JP7288200B2 - Light emitting device and package - Google Patents

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Description

本開示は、発光装置およびその製造方法ならびに梱包体に関する。 TECHNICAL FIELD The present disclosure relates to a light-emitting device, a manufacturing method thereof, and a package.

発光ダイオード(LED)等の発光素子を備える発光装置として、発光素子と、その発光面と対向配置された波長変換部材とを組み合わせたものが知られている。 2. Description of the Related Art As a light emitting device having a light emitting element such as a light emitting diode (LED), there is known a combination of a light emitting element and a wavelength converting member arranged to face the light emitting surface of the light emitting element.

特開2013-232503号公報JP 2013-232503 A

発光装置では、より劣化が抑制された波長変換部材が求められている。 In light emitting devices, there is a demand for a wavelength conversion member whose deterioration is further suppressed.

本発明の実施形態は、以下の構成を含む。
発光素子と、
樹脂材料と蛍光体粒子とを含み、発光素子を覆う波長変換部材と、
波長変換部材の表面の少なくとも一部を覆うコーティング層と、
を備え、
コーティング層の表面粗さは、波長変換部材の表面の少なくとも一部の表面粗さよりも小さい、発光装置。
An embodiment of the present invention includes the following configurations.
a light emitting element;
a wavelength conversion member containing a resin material and phosphor particles and covering the light emitting element;
a coating layer covering at least part of the surface of the wavelength conversion member;
with
The light-emitting device, wherein the surface roughness of the coating layer is smaller than the surface roughness of at least part of the surface of the wavelength conversion member.

以上により、発光装置では、波長変換部材の劣化がより抑制される。 As described above, deterioration of the wavelength conversion member is further suppressed in the light emitting device.

実施形態に係る発光装置の一例を示す概略断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic sectional drawing which shows an example of the light-emitting device which concerns on embodiment. 実施形態に係る発光装置の一例を示す概略断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic sectional drawing which shows an example of the light-emitting device which concerns on embodiment. 実施形態に係る発光装置の一例を示す概略断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic sectional drawing which shows an example of the light-emitting device which concerns on embodiment. 実施形態に係る発光装置の一例を示す概略断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic sectional drawing which shows an example of the light-emitting device which concerns on embodiment. 波長変換部材の切断面における凸部を例示する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which illustrates the convex part in the cut surface of a wavelength conversion member. 実施形態に係る発光装置の一例を示す概略断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic sectional drawing which shows an example of the light-emitting device which concerns on embodiment. 実施形態に係る発光装置の一例を示す概略断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic sectional drawing which shows an example of the light-emitting device which concerns on embodiment. 実施形態に係る発光装置の一例を示す概略断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic sectional drawing which shows an example of the light-emitting device which concerns on embodiment. 図6に示す発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。7A to 7D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing the light emitting device shown in FIG. 6; 図6に示す発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。7A to 7D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing the light emitting device shown in FIG. 6; 図6に示す発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。7A to 7D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing the light emitting device shown in FIG. 6; 図6に示す発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。7A to 7D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing the light emitting device shown in FIG. 6; 図7に示す発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。8A to 8D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing the light emitting device shown in FIG. 7; 図7に示す発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。8A to 8D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing the light emitting device shown in FIG. 7; 図7に示す発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。8A to 8D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing the light emitting device shown in FIG. 7; 図7に示す発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。8A to 8D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing the light emitting device shown in FIG. 7; 実施形態に係る発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。1A to 1D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment; 実施形態に係る発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。1A to 1D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment; 実施形態に係る発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。1A to 1D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment; 実施形態に係る発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。1A to 1D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment; 実施形態に係る梱包体の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the package which concerns on embodiment. 実施形態に係る梱包体の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the package which concerns on embodiment. エンボスキャリアからピックアップされる発光装置を示す概略断面図である。FIG. 4A is a schematic cross-sectional view showing a light emitting device picked up from an embossed carrier; 実施形態に係る発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。1A to 1D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment; 実施形態に係る発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。1A to 1D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment; 実施形態に係る発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。1A to 1D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment; 図15A~15Cの工程で得られる発光装置を示す概略断面図である。15C is a schematic cross-sectional view showing a light-emitting device obtained by the steps of FIGS. 15A to 15C; FIG. 実施形態に係る発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。1A to 1D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment; 実施形態に係る発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。1A to 1D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment; 実施形態に係る発光装置の製造方法の一例を示す概略工程断面図である。1A to 1D are schematic process cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment; 図17A~17Cの工程で得られる発光装置を示す概略断面図である。17C is a schematic cross-sectional view showing a light emitting device obtained by the steps of FIGS. 17A to 17C; FIG.

本発明を実施するための形態を、以下に図面を参照しながら説明する。ただし、以下に示す形態は、本発明の技術思想を具体化するための発光装置およびその製造方法ならびに梱包体を例示するものであって、本発明は、発光装置およびその製造方法ならびに梱包体を以下に限定するものではない。構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、特定的な記載がない限り、本発明の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく、例示することを意図したものである。各図面が示す部材の大きさや位置関係等は、理解を容易にする等のために誇張している場合がある。また、各図面はわかりやすさを考慮して一部の図を省略して図示する場合がある。 A mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the embodiments shown below exemplify a light-emitting device, a method for manufacturing the same, and a package for embodying the technical idea of the present invention. It is not limited to the following. Unless otherwise specified, the dimensions, materials, shapes, relative positions, etc. of components are intended to be illustrative rather than limiting the scope of the present invention. The sizes and positional relationships of members shown in each drawing may be exaggerated for ease of understanding. In addition, some drawings may be omitted from each drawing for the sake of clarity.

[発光装置]
図1は、実施形態に係る発光装置100の一例を示す概略断面図である。発光装置100は、主たる構成要素として、発光素子10と、波長変換部材20と、コーティング層30とを備える。
[Light emitting device]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a light emitting device 100 according to an embodiment. The light-emitting device 100 includes a light-emitting element 10, a wavelength conversion member 20, and a coating layer 30 as main components.

発光素子10は、光を発することができる部材である。発光素子10は、任意の波長を有する光を発することが可能な半導体発光素子を含む。波長変換部材20は、発光素子10が発する光の一部または全部を他の波長の光に変換する部材である。波長変換部材20は、例えば樹脂材料と蛍光体粒子とを含む。波長変換部材20は、発光素子10を覆うように配置される。図1に示す例では、発光素子10の発光面11を覆うように配置される。コーティング層30は、波長変換部材20の表面の少なくとも一部を覆う。 The light emitting element 10 is a member capable of emitting light. The light emitting device 10 includes a semiconductor light emitting device capable of emitting light of any wavelength. The wavelength conversion member 20 is a member that converts part or all of the light emitted by the light emitting element 10 into light of another wavelength. The wavelength conversion member 20 includes, for example, a resin material and phosphor particles. The wavelength conversion member 20 is arranged so as to cover the light emitting element 10 . In the example shown in FIG. 1, it is arranged so as to cover the light emitting surface 11 of the light emitting element 10 . The coating layer 30 covers at least part of the surface of the wavelength conversion member 20 .

実施形態に係る発光装置100のコーティング層30の表面粗さは、波長変換部材20の表面の少なくとも一部の表面粗さよりも小さい。詳細には、波長変換部材20を覆う部分のコーティング層30の表面粗さは、波長変換部材20の表面のうちコーティング層30で覆われた部分の表面粗さよりも小さい。 The surface roughness of the coating layer 30 of the light emitting device 100 according to the embodiment is smaller than the surface roughness of at least part of the surface of the wavelength conversion member 20 . Specifically, the surface roughness of the portion of the coating layer 30 that covers the wavelength conversion member 20 is smaller than the surface roughness of the portion of the surface of the wavelength conversion member 20 that is covered with the coating layer 30 .

コーティング層30の表面粗さに起因して、実施形態に係る発光装置100は、波長変換部材20の劣化がより抑制されている。これにつき詳説する。蛍光体粒子の中には、耐湿性が弱い組成を含む場合がある。そのため、蛍光体粒子が波長変換部材20の表面に露出されている場合、波長変換部材20の特性が劣化し易い。また、波長変換部材20の表面が、ダイシングブレード等によって切断された切断面である場合、図5に示すように、蛍光体粒子の一部が破損される場合がある。 Due to the surface roughness of the coating layer 30 , deterioration of the wavelength conversion member 20 is further suppressed in the light emitting device 100 according to the embodiment. This will be explained in detail. Some phosphor particles may contain a composition with low moisture resistance. Therefore, when the phosphor particles are exposed on the surface of the wavelength conversion member 20, the characteristics of the wavelength conversion member 20 are likely to deteriorate. Moreover, when the surface of the wavelength conversion member 20 is a cut surface cut by a dicing blade or the like, some phosphor particles may be damaged as shown in FIG.

また、発光装置の発光面となる樹脂材料は、高い透光性や、発光素子からの光に対する耐光性など、光学特性に優れた材料が求められる。そして、これらの光学特性を優先して選択された樹脂材料が、耐湿性の高い材料や、水分透過性の低い材料とは限らない場合がある。 In addition, the resin material that forms the light-emitting surface of the light-emitting device is required to have excellent optical properties such as high translucency and resistance to light emitted from the light-emitting element. In some cases, the resin material selected with priority given to these optical properties is not necessarily a material with high moisture resistance or a material with low moisture permeability.

