JP7273399B2 - Parts transfer processing equipment - Google Patents

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本発明は、様々な部品を処理する工程、例えば電子部品の温度特性を検査する検査工程に好適な部品搬送処理装置に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a component transfer processing apparatus suitable for processes for processing various components, such as an inspection process for inspecting temperature characteristics of electronic components.

水晶振動子やサーミスタ素子は、温度に対してその物性を大きく変化させるため、部品として出荷する前に、温度特性の評価、検査をすることが必要である。これらの部品は、大量に使用され、且つ、極めて小さなパッケージに実装されているため、検査装置と呼ばれる自動で特性を測定、評価する装置で検査される。 Crystal oscillators and thermistor elements change their physical properties greatly with temperature, so it is necessary to evaluate and inspect their temperature characteristics before shipping them as parts. Since these parts are used in large quantities and mounted in extremely small packages, they are inspected by an apparatus called an inspection apparatus that automatically measures and evaluates their characteristics.

従来、電気的性質の温度特性評価のための検査装置は、ターレット型の回転搬送装置により部品を搬送して、その経路上に測定装置を配置して順次検査をおこなっていくものが知られている(例えば、特許文献1参照)。 Conventionally, an inspection apparatus for evaluating temperature characteristics of electrical properties is known in which parts are conveyed by a turret-type rotary conveying apparatus, and a measuring apparatus is arranged on the route to sequentially perform inspections. (See Patent Document 1, for example).

この際、ターレット側の回転搬送装置によって電子部品が回転している最中に、各電子部品は所定の温度に温度制御される。例えば、図14に従来の部品の特性検査装置301を示す。部品315は、特に図示しない部品搬送キャリアに搭載さる。キャリアが載置されるターレットテーブル310は、ターレットテーブル回転軸312を中心として、回転駆動される。部品315は、部品供給装置325からキャリアに供給される。ターレットテーブル310が回転して、部品315を保持する部品搬送キャリアが例えば第一温度制御領域340を通過する間に、部品315の温度は所定の第一温度に安定する。そして第一温度における部品の特性、例えば電気抵抗の値が、第一測定領域335の第一測定装置によって測定される。更にターレットテーブル310が回転し、部品315を保持する部品搬送キャリアが第二温度制御領域350を通過する間に、部品315の温度は所定の第二温度に安定する。そして第二温度における部品の特性、例えば電気抵抗の値が、第二測定領域345の第二測定装置によって測定される。最後に部品315は収納ボックス330に回収される。 At this time, the temperature of each electronic component is controlled to a predetermined temperature while the electronic component is being rotated by the rotary conveying device on the turret side. For example, FIG. 14 shows a conventional component characteristic inspection apparatus 301 . The component 315 is mounted on a component transport carrier (not shown). A turret table 310 on which the carrier is placed is rotationally driven around a turret table rotating shaft 312 . A component 315 is supplied to the carrier from a component supply device 325 . While the turret table 310 rotates and the component transport carrier holding the component 315 passes through, for example, the first temperature control area 340, the temperature of the component 315 stabilizes at a predetermined first temperature. A property of the component at the first temperature, for example the value of the electrical resistance, is then measured by the first measuring device in the first measuring area 335 . Further, while the turret table 310 rotates and the component transport carrier holding the component 315 passes through the second temperature control area 350, the temperature of the component 315 is stabilized at the predetermined second temperature. A property of the component, for example the value of electrical resistance, at a second temperature is then measured by a second measuring device in the second measuring area 345 . Finally, the parts 315 are collected in the storage box 330. FIG.

特許第3777395号Patent No. 3777395

しかし、従来の特性検査装置は、搬送キャリアが、各温度制御領域を通過する間に、搬送キャリアと部品の双方の温度を安定化させる必要がある。即ち、部品の熱容量だけではなく、搬送キャリアの熱容量も加わるので、温度到達に時間がかかるという問題がある。また、特に複数の測定ポイント(温度制御領域)、すなわち例えば0℃以下の測定ポイントと、80℃測定ポイントという2点で出力特性を測る場合、それぞれの温度に安定させるまでの時間がそれぞれ異なるため、搬送装置の搬送速度は、できる限り遅い方に合わせなければならない。このため処理能力の向上には限界があった。 However, the conventional characteristic inspection apparatus needs to stabilize the temperature of both the transport carrier and the component while the transport carrier passes through each temperature control area. That is, not only the heat capacity of the component but also the heat capacity of the transport carrier is added, so there is a problem that it takes time to reach the temperature. Also, especially when measuring output characteristics at multiple measurement points (temperature control area), for example, a measurement point of 0°C or less and a measurement point of 80°C, the time required to stabilize at each temperature is different. , the transport speed of the transport device must be adjusted to the slowest possible. For this reason, there is a limit to improvement in processing capacity.

また、測定温度(測定ポイント)を増やそうとすると、ターレットテーブルを大きくする必要があり、装置全体が大型化するという問題もある。 In addition, when trying to increase the measurement temperature (measurement points), it is necessary to increase the size of the turret table, which causes the problem of increasing the size of the entire apparatus.

また、例えば、処理装置において処理される部品について温度特性の評価を行う場合、各温度制御領域では、通過中に部品が設定された所定の温度に安定するものと仮定して(例えば、第一温度制御領域340を通過する間に、部品315の温度は所定の第一温度に安定すると過程して)、部品315の実測した電気抵抗の値を、当該設定温度(第一温度)における抵抗値として取得している。 Further, for example, when evaluating the temperature characteristics of a part to be processed in a processing apparatus, it is assumed that the part is stabilized at a predetermined temperature during passage in each temperature control region (for example, the first While passing through the temperature control region 340, the temperature of the component 315 is stabilized at a predetermined first temperature), the measured electrical resistance value of the component 315 is the resistance value at the set temperature (first temperature) has been obtained as

しかしながら、ターレットテーブルと部品315(部品搬送キャリア)の間の熱交換の状態によっては、部品315の温度が安定させたい所定の温度からずれてしまう場合もある。 However, depending on the state of heat exchange between the turret table and the component 315 (component transport carrier), the temperature of the component 315 may deviate from the predetermined temperature to be stabilized.

また、部品の小型化が進むほど、測定時に部品が周辺環境の影響(例えば、外気温、湿気、塵や埃の影響)を受け易くなるなど、処理(測定)精度が低下する恐れもある。 In addition, the more miniaturized the parts, the more susceptible the parts are to the influence of the surrounding environment (for example, the influence of outside temperature, humidity, dust, etc.) during measurement, and the processing (measurement) accuracy may decrease.

本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、単位時間あたりの処理能力が高く、処理(測定)の精度の向上が可能な部品搬送処理装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a component conveying and processing apparatus that has a high processing capacity per unit time and is capable of improving processing (measurement) accuracy.

本発明は、複数の部品保持機構によって複数の部品を保持して、環状の搬送経路の一部に沿って、複数の前記部品を搬送するターレット型回転搬送装置と、前記搬送経路に配置されて、前記部品を前記部品保持機構に供給する部品供給領域と、前記搬送経路における前記部品供給領域の下流側に位置する処理領域に配置されて、前記部品に対して所定の処理を施す処理装置と、前記処理装置に設けられて前記部品を移動させる移動機構と、前記搬送経路における前記処理領域の下流側に配置されて、前記部品を搬出する部品搬出領域と、を備え、前記移動機構は、前記部品が載置される載置部を有する載置プレートと、前記載置プレートに熱を移送する熱移送部材と、前記熱移送部材と前記載置プレートを一体として、プレート回転軸を中心として回転させる回転駆動部と、を有し、前記載置部は複数設けられ、該載置部の一部に前記処理の基準部品を配置し、前記処理装置は、前記移動機構による前記部品の移動経路上の測定領域に配置され、前記部品の対比情報と相関関係を有する出力を測定する測定部を備え、前記測定部は、前記基準部品の出力の測定値から逆算される前記対比情報を、該基準部品に接近して前記移動機構によって移動される前記部品の前記対比情報として参照する、ことを特徴とする部品搬送処理装置に係るものである。
The present invention provides a turret-type rotary conveying device that holds a plurality of parts by a plurality of part holding mechanisms and conveys the plurality of parts along a part of an annular conveying path; a component supply area for supplying the component to the component holding mechanism; and a processing apparatus arranged in a processing area positioned downstream of the component supply area in the conveying path to perform a predetermined process on the component. a moving mechanism provided in the processing apparatus for moving the component; and a component carrying-out area arranged downstream of the processing area in the transport path for carrying out the component, wherein the moving mechanism comprises: A mounting plate having a mounting portion on which the component is mounted, a heat transfer member for transferring heat to the mounting plate, and the heat transfer member and the mounting plate are integrally formed around the plate rotation axis. a rotation drive unit for rotating, wherein a plurality of the placement units are provided, the reference component for the processing is arranged on a part of the placement units, and the processing apparatus moves the component by the moving mechanism. A measurement unit arranged in a measurement area on the path and measuring an output having a correlation with the comparison information of the component, the measurement unit measuring the comparison information calculated backward from the measured value of the output of the reference component, The component conveying and processing apparatus is characterized in that the reference component is approached to the reference component and referred to as the comparison information of the component moved by the moving mechanism .

本発明の部品搬送処理装置によれば、単位時間あたりの処理能力が高く、処理(例えば、測定)の精度の向上が可能な部品搬送処理装置を提供できるという優れた効果を奏し得る。 According to the parts conveying and processing apparatus of the present invention, it is possible to provide an excellent effect that it is possible to provide a parts conveying and processing apparatus that has a high throughput per unit time and can improve the accuracy of processing (for example, measurement).

本発明の実施形態に係る部品搬送処理装置の平面図である。1 is a plan view of a component transport processing apparatus according to an embodiment of the present invention; FIG. 本発明の実施形態に係る部品搬送処理装置の側面図である。1 is a side view of a component transport processing apparatus according to an embodiment of the present invention; FIG. 本発明の実施形態に係る(A)処理装置の側面図、(B)処理装置の概要図である。1A is a side view of a processing device, and FIG. 1B is a schematic diagram of a processing device according to an embodiment of the present invention; FIG. (A)処理領域に配置された温度安定化装置の平面図であり、(B)温度安定化装置の測定部の側面部分断面図であり、(C)は載置部の断面図である。(A) is a plan view of a temperature stabilizing device arranged in a processing area, (B) is a side partial cross-sectional view of a measuring section of the temperature stabilizing device, and (C) is a cross-sectional view of a placing section. ターレット型回転搬送装置の側面概要図である。1 is a schematic side view of a turret-type rotary transfer device; FIG. ターレット型回転搬送装置の全体動作を説明する平面概要図である。It is a plane schematic diagram explaining the whole operation|movement of a turret type|mold rotary conveyance apparatus. ターレット型回転搬送装置による部品の搬送動作を説明する側面概要図である。It is a side schematic diagram explaining the conveyance operation|movement of components by a turret type|mold rotary conveyance apparatus. 本発明の実施形態を説明する載置プレートの平面図である。It is a top view of a mounting plate explaining an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態を説明する載置プレートの変形例の平面図である。It is a top view of the modification of the mounting plate explaining embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態を説明する図であり(A)載置プレートの平面図、(B)移動中の部品の温度変化を示すグラフである。It is a figure explaining other embodiments of the present invention, and (A) is a top view of a mounting plate, and (B) is a graph which shows a temperature change of parts under movement. 本発明の他の実施形態を説明する図であり、(A)処理領域の側面概要図、(B)処理領域の平面概要図、(C)同図(B)の一部拡大断面図である。It is a figure explaining other embodiments of the present invention, (A) is a side schematic diagram of a processing field, (B) is a plane schematic diagram of a processing field, and (C) is a partially expanded sectional view of the same figure (B). . 本発明の他の実施形態を説明する処理領域の平面概要図である。FIG. 4 is a schematic plan view of a processing area for explaining another embodiment of the present invention; 本発明の他の実施形態を説明する処理領域の平面概要図である。FIG. 4 is a schematic plan view of a processing area for explaining another embodiment of the present invention; 従来の部品搬送処理装置の平面図である。FIG. 11 is a plan view of a conventional parts conveying and processing apparatus;

以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

図面は本発明を実施する形態の一例であって、図中、同一の符号を付した部分は同一物を表わす。なお、各図において一部の構成を適宜省略して、図面を簡略化する。そして、部の大きさ、形状、厚みなどを適宜誇張して表現する。 The drawings are an example of the embodiment of the present invention, and the parts with the same reference numerals represent the same parts in the drawings. In addition, in each figure, a part of the configuration is appropriately omitted to simplify the drawing. Then, the size, shape, thickness, etc. of the portion are appropriately exaggerated.

<全体構成>
図1は、本発明の一実施形態に係る部品搬送処理装置1を説明する平面概要図である。本部品搬送処理装置1は、部品を搬送しつつその特性等を評価するものであり、具体的には、電子部品(例えばサーミスタ素子など)について、出力の温度依存性等を評価するために用いられる。
<Overall composition>
FIG. 1 is a schematic plan view for explaining a component transport processing apparatus 1 according to one embodiment of the present invention. The parts conveying/processing apparatus 1 evaluates the characteristics of the parts while conveying them. be done.

本実施形態の部品搬送処理装置1は、円盤状のターレット型回転搬送装置10と、部品供給領域51と、処理装置70と、移動機構125と、部品搬出領域53を有する。 The component transport processing apparatus 1 of this embodiment includes a disk-shaped turret-type rotary transport device 10 , a component supply area 51 , a processing apparatus 70 , a moving mechanism 125 , and a component unloading area 53 .

ターレット型回転搬送装置10は、複数の部品保持機構45によって複数の部品を保持して、環状の搬送経路T(同図に破線で示す)の一部に沿って、複数の部品を搬送する。 The turret-type rotary conveying device 10 holds a plurality of parts by a plurality of part holding mechanisms 45 and conveys the plurality of parts along a part of an annular conveying path T (indicated by broken lines in the figure).

部品供給領域51は、搬送経路Tに配置されて部品を部品保持機構45に供給する領域であり、処理領域52は、搬送経路Tにおける部品供給領域51の下流側に位置して部品に対して所定の処理を施す処理装置70が配置される領域であり、部品搬出領域53は、搬送経路Tにおける処理領域52の下流側に配置されて、部品を搬出する領域である。 The component supply area 51 is arranged on the transport path T to supply the parts to the component holding mechanism 45, and the processing area 52 is located downstream of the component supply area 51 on the transport path T to supply the components. This is an area in which the processing device 70 that performs a predetermined process is arranged, and the component carrying-out area 53 is arranged downstream of the processing area 52 in the transport path T, and is an area for carrying out components.

図2は、部品搬送処理装置1の側面概要図である。ターレット型回転搬送装置10は、ターレットテーブル回転軸15を中心にして、ターレットテーブル駆動装置20によって回転駆動される。ターレット型回転搬送装置10は、自身のターレットテーブル12の周縁において、等間隔に固定配置される複数の部品保持機構45を有する。ターレット型回転搬送装置10とは独立して設けられる架台35には、昇降付勢機構40が複数設けられる。部品保持機構45は、部品供給領域51、処理領域52、部品搬出領域53(図1参照)において、昇降付勢機構40と協働して、部品の回収(保持)、及び/又は、解放をおこなう。 FIG. 2 is a schematic side view of the component transport processing apparatus 1. As shown in FIG. The turret-type rotary transfer device 10 is rotationally driven by a turret table driving device 20 around a turret table rotating shaft 15 . The turret-type rotary transfer device 10 has a plurality of component holding mechanisms 45 fixedly arranged at equal intervals on the periphery of its own turret table 12 . A plurality of elevation urging mechanisms 40 are provided on a stand 35 that is provided independently of the turret-type rotary transfer device 10 . The component holding mechanism 45 cooperates with the elevation biasing mechanism 40 to collect (hold) and/or release components in the component supply area 51, the processing area 52, and the component unloading area 53 (see FIG. 1). Do.

処理装置70は、部品に対して所定の処理(例えば、温度特性の測定等)を行なうものであり、移動機構125と測定部95を有する。移動機構125は、部品がそれぞれ個別に載置される載置部100を複数有する載置プレート50と、当該載置プレート50に熱を移送する熱移送部材130と、熱移送部材130と載置プレート50を一体として、回転軸(載置プレート回転軸)55を中心として回転させる回転駆動部(載置プレート回転駆動部)60と、を有する。 The processing device 70 performs predetermined processing (for example, temperature characteristic measurement, etc.) on the component, and has a moving mechanism 125 and a measuring section 95 . The moving mechanism 125 includes a mounting plate 50 having a plurality of mounting portions 100 on which components are individually mounted, a heat transfer member 130 for transferring heat to the mounting plate 50, and a heat transfer member 130 and a mounting plate 50. and a rotation driving section (mounting plate rotation driving section) 60 that rotates the plate 50 integrally around a rotation axis (mounting plate rotation axis) 55 .

制御装置25は、CPU、RAM、ROM、ハードディスクドライブ等の記憶装置などから構成され、ターレット型回転搬送装置10による部品の搬送制御、部品保持機構45による部品の解放・回収制御、部品の処理(出力測定)制御など各種制御を実行する。CPUはいわゆる中央演算処理装置であり、各種プログラムが実行されて様々な機能を実現する。RAMはCPUの作業領域、記憶領域として使用され、ROMはCPUで実行されるオペレーティングシステムやプログラムを記憶する。 The control device 25 is composed of a CPU, a RAM, a ROM, a storage device such as a hard disk drive, and the like, and controls the conveyance of parts by the turret-type rotary conveying device 10, the release and recovery control of parts by the part holding mechanism 45, and the processing of parts ( output measurement) control, etc. A CPU is a so-called central processing unit, and executes various programs to realize various functions. The RAM is used as a work area and storage area for the CPU, and the ROM stores an operating system and programs executed by the CPU.

再び図1を参照して、部品搬送処理装置1は、ターレット型回転搬送装置10の周方向に配置される複数(一例として12個)の部品保持機構45によって部品を保持する。ターレット型回転搬送装置10は、これら部品保持機構45を互いに同期させて周方向(例えば、図1において反時計回りの方向)に移動させ、環状の搬送経路Tに沿って複数の部品を同時搬送する。 Referring to FIG. 1 again, the component transport processing apparatus 1 holds components by a plurality of (12, for example) component holding mechanisms 45 arranged in the circumferential direction of the turret-type rotary transport apparatus 10 . The turret-type rotary conveying device 10 synchronizes these component holding mechanisms 45 with each other and moves them in the circumferential direction (for example, in the counterclockwise direction in FIG. 1), thereby simultaneously conveying a plurality of components along the annular conveying path T. do.

これにより搬送経路T上には、部品を部品保持機構45に供給する部品供給領域51と、部品供給領域51の下流側に配置されて、部品に対して所定の処理を施す処理領域52と、処理領域52のさらに下流側に配置されて、部品を搬出する部品搬出領域53が構成される。 As a result, on the transport path T, there are a component supply area 51 that supplies components to the component holding mechanism 45, a processing area 52 that is arranged downstream of the component supply area 51 and performs a predetermined process on the parts, A component unloading area 53 for unloading components is arranged downstream of the processing area 52 .

部品供給領域51では、自動部品供給装置65(例えばパーツフィーダ)によって部品が供給される。ターレット型回転搬送装置10は、矢印R向きに回転駆動され、部品供給領域51で部品保持機構45に保持された部品は、反時計回りに処理領域52を経て、部品搬出領域53で搬出される。処理領域52では、例えば部品の電気抵抗値の温度特性を測定する処理などが行われる。なお、本実施形態では、複数の処理領域52が存在していることから、部品は、これらの複数の処理領域52を通過していく。 In the component supply area 51, components are supplied by an automatic component supply device 65 (for example, a parts feeder). The turret-type rotary transfer device 10 is rotationally driven in the direction of arrow R, and the components held by the component holding mechanism 45 in the component supply area 51 are carried out in the component carry-out area 53 through the processing area 52 counterclockwise. . In the processing area 52, for example, processing for measuring the temperature characteristics of the electrical resistance value of the component is performed. In addition, in this embodiment, since there are a plurality of processing areas 52 , the component passes through these plurality of processing areas 52 .

