JP7272935B2 - 回転機械用の振動抑制装置及び回転機械 - Google Patents

Description

本開示は、回転機械用の振動抑制装置及び回転機械に関する。

例えばガスタービンや蒸気タービンのような回転機械は、動翼を有するロータを備えている。動翼の振動は疲労破壊をもたらす可能性がある。そのため、動翼が振動した場合、その振動を減衰することが望まれる。動翼の振動を減衰する技術として摩擦ダンパが知られている。摩擦ダンパは、部材の摩擦を利用して動翼の振動を減衰する。摩擦ダンパとして、例えば周方向で互いに隣接する動翼のプラットホーム部同士の隙間に、回転軸方向に沿って延在するダンパピンを設けたものが知られている。この摩擦ダンパでは、プラットホーム部とダンパピンとの接触面に発生する摩擦力によって動翼の振動を減衰する（例えば特許文献１参照）。

特開２０１５―１７５３５６号公報

しかし、特許文献１に記載の摩擦ダンパでは、ダンパピンが径方向外側に向かって押し付けられる力（遠心力）が強くなると、プラットホーム部とダンパピンとの接触面に発生する摩擦力が過剰となり、ダンパピンが接触面で滑らないスティック状態となるおそれがある。ダンパピンがスティック状態となってしまうと、上記摩擦力による動翼の振動減衰効果が低下してしまう。

上述の事情に鑑みて、本開示の少なくとも一実施形態は、回転機械用の振動抑制装置における振動減衰効果の低下を抑制することを目的とする。

（１）本開示の少なくとも一実施形態に係る回転機械用の振動抑制装置は、
回転機械のロータの振動抑制装置であって、
前記ロータの空所内に移動可能に設けられ、磁石を含むダンパピンと、
前記空所の周囲にて前記ロータに設けられる磁力発生部と、
を備え、
前記磁力発生部は、前記空所のうち前記ロータの径方向外側に位置する前記ダンパピンのスティック領域から前記ダンパピンを遠ざける方向の磁力を前記磁石に対して作用させるように構成されている。

（２）本開示の少なくとも一実施形態に係る回転機械は、
ロータと、
上記（１）の構成の回転機械用の振動抑制装置と、
を備える。

本開示の少なくとも一実施形態によれば、回転機械用の振動抑制装置における振動減衰効果の低下を抑制できる。

ガスタービンの概略構成図である。 動翼が取り付けられたロータディスクの一部を模式的に示した図である。 幾つかの実施形態に係る動翼の構成を示す概略構成図である。 動翼に形成された凹部の近傍の模式的な斜視図である。 図２における凹部の近傍を拡大した模式的な図である。 幾つかの実施形態に係るダンパピンの模式的な斜視図である。 図５に示した天井側磁力発生部の模式的な斜視図である。 振動抑制装置を備えた動翼の振動特性の一例を示す図である。 他の実施形態に係る振動抑制装置を備えた圧縮機における凹部の近傍を拡大した模式的な図である。 さらに他の実施形態に係る振動抑制装置を備えた圧縮機における凹部の近傍を拡大した模式的な図である。 図１０に示した天井側磁力発生部の模式的な斜視図である。 さらに他の実施形態に係る振動抑制装置を備えた圧縮機における凹部の近傍を拡大した模式的な図である。 スティック領域について説明するための模式的な図である。

以下、添付図面を参照して本開示の幾つかの実施形態について説明する。ただし、実施形態として記載されている又は図面に示されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、本開示の範囲をこれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
例えば、「ある方向に」、「ある方向に沿って」、「平行」、「直交」、「中心」、「同心」或いは「同軸」等の相対的或いは絶対的な配置を表す表現は、厳密にそのような配置を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の角度や距離をもって相対的に変位している状態も表すものとする。
例えば、「同一」、「等しい」及び「均質」等の物事が等しい状態であることを表す表現は、厳密に等しい状態を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の差が存在している状態も表すものとする。
例えば、四角形状や円筒形状等の形状を表す表現は、幾何学的に厳密な意味での四角形状や円筒形状等の形状を表すのみならず、同じ効果が得られる範囲で、凹凸部や面取り部等を含む形状も表すものとする。
一方、一の構成要素を「備える」、「具える」、「具備する」、「含む」、又は、「有する」という表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的な表現ではない。

（ガスタービン１の全体構成について）
最初に、幾つかの実施形態に係る回転機械用の振動抑制装置が用いられる回転機械の構成について、図１を参照して説明する。図１は、該回転機械を備えた装置の一例としてのガスタービン１の概略構成図である。なお、幾つかの実施形態に係る回転機械用の振動抑制装置が用いられる回転機械は、圧縮機でもよいし、タービンでもよい。

図１に示すように、一実施形態に係るガスタービン１は、圧縮空気を生成するための圧縮機２と、圧縮空気及び燃料を用いて燃焼ガスを発生させるための燃焼器４と、燃焼ガスによって回転駆動されるように構成されたタービン６と、を備える。発電用のガスタービン１の場合、タービン６には不図示の発電機が連結され、タービン６の回転エネルギーによって発電が行われるように構成されている。

図１に示すガスタービン１では、圧縮機２は、中心軸ＡＸを中心に回転可能なロータ３０と、ロータ３０の周囲に配置されるステータ５とを備えている。なお、図１に示すガスタービン１では、圧縮機２は、後述する回転機械用の振動抑制装置１００を備えている。

ステータ５は、圧縮機車室（ケーシング）１０と、圧縮機車室１０側に固定された複数の圧縮機静翼１６とを有する。
ロータ３０は、中心軸ＡＸを中心に回転可能なロータシャフト８と、ロータシャフト８に固定された複数のロータディスク３１と、複数のロータディスク３１のそれぞれに取り付けられた複数の圧縮機動翼１８とを有する。
ロータシャフト８は、圧縮機車室１０及び後述するタービン車室２２を共に貫通するように設けられている。

圧縮機動翼１８は、複数のロータディスク３１のそれぞれの外周部において中心軸ＡＸの周方向に複数配置される。また、ロータディスク３１は、中心軸ＡＸと平行な方向に間隔を空けて複数段配置される。したがって、圧縮機動翼１８は、中心軸ＡＸと平行な方向に間隔を空けて複数段配置される。

圧縮機静翼１６は、中心軸ＡＸの周方向に複数配置される。また、圧縮機静翼１６は、中心軸ＡＸと平行な方向に間隔を空けて複数段配置される。圧縮機静翼１６は、中心軸ＡＸと平行な方向に関して圧縮機動翼１８の間に配置されるように複数段配置される。