そこで、実施形態に係る発光装置100では、波長変換部材20の表面を覆うコーティング層30を備え、さらにそのコーティング層30の表面粗さを、波長変換部材20の表面粗さよりも小さくしている。表面粗さが小さいコーティング層30は、その層が大気雰囲気と接する比表面積が相対的に小さい。そのため、コーティング層30に水分が触れる面積が小さくなり、水分による劣化を抑制することができる。これにより、実施形態に係る発光装置100は、波長変換部材20をコーティング層30で覆い、かつ、コーティング層30の比表面積を小さくすることで、波長変換部材20の劣化をより効果的に抑制できる。また、比表面積が小さく平滑な表面のコーティング層30を備えることで、後述の梱包体300において、発光装置100のピックアップ精度を向上させることができる。 Therefore, the light-emitting device 100 according to the embodiment includes the coating layer 30 covering the surface of the wavelength conversion member 20 , and the surface roughness of the coating layer 30 is made smaller than the surface roughness of the wavelength conversion member 20 . A coating layer 30 with a small surface roughness has a relatively small specific surface area in contact with the atmosphere. Therefore, the area of the coating layer 30 that is in contact with moisture is reduced, and deterioration due to moisture can be suppressed. As a result, the light emitting device 100 according to the embodiment covers the wavelength conversion member 20 with the coating layer 30 and reduces the specific surface area of the coating layer 30, thereby more effectively suppressing deterioration of the wavelength conversion member 20. . Further, by providing the coating layer 30 having a small specific surface area and a smooth surface, it is possible to improve the pickup accuracy of the light emitting device 100 in the package 300 described later.

上述のようなコーティング層30は、波長変換部材20の表面の少なくとも一部を覆うように配置される。特に、波長変換部材20の表面が、切断された面、又は、研削された面など、機械的に加工された面の場合、例えば、図5に示すように蛍光体粒子27が切断されたり、あるいは、樹脂から蛍光体粒子27が露出されたりし易い。また、蛍光体粒子27が脱落して樹脂26に凹部が形成される場合もある。このような波長変換部材20の表面をコーティング層30で覆うことで、吸湿による波長変換部材20の劣化を抑制し易い。また、波長変換部材20が蛍光体粒子27を多く含む場合は、切断または研削等の加工を行わなくても、波長変換部材20の表面に、蛍光体粒子27に起因する凹凸が形成されやすい。このような場合も、コーティング層30で覆うことで吸湿による波長変換部材20の劣化を抑制し易い。 The coating layer 30 as described above is arranged to cover at least part of the surface of the wavelength conversion member 20 . In particular, when the surface of the wavelength conversion member 20 is a mechanically processed surface such as a cut surface or a ground surface, for example, the phosphor particles 27 are cut as shown in FIG. Alternatively, the phosphor particles 27 are likely to be exposed from the resin. In addition, the phosphor particles 27 may fall off and recesses may be formed in the resin 26 . By covering the surface of the wavelength conversion member 20 with the coating layer 30, deterioration of the wavelength conversion member 20 due to moisture absorption can be easily suppressed. In addition, when the wavelength conversion member 20 contains a large amount of phosphor particles 27, irregularities due to the phosphor particles 27 are likely to be formed on the surface of the wavelength conversion member 20 without performing processing such as cutting or grinding. Even in such a case, it is easy to suppress deterioration of the wavelength conversion member 20 due to moisture absorption by covering it with the coating layer 30 .

波長変換部材20の表面粗さが、例えば、Sa0.9μm以上である場合、コーティング層30の表面粗さは、例えば、Sa0.7μm以下が好ましい。これにより、波長変換部材20の吸湿劣化をより効果的に抑制できる。なお、「表面粗さSa」とは、算術平均粗さRaを面に拡張した粗さの指標である。つまり、対象となる表面の平均面に対して、各点の高さの差の絶対値につき平均を表したものが表面粗さSaである。 When the surface roughness of the wavelength conversion member 20 is, for example, Sa0.9 μm or more, the surface roughness of the coating layer 30 is preferably Sa0.7 μm or less, for example. Thereby, moisture absorption deterioration of the wavelength conversion member 20 can be suppressed more effectively. The "surface roughness Sa" is an index of roughness obtained by extending the arithmetic mean roughness Ra to the surface. That is, the surface roughness Sa represents the average of the absolute values of the height differences at each point with respect to the average surface of the target surface.

コーティング層の表面粗さの指標は、必ずしもSaにのみ限定されるわけではない。例えば、表面粗さの指標は算術平均粗さRaであってもよい。この場合、コーティング層の表面粗さはRa0.5μm以下であってよく、これにより、波長変換部材の吸湿劣化をより効果的に抑制できる。 The index of the surface roughness of the coating layer is not necessarily limited only to Sa. For example, the surface roughness index may be the arithmetic mean roughness Ra. In this case, the surface roughness of the coating layer may be Ra 0.5 μm or less, thereby more effectively suppressing moisture absorption deterioration of the wavelength conversion member.

コーティング層30および波長変換部材20の表面粗さは、発光装置をダイシングブレード等で切断することで切り出した後、レーザ顕微鏡で得られる画像から算出することができる。特に、本開示において、表面粗さSaの値は、キーエンス製、型式VK-200を用いて測定された値を指す。 The surface roughness of the coating layer 30 and the wavelength conversion member 20 can be calculated from an image obtained with a laser microscope after the light emitting device is cut out by cutting with a dicing blade or the like. In particular, in the present disclosure, the value of surface roughness Sa refers to a value measured using Model VK-200 manufactured by Keyence.

実施形態に係る発光装置100において、コーティング層30は波長変換部材20よりも低いタック性を有すことができる。ここでいう「タック性」とは、広義には“くっ付き易さ”を指しており、狭義には、対象となる要素(すなわち、コーティング層30および波長変換部材20)が他の要素(例えば、後述するエンボスキャリア200)に対して呈する“くっ付き易さ”を指している。タック性が高いと、くっ付き易くなり、タック性が低いとくっ付き難くなる。波長変換部材20の表面を覆うコーティング層30の表面粗さを、波長変換部材20の表面粗さよりも小さくすることで、コーティング層30のタック性を波長変換部材20よりも低くすることができる。これにより、後述の梱包体300において、エンボスキャリア200から発光装置100をピックアップする際の精度を向上させることができる。 In the light emitting device 100 according to the embodiment, the coating layer 30 may have lower tackiness than the wavelength conversion member 20 . The term “tackiness” as used herein broadly refers to “ease of sticking”, and narrowly, the target elements (i.e., the coating layer 30 and the wavelength conversion member 20) are different from other elements (e.g., , refers to the "stickiness" exhibited by the embossed carrier 200, which will be described later. If the tackiness is high, sticking becomes easy, and if the tackiness is low, sticking becomes difficult. By making the surface roughness of the coating layer 30 covering the surface of the wavelength conversion member 20 smaller than the surface roughness of the wavelength conversion member 20 , the tackiness of the coating layer 30 can be made lower than that of the wavelength conversion member 20 . As a result, the accuracy of picking up the light emitting device 100 from the embossed carrier 200 can be improved in the package 300 to be described later.

波長変換部材20の表面が、切断面又は研削面のような機械的に加工された表面の場合、機械的に加工されていない表面に比べると、タック性が高くなりやすい。これは、波長変換部材に用いられる樹脂が、触媒による付加硬化型反応で硬化する樹脂(例えば、シリコーン樹脂)である場合に見られる現象である。このような波長変換部材では、その内部において、特に蛍光体粒子の周辺で硬化反応が十分でない場合がある。硬化後に切断又は研削された面は、このような硬化が十分ではない樹脂材料が表出した面である。そのため、機械的に加工されていない表面に比べるとタック性が高くなりやすい。このような面をコーティング層30で覆うことで、発光装置100のタック性を低減することができる。 If the surface of the wavelength conversion member 20 is a mechanically processed surface such as a cut surface or a ground surface, the tackiness tends to be higher than that of a surface that is not mechanically processed. This phenomenon occurs when the resin used for the wavelength conversion member is a resin (for example, a silicone resin) that is cured by an addition-curing reaction using a catalyst. In such a wavelength conversion member, there are cases where the curing reaction is not sufficient inside the member, particularly around the phosphor particles. A surface that is cut or ground after curing is a surface on which such insufficiently cured resin material is exposed. Therefore, the tackiness tends to be higher than that of a surface that is not mechanically processed. By covering such a surface with the coating layer 30, the tackiness of the light emitting device 100 can be reduced.

なお、タック性は、例えば、特開2017-226782号公報に開示されている方法を用いることができる。具体的には、タック性を測定するためのツールとして、先端面が1~3mm程度の平坦な面であるツールを準備する。測定試料として、波長変換部材を硬化させた樹脂シートを準備する。そして、樹脂シートに、ツールの先端面を一定時間押し付け、その後剥がす際の剥離強度を計測する。これにより、タック性を測定することができる。 For the tackiness, for example, the method disclosed in JP-A-2017-226782 can be used. Specifically, as a tool for measuring the tackiness, a tool having a flat tip surface of about 1 to 3 mm is prepared. A resin sheet obtained by curing the wavelength conversion member is prepared as a measurement sample. Then, the tip surface of the tool is pressed against the resin sheet for a certain period of time, and then peel strength is measured when the resin sheet is peeled off. Thereby, tackiness can be measured.

