JP7286194B2 - 有機ポリマーフィルム及びその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は有機ポリマーフィルム及びその製造方法に関し、特に、キシレン前駆体と特殊な周波数及び周期区間の短パルスプラズマにより、製造した有機ポリマーフィルム及びその製造方法に関する。
さまざまな有機ポリマー材料フィルムの中には、化学的不活性、透明性、生体適合性、非細胞毒性、高撥水性、高潤滑性などの特性を持つものが多く存在することが分かっている。このため、医療機器、航空宇宙、エレクトロニクス産業などで、類似したフィルムが広く使用されている。
一般に、上述のような特性を持つ有機ポリマーフィルムは、多くがプラズマ重合反応を通じて有機ガスや蒸気を透過させることができる。続いて、低圧・低温下でグロー放電作用によりプラズマ化学反応を発生させる。
プラズマ重合反応の主なメカニズムは、真空に近い低圧条件下で電界を注入することにより、内部の不活性ガスを崩壊させてプラズマを形成する。このとき、プラズマ空間内の高エネルギー電子が前駆体ガス分子に衝突し、分子を励起して分解し、活性化させる。分解した状態には自由電子、陽イオン、陰イオン、反応性種のフリーラジカルが含まれ、これらの極めて活発なフリーラジカルは低温で化学反応を促進し、気相や基板の表面で重合して薄膜を生成する。
前述の製造方法の最大の特徴は、全体的にみて製造されるフィルムが均質で、ピンホールがないことである。また、プロセス全体の温度が室温に近いレベルまで到達することができる。フィルム組成の制御が容易で、前駆体の制約が少なく、プロセスの自由度が高い。フィルムの成長速度も非常に迅速である。
しかしながら、従来のプラズマ重合反応の過程では、プラズマ放電時間が長すぎ、連続的に高いプラズマエネルギーを注入すると、分子構造が大きく破壊されて結合が発生するため、得られるフィルムは通常平面構造ではなく、相対的に3次元的で不規則な配列の高度な網目状架橋構造を持つ。
上述の特性により、フィルムの比較的精密な応用分野において、貼付性に優れない問題が起きやすい。そのため、この問題を改善する斬新なプロセスの開発が急務となっている。
本発明の主な目的は、上述の先行技術に存在する問題を解決できる、有機ポリマーフィルム及びその製造方法を提供することにある。
本発明は有機ポリマーフィルムを提供する。当該有機ポリマーフィルムの製造方法は主に、次の工程を含む。まず、工程(A)では、キシレン前駆体及び基板を提供する。続いて、工程(B)では、当該基板をプラズマ装置内に配置する。さらに工程(C)では、当該プラズマ装置を真空にすると同時に、キャリアガスと、当該キャリアガスが運ぶ当該キシレン前駆体の蒸気を導入する。続いて、工程(D)では、当該プラズマ装置を起動にして短パルスプラズマを生成する。最後に、工程(E)では、当該基板上に有機ポリマーフィルムを形成する。そのうち、当該短パルスプラズマの周波数が1ヘルツ(Hz)~10,000ヘルツ(Hz)の間であり、短パルスプラズマのパルス持続時間が1マイクロ秒(μs)~60マイクロ秒(μs)の間である。
以上の本発明に関する概要説明は、本発明の複数の側面と技術的特徴について基本的に説明することを目的としている。発明の概要説明は本発明に関する詳細な説明ではないため、特に本発明の重要な部材を列挙することを目的としておらず、また本発明の範囲を限定するために用いるものでもなく、簡潔に本発明の複数の概念を示しただけのものである。
本発明の有機ポリマーフィルムの製造方法の実施例を示すフローチャートである。 本発明の実施例のプラズマ装置の動作を示す概略図である。
本発明の技術的特徴及びその作用と効果について詳細に理解できるように、かつ発明の内容に基づいて実施することができるように、図面に示す具体的な実施例を参照しながら、以下で詳細に説明する。
図1と図2を同時に参照する。図1は本発明の有機ポリマーフィルムの製造方法の実施例を示すフローチャートである。図2は本発明の実施例のプラズマ装置の動作を示す概略図である。
本実施例の有機ポリマーフィルムを製造する方法において、まず工程(A)では、キシレン前駆体及び基板を提供する。本実施例の工程(A)において、当該キシレン前駆体10はチャンバ4に進入する前、液体の形式で存在し、実際に有機ポリマーフィルム9の製造プロセスを開始する必要があるときは、予めキシレン前駆体10を昇温または降圧(例えばチャンバ4を真空にして減圧環境を形成するなど)して、キシレン前駆体10に蒸気を形成させてから、チャンバ4内に導入する。本実施例の基板8は、高分子材料(Polymer)または金属とすることができる。さらに説明すると、本実施例の基板8が高分子材料(Polymer)である場合、その材質は、シリコン、ゴム、ポリエチレン、ポリエーテルエーテルケトン、またはそれらの組み合わせから選択することができる。基板8に金属を選択して用いる場合、ステンレス鋼、チタン、アルミニウム、またはそれらの合金および酸化物で構成される群から選択することができ、本発明は特に制限しない。
