ法による形成や導体箔eとベースフィルムbとの間に接着剤層を介在させて接着する構造のものがあり、用途によって使い分ける。そして、エッチングなどにより所望の配線パターン1e〜10e等を形成する(図2(S2))。   First, a conductive foil e is formed on one surface of a base film b made of a polyimide film to form a substrate 1 (FIG. 2 (S1), FIG. 3 (a)). As the conductor foil e, a conductive material such as copper foil, aluminum foil or nickel foil is used. The conductor foil e may be formed by plating or additive method, or may be bonded with an adhesive layer interposed between the conductor foil e and the base film b. Then, desired wiring patterns 1e to 10e are formed by etching or the like (FIG. 2 (S2)).

また、S1,S2工程とは別工程として、ポリイミドからなる保護フィルムcの一方の面にポリイミド接着剤シートaを貼り合わせて基材2を形成する(図2(S11),図3(b))。そして、金型により所望の第1の開口部h1〜h3を形成する(図2(S12))。ポリイミド接着剤シートを保護フィルムcとして一層にすることも可能である。第1の開口部h1,h2,h3は、金型形成することにより、導体箔eによる配線パターン1e,6e,7e,9e,10eよりも大きく(はみ出して)形成することができる(図1(a)(b))。   Further, as a step different from the steps S1 and S2, the base material 2 is formed by bonding the polyimide adhesive sheet a to one surface of the protective film c made of polyimide (FIG. 2 (S11), FIG. 3 (b)). ). Then, desired first openings h1 to h3 are formed by a mold (FIG. 2 (S12)). It is also possible to use a single layer of the polyimide adhesive sheet as the protective film c. The first openings h1, h2, and h3 can be formed larger than the wiring patterns 1e, 6e, 7e, 9e, and 10e made of the conductor foil e by forming a mold (FIG. 1 ( a) (b)).

次に、基材1の導体箔eの面と基材2の接着剤層aの面を向かい合わせて、例えば配線パターン1e,6e,7e,9e,10eがそれぞれ対応する第1の開口部h1,h2,h3から露出するように位置合わせを行い、加圧・加熱手段K1,K2により、基材1と基材2とを密着させ加圧して加熱することで一体形成する(図2(S3),図3(c))。   Next, the surface of the conductive foil e of the substrate 1 and the surface of the adhesive layer a of the substrate 2 are faced to each other, for example, the first openings h1 corresponding to the wiring patterns 1e, 6e, 7e, 9e, and 10e, respectively. , H2 and h3 are aligned so that the base material 1 and the base material 2 are brought into close contact with each other by the pressurizing / heating means K1 and K2 and are heated by pressing (FIG. 2 (S3 ), FIG. 3 (c)).

次に、一体形成されたベースフィルムb,a,c(図3(d))の導体箔eの形成された側の面に、ソルダーレジスト等のレジスト膜rを保護フィルムcと第1の開口部h1,h2,h3により露出している配線パターン1e,6e,7e,9e,10eとを覆うように形成し、所望の開口部k4,k5,k6が形成される位置にエッチングパターンk1,k2,k3を形成する(図2(S4),図3(e))。レジスト膜rによるエッチングパターンの形成は、スクリーン印刷法やドライフィルム/写真法や液体レジスト/写真法があり、用途によって使い分ける。レジスト膜rにより第1の開口部h1,h2,h3を覆うことで、ベースフィルムbの表面や配線パターン1e,6e,7e,9e,10eを侵食して、表面を荒くしたり、又、ベースフィルムbを弱くするようなことはない。一方、エッチング液も、従来のように特定のものに限定されず、一般的なものが使用可能できる。   Next, a resist film r such as a solder resist is applied to the surface of the integrally formed base films b, a and c (FIG. 3D) on which the conductor foil e is formed, and the protective film c and the first opening. The wiring patterns 1e, 6e, 7e, 9e, 10e exposed by the parts h1, h2, h3 are formed so as to cover them, and the etching patterns k1, k2 are formed at positions where desired openings k4, k5, k6 are formed. , K3 (FIG. 2 (S4), FIG. 3 (e)). The etching pattern can be formed by the resist film r by a screen printing method, a dry film / photographic method, or a liquid resist / photographic method, which is used depending on the application. By covering the first openings h1, h2, and h3 with the resist film r, the surface of the base film b and the wiring patterns 1e, 6e, 7e, 9e, and 10e are eroded, and the surface is roughened. There is no such thing as weakening film b. On the other hand, the etching solution is not limited to a specific one as in the prior art, and a general one can be used.