また、図１に示すガスタービン１では、圧縮機２は、圧縮機車室１０の入口側に設けられ、空気を取り込むための空気取入口１２と、空気取入口１２側に設けられた入口案内翼１４とを備えている。なお、圧縮機２は、不図示の抽気室等の他の構成要素を備えていてもよい。このような圧縮機２において、空気取入口１２から取り込まれた空気は、複数の圧縮機静翼１６及び複数の圧縮機動翼１８を通過して圧縮されることで圧縮空気が生成される。そして、圧縮空気は圧縮機２から下流側の燃焼器４に送られる。

図１に示すガスタービン１では、燃焼器４は、ケーシング（燃焼器車室）２０内に配置される。図１に示すように、燃焼器４は、ケーシング２０内にロータシャフト８を中心として環状に複数配置されていてもよい。燃焼器４には燃料と圧縮機２で生成された圧縮空気とが供給され、燃料を燃焼させることによって、タービン６の作動流体である高温高圧の燃焼ガスを発生させる。そして、燃焼ガスは燃焼器４から後段のタービン６に送られる。

図１に示すガスタービン１では、タービン６は、中心軸ＡＸを中心に回転可能なロータ３３と、ロータ３３の周囲に配置されるステータ７とを備えている。
ステータ７は、タービン車室（ケーシング）２２と、タービン車室２２側に固定された複数のタービン静翼２６とを有する。

ロータ３３は、上述したロータシャフト８と、ロータシャフト８に固定された複数のロータディスク３５と、複数のロータディスク３５のそれぞれに取り付けられた複数のタービン動翼２４とを有する。

タービン動翼２４は、複数のロータディスク３５のそれぞれの外周部において中心軸ＡＸの周方向に複数配置される。また、ロータディスク３５は、中心軸ＡＸと平行な方向に間隔を空けて複数段配置される。したがって、タービン動翼２４は、中心軸ＡＸと平行な方向に間隔を空けて複数段配置される。

タービン静翼２６は、中心軸ＡＸの周方向に複数配置される。また、タービン静翼２６は、中心軸ＡＸと平行な方向に間隔を空けて複数段配置される。タービン静翼２６は、中心軸ＡＸと平行な方向に関してタービン動翼２４の間に配置されるように複数段配置される。

なお、タービン６では、ロータシャフト８は、軸方向（図１における左右方向）に延在し、燃焼ガスは、燃焼器４側から排気車室２８側（図１における左側から右側）に向かって流れる。したがって、図１では、図示左側が軸方向上流側であり、図示右側が軸方向下流側である。また、以下の説明では、単に軸方向と記載した場合、中心軸ＡＸと平行な方向を表し、単に径方向と記載した場合、中心軸ＡＸを中心とする径方向を表すものとする。以下の説明では、ロータの周方向、又は単に周方向と記載した場合、中心軸ＡＸを中心とする周方向を表すものとする。

タービン動翼２４は、タービン静翼２６とともにタービン車室２２内を流れる高温高圧の燃焼ガスから回転駆動力を発生させるように構成される。この回転駆動力がロータシャフト８に伝達されることで、ロータシャフト８に連結された不図示の発電機が駆動される。

タービン車室２２の軸方向下流側には、排気車室２８を介して排気室２９が連結されている。タービン６を駆動した後の燃焼ガスは、排気車室２８及び排気室２９を通って外部へ排出される。

（振動抑制装置１００）
幾つかの実施形態に係る回転機械用の振動抑制装置１００は、例えば圧縮機動翼１８に取り付けられる。なお、幾つかの実施形態に係る回転機械用の振動抑制装置１００は、例えばタービン動翼２４に取り付けられていてもよい。以下の説明では、幾つかの実施形態に係る回転機械用の振動抑制装置１００が圧縮機動翼１８に取り付けられているものとして説明する。また、以下の説明では、圧縮機動翼１８のことを単に動翼１８とも呼ぶ。
幾つかの実施形態では、後述するように、振動抑制装置１００は、ロータ３０の空所１３０内に移動可能に設けられ、磁石４１を含むダンパピン４０と、空所１３０の周囲にてロータ３０に設けられる磁力発生部１５０とを備えている。

（動翼１８）
図２は、動翼１８が取り付けられたロータディスク３１の一部を模式的に示した図である。なお、図２では、動翼１８及びロータディスク３１を径方向に沿った断面を表している。
図２に示すように、幾つかの実施形態に係る各々の動翼１８は、ロータディスク３１の外周面から径方向外側に向かって延在する。より具体的には、各々の動翼１８は、ロータディスク３１の外周面に設けられた溝３１１に各々の動翼１８の翼根部１８１が嵌合されることでロータディスク３１に取り付けられる。

図３は、幾つかの実施形態に係る動翼１８の構成を示す概略構成図である。
図３に示すように、動翼１８は、翼根部１８１と、プラットフォーム１８３と、翼型部１８５とを含む。
翼根部１８１は、上述したように、例えば図２に示すロータディスク３１の溝３１１に篏合される。なお、翼根部１８１は、翼厚さ方向に突出する複数のリブ部１８１ａを有していてもよい。

プラットフォーム１８３は、翼根部１８１と一体的に構成されている。幾つかの実施形態では、プラットフォーム１８３において、動翼１８をロータディスク３１に取り付けたときに周方向を向く２つの側面１１１、１２１のうちの一方の側面１１１には、凹部１１３が形成されている。
上記構成のプラットフォーム１８３には、翼型部１８５が立設される。

図４は、動翼１８に形成された凹部１１３の近傍の模式的な斜視図である。図５は、図２における凹部１１３の近傍を拡大した模式的な図である。以下、主に図２、図４及び図５を参照して、幾つかの実施形態に係る振動抑制装置１００について説明する。

（ダンパピン４０）
幾つかの実施形態では、振動抑制装置１００は、ロータ３０の空所１３０内に移動可能に設けられ、磁石４１を含むダンパピン４０を備えている。
図２及び図５に示すように、周方向で隣り合う動翼１８の間に、動翼１８に接触するようにダンパピン４０が設けられる。ダンパピン４０は、円柱状（ピン状）の部材である。ダンパピン４０は、ロータ３０が回転しているときに、動翼１８の振動を減衰するダンパピンとして機能する。
図６は、幾つかの実施形態に係るダンパピン４０の模式的な斜視図である。幾つかの実施形態に係るダンパピン４０は、磁石４１を含む。幾つかの実施形態に係るダンパピン４０に含まれる磁石４１は、円柱形状を有する永久磁石であり、円柱の軸方向に沿った一方側がＳ極４１Ｓであり、他方側がＮ極４１Ｎである。