コーティング層の形成位置について、図1~図4、図6および図7に示す発光装置100(100A~100F)を例に挙げて説明する。尚、ここで例示する発光装置100は、発光素子10、波長変換部材20、及びコーティング層30に加えて、以下の構成を備えている。 The formation position of the coating layer will be described by taking the light emitting device 100 (100A to 100F) shown in FIGS. 1 to 4, 6 and 7 as an example. In addition to the light emitting element 10, the wavelength converting member 20, and the coating layer 30, the light emitting device 100 exemplified here has the following configuration.

発光装置は、上記の構成部材に加えて、光反射性の被覆部材を備えることができる。例えば、図1~図4および図6に示す発光装置100(100A~100E)は、発光素子10の半導体積層体15の側面及び電極16の側面を覆う被覆部材として封止部材40を備える。また、図7に示す発光装置100(100F)は、発光素子10の電極16の側面を覆う被覆部材として封止部材50を備える。また、被覆部材を備えない発光装置を用いてもよい。 The light-emitting device can include a light-reflective covering member in addition to the above constituent members. For example, the light emitting device 100 (100A to 100E) shown in FIGS. 1 to 4 and 6 includes a sealing member 40 as a covering member covering the side surfaces of the semiconductor laminate 15 and the electrode 16 of the light emitting element 10. FIG. Further, the light-emitting device 100 (100F) shown in FIG. 7 includes a sealing member 50 as a covering member that covers the side surfaces of the electrodes 16 of the light-emitting element 10 . Alternatively, a light-emitting device without a covering member may be used.

また、発光装置100は、図1に示すように、発光素子10の電極16と電気的に接続される導電部材17を備えることができる。さらに、発光装置100は、波長変換部材20の上面に、透光性部材(図示せず)を備えることができる。また、波長変換部材20と発光素子10とを接合させる接合部材(図示せず)を備えることができる。 In addition, the light emitting device 100 can include a conductive member 17 electrically connected to the electrodes 16 of the light emitting element 10, as shown in FIG. Furthermore, the light emitting device 100 can include a translucent member (not shown) on the upper surface of the wavelength converting member 20 . Also, a bonding member (not shown) that bonds the wavelength conversion member 20 and the light emitting element 10 can be provided.

各発光装置100は、波長変換部材20の表面として、上面21と側面23とを備えている。発光装置100A~100Eでは、波長変換部材20は発光素子10の上面と直接又は間接的に被覆している。発光素子10の側方には、封止部材40が配置されている。 Each light-emitting device 100 has an upper surface 21 and a side surface 23 as surfaces of the wavelength conversion member 20 . In the light-emitting devices 100A to 100E, the wavelength conversion member 20 covers the upper surface of the light-emitting element 10 directly or indirectly. A sealing member 40 is arranged on the side of the light emitting element 10 .

図7に示す発光装置100Fでは、波長変換部材20は発光素子10の半導体積層体15の上面11及び側面13と直接又は間接的に被覆している。発光素子10の電極16の側方には、封止部材50が配置されている。 In the light-emitting device 100F shown in FIG. 7, the wavelength conversion member 20 directly or indirectly covers the upper surface 11 and the side surface 13 of the semiconductor laminate 15 of the light-emitting element 10 . A sealing member 50 is arranged on the side of the electrode 16 of the light emitting element 10 .

図1に示す発光装置100(100A)では、コーティング層30は、波長変換部材20の側面23を上から下まで連続して覆っている。コーティング層30の一部は、波長変換部材20の側面23から延伸し、封止部材40の側面43の一部も覆っている。さらに、コーティング層30の一部は、波長変換部材20の上面21の一部も覆っている。例えば、波長変換部材20の側面23が切断面である場合、このように側面23の全体を覆うことが好ましい。さらに、この側面23だけでなく、側面23から連続する封止部材40の側面43の一部まで連続してコーティング層30で覆うことで、コーティング層30をはがれにくくすることができる。また、封止部材40と波長変換部材20の界面をコーティング層30が覆うことになるため、この界面から水分が入ることを抑制することができる。また、波長変換部材20の上面21まで連続することで、発光装置100の角部となる波長変換部材20の角部をコーティング層30で覆うことになる。これにより、コーティング層30をはがれにくくすることができる。また、波長変換部材20の上面21の外周部のみをコーティング層30で覆い、波長変換部材20の上面21の中央部分を露出させている。特に、発光素子10の直上の波長変換部材20の上面を露出させている。例えば、コーティング層30が光の一部を吸収する場合は、このように波長変換部材20をコーティング層30で覆わないことで、光の取出し効率の低下を抑制することができる。また、波長変換部材20の上面21のタック性が高い場合、図1に示すように上面21の外周部を覆うコーティング層30の上面が、波長変換部材20の上面よりも高くなる。そのため、例えば、後述のエンボスキャリア200やカバーテープと、波長変換部材20の上面21とが接触しにくくなる。これによりピックアップ性の低下を抑制することができる。 In the light emitting device 100 (100A) shown in FIG. 1, the coating layer 30 continuously covers the side surface 23 of the wavelength conversion member 20 from top to bottom. A portion of coating layer 30 extends from side surface 23 of wavelength conversion member 20 and also partially covers side surface 43 of sealing member 40 . Furthermore, part of the coating layer 30 also covers part of the upper surface 21 of the wavelength converting member 20 . For example, when the side surface 23 of the wavelength conversion member 20 is the cut surface, it is preferable to cover the entire side surface 23 in this manner. Furthermore, by continuously covering not only the side surface 23 but also a portion of the side surface 43 of the sealing member 40 continuing from the side surface 23 with the coating layer 30, the coating layer 30 can be made difficult to peel off. Moreover, since the interface between the sealing member 40 and the wavelength conversion member 20 is covered with the coating layer 30, it is possible to prevent moisture from entering from this interface. Further, by continuing to the upper surface 21 of the wavelength conversion member 20 , the corners of the wavelength conversion member 20 that become the corners of the light emitting device 100 are covered with the coating layer 30 . Thereby, the coating layer 30 can be made difficult to peel off. Moreover, only the outer peripheral portion of the upper surface 21 of the wavelength conversion member 20 is covered with the coating layer 30, and the central portion of the upper surface 21 of the wavelength conversion member 20 is exposed. In particular, the upper surface of the wavelength conversion member 20 directly above the light emitting element 10 is exposed. For example, when the coating layer 30 absorbs part of the light, not covering the wavelength conversion member 20 with the coating layer 30 in this way can suppress a decrease in light extraction efficiency. Further, when the upper surface 21 of the wavelength conversion member 20 has high tackiness, the upper surface of the coating layer 30 covering the outer peripheral portion of the upper surface 21 is higher than the upper surface of the wavelength conversion member 20 as shown in FIG. Therefore, for example, the embossed carrier 200 or the cover tape, which will be described later, and the upper surface 21 of the wavelength conversion member 20 are less likely to come into contact with each other. This can suppress deterioration in pick-up performance.

図2に示す発光装置100(100B)では、波長変換部材20の上面21がコーティング層30で覆われている。例えば、波長変換部材20の上面21が研削面である場合、このように上面21の全面を覆うことが好ましい。 In the light emitting device 100 (100B) shown in FIG. 2, the upper surface 21 of the wavelength converting member 20 is covered with the coating layer 30. As shown in FIG. For example, when the upper surface 21 of the wavelength conversion member 20 is a ground surface, it is preferable to cover the entire surface of the upper surface 21 in this manner.

図3に示す発光装置100(100C)では波長変換部材20の側面23のみがコーティング層30で覆われている。例えば、波長変換部材20の側面23の表面粗さが大きい場合、換言すると側面23の凹凸が大きい場合は、コーティング層30がこれらの凹凸によって広い面積で接することができる。そのため、コーティング層30が波長変換部材20のみを覆ったとしてもはがれにくくすることができる。 In the light emitting device 100 (100C) shown in FIG. 3, only the side surface 23 of the wavelength converting member 20 is covered with the coating layer 30. As shown in FIG. For example, when the side surface 23 of the wavelength conversion member 20 has a large surface roughness, in other words, when the side surface 23 has large unevenness, the coating layer 30 can be in contact with the coating layer 30 over a wide area due to these unevenness. Therefore, even if the coating layer 30 covers only the wavelength conversion member 20, it can be made difficult to peel off.

図4に示す発光装置100(100D)は波長変換部材20の上面21の全面、および側面23の全面がコーティング層30で覆われている。例えば、波長変換部材20の側面23が切断面である場合、図1に示す発光装置100Aと同様に、広い面積で波長変換部材20の表面を覆うことで、水分の吸収をより効率よく抑制することができる。 In the light-emitting device 100 (100D) shown in FIG. 4, the entire upper surface 21 and the entire side surface 23 of the wavelength conversion member 20 are covered with the coating layer 30 . For example, when the side surface 23 of the wavelength conversion member 20 is the cut surface, the surface of the wavelength conversion member 20 is covered with a large area, similarly to the light emitting device 100A shown in FIG. 1, thereby more efficiently suppressing moisture absorption. be able to.