処理領域52には、ターレット型回転搬送装置10の周方向に沿って複数の処理装置70が配置される。この例では処理装置70はそれぞれ独立して異なる処理を行うことができる。具体的には例えば、それぞれの処理装置70は、部品を処理装置70毎に異なる設定温度(付近)になるように制御(昇温または冷却)するとともに、当該設定温度における部品の温度特性を測定する。 A plurality of processing devices 70 are arranged in the processing area 52 along the circumferential direction of the turret-type rotary transfer device 10 . In this example, the processors 70 can independently perform different processes. Specifically, for example, each of the processing apparatuses 70 controls (heats or cools) the parts to a different set temperature (near) for each processing apparatus 70, and measures the temperature characteristics of the parts at the set temperatures. do.

ここでは一例として、処理領域52に7台の処理装置70が配置される場合を示している。具体的には、第1処理領域52A~第7処理領域52Gにそれぞれ、第1処理装置70A~第7処理装置70Gが配置されている。 Here, as an example, a case where seven processing apparatuses 70 are arranged in the processing area 52 is shown. Specifically, a first processing device 70A to a seventh processing device 70G are arranged in the first processing region 52A to the seventh processing region 52G, respectively.

例えば、処理装置70のうち、搬送経路Tの上流側に位置する第1処理領域52Aに配置された第1処理装置70Aでは、例えば、部品を25℃の設定温度(付近)まで昇温(又は冷却)するとともに、部品が25℃(付近)となる場合の電気抵抗値の出力特性が測定される。第1処理装置70Aによって出力特性が測定された部品は、部品保持機構45によって回収されて、搬送経路Tの下流に位置する第2処理領域52Bに搬送される。また、例えば、第1処理装置70A(または別途設けられた不図示の判定装置)によって部品の良/不良も判定され、不良と判定された部品は、第2処理領域52Bに搬送することなく、第1処理装置70A近傍に配置された回収ボックス(不図示)に排出される。 For example, in the first processing apparatus 70A arranged in the first processing area 52A located upstream of the transport path T, the temperature of the component is raised (or cooling), and the output characteristic of the electrical resistance value when the part reaches 25° C. (near) is measured. The components whose output characteristics have been measured by the first processing device 70A are collected by the component holding mechanism 45 and transported to the second processing area 52B located downstream of the transport path T. FIG. Further, for example, the first processing device 70A (or a separately provided determination device (not shown)) determines whether the parts are good or bad, and the parts determined to be defective are not conveyed to the second processing area 52B. It is discharged to a recovery box (not shown) arranged near the first processing device 70A.

第2処理領域52Bに配置された第2処理装置70Bでは、例えば、部品を40℃の設定温度(付近)まで昇温(又は冷却)するとともに、部品が40℃(付近)となる場合の電気抵抗値の出力特性が測定される。第2処理装置70Bによって出力特性が測定された部品は、部品保持機構45によって回収されて、搬送経路Tの下流に位置する第3処理領域52Cに搬送される。また、例えば、第2処理装置70B(または別途設けられた不図示の判定装置)によって部品の良/不良も判定され、不良と判定された部品は、第3処理領域52Cに搬送することなく、第2処理装置70B近傍に配置された回収ボックス(不図示)に排出される。 In the second processing device 70B arranged in the second processing area 52B, for example, while heating (or cooling) the parts to a set temperature (near) of 40°C, the electric A resistance output characteristic is measured. The components whose output characteristics have been measured by the second processing device 70B are collected by the component holding mechanism 45 and transported to the third processing area 52C located downstream of the transport path T. FIG. Further, for example, the second processing device 70B (or a separately provided determination device (not shown)) determines whether the parts are good or bad, and the parts determined to be defective are not conveyed to the third processing area 52C. It is discharged to a recovery box (not shown) arranged near the second processing device 70B.

第3処理領域52Cに配置された第3処理装置70Cでは、例えば、部品を65℃の設定温度(付近)まで昇温(又は冷却)するとともに、部品が65℃(付近)となる場合の電気抵抗値の出力特性が測定される。第3処理装置70Cによって出力特性が測定された部品は、部品保持機構45によって回収されて、搬送経路Tの下流に位置する第4処理領域52Dに搬送される。また、例えば、第3処理装置70C(または別途設けられた不図示の判定装置)によって部品の良/不良も判定され、不良と判定された部品は、第4処理領域52Dに搬送することなく、第3処理装置70C近傍に配置された回収ボックス(不図示)に排出される。 In the third processing device 70C arranged in the third processing area 52C, for example, the temperature of the component is increased (or cooled) to the set temperature (near) of 65°C, and the electric power when the component reaches (near) 65°C A resistance output characteristic is measured. The components whose output characteristics have been measured by the third processing device 70C are collected by the component holding mechanism 45 and transported to the fourth processing area 52D located downstream of the transport path T. FIG. Further, for example, the third processing device 70C (or a separately provided determination device (not shown)) determines whether the component is good or defective, and the component determined as defective is not conveyed to the fourth processing area 52D. It is discharged to a recovery box (not shown) arranged near the third processing device 70C.

第4処理領域52Dに配置された第4処理装置70Dでは、例えば、部品を80℃の設定温度(付近)まで昇温(又は冷却)するとともに、部品が80℃(付近)となる場合の電気抵抗値の出力特性が測定される。第4処理装置70Dによって出力特性が測定された部品は、部品保持機構45によって回収されて、搬送経路Tの下流に位置する部品搬出領域53に搬送される。また、例えば、第4処理装置70D(または別途設けられた不図示の判定装置)によって部品の良/不良も判定され、不良と判定された部品は、部品搬出領域53に搬送することなく、第4処理装置70D近傍に配置された回収ボックス(不図示)に排出される。 In the fourth processing device 70D arranged in the fourth processing area 52D, for example, while heating (or cooling) the component to a set temperature (near) of 80°C, the electric power when the component reaches 80°C (near) A resistance output characteristic is measured. The components whose output characteristics have been measured by the fourth processing device 70D are collected by the component holding mechanism 45 and transported to the component carry-out area 53 located downstream of the transport path T. FIG. Further, for example, the quality of the parts is determined by the fourth processing device 70D (or a determination device (not shown) provided separately). 4 It is discharged to a recovery box (not shown) arranged near the processing device 70D.

以下、第5処理領域52E~第7処理領域52Gにおいても同様に所定の温度に設定し、同様の処理を行うことができる。なお、未使用の処理領域52(処理装置70)が存在してもよく、上述のように連続して(隣接した処理領域52)で処理を行なわなくてもよい。 Thereafter, the fifth processing region 52E to the seventh processing region 52G can also be similarly set to a predetermined temperature and the same processing can be performed. Note that there may be unused processing regions 52 (processing devices 70), and processing may not be performed continuously (adjacent processing regions 52) as described above.

また、この例では、処理領域52内に連続して、異なる設定温度における出力特性(複数の異なる温度特性)の測定を行う処理装置70A~70Gを配置する場合を示しているが、処理の内容に応じて、温度特性の測定以外の処理を行う処理装置70が配置されてもよいし、処理装置70を周方向に沿って連続(隣接)して配置せず、同図において例えば第三処理装置70Cを配置しないなど、処理装置70を配置しない領域が存在してもよい。 In addition, in this example, the processing devices 70A to 70G for measuring the output characteristics (a plurality of different temperature characteristics) at different set temperatures are continuously arranged in the processing area 52, but the contents of the processing Depending on the condition, the processing device 70 may be arranged to perform processing other than the temperature characteristic measurement, and the processing device 70 may not be arranged continuously (adjacently) along the circumferential direction, and in the figure, for example, the third processing There may be regions where the processing device 70 is not arranged, such as where the device 70C is not arranged.

また、搬送経路T上には、適宜、例えば、部品供給領域51の下流側、処理装置70間、あるいは部品搬出領域53の上流側などに、部品保持機構45で保持した部品の姿勢を検出して調整する手段や、部品保持機構45の保持手段のクリーニング手段等が配置されてもよい。例えば、部品供給領域51から処理領域52の間を前処理領域、処理領域52から部品搬出領域53の間を後処理領域と定義できるが、前処理領域や後処理領域は、広義には、処理領域の範疇となる。 Further, the posture of the component held by the component holding mechanism 45 is detected appropriately on the transport path T, for example, downstream of the component supply area 51, between the processing devices 70, or upstream of the component carry-out area 53. It is also possible to arrange a means for adjusting the component holding mechanism 45, a means for cleaning the holding means of the component holding mechanism 45, or the like. For example, the area between the component supply area 51 and the processing area 52 can be defined as the pre-processing area, and the area between the processing area 52 and the component unloading area 53 can be defined as the post-processing area. It becomes the category of the area.

一例を挙げると、図1では部品供給領域51の下流側直近には、前処理領域52Sa、52Sbが配置される。前処理領域52Saには、部品保持機構45で保持した部品の姿勢を静止画又は動画等で撮影する(赤外線や照射等による検出も含む)撮像装置70Saが設けられる。また、撮像装置70Saの下流側直近の前処理領域52Sbには、姿勢調整装置70Sbが設けられる。姿勢調整装置70Sbでは、部品保持機構45によって保持される部品の向き(保持軸に対する周方向の角度)が高精度に調整されると同時に、部品の中心位置が所定の位置(保持軸と一致する位置)となるように位置決めされる。姿勢調整装置70Sbは、例えば、撮像装置70Saの撮影した画像等に基づき、部品保持機構45が保持する部品の姿勢(状態)を解析する。そして姿勢(状態)に異常がある場合には、姿勢調整装置70Sbによって一旦部品を解放して保持し直したり、部品保持機構45の保持手段を制御したりして正しい姿勢(状態)になるよう調整する。このように、部品の姿勢を移御することで、それより下流の処理装置70A~70Gにおいて、載置プレート50からの部品の取り出し(保持)や部品の収容(解放)を高精度に行なうことができる。後処理領域は特に図示しないが、例えば、部品の外観検査を行う外観検査装置等を後処理領域として配置してもよい。 As an example, in FIG. 1, pretreatment areas 52Sa and 52Sb are arranged immediately downstream of the component supply area 51 . The preprocessing area 52Sa is provided with an image capturing device 70Sa that captures the posture of the component held by the component holding mechanism 45 as a still image or moving image (including detection by infrared rays, irradiation, or the like). In addition, a posture adjustment device 70Sb is provided in the preprocessing region 52Sb on the downstream side of the imaging device 70Sa. In the posture adjustment device 70Sb, the orientation of the component held by the component holding mechanism 45 (angle in the circumferential direction with respect to the holding axis) is adjusted with high accuracy, and the center position of the component is adjusted to a predetermined position (aligned with the holding axis). position). The posture adjusting device 70Sb analyzes the posture (state) of the component held by the component holding mechanism 45, for example, based on the image captured by the imaging device 70Sa. If there is an abnormality in the posture (state), the posture adjusting device 70Sb temporarily releases the component and holds it again, or controls the holding means of the component holding mechanism 45 so that the posture (state) is correct. adjust. In this way, by controlling the posture of the component, it is possible to take out (hold) the component from the mounting plate 50 and store (release) the component in the downstream processing devices 70A to 70G with high accuracy. can be done. Although the post-processing area is not particularly illustrated, for example, a visual inspection device or the like for performing visual inspection of parts may be arranged as the post-processing area.

また、部品搬出領域53と部品供給領域51の間には、準備領域51Pが配置されてもよい。本実施形態では、準備領域51Pにおいて、例えば、部品保持機構45の保持手段(例えば、吸着手段)などを清掃して、次の吸着準備を行うクリーニング装置65Pが設けられる。 Further, a preparation area 51P may be arranged between the component carry-out area 53 and the component supply area 51 . In this embodiment, in the preparation area 51P, for example, a cleaning device 65P that cleans holding means (for example, suction means) of the component holding mechanism 45 and prepares for the next suction is provided.

なお、撮像装置70Sa、姿勢調整装置70Sbおよびクリーニング装置65Pの配置箇所は搬送経路T上で任意であるし、これらのうち少なくともいずれかが配置されなくてもよい。 Note that the image pickup device 70Sa, the attitude adjustment device 70Sb, and the cleaning device 65P can be arranged anywhere on the transport path T, and at least one of them does not have to be arranged.

また、図示は省略するが、搬送経路T上には、適宜、部品搬出領域53に達する以前に異常な部品を排出する排出領域および排出手段が設けられてもよい。 Although not shown, a discharge area and discharge means for discharging abnormal components before reaching the component carry-out area 53 may be provided on the transport path T as appropriate.

また、撮像装置70Sa、姿勢調整装置70Sbは広義としての本実施形態の処理装置70の概念に含まれる。前処理領域52Sa,52Sbも広義としての処理領域52の概念に含まれる。 In addition, the imaging device 70Sa and the posture adjustment device 70Sb are included in the concept of the processing device 70 of this embodiment in a broad sense. The preprocessing areas 52Sa and 52Sb are also included in the concept of the processing area 52 in a broad sense.

このようにして全ての出力測定を終え、且つ不良でない部品は、部品搬出領域53を通過して、適宜姿勢(周方向の向きと水平方向位置)が調整された後、供給リール5に巻かれている梱包用の樹脂テープに搬出され、部品がパッケージングされる。 After all the output measurements have been completed in this way, the non-defective components pass through the component carry-out area 53 and are wound around the supply reel 5 after their attitudes (direction in the circumferential direction and position in the horizontal direction) are appropriately adjusted. The parts are carried out on a resin tape for packing, and the parts are packaged.

<処理装置>
次に図3及び図4を参照して、処理領域52に配置される処理装置70について説明する。図3は、処理装置70の主要構成を抜き出して示す概要図であり、同図(A)は側面図であり、同図(B)は測定部95の主要構成の概要図である。また、図4は、温度安定化装置125の概要図である。
<Processing device>
Next, with reference to FIGS. 3 and 4, the processing device 70 arranged in the processing area 52 will be described. 3A and 3B are schematic diagrams showing the main components of the processing device 70, with FIG. 3A being a side view and FIG. 4 is a schematic diagram of the temperature stabilizing device 125. As shown in FIG.

図3(A)に示すように、処理装置70は、部品の温度を制御するとともに、部品を環状に搬送する温度安定化装置125と、部品の出力特性を測定する測定部95を有する。 As shown in FIG. 3A, the processing device 70 has a temperature stabilizing device 125 that controls the temperature of the component and conveys the component in a loop, and a measuring unit 95 that measures the output characteristics of the component.

温度安定化装置125は、部品を移動させる移動機構と、移動機構で移動させながら部品の温度を制御する温度安定化機構を兼ねている。つまり、温度安定化装置125は、部品搬送を行う移動機構と、部品に対して加熱・冷却を行う熱移送機構とを兼ねる。温度安定化装置125は、部品を収容可能な載置プレート50を備える。 The temperature stabilizing device 125 serves both as a moving mechanism for moving the component and as a temperature stabilizing mechanism for controlling the temperature of the component while being moved by the moving mechanism. That is, the temperature stabilizing device 125 serves both as a movement mechanism for conveying parts and as a heat transfer mechanism for heating and cooling the parts. The temperature stabilization device 125 comprises a mounting plate 50 on which components can be accommodated.

測定部95は、部品に所定の行為(ここでは出力測定行為)を行う行為部であり、測定部95は、部品170の電極120(図3(B)参照)に電気的な接触を行う測定プローブ110と、測定プローブ110を昇降させるプローブ昇降部111と、測定プローブ110の平面方向の位置を高精度に位置調整するプローブ位置決め機構200を有する。測定プローブ110はプローブ昇降部111によって保持されており、このプローブ昇降部111を介して、プローブ位置決め機構200によって平面方向に位置調整される。結果、測定プローブ110は、プローブ昇降部111によって載置プレート50の平面に対して垂直方向(鉛直方向)昇降したり、プローブ位置決め機構200によって載置プレート50の平面方向に移動したりする。 The measurement unit 95 is an action unit that performs a predetermined action (here, an output measurement action) on the component, and the measurement unit 95 performs measurement by electrically contacting the electrode 120 (see FIG. 3B) of the component 170. It has a probe 110, a probe elevating unit 111 that elevates the measurement probe 110, and a probe positioning mechanism 200 that adjusts the position of the measurement probe 110 in the planar direction with high accuracy. The measurement probe 110 is held by a probe elevating section 111 and is positionally adjusted in the planar direction by the probe positioning mechanism 200 via the probe elevating section 111 . As a result, the measurement probe 110 is raised and lowered in a direction perpendicular to the plane of the mounting plate 50 by the probe elevating section 111 and moved in the plane direction of the mounting plate 50 by the probe positioning mechanism 200 .

被測定対象の部品170が、測定領域54において、測定部95における測定プローブ110の直下まで来ると、載置プレート50の回転が止まる。その後、図3(B)に示すように一対の測定プローブ110が降下して一対の電極120と接触する。この測定プローブ110を介して測定装置105で特性を測定した後、測定プローブ110が上昇し、載置プレート50が再び回転して、次の部品170が測定プローブ110の直下に移動する。 When the component 170 to be measured reaches directly below the measurement probe 110 in the measurement section 95 in the measurement area 54, the mounting plate 50 stops rotating. After that, the pair of measurement probes 110 is lowered to come into contact with the pair of electrodes 120 as shown in FIG. 3(B). After the characteristic is measured by the measuring device 105 via this measuring probe 110 , the measuring probe 110 rises, the mounting plate 50 rotates again, and the next component 170 moves directly below the measuring probe 110 .

図3(A)に示すように、プローブ位置決め機構200は、載置プレート50(又は載置プレート50の基準位置となる部材)と係合して、載置プレート50を基準とした相対位置と調整するプローブ位置決め用係合部210と、プローブ位置決め用係合部210を昇降させる係合部昇降機構211と、プローブ位置決め用係合部210をX-Y平面方向に微小に移動させる係合部平面移動機構201を有する。なお、係合部昇降機構211や係合部平面移動機構201による移動は、測定プローブ110(プローブ昇降部111)が部品と接触する前に、先行して行われる。具体的には、プローブ位置決め用係合部210によるプローブ位置決め孔103との係合が完了してから、測定プローブ110(プローブ昇降部111)が部品と接触する。 As shown in FIG. 3A, the probe positioning mechanism 200 engages with the mounting plate 50 (or a member that serves as a reference position of the mounting plate 50) to determine the relative position with respect to the mounting plate 50. The probe positioning engaging portion 210 to be adjusted, the engaging portion elevating mechanism 211 for raising and lowering the probe positioning engaging portion 210, and the engaging portion for minutely moving the probe positioning engaging portion 210 in the XY plane direction. It has a planar movement mechanism 201 . It should be noted that the movement by the engaging portion lifting mechanism 211 and the engaging portion plane moving mechanism 201 is performed prior to the measurement probe 110 (probe lifting portion 111) coming into contact with the component. Specifically, after the probe positioning engaging portion 210 completes engagement with the probe positioning hole 103, the measurement probe 110 (probe elevating portion 111) comes into contact with the component.

係合部平面移動機構201は、床面に固定載置される測定部支持台99に対して、水平直線方向(X方向およびY方向)に移動可能となる。例えば、係合部平面移動機構201は、測定部支持台99に配置されるスライド部品202(例えば転動自在のボール状部材)と、このスライド部品202を介して測定部支持台99上に配置されて測定部支持台99に対して水平方向に移動自在な平面移動体203を有する。 The engaging portion planar movement mechanism 201 is movable in horizontal and linear directions (X direction and Y direction) with respect to the measurement portion support table 99 fixedly mounted on the floor surface. For example, the engaging portion planar movement mechanism 201 includes a slide component 202 (for example, a ball-shaped member that can freely roll) arranged on the measuring portion support base 99 and arranged on the measuring portion support base 99 via the slide component 202. It has a planar moving body 203 that is horizontally movable with respect to the measuring part support base 99 .