以下の説明においては、便宜上、中心軸ＡＸの周方向に配置される複数の動翼１８のうち、周方向で隣り合う２つの動翼１８について説明する。一方の動翼１８を適宜、第１動翼１８Ａ、と称し、中心軸ＡＸの周方向に関して第１動翼１８Ａの隣に配置される動翼１８を適宜、第２動翼１８Ｂ、と称する。本実施形態において、第１動翼１８Ａと第２動翼１８Ｂとは、実質的に同一の構造である。

ダンパピン４０は、第１動翼１８Ａのプラットフォーム１８３と、第２動翼１８Ｂのプラットフォーム１８３との間に配置される。第１動翼１８Ａのプラットフォーム１８３の一方の側面１１１は、第２動翼１８Ｂのプラットフォーム１８３の他方の側面１２１と対向する。第１動翼１８Ａのプラットフォーム１８３と第２動翼１８Ｂのプラットフォーム１８３とは接触せず、間隙を介して対向する。以下の説明において、第１動翼１８Ａのプラットフォーム１８３を適宜、第１プラットフォーム１８３Ａ、と称し、第２動翼１８Ｂのプラットフォーム１８３を適宜、第２プラットフォーム１８３Ｂ、と称する。

図５に示すように、ダンパピン４０は、第１動翼１８Ａ（第１プラットフォーム１８３Ａ）と第２動翼１８Ｂ（第２プラットフォーム１８３Ｂ）との間に形成された空所１３０に移動可能に配置される。空所１３０は、第１プラットフォーム１８３Ａに設けられた凹部１１３の内面１１５と、第２プラットフォーム１８３Ｂに設けられた側面１２１とによって囲まれた空間である。

空所１３０は、第１プラットフォーム１８３Ａに設けられた凹部１１３の内面１１５及び第２プラットフォーム１８３Ｂに設けられた側面１２１によって規定される。内面１１５及び側面１２１は、空所１３０に面する。ダンパピン４０は、内面１１５及び側面１２１の少なくとも一部と接触可能である。

内面１１５は、第２プラットフォーム１８３Ｂの側面１２１と実質的に平行な垂直面１１５Ｖと、垂直面１１５Ｖに対して傾斜する斜面１１５Ｓとを含む。側面１２１と垂直面１１５Ｖとは間隙を介して対向する。側面１２１及び垂直面１１５Ｖは、中心軸ＡＸの径方向に沿うように配置される。斜面１１５Ｓは、径方向外側に向かうにつれて第２プラットフォーム１８３Ｂの側面１２１との距離が小さくなるように形成されている。
第１プラットフォーム１８３Ａの斜面１１５Ｓは、空所１３０の径方向外側の境界を形成する天井壁１１７に形成されている。
また、第２プラットフォーム１８３Ｂの側面１２１は、空所１３０の周方向の境界を形成する側壁１２３に形成されている。

幾つかの実施形態では、振動抑制装置１００は、空所１３０の周囲にてロータ３０に設けられる磁力発生部１５０を備えている。
図５に示した実施形態では、磁力発生部１５０は、空所１３０の径方向外側の境界を形成する天井壁１１７に設けられた天井側磁力発生部１５１を含む。
図７は、図５に示した天井側磁力発生部１５１の模式的な斜視図である。図７に示した天井側磁力発生部１５１は、例えば柱形状を有する永久磁石であり、柱の軸方向に沿った一方側がＳ極１５１Ｓであり、他方側がＮ極１５１Ｎである。図７に示した天井側磁力発生部１５１は、例えば矩形柱形状を有するが、円柱形状を有していてもよく、三角柱形状を有していてもよく、五角以上の多角柱形状を有していてもよい。

幾つかの実施形態では、磁力発生部１５０は、空所１３０のうちロータ３０の径方向外側に位置するダンパピン４０の後述するスティック領域１３５からダンパピン４０を遠ざける方向の磁力をダンパピン４０の磁石４１に対して作用させるように構成されている。
具体的には、図５に示したダンパピン４０及び天井側磁力発生部１５１は、例えば図４に示すように、径方向に沿ってダンパピン４０の磁石４１のＳ極４１Ｓと天井側磁力発生部１５１のＳ極１５１Ｓとが対向し、ダンパピン４０の磁石４１のＮ極４１Ｎと天井側磁力発生部１５１のＮ極１５１Ｎとが対向するように配置されている。そのため、図５に示した天井側磁力発生部１５１は、径方向内側に向かって天井側磁力発生部１５１からダンパピン４０を遠ざける方向の磁力をダンパピン４０の磁石４１に対して作用させる。
したがって、図５に示した天井側磁力発生部１５１は、主として径方向内側に向う反発力をダンパピン４０の磁石４１に対して発生させる。

ダンパピン４０は、空所１３０内に移動可能に設けられる。ロータ３０が回転すると、ダンパピン４０に遠心力ＣＦが作用する。遠心力ＣＦにより、ダンパピン４０は、径方向外側に移動する。
ダンパピン４０に作用する遠心力ＣＦが天井側磁力発生部１５１とダンパピン４０の磁石４１との反発力ＲＦの径方向成分ＲＦｒよりも小さい場合、図５の実線で示すように、ダンパピン４０は、第１プラットフォーム１８３Ａの斜面１１５Ｓから離間する。
天井側磁力発生部１５１とダンパピン４０の磁石４１との反発力ＲＦは、天井側磁力発生部１５１とダンパピン４０との距離の二乗に反比例する。したがって、ダンパピン４０に作用する遠心力ＣＦが大きくなるにつれて、ダンパピン４０と第１プラットフォーム１８３Ａの斜面１１５Ｓとの距離は小さくなる。
なお、天井側磁力発生部１５１とダンパピン４０の磁石４１との反発力ＲＦは、第２プラットフォーム１８３Ｂの側面１２１に向かう周方向成分ＲＦｃを有している。そのため、ダンパピン４０は、周方向成分ＲＦｃによって第２プラットフォーム１８３Ｂの側面１２１に押圧される。

ダンパピン４０に作用する遠心力ＣＦが天井側磁力発生部１５１とダンパピン４０の磁石４１との反発力ＲＦの径方向成分ＲＦｒ以上になると、図５の破線で示すように、ダンパピン４０は、第１プラットフォーム１８３Ａの斜面１１５Ｓと接触する。
ダンパピン４０に作用する遠心力ＣＦが天井側磁力発生部１５１とダンパピン４０の磁石４１との反発力ＲＦの径方向成分ＲＦｒ以上であれば、ダンパピン４０は、遠心力ＣＦから反発力ＲＦの径方向成分ＲＦｒを減じた大きさの力で径方向外側に向かって斜面１１５Ｓに押し付けられる。なお、斜面１１５Ｓは、径方向外側に向かうにつれて側面１２１に近づくように傾斜しているので、ダンパピン４０に作用する遠心力ＣＦが天井側磁力発生部１５１とダンパピン４０の磁石４１との反発力ＲＦの径方向成分ＲＦｒ以上であれば、ダンパピン４０は、斜面１１５Ｓ及び側面１２１に接触する位置に移動する。この位置は、空所１３０内におけるダンパピン４０の位置として、最も径方向外側の位置である。