そして、ポリイミドエッチングにより所望の開口部k1,k2,k3を形成し(図2(S5),図3(f))、レジスト膜rを除去することによりプリント配線板Z1が完成する(図2(S6),図3(g))。銅などの導体箔eが露出されるその表面を鏡面仕上げとするためには、例えば希硫酸と過酸化水素水からなる化学研磨液等を用いて洗浄する。そして、上記表面を耐蝕性を上げて実装しやすくするためには、ニッケルを下地めっきとした金めっきなどの保護膜を形成する。   Then, desired openings k1, k2, and k3 are formed by polyimide etching (FIG. 2 (S5), FIG. 3 (f)), and the resist film r is removed to complete the printed wiring board Z1 (FIG. 2 ( S6), FIG. 3 (g)). In order to make the surface of the conductor foil e such as copper exposed to a mirror finish, it is cleaned using, for example, a chemical polishing liquid composed of dilute sulfuric acid and hydrogen peroxide. In order to increase the corrosion resistance of the surface and make it easier to mount, a protective film such as gold plating using nickel as a base plating is formed.

なお、上述のプリント配線板Z1を同時に多数個製造するためには、基材1と基材2にプリント配線板Z1となる配線パターンを複数連接して形成し、加工工程の最後に金型等により切り離してプリント配線板Z1とする等の製造方法がある。   In order to simultaneously manufacture a large number of the above-described printed wiring boards Z1, a plurality of wiring patterns to be printed wiring boards Z1 are formed on the base material 1 and the base material 2, and a die or the like is formed at the end of the processing step. There is a manufacturing method such as separating the printed wiring board Z1 into a printed wiring board Z1.

(実施例)
本実施の形態の製造方法により、保護シートcの厚みを10〜12.5μmとし、接着剤層(接着剤シート)aの厚みを10〜15μmとしてプリント配線板Z1を作製した。金型による第1の開口部の最小加工サイズ(長さ、径)は1mmであり、その位置精度は0.15mmであったが、エッチングでは開口部のサイズ(長さ、径)を0.07mmとすることができ、その位置精度も0.05mmとすることができた。このように、ベースフィルムbを弱めたり、ベースフィルムbの表面を荒らすことなく形成できるとともに、配線のための大小様々な大きさの開口部を形成することが可能なる。
(Example)
By the manufacturing method of the present embodiment, the printed wiring board Z1 was manufactured by setting the thickness of the protective sheet c to 10 to 12.5 μm and the thickness of the adhesive layer (adhesive sheet) a to 10 to 15 μm. The minimum processing size (length, diameter) of the first opening by the mold was 1 mm and the positional accuracy was 0.15 mm. However, in etching, the size (length, diameter) of the opening was set to 0. The position accuracy could be set to 07 mm, and the positional accuracy could also be set to 0.05 mm. Thus, the base film b can be formed without weakening or roughening the surface of the base film b, and openings of various sizes for wiring can be formed.

以上、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではない。例えば、ここでは、ベースフィルムbはポリイミドフィルムとしたが、液晶ポリマー等を使用しても問題ない。また、本実施の形態では、片面銅張り板シート1であるが、両面銅張り板シートや積層シートなどにも応用できる。このように、本発明は、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更が可能であることは言うまでもない。     As described above, the present invention is not limited to the embodiment described above. For example, here, the base film b is a polyimide film, but there is no problem even if a liquid crystal polymer or the like is used. In the present embodiment, the single-sided copper-clad plate sheet 1 is applicable, but can also be applied to a double-sided copper-clad plate sheet or a laminated sheet. Thus, it goes without saying that the present invention can be modified as appropriate without departing from the spirit of the present invention.