係合部昇降機構211は、平面移動体203に対して、鉛直方向に移動自在に搭載される。プローブ昇降部111は、係合部昇降機構211に対して、鉛直方向に移動自在に搭載される。測定時は、まず係合部昇降機構211によって、プローブ位置決め用係合部210を所定位置(後述するプローブ位置決め孔103)に降下させて位置決めを行なった後に、プローブ昇降部111が測定プローブ110のみを降下させる。 The engaging portion elevating mechanism 211 is mounted on the planar moving body 203 so as to be freely movable in the vertical direction. The probe elevating section 111 is mounted on the engaging section elevating mechanism 211 so as to be freely movable in the vertical direction. At the time of measurement, first, the probe positioning engaging portion 210 is lowered to a predetermined position (probe positioning hole 103 described later) by the engaging portion elevating mechanism 211 for positioning. lower the

図4を参照して、温度安定化装置125について説明する。同図(A)は、温度安定化装置125に備えられる載置プレート50の上面図であり、同図(B)は温度安定化装置125の断面概要図である。 The temperature stabilizing device 125 will be described with reference to FIG. 1A is a top view of a mounting plate 50 provided in the temperature stabilizing device 125, and FIG. 1B is a schematic cross-sectional view of the temperature stabilizing device 125. FIG.

図4(A)に示すように、温度安定化装置125は、複数の部品を同時に回転移動させる移動機構であり、部品がそれぞれ個別に載置される凹部である載置部100を複数有する略円盤状の載置プレート50を備える。この載置プレート50は、後述する熱移送部材130と一体となって、載置プレート回転軸55を中心として、部品を載置した状態で回転移動する。 As shown in FIG. 4A, the temperature stabilizing device 125 is a moving mechanism that rotates and moves a plurality of parts simultaneously, and has a plurality of mounting portions 100, which are concave portions on which the parts are individually mounted. A disk-shaped mounting plate 50 is provided. The mounting plate 50 is integrated with a heat transfer member 130, which will be described later, and rotates around a mounting plate rotating shaft 55 while the components are mounted thereon.

載置部100は、載置プレート50の周方向に沿って、均等間隔で配置される。載置プレート50が回転することによって、載置部100が移動する環状の軌跡が、部品の移動経路となる。 The mounting portions 100 are arranged at regular intervals along the circumferential direction of the mounting plate 50 . As the mounting plate 50 rotates, the annular trajectory along which the mounting portion 100 moves becomes the movement path of the component.

なお、載置部100(凹部)の内寸は、部品の外寸と略一致することが好ましい。このようにすると、載置部100内での部品の位置ずれが抑制される。また、載置部100に対して部品を搭載する時に、部品に高い位置精度が要求される。従って、部品の保持精度を高めるために、例えば、姿勢調整装置70Sb(図1参照)などにより姿勢調整を行うことが望ましい。 In addition, it is preferable that the inner dimension of the mounting portion 100 (recessed portion) substantially matches the outer dimension of the component. By doing so, positional displacement of the component within the mounting section 100 is suppressed. In addition, when a component is mounted on the mounting section 100, the component is required to have high positional accuracy. Therefore, it is desirable to adjust the posture using, for example, the posture adjusting device 70Sb (see FIG. 1) in order to increase the holding accuracy of the component.

載置プレート50の上面に形成される部品の移動経路上には、処理装置70の測定部95が配置される測定領域54と、部品保持機構45による部品の保持または解放が行われる入出領域57が設けられる。測定領域54は、測定部95(測定プローブ110)の直下に配置される載置部1001を含む領域であり、入出領域57は例えば、部品保持機構45(部品を保持または解放する際に機能する部品保持機構45)によって部品の保持または開放を行う領域であり、保持または解放の対象となる部品が停止する載置部1017を含む。具体的に、図4(A)に示すように、保持/解放動作を行なう部品保持機構45と最も近接する位置(その直下)に存在する載置部1017を含む領域が、入出領域58となる。また、この例では、入出領域57は測定領域54に対して載置プレート50上で180度の位置に配置される領域である。 On the component movement path formed on the upper surface of the mounting plate 50, there are a measurement area 54 in which the measuring unit 95 of the processing device 70 is arranged, and an entry/exit area 57 in which the component holding mechanism 45 holds or releases the component. is provided. The measurement area 54 is an area including the placement section 1001 arranged directly below the measurement section 95 (measurement probe 110), and the entry/exit area 57 includes, for example, the component holding mechanism 45 (which functions when holding or releasing a component). This is an area where a component is held or released by the component holding mechanism 45), and includes a mounting section 1017 on which the component to be held or released stops. Specifically, as shown in FIG. 4(A), an area including the placement section 1017 that is located closest to (immediately below) the component holding mechanism 45 that performs the holding/releasing operation becomes the entry/exit area 58 . . Also, in this example, the entrance/exit area 57 is an area arranged at a position of 180 degrees on the mounting plate 50 with respect to the measurement area 54 .

つまり本実施形態では、例えば時計回りに、入出領域57から測定領域54までの半周分の載置部100に配置されている部品は測定前の部品であり、これらは測定領域54に位置すると測定部95によって出力特性が測定される。一方、時計回りに、測定領域54から入出領域57までの半周分の載置部100に配置されている部品は測定済みの部品であり、これらは入出領域57に位置すると、部品保持機構45によって載置部100から取り出される。 That is, in the present embodiment, for example, the parts arranged on the placement section 100 in the half circumference from the entry/exit area 57 to the measurement area 54 in the clockwise direction are the parts before measurement. Output characteristics are measured by the unit 95 . On the other hand, the components placed on the placement section 100 half the circumference from the measurement area 54 to the loading/unloading area 57 in the clockwise direction are the components that have already been measured. It is taken out from the mounting section 100 .

なお、入出領域57と測定領域54の位置は、回転移動する載置プレート50に対して固定された領域であるが、例えば部品の受け入れから測定までの時間(距離)を変更する場合などにおいて、入出領域57と測定領域54の固定位置(周方向の固定位相差)を変更可能である。例えば、位相差を180未満にすると、部品の受け入れから測定までの時間(距離)が短くなり、位相差を180より大きくすると、部品の受け入れから測定までの時間(距離)が長くなる。 The positions of the entry/exit area 57 and the measurement area 54 are areas fixed with respect to the rotationally moving mounting plate 50. However, for example, when changing the time (distance) from acceptance of the component to measurement, The fixed positions (fixed phase difference in the circumferential direction) of the entry/exit area 57 and the measurement area 54 can be changed. For example, if the phase difference is less than 180, the time (distance) from component reception to measurement is shortened, and if the phase difference is greater than 180, the time (distance) from component reception to measurement is long.

入出領域57において、載置プレート50の載置部100(1017)に載置された部品は、温度安定化装置125で回転移動している間に、所定の温度(例えば、25℃)まで制御され、測定部95において、その所定の温度における出力を測定した後、再び入出領域57に移動され、部品保持機構45(ここでは不図示)の部品保持具により回収される。載置プレート50は載置プレート回転軸55を中心として、同図(A)の例えば、時計回りに回転する。 In the loading/unloading area 57, the component mounted on the mounting portion 100 (1017) of the mounting plate 50 is controlled to a predetermined temperature (for example, 25° C.) while being rotated by the temperature stabilizing device 125. After the measurement unit 95 measures the output at the predetermined temperature, the part is moved to the entry/exit area 57 again and collected by the part holder of the part holding mechanism 45 (not shown here). The mounting plate 50 rotates around the mounting plate rotating shaft 55, for example, clockwise in FIG.

また、載置部100の外周には、周方向に複数のプローブ位置決め孔103が配置される。プローブ位置決め孔103は、この例では各載置部100に個々に(1対1で)対応して載置部100と同数設けられる。 A plurality of probe positioning holes 103 are arranged in the circumferential direction on the outer circumference of the mounting section 100 . In this example, the same number of probe positioning holes 103 as the mounting portions 100 are provided in correspondence with each mounting portion 100 (one-to-one).

それぞれの処理装置70において、測定プローブ110を用いて部品の測定を行う場合、特に部品の小型化が進むと、測定プローブ110で接触する際に高い位置決め精度が要求される。このため、本実施形態では、図3に示すように、測定部95は、測定プローブ110に先行して降下可能なプローブ位置決め用係合部210を備える。 In each processing device 70, when measuring a component using the measurement probe 110, high positioning accuracy is required when contacting with the measurement probe 110, especially as the component becomes smaller. Therefore, in this embodiment, as shown in FIG. 3, the measuring section 95 includes a probe positioning engaging section 210 that can be lowered prior to the measuring probe 110 .

図3(A)の点線に示すように、処理装置70は、測定プローブ110の部品への接触に先立ってプローブ位置決め用係合部210を降下させ、測定領域54の、被測定対象の部品が載置された載置部100(1001)に対応するプローブ位置決め孔103に係合させる。 As indicated by the dotted line in FIG. 3A, the processing device 70 lowers the probe positioning engaging portion 210 prior to the contact of the measurement probe 110 with the part, so that the part to be measured in the measurement area 54 is It is engaged with the probe positioning hole 103 corresponding to the mounted mounting portion 100 (1001).

このとき、プローブ位置決め用係合部210及びプローブ位置決め孔103の少なくとも一方は、テーパ形状(具体的には円錐形状)となっている。本実施形態では、プローブ位置決め用係合部210が円錐形状突起となり、プローブ位置決め孔103が、この円錐形状突起の最大外径よりも小径の正円穴となる。結果、両者が係合すると、プローブ位置決め孔103を基準として、プローブ位置決め用係合部210が同軸状態となって、自律的にセンタリング(位置調整)される。このセンタリング効果によって、係合部平面移動機構201が、水平方向(図示のX方向およびY方向)に移動して、プローブ位置決め孔103を基準として水平方向に高精度に位置決めされる。その後、係合部平面移動機構201を基準として、プローブ昇降部111が測定プローブ110を下降させて部品に接触させる。このようにすることで、測定時の高精度の位置決めが可能となる。 At this time, at least one of the probe positioning engaging portion 210 and the probe positioning hole 103 has a tapered shape (specifically, a conical shape). In this embodiment, the probe positioning engaging portion 210 is a conical protrusion, and the probe positioning hole 103 is a circular hole with a smaller diameter than the maximum outer diameter of the conical protrusion. As a result, when both are engaged, the probe positioning engaging portion 210 becomes coaxial with the probe positioning hole 103 as a reference, and is centered (position-adjusted) autonomously. Due to this centering effect, the engaging portion planar movement mechanism 201 moves in the horizontal direction (the X direction and the Y direction in the drawing), and is positioned with high accuracy in the horizontal direction with the probe positioning hole 103 as a reference. After that, with the engaging portion planar movement mechanism 201 as a reference, the probe lifting portion 111 lowers the measurement probe 110 to contact the component. By doing so, it is possible to perform highly accurate positioning during measurement.

なお、ここではプローブ位置決め孔103とプローブ位置決め用係合部210との係合によって水平方向に機械的に位置調整する場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、プローブ位置決め機構200が、不図示の撮像手段やセンサなどにより、測定プローブ110の水平方向の位置を制御してもよい。 Although the case where the position is mechanically adjusted in the horizontal direction by engaging the probe positioning hole 103 and the probe positioning engaging portion 210 is illustrated here, the present invention is not limited to this. For example, the probe positioning mechanism 200 may control the horizontal position of the measurement probe 110 by imaging means, a sensor, or the like (not shown).

なお、本実施形態では、プローブ位置決め孔103の数は、載置部100の数と等しいか、それよりも多い。各々の載置部100に対応してプローブ位置決め孔103を設けることで、すべての載置部100に対して、測定プローブ110を正しく位置調整できる。 In this embodiment, the number of probe positioning holes 103 is equal to or greater than the number of placement sections 100 . By providing the probe positioning holes 103 corresponding to the respective mounting portions 100 , the measurement probes 110 can be positioned correctly with respect to all the mounting portions 100 .

しかし、図4(A)の点線に示すように、プローブ位置決め孔103Fを測定領域54に固定配置しておき、測定領域54に停止する全ての載置部100に対する測定プローブ110の位置調整(センタリング)を、共通のプローブ位置決め孔103Fによって行うようにしてもよい。 However, as shown by the dotted line in FIG. 4A, the probe positioning holes 103F are fixedly arranged in the measurement area 54, and the position adjustment (centering) of the measurement probes 110 with respect to all the mounting parts 100 stopped in the measurement area 54 is performed. ) may be performed by a common probe positioning hole 103F.

図4(B)を参照して、温度安定化装置125は、載置プレート50と、載置プレート50に対して背面(裏面)側に隣接して配置され、載置プレート50に熱を移送する熱移送部材130を備える。熱移送部材130の形状は、載置プレート50と略同型(略円盤状)であることが望ましいが、複数に分散配置されていても良い。熱移送部材130と載置プレート50は一体となって、載置プレート回転軸55を中心として、載置プレート駆動装置60により回転駆動される。なお、熱伝達効率を向上させるため、載置プレート50と熱移送部材130は、平面同士で接触していることが好ましく、間に熱伝導性シートなどを介在させても良い。従って、載置プレート50は、全体が均一(単一)の温度となるように、熱移送部材130によって温度制御される。 Referring to FIG. 4B, the temperature stabilizing device 125 is arranged adjacent to the mounting plate 50 on the back side (back side) of the mounting plate 50, and transfers heat to the mounting plate 50. A heat transfer member 130 is provided. The shape of the heat transfer member 130 is desirably substantially the same shape (substantially disc-shaped) as the mounting plate 50, but may be dispersedly arranged. The heat transfer member 130 and the mounting plate 50 are integrally driven to rotate about the mounting plate rotating shaft 55 by the mounting plate driving device 60 . In order to improve heat transfer efficiency, it is preferable that the mounting plate 50 and the heat transfer member 130 are in contact with each other, and a heat conductive sheet or the like may be interposed between them. Therefore, the temperature of the mounting plate 50 is controlled by the heat transfer member 130 so that the entire mounting plate 50 has a uniform (single) temperature.

熱移送部材130において、載置プレート50が隣接する側と逆側平面には、熱交換部135が設けられる。熱移送部材130は、例えば、熱伝達プレート130Aとペルチェ素子130Bを備える。なお、この熱移送部材130における熱伝達プレート130Aを温度監視し、その監視結果を利用してペルチェ素子130Bの出力を制御する。この構造によって、載置プレート50の交換を容易にする。例えば載置プレート50の温度を降下させて、常温よりも低い温度に部品を制御したい場合には、熱移送部材130の載置プレート50側が低温となり、熱交換部135側が高温になる。その場合は、熱交換部135から熱が放熱されやすいように、熱交換部135をファンで空冷したり、外部に設けられた熱交換器であるチラーから冷水を供給して水冷したりすることが望ましい。逆に載置プレート50の温度を上昇させて、部品を常温よりも高い温度に制御したい場合には、熱移送部材130の載置プレート50側が高温に、熱交換部135側が低温になる。この場合には、熱交換部135に熱水を接触させて温めることも考えられる。これらの温度制御は、温度制御装置137によって行なわれる。 In the heat transfer member 130, a heat exchange portion 135 is provided on a plane opposite to the side where the mounting plate 50 is adjacent. The heat transfer member 130 includes, for example, a heat transfer plate 130A and a Peltier element 130B. The temperature of the heat transfer plate 130A in the heat transfer member 130 is monitored, and the output of the Peltier element 130B is controlled using the monitoring result. This structure facilitates replacement of the mounting plate 50 . For example, if it is desired to lower the temperature of the mounting plate 50 and control the components to a temperature lower than the normal temperature, the mounting plate 50 side of the heat transfer member 130 becomes low temperature, and the heat exchange section 135 side becomes high temperature. In that case, the heat exchange section 135 may be air-cooled with a fan or water-cooled by supplying cold water from a chiller, which is a heat exchanger provided outside, so that heat can be easily radiated from the heat exchange section 135. is desirable. Conversely, when it is desired to raise the temperature of the mounting plate 50 to control the temperature of the component to be higher than the normal temperature, the mounting plate 50 side of the heat transfer member 130 becomes high temperature, and the heat exchange section 135 side becomes low temperature. In this case, it is conceivable to bring hot water into contact with the heat exchange section 135 to warm it. These temperature controls are performed by the temperature controller 137 .

温度制御装置137は、CPU、RAM、ROM、ハードディスクドライブ等の記憶装置などから構成され。CPUはいわゆる中央演算処理装置であり、各種プログラムが実行されて様々な機能を実現する。RAMはCPUの作業領域、記憶領域として使用され、ROMはCPUで実行されるオペレーティングシステムやプログラムを記憶する。温度制御装置137は温度安定化装置125ごとに設けられても良く、制御装置25(図1参照)と一体であっても良い。温度制御装置137による温度制御は、例えばPID制御によっておこなわれるが、一般的な周知技術なので詳細説明は省略する。 The temperature control device 137 is composed of a CPU, a RAM, a ROM, a storage device such as a hard disk drive, and the like. A CPU is a so-called central processing unit, and executes various programs to realize various functions. The RAM is used as a work area and storage area for the CPU, and the ROM stores an operating system and programs executed by the CPU. The temperature control device 137 may be provided for each temperature stabilizing device 125, or may be integrated with the control device 25 (see FIG. 1). The temperature control by the temperature control device 137 is performed, for example, by PID control, but since it is a generally known technique, detailed description thereof will be omitted.

なお、載置プレート50および熱移送部材130は交換可能に構成される。従って例えば、載置プレート50は載置部100のサイズや配置数が異なるものなどを複数種類用意し、また、熱移送部材130もその特性(仕様)が異なるものなどを複数種類用意して置くことで、処理に応じて適宜交換することができる。 Note that the mounting plate 50 and the heat transfer member 130 are configured to be replaceable. Therefore, for example, a plurality of types of mounting plates 50 having different sizes and numbers of placement portions 100 are prepared, and a plurality of types of heat transfer members 130 having different characteristics (specifications) are prepared. Therefore, it is possible to appropriately replace them according to the processing.

温度安定化装置125は、部品が入出領域57に搬入されてから測定部95(測定領域54/行為部)に到達するまでに必要な移動時間よりも、部品の温度が所定の温度に安定するまでの時間である温度制御時間が短い。即ち、部品が測定領域54に到達する前に、部品の温度は目標値で安定している。 The temperature stabilizing device 125 stabilizes the temperature of the part at a predetermined temperature more than the movement time required for the part to reach the measuring section 95 (measurement area 54/action section) after the part is carried into the loading/unloading area 57. The temperature control time, which is the time until That is, before the part reaches the measurement area 54, the temperature of the part has stabilized at the target value.

本実施形態では、一例として、全ての処理装置70において、載置プレート50のサイズ(直径)は同等であり、入出領域57に対して測定領域54が180度の位置に設定されている。つまり、複数の異なる温度に設定される複数の処理装置70(処理領域52)であっても、入出領域57と測定領域54の距離は同一となっている。このような構成であって、上述のとおり全ての処理領域52において部品が測定領域54に到達する前に、部品の温度は目標値で安定するように構成されている。 In this embodiment, as an example, in all the processing apparatuses 70 , the size (diameter) of the mounting plate 50 is the same, and the measurement area 54 is set at a position of 180 degrees with respect to the entrance/exit area 57 . That is, even in a plurality of processing apparatuses 70 (processing areas 52) set to a plurality of different temperatures, the distance between the entry/exit area 57 and the measurement area 54 is the same. With such a configuration, the temperature of the part is stabilized at the target value before the part reaches the measurement area 54 in all the processing areas 52 as described above.

一例として、本実施形態では、複数の処理装置70間においてそれぞれの載置プレート50は、同サイズで載置部100の数も同数且つ等速で回転する。これにより、入出領域57から測定領域54までの部品の移動経路の距離は同一となり、複数の処理装置70間においてそれぞれの載置プレート50の入出領域57(載置部100)に受け入れられた部品は、同じタイミングで測定領域54に移動する。また測定に係る時間は設定温度に寄らず略一定であり、測定後は下流の処理装置70に搬送されるために同じタイミングで再び入出領域57に移動する。 As an example, in the present embodiment, the mounting plates 50 of the plurality of processing apparatuses 70 have the same size, the same number of mounting portions 100, and rotate at a constant speed. As a result, the distance of the movement path of the component from the loading/unloading area 57 to the measurement area 54 becomes the same, and the components received in the loading/unloading area 57 (mounting unit 100) of each mounting plate 50 among the plurality of processing apparatuses 70 move to the measurement area 54 at the same timing. Also, the time required for measurement is substantially constant regardless of the set temperature, and after measurement, the wafer is conveyed to the downstream processing device 70, so it moves to the input/output area 57 again at the same timing.