さらに説明すると、キシレン前駆体10は、o-キシレン(1,2-Dimethylbenzene)、m-キシレン(1,3-Dimethylbenzene )、p-キシレン(1,4-Dimethylbenzene)またはそれらで構成される群から選択することができる。このうち、キシレン前駆体10としてp-キシレン(1,4-Dimethylbenzene)を使用するとき、優れた有機ポリマーフィルム9が得られる。
別の可能な実施形態において、キシレン前駆体10は、1,2-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(1,2-Bis(trifluoromethyl)benzene)、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(1,3-Bis(trifluoromethyl)benzene)、1,4-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(1,4-Bis(trifluoromethyl)benzene)またはこれらの組み合わせからなる群から選択されてもよい。そのうち、キシレン前駆体10として1,4-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(1,4-Bis(trifluoromethyl)benzene)を使用するとき、優れた有機ポリマーフィルム9が得られる。
続いて、工程(B)では、当該基板をプラズマ装置内に配置する。工程(B)における当該プラズマ装置は図2に示す構造である。より正確に説明すると、本実施例のプラズマ装置は主にチャンバ4、吸気口6、排気口7、パルス電源供給システム11より構成される。そのうち、吸気口6と排気口7とチャンバ4が連通され、かつパルス電源供給システム11が上電極51と下電極52を含む。本実施例において、パルス電源供給システム11はパルス電源を電源供給器として用いる。このため、本実施例のパルス電源供給システム11が発生するプラズマは、短パルス波モードで作用し、低デューティ比(即ち、低パルス周波数、短いパルス持続時間、長い停止時間)の短パルスプラズマで本実施例の有機ポリマーフィルム9の製造が実現される。本実施例の上電極51及び下電極52はチャンバ4に挿通され、チャンバ4内に設置される。基板8は下電極52上に設置される。
続いて、工程(C)では、プラズマ装置を真空にすると同時に、キャリアガスと、当該キャリアガスが運ぶ当該キシレン前駆体の蒸気を導入する。前述の工程(A)で述べたように、キシレン前駆体10が減圧環境の吸引(排気口7が吸気することにより真空に近い状態となったチャンバ4、本実施例の当該減圧環境の圧力は10~10-2トル(torr)の間であり、好ましくは10~10-1トル(torr)の間とすることができる)を受け、キシレン前駆体10の蒸気が吸気口6に沿ってチャンバ4内に進入する。本実施例において、キシレン前駆体10の蒸気はキャリアガス(基本的に本実施例のキャリアガス導入量は1000標準ミリリットル/分(sccm)未満であり、好ましくは100~200標準ミリリットル/分(sccm)の間とすることができる)を通じて一緒にチャンバ4内に導入される。本実施例のキャリアガスはアルゴン(Ar)である。
続いて、工程(D)では、当該プラズマ装置を起動にして短パルスプラズマを生成する。最後に、工程(E)では、当該基板上に当該有機ポリマーフィルムを形成する。本実施例は、基板8上に有機ポリマーフィルム9を形成するが、主にキシレン前駆体10の種類の違いに応じて異なる短パルスプラズマパラメーターを応用することができる。具体的には、本実施例の短パルスプラズマは低パルス周波数と短いパルス持続時間の電源波形(即ち、低デューティ比の矩形波であり、ほぼ瞬間的にオンになり、長い停止時間を伴う)の形式でパルス電源制御を行う。
本実施例の短パルスプラズマの周波数は、1ヘルツ(Hz)~10,000ヘルツ(Hz)であり、そのうち好ましくは1,000ヘルツ(Hz)である。パルス持続時間は1マイクロ秒(μs)~60マイクロ(μs)の間である。このほか、短パルスプラズマの出力は50ワット(W)である。