本発明を適用した実施の形態のプリント配線板を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the printed wiring board of embodiment to which this invention is applied. 上記実施の形態の製造手順を示す工程フローチャートである。It is a process flowchart which shows the manufacture procedure of the said embodiment. 上記実施の形態の製造工程でのワーク断面図である。It is workpiece | work sectional drawing in the manufacturing process of the said embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

Z1 プリント配線板、
1,2 基材、
a 接着剤層、
b ベースフィルム、
c 保護フィルム(カバーレイフィルム)、
e,1e,2e,・・・,10e 導体箔(配線パターン)、
h1,h2,h3 第1の開口部、
k4,k5,k6 第2の開口部、
r レジスト膜
Z1 printed wiring board,
1, 2, base material,
a adhesive layer,
b Base film,
c Protective film (coverlay film),
e, 1e, 2e, ..., 10e Conductor foil (wiring pattern),
h1, h2, h3 first opening,
k4, k5, k6 second opening,
r Resist film

Claims (7)

導体箔により配線パターンが形成されたベースフィルムに保護フィルムが接着剤を介して重ね合わされて加熱・加圧手段により熱圧着されるプリント配線板であって、保護フィルムと接着剤層には、ベースフィルムを露出させる第1の開口部と、導体箔のみを露出させる第2の開口部が形成されていることを特徴とするプリント配線板。   A printed wiring board in which a protective film is superimposed on a base film on which a wiring pattern is formed with a conductive foil via an adhesive and is thermocompression bonded by a heating / pressurizing means. The printed wiring board characterized by the 1st opening part which exposes a film, and the 2nd opening part which exposes only conductor foil. 導体箔を露出させる第2の開口部の大きさは、前記ベースフィルムを露出させる第1の開口部の大きさよりも小さな開口であり、第2の開口部は前記導体箔のパターン幅よりも小さな開口であることを特徴とする請求項1記載のプリント配線板。   The size of the second opening for exposing the conductive foil is an opening smaller than the size of the first opening for exposing the base film, and the second opening is smaller than the pattern width of the conductive foil. The printed wiring board according to claim 1, wherein the printed wiring board is an opening. 前記ベースフィルムと保護フィルムと接着剤は、ポリイミドであることを特徴とする請求項1又は2記載のプリント配線板。   The printed wiring board according to claim 1, wherein the base film, the protective film, and the adhesive are polyimide. 導体箔により配線パターンが形成されたベースフィルムに保護フィルムが接着剤を介して重ね合わされて加熱・加圧手段により熱圧着されるプリント配線板の製造方法であって、保護フィルムと接着剤層には、ベースフィルムを露出させる第1の開口部と、導体箔のみを露出させる第2の開口部が形成され、上記ベースフィルムを露出させる第1の開口部を金型により形成し、上記導体箔を露出させる第2の開口部を、金型、又は、エッチングにより形成することを特徴とするプリント配線板の製造方法。   A method of manufacturing a printed wiring board in which a protective film is superimposed on a base film on which a wiring pattern is formed with a conductive foil via an adhesive and is thermocompression-bonded by a heating / pressurizing means. The first opening for exposing the base film and the second opening for exposing only the conductive foil are formed, and the first opening for exposing the base film is formed by a mold, and the conductive foil is formed. A method for manufacturing a printed wiring board, wherein the second opening exposing the substrate is formed by a mold or etching. 前記第1の開口部と第2の開口部を覆うレジスト膜を形成した後、エッチングにより第2の開口部を形成することを特徴とする請求項4記載のプリント配線板の製造方法。   5. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 4, wherein after forming a resist film covering the first opening and the second opening, the second opening is formed by etching. 前記導体箔を露出させる第2の開口部の大きさは、前記ベースフィルムを露出させる第1の開口部の大きさよりも小さな開口であり、この第2の開口部をエッチングにより形成することを特徴とする請求項4記載のプリント配線板の製造方法。   The size of the second opening that exposes the conductive foil is smaller than the size of the first opening that exposes the base film, and the second opening is formed by etching. The manufacturing method of the printed wiring board of Claim 4. 前記ベースフィルムと保護フィルムと接着剤は、ポリイミドを使用することを特徴とする請求項4ないし6のいずれか一項記載のプリント配線板の製造方法。   The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 4, wherein polyimide is used for the base film, the protective film, and the adhesive.
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