したがって、図５において破線で示すように、ダンパピン４０は、斜面１１５Ｓ及び側面１２１の両方に接触して、径方向外側への移動を規制される。

ロータ３０が回転すると、例えば空気と動翼１８との接触により、動翼１８に励振力が作用し、動翼１８が振動する可能性がある。ダンパピン４０と凹部１１３の内面１１５及び側面１２１の少なくとも一部とが接触した状態で相対移動（摩擦）することにより、動翼１８の振動が減衰する。

ダンパピン４０に作用する遠心力ＣＦがさらに大きくなると、ダンパピン４０は、図５で破線で示した位置において径方向外側への移動を規制された状態でさらに大きな力で斜面１１５Ｓに押し付けられることとなる。そのため、遠心力ＣＦを励振力ＥＦで除した値が過剰に大きくなると、ダンパピン４０と斜面１１５Ｓや側面１２１との摩擦力が過剰となって、ダンパピン４０が接触面で滑らないスティック状態となるおそれがある。ダンパピン４０がスティック状態となってしまうと、ダンパピン４０と斜面１１５Ｓや側面１２１との摩擦力による動翼の振動減衰効果が低下してしまう。
なお、ダンパピン４０は、図５で破線で示した位置、すなわち斜面１１５Ｓ及び側面１２１に接触する位置においてスティック状態となるおそれがある。以下の説明では、ダンパピン４０が斜面１１５Ｓ及び側面１２１に接触する位置においてダンパピン４０が占める領域のことをスティック領域１３５とも呼ぶ。

図５に示した振動抑制装置１００によれば、スティック領域１３５からダンパピン４０を遠ざける方向の磁力がダンパピン４０の磁石４１に作用するので、ダンパピン４０がスティック状態となり難くなり、振動減衰効果の低下を抑制できる。
より具体的には、図５に示した振動抑制装置１００では、天井側磁力発生部１５１は、径方向内側に向かう成分（径方向成分ＲＦｒ）を有する反発力ＲＦを磁石４１に対して発生させるように構成されている。すなわち、図５に示した振動抑制装置１００では、天井側磁力発生部１５１は、ダンパピン４０に作用する遠心力ＣＦを減ずる反発力ＲＦをダンパピン４０の磁石４１に対して発生させる。これにより、遠心力ＣＦによってダンパピン４０を斜面１１５Ｓに押し付ける力を減ずることができるので、ダンパピン４０がスティック状態となり難くなり、振動減衰効果の低下を抑制できる。

また、図５に示した振動抑制装置１００では、天井側磁力発生部１５１は、第２プラットフォーム１８３Ｂの側面１２１に向かう周方向成分ＲＦｃを有するように反発力ＲＦをダンパピン４０の磁石４１に対して発生させる。そのため、ダンパピン４０は、周方向成分ＲＦｃによって第２プラットフォーム１８３Ｂの側面１２１に押圧される。
従来、径方向に延在する側面１２１に向かってダンパピン４０が押圧される押圧力は比較的小さかったが、周方向成分ＲＦｃによって該押圧力を増やすことができる。これにより、ダンパピン４０と側面１２１との摩擦力を増やすことができるので、振動減衰効果を向上できる。

（スティック領域１３５について）
以下、スティック領域１３５について、さらに詳しく説明する。
図１３は、スティック領域１３５について説明するための模式的な図であり、凹部１１３の近傍を拡大した図である。説明の便宜上、図１３では、磁力発生部１５０の記載を省略している。

幾つかの実施形態では、スティック領域１３５は、少なくとも、下記（ａ）及び（ｂ）の条件をそれぞれ満たすダンパピン４０の外周面４０ａ上の第１点Ｐ１および第２点Ｐ２において、ダンパピン４０の外周面４０ａが空所１３０を画定する１以上の壁面（例えば斜面１１５Ｓ及び側面１２１）と接するようにダンパピン４０を空所１３０内において配置したときにダンパピン４０が占める領域である。
（ａ）第１点Ｐ１は、ダンパピン４０の外周面４０ａのうちダンパピン４０の中心Ｃよりも径方向外側の半円弧ＡＲ１上に位置する点である。
（ｂ）第２点Ｐ２は、第１点Ｐ１と中心Ｃを結んだ直線Ｌによって外周面４０ａを２分割して得られる２個の半円弧のうち、外周面４０ａ上で最も径方向外側に位置する基準点Ｐｒを含む半円弧ＡＲ２上に位置する点である。

幾つかの実施形態では、ダンパピン４０は、径方向外側へ向かう遠心力ＣＦを受けても第１点Ｐ１及び第２点Ｐ２で接する１以上の壁面によって径方向外側への移動が規制されるとともに、該遠心力ＣＦによって第１点Ｐ１及び第２点Ｐ２で壁面を押圧する。
しかし、幾つかの実施形態では、上述した又は後述する振動抑制装置１００を備えているので、ダンパピン４０がスティック状態となり難くなり、振動減衰効果の低下を抑制できる。

図８は、図５に示した振動抑制装置１００を備える圧縮機２における動翼１８の振動特性の一例を示す図である。図８において、図５に示した振動抑制装置１００を備える圧縮機２における動翼１８の振動特性は、実線で示す。比較例として、振動抑制装置１００を備えない動翼１８の振動特性を破線で示す。図８において、横軸は、ダンパピン４０に作用する遠心力ＣＦを動翼１８に作用する励振力ＥＦで除した値（ＣＦ／ＥＦ）である。図８において、遠心力ＣＦが大きくなるほどＣＦ／ＥＦが大きくなる。
図８において、縦軸は、ダンパピン４０の摩擦による減衰率を対数で示す。

図８に示すように、ＣＦ／ＥＦが大きくなるにつれて、ダンパピン４０と斜面１１５Ｓや側面１２１との摩擦力が増加するので、減衰率が増加する。そして、ＣＦ／ＥＦがある値の時に減衰率が最大値をとるが、さらにＣＦ／ＥＦが大きくなると、ダンパピン４０と斜面１１５Ｓや側面１２１との摩擦力がさらに増加することによってダンパピン４０が斜面１１５Ｓや側面１２１に対して相対移動し難くなるので、減衰率が減少する。さらにＣＦ／ＥＦが大きくなると、ダンパピン４０が接触面で滑らないスティック状態となってしまう。