図6に示す発光装置100(100E)では、コーティング層30は、波長変換部材20の側面23と封止部材40の側面43とを覆うように設けられている。これにより、発光装置100の全体として、側面の平滑性が上がるので、後述の梱包体300において、エンボスキャリア200から発光装置100をピックアップする際の精度を向上させることができる。 In the light emitting device 100 (100E) shown in FIG. 6, the coating layer 30 is provided so as to cover the side surface 23 of the wavelength conversion member 20 and the side surface 43 of the sealing member 40. As shown in FIG. As a result, the smoothness of the side surface of the light emitting device 100 as a whole is improved, so that the accuracy of picking up the light emitting device 100 from the embossed carrier 200 in the package 300 described later can be improved.

図7に示す発光装置100(100F)では、波長変換部材20は、発光素子10の半導体積層体15の上面11及び側面(第3面)13を覆っている。発光装置100Fにおいて、コーティング層30は、波長変換部材20の側面23を覆うように設けられている。これにより、発光装置100の側面の平滑性が上がるので、後述の梱包体300において、エンボスキャリア200から発光装置100をピックアップする際の精度を向上させることができる。 In the light-emitting device 100 (100F) shown in FIG. 7, the wavelength conversion member 20 covers the upper surface 11 and the side surface (third surface) 13 of the semiconductor laminate 15 of the light-emitting element 10. As shown in FIG. In the light emitting device 100</b>F, the coating layer 30 is provided so as to cover the side surface 23 of the wavelength conversion member 20 . As a result, the smoothness of the side surface of the light emitting device 100 is improved, so that the accuracy of picking up the light emitting device 100 from the embossed carrier 200 in the package 300 described later can be improved.

以下、実施形態に係る発光装置100の各構成要素について詳説する。 Each component of the light emitting device 100 according to the embodiment will be described in detail below.

・発光素子10
発光素子10は、半導体積層体15と、電極16と、を備える。図1に示すように、発光素子10は、発光面11(主発光面ともいう)と、発光面11に対して異なる方向(例えば垂直方向)に延在する側面13と、発光面11の反対側の面であって正負一対の電極16が設けられた電極形成面12とを備える。
Light emitting element 10
The light emitting device 10 includes a semiconductor laminate 15 and electrodes 16 . As shown in FIG. 1, the light-emitting element 10 includes a light-emitting surface 11 (also referred to as a main light-emitting surface), a side surface 13 extending in a different direction (for example, perpendicular direction) to the light-emitting surface 11, and a surface opposite to the light-emitting surface 11. and an electrode forming surface 12 which is a side surface and on which a pair of positive and negative electrodes 16 are provided.

発光素子10としては、任意の波長の光を発することが可能な半導体発光素子を選択することができる。例えば、発光素子10として、発光ダイオード等を選択することができる。一例として、発光素子10としては、青色光を発するものを用いることができる。これに限定されることなく、発光素子10としては、青色光以外の他の色の光を発するものを用いてよい。 As the light emitting element 10, a semiconductor light emitting element capable of emitting light of any wavelength can be selected. For example, a light emitting diode or the like can be selected as the light emitting element 10 . As an example, the light emitting element 10 may be one that emits blue light. Without being limited to this, the light emitting element 10 may be one that emits light of a color other than blue light.

例えば、青色光を発することが可能な発光素子10の半導体積層体15として、窒化物系半導体(InAlGa1-x-yN、0≦X、0≦Y、X+Y≦1)を用いることができる。この場合、窒化物系半導体発光素子は、例えば、サファイア基板およびサファイア基板に積層された窒化物系半導体積層構造を有する。窒化物系半導体積層構造は、発光層と、発光層をはさむように位置づけられたn型窒化物系半導体層およびp型窒化物系半導体層とを含む。n型窒化物系半導体層およびp型窒化物系半導体層に、電極16であるn側電極およびp側電極がそれぞれ電気的に接続される。 For example, a nitride semiconductor (In x Al y Ga 1-xy N, 0≦X, 0≦Y, X+Y≦1) is used as the semiconductor laminate 15 of the light emitting element 10 capable of emitting blue light. can be used. In this case, the nitride-based semiconductor light-emitting device has, for example, a sapphire substrate and a nitride-based semiconductor laminated structure laminated on the sapphire substrate. The nitride-based semiconductor multilayer structure includes a light-emitting layer, and an n-type nitride-based semiconductor layer and a p-type nitride-based semiconductor layer positioned to sandwich the light-emitting layer. An n-side electrode and a p-side electrode, which are electrodes 16, are electrically connected to the n-type nitride semiconductor layer and the p-type nitride semiconductor layer, respectively.

発光素子10は、平面視にて任意の形状、例えば、正方形または矩形等の形状を有してよい。さらに、三角形または六角形等の多角形等でもよい。発光素子10の平面視における大きさは、例えば、平面視にて250μm以上1000μm以下、好ましくは500μm以上750μm以下の縦横寸法とすることができる。発光素子10の厚みは、100μm以上500μm以下、好ましくは150μm以上340μm以下とすることができる。 The light emitting element 10 may have any shape in plan view, for example, a shape such as a square or a rectangle. Furthermore, polygons such as triangles or hexagons may be used. The size of the light emitting element 10 in plan view can be, for example, 250 μm or more and 1000 μm or less, preferably 500 μm or more and 750 μm or less. The thickness of the light emitting element 10 can be 100 μm or more and 500 μm or less, preferably 150 μm or more and 340 μm or less.

・波長変換部材20
波長変換部材20は、発光装置の光取り出し面として機能する部材である。波長変換部材20は、発光素子10から発せられる光を吸収して、異なる波長の光に変換可能な部材である。波長変換部材20は、樹脂材料26と、その中に含まれる蛍光体粒子27を含む(図5参照)。波長変換部材20において、樹脂材料26は、蛍光体粒子27が含まれる母体となる材料である。例えば、樹脂材料26としては、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、TPX樹脂、ポリノルボルネン樹脂およびこれらの変性樹脂ならびにハイブリッド樹脂から成る群から選択される少なくとも一種を挙げることができる。蛍光体粒子27を構成する蛍光体は、例えば、青色発光素子又は紫外線発光素子で励起可能な蛍光体として、セリウムで賦活されたイットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体(YAG:Ce)、セリウムで賦活されたルテチウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体(LAG:Ce)、ユウロピウム及び/又はクロムで賦活された窒素含有アルミノ珪酸カルシウム系蛍光体(CaO-Al-SiO:Eu)、ユウロピウムで賦活されたシリケート系蛍光体((Sr,Ba)SiO:Eu)、βサイアロン蛍光体、CaAlSiN:Euで表されるCASN系蛍光体、(Sr,Ca)AlSiN:Euで表されるSCASN系蛍光体等の窒化物系蛍光体、KSiF:Mnで表されるKSF系蛍光体、硫化物系蛍光体、並びに量子ドット蛍光体などから選択された少なくとも一種を挙げることができる。波長変換部材20は、単一種の蛍光体粒子を含んでいてもよいし、複数種の蛍光体粒子を含んでいてもよい。
Wavelength conversion member 20
The wavelength conversion member 20 is a member that functions as a light extraction surface of the light emitting device. The wavelength conversion member 20 is a member capable of absorbing light emitted from the light emitting element 10 and converting it into light of a different wavelength. The wavelength conversion member 20 includes a resin material 26 and phosphor particles 27 contained therein (see FIG. 5). In the wavelength conversion member 20 , the resin material 26 is a base material containing the phosphor particles 27 . For example, the resin material 26 may include at least one selected from the group consisting of silicone resins, epoxy resins, phenol resins, polycarbonate resins, acrylic resins, TPX resins, polynorbornene resins, modified resins thereof, and hybrid resins. can. The phosphor constituting the phosphor particles 27 is, for example, a cerium-activated yttrium-aluminum-garnet-based phosphor (YAG:Ce) or a cerium-activated phosphor that can be excited by a blue light-emitting element or an ultraviolet light-emitting element. lutetium-aluminum-garnet phosphor (LAG:Ce), nitrogen-containing calcium aluminosilicate phosphor (CaO- Al2O3 - SiO2 :Eu) activated with europium and/or chromium, activated with europium silicate-based phosphor ((Sr, Ba) 2 SiO 4 :Eu), β-sialon phosphor, CaAlSiN 3 :Eu CASN-based phosphor, (Sr, Ca)AlSiN 3 :Eu At least one selected from nitride-based phosphors such as SCASN-based phosphors, KSF-based phosphors represented by K 2 SiF 6 :Mn, sulfide-based phosphors, and quantum dot phosphors can be mentioned. . The wavelength conversion member 20 may contain a single type of phosphor particles, or may contain a plurality of types of phosphor particles.

・コーティング層30
コーティング層30は、波長変換部材20の表面を少なくとも覆う層である。コーティング層は、透明な層であることが好ましい。例えば、コーティング層30が透明樹脂から構成されてよい。透明樹脂としては、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂および塩化ビニル樹脂から成る群から選択される少なくとも一種を挙げることができる。
Coating layer 30
The coating layer 30 is a layer that covers at least the surface of the wavelength conversion member 20 . The coating layer is preferably a transparent layer. For example, the coating layer 30 may be made of transparent resin. As the transparent resin, at least one selected from the group consisting of silicone resins, acrylic resins, polycarbonate resins, polyester resins, epoxy resins and vinyl chloride resins can be used.