キシレン前駆体10としてp-キシレン(1,4-Dimethylbenzene)を使用するとき、用いる短パルスプラズマの出力は50ワット(W)とし、好ましい周波数は1,000ヘルツ(Hz)、好ましいパルス持続時間は60マイクロ秒(μs)である。キシレン前駆体10として1,4-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(1,4-Bis(trifluoromethyl)benzene)を使用するとき、用いる短パルスプラズマの出力は同様に50ワット(W)とし、好ましい周波数は同様に1,000ヘルツ(Hz)であるが、好ましいパルス持続時間は20マイクロ秒(μs)である。
p-キシレン(1,4-Dimethylbenzene)をキシレン前駆体10として形成した有機ポリマーフィルム9は、摩擦係数が低く、疎水性と付着防止性を備えているほか、高い生体適合性を備えている。1,4-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(1,4-Bis(trifluoromethyl)benzene)をキシレン前駆体10として形成した有機ポリマーフィルム9は、p-キシレン(1,4-Dimethylbenzene)をキシレン前駆体10として形成した有機ポリマーフィルム9と比較して、より高い疎水性とより低い摩擦係数を備えている。
上述をまとめると、本発明について実施例を挙げて上述のとおり開示したが、これらの実施例は本発明を限定するために用いない。本発明の属する技術分野において通常の知識を有する者が、本発明の要旨と範囲を逸脱しない前提で、各種の変更と修飾が可能である。このため、本発明の保護範囲は、後付の特許請求の範囲の定義に準じる。
(A)~(E) 工程
10 キシレン前駆体
11 パルス電源供給システム
4 チャンバ
51 上電極
52 下電極
6 排気口
7 吸気口
8 基板
9 有機ポリマーフィルム

Claims (12)

  1. (A) キシレン前駆体と、基板を提供する工程と、
    (B) 前記基板をプラズマ装置内に配置する工程と、
    (C) 前記プラズマ装置を真空にすると同時に、キャリアガスと、前記キャリアガスが運ぶ前記キシレン前駆体の蒸気を導入する工程と、
    (D) 前記プラズマ装置を起動にして、短パルスプラズマを生成する工程と、
    (E) 前記基板上に有機ポリマーフィルムを形成する工程と、
    を含み、そのうち、当該短パルスプラズマの周波数が1ヘルツ(Hz)~10,000ヘルツ(Hz)の間であり、短パルスプラズマのパルス持続時間が1マイクロ秒(μs)~60マイクロ秒(μs)の間である、ことを特徴とする、有機ポリマーフィルムの製造方法。
  2. 前記キシレン前駆体が、o-キシレン(1,2-Dimethylbenzene)、m-キシレン(1,3-Dimethylbenzene)、p-キシレン(1,4-Dimethylbenzene)またはこれらからなる群から選択される、ことを特徴とする、請求項1に記載の有機ポリマーフィルムの製造方法。
  3. 前記キシレン前駆体が、1,2-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(1,2-Bis(trifluoromethyl)benzene)、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(1,3-Bis(trifluoromethyl)benzene)、1,4-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(1,4-Bis(trifluoromethyl)benzene)またはこれらの組み合わせからなる群から選択される、ことを特徴とする、請求項1に記載の有機ポリマーフィルムの製造方法。
  4. 前記基板が高分子材料(Polymer)または金属である、ことを特徴とする、請求項1に記載の有機ポリマーフィルムの製造方法。
  5. 前記(B)工程の前記プラズマ装置が、
    チャンバと、
    前記チャンバに連通された吸気口と、
    前記チャンバに連通された排気口と、
    上電極及び下電極を含み、前記上電極と前記下電極が前記チャンバに挿通されて前記チャンバ内に設置されたパルス電源供給システムと、
    を含み、そのうち、前記基板が前記下電極の上に設置される、ことを特徴とする、請求項1に記載の有機ポリマーフィルムの製造方法。
  6. 前記キャリアガスがアルゴン(Ar)である、ことを特徴とする、請求項1に記載の有機ポリマーフィルムの製造方法。
  7. 前記短パルスプラズマの波数は、1,000ヘルツ(Hz)である、ことを特徴とする、請求項1に記載の有機ポリマーフィルムの製造方法。
  8. 前記キシレン前駆体は、p-キシレン(1,4-Dimethylbenzene)である、ことを特徴とする、請求項2に記載の有機ポリマーフィルムの製造方法。
  9. 前記短パルスプラズマのパルス持続時間は、60マイクロ秒(μs)である、ことを特徴とする、請求項8に記載の有機ポリマーフィルムの製造方法。
  10. 前記キシレン前駆体は、1,4-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン(1,4-Bis(trifluoromethyl)benzene)である、ことを特徴とする、請求項3に記載の有機ポリマーフィルムの製造方法。
  11. 前記短パルスプラズマのパルス持続時間は、20マイクロ秒(μs)である、ことを特徴とする、請求項10に記載の有機ポリマーフィルムの製造方法。
  12. 前記短パルスプラズマの出力が50ワット(W)である、ことを特徴とする、請求項1に記載の有機ポリマーフィルムの製造方法。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030054117A1 (en) 2001-02-02 2003-03-20 Brewer Science, Inc. Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition
JP2005522581A (ja) 2002-04-11 2005-07-28 ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー. プラズマ強化型化学蒸着法により形成された重合性反射防止コーティング
US20090297731A1 (en) 2008-05-30 2009-12-03 Asm Japan K.K. Apparatus and method for improving production throughput in cvd chamber
US20190276933A1 (en) 2016-11-30 2019-09-12 Jiangsu Favored Nanotechnology Co., Ltd. Plasma polymerization coating with uniformity control
JP2020509220A (ja) 2017-01-23 2020-03-26 江蘇菲沃泰納米科技有限公司Jiangsu Favored Nanotechnology Co., Ltd 耐水性と耐電気的破壊性を有するコーティングの製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1839468B (zh) * 2003-10-08 2010-11-24 霍尼韦尔国际公司 使用甲硅烷基化剂修复低k介电材料的损伤
TWI350006B (en) * 2007-10-05 2011-10-01 Ind Tech Res Inst Plasma enhanced thin film deposition method
TWI585233B (zh) * 2012-03-06 2017-06-01 辛柏朗有限公司 經塗佈之電總成
US10005716B2 (en) * 2014-02-07 2018-06-26 Cheorwon Plasma Research Institute Method for synthesizing catecholamines by using plasma polymerization
CN106654071A (zh) * 2017-03-09 2017-05-10 南京迈智芯微光电科技有限公司 一种有机电致发光器件的制作与封装方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030054117A1 (en) 2001-02-02 2003-03-20 Brewer Science, Inc. Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition
JP2005522581A (ja) 2002-04-11 2005-07-28 ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー. プラズマ強化型化学蒸着法により形成された重合性反射防止コーティング
US20090297731A1 (en) 2008-05-30 2009-12-03 Asm Japan K.K. Apparatus and method for improving production throughput in cvd chamber
US20190276933A1 (en) 2016-11-30 2019-09-12 Jiangsu Favored Nanotechnology Co., Ltd. Plasma polymerization coating with uniformity control
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