図５に示した振動抑制装置１００では、ダンパピン４０に作用する遠心力ＣＦが反発力ＲＦで減ぜられることで、図８に示すように、減衰率のグラフを全体的にＣＦ／ＥＦが大きくなる方向（図示右方）にシフトすることができる。

図９は、他の実施形態に係る振動抑制装置１００を備えた圧縮機２における凹部１１３の近傍を拡大した模式的な図である。なお、以下の説明では、図５に示した実施形態に係る構成と同じ構成には、同じ符号を付して詳細な説明については省略し、主に、図５に示した実施形態に係る構成との相違点について説明する。
図９に示す実施形態では、天井側磁力発生部１５１は、スティック領域１３５（図５参照）から周方向に遠ざかるにつれて径方向内側に向かう成分（径方向成分ＲＦｒ）が大きくなる反発力ＲＦを磁石４１に対して発生させるように構成されている。

例えば、図９に示す実施形態では、天井側磁力発生部１５１は、周方向に沿って複数の磁石１５３を含む。複数の磁石１５３のそれぞれの磁力は、異なっている。複数の磁石１５３のそれぞれの磁力は、周方向に沿って第２動翼１８Ｂから第１動翼１８Ａに向かう方向に進むにつれて強くなる。このように、磁力の異なる複数の磁石１５３を上述のように配置することで、スティック領域１３５（図５参照）から周方向に遠ざかるにつれて径方向内側に向かう成分（径方向成分ＲＦｒ）が大きくなる反発力ＲＦを磁石４１に対して発生させることができる。なお、１つの磁石によってスティック領域１３５から周方向に遠ざかるにつれて径方向成分ＲＦｒが大きくなる反発力ＲＦを磁石４１に対して発生させるようにしてもよい。

スティック領域１３５から周方向に遠ざかるにつれて径方向成分ＲＦｒが大きくなる反発力ＲＦを磁石４１に対して発生させることで、周方向成分ＲＦｃを効果的に増やすことができる。すなわち、図９に示す実施形態では、スティック領域１３５から周方向に遠ざかるにつれて径方向成分ＲＦｒが大きくなる反発力ＲＦを磁石４１に対して発生させるように天井側磁力発生部１５１が磁界を形成する。これにより、該磁界から磁石４１が受ける反発力ＲＦのうち周方向成分ＲＦｃは、スティック領域１３５に近づく方向、すなわち第１動翼１８Ａから第２動翼１８Ｂに向かう方向を向く。
そのため、磁石４１は、周方向に沿って第１動翼１８Ａから第２動翼１８Ｂに向かう方向に向かう反発力（周方向成分ＲＦｃ）を受ける。磁石４１が該反発力を受けて移動する先に空所１３０の周方向の境界を形成する壁部が存在する場合、ダンパピン４０は、該反発力によって該壁部に向かって押圧されることとなる。図９に示す実施形態では、磁石４１が該反発力を受けて移動する先に空所１３０の周方向の境界を形成する壁部である側壁１２３が存在する。そのため、図９に示す実施形態によれば、側面１２１上でダンパピン４０が摺動すると摩擦力が得られるので、該摩擦力によって振動減衰効果が得られる。

図１０は、さらに他の実施形態に係る振動抑制装置１００を備えた圧縮機２における凹部１１３の近傍を拡大した模式的な図である。なお、以下の説明では、図５又は図９に示した実施形態に係る構成と同じ構成には、同じ符号を付して詳細な説明については省略し、主に、図５又は図９に示した実施形態に係る構成との相違点について説明する。
図１０に示す実施形態では、天井側磁力発生部１５１は、第１天井側磁力発生部１５１１と、第２天井側磁力発生部１５１２とを含む。第１天井側磁力発生部１５１１は、径方向内側に向かう成分（径方向成分ＲＦｒ）を有する反発力ＲＦを磁石４１に対して発生させる。第２天井側磁力発生部１５１２は、第１天井側磁力発生１５１１部よりもスティック領域１３５から周方向に沿って離れた位置に設けられ、第２天井側磁力発生部１５１２に向かう成分を有する吸引力ＡＦを磁石４１に対して発生させる。

図１１は、図１０に示した天井側磁力発生部１５１の模式的な斜視図である。図１１に示した天井側磁力発生部１５１は、例えば柱形状を有する永久磁石である。図１１に示した天井側磁力発生部１５１は、例えば矩形柱形状を有するが、円柱形状を有していてもよく、三角柱形状を有していてもよく、五角以上の多角柱形状を有していてもよい。

図１１に示した天井側磁力発生部１５１では、第１天井側磁力発生部１５１１は、Ｓ極１５１１ＳとＮ極１５１１Ｎとを有する。図１１に示した天井側磁力発生部１５１では、第２天井側磁力発生部１５１２は、Ｓ極１５１２ＳとＮ極１５１２Ｎとを有する。図１１に示した天井側磁力発生部１５１は、例えば矩形柱形状を有する第１天井側磁力発生部１５１１と、例えば矩形柱形状を有する第２天井側磁力発生部１５１２とが、柱形状の側面同士を対向させた形状を有する。図１１に示した天井側磁力発生部１５１は、第１天井側磁力発生部１５１１のＳ極１５１１Ｓと、第２天井側磁力発生部１５１２のＮ極１５１２Ｎとを対向させ、第１天井側磁力発生部１５１１のＮ極１５１１Ｎと、第２天井側磁力発生部１５１２のＳ極１５１２Ｓとを対向させた形状を有する。

図１１に示した天井側磁力発生部１５１は、図１０に示すように、径方向に沿って第１天井側磁力発生部１５１１のＳ極１５１１Ｓとダンパピン４０の磁石４１のＳ極４１Ｓとが対向可能となるように配置されている。図１１に示した天井側磁力発生部１５１は、図１０に示すように、径方向に沿って第２天井側磁力発生部１５１２のＮ極１５１２Ｎとダンパピン４０の磁石４１のＳ極４１Ｓとが対向可能となるように配置されている。
なお、図１１に示した天井側磁力発生部１５１は、図１０には表れていないが、径方向に沿って第１天井側磁力発生部１５１１のＮ極１５１１Ｎとダンパピン４０の磁石４１のＮ極４１Ｎとが対向可能となるように配置されている。図１１に示した天井側磁力発生部１５１は、図１０には表れていないが、径方向に沿って第２天井側磁力発生部１５１２のＳ極１５１２Ｓとダンパピン４０の磁石４１のＮ極４１Ｎとが対向可能となるように配置されている。