コーティング層30は、約2μm以上の厚さ、例えば約5μm以上の厚さを有することが好ましい。厚さが2μmよりも大きくすることで、波長変換部材20の表面粗さに起因した凹凸に追随しにくい層としてコーティング層30を形成し易い。これにより、波長変換部材20よりも小さい表面粗さを有するコーティング層30とし易い。コーティング層30の厚さの上限は、10μmとすることができる。よって、コーティング層30の厚さは、例えば、2μm以上10μm以下とすることができ、好ましくは、2μm以上5μm以下である。コーティング層30の厚みの測定は、例えば、図8に示されるように、コーティング層30の断面を含む発光装置100の断面を撮影した画像を用い、3カ所(例えば、中央1カ所、端部2か所)においてコーティング層30の膜厚を測定して得られた数値の平均値をコーティング層30の膜厚とする方法が挙げられる。 Coating layer 30 preferably has a thickness of about 2 μm or greater, such as a thickness of about 5 μm or greater. By setting the thickness to be greater than 2 μm, the coating layer 30 can be easily formed as a layer that does not easily conform to irregularities caused by the surface roughness of the wavelength conversion member 20 . Thereby, it is easy to form the coating layer 30 having a surface roughness smaller than that of the wavelength conversion member 20 . The upper limit of the thickness of the coating layer 30 can be 10 μm. Therefore, the thickness of the coating layer 30 can be, for example, 2 μm or more and 10 μm or less, preferably 2 μm or more and 5 μm or less. The thickness of the coating layer 30 is measured, for example, as shown in FIG. ), the film thickness of the coating layer 30 is determined by averaging the values obtained by measuring the film thickness of the coating layer 30 .

コーティング層30は、例えばシリコーン樹脂であってよい。シリコーン樹脂の場合、コーティング層30の表面粗さが波長変換部材20の表面粗さよりも小さくなり易い。また、シリコーン樹脂から形成されたコーティング層30は、タック性の低い層とし易い。シリコーン樹脂は、例えば熱または紫外線により硬化するタイプのものを用いることができる。あるいは、室温硬化型のシリコーン樹脂、つまり加熱処理をせずに硬化する(例えば、室温で1時間以内には実質的な硬化が完了する)タイプのシリコーン樹脂を用いることができる。このようなシリコーン樹脂では、特に、波長変換部材20よりも小さい表面粗さを有するコーティング層30が形成され易い。例えば、波長変換部材20に用いられる樹脂が、触媒による付加硬化型のシリコーン樹脂である場合、切断によって露出された切断面に存在する未硬化成分(例えばSi-OH)と、コーティング層30である室温硬化タイプのシリコーン樹脂とが反応し、新たなSi-O-Si結合が形成される。つまり、波長変換部材20の切断面とコーティング層30とが反応することで、単に切断面を被覆するコーティング層に比べると、波長変換部材20との密着性に優れたコーティング層30が形成される。さらに、耐水性の低い一因である波長変換部材20の未硬化成分がコーティング層30と反応することで、耐水性を向上させることができる。 The coating layer 30 may be, for example, silicone resin. In the case of silicone resin, the surface roughness of coating layer 30 tends to be smaller than the surface roughness of wavelength conversion member 20 . Also, the coating layer 30 formed from a silicone resin tends to be a layer with low tackiness. As the silicone resin, for example, a type that is cured by heat or ultraviolet rays can be used. Alternatively, a room-temperature-curable silicone resin, that is, a silicone resin that cures without heat treatment (for example, substantially completes curing within one hour at room temperature) can be used. Such a silicone resin particularly tends to form the coating layer 30 having a surface roughness smaller than that of the wavelength conversion member 20 . For example, when the resin used for the wavelength conversion member 20 is an addition-curable silicone resin with a catalyst, the uncured component (eg, Si—OH) present on the cut surface exposed by cutting and the coating layer 30 It reacts with the room temperature curing type silicone resin to form new Si--O--Si bonds. That is, the reaction between the cut surface of the wavelength conversion member 20 and the coating layer 30 forms the coating layer 30 having excellent adhesion to the wavelength conversion member 20 as compared with a coating layer that simply covers the cut surface. . Furthermore, the uncured component of the wavelength conversion member 20, which is one of the causes of low water resistance, reacts with the coating layer 30, thereby improving the water resistance.

・封止部材40
封止部材40は、発光素子の側面及び/又は下面を覆うように配置される部材である。封止部材40は、母材として、例えば樹脂材料を含む。樹脂材料としては、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、TPX樹脂、ポリノルボルネン樹脂、およびこれらの変性樹脂ならびにハイブリッド樹脂から成る群から選択される少なくとも一種を挙げることができる。なかでも、シリコーン樹脂は、耐熱性および/または耐光性に優れているので好ましい。封止部材には、必要に応じて、光反射性などを付与する観点から、光反射性の粒子を含有させてもよい。このような光反射性の粒子の材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化イットリウム、イットリア安定化ジルコニア、炭酸カルシウム、水酸化カルシウム、珪酸カルシウム、酸化ニオブ、酸化亜鉛、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム、フッ化マグネシウム、アルミナなどから選択された少なくとも一種を用いることができる。また、放熱性を向上させるために、窒化アルミニウム、窒化ホウ素およびムライト等のフィラーを含有させてもよい。
・sealing member 40
The sealing member 40 is a member arranged to cover the side surface and/or the bottom surface of the light emitting element. The sealing member 40 contains, for example, a resin material as a base material. As the resin material, at least one selected from the group consisting of silicone resins, epoxy resins, phenolic resins, polycarbonate resins, acrylic resins, TPX resins, polynorbornene resins, modified resins and hybrid resins thereof can be used. Of these, silicone resins are preferable because they are excellent in heat resistance and/or light resistance. If necessary, the sealing member may contain light-reflecting particles from the viewpoint of imparting light reflectivity. Materials for such light-reflective particles include, for example, titanium oxide, silicon oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, yttrium oxide, yttria-stabilized zirconia, calcium carbonate, calcium hydroxide, calcium silicate, niobium oxide, and zinc oxide. , barium titanate, potassium titanate, magnesium fluoride, alumina, and the like can be used. In addition, in order to improve heat dissipation, fillers such as aluminum nitride, boron nitride and mullite may be contained.

[発光装置の製造方法]
次に、実施形態に係る発光装置の製造方法を説明する。実施形態に係る製造方法は、上述の発光装置を製造するための方法であって、
波長変換材上に配置された複数の発光素子とその複数の発光素子を被覆する封止材とを有する装置前駆体、あるいは、複数の発光素子を被覆する波長変換材を有する装置前駆体を切断して個片化する工程と、
切断により得られる切断面に対して、当該切断面の表面粗さよりも小さい表面粗さとなるコーティング層を設ける工程と
を含む。
[Method for manufacturing light-emitting device]
Next, a method for manufacturing the light emitting device according to the embodiment will be described. A manufacturing method according to an embodiment is a method for manufacturing the light-emitting device described above,
Cutting a device precursor having a plurality of light emitting elements arranged on a wavelength conversion material and a sealing material covering the plurality of light emitting elements, or a device precursor having a wavelength conversion material covering the plurality of light emitting elements a step of singulating by
and providing a coating layer having a surface roughness smaller than the surface roughness of the cut surface obtained by cutting.

図9A~9Dおよび図10A~10Dは、それぞれ、実施形態に係る製造方法の一例を示す概略工程断面図である。実施形態に係る製造方法では、個片化される装置前駆体100’は、図9Aまたは図10Aに示す構成を有する。図9Aの装置前駆体100’は、波長変換材20’上に配置された複数の発光素子10とその複数の発光素子10を被覆する封止材40’とを備えている。つまり、図9Aの装置前駆体100’では、波長変換材20’上で複数の発光素子10がその周囲を封止材40’で覆われている。一方、図10Aの装置前駆体100’は、複数の発光素子10の発光面および側面を被覆する波長変換材20’を備えている。つまり、図10Aの装置前駆体100’では、複数の発光素子10が全体的に波長変換材20’で覆われている。 9A to 9D and 10A to 10D are schematic process cross-sectional views showing an example of the manufacturing method according to the embodiment, respectively. In the manufacturing method according to the embodiment, the device precursor 100' to be singulated has the configuration shown in FIG. 9A or FIG. 10A. The device precursor 100 ′ of FIG. 9A comprises a plurality of light emitting elements 10 disposed on a wavelength converting material 20 ′ and an encapsulant 40 ′ covering the plurality of light emitting elements 10 . That is, in the device precursor 100' of FIG. 9A, the plurality of light emitting elements 10 are covered with the sealing material 40' on the wavelength conversion material 20'. On the other hand, the device precursor 100' of FIG. That is, in the device precursor 100' of FIG. 10A, the plurality of light emitting elements 10 are entirely covered with the wavelength conversion material 20'.

波長変換材20’は、発光装置100の波長変換部材20になる部材に相当する。波長変換材20’は、樹脂材料と蛍光体粒子とを含んでおり、複数の発光素子の配置を可能とするシート形態を有している。封止材40’は、発光装置100の封止部材40になる部材に相当する。封止材40’は、樹脂材料を含み、また、必要に応じてその樹脂材料にフィラーを含む。 The wavelength conversion material 20 ′ corresponds to a member that becomes the wavelength conversion member 20 of the light emitting device 100 . The wavelength conversion material 20' contains a resin material and phosphor particles, and has a sheet form that enables arrangement of a plurality of light emitting elements. The sealing material 40 ′ corresponds to a member that becomes the sealing member 40 of the light emitting device 100 . The encapsulant 40' contains a resin material, and if necessary, the resin material contains a filler.