このため、各処理領域52A~52Gに配置される各処理装置70A~70Gは、ターレット型回転搬送装置10の各々の位相(30度毎の位相)の半径方向を基準線として、すべて同じ配置関係となる。具体的には、各処理装置70の入出領域57に存在する載置部100は、対応する部品保持機構45のノズルの真下に存在し、この載置部100を基準としたターレット型回転搬送装置10の半径方向の延長線上に、処理装置80の測定領域54側の載置部100が存在する。このようにしておくと、部品搬送処理装置1の組み立て作業や、事前のセッティング作業(位置調整作業)が、複数の処理領域52A~52Gの間で同一作業とすることができ、組み立て効率やメンテナンス効率が飛躍的に高められる。 Therefore, the processing devices 70A to 70G arranged in the processing areas 52A to 52G all have the same arrangement relationship with the radial direction of each phase (phase of every 30 degrees) of the turret-type rotary transfer device 10 as a reference line. becomes. Specifically, the placement section 100 existing in the entry/exit area 57 of each processing apparatus 70 exists directly below the nozzle of the corresponding component holding mechanism 45, and the turret-type rotary transfer apparatus is positioned with this placement section 100 as a reference. 10, there is a mounting section 100 on the measurement area 54 side of the processing device 80 on the extension line in the radial direction. By doing so, the assembling work and the preliminary setting work (position adjustment work) of the component conveying and processing apparatus 1 can be performed in the same work among the plurality of processing areas 52A to 52G, and the assembling efficiency and maintenance can be improved. Efficiency is dramatically improved.

なお、載置プレート50および熱移送部材130はそれぞれ交換可能であるため、この例に限らず、処理の内容に応じて載置プレート50のサイズ(直径)を異ならせたり、入出領域57から測定領域54(測定部95)までの距離を異ならせたりしても良い。また、図4(C)の載置部100の断面に示すように、この載置部100が、サイズの異なる複数の部品172-1,172-2の外形に合う複数形状のポケットを有することも好ましい。このようにすると、複数種類の部品172-1,172-2について、載置プレート50を交換することなく、測定することが可能となる。 Note that since the mounting plate 50 and the heat transfer member 130 are replaceable, the size (diameter) of the mounting plate 50 is not limited to this example, and the size (diameter) of the mounting plate 50 can be changed according to the contents of the process, or the measurement from the entry/exit area 57 can be performed. The distance to the area 54 (measurement section 95) may be varied. In addition, as shown in the cross section of the mounting section 100 in FIG. 4C, the mounting section 100 has a plurality of shaped pockets that match the outer shapes of the plurality of parts 172-1 and 172-2 having different sizes. is also preferred. By doing so, it is possible to measure a plurality of types of components 172-1 and 172-2 without exchanging the mounting plate 50. FIG.

<ターレット型回転搬送装置>
図5の側面概要図を参照して、ターレット型回転搬送装置10について説明する。
<Turret type rotary transfer device>
The turret-type rotary transfer device 10 will be described with reference to the schematic side view of FIG.

ターレット型回転搬送装置10から独立した架台35に昇降付勢機構40が固定される。つまり、昇降付勢機構40は搬送経路T上の各処理領域52に対応して固定配置される。部品保持機構45はターレットテーブル12に固定され、ターレットテーブル12の回転運動に伴って、その位置を変える。昇降付勢機構40は、各処理領域52で一時停止する部品保持機構45と係合するのに適切な位置に設置される。本実施形態では、図6に示すように、架台35に、各処理装置70(70A~70G,70Sa,70Sb)、自動部品供給装置65、供給リール5、クリーニング装置65Pに対応させて、12個の昇降付勢機構40(40A~40L)が固定設置される。 A lift urging mechanism 40 is fixed to a stand 35 independent from the turret-type rotary transfer device 10 . That is, the elevation biasing mechanism 40 is fixedly arranged corresponding to each processing area 52 on the transport path T. As shown in FIG. The component holding mechanism 45 is fixed to the turret table 12 and changes its position as the turret table 12 rotates. The lift biasing mechanism 40 is positioned appropriately to engage a component holding mechanism 45 that pauses at each processing area 52 . In this embodiment, as shown in FIG. 6, the pedestal 35 is provided with 12 units corresponding to the respective processing devices 70 (70A to 70G, 70Sa, 70Sb), the automatic component supply device 65, the supply reel 5, and the cleaning device 65P. is fixedly installed.

具体的には昇降付勢機構40は、鉛直方向(図5に示すZ方向)上下に往復運動し、下降した場合には、その下方に配置される部品保持機構45を付勢する。詳細な図示は省略するが、昇降付勢機構40は例えば、回転運動を行うモーターと、モーターの回転軸に係合して回転運動を直線往復運動に変換する斜板カム構造と、斜板カム構造において直線往復運動を伝達する軸部151と、軸部151の下端に形成される係合部155などを備える。軸部151は、鉛直方向上向きに弾性体(図示省略)で支持されている。これにより、モーターの回転動力によって、軸部151および係合部155が鉛直方向に往復運動自在となっている。そして、下降した係合部155が、部品保持機構45と当接して、これを押し下げる。 Specifically, the elevation biasing mechanism 40 reciprocates up and down in the vertical direction (the Z direction shown in FIG. 5), and when lowered, biases the component holding mechanism 45 arranged therebelow. Although not shown in detail, the elevation biasing mechanism 40 includes, for example, a motor that performs rotary motion, a swash plate cam structure that engages with the rotating shaft of the motor to convert the rotary motion into linear reciprocating motion, and a swash plate cam. The structure includes a shaft portion 151 that transmits linear reciprocating motion, an engaging portion 155 formed at the lower end of the shaft portion 151, and the like. The shaft portion 151 is supported vertically upward by an elastic body (not shown). As a result, the shaft portion 151 and the engaging portion 155 can reciprocate in the vertical direction by the rotational power of the motor. Then, the lowered engaging portion 155 comes into contact with the component holding mechanism 45 and pushes it down.

なお、昇降付勢機構40の構成はこれに限らず、エアシリンダや油圧シリンダ、電磁ソレノイド等の直動動力源によって、直接、軸部151および係合部155を上下方向に駆動しても良い。 The configuration of the elevation biasing mechanism 40 is not limited to this, and the shaft portion 151 and the engaging portion 155 may be directly driven vertically by a direct-acting power source such as an air cylinder, a hydraulic cylinder, or an electromagnetic solenoid. .

部品を搬送するターレット型回転搬送装置10の重量的負荷は少ないほうが処理速度も上げやすく、また消費電力も少なくすむ。本実施形態の部品搬送処理装置1は、固定配置される昇降付勢機構40と、ターレット型回転搬送装置10が分割されているので、ターレット型回転搬送装置10の回転重量に、昇降付勢機構40が含まれない。結果、全体として処理速度も上げやすく、また消費電力も少なくすむ。 The smaller the weight load of the turret-type rotary conveying device 10 that conveys the parts, the easier it is to increase the processing speed and the less the power consumption. In the component transport processing apparatus 1 of the present embodiment, the lift biasing mechanism 40 fixedly arranged and the turret type rotary transfer device 10 are separated. 40 not included. As a result, the overall processing speed can be easily increased, and power consumption can be reduced.

部品保持機構45は、部品保持具145と、部品保持具145を鉛直方向に昇降させる保持具昇降部147と、部品保持具145の平面方向の位置を高精度に調整する部品保持具位置決め機構180とを有する。部品保持具145は、部品を載置部100から吸着保持し、また、部品を載置部100へ解放(収容)する。 The component holding mechanism 45 includes a component holder 145, a holder elevating unit 147 that vertically moves the component holder 145, and a component holder positioning mechanism 180 that adjusts the planar position of the component holder 145 with high precision. and The component holder 145 sucks and holds the component from the placement section 100 and releases (accommodates) the component onto the placement section 100 .

部品保持具145は、例えば、部品を吸着して保持し、あるいは吸着を解除して部品を解放可能なノズルである。具体的には、部品保持具145は中空のチューブ状(円筒状)であり、それぞれがダイヤフラムポンプ(図示省略)に接続されている。ダイヤフラムポンプは制御装置25によって制御され、部品を吸着する場合には部品保持具145内部空間を減圧し、部品を解放する場合には部品保持具145の内部空間を大気圧に戻す。 The component holder 145 is, for example, a nozzle capable of holding a component by suction or releasing the component by canceling suction. Specifically, the component holders 145 are hollow tubular (cylindrical) and are connected to diaphragm pumps (not shown). The diaphragm pump is controlled by the control device 25 to depressurize the internal space of the component holder 145 when sucking the component, and return the internal space of the component holder 145 to atmospheric pressure when releasing the component.

部品保持具145は、保持具昇降部147によって鉛直方向に案内されるが、昇降付勢機構40の付勢力が付与されていない状態では、不図示の付勢手段により鉛直方向上向きに付勢されている。保持具昇降部147が、下降した昇降付勢機構40と当接して下方に付勢されると、保持具昇降部147が、部品保持具145を鉛直方向下向きに案内する。昇降付勢機構40が上昇すると、保持具昇降部147は、自ら内蔵する付勢手段(例えばバネ)によって、部品保持具145を上昇するように案内する。 The component holder 145 is guided in the vertical direction by the holder elevating unit 147, but is urged vertically upward by an urging means (not shown) when the urging force of the elevation urging mechanism 40 is not applied. ing. When the holder elevating section 147 comes into contact with the lowered elevation urging mechanism 40 and is urged downward, the holder elevating section 147 guides the component holder 145 downward in the vertical direction. When the elevation urging mechanism 40 rises, the holder raising/lowering part 147 guides the component holder 145 to rise by means of an urging means (for example, a spring) incorporated therein.

部品保持具位置決め機構180は、鉛直方向(図示Z方向)に昇降可能な部品保持具位置決め用係合部182と、部品保持具位置決め用係合部182を昇降させる係合部昇降機構181と、部品保持具位置決め用係合部182をX-Y平面方向に微小に移動させる係合部平面移動機構184を有する。 The component holder positioning mechanism 180 includes a component holder positioning engaging portion 182 that can move up and down in the vertical direction (the Z direction in the drawing), an engaging portion elevating mechanism 181 that raises and lowers the component holder positioning engaging portion 182, It has an engaging portion planar movement mechanism 184 for minutely moving the component holder positioning engaging portion 182 in the XY plane direction.

係合部平面移動機構184は、鉛直方向においては移動不可となるターレットテーブル12に対して、水平方向(X方向および/またはY方向)に移動可能となる。例えば、係合部平面移動機構184は、ターレットテーブル12の表面(上面)に設けられたスライド部品222(例えば転動自在のボール状部材)と、このスライド部品222を介してターレットテーブル12上に配置されてターレットテーブル12に対して水平方向に移動自在な平面移動体183などにより構成される。 The engaging portion planar movement mechanism 184 can move in the horizontal direction (X direction and/or Y direction) with respect to the turret table 12 which cannot move in the vertical direction. For example, the engaging portion planar movement mechanism 184 includes a slide component 222 (for example, a rollable ball-shaped member) provided on the surface (upper surface) of the turret table 12, and a slide component 222 on the turret table 12 via the slide component 222. It is composed of a planar moving body 183 or the like that is arranged and horizontally movable with respect to the turret table 12 .

係合部昇降機構181は、平面移動体183に対して鉛直方向に移動自在に搭載される。係合部昇降機構181に外力が付勢されない状態では、不図示の付勢手段により鉛直方向上向きに付勢されている。保持具昇降部147は、係合部昇降機構181に対して鉛直方向に移動自在に搭載される。保持具昇降部147に外力が付与されていない状態では、不図示の付勢手段により鉛直方向上向きに付勢されている。係合部昇降機構181における上向きの付勢力は、保持具昇降部147における上向きの付勢力と比較して小さい。従って、昇降付勢機構40によって、保持具昇降部147を下方に付勢すると、まず、係合部昇降機構181が優先的に下降して下死点で停止し、その後、停止した係合部昇降機構181に対して、保持具昇降部147が単独で下降するようになっている。 The engaging portion elevating mechanism 181 is mounted on the planar moving body 183 so as to be freely movable in the vertical direction. In a state where the engaging portion elevating mechanism 181 is not urged by an external force, it is urged vertically upward by an urging means (not shown). The holder elevating section 147 is mounted movably in the vertical direction with respect to the engaging section elevating mechanism 181 . In a state where no external force is applied to the holder elevating section 147, it is urged upward in the vertical direction by an urging means (not shown). The upward biasing force in the engaging portion elevating mechanism 181 is smaller than the upward biasing force in the retainer elevating portion 147 . Therefore, when the holder elevating unit 147 is urged downward by the elevating urging mechanism 40, first, the engaging portion elevating mechanism 181 is preferentially lowered and stopped at the bottom dead center, and then the stopped engaging portion The holder elevating unit 147 is independently lowered with respect to the elevating mechanism 181 .

これにより、部品保持具145は、部品保持具位置決め用係合部とは別のタイミングで独立して昇降自在となっている。 As a result, the component holder 145 can move up and down independently of the component holder positioning engaging portion.

図3(A)に示すように、載置プレート50および熱移送部材130の支持台119は、その上面であって載置プレート50とは重ならない領域(載置プレート50から露出した領域)、より詳細には、入出領域57の近傍領域に、1または複数の部品保持具位置決め孔104が配置される。この例では、部品保持具位置決め孔104は、入出領域57の載置部100に対応しており、当該載置部100の外周に1個設けられる。 As shown in FIG. 3A, the mounting plate 50 and the support base 119 of the heat transfer member 130 have upper surfaces thereof which do not overlap with the mounting plate 50 (regions exposed from the mounting plate 50), More specifically, one or more component holder positioning holes 104 are arranged in the vicinity of the entering/exiting region 57 . In this example, the component holder positioning hole 104 corresponds to the mounting portion 100 of the entrance/exit area 57 and is provided on the outer periphery of the mounting portion 100 .

既に述べているように、各処理装置70間では部品保持機構45による部品の保持および解放を繰り返して部品を搬送する。この場合、特に部品が小型であると、部品の保持または解放の際に高い位置決め精度が要求される。また、部品をパッケージングする際にも、同様に高い位置決め精度が要求される。本実施形態では、部品保持具位置決め機構180により、部品の保持/解放時に位置決め手段を用いて高精度の位置決めを行なうことができる。 As already described, the parts are transported between the processing apparatuses 70 by repeatedly holding and releasing the parts by the part holding mechanism 45 . In this case, especially when the parts are small, high positioning accuracy is required when holding or releasing the parts. High positioning accuracy is also required when packaging components. In this embodiment, the component holder positioning mechanism 180 can perform highly accurate positioning using the positioning means when holding/releasing the component.

具体的に、部品保持具145による部品の保持または解放に先立って、部品保持具位置決め用係合部182を降下させて、部品保持具位置決め孔104に係合させる。 Specifically, prior to holding or releasing the component by the component holder 145 , the component holder positioning engaging portion 182 is lowered to engage with the component holder positioning hole 104 .

このとき、部品保持具位置決め用係合部182及び部品保持具位置決め孔104の少なくとも一方は、テーパ形状(具体的には円錐形状)となっている。本実施形態では、部品保持具位置決め用係合部182が円錐形状突起となり、部品保持具位置決め孔104が、この円錐形状突起の最大外径よりも小径の正円穴となる。結果、両者が係合すると、部品保持具位置決め孔104を基準として、部品保持具位置決め用係合部182が同軸状態となって、自律的にセンタリング(位置調整)される。このセンタリング効果によって、係合部平面移動機構184が、水平方向(図示のX方向およびY方向)に移動して、部品保持具位置決め孔104を基準として水平方向に高精度に位置決めされる。その後、係合部平面移動機構184を基準として、保持具昇降部147が部品保持具145を下降させて載置部100に接近させる。このようにすることで、部品の保持又は開放において、載置部100に対する部品保持具145の高精度な位置決めが実現される。 At this time, at least one of the component holder positioning engaging portion 182 and the component holder positioning hole 104 has a tapered shape (specifically, a conical shape). In this embodiment, the component holder positioning engaging portion 182 is a conical protrusion, and the component holder positioning hole 104 is a circular hole with a smaller diameter than the maximum outer diameter of the conical protrusion. As a result, when the two are engaged, the component holder positioning engaging portion 182 becomes coaxial with the component holder positioning hole 104 as a reference, and is centered (position-adjusted) autonomously. Due to this centering effect, the engaging portion planar movement mechanism 184 moves in the horizontal direction (the X direction and the Y direction in the drawing), and is positioned with high accuracy in the horizontal direction with the component holder positioning hole 104 as a reference. After that, with the engagement portion planar movement mechanism 184 as a reference, the holder elevating portion 147 lowers the component holder 145 to approach the mounting portion 100 . By doing so, highly accurate positioning of the component holder 145 with respect to the placement section 100 is realized in holding or releasing the component.

ここでは部品保持具位置決め用係合部182と部品保持具位置決め孔104の係合によって機械的に位置調整する場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、部品保持具位置決め機構180が、不図示の撮像手段やセンサなどにより、部品保持部145の水平方向の位置を制御しても良い。 Although the case where the position is mechanically adjusted by engaging the component holder positioning engaging portion 182 and the component holder positioning hole 104 is illustrated here, the present invention is not limited to this. For example, the component holder positioning mechanism 180 may control the horizontal position of the component holder 145 using imaging means, a sensor, or the like (not shown).

また、昇降付勢機構40では、部品の厚みが変更された場合のように、その目的や役割に応じて、昇降付勢機構40の係合部の位置や押し込み量を適宜変更可能に構成されている。 In addition, the elevation urging mechanism 40 is configured so that the position of the engaging portion of the elevation urging mechanism 40 and the pushing amount can be appropriately changed according to the purpose and role, such as when the thickness of the component is changed. ing.

<全体動作>
図6を参照して、ターレット型回転搬送装置10の全体動作を説明する。図6において、ターレット型回転搬送装置10は、一例として12個の部品保持機構45(45A~45L)を備える。また、ここでは全体動作を説明するため、撮像装置70Sa、姿勢調整装置70Sb、処理装置70A~70Gを、まとめて処理装置70と称する場合が有る。
<Overall operation>
The overall operation of the turret-type rotary transfer device 10 will be described with reference to FIG. In FIG. 6, the turret-type rotary transfer device 10 includes, for example, 12 component holding mechanisms 45 (45A to 45L). Further, in order to describe the overall operation here, the imaging device 70Sa, the attitude adjustment device 70Sb, and the processing devices 70A to 70G may be collectively referred to as the processing device 70. FIG.

例えば、図6(A)では、第1昇降付勢機構40Aは第1処理領域52A上に固定され、第2昇降付勢装置40Bは第2処理領域52B上に固定され、第3昇降付勢装置40Cは第3処理領域52C上に固定され、第4昇降付勢装置40Dは第4処理領域52D上に固定され、第5昇降付勢装置40Eは第5処理領域52E上に固定され、第6昇降付勢装置40Fは第6処理領域52F上に固定され、第7昇降付勢装置40Gは第7処理領域52Gに固定され、第8昇降付勢装置40Hは部品搬出領域53上に固定され、第9昇降付勢装置40Iは準備領域51P上に固定され、第10昇降付勢装置40Jは部品供給領域51上に固定され、第11昇降付勢装置40Kは第1前処理領域52Sa、第12昇降付勢装置40Lは第2前処理領域52Sb上に固定される。 For example, in FIG. 6A, the first elevation biasing mechanism 40A is fixed above the first processing area 52A, the second elevation biasing device 40B is fixed above the second processing area 52B, and the third elevation biasing mechanism 40B is fixed above the second processing area 52B. The device 40C is fixed on the third processing area 52C, the fourth lift biasing device 40D is fixed on the fourth processing region 52D, the fifth lifting biasing device 40E is fixed on the fifth processing region 52E, and the The sixth lifting biasing device 40F is fixed on the sixth processing area 52F, the seventh lifting biasing device 40G is fixed on the seventh processing region 52G, and the eighth lifting biasing device 40H is fixed on the component carry-out region 53. , the ninth elevation urging device 40I is fixed on the preparation area 51P, the tenth elevation urging device 40J is fixed on the parts supply area 51, and the eleventh elevation urging device 40K is fixed on the first pretreatment area 52Sa, the 12 lift urging device 40L is fixed on the second pretreatment area 52Sb.