図１０に示した振動抑制装置１００では、ダンパピン４０は、破線で示すようにロータ３０の回転による遠心力ＣＦでスティック領域１３５（図５参照）に移動しようとしたときに、破線の矢印で示したように第１天井側磁力発生部１５１１よって磁石４１が径方向内側へ向かう反発力ＲＦ１を受けるとともに、第２天井側磁力発生部１５１２よって磁石４１が磁石４１よりも径方向外側に位置する第２天井側磁力発生部１５１２へ向かう吸引力ＡＦ１を受ける。この時、磁石４１の位置によっては、反発力ＲＦ１と吸引力ＡＦ１との合力に周方向に沿って第２プラットフォーム１８３Ｂの側面１２１から離れる方向を向いた周方向成分Ｆｃ１を含むことがある。
この周方向成分Ｆｃ１によって、又は、ロータ３０の振動によって周方向に沿って第１天井側磁力発生部１５１１から離れた位置へダンパピン４０が移動して第２天井側磁力発生部１５１２に近づくと、磁石４１に対する第１天井側磁力発生部１５１１による反発力ＲＦ１が弱まり、第２天井側磁力発生部１５１２による吸引力ＡＦ１が強まる。その結果、ダンパピン４０は、第２天井側磁力発生部１５１２の近傍で斜面１１５Ｓに接触するとともに、さらに第２天井側磁力発生部１５１２に近づくように周方向に沿って斜面１１５Ｓ上を摺動する。
また、ダンパピン４０は、実線で示すように第２天井側磁力発生部１５１２に近づくと、磁石４１に対する第２天井側磁力発生部１５１２による吸引力ＡＦ２と、第１天井側磁力発生部１５１１による反発力ＲＦ２との合力には、周方向に沿って第２プラットフォーム１８３Ｂの側面１２１から離れる方向を向いた周方向成分Ｆｃ２が含まれるようになる。そのため、図１０に示した振動抑制装置１００によれば、第２天井側磁力発生部１５１２が設けられていない場合と比べて斜面１１５Ｓ上でダンパピン４０が摺動する距離を増やすことができ、斜面１１５Ｓ上での摺動による摩擦力によって振動減衰効果が得られる。

図１２は、さらに他の実施形態に係る振動抑制装置１００を備えた圧縮機２における凹部１１３の近傍を拡大した模式的な図である。なお、以下の説明では、図５、図９又は図１０に示した実施形態に係る構成と同じ構成には、同じ符号を付して詳細な説明については省略し、主に、図５、図９又は図１０に示した実施形態に係る構成との相違点について説明する。
図１２に示した実施形態では、磁力発生部１５０は、空所１３０の周方向の境界を形成する側壁１２３に設けられた側壁側磁力発生部１５５を含む。
図１２に示した実施形態では、側壁側磁力発生部１５５は、例えば図７に示した天井側磁力発生部１５１と同様の構成を有していてもよい。すなわち、側壁側磁力発生部１５５は、例えば柱形状を有する永久磁石であり、柱の軸方向に沿った一方側がＳ極１５５Ｓであり、他方側がＮ極１５５Ｎである。図１２に示した実施形態では、側壁側磁力発生部１５５は、例えば矩形柱形状を有するが、円柱形状を有していてもよく、三角柱形状を有していてもよく、五角以上の多角柱形状を有していてもよい。

図１２に示した実施形態では、ダンパピン４０及び側壁側磁力発生部１５５は、周方向に沿ってダンパピン４０の磁石４１のＳ極４１Ｓと側壁側磁力発生部１５５のＳ極１５５Ｓとが対向するように配置されている。図１２に示した実施形態では、ダンパピン４０及び側壁側磁力発生部１５５は、図１２には表れていないがダンパピン４０の磁石４１のＮ極４１Ｎと側壁側磁力発生部１５５のＮ極１５５Ｎとが対向するように配置されている。
図１２に示した実施形態では、側壁側磁力発生部１５５は、径方向内側に向かって側壁側磁力発生部１５５からダンパピン４０を遠ざける方向の磁力をダンパピン４０の磁石４１に対して作用させる。

より具体的には、図１２に示した実施形態では、側壁側磁力発生部１５５は、径方向内側に向う成分（径方向成分ＲＦｒ３）と、周方向に沿って第２プラットフォーム１８３Ｂの側面１２１から離れる方向を向いた周方向成分ＲＦｃ３とが含まれる反発力ＲＦ３をダンパピン４０の磁石４１に対して発生させる。
すなわち、図１２に示した実施形態では、側壁側磁力発生部１５５は、径方向内側に向かう成分（径方向成分ＲＦｒ３）と、周方向に沿ってスティック領域１３５から遠ざかる方向に向かう成分（周方向成分ＲＦｃ３）とを有する反発力ＲＦ３を磁石４１に対して発生させるように構成されている。

図１２に示した実施形態では、側壁側磁力発生部１５５は、スティック領域１３５の近傍に配置される。図１２に示した実施形態では、側壁側磁力発生部１５５は、スティック領域１３５に位置するダンパピン４０の磁石４１に対して径方向内側に向う成分（径方向成分ＲＦｒ３）を含む反発力ＲＦ３を発生させるために、側壁１２３における、斜面１１５Ｓと側面１１１との境界の近傍に配置するとよい。

図１２に示した実施形態では、側壁側磁力発生部１５５が発生する磁力によってスティック領域１３５からダンパピン４０を遠ざけることができる。これにより、ダンパピン４０がスティック状態となり難くなり、振動減衰効果の低下をさらに抑制できる。
また、図１２に示した実施形態では、側壁側磁力発生部１５５による反発力ＲＦ３のうち、径方向内側に向かう成分（径方向成分ＲＦｒ３）によって、スティック領域１３５からダンパピン４０を遠ざけることができる。これにより、ダンパピン４０がスティック状態となり難くなり、振動減衰効果の低下を抑制できる。
また、図１２に示した実施形態では、側壁側磁力発生部１５５による反発力ＲＦ３のうち、周方向に沿ってスティック領域１３５から遠ざかる方向に向かう成分（周方向成分ＲＦｃ３）によって、ダンパピン４０が斜面１１５Ｓ上を摺動し易くなる。そのため、図１２に示した実施形態では、斜面１１５Ｓ上でダンパピン４０が摺動する距離を増やすことができ、斜面１１５Ｓ上での摺動による摩擦力によって振動減衰効果が得られる。

なお、図１２に示した側壁側磁力発生部１５５は、図５、図９又は図１０に示した何れかの天井側磁力発生部１５１とともに配置してもよく、単独で配置してもよい。

なお、側壁側磁力発生部１５５は、側壁１２３における、少なくともスティック領域１３５よりも径方向内側に配置されていて、径方向内側に向かう成分を有する吸引力を磁石４１に対して発生させるように構成されていてもよい。このような側壁側磁力発生部１５５であっても、スティック領域１３５からダンパピン４０を遠ざける方向の磁力を磁石４１に対して作用させることができる。また、このような側壁側磁力発生部１５５は、図５、図９又は図１０に示した何れかの天井側磁力発生部１５１とともに配置してもよく、単独で配置してもよい。

本開示は上述した実施形態に限定されることはなく、上述した実施形態に変形を加えた形態や、これらの形態を適宜組み合わせた形態も含む。
例えば、上述した幾つかの実施形態では、磁力発生部１５０には永久磁石が用いられているが、電磁石であってもよい。

上述した幾つかの実施形態では、凹部１１３は、２つの側面１１１、１２１のうちの一方の側面１１１にだけ設けられているが、他方の側面１２１にだけ設けてもよく、２つの側面１１１、１２１の双方に設けてもよい。
２つの側面１１１、１２１の双方に凹部１１３を設けた場合、第１プラットフォーム１８３Ａにおける凹部１１３と、第２プラットフォーム１８３Ｂにおける凹部１１３とによって空所１３０が形成されるとよい。そして、この空所１３０にダンパピン４０を配置するとよい。天井側磁力発生部１５１は、第１プラットフォーム１８３Ａにおける天井壁１１７と、第２プラットフォーム１８３Ｂにおける天井壁１１７の双方に設けるとよい。

上記各実施形態に記載の内容は、例えば以下のように把握される。
（１）本開示の少なくとも一実施形態に係る回転機械用の振動抑制装置１００は、回転機械のロータの振動抑制装置であって、ロータ３０の空所１３０内に移動可能に設けられ、磁石４１を含むダンパピン４０と、空所１３０の周囲にてロータ３０に設けられる磁力発生部１５０と、を備える。磁力発生部１５０は、空所１３０のうちロータ３０の径方向外側に位置するダンパピン４０のスティック領域１３５からダンパピン４０を遠ざける方向の磁力を磁石４１に対して作用させるように構成されている。

上記（１）の構成によれば、スティック領域１３５からダンパピン４０を遠ざける方向の磁力が磁石４１に作用するので、ダンパピン４０がスティック状態となり難くなり、振動減衰効果の低下を抑制できる。

（２）幾つかの実施形態では、上記（１）の構成において、磁力発生部１５０は、空所１３０の径方向外側の境界を形成する天井壁１１７に設けられた天井側磁力発生部１５１を含む。

ダンパピン４０は、ロータ３０の回転による遠心力ＣＦで径方向外側に移動する。したがって、上記（２）の構成によれば、天井側磁力発生部１５１が空所１３０の径方向外側に配置されるので、ダンパピン４０が含む磁石４１に対して天井側磁力発生部１５１が発生する磁力を効果的に作用させることができる。

（３）幾つかの実施形態では、上記（２）の構成において、天井側磁力発生部１５１は、径方向内側に向かう成分（径方向成分ＲＦｒ）を有する反発力ＲＦを磁石４１に対して発生させるように構成されている。

上記（３）の構成によれば、反発力ＲＦによってスティック領域１３５からダンパピン４０を遠ざけることができる。

（４）幾つかの実施形態では、上記（３）の構成において、天井側磁力発生部１５１は、スティック領域１３５からロータ３０の周方向に遠ざかるにつれて径方向内側に向かう成分（径方向成分ＲＦｒ）が大きくなる反発力ＲＦを磁石４１に対して発生させるように構成されている。

上記（４）の構成によれば、上述したような反発力ＲＦを磁石４１に対して発生させるように天井側磁力発生部１５１が磁界を形成するので、該磁界から磁石４１が受ける反発力ＲＦのうち周方向成分ＲＦｃは、スティック領域１３５に近づく方向を向く。そのため、磁石４１は、周方向に沿ってスティック領域１３５に近づく方向、すなわち第１動翼１８Ａから第２動翼１８Ｂに向かう方向に向かう反発力（周方向成分ＲＦｃ）を受ける。磁石４１が該反発力を受けて移動する先に空所１３０の周方向の境界を形成する壁部（例えば側壁１２３）が存在する場合、ダンパピン４０は、該反発力によって該壁部に向かって押圧されることとなる。そのため、上記（４）の構成によれば、該壁部上（側面１２１上）でダンパピン４０が摺動すると摩擦力が得られるので、該摩擦力によって振動減衰効果が得られる。

（５）幾つかの実施形態では、上記（２）の構成において、天井側磁力発生部１５１は、第１天井側磁力発生部１５１１と、第２天井側磁力発生部１５１２とを含む。第１天井側磁力発生部１５１１は、径方向内側に向かう成分（径方向成分ＲＦｒ）を有する反発力ＲＦを磁石４１に対して発生させる。第２天井側磁力発生部１５１２は、第１天井側磁力発生部１５１１よりもスティック領域１３５からロータ３０の周方向に沿って離れた位置に設けられ、第２天井側磁力発生部１５１２に向かう成分を有する吸引力ＡＦを磁石４１に対して発生させる。

上記（５）の構成によれば、ダンパピン４０は、ロータ３０の回転による遠心力ＣＦでスティック領域１３５に移動しようとしたときに、第１天井側磁力発生部１５１１よって磁石４１が径方向内側へ向かう反発力を受ける。このとき、ロータ３０の振動によって周方向に沿って第１天井側磁力発生部１５１１から離れた位置へダンパピン４０が移動して第２天井側磁力発生部１５１２に近づくと、磁石４１に対する第１天井側磁力発生部１５１１による反発力ＲＦが弱まり、第２天井側磁力発生部１５１２による吸引力ＡＦが強まる。その結果、ダンパピン４０は、第２天井側磁力発生部１５１２の近傍で天井壁１１７に接触するとともに、さらに第２天井側磁力発生部１５１２に近づくように周方向に沿って天井壁１１７の壁面（斜面１１５Ｓ）上を摺動する。そのため、上記（５）の構成によれば、第２天井側磁力発生部１５１２が設けられていない場合と比べて斜面１１５Ｓ上でダンパピン４０が摺動する距離を増やすことができ、斜面１１５Ｓ上での摺動による摩擦力によって振動減衰効果が得られる。

（６）幾つかの実施形態では、上記（１）乃至（５）の何れかの構成において、磁力発生部１５０は、空所１３０の周方向の境界を形成する側壁１２３に設けられた側壁側磁力発生部１５５を含む。

上記（６）の構成によれば、側壁側磁力発生部１５５が発生する磁力によってスティック領域１３５からダンパピン４０を遠ざけることができる。これにより、ダンパピン４０がスティック状態となり難くなり、振動減衰効果の低下をさらに抑制できる。