実施形態に係る製造方法において、装置前駆体100’の個片化工程では、図9Bおよび9Cならびに図10Bおよび10Cに示すように、少なくとも1つの発光素子10を含むように、装置前駆体100’が切断される。 In the manufacturing method according to the embodiment, in the step of singulating the device precursor 100′, the device precursor 100′ includes at least one light emitting element 10, as shown in FIGS. 9B and 9C and FIGS. is disconnected.

装置前駆体100’の個片化には機械的手段を用いてよい。例えば、機械的手段としてダイシングブレードを用いることができる。図9Bおよび9Cに示す装置前駆体100’の個片化では、装置前駆体100’の波長変換材20’および封止材40’の双方が切断される。図10Bおよび10Cに示す装置前駆体100’の個片化では、装置前駆体100’の波長変換材20’が切断される。 Mechanical means may be used to singulate the device precursor 100'. For example, a dicing blade can be used as a mechanical means. In the singulation of the device precursor 100' shown in Figures 9B and 9C, both the wavelength converting material 20' and the encapsulant 40' of the device precursor 100' are cut. In the singulation of the device precursor 100' shown in Figures 10B and 10C, the wavelength converting material 20' of the device precursor 100' is cut.

次に、コーティング層を形成する。コーティング層30の形成には、スプレー法またはディッピング法を用いてよい。コーティング原料となる樹脂原料は、波長変換部材の表面に塗布された後、硬化される。スプレー法またはディッピング法では、装置前駆体100’の切断面だけでなく、その上面に対してもコーティング層30を形成することができる。また、そのような手法では、コーティング原料となる樹脂原料に溶剤が加えられてよい。これにより、より好適に波長変換部材の表面に樹脂原料を塗布することができる。 Next, a coating layer is formed. A spray method or a dipping method may be used to form the coating layer 30 . A resin raw material, which is a coating raw material, is cured after being applied to the surface of the wavelength conversion member. By spraying or dipping, the coating layer 30 can be formed not only on the cut surface of the device precursor 100' but also on its upper surface. Also, in such a technique, a solvent may be added to the resin raw material that is the coating raw material. Thereby, the resin raw material can be more preferably applied to the surface of the wavelength conversion member.

コーティング層30を設けることで最終的には所望の発光装置100を得ることができる。図9Aに示す装置前駆体100’からは、図9B~9Dの工程を通じ、最終的に図6に示す発光装置100(100E)を得ることができる。また、図10Aに示す装置前駆体100’からは、図10B~10Dの工程を通じ、最終的に図7に示す発光装置100(100F)を得ることができる。 By providing the coating layer 30, the desired light-emitting device 100 can be finally obtained. From the device precursor 100' shown in FIG. 9A, the light emitting device 100 (100E) shown in FIG. 6 can be finally obtained through the steps of FIGS. 9B to 9D. Further, from the device precursor 100' shown in FIG. 10A, the light emitting device 100 (100F) shown in FIG. 7 can be finally obtained through the steps of FIGS. 10B to 10D.

実施形態に係る製造方法は、図9A~9Dおよび図10A~10Dのプロセスに限らず、例えば図11A~11Dに示すプロセスに沿ったものでもよい。図11A~11Dのプロセスでは、個片化処理に付される装置前駆体100’は、図9A~9Dおよび図10A~10Dに示すものとは反転した向きを有する。具体的には、図11A~11Dの装置前駆体100’は、個片化処理時において、その発光素子10の電極16がより上側に位置する向きとなっている。これにより、上方から電極16の位置を目安にして個片化の分割ラインを決めることができ、より好適な個片化処理を行うことができる。 The manufacturing method according to the embodiment is not limited to the process of FIGS. 9A-9D and FIGS. 10A-10D, but may follow the process shown in FIGS. 11A-11D, for example. In the process of FIGS. 11A-11D, the device precursor 100' subjected to singulation has an orientation reversed from that shown in FIGS. 9A-9D and 10A-10D. Specifically, the device precursor 100' of FIGS. 11A to 11D is oriented so that the electrodes 16 of the light emitting elements 10 are positioned higher during the singulation process. As a result, the division line for singulation can be determined with reference to the position of the electrode 16 from above, and a more suitable singulation process can be performed.

なお、図11A~11Dに示すプロセスでは、個片処理後に行うコーティング層30の形成において、装置前駆体100’は発光素子10の電極16がより下側に位置する向きにされている。このような向きの変更は、いわゆる転写工程を介在させることで実施できる。同様にして、図9Aから図9Bへと工程が移るに際して、または、図10Aから図10Bへと工程が移るに際しても、装置前駆体100’の向きが上下反転しているが、これも転写工程で行うことができる。 11A-11D, the device precursor 100' is oriented such that the electrode 16 of the light emitting element 10 is positioned lower during the formation of the coating layer 30 after singulation. Such orientation change can be implemented by interposing a so-called transfer process. Similarly, when the process moves from FIG. 9A to FIG. 9B or from FIG. 10A to FIG. can be done with

[梱包体]
次に、実施形態に係る梱包体を説明する。実施形態に係る梱包体は、上述の発光装置と、エンボスキャリアとを有しており、
エンボスキャリアの凹部に発光装置が収められ、発光装置のコーティング層がエンボスキャリアの凹部の内側面と面している。
[Package]
Next, a package according to the embodiment will be described. A package according to an embodiment includes the above-described light emitting device and an embossed carrier,
A light emitting device is housed in the recess of the embossed carrier, and the coating layer of the light emitting device faces the inner surface of the recess of the embossed carrier.

図12は、実施形態に係る梱包体300の概略断面図である。図示するように、梱包体300では、エンボスキャリア200に発光装置100が収納されている。より具体的には、エンボスキャリア200の各凹部250に対して上述の発光装置100が個々に収められている。 FIG. 12 is a schematic cross-sectional view of the package 300 according to the embodiment. As illustrated, in the package 300 , the embossed carrier 200 houses the light emitting device 100 . More specifically, each recess 250 of the embossed carrier 200 accommodates the light emitting device 100 described above.

エンボスキャリア200は、発光装置100を収容する凹部250を複数備えた部材である。エンボスキャリア200は、テープ状に長尺形態を有している。エンボスキャリア200の複数の凹部250は、エンボスキャリア200の長手方向において、互いに所定間隔をあけて配置される。各凹部250に発光装置が収納されたエンボスキャリアは、例えばリールなどに巻き取って、発光装置の供給場所に搬送することができる。エンボスキャリア200では、その複数の凹部250を上方から閉じるカバー部材270を更に備えていてもよい(図13参照)。カバー部材270は、例えば透明な部材であってよい。 The embossed carrier 200 is a member having a plurality of recesses 250 that accommodate the light emitting device 100 . The embossed carrier 200 has an elongated tape shape. The plurality of recesses 250 of the embossed carrier 200 are arranged at predetermined intervals in the longitudinal direction of the embossed carrier 200 . The embossed carrier in which the light-emitting device is housed in each recess 250 can be wound up, for example, on a reel and transported to a supply place of the light-emitting device. The embossed carrier 200 may further include a cover member 270 that closes the recesses 250 from above (see FIG. 13). Cover member 270 may be, for example, a transparent member.

実施形態に係る梱包体300において、発光装置100は、そのコーティング層30がエンボスキャリア200の凹部250の内側面250aと面するように収納されている。つまり、波長変換部材よりも表面粗さが減じられたコーティング層30が各凹部250の側面255および/または底面257と直接的に面するように発光装置100がエンボスキャリア200に収納されている。 In the package 300 according to the embodiment, the light emitting device 100 is housed so that the coating layer 30 faces the inner surface 250a of the recess 250 of the embossed carrier 200 . That is, the light emitting device 100 is housed in the embossed carrier 200 so that the coating layer 30 having a surface roughness less than that of the wavelength conversion member directly faces the side surface 255 and/or the bottom surface 257 of each recess 250 .

発光装置100は、波長変換部材20よりも表面粗さが小さいコーティング層30を備えるため、梱包体300は、エンボスキャリア200から発光装置100をピックアップする際の精度が向上する。つまり、発光装置の外面の表面粗さが大きいと、発光装置がエンボスキャリアの凹部の側面と接した場合、当該側面との摩擦力等に起因して受ける影響が過度になる場合があり、吸着ノズルなどでピックアップした発光装置が位置ずれを引き起こしてしまう。特に、吸着ノズルなどのピックアップ手段と発光装置との間で位置ずれが引き起こされやすくなる。実施形態に係る梱包体300では、コーティング層30に起因して発光装置100の外面の表面粗さが小さくなっているので、そのようなエンボスキャリア200の凹部側面255との過度な干渉を低減することができる(図14参照)。そのため、マウンターの吸着ノズル400などでピックアップした発光装置100が位置ずれを引き起こすことが抑制される。これにより、発光装置100を所望の用途(例えば2次実装)に用いることができる。 Since the light-emitting device 100 includes the coating layer 30 having a surface roughness smaller than that of the wavelength conversion member 20 , the package 300 improves the accuracy of picking up the light-emitting device 100 from the embossed carrier 200 . In other words, if the surface roughness of the outer surface of the light-emitting device is large, when the light-emitting device comes into contact with the side surface of the concave portion of the embossed carrier, the effect of the frictional force with the side surface may become excessive, resulting in the adsorption of the light-emitting device. A light-emitting device picked up by a nozzle or the like causes misalignment. In particular, misalignment is likely to occur between pickup means such as a suction nozzle and the light emitting device. In the package 300 according to the embodiment, the surface roughness of the outer surface of the light-emitting device 100 is reduced due to the coating layer 30, so excessive interference with the concave side surface 255 of the embossed carrier 200 is reduced. (See FIG. 14). Therefore, the positional deviation of the light emitting device 100 picked up by the suction nozzle 400 of the mounter is suppressed. Thereby, the light-emitting device 100 can be used for a desired application (for example, secondary mounting).

実施形態に係る梱包体300では、図12に示すような向きで発光装置100がエンボスキャリア200の凹部250に収納されていてもよい。つまり、波長変換部材20が凹部250の底面257と対向する向きで発光装置100が凹部250に収められてよい。 In the package 300 according to the embodiment, the light-emitting device 100 may be housed in the concave portion 250 of the embossed carrier 200 in the orientation shown in FIG. That is, the light emitting device 100 may be housed in the recess 250 with the wavelength conversion member 20 facing the bottom surface 257 of the recess 250 .

このようにコーティング層30がエンボスキャリア200の凹部250の底面257と面していると、その発光装置100が底面257から受ける過度な干渉が低減される。つまり、底面257にコーティング層30がくっつきにくくなることで、エンボスキャリア200から取り出す際のミスを低減し、ピックアップ精度がより向上する。 When the coating layer 30 faces the bottom surface 257 of the concave portion 250 of the embossed carrier 200 in this way, excessive interference received from the bottom surface 257 of the light emitting device 100 is reduced. In other words, since the coating layer 30 is less likely to stick to the bottom surface 257, mistakes in picking out from the embossed carrier 200 are reduced, and the pickup accuracy is further improved.

以上、本発明の実施形態について説明してきたが、あくまでも典型例を例示したに過ぎない。従って、本発明はこれに限定されず、種々の態様に適用される。 Although the embodiments of the present invention have been described above, they are merely examples of typical examples. Therefore, the present invention is not limited to this, but can be applied to various aspects.

例えば、実施形態に係る発光装置の製造方法は、図15A~15Cに示すプロセスに沿ったものであってもよい。図15A~15Cのプロセスでは、ハーフカットされた装置前駆体100’に対してコーティング層30が形成されている。つまり、個片化処理における切断を二段階に分けている。そして、前段の切断ではフルカットとせず波長変換材20’が切断された位置まで切断し、次いで、コーティング層30を形成した後に後段の切断で完全な切断を行っている。このようなプロセスでは、図16に示す発光装置100(100G)を得ることができる。 For example, a method of manufacturing a light emitting device according to embodiments may follow the process illustrated in FIGS. 15A-15C. In the process of Figures 15A-15C, a coating layer 30 is formed on a half-cut device precursor 100'. In other words, the cutting in the singulation process is divided into two stages. In the former cutting, the wavelength conversion material 20' is not cut by a full cut, but is cut up to the position where the wavelength conversion material 20' is cut. In such a process, the light-emitting device 100 (100G) shown in FIG. 16 can be obtained.

同様にして、実施形態に係る発光装置の製造方法は、図17A~17Cに示すプロセスに沿っていてもよい。図17A~17Cのプロセスも、ハーフカットされた装置前駆体100’に対してコーティング層30が形成されている。具体的には、個片化処理における切断を二段階に分けている。そして、前段の切断ではフルカットとせず波長変換材20’が切断された位置を超えるまでより下方にカットし、次いで、コーティング層30を形成した後に後段の切断で完全な切断を行っている。このようなプロセスでは、図18に示す発光装置100(100H)を得ることができる。
尚、上述した本発明は、次の態様を包含していることを確認的に述べておく。
第1態様:発光素子と、
樹脂材料と蛍光体粒子とを含み、前記発光素子を覆う波長変換部材と、
前記波長変換部材の表面の少なくとも一部を覆うコーティング層と、
を備え、
前記コーティング層の表面粗さは、前記少なくとも一部の表面粗さよりも小さい、発光装置。
第2態様:前記波長変換部材の表面は上面と側面とを備え、前記コーティング層は前記上面又は前記側面の少なくとも一方に配置される、上記第1態様の発光装置。
第3態様:前記波長変換部材の前記側面は切断面であり、前記コーティング層は前記切断面を覆う、上記第2態様の発光装置。
第4態様:前記波長変換部材の前記上面は研磨面であり、前記コーティング層は前記研磨面を覆う、上記第2態様または上記第3態様の発光装置。
第5態様:前記コーティング層は前記波長変換部材よりも低いタック性を有する、上記第1態様~上記第4態様のいずれかの発光装置。
第6態様:前記コーティング層が平滑外面を有する、上記第1態様~上記第5態様のいずれかの発光装置。
第7態様:前記コーティング層の前記表面粗さがSa0.7μm以下である、上記第1態様~上記第6態様のいずれかの発光装置。
第8態様:前記波長変換部材の前記表面の前記少なくとも一部は複数の凸部を有し、該凸部は前記蛍光体粒子の一部を含む、上記第1態様~上記第7態様のいずれかの発光装置。
第9態様:前記波長変換部材の前記側面の前記表面粗さがSa0.9μm以上である、上記第2態様に従属する上記第3態様~上記第8態様のいずれかの発光装置。
第10態様:前記発光素子は、
第1面と、前記第1面の反対側の第2面と、前記第1面と前記第2面の間の第3面と、を備える半導体積層体と、
前記第2面に配置される正負一対の電極と、
を含み、
前記波長変換部材は、前記半導体積層体の前記第1面を覆っている、上記第1態様~上記第9態様のいずれかの発光装置。
第11態様:前記波長変換部材は、前記半導体積層体の前記第3面を覆っている、上記第10態様の発光装置。
第12態様:前記半導体積層体の前記第3面を被覆する封止部材を備える、上記第10態様の発光装置。
第13態様:前記封止部材の側面が前記コーティング層に覆われている、上記第12態様の発光装置。
第14態様:上記第1態様~上記第13態様のいずれかの発光装置と、エンボスキャリアとを有する梱包体であって、
前記エンボスキャリアの凹部に前記発光装置が収められており、該発光装置の前記コーティング層が該凹部の内側面と面している、梱包体。
第15態様:前記発光装置において更に前記波長変換部材の前記上面が前記コーティング層で覆われており、該コーティング層が前記凹部の底面と面している、上記第2態様に従属する上記第14態様の梱包体。
第16態様:波長変換材上に配置された複数の発光素子と該複数の発光素子を被覆する封止材とを有する装置前駆体、あるいは、複数の発光素子を被覆する波長変換材を有する装置前駆体を切断して個片化する工程と、
前記切断により得られる切断面に対して、該切断面の表面粗さよりも小さい表面粗さとなるコーティング層を設ける工程と
を含む、発光装置の製造方法。
第17態様:前記波長変換材は樹脂材と蛍光体粒子とを含み、
前記切断面は複数の凸部を有し、該凸部が前記蛍光体粒子の一部を含む、上記第16態様の発光装置の製造方法。
第18態様:前記コーティング層によって前記切断面に平滑外面を形成する、上記第16態様または上記第17態様の発光装置の製造方法。
第19態様:前記コーティング層の前記表面粗さがSa0.7μm以下である、上記第116態様~上記第18態様のいずれかの発光装置の製造方法。
Similarly, a method of manufacturing a light emitting device according to embodiments may follow the process shown in FIGS. 17A-17C. The process of Figures 17A-17C also forms a coating layer 30 on a half-cut device precursor 100'. Specifically, cutting in singulation processing is divided into two stages. In the former cutting, full cutting is not performed, but the wavelength conversion material 20′ is cut further downward until it exceeds the cut position. In such a process, the light emitting device 100 (100H) shown in FIG. 18 can be obtained.
It should be noted that the above-described present invention includes the following aspects.
A first aspect: a light-emitting element;
a wavelength conversion member that includes a resin material and phosphor particles and covers the light emitting element;
a coating layer covering at least part of the surface of the wavelength conversion member;
with
The light-emitting device, wherein the surface roughness of the coating layer is smaller than the surface roughness of the at least part.
Second Aspect: The light-emitting device according to the first aspect, wherein the surface of the wavelength conversion member includes a top surface and side surfaces, and the coating layer is disposed on at least one of the top surface and the side surfaces.
Third Aspect: The light-emitting device according to the second aspect, wherein the side surface of the wavelength conversion member is a cut surface, and the coating layer covers the cut surface.
Fourth Aspect: The light-emitting device according to the second aspect or the third aspect, wherein the upper surface of the wavelength conversion member is a polished surface, and the coating layer covers the polished surface.
Fifth Aspect: The light-emitting device according to any one of the first to fourth aspects, wherein the coating layer has lower tackiness than the wavelength conversion member.
Aspect 6: The light-emitting device of any one of Aspects 1 to 5, wherein the coating layer has a smooth outer surface.
Aspect 7: The light-emitting device according to any one of Aspects 1 to 6, wherein the surface roughness of the coating layer is Sa of 0.7 μm or less.
Eighth Aspect: Any one of the first to seventh aspects, wherein the at least part of the surface of the wavelength conversion member has a plurality of projections, and the projections include part of the phosphor particles. A light-emitting device.
Ninth Aspect: The light-emitting device according to any one of the third to eighth aspects depending on the second aspect, wherein the surface roughness of the side surface of the wavelength conversion member is Sa of 0.9 μm or more.
Tenth aspect: the light-emitting element is
a semiconductor laminate comprising a first surface, a second surface opposite to the first surface, and a third surface between the first surface and the second surface;
a pair of positive and negative electrodes arranged on the second surface;
including
The light emitting device according to any one of the first to ninth aspects, wherein the wavelength conversion member covers the first surface of the semiconductor laminate.
Eleventh aspect: The light-emitting device according to the tenth aspect, wherein the wavelength conversion member covers the third surface of the semiconductor laminate.
Twelfth mode: The light-emitting device according to the tenth mode, further comprising a sealing member that covers the third surface of the semiconductor laminate.
Thirteenth Aspect: The light-emitting device according to the twelfth aspect, wherein the side surface of the sealing member is covered with the coating layer.
Fourteenth aspect: A package comprising the light emitting device according to any one of the first aspect to the thirteenth aspect and an embossed carrier,
A package, wherein the light emitting device is housed in a recess of the embossed carrier, and the coating layer of the light emitting device faces an inner surface of the recess.
Fifteenth mode: In the light-emitting device, the top surface of the wavelength conversion member is further covered with the coating layer, and the coating layer faces the bottom surface of the recess. Embodiment package.
Sixteenth aspect: A device precursor having a plurality of light emitting elements arranged on a wavelength conversion material and a sealing material covering the plurality of light emitting elements, or a device having a wavelength conversion material covering the plurality of light emitting elements a step of cutting the precursor into individual pieces;
A step of providing a coating layer having a surface roughness smaller than the surface roughness of the cut surface on the cut surface obtained by the cutting;
A method of manufacturing a light emitting device, comprising:
Seventeenth aspect: the wavelength conversion material includes a resin material and phosphor particles,
The method for manufacturing a light-emitting device according to the sixteenth aspect, wherein the cut surface has a plurality of projections, and the projections include part of the phosphor particles.
Eighteenth mode: The method of manufacturing a light-emitting device according to the sixteenth or seventeenth mode, wherein the coating layer forms a smooth outer surface on the cut surface.
Nineteenth mode: The method of manufacturing a light-emitting device according to any one of the 116th to the 18th modes, wherein the surface roughness of the coating layer is Sa of 0.7 μm or less.

