JP7276025B2 - 銅張積層板および銅張積層板の製造方法 - Google Patents
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Description
第2発明の銅張積層板は、第1発明において、前記低電流密度は0.00~0.39A/dm2であることを特徴とする。
第3発明の銅張積層板は、第1または第2発明において、前記高電流密度は0.4~10A/dm2であることを特徴とする。
第4発明の銅張積層板の製造方法は、添加剤を含む銅めっき液を用いた電解めっきにより、基材の表面に銅めっき被膜を成膜して銅張積層板を得るにあたり、低電流密度での電解めっきと、前記低電流密度よりも高い高電流密度で厚さ0.20~0.65μmの層を成膜する電解めっきとを交互に行なって、前記銅めっき被膜のうち厚さ方向の全部または表面側の一部を成膜することを特徴とする。
第5発明の銅張積層板の製造方法は、添加剤を含む銅めっき液が貯留されためっき槽内を、ロールツーロールにより基材を搬送しつつ、電解めっきにより該基材の表面に銅めっき被膜を成膜して銅張積層板を得るにあたり、前記めっき槽内に、前記基材の搬送方向に沿って全領域または下流側の一部領域に、低電流密度での電解めっきを行なう低電流密度区域と、前記低電流密度よりも高い高電流密度で厚さ0.20~0.65μmの層を成膜する電解めっきを行なう高電流密度区域とを交互に設けることを特徴とする。
第6発明の銅張積層板の製造方法は、第4または第5発明において、前記低電流密度は0.00~0.39A/dm2であることを特徴とする。
第7発明の銅張積層板の製造方法は、第4、第5または第6発明において、前記高電流密度は0.4~10A/dm2であることを特徴とする。
図1に示すように、本発明の一実施形態に係る銅張積層板1は、基材10と、基材10の表面に成膜された銅めっき被膜20とからなる。図1に示すように基材10の片面のみに銅めっき被膜20が成膜されてもよいし、基材10の両面に銅めっき被膜20が成膜されてもよい。
めっき装置3は、ロールツーロールにより長尺帯状の基材10を搬送しつつ、基材10に対して電解めっきを行なう装置である。めっき装置3はロール状に巻回された基材10を繰り出す供給装置31と、めっき後の基材10(銅張積層板1)をロール状に巻き取る巻取装置32とを有する。
(光沢度測定試験)
まず、光沢度測定試験を行なった。
つぎの手順で、基材を準備した。ベースフィルムとして、厚さ35μmのポリイミドフィルム(宇部興産社製 Upilex-35SGAV1)を用意した。ベースフィルムをマグネトロンスパッタリング装置にセットした。マグネトロンスパッタリング装置内にはニッケルクロム合金ターゲットと銅ターゲットとが設置されている。ニッケルクロム合金ターゲットの組成はCrが20質量%、Niが80質量%である。真空雰囲気下で、ベースフィルムの片面に、厚さ25nmのニッケルクロム合金からなる下地金属層を形成し、その上に厚さ150nmの銅薄膜層を形成した。
つぎに、再結晶時間測定試験を行なった。
・実施例1
光沢度測定試験と同様の手順で基材の表面に銅めっき被膜を成膜した。銅めっき被膜は電解めっきの電流密度およびめっき時間が異なる9つの層からなる。各層の電流密度およびめっき時間は表3に示すとおりとした。なお、表3中の層番号は基材の表面に接する層から順に採番している。第4、第6、第8層は電流密度0.3A/dm3の電解めっきで成膜された低電流密度層である。第5、第7、第9層は電流密度4.8A/dm3の電解めっきで成膜された高電流密度層である。高電流密度層の厚さはいずれも0.46μmである。
光沢度測定試験と同様の手順で基材の表面に銅めっき被膜を成膜した。銅めっき被膜は電解めっきの電流密度およびめっき時間が異なる8つの層からなる。各層の電流密度およびめっき時間は表4に示すとおりとした。なお、表4中の層番号は基材の表面に接する層から順に採番している。第3、第5、第7層は電流密度0.3A/dm3の電解めっきで成膜された低電流密度層である。第4、第6、第8層は電流密度4.1A/dm3の電解めっきで成膜された高電流密度層である。高電流密度層のうち第4層および第8層の厚さはいずれも0.39μmである。第6層の厚さは0.78μmであり、0.65μmを超えている。
10 基材
11 ベースフィルム
12 金属層
13 下地金属層
14 銅薄膜層
20 銅めっき被膜
21 低電流密度層
22 高電流密度層
Claims (7)
- 基材と、
添加剤を含む銅めっき液を用いた電解めっきにより、前記基材の表面に成膜された銅めっき被膜と、を備え、
前記銅めっき被膜は、厚さ方向の全部または表面側の一部が、低電流密度での電解めっきにより成膜された低電流密度層と、前記低電流密度よりも高い高電流密度での電解めっきにより成膜された厚さ0.20~0.65μmの高電流密度層とが交互に積層されてなる
ことを特徴とする銅張積層板。 - 前記低電流密度は0.00~0.39A/dm2である
ことを特徴とする請求項1記載の銅張積層板。 - 前記高電流密度は0.4~10A/dm2である
ことを特徴とする請求項1または2記載の銅張積層板。 - 添加剤を含む銅めっき液を用いた電解めっきにより、基材の表面に銅めっき被膜を成膜して銅張積層板を得るにあたり、
低電流密度での電解めっきと、前記低電流密度よりも高い高電流密度で厚さ0.20~0.65μmの層を成膜する電解めっきとを交互に行なって、前記銅めっき被膜のうち厚さ方向の全部または表面側の一部を成膜する
ことを特徴とする銅張積層板の製造方法。 - 添加剤を含む銅めっき液が貯留されためっき槽内を、ロールツーロールにより基材を搬送しつつ、電解めっきにより該基材の表面に銅めっき被膜を成膜して銅張積層板を得るにあたり、
前記めっき槽内に、前記基材の搬送方向に沿って全領域または下流側の一部領域に、低電流密度での電解めっきを行なう低電流密度区域と、前記低電流密度よりも高い高電流密度で厚さ0.20~0.65μmの層を成膜する電解めっきを行なう高電流密度区域とを交互に設ける
ことを特徴とする銅張積層板の製造方法。 - 前記低電流密度は0.00~0.39A/dm2である
ことを特徴とする請求項4または5記載の銅張積層板の製造方法。 - 前記高電流密度は0.4~10A/dm2である
ことを特徴とする請求項4、5または6記載の銅張積層板の製造方法。
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