（７）幾つかの実施形態では、上記（６）の構成において、側壁側磁力発生部１５５は、径方向内側に向かう成分（径方向成分ＲＦｒ３）と、ロータ３０の周方向に沿ってスティック領域１３５から遠ざかる方向に向かう成分（周方向成分ＲＦｃ３）とを有する反発力ＲＦ３を磁石４１に対して発生させるように構成されている。

上記（７）の構成によれば、側壁側磁力発生部１５５による反発力ＲＦ３のうち、径方向内側に向かう成分（径方向成分ＲＦｒ３）によって、スティック領域１３５からダンパピン４０を遠ざけることができる。これにより、ダンパピン４０がスティック状態となり難くなり、振動減衰効果の低下を抑制できる。
また、上記（７）の構成によれば、側壁側磁力発生部１５５による反発力ＲＦ３のうち、ロータ３０の周方向に沿ってスティック領域１３５から遠ざかる方向に向かう成分（周方向成分ＲＦｃ３）によって、ダンパピン４０が天井壁１１７の壁面（斜面１１５Ｓ）上を摺動し易くなる。そのため、上記（７）の構成によれば、斜面１１５Ｓ上でダンパピン４０が摺動する距離を増やすことができ、斜面１１５Ｓ上での摺動による摩擦力によって振動減衰効果が得られる。

（８）幾つかの実施形態では、上記（１）乃至（７）の何れかの構成において、スティック領域１３５は、少なくとも、下記（ａ）及び（ｂ）の条件をそれぞれ満たすダンパピン４０の外周面４０ａ上の第１点Ｐ１および第２点Ｐ２において、ダンパピン４０の外周面４０ａが空所１３０を画定する１以上の壁面（例えば斜面１１５Ｓ及び側面１２１）と接するようにダンパピン４０を空所１３０内において配置したときにダンパピン４０が占める領域である。
（ａ）第１点Ｐ１は、ダンパピン４０の外周面４０ａのうちダンパピン４０の中心Ｃよりもロータ３０の径方向外側の半円弧ＡＲ１上に位置する点である。
（ｂ）第２点Ｐ２は、第１点Ｐ１と中心Ｃを結んだ直線Ｌによって外周面４０ａを２分割して得られる２個の半円弧のうち、外周面４０ａ上でロータ３０の最も径方向外側に位置する基準点Ｐｒを含む半円弧ＡＲ２上に位置する点である。

上記（８）の構成によれば、ダンパピン４０は、径方向外側へ向かう遠心力ＣＦを受けても第１点Ｐ１及び第２点Ｐ２で接する１以上の壁面によって径方向外側への移動が規制されるとともに、該遠心力ＣＦによって第１点Ｐ１及び第２点Ｐ２で壁面を押圧する。
しかし、上記（８）の構成によれば、上記（１）の構成を備えているので、ダンパピン４０がスティック状態となり難くなり、振動減衰効果の低下を抑制できる。

（９）本開示の少なくとも一実施形態に係る回転機械（圧縮機２）は、ロータ３０と、上記（１）乃至（８）の何れかの回転機械用の振動抑制装置１００と、を備える。

上記（９）の構成によれば、ダンパピン４０がスティック状態となり難くなり、振動減衰効果の低下を抑制できるので、回転機械（圧縮機２）の振動を抑制できる。

１ ガスタービン
２ 圧縮機
６ タービン
８ ロータシャフト
１８ 圧縮機動翼（動翼）
３０ ロータ
３１ ロータディスク
４０ ダンパピン
４１ 磁石
１００ 振動抑制装置
１１１、１１２ 側面
１１３ 凹部
１１５Ｓ 斜面
１１７ 天井壁
１３０ 空所
１３５ スティック領域
１５０ 磁力発生部
１５１ 天井側磁力発生部
１５３ 磁石
１５５ 側壁側磁力発生部
１５１１ 第１天井側磁力発生部
１５１２ 第２天井側磁力発生部

Claims (9)

1. 回転機械のロータの振動抑制装置であって、
   前記ロータの空所内に移動可能に設けられ、磁石を含むダンパピンと、
   前記空所の周囲にて前記ロータに設けられる磁力発生部と、
   を備え、
   前記磁力発生部は、前記空所のうち前記ロータの径方向外側に位置する前記ダンパピンのスティック領域から前記ダンパピンを遠ざける方向の磁力を前記磁石に対して作用させるように構成された
   回転機械用の振動抑制装置。
2. 前記磁力発生部は、前記空所の径方向外側の境界を形成する天井壁に設けられた天井側磁力発生部を含む
   請求項１に記載の回転機械用の振動抑制装置。
3. 前記天井側磁力発生部は、径方向内側に向かう成分を有する反発力を前記磁石に対して発生させるように構成されている
   請求項２に記載の回転機械用の振動抑制装置。
4. 前記天井側磁力発生部は、前記スティック領域から前記ロータの周方向に遠ざかるにつれて前記径方向内側に向かう成分が大きくなる反発力を前記磁石に対して発生させるように構成されている
   請求項３に記載の回転機械用の振動抑制装置。
5. 前記天井側磁力発生部は、
   径方向内側に向かう成分を有する反発力を前記磁石に対して発生させる第１天井側磁力発生部と、
   前記第１天井側磁力発生部よりも前記スティック領域から前記ロータの周方向に沿って離れた位置に設けられた第２天井側磁力発生部と、
   を含み、
   前記第２天井側磁力発生部は、前記第２天井側磁力発生部に向かう成分を有する吸引力を前記磁石に対して発生させる
   請求項２に記載の回転機械用の振動抑制装置。
6. 前記磁力発生部は、前記空所の周方向の境界を形成する側壁に設けられた側壁側磁力発生部を含む
   請求項１乃至５の何れか一項に記載の回転機械用の振動抑制装置。
7. 前記側壁側磁力発生部は、径方向内側に向かう成分と、前記ロータの周方向に沿って前記スティック領域から遠ざかる方向に向かう成分とを有する反発力を前記磁石に対して発生させるように構成されている
   請求項６に記載の回転機械用の振動抑制装置。
8. 前記スティック領域は、少なくとも、下記（ａ）及び（ｂ）の条件をそれぞれ満たす前記ダンパピンの外周面上の第１点および第２点において、前記ダンパピンの前記外周面が前記空所を画定する１以上の壁面と接するように前記ダンパピンを前記空所内において配置したときに前記ダンパピンが占める領域である
   請求項１乃至７の何れか一項に記載の回転機械用の振動抑制装置。
   （ａ）前記第１点は、前記ダンパピンの