また図6(A)は、ターレット型回転搬送装置10が一時停止した状態を示しており、第1部品保持機構45Aが第1処理領域52A上に停止され、第2部品保持機構45Bが第2処理領域52B上に停止され、第3部品保持機構45Cが第3処理領域52C上に停止され、第4部品保持機構45Dが第4処理領域52D上に停止され、第5部品保持機構45Eが第5処理領域52E上に停止され、第6部品保持機構45Fが第6処理領域52F上に停止され、第7部品保持機構45Gが第7処理領域52G上に停止され、第8部品保持機構45Hが部品搬出領域53上に停止され、第9部品保持機構45Iが準備領域51P上に停止され、第10部品保持機構45Jが部品供給領域51上に停止され、第11部品保持機構45Kが第1前処理領域52Sa上に停止され、第12部品保持機構45Lが第2前処理領域52Sb上に停止される。 FIG. 6(A) shows a state in which the turret-type rotary transfer device 10 is temporarily stopped, the first component holding mechanism 45A is stopped above the first processing area 52A, and the second component holding mechanism 45B is in the second position. The third component holding mechanism 45C is stopped on the third processing region 52C, the fourth component holding mechanism 45D is stopped on the fourth processing region 52D, and the fifth component holding mechanism 45E is stopped on the fourth processing region 52D. The sixth component holding mechanism 45F is stopped on the sixth processing region 52F, the seventh component holding mechanism 45G is stopped on the seventh processing region 52G, and the eighth component holding mechanism 45H is stopped on the seventh processing region 52G. The ninth component holding mechanism 45I is stopped on the preparation region 51P, the tenth component holding mechanism 45J is stopped on the component supply region 51, and the eleventh component holding mechanism 45K is stopped on the first front side. It stops on the processing area 52Sa, and the twelfth component holding mechanism 45L stops on the second preprocessing area 52Sb.

この状態で、昇降付勢機構40A~40Lが稼働し、部品保持機構45を付勢することで、部品を上下動させながら、その目的に応じた各種動作が同時並行で実行される。 In this state, the elevation urging mechanisms 40A to 40L operate to urge the component holding mechanism 45, thereby moving the component up and down while simultaneously performing various operations according to the purpose.

図6(A)の状態において、各領域での動作(処理)が完了すると、ターレット型回転搬送装置10が例えば反時計回りに30度回転しながら部品を搬送し、図6(B)に示す状態で停止する。この回転角度は、部品保持機構45A~45Lの配置角度の周方向位相差(30度)と一致する。 In the state of FIG. 6(A), when the operation (processing) in each region is completed, the turret-type rotary transfer device 10 rotates, for example, 30 degrees counterclockwise to transfer the component, as shown in FIG. 6(B). stop in the state This rotation angle matches the circumferential phase difference (30 degrees) of the arrangement angles of the component holding mechanisms 45A to 45L.

その結果、第1部品保持機構45Aが第2処理領域52B上に停止され、第2部品保持機構45Bが第3処理領域52C上に停止され、第3部品保持機構45Cが第4処理領域52D上に停止され、第4部品保持機構45Dが第5処理領域52E上に停止され、第5部品保持機構45Eが第6処理領域52F上に停止され、第6部品保持機構45Fが第7処理領域52G上に停止され、第7部品保持機構45Gが部品搬出領域53上に停止され、第8部品保持機構45Hが準備領域51P上に停止され、第9部品保持機構45Iが部品供給領域51上に停止され、第10部品保持機構45Jが第1前処理領域52Sa上に停止され、第11部品保持機構45Kが第2前処理領域52Sbに停止され、第12部品保持機構45Lが第1処理領域52A上に停止される。 As a result, the first component holding mechanism 45A is stopped on the second processing region 52B, the second component holding mechanism 45B is stopped on the third processing region 52C, and the third component holding mechanism 45C is stopped on the fourth processing region 52D. , the fourth component holding mechanism 45D is stopped on the fifth processing area 52E, the fifth component holding mechanism 45E is stopped on the sixth processing area 52F, and the sixth component holding mechanism 45F is stopped on the seventh processing area 52G. The seventh component holding mechanism 45G is stopped above the component delivery area 53, the eighth component holding mechanism 45H is stopped above the preparation area 51P, and the ninth component holding mechanism 45I is stopped above the component supply area 51. , the tenth component holding mechanism 45J is stopped on the first preprocessing area 52Sa, the eleventh component holding mechanism 45K is stopped on the second preprocessing area 52Sb, and the twelfth component holding mechanism 45L is stopped on the first processing area 52A. will be stopped.

そして同様にこれらの各領域で、昇降付勢機構40A~40Iが稼働することで、部品を上下動させながら、その目的に応じた各種動作が同時並行で実行される。 Similarly, in each of these areas, the elevation urging mechanisms 40A to 40I are operated to move the parts up and down while simultaneously executing various operations according to the purpose.

図6(B)の状態において、各領域での動作(処理)が完了したら、ターレット型回転搬送装置10が更に反時計回りに30度回転しながら部品を搬送し、図6(C)に示す状態で停止する。 In the state shown in FIG. 6(B), when the operation (processing) in each area is completed, the turret-type rotary transfer device 10 further rotates 30 degrees counterclockwise to transfer the component, as shown in FIG. 6(C). stop in the state

上記図6(A)~図6(C)の動作が繰り返されることで、部品供給領域51から部品が順次供給され、全ての部品は、各処理領域52を順番に移動しながら所望の処理が施されて、部品搬出領域53から搬出される。 By repeating the operations of FIGS. 6A to 6C, the parts are sequentially supplied from the component supply area 51, and all the parts are moved through the respective processing areas 52 in order to be processed as desired. After being processed, the parts are unloaded from the component unloading area 53 .

次に図7を参照して部品保持機構45による部品の回収動作及び部品の解放動作を説明する。同図は、第1処理領域52A~第3処理領域52Cのそれぞれにおける、第1載置プレート50A~第3載置プレート50Cと、それらに配置される部品172A~172C、173A~173Cおよび、第1部品保持具145A~第3部品保持具145Cの概要を示す側面図である。 Next, referring to FIG. 7, the component collecting operation and the component releasing operation by the component holding mechanism 45 will be described. The figure shows the first mounting plate 50A to the third mounting plate 50C, the components 172A to 172C and 173A to 173C arranged thereon, and the third mounting plate 50A to the third mounting plate 50C in the first processing region 52A to the third processing region 52C, respectively. FIG. 10 is a side view showing an outline of one-part holder 145A to third-part holder 145C;

同図において、ハッチングを付した部品172A~172Cはそれぞれ、(例えば測定済みで)移動(搬送)対象の部品であり、白抜きで示す部品173A~173Cは(例えば、測定は完了しているが)移動(搬送)対象外の部品であり、部品171は図示の載置プレート50に新たに配置される部品である。また、同図に示す期間、第1載置プレート50A~第3載置プレート50Cは部品の入出のためにその回転を停止している。 In the figure, hatched parts 172A to 172C are parts to be moved (conveyed) (for example, already measured), and white parts 173A to 173C (for example, measurement has been completed). ) is a component that is not to be moved (conveyed), and a component 171 is a component that is newly placed on the illustrated mounting plate 50 . Further, during the period shown in the figure, the rotation of the first mounting plate 50A to the third mounting plate 50C is stopped for loading and unloading of components.

図7(A)は、第1部品保持機構45Aの第1部品保持具145Aが、第1載置プレート50A上の入出領域57において搬送対象の部品172Aに当接した状態と、第2部品保持機構45Bの第2部品保持具145Bが、第2載置プレート50B上の入出領域57において搬送対象の部品172Bに当接した状態と、第3部品保持機構45Cの第3部品保持具145Cが、第3載置プレート50C上の入出領域57において搬送対象の部品172Cに当接した状態を示す。これらは同じタイミングで行なわれる。 FIG. 7A shows a state in which the first component holder 145A of the first component holding mechanism 45A is in contact with a component 172A to be conveyed in the loading/unloading area 57 on the first mounting plate 50A, and a second component holding mechanism 45A. A state in which the second component holder 145B of the mechanism 45B is in contact with the transport target component 172B in the entry/exit area 57 on the second mounting plate 50B, and a state in which the third component holder 145C of the third component holding mechanism 45C It shows a state in which the loading/unloading area 57 on the third mounting plate 50C is in contact with the component 172C to be transported. These are done at the same timing.

その後同図(B)に示すように、第1部品保持具145Aが部品172Aを吸着保持して上昇すると、第1載置プレート50Aの入出領域57において載置部100Aが空孔となる。 After that, as shown in FIG. 4B, when the first component holder 145A lifts up while sucking and holding the component 172A, the mounting portion 100A becomes a void in the entrance/exit area 57 of the first mounting plate 50A.

この第1部品保持具145Aの動作と同期して第2部品保持具145Bが部品172Bを吸着保持して上昇すると、第2載置プレート50Bの入出領域57において載置部100Bが空孔となり、第1部品保持具145Aの動作と同期して第3部品保持具145Cが部品172Cを吸着保持して上昇すると、第3載置プレート50Cの入出領域57において載置部100Cが空孔となる。 When the second component holder 145B rises by sucking and holding the component 172B in synchronism with the operation of the first component holder 145A, the mounting portion 100B becomes a void in the entry/exit area 57 of the second mounting plate 50B. When the third component holder 145C sucks and holds the component 172C and rises in synchronism with the operation of the first component holder 145A, the mounting portion 100C becomes a void in the entrance/exit area 57 of the third mounting plate 50C.

同図(C)は、ターレット型回転搬送装置10が回転(例えば、30度の回転)した状態を示す。 第1載置プレート50A上には、第12部品保持機構45Lが移動してくる。この場合、第12部品保持具145Lは、部品供給領域51(図6参照)から新たな部品171を吸着保持して第1載置プレート50Aの入出領域57まで移動する。第1載置プレート50Aの載置部100Aは、予め、部品172Aが取り出されているので空孔となっている。 FIG. 1C shows a state in which the turret-type rotary transfer device 10 is rotated (for example, rotated by 30 degrees). The twelfth component holding mechanism 45L moves onto the first mounting plate 50A. In this case, the twelfth component holder 145L sucks and holds a new component 171 from the component supply area 51 (see FIG. 6) and moves to the loading/unloading area 57 of the first mounting plate 50A. The mounting portion 100A of the first mounting plate 50A is empty because the component 172A is taken out in advance.

第2載置プレート50B上には第1部品保持機構45Aが移動してくる。この場合、第1部品保持具145Aは、部品172Aを吸着保持して第2載置プレート50Bの入出領域57に移動する。第2載置プレート50Bの載置部100Bは、予め、部品172Bが取り出されているので、空孔となっている。 The first component holding mechanism 45A moves onto the second mounting plate 50B. In this case, the first component holder 145A sucks and holds the component 172A and moves to the loading/unloading area 57 of the second mounting plate 50B. The mounting portion 100B of the second mounting plate 50B is empty because the component 172B has been taken out in advance.

第3載置プレート50Cの入出領域57には、部品172Bを吸着保持した第2部品保持具145Bが移動する。第3載置プレート50Cの載置部100Cは、予め、部品172Cが取り出されているので空孔となっている。 The second component holder 145B, which sucks and holds the component 172B, moves to the entry/exit area 57 of the third mounting plate 50C. The mounting portion 100C of the third mounting plate 50C is empty because the component 172C is taken out in advance.

その後、図(D)に示すように、各部品保持機構45は、空孔となっている載置部100に部品を解放する。具体的に、第12部品保持機構45Lの第12部品保持具145Lが、第1載置プレート50A上の入出領域57において新たな部品171を載置部100Aに解放し、第1部品保持機構45Aの第1部品保持具145Aが、第2載置プレート50B上の入出領域57において部品172Aを載置部100Bに解放し、第2部品保持機構45Bの第2部品保持具145Bが、第3載置プレート50C上の入出領域57において部品172Bを載置部100Cに解放する。 After that, as shown in FIG. (D), each component holding mechanism 45 releases the component to the mounting section 100 which is a hole. Specifically, the twelfth component holder 145L of the twelfth component holding mechanism 45L releases the new component 171 onto the placement section 100A in the entry/exit area 57 on the first placement plate 50A, and the first component holding mechanism 45A The first component holder 145A of the second component holding mechanism 45B releases the component 172A to the placement section 100B in the loading/unloading area 57 on the second placement plate 50B, and the second component holder 145B of the second component holding mechanism 45B moves to the third placement. The component 172B is released onto the mounting portion 100C at the entry/exit area 57 on the mounting plate 50C.

なお、部品172(172A,172B等)を吸着保持(回収)する場合は、部品保持具145の下端と部品172を密着させる。一方、部品172(172A,172B等)を解放する場合は、部品保持具145の下端と部品172の間に静電気を発生させないことが重要であり、部品保持具145の下端によって部品172を載置部100に押し付けないことが、静電気の抑制に効果的である。 When sucking and holding (recovering) the component 172 (172A, 172B, etc.), the lower end of the component holder 145 and the component 172 are brought into close contact with each other. On the other hand, when releasing the component 172 (172A, 172B, etc.), it is important not to generate static electricity between the lower end of the component holder 145 and the component 172, and the component 172 is placed by the lower end of the component holder 145. Not pressing against the portion 100 is effective in suppressing static electricity.

つまり、昇降付勢機構40の下降ストロークを制御することで、載置部100の部品を吸着(回収)する場合と、載置部100に部品を解放する場合とで、部品保持具145の下端部(保持端)の下死点位置を異ならせるように制御している。 In other words, by controlling the downward stroke of the elevation urging mechanism 40, the lower end of the component holder 145 is adjusted when the component on the mounting section 100 is sucked (recovered) and when the component is released onto the mounting section 100. The bottom dead center position of the part (holding end) is controlled to be different.

図7(D)の後、第1載置プレート50A,第2載置プレート50Bおよび第3載置プレート50Cは回転を開始(再開)する。第1載置プレート50Aの載置部100Aに収容された新たな部品171は、第1載置プレート50Aの回転に伴い、その温度が第1載置プレート50Aの設定温度(例えば25℃)に制御される。 After FIG. 7D, the first mounting plate 50A, the second mounting plate 50B, and the third mounting plate 50C start (restart) rotating. As the first mounting plate 50A rotates, the temperature of the new component 171 accommodated in the mounting portion 100A of the first mounting plate 50A reaches the set temperature (for example, 25° C.) of the first mounting plate 50A. controlled.

同様に、第2載置プレート50Bの載置部100Bに収容された部品172Aは、第2載置プレート50Bの回転に伴い、その温度が第2載置プレート50Bの設定温度(例えば40℃)に制御される。 Similarly, as the second mounting plate 50B rotates, the temperature of the components 172A accommodated in the mounting portion 100B of the second mounting plate 50B changes to the set temperature of the second mounting plate 50B (eg, 40° C.). controlled by

同様に、第3載置プレート50Cの載置部100Cに収容された部品172Bは、第3載置プレート50Cの回転に伴い、その温度が第3載置プレート50Cの設定温度(例えば65℃)に制御される。 Similarly, as the third mounting plate 50C rotates, the component 172B accommodated in the mounting portion 100C of the third mounting plate 50C changes its temperature from the set temperature of the third mounting plate 50C (for example, 65° C.). controlled by

このように、本実施形態の部品保持機構45は、載置プレート50上への部品の解放と、載置プレート50上からの部品の回収を略同時に行う。なお、特に図示しないが、図7(D)の状態において、第1載置プレート50A,第2載置プレート50Bおよび第3載置プレート50Cの所定角度の回転を完了すると、測定(処理)完了済みの部品が、第12部品保持具145Lが、第1部品保持具145Aが、第2部品保持具145Bの直下に位置決めされ、図7(A)と同様の状態となって、部品の搬出が繰り返される。 In this manner, the component holding mechanism 45 of the present embodiment releases the component onto the mounting plate 50 and recovers the component from the mounting plate 50 substantially at the same time. Although not particularly shown, in the state of FIG. 7(D), when the first mounting plate 50A, the second mounting plate 50B, and the third mounting plate 50C are rotated by a predetermined angle, the measurement (processing) is completed. The finished parts, the twelfth part holder 145L, the first part holder 145A, and the second part holder 145B are positioned directly below the second part holder 145B. Repeated.

従来の部品搬送処理装置では、ターレット型回転搬送装置によって搬送中の部品を一時停止させ、その姿勢状態まま、各部品に直接的に処理(所定行為)をおこなっていた。そのため、ターレット型回転搬送装置10による搬送速度が、各処理領域の処理速度(所定行為の速度)に律速されていた。一方、本部品搬送処理装置1によれば、ターレット型回転搬送装置10の部品保持機構45から受け取った部品を、処理装置70が更に独立して移送して、所定の行為(出力特性の測定)を行う。結果、処理装置70における処理時間と、ターレット型回転搬送装置10の搬送速度を独立して設定できる。具体的には、載置部100に置かれた部品について温度特性の評価を行う場合、部品の熱容量のために所定の温度で安定するまで時間がかかるが、処理装置70内の入出領域57から測定領域(行為部)54までの移動経路を十分に確保することで、十分な時間によって各部品の温度の安定を図ることができる。それにも拘わらず、部品搬送処理装置1全体の搬送速度の低下は招かないで済む。更に、従来の部品搬送処理装置では、部品を搬送する搬送キャリアを、複数の温度調整領域の間で移動させていたので、全体の熱容量が大きく、温度が安定するために時間を要していたが、本実施形態では、予め、目標温度に温度制御されている載置プレート50に対して、部品を直接載置するので、短い時間(短い経路)で目標温度に到達する。例えば、体積が8cm以下小型部品の場合、特に、1cm以下の小型部品や、27mm以下の小型部品、更には4mm以下の超小型部品の場合、従来の搬送キャリアタイプでは温度到達時間が40秒~60秒必要となるのに対し、本実施形態では、5秒以下(例えば2秒~5秒程度)で部品が目標温度に到達する。 In the conventional parts conveying and processing apparatus, the parts being conveyed are temporarily stopped by the turret-type rotating conveying apparatus, and each part is directly processed (predetermined action) while maintaining its posture. Therefore, the transfer speed of the turret-type rotary transfer device 10 is limited by the processing speed of each processing area (the speed of the predetermined action). On the other hand, according to the component conveying and processing apparatus 1, the processing device 70 further independently transfers the component received from the component holding mechanism 45 of the turret rotary conveying device 10, and performs a predetermined action (measurement of output characteristics). I do. As a result, the processing time in the processing device 70 and the transfer speed of the turret rotary transfer device 10 can be set independently. Specifically, when evaluating the temperature characteristics of a component placed on the placement unit 100, it takes time for the component to stabilize at a predetermined temperature due to the heat capacity of the component. By securing a sufficient moving path to the measurement area (action part) 54, the temperature of each part can be stabilized in a sufficient time. In spite of this, the reduction in the transport speed of the entire parts transport processing apparatus 1 can be avoided. Furthermore, in the conventional component transport processing apparatus, the transport carrier that transports the components is moved between a plurality of temperature adjustment areas, so the overall heat capacity is large, and it takes time to stabilize the temperature. However, in this embodiment, the component is directly mounted on the mounting plate 50 which is temperature-controlled to the target temperature in advance, so that the target temperature is reached in a short time (short path). For example, in the case of small parts with a volume of 8 cm 3 or less, especially in the case of small parts of 1 cm 3 or less, small parts of 27 mm 3 or less, and even ultra-small parts of 4 mm 3 or less, the conventional transfer carrier type has a temperature arrival time of is required for 40 to 60 seconds, in this embodiment, the part reaches the target temperature in 5 seconds or less (for example, about 2 to 5 seconds).

更に部品搬送処理装置1によれば、処理装置70において部品が入出領域57から測定領域(行為部)54まで移動する間に、部品の温度が所定の温度に達して安定するので、所定の温度における部品の特性評価が可能になり、結果として部品についての正確な温度特性評価が可能になる。また、本実施形態では、部品を搬送する搬送キャリアを用いないので、載置プレート50と部品の間の熱伝達のロスや誤差が小さい。結果、部品の安定化温度の誤差を小さくでき、測定の信頼度が高まる。従来の部品搬送処理装置の場合、温度調整プレートの上を搬送キャリアが滑りながら移動するので、両者の間に熱伝達ロスが生じたり、摩耗やゴミによって熱伝達トラブルが生じたりする。結果、搬送キャリア上の部品の温度の信頼性が低下しやすい。 Furthermore, according to the component transport processing apparatus 1, the temperature of the component reaches and stabilizes at a predetermined temperature while the component moves from the entry/exit area 57 to the measurement area (action section) 54 in the processing apparatus 70. allows characterization of the part at , resulting in accurate temperature characterization of the part. In addition, in this embodiment, since a transport carrier for transporting components is not used, loss and error in heat transfer between the mounting plate 50 and the components are small. As a result, the error in the stabilization temperature of the component can be reduced, increasing the reliability of the measurement. In the case of the conventional parts conveying and processing apparatus, the conveying carrier moves while sliding on the temperature control plate, so heat transfer loss occurs between the two, and heat transfer trouble occurs due to wear and dust. As a result, the reliability of the temperature of the components on the transport carrier tends to decrease.

<マスタ部品>
図8を参照して、本実施形態の部品搬送処理装置1における部品の測定について更に説明する。図8は、載置プレート50の平面図である。
<Master part>
With reference to FIG. 8, the measurement of components in the component transport processing apparatus 1 of this embodiment will be further described. 8 is a plan view of the mounting plate 50. FIG.

既に述べているように、処理装置70において処理される部品について温度特性の評価を行う場合、所定の温度に設定された熱移送部材130の熱(温熱・冷熱)が、載置プレート50を介して載置部100(1001~1032)に載置された部品に伝達される。これにより部品は、載置プレート50の回転移動中に当該所定の温度に制御(昇温、冷却)される。そして本実施形態ではいずれの載置プレート50においても(いずれの設定温度であっても)入出領域57から測定領域54までの間に当該設定温度付近に安定するように構成されている(載置プレート50のサイズや、回転速度(移動時間)などが制御されている)。 As already described, when evaluating the temperature characteristics of a component processed in the processing apparatus 70, the heat (heat/cold) of the heat transfer member 130 set at a predetermined temperature is transferred through the mounting plate 50. are transmitted to the components placed on the placement section 100 (1001 to 1032). As a result, the component is controlled (heated and cooled) to the predetermined temperature while the mounting plate 50 is rotating. In the present embodiment, any mounting plate 50 (regardless of the set temperature) is configured to be stabilized around the set temperature between the entry/exit area 57 and the measurement area 54 (mounting temperature). The size of the plate 50, rotation speed (moving time), etc. are controlled).

しかしながら、載置プレート50自体も、肉厚等の要因で全体の温度が均一となる訳ではない。また、載置プレート50と熱移送部材130の間における熱接触も完全に均一とは限らない。更に、ペルチェ素子となる熱移送部材130自体の全体の温度が均一となる訳ではない。 However, the entire temperature of the mounting plate 50 itself is not uniform due to factors such as thickness. Also, the thermal contact between the mounting plate 50 and the heat transfer member 130 is not always completely uniform. Furthermore, the temperature of the entire heat transfer member 130 itself, which is a Peltier element, is not uniform.

したがって、部品を所定の温度にするべく温度制御装置137(図4参照)によって制御しようとしても、載置プレート50上の複数の載置部100の間で、実際に得られる温度は互いにばらつく。例えば、図8(A)に示す第1載置部1001と、第7載置部1007と、第16載置部1016では、載置プレート50を仮に80℃に制御しようとしても、それぞれの載置部が測定領域54に移動した場合に、いずれの載置部も常に正確に80℃になっているとは限らない。 Therefore, even if the temperature control device 137 (see FIG. 4) is used to control the component to a predetermined temperature, the temperatures actually obtained among the plurality of mounting portions 100 on the mounting plate 50 vary from one another. For example, in the first mounting section 1001, the seventh mounting section 1007, and the sixteenth mounting section 1016 shown in FIG. When the placement section moves to the measurement area 54, it is not always the case that all the placement sections are exactly at 80°C.

一方、部品の出力特性は、必ずしも厳密に80℃の場合を測定する必要はなく、部品の実際の温度にばらつきがある場合には、そのばらついた状態の実際の温度を実測値とし、当該実測値における出力特性を把握すればよい。つまり、部品の実温度と部品の実出力を同時期に正確に測定できれば、実質的には、その部品の「温度(対比情報)」と「出力」の相関関係(温度特性)を検査できることになる。なお、ここでは「温度」を対比情報として例示したが、本発明はこれに限定されず、例えば、湿度、照度、圧力、音量等、様々な外部環境に連動する情報を対比情報に選定できる。 On the other hand, it is not necessary to strictly measure the output characteristics of a component at 80°C. It is only necessary to grasp the output characteristics at the value. In other words, if the actual temperature of a part and the actual output of the part can be measured accurately at the same time, it is possible to inspect the correlation (temperature characteristics) between the "temperature (comparison information)" and "output" of the part. Become. Here, "temperature" is exemplified as comparison information, but the present invention is not limited to this, and information linked to various external environments such as humidity, illuminance, pressure, sound volume, etc. can be selected as comparison information.

そこで、本実施形態では、複数の載置部100の一部に、処理装置70における処理をリアルタイムに行なうための基準部品(以下、これを「マスタ部品250」という。)を配置する。 Therefore, in the present embodiment, a reference component (hereinafter referred to as a “master component 250”) for performing processing in the processing device 70 in real time is arranged on a part of the plurality of placement sections 100 .

マスタ部品250は、これに隣接する搭載部100に収容される実測対象の部品170の測定で必要となる対比情報(例えば「温度情報」)を、自身の電気的な出力を利用して、測定プローブ110から、測定装置105に提供する部材となる。例えばマスタ部品250は、実装対象の部品170と同一種類の部品であって、予め、その出力の温度依存特性(出力と対比情報の相関情報)が高精度に検査されて、その相関情報を把握済みとなる部品とすることが好ましい。このマスタ部品250を用いれば、把握済みの相関情報を利用して、測定装置105が、その出力値から温度情報(対比情報)を逆算出できる。具体的には例えば、測定装置105が、部品170の抵抗値や周波数を、その電気的な出力を利用して測定する場合、測定装置105は、マスタ部品250を利用して抵抗値や周波数を測定する。測定装置105は、マスタ部品250の抵抗値や周波数と、相関情報を利用して、実温度を逆算出する。この実温度によって、隣接する実測対象の部品170の実温度を高精度で予測する。この場合、マスタ部品250は、例えば実測対象の部品170と同種の部品(同じ構成の部品)であり、特に、同じロットで生産された部品であると望ましい。 The master component 250 uses its own electrical output to measure comparison information (for example, “temperature information”) necessary for measurement of the component 170 to be measured that is housed in the mounting section 100 adjacent thereto. From the probe 110 , it becomes the member that provides the measuring device 105 . For example, the master component 250 is a component of the same type as the component 170 to be mounted, and the temperature dependence characteristics of its output (correlation information between output and comparison information) are inspected in advance with high accuracy, and the correlation information is grasped. It is preferable to use a part that is finished. By using this master component 250, the measurement device 105 can inversely calculate the temperature information (comparison information) from the output value using the grasped correlation information. Specifically, for example, when the measuring device 105 measures the resistance value and frequency of the component 170 using its electrical output, the measuring device 105 uses the master component 250 to measure the resistance value and frequency. Measure. The measuring device 105 uses the resistance value and frequency of the master component 250 and the correlation information to inversely calculate the actual temperature. Based on this actual temperature, the actual temperature of the adjacent component 170 to be actually measured is predicted with high accuracy. In this case, the master part 250 is, for example, a part of the same type (a part having the same configuration) as the part 170 to be actually measured, and particularly preferably a part produced in the same lot.

一方、マスタ部品250の出力態様は、実測対象の部品170の出力態様と異なる場合も含む。処理装置70の測定装置105が、載置プレート50におけるマスタ部品250の配置情報を予め保持することで、測定プローブ110は、マスタ部品250の専用出力を利用して、部品170の測定で必要となる対比情報を取得できる。例えば、対比情報が「温度情報」となる場合において、マスタ部品250を、自分自身の実温度をデジタル情報として端子から出力可能な温度測定用の専用部品であることが好ましい。このマスタ部品250の出力情報を、測定プローブ110を介して測定装置105で読み取ることで、マスタ部品250の温度情報(対比情報)を取得し、この温度情報から、部品170の実温度を推定可能となる。例えば、対比情報が温度情報となる場合には、サーミスタ素子などが利用できる。 On the other hand, the output mode of the master component 250 may differ from the output mode of the component 170 to be actually measured. Since the measurement device 105 of the processing device 70 holds the arrangement information of the master component 250 on the mounting plate 50 in advance, the measurement probe 110 uses the dedicated output of the master component 250 to measure the component 170. contrast information can be obtained. For example, when the comparison information is "temperature information", it is preferable that the master component 250 be a dedicated component for temperature measurement that can output its own actual temperature as digital information from a terminal. By reading the output information of this master component 250 with the measuring device 105 via the measuring probe 110, the temperature information (comparison information) of the master component 250 can be obtained, and the actual temperature of the component 170 can be estimated from this temperature information. becomes. For example, when the comparison information is temperature information, a thermistor element or the like can be used.

なお、ここでは、測定プローブ110によって、マスタ部品250と測定対象の部品170の双方を測定する場合を例示するが、マスタ部品250を測定する為の専用プローブを設けるようにし、マスタ部品250の計測と部品170計測を独立させることもできる。 Here, the case where both the master component 250 and the component 170 to be measured are measured by the measurement probe 110 is exemplified. and part 170 measurement can be made independent.

マスタ部品250は、実測対象の実際の部品170の近傍、好適には近接位置、より好適には実測対象の部品170が収容される載置部100に隣接した載置部100に配置すると望ましい。この結果、マスタ部品250から得られる対比情報(例えば温度情報)を、そのまま、実際の部品170の対比情報(実温度)として採用できる。つまり、各マスタ部品250には、推測対応エリア250Aが設定されており、この推測対応エリア250A内に、このマスタ部品250の対比情報を適用する実際の部品170を配置する。推測対応エリア250Aは、載置プレート50において、周方向に等間隔で配置されることになる。 The master component 250 is desirably placed in the vicinity of the actual component 170 to be measured, preferably in a position close to it, more preferably in the placement section 100 adjacent to the placement section 100 in which the component 170 to be measured is accommodated. As a result, the comparison information (for example, temperature information) obtained from the master component 250 can be used as the comparison information (actual temperature) of the actual component 170 as it is. In other words, each master part 250 has a presumed corresponding area 250A, and the actual part 170 to which the comparison information of this master part 250 is applied is arranged in this presumed corresponding area 250A. The estimated corresponding areas 250A are arranged in the mounting plate 50 at regular intervals in the circumferential direction.

同図(A)では、1個の載置部100を開けてマスタ部品250を配置する場合を示す。結果、マスタ部品250と、その対比情報を適用する実際の部品170が常に隣り合うので、対比情報の予測精度が高い。つまり、マスタ部品250が載置される推測対応エリア250Aは、このマスタ部品250に対して周方向に隣り合うように、一つの実測対象となる部品170が配置される構造となる。 FIG. 4A shows the case where one placement section 100 is opened and the master component 250 is placed. As a result, since the master part 250 and the actual part 170 to which the comparison information is applied are always adjacent to each other, the prediction accuracy of the comparison information is high. In other words, the estimation corresponding area 250A on which the master component 250 is placed has a structure in which one component 170 to be actually measured is arranged so as to be adjacent to this master component 250 in the circumferential direction.

この場合、例えば、第29載置部1029が測定領域54に位置した場合にマスタ部品250の温度を測定し、その次の第30載置部1030が測定領域54に位置した場合に測定対象の部品170の出力特性を測定する。そして直前のマスタ部品250から得られる対比情報(温度情報)を参照することで、この部品170の実温度と推測し、温度出力特性を取得する。この際、測定プローブ110の数を増やすことで、推測対応エリア250Aにおいて、隣接するマスタ部品250と実際の部品170の出力を同時測定することも好ましい。このようにすると、処理能力の低下も招かないで済む。 In this case, for example, the temperature of the master component 250 is measured when the twenty-ninth receiver 1029 is positioned in the measurement region 54, and the temperature of the measurement target is measured when the next thirtieth receiver 1030 is positioned in the measurement region . The output characteristics of component 170 are measured. Then, by referring to the comparison information (temperature information) obtained from the previous master component 250, the actual temperature of this component 170 is estimated, and the temperature output characteristic is acquired. At this time, by increasing the number of measurement probes 110, it is also preferable to simultaneously measure the output of adjacent master component 250 and actual component 170 in inference corresponding area 250A. By doing so, it is possible to avoid lowering the processing capacity.

また、同図(B)では、3個の載置部100を開けてマスタ部品250を配置する場合を示す。ここでは、マスタ部品250の上流側に隣接する1個の載置部と、下流側に連なる2個の載置部を、推測対応エリア250Aに含めている。 In addition, FIG. 2B shows a case where the master component 250 is arranged with three placement sections 100 opened. Here, one placement section adjacent to the upstream side of the master component 250 and two placement sections connected to the downstream side are included in the estimation corresponding area 250A.

この場合、例えば、第2載置部1002が測定領域54に位置した場合に部品170の出力を測定し、その後、第3載置部1003が測定領域54に位置した場合にマスタ部品250の温度を測定し、その後に続く第4載置部1004及び第5載置部1005の各々が測定領域54に位置した場合に部品170の出力を測定する。そして、マスタ部品250から逆算出される温度情報(対比情報)を、これらの3つの実測対象の部品170の実温度と推測して、温度出力特性を算出する。 In this case, for example, the output of the component 170 is measured when the second receiver 1002 is positioned in the measurement region 54, and then the temperature of the master component 250 is measured when the third receiver 1003 is positioned in the measurement region 54. is measured, and the output of the component 170 is measured when each of the subsequent fourth and fifth receivers 1004 and 1005 is positioned in the measurement region 54 . Then, temperature information (comparison information) calculated inversely from the master component 250 is assumed to be the actual temperatures of these three components 170 to be actually measured, and the temperature output characteristics are calculated.

なお、マスタ部品250は、実測対象の部品170と同様に、処理装置70による処理の都度、載置プレート50の載置部100に配置(搬入・搬出)される(部品保持機構45により出し入れされる部品)であってもよいし、載置プレート50の載置部100に常に配置しておき、搬入・搬出しないことも好ましい。載置部100に常にマスタ部品250を配置しておく場合、誤って搬出しないように、マスタ部品250を機械的に載置部250に固定することも好ましい。 Note that the master component 250 is arranged (carried in and out) on the mounting portion 100 of the mounting plate 50 each time it is processed by the processing device 70 (carried in and out by the component holding mechanism 45), similarly to the component 170 to be actually measured. Alternatively, it is preferable to always place them on the mounting portion 100 of the mounting plate 50 and not to carry them in or out. When the master component 250 is always placed on the mounting section 100, it is also preferable to mechanically fix the master component 250 to the mounting section 250 so as not to carry it out by mistake.

さらに1つの載置プレート50に複数のマスタ部品250を配置する場合、異なる種類(異なる特性を測定する目的の)のマスタ部品であってもよい。例えば1つの載置プレート50に対して、マスタ部品250として抵抗素子とサーミスタ素子を配置してもよい。 Furthermore, when a plurality of master components 250 are arranged on one mounting plate 50, the master components may be of different types (for the purpose of measuring different characteristics). For example, a resistive element and a thermistor element may be arranged as the master component 250 for one mounting plate 50 .

ちなみに、載置プレート50の周方向の温度ばらつきに基づく測定誤差を解消するために、データテーブル等を用いることも考えられる。具体的には例えば、各載置部について、目標温度と、載置プレート50の温度を全体的に安定させてから各載置部の温度を測定した値(実測値)との関係(温度差)を示すテーブルなどである。そしてこのデータテーブルを制御装置25等に保持させて演算により補正することができる。 Incidentally, in order to eliminate measurement errors due to temperature variations in the circumferential direction of the mounting plate 50, a data table or the like may be used. Specifically, for example, for each mounting portion, the relationship (temperature difference ). This data table can be stored in the control device 25 or the like and corrected by calculation.

しかしながら、この場合、載置プレート50ごとにデータテーブルの取得が必要となり、また、載置プレート50を交換した場合には、対象のデータテーブルも変更するなど処理が複雑となる。さらに、経時変化・経年変化によって載置プレート50(または熱移送部材130)の特性が変化した場合などには、データテーブルを再取得する必要がある。 However, in this case, it is necessary to obtain a data table for each mounting plate 50, and when the mounting plate 50 is replaced, the processing becomes complicated, such as changing the target data table. Furthermore, when the characteristics of the mounting plate 50 (or the heat transfer member 130) change due to secular change, it is necessary to acquire the data table again.

そこで本実施形態によれば、実測対象の部品が配置される載置部100の近傍の載置部100(例えば、隣接する載置部100)を利用して、マスタ部品250によって、実測対象の部品170と殆ど同じ時間で、殆ど同じ場所の温度状況を取得できる。つまり、予め、載置プレート50上で周回させることで温度が安定しているマスタ部品250と比較して、実測対象の部品170は、入出領域57から測定領域54に移動するまでに、マスタ部品250の温度と略同等になって安定化することに鑑み、マスタ部品250の温度を測定してこれを実測対象の部品170の温度と推定することとした。 Therefore, according to the present embodiment, by using the placement section 100 near the placement section 100 (for example, the adjacent placement section 100) where the component to be measured is arranged, the master component 250 is used to measure the measurement target. Temperature conditions can be obtained at almost the same location at about the same time as the component 170 . That is, compared with the master component 250 whose temperature is stabilized by being circulated on the mounting plate 50 in advance, the component 170 to be actually measured is moved from the entry/exit area 57 to the measurement area 54 . In view of the fact that the temperature of the master component 250 becomes almost equal to the temperature of the component 250 and is stabilized, the temperature of the master component 250 is measured and estimated as the temperature of the component 170 to be actually measured.

つまり、本実施形態によれば、専用部品あるいは、実測対象の部品と同種の部品となるマスタ部品250を、載置部100に配置するだけでよいので、例えば温度補正あるいは温度予測のためのデータテーブルやそれを用いた演算を行なって、実測対象の部品の温度を予測する方法と比較して、簡素な構成でありながらリアルタイム且つ高精度に実測対象の部品処理で必要な対比情報を取得することができる。具体的には、出力の温度依存特性の測定において、実測対象の部品の温度をリアルタイムで高精度に予測することができる。 In other words, according to the present embodiment, it is only necessary to place the dedicated part or the master part 250, which is a part of the same type as the part to be actually measured, on the mounting part 100. Therefore, for example, data for temperature correction or temperature prediction can be obtained. Compared to the method of estimating the temperature of the part to be measured by using a table and calculations using it, it has a simple configuration, but acquires the comparison information necessary for processing the part to be measured in real time and with high accuracy. be able to. Specifically, in the measurement of the temperature dependent characteristics of the output, the temperature of the part to be measured can be predicted in real time with high accuracy.

なお、図8では、推測対応エリア250Aにおいて、マスタ部品250と実測対象の部品170が周方向に並ぶ場合を例示したが、本発明はこれに限定されず、例えば図9(A)に示すように、周方向に二列(内側列と外側列)となる載置部100を用意しておき、一方の列(ここでは外側列)にマスタ部品250を配置し、他方の列(ここでは内側列)に実測対象の部品170を配置してもよい。つまり、各推測対応エリア250Aにおいて、マスタ部品250と実測対象の部品170が半径方向に隣り合うこともできる。この場合は、マスタ部品250については、搬入・搬出を行わないことが好ましい。マスタ部品250を、載置プレート50に固定することもできる。 Although FIG. 8 illustrates the case where the master component 250 and the component 170 to be actually measured are arranged in the circumferential direction in the estimation corresponding area 250A, the present invention is not limited to this. 2, two rows (an inner row and an outer row) of the mounting portions 100 are prepared in the circumferential direction, and the master components 250 are arranged in one row (here, the outer row) and the other row (here, the inner row). column) may be arranged with the parts 170 to be measured. In other words, in each estimated corresponding area 250A, the master component 250 and the component 170 to be actually measured can be adjacent to each other in the radial direction. In this case, it is preferable not to carry in/out the master component 250 . Master component 250 can also be fixed to mounting plate 50 .

また、本実施形態では、実測対象の部品が目標温度に到達した後、単一の測定領域54において、出力測定を行う場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。例えば図9(B)に示すように、目標温度に到達した後の範囲において、周方向に複数の測定領域54A、54B、54Cを設けるようにし、各測定領域54A、54B、54Cにおいて、同時タイミングで、異なる目的の出力測定を行うこともできる。部品170の測定項目が多い場合に有効である。なお、測定項目が多い場合に、単一の測定領域54で複数項目をまとめて測定しようとすると、測定時間が長くなって処理能力が低下する。図9(B)の各測定領域54A、54B、54Cに、図3で説明する測定部95を独立して配置することも可能である。一方で、単一の測定部95を、複数の測定領域54A、54B、54Cに跨るように配置して、各測定領域54A、54B、54Cに対応する測定プローブを、共通の昇降機構で上下動させることも好ましい。 Further, in the present embodiment, the output measurement is performed in the single measurement area 54 after the component to be actually measured reaches the target temperature, but the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 9B, a plurality of measurement regions 54A, 54B, and 54C are provided in the circumferential direction in the range after reaching the target temperature, and simultaneous timing can also be used to measure output for different purposes. This is effective when the component 170 has many measurement items. When there are many measurement items, if a plurality of items are to be measured in a single measurement area 54, the measurement time will be long and the processing capacity will be reduced. It is also possible to independently arrange the measurement units 95 described in FIG. On the other hand, a single measuring unit 95 is arranged across a plurality of measurement areas 54A, 54B, 54C, and measurement probes corresponding to each measurement area 54A, 54B, 54C are vertically moved by a common lifting mechanism. It is also preferable to let

更に、この各測定領域54A、54B、54Cにおいて、同一目的(同一項目)の測定を行うことも可能である。即ち、これらを統合した測定領域54Xに示すように、周方向に複数に並ぶ部品170に対して、同一目的の測定を同時に行うようにすれば、処理能力を大幅に向上させることができる。ここでは、測定領域54Xにおいて3個の部品170の測定をまとめて行う場合を例示しているので、入出領域57における部品170の搬入・搬出は、3個連続で実行すればよい。 Furthermore, it is also possible to perform measurements for the same purpose (same items) in each of the measurement areas 54A, 54B, and 54C. In other words, as shown in a measurement area 54X where these are integrated, if a plurality of components 170 arranged in the circumferential direction are simultaneously measured for the same purpose, the throughput can be greatly improved. Here, the case where three components 170 are collectively measured in the measurement area 54X is exemplified.

<温度スロープ検査>
図10は、本発明の他の実施形態の一例を示す図であり、同図(A)は1つの載置プレート50の上面図であり、同図(B)は同図(A)の測定結果の一例を図示するグラフである。
<Temperature Slope Inspection>
10A and 10B are diagrams showing an example of another embodiment of the present invention, in which FIG. 10A is a top view of one mounting plate 50, and FIG. 10 is a graph illustrating an example of results;

これまでの実施形態では、1つの処理装置70(載置プレート50)において、1つの測定部95を設ける例を説明したが、これに限らず、例えば、1つの載置プレート50上の複数の載置部100に対応する位置においてそれぞれ部品の出力特性を測定可能な測定部95(測定領域54)を複数設けてもよい。 In the above-described embodiments, an example in which one measuring unit 95 is provided in one processing apparatus 70 (mounting plate 50) has been described. A plurality of measurement units 95 (measurement areas 54 ) capable of measuring the output characteristics of each component may be provided at positions corresponding to the placement unit 100 .

具体的には、同図(A)に示すように、1つの載置プレート50上に、例えば、第1測定部95A,第2測定部95B,第3測定部95Cおよび第4測定部95Dを配置する。各測定部95A~95Dの構成はいずれも上述の測定部95と同様であり、これ以外の構成も、上記の実施形態と同様である。また載置プレート50の設定温度は、例えば80℃であり、入出領域57から180度の位置にある測定領域(第4測定領域(第4測定部95Dの位置)までの間に、部品170が80℃に安定するものとする。 Specifically, as shown in FIG. 1A, for example, a first measuring section 95A, a second measuring section 95B, a third measuring section 95C, and a fourth measuring section 95D are arranged on one mounting plate 50. Deploy. The configuration of each of the measurement units 95A to 95D is the same as that of the measurement unit 95 described above, and the configuration other than this is also the same as that of the above embodiment. The setting temperature of the mounting plate 50 is, for example, 80° C., and the component 170 is positioned between the entry/exit area 57 and the measurement area (fourth measurement area (position of the fourth measurement unit 95D)) located at a position of 180 degrees. It shall be stable at 80°C.

そして、部品保持機構45によって入出領域57の載置部100に配置された或る部品170が載置プレート50上で移動する間に、同一の部品170について、第1測定部95A,第2測定部95B,第3測定部95Cおよび第4測定部95Dで出力特性を測定する。 Then, while a certain component 170 placed on the mounting section 100 in the loading/unloading area 57 is moved on the mounting plate 50 by the component holding mechanism 45, the same component 170 is measured by the first measuring section 95A and the second measuring section 95A. The output characteristics are measured by the section 95B, the third measurement section 95C and the fourth measurement section 95D.

部品170は、入出領域57の載置部100に配置されて以降、周方向へ移動するに伴い、徐々にその温度が上昇し、この例では上記実施形態と同様に第4測定部95Dに達する以前に十分に設定温度(例えば80℃)に達している。 After the component 170 is placed on the placement section 100 of the loading/unloading area 57, its temperature gradually rises as it moves in the circumferential direction, and in this example reaches the fourth measuring section 95D as in the above embodiment. The set temperature (e.g. 80°C) has been sufficiently reached before.

つまり、例えば、部品170の移動経路途中の所定の位置、例えば、部品170の温度が25℃になると予測されるタイミングt1に第1測定部95Aを配置し、50℃になると予測されるタイミングt2に第2測定部95Bを配置し、65℃になると予測されるタイミングt3に第3測定部95Cを配置し、80℃で安定するタイミングt4に第4測定部95Dを配置する。結果、図10(B)に示すような温度スロープにおいて、載置プレート50に部品170を載せてから4種類の経過時刻t1、t2、t3、t4の出力を測定ができる。この四か所の実温度と出力の相関関係から、この部品170の温度特性を算出できる。 That is, for example, the first measuring section 95A is arranged at a predetermined position in the course of the movement of the component 170, for example, at the timing t1 at which the temperature of the component 170 is expected to reach 25°C, and at the timing t2 at which the temperature of the component 170 is expected to reach 50°C. , the third measuring unit 95C is placed at timing t3 when the temperature is expected to reach 65.degree. C., and the fourth measuring unit 95D is placed at timing t4 when the temperature stabilizes at 80.degree. As a result, in the temperature slope shown in FIG. 10(B), it is possible to measure outputs at four types of elapsed times t1, t2, t3, and t4 after placing the component 170 on the mounting plate 50. FIG. The temperature characteristics of this component 170 can be calculated from the correlation between the actual temperatures at these four locations and the output.

なお、第1~第3測定部95A~95Cでは、温度上昇中の部品の出力を測定するので、測定時の温度にばらつきが生じやすい。従って、図8(A)等で述べたように、隣接してマスタ部品250を配置しておき、第1~第4測定部95A~95Dにおける測定対象の部品170の実温度(対比情報)を、隣接するマスタ部品250の温度でリアルタイムに推定することが好ましい。例えば、図10(B)の鎖線のように、外気温等によって、部品170の温度上昇カーブが変化したとしても、マスタ部品250を配置しておくことで、第1測定部95Aでは18℃の出力特性、第2測定部95Bでは28℃の出力特性、第3測定部95Cでは53℃の出力特性、第4測定部95Dでは80℃の出力特性が得られる。即ち、マスタ部品250によって温度上昇中の部品170の温度を推定することで、どのような外部環境となっても、この部品170の温度特性を算出できる。 Note that since the first to third measuring units 95A to 95C measure the output of the component whose temperature is rising, the temperature at the time of measurement tends to vary. Therefore, as described in FIG. 8A and the like, the master component 250 is arranged adjacently, and the actual temperature (comparative information) of the component 170 to be measured in the first to fourth measuring units 95A to 95D is measured. , the temperature of the adjacent master component 250 is preferably estimated in real time. For example, as shown by the dashed line in FIG. 10B, even if the temperature rise curve of the component 170 changes due to the outside air temperature or the like, by arranging the master component 250, the first measuring unit 95A can be kept at 18° C. Output characteristics, output characteristics at 28° C. for the second measurement unit 95B, output characteristics for 53° C. for the third measurement unit 95C, and output characteristics for 80° C. for the fourth measurement unit 95D are obtained. That is, by estimating the temperature of the component 170 whose temperature is rising by the master component 250, the temperature characteristics of this component 170 can be calculated regardless of the external environment.

図6等に示したような1つの処理領域52に1つの測定部95を備える構成の場合、例えば4種の温度帯域で出力を取得するには、部品保持機構45によって、4つの処理領域52を移動させる必要がある。その4か所のデータを統合して、出力の温度依存特性のデータが得られる。一方、図10に示した構成によれば、複数の測定部95の配置領域を確保する必要はあるものの、1つの処理領域52で複数温度の出力検査が完了し、これらを統合すれば出力の温度依存特性のデータが得られるので、処理の高速化が図れる場合がある。また、温度上昇中又は温度下降中の部品170の出力特性(温度スロープ特性)を検査できるという利点もある。 In the case of a configuration in which one measurement unit 95 is provided in one processing area 52 as shown in FIG. must be moved. The data of the four points are integrated to obtain the data of the temperature dependent characteristics of the output. On the other hand, according to the configuration shown in FIG. 10, although it is necessary to secure an arrangement area for a plurality of measuring units 95, the output inspection of a plurality of temperatures is completed in one processing area 52, and if these are integrated, the output can be increased. Data on temperature-dependent characteristics can be obtained, so processing can be speeded up in some cases. Another advantage is that the output characteristics (temperature slope characteristics) of the component 170 can be inspected while the temperature is rising or falling.

なお、この場合、第1測定部95A~第4測定部95Dは同時に部品の測定が可能であるので、複数の部品170について連続的に温度スロープ検査を行なうことができる。 In this case, since the first measuring section 95A to the fourth measuring section 95D can simultaneously measure the components, the temperature slope inspection can be continuously performed on the plurality of components 170. FIG.

<処理装置のカバー部材>
図11は、本発明の他の実施形態の一例を示す図であり、同図(A)は1つの処理装置70の側面図であり、同図(B)は処理装置70の上面図であり、同図(C)は同図(A)の一部拡大断面図である。
<Cover member of processing equipment>
11A and 11B are diagrams showing an example of another embodiment of the present invention. FIG. 11A is a side view of one processing apparatus 70, and FIG. 11B is a top view of the processing apparatus 70. FIG. 1(C) is a partially enlarged cross-sectional view of FIG. 1(A).

同図(A)、同図(B)に示すように、部品搬送処理装置1は、1つ又は複数の処理装置70を一体的に覆うカバー部材500を備えてもよい。カバー部材500は例えば透明な樹脂材料により構成され、1つの処理領域52において温度安定化装置125と測定部95を、測定部支持台99も含めて一体的に覆うが、部品保持機構45の回転移動と干渉しないように、側面視において略L字状の箱体である。つまりカバー部材500は主に温度安定化装置125と測定部95の下方(測定部支持台99)側を覆う下部領域500Bと、主に測定部95上方を覆う上部領域500Aを有し、下部領域500Bの方が上部領域500Aよりも大きいサイズ(体積)となっている。また、カバー部材500の内部には不図示のガス注入部より、所望のガスを注入する。ガスの種類としては、結露を防止するための乾燥ガス(例えばドライエアーや窒素)、不要な反応を抑制する不活性ガス(例えば、窒素ガス、アルゴンガスなど)、塵埃侵入を抑止するための静電対策を施したクリーンエアー、温度制御を高精度化するための温度制御済みガス等が注入される。また、上部領域500Aは、点線に示すように、ヒンジ構造501によって、下部領域500Bに対して上方側に開放可能となっている。上部領域500Aを開放すると、測定部95(特に、プローブ位置決め機構200や、測定プローブ110部分)が露出するので、測定部95を容易にメンテナンスできる。 As shown in FIGS. 1A and 1B, the component conveying and processing apparatus 1 may include a cover member 500 that integrally covers one or a plurality of processing apparatuses 70. FIG. The cover member 500 is made of, for example, a transparent resin material, and integrally covers the temperature stabilizing device 125 and the measurement unit 95, including the measurement unit support base 99, in one processing area 52. However, the component holding mechanism 45 does not rotate. It is a substantially L-shaped box when viewed from the side so as not to interfere with movement. That is, the cover member 500 has a lower region 500B that mainly covers the temperature stabilizing device 125 and the lower side of the measuring section 95 (measuring section support table 99), and an upper region 500A that mainly covers the upper side of the measuring section 95. 500B has a larger size (volume) than the upper region 500A. A desired gas is injected into the cover member 500 from a gas injection part (not shown). Types of gas include dry gas (e.g. dry air or nitrogen) to prevent condensation, inert gas (e.g. nitrogen gas, argon gas, etc.) to suppress unnecessary reactions, and static gas to prevent dust from entering. Clean air with anti-electricity measures, temperature-controlled gas for high precision temperature control, etc. are injected. Further, the upper region 500A can be opened upward with respect to the lower region 500B by the hinge structure 501, as indicated by the dotted line. When the upper region 500A is opened, the measuring section 95 (particularly, the probe positioning mechanism 200 and the measuring probe 110) is exposed, so maintenance of the measuring section 95 can be facilitated.

部品の測定に際しては、結露を防止したり、大気中の埃や塵などの汚染物質との接触をできる限り少なくしたり、また、周辺環境の温度(変化)の影響も避けたりする必要がある。このため、部品や載置プレート50および測定部95(特に測定プローブ110など)が、周辺環境に曝されないようにするために、1つ又は複数の処理単位である処理装置70全体をカバー部材500で一体的に覆うとともに、カバー部材500の内部を目的に沿ったガスで充填する。特に、低温測定の際には、結露防止が重要であることから、乾燥ガスを注入することが好ましい。 When measuring components, it is necessary to prevent condensation, minimize contact with contaminants such as dust and dirt in the atmosphere, and avoid the effects of temperature (changes) in the surrounding environment. . For this reason, in order to prevent the component, the mounting plate 50 and the measuring section 95 (particularly the measuring probe 110, etc.) from being exposed to the surrounding environment, the entire processing apparatus 70, which is one or a plurality of processing units, is covered with a cover member 500. , and fills the inside of the cover member 500 with a gas according to the purpose. In particular, in the case of low-temperature measurement, it is preferable to inject dry gas because it is important to prevent dew condensation.

一方で、測定部95の主要部位、具体的にはプローブ位置決め機構200や、測定プローブ110部分(温度安定化装置125と測定部支持台99以外の部分)は、(温度安定化装置125に比べて)駆動の機構が繊細且つ複雑であり、また、交換や清掃などの頻繁なメンテナンスが必要な部位である。このため、本実施形態では上部領域500Aを開放可能とした。これにより測定部95の主要部位について手作業などによる調整やメンテナンスを適宜、容易に行なうことができる。 On the other hand, the main parts of the measurement unit 95, specifically the probe positioning mechanism 200 and the measurement probe 110 (parts other than the temperature stabilization device 125 and the measurement unit support base 99) are (compared to the temperature stabilization device 125 t) The drive mechanism is delicate and complicated, and it is a part that requires frequent maintenance such as replacement and cleaning. Therefore, in this embodiment, the upper region 500A is made openable. As a result, manual adjustment and maintenance of the major portions of the measuring section 95 can be easily performed as appropriate.

同図(A)では一例として、カバー部材500の背面側(部品搬送処理装置1の外周側)に設けられたヒンジ機構501を中心として上部領域500A全体を背面側方向(図示の矢印方向に)回動して開放される構成を示している。しかし、これに限らず、上部領域500Aの上面部分がスライドして開放するなど、様々な開放機構を採用できる。また、この例に限らず、下部領域500Bも開放可能に構成してもよい。 In FIG. 4A, as an example, the entire upper region 500A is moved in the back side direction (in the direction of the arrow in the figure) centering on the hinge mechanism 501 provided on the back side of the cover member 500 (on the outer peripheral side of the parts conveying and processing apparatus 1). The configuration is shown to be opened by pivoting. However, the present invention is not limited to this, and various opening mechanisms can be employed such as opening the upper surface portion of the upper region 500A by sliding. In addition, the configuration is not limited to this example, and the lower region 500B may also be configured to be openable.

また、下部領域500Bの上面500Uは、部品保持機構45と移動機構(温度安定化装置125)とを上下に隔てるように水平方向に延在する。この上面500Uの一部には、第1開口部503と第2開口部504が設けられる。第1開口部503は、部品保持具位置決め用係合部182の直下でこれが通過(挿通)可能に構成される。また、第2開口部504は、部品保持具145の直下でこれが通過(挿通)可能に構成される。 Further, the upper surface 500U of the lower region 500B extends horizontally so as to vertically separate the component holding mechanism 45 and the moving mechanism (the temperature stabilizing device 125). A first opening 503 and a second opening 504 are provided in a part of the upper surface 500U. The first opening 503 is configured to allow passage (insertion) of the component holder positioning engaging portion 182 directly below. Further, the second opening 504 is configured so that the component holder 145 can pass through (insert through) directly under the component holder 145 .

このような構成により、カバー部材500で処理装置70を一体的に覆った状態を維持しつつ、入出領域57において、載置プレート50の載置部100への部品の供給、および載置部100からの部品の取り出しを行なうことができる。 With such a configuration, while maintaining the state in which the processing apparatus 70 is integrally covered with the cover member 500, in the loading/unloading area 57, parts are supplied to the mounting section 100 of the mounting plate 50, and the mounting section 100 is moved. Parts can be removed from the

同図(C)は、上面500U部分の拡大断面図である。処理装置70は、部品搬送処理装置1の動作中においては、例えば結露防止のためにも、周辺環境(外気)との接触は必要最小限にすることが望ましく、その観点からすると、カバー部材500は密閉状態となることが好適である。そこで、第1開口部503および第2開口部504には、外気からの遮断手段507を設けるとよい。遮断手段507は、例えば水平方向に流れるエアカーテンなどである。この場合、同図(C)に示すように、少なくとも上面500Uの内側にエア(ガス)の流路508を形成し、この流路508にエア(好ましくは、結露防止用の乾燥ガス)を通過させる。これにより、常時、第1開口部503には部品保持具位置決め用係合部182を、第2開口部504には部品保持具145を挿通可能に開放しつつも、湿気の多い外気がカバー部材500内に進入することを阻止できる。 FIG. 4C is an enlarged cross-sectional view of the upper surface 500U. It is desirable that the processing apparatus 70 has minimal contact with the surrounding environment (outside air) during the operation of the component conveying and processing apparatus 1, for example, in order to prevent dew condensation. is preferably closed. Therefore, it is preferable to provide the first opening 503 and the second opening 504 with shielding means 507 from the outside air. The blocking means 507 is, for example, an air curtain flowing horizontally. In this case, as shown in FIG. 4C, an air (gas) flow path 508 is formed at least inside the upper surface 500U, and air (preferably dry gas for preventing condensation) passes through this flow path 508. Let As a result, the component holder positioning engaging portion 182 is always opened in the first opening portion 503 and the component holder 145 is opened in the second opening portion 504 so as to be able to be inserted. Entry into 500 can be blocked.

なお、遮断手段507として、物理的なシャッター等を設けて、部品保持具位置決め用係合部182や部品保持具145の挿通時のみ開放するように構成してもよい。しかしながらこの場合構成や駆動機構が複雑になる。これに対しエアカーテンであれば、物理的な開閉の動作および構成が不要である。 A physical shutter or the like may be provided as the blocking means 507 so as to be opened only when the component holder positioning engaging portion 182 or the component holder 145 is inserted. However, in this case, the configuration and drive mechanism are complicated. Air curtains, on the other hand, do not require physical opening and closing operations and configurations.

なお、この例では1台の処理装置70を一体的にカバー部材500で覆う例を示しているが、例えば、複数台の処理装置70を一体的にカバー部材500で覆うようにしてもよい。 In this example, one processing apparatus 70 is integrally covered with the cover member 500 , but a plurality of processing apparatuses 70 may be integrally covered with the cover member 500 , for example.

さらに、部品の安定化温度の精度を高めるためには、部品の安定化温度に合わせるように積極的に温度制御されたガス(温度制御済みガス)を、カバー部材500に充填することが好ましい。 Furthermore, in order to increase the accuracy of the stabilization temperature of the component, it is preferable to fill the cover member 500 with a gas whose temperature is positively controlled so as to match the stabilization temperature of the component (temperature-controlled gas).

<測定プローブの校正装置> <Measurement probe calibration device>

図12は、本発明の他の実施形態の一例を示す、処理装置70の上面図である。載置プレート50には、複数の載置部100の一部又は専用領域を利用して、測定プローブ110を構成する為のプローブ校正部品260が配置される。 FIG. 12 is a top view of a processing device 70 showing an example of another embodiment of the invention. Probe calibration components 260 for configuring the measurement probe 110 are arranged on the mounting plate 50 using a part of the plurality of mounting sections 100 or a dedicated area.

測定プローブ110は、先端に異物が付着したり、経時劣化したりすることよって、自身の抵抗値又は測定装置105までの配線抵抗値に変化が生じる場合が有る。また、測定プローブ110は、定期的に交換する必要があるが、交換作業によって、測定プローブ110自体の抵抗値も変動する。 The resistance value of the measurement probe 110 itself or the wiring resistance value to the measurement device 105 may change due to foreign matter adhering to the tip or deterioration over time. Moreover, the measurement probe 110 needs to be replaced periodically, and the resistance value of the measurement probe 110 itself fluctuates due to the replacement work.

そこで本実施形態では、載置プレート50における移動軌跡上に、複数のプローブ校正部品260を配置しておき、任意にタイミングで、測定プローブ110をプローブ校正部品260に当接させて通電動作を行う。なお、このプローブ校正部品260は、抵抗回路となり、できる限り温度依存特性を有しない構造が好ましい。また、複数のプローブ校正部品260で抵抗値を異ならせることが好ましい。結果、測定プローブ110によって、プローブ校正部品260の複数の抵抗値を測定することで、測定プローブ110及びその内部配線の抵抗値の変化を高精度にチェックできる。ちなみに、測定プローブ110の抵抗値に変動が生じた場合であっても、測定装置105側においてデータを補正すれば部品170の出力測定に影響は無い。また、抵抗値の変動量が許容範囲を超えた場合、処理動作を停止させて、メンテナンス用のアラームを発生させることもできる。 Therefore, in this embodiment, a plurality of probe calibration components 260 are arranged on the movement locus of the mounting plate 50, and the measurement probe 110 is brought into contact with the probe calibration components 260 at an arbitrary timing to perform the energization operation. . It should be noted that this probe calibration component 260 is preferably a resistance circuit and has a structure that does not have temperature dependent characteristics as much as possible. Moreover, it is preferable that the plurality of probe calibration components 260 have different resistance values. As a result, by measuring a plurality of resistance values of the probe calibration component 260 using the measurement probe 110, changes in the resistance values of the measurement probe 110 and its internal wiring can be checked with high accuracy. Incidentally, even if the resistance value of the measurement probe 110 fluctuates, the output measurement of the component 170 will not be affected if the data is corrected on the measurement device 105 side. Moreover, when the amount of variation in the resistance value exceeds the allowable range, the processing operation can be stopped and an alarm for maintenance can be generated.

なお、ここでは載置プレート50の周方向の4か所にプローブ構成部品260を配置する場合を例示したが、その数は特に限定されない。 Although the case where the probe components 260 are arranged at four locations in the circumferential direction of the mounting plate 50 is illustrated here, the number is not particularly limited.

また、ここでは、図13(A)に示すように、プローブ位置決め用係合部210や部品保持具位置決め用係合部182が1つの場合(即ち、プローブ位置決め孔103や部品保持具位置決め孔104が1つの場合)を例示したが、これらを複数にすると、センタリング精度を一層高めることが出来る。特に、係合部平面移動機構201や係合部平面移動機構184のθ方向(図示のX-Y平面における回転方向)の位置決め精度を高めることができる。例えば、図13(B)に示すように、プローブ位置決め用係合部210を2か所に設ける場合は、二つのプローブ位置決め孔103A,103Aを利用して1つの載置部100についてセンタリングを行うようにしても良い。この場合、例えばプローブ位置決め用係合部210は、測定対象の部品172が収容されている載置部100を中心とし、そこから(略)等距離で、且つ、最も近い2箇所のプローブ位置決め孔103A,103Aを利用する。これにより、プローブ位置決め用係合部210が1本の場合と比較して、更に位置決めの精度を高めることができる。また、プローブ位置決め孔103B,103Bのように、周方向に2列を設けるようにすると、各載置部100に対して、一対の専用のプローブ位置決め孔103B,103Bとすることができる。複数の部品保持具位置決め孔104A、104Aについても同様である。また、本実施形態では、部品保持具位置決め孔104が、載置プレート50又は載置部100から独立して固定配置される場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。図13(B)に示すように、プローブ位置決め孔103と同様に、各載置部100に対応させて、部品保持具位置決め孔104B,104Bを設けるようにし、載置部100と一緒に回転させることもできる。勿論、プローブ位置決め孔103と部品保持具位置決め孔104を兼用しても良い。 Here, as shown in FIG. 13A, there is only one probe positioning engaging portion 210 and one component holder positioning engaging portion 182 (that is, one probe positioning hole 103 and one component holder positioning hole 104). is one), but the centering accuracy can be further improved by using a plurality of them. In particular, it is possible to increase the positioning accuracy of the engaging portion planar movement mechanism 201 and the engaging portion planar movement mechanism 184 in the θ direction (rotational direction on the XY plane shown in the figure). For example, as shown in FIG. 13B, when the probe positioning engaging portions 210 are provided at two locations, the two probe positioning holes 103A, 103A are used to center one placing portion 100. You can do it. In this case, for example, the probe positioning engaging portion 210 is centered on the mounting portion 100 in which the part 172 to be measured is accommodated, and is (substantially) equidistant from and closest to the two probe positioning holes. 103A, 103A are used. As a result, the positioning accuracy can be further improved as compared with the case where there is only one probe positioning engaging portion 210 . Also, like the probe positioning holes 103B, 103B, if two rows are provided in the circumferential direction, a pair of dedicated probe positioning holes 103B, 103B can be provided for each mounting portion 100. FIG. The same applies to the plurality of component holder positioning holes 104A, 104A. Moreover, in the present embodiment, the case where the component holder positioning holes 104 are fixed and arranged independently of the mounting plate 50 or the mounting section 100 has been exemplified, but the present invention is not limited to this. As shown in FIG. 13B, like the probe positioning holes 103, component holder positioning holes 104B and 104B are provided corresponding to the mounting sections 100, and are rotated together with the mounting sections 100. can also Of course, the probe positioning hole 103 and the component holder positioning hole 104 may also be used.

本発明の部品搬送処理装置1は、上記した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。 The parts conveying and processing apparatus 1 of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

1 部品搬送処理装置
10 ターレット型回転搬送装置
12 ターレットテーブル
15 ターレットテーブル回転軸
20 ターレットテーブル駆動装置
25 制御装置
35 架台
40 昇降付勢機構
45 部品保持機構
50 載置プレート
51 部品供給領域
52 処理領域
53 部品搬出領域
54 測定領域
55 載置プレート回転軸
57 入出領域
60 載置プレート駆動装置
65 自動部品供給装置
70 処理装置
95 測定部
99 測定部支持台
100 載置部
105 測定装置
110 測定プローブ
111 プローブ昇降部
119 支持台
120 電極
125 移動機構(温度安定化装置)
130 熱移送部材
135 熱交換部
137 温度制御装置
145 部品保持具
170、172、172A-172C、173、173A-173C、171 部品
180 部品保持具位置決め機構
182 部品保持具位置決め用係合部
184 係合部平面移動機構
188 凹部
189 昇降機構
200 プローブ位置決め機構
201 係合部平面移動機構
210 プローブ位置決め用係合部
211 係合部昇降機構
226 台座
250 マスタ部品
301 特性検査装置
310 ターレットテーブル
312 ターレットテーブル回転軸
315 部品
325 部品供給装置
330 収納ボックス
335 第一測定領域
340 第一温度制御領域
345 第二測定領域
350 第二温度制御領域
500 カバー部材
501 回動軸
507 遮断手段
508 流路
T 搬送経路
Reference Signs List 1 component transport processing device 10 turret-type rotary transport device 12 turret table 15 turret table rotating shaft 20 turret table driving device 25 control device 35 base 40 elevation biasing mechanism 45 component holding mechanism 50 mounting plate 51 component supply area 52 processing area 53 Component unloading area 54 Measuring area 55 Mounting plate rotating shaft 57 Inlet/out area 60 Mounting plate driving device 65 Automatic component supply device 70 Processing device 95 Measuring unit 99 Measuring unit support table 100 Mounting unit 105 Measuring device 110 Measuring probe 111 Probe elevation Part 119 support base 120 electrode 125 moving mechanism (temperature stabilizing device)
130 heat transfer member 135 heat exchange section 137 temperature control device 145 component holders 170, 172, 172A-172C, 173, 173A-173C, 171 component 180 component holder positioning mechanism 182 component holder positioning engaging portion 184 engagement Part plane moving mechanism 188 Recess 189 Elevating mechanism 200 Probe positioning mechanism 201 Engaging part plane moving mechanism 210 Probe positioning engaging part 211 Engaging part elevating mechanism 226 Pedestal 250 Master part 301 Characteristic inspection device 310 Turret table 312 Turret table rotation axis 315 Component 325 Component supply device 330 Storage box 335 First measurement area 340 First temperature control area 345 Second measurement area 350 Second temperature control area 500 Cover member 501 Rotating shaft 507 Blocking means 508 Channel T Transport path

Claims (14)

複数の部品保持機構によって複数の部品を保持して、環状の搬送経路の一部に沿って、複数の前記部品を搬送するターレット型回転搬送装置と、
前記搬送経路に配置されて、前記部品を前記部品保持機構に供給する部品供給領域と、
前記搬送経路における前記部品供給領域の下流側に位置する処理領域に配置されて、前記部品に対して所定の処理を施す処理装置と、
前記処理装置に設けられて前記部品を移動させる移動機構と、
前記搬送経路における前記処理領域の下流側に配置されて、前記部品を搬出する部品搬出領域と、を備え、
前記移動機構は、
前記部品が載置される載置部を有する載置プレートと、
前記載置プレートに熱を移送する熱移送部材と、
前記熱移送部材と前記載置プレートを一体として、プレート回転軸を中心として回転させる回転駆動部と、を有し、
前記載置部は複数設けられ、該載置部の一部に前記処理の基準部品を配置し、
前記処理装置は、前記移動機構による前記部品の移動経路上の測定領域に配置され、前記部品の対比情報と相関関係を有する出力を測定する測定部を備え、
前記測定部は、
前記基準部品の出力の測定値から逆算される前記対比情報を、該基準部品に接近して前記移動機構によって移動される前記部品の前記対比情報として参照する
ことを特徴とする部品搬送処理装置。
a turret-type rotary conveying device that holds a plurality of parts by a plurality of part holding mechanisms and conveys the plurality of parts along a part of an annular conveying path;
a component supply area arranged on the transport path to supply the component to the component holding mechanism;
a processing device disposed in a processing area located downstream of the component supply area in the transport path and performing a predetermined process on the component;
a moving mechanism provided in the processing apparatus for moving the component;
a component carry-out area arranged downstream of the processing area in the transport path for carrying out the component;
The moving mechanism is
a mounting plate having a mounting portion on which the component is mounted;
a heat transfer member that transfers heat to the mounting plate;
a rotation drive unit that rotates the heat transfer member and the mounting plate integrally about a plate rotation axis ;
A plurality of the placement units are provided, and a reference part for the processing is arranged on a part of the placement units,
The processing device includes a measurement unit arranged in a measurement area on a movement path of the part by the movement mechanism and measuring an output having a correlation with the comparison information of the part,
The measurement unit
The comparison information back-calculated from the measured value of the output of the reference part is referred to as the comparison information of the part moved by the moving mechanism while approaching the reference part.
A parts conveying and processing apparatus characterized by:
前記載置プレートは、全体が単一温度となるように前記熱移送部材によって温度制御されることを特徴とする、
請求項1に記載の部品搬送処理装置。
The mounting plate is temperature-controlled by the heat transfer member so that the whole is at a single temperature,
2. The parts conveying and processing apparatus according to claim 1.
複数の前記基準部品が、周方向に等間隔で載置される、
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の部品搬送処理装置。
A plurality of the reference parts are placed at regular intervals in the circumferential direction.
3. The parts conveying and processing apparatus according to claim 1 or 2 , characterized in that:
前記処理の対象となる前記部品の近接位置に前記基準部品を配置する、
ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の部品搬送処理装置。
arranging the reference part at a position close to the part to be processed ;
4. The component transfer processing apparatus according to any one of claims 1 to 3, characterized in that:
前記基準部品は、専用部品である、
ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の部品搬送処理装置。
The reference part is a dedicated part,
5. The component transfer processing apparatus according to any one of claims 1 to 4, characterized in that:
前記基準部品は、前記部品と同種の部品である、
ことを特徴とする請求項乃至請求項のいずれかに記載の部品搬送処理装置。
The reference part is a part of the same type as the part ,
5. The component transfer processing apparatus according to any one of claims 1 to 4 , characterized in that:
前記載置プレートには、前記処理装置の測定プローブと当接して該測定プローブを校正するための校正専用部品が配置される、
ことを特徴とする請求項乃至請求項のいずれかに記載の部品搬送処理装置。
A calibration-dedicated component for calibrating a measurement probe of the processing device by coming into contact with the measurement probe of the processing device is arranged on the mounting plate.
7. The component transfer processing apparatus according to any one of claims 1 to 6 , characterized in that:
前記処理装置は、一つの前記載置プレート上の複数の前記載置部に対応する位置においてそれぞれ前記部品の出力特性を測定可能な測定手段を有する、
ことを特徴とする請求項乃至請求項7のいずれかに記載の部品搬送処理装置。
The processing apparatus has measuring means capable of measuring the output characteristics of the component at positions corresponding to the plurality of mounting portions on the single mounting plate, respectively.
8. The component transfer processing apparatus according to any one of claims 1 to 7, characterized in that:
前記測定手段は、一つの前記載置プレートについて複数設けられ、複数の前記載置部において同時に複数の前記部品の特性を測定する、
ことを特徴とする請求項に記載の部品搬送処理装置。
A plurality of the measuring means are provided for one mounting plate, and simultaneously measure characteristics of a plurality of the components on the plurality of mounting portions.
9. The parts conveying and processing apparatus according to claim 8 , characterized in that:
前記処理装置を一体的に覆うカバー部材を有する、
ことを特徴とする請求項1乃至請求項9のいずれかに記載の部品搬送処理装置。
Having a cover member that integrally covers the processing device,
10. The component transfer processing apparatus according to any one of claims 1 to 9, characterized in that:
前記カバー部材の一部は、前記部品保持機構と前記移動機構を隔てるように設けられ、
前記部品保持機構の一部が通過可能な開口を有する、
ことを特徴とする請求項10に記載の部品搬送処理装置。
A part of the cover member is provided so as to separate the component holding mechanism and the moving mechanism ,
A part of the component holding mechanism has an opening through which it can pass,
11. The parts conveying and processing apparatus according to claim 10, characterized in that:
前記カバー部材の一部は、前記処理装置の一部が露出するように開放可能に構成される、
ことを特徴とする請求項10または請求項11記載の部品搬送処理装置。
A portion of the cover member is configured to be openable to expose a portion of the processing device,
12. The component transfer processing apparatus according to claim 10 or 11, characterized in that:
前記カバー部材の内部に乾燥ガスが注入される、
ことを特徴とする請求項10乃至請求項12のいずれかに記載の部品搬送処理装置。
a dry gas is injected into the interior of the cover member;
13. The component transfer processing apparatus according to any one of claims 10 to 12, characterized in that:
前記ターレット型回転搬送装置は、前記複数の部品保持機構を互いに同期して移動させる、
ことを特徴とする請求項1乃至請求項13のいずれかに記載の部品搬送処理装置。
The turret-type rotary transfer device moves the plurality of component holding mechanisms in synchronization with each other,
14. The component transfer processing apparatus according to any one of claims 1 to 13, characterized in that:
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003161750A (en) 2001-09-17 2003-06-06 Akim Kk Method and apparatus for test of temperature characteristic of electronic component
JP2009008652A (en) 2007-05-25 2009-01-15 Ueno Seiki Kk To-high temperature-low temperature changing device and test handler with to-high temperature-low temperature changing device
JP2010133716A (en) 2008-12-02 2010-06-17 Ueno Seiki Kk Temperature raising/lowering device, and test handler including the same
JP2011190114A (en) 2005-03-30 2011-09-29 Ueno Seiki Kk Processing device for electronic part and method of processing the electronic part
JP2012211800A (en) 2011-03-31 2012-11-01 Sharp Corp Sample inspection device
JP2013032940A (en) 2011-08-01 2013-02-14 Akim Kk Temperature characteristics measuring device
WO2016163229A1 (en) 2015-04-09 2016-10-13 株式会社村田製作所 Method for measuring electric characteristics of electronic component and electric characteristic measuring device

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3153620B2 (en) * 1992-04-27 2001-04-09 アンリツ株式会社 Calibration part setting device

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003161750A (en) 2001-09-17 2003-06-06 Akim Kk Method and apparatus for test of temperature characteristic of electronic component
JP2011190114A (en) 2005-03-30 2011-09-29 Ueno Seiki Kk Processing device for electronic part and method of processing the electronic part
JP2009008652A (en) 2007-05-25 2009-01-15 Ueno Seiki Kk To-high temperature-low temperature changing device and test handler with to-high temperature-low temperature changing device
JP2010133716A (en) 2008-12-02 2010-06-17 Ueno Seiki Kk Temperature raising/lowering device, and test handler including the same
JP2012211800A (en) 2011-03-31 2012-11-01 Sharp Corp Sample inspection device
JP2013032940A (en) 2011-08-01 2013-02-14 Akim Kk Temperature characteristics measuring device
WO2016163229A1 (en) 2015-04-09 2016-10-13 株式会社村田製作所 Method for measuring electric characteristics of electronic component and electric characteristic measuring device

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