10 発光素子
11 発光面/第1面
12 電極形成面/第2面
13 側面/第3面
15 半導体積層体
16 電極
17 導電部材
20 波長変換部材
20a コーティング層との界面を成す表面
21 上面
22 発光素子との対向面となる入射面
23 側面
25 複数の凸部
26 樹脂材料
27 蛍光体粒子
20’ 波長変換材
30 コーティング層
30a 外側表面
40 封止部材(被覆部材)
43 封止部材の側面
40’ 封止材
50 封止部材(被覆部材)
100 発光装置
100’ 装置前駆体
200 エンボスキャリア
250 凹部
250a 凹部の内側面
255 凹部の側面
257 凹部の底面
270 カバー部材
300 梱包体
400 吸着ノズル
REFERENCE SIGNS LIST 10 light emitting element 11 light emitting surface/first surface 12 electrode forming surface/second surface 13 side surface/third surface 15 semiconductor laminate 16 electrode 17 conductive member 20 wavelength conversion member 20a surface forming an interface with the coating layer 21 upper surface 22 light emission Incidence surface facing the element 23 Side surface 25 Plural convex portions 26 Resin material 27 Phosphor particles 20' Wavelength conversion material 30 Coating layer 30a Outer surface 40 Sealing member (coating member)
43 side surface of sealing member 40' sealing material 50 sealing member (covering member)
REFERENCE SIGNS LIST 100 light emitting device 100' device precursor 200 embossed carrier 250 recess 250a inner side surface of recess 255 side surface of recess 257 bottom surface of recess 270 cover member 300 package 400 suction nozzle

Claims (9)

発光面となる上面を有する発光素子と、
樹脂材料と蛍光体粒子とを含み、前記発光素子の前記発光面を覆うように配置される波長変換部材と、
前記発光素子の側面を覆うように配置される封止部材と、
前記波長変換部材の表面の少なくとも一部を覆うコーティング層と、
を備え、
前記波長変換部材の前記表面の前記少なくとも一部は複数の凸部を有し、該凸部は前記蛍光体粒子の一部を含み、
前記波長変換部材を覆う部分の前記コーティング層の表面粗さは、前記波長変換部材の前記表面のうち前記コーティング層で覆われた部分の表面粗さよりも小さく、
前記コーティング層は2μm以上10μm以下の厚さを有しており、
前記コーティング層は、前記波長変換部材の側面の全体を覆っており、前記波長変換部材の前記側面から前記封止部材の側面まで連続して覆うと共に、前記波長変換部材の上面まで連続して前記波長変換部材の角部まで覆っており、前記コーティング層は前記発光素子の直上の前記波長変換部材の前記上面が露出するように該上面の外周部を覆っている、発光装置。
a light-emitting element having an upper surface serving as a light-emitting surface ;
a wavelength conversion member that includes a resin material and phosphor particles and is arranged to cover the light emitting surface of the light emitting element;
a sealing member arranged to cover the side surface of the light emitting element;
a coating layer covering at least part of the surface of the wavelength conversion member;
with
the at least part of the surface of the wavelength conversion member has a plurality of protrusions, the protrusions including a portion of the phosphor particles;
the surface roughness of the coating layer in the portion covering the wavelength conversion member is smaller than the surface roughness of the portion covered with the coating layer in the surface of the wavelength conversion member;
The coating layer has a thickness of 2 μm or more and 10 μm or less,
The coating layer covers the entire side surface of the wavelength conversion member, continuously covers from the side surface of the wavelength conversion member to the side surface of the sealing member, and continues to the upper surface of the wavelength conversion member. The light-emitting device according to claim 1, wherein the wavelength conversion member is covered up to a corner, and the coating layer covers the outer peripheral portion of the upper surface of the wavelength conversion member directly above the light-emitting element so that the upper surface is exposed.
前記波長変換部材の前記側面は切断面であり、前記コーティング層は前記切断面を覆う、請求項1に記載の発光装置。 The light emitting device according to claim 1, wherein the side surface of the wavelength conversion member is a cut surface, and the coating layer covers the cut surface. 前記波長変換部材の前記上面は研磨面であり、前記コーティング層は前記研磨面を覆う、請求項1または2に記載の発光装置。 3. The light-emitting device according to claim 1, wherein said upper surface of said wavelength conversion member is a polished surface, and said coating layer covers said polished surface. 前記波長変換部材を覆う部分の前記コーティング層は、前記波長変換部材の前記表面のうち前記コーティング層で覆われた部分よりも低いタック性を有する、請求項1~3のいずれか1項に記載の発光装置。 4. The coating layer of the portion covering the wavelength conversion member according to any one of claims 1 to 3, wherein the coating layer has lower tackiness than the portion of the surface of the wavelength conversion member covered with the coating layer. luminous device. 前記コーティング層の前記表面粗さがSa0.7μm以下である、請求項1~4のいずれか1項に記載の発光装置。 5. The light-emitting device according to claim 1, wherein said surface roughness of said coating layer is Sa of 0.7 μm or less. 前記波長変換部材の前記側面の前記表面粗さがSa0.9μm以上である、請求項1~5のいずれか1項に記載の発光装置。 The light emitting device according to any one of claims 1 to 5, wherein the surface roughness of the side surface of the wavelength conversion member is Sa of 0.9 µm or more. 前記発光素子は、
前記発光素子の前記発光面に相当する第1面と、前記第1面の反対側の第2面と、前記第1面と前記第2面の間の第3面と、を備える半導体積層体と、
前記第2面に配置される正負一対の電極と、
を含み、
前記波長変換部材は、前記半導体積層体の前記第1面を覆っている、請求項1~6のいずれか1項に記載の発光装置。
The light emitting element is
A semiconductor laminate comprising a first surface corresponding to the light emitting surface of the light emitting element , a second surface opposite to the first surface, and a third surface between the first surface and the second surface. and,
a pair of positive and negative electrodes arranged on the second surface;
including
7. The light emitting device according to claim 1, wherein said wavelength conversion member covers said first surface of said semiconductor laminate.
請求項1~7のいずれか1項に記載の発光装置と、エンボスキャリアとを有する梱包体であって、
前記エンボスキャリアの凹部に前記発光装置が収められており、該発光装置の前記コーティング層が該凹部の内側面と面している、梱包体。
A package comprising the light emitting device according to any one of claims 1 to 7 and an embossed carrier,
A package, wherein the light emitting device is housed in a recess of the embossed carrier, and the coating layer of the light emitting device faces an inner surface of the recess.
前記発光装置において前記波長変換部材の前記上面に設けられた前記コーティング層が前記凹部の底面と面している、請求項8に記載の梱包体。 9. The package according to claim 8, wherein said coating layer provided on said upper surface of said wavelength conversion member in said light emitting device faces the bottom surface of said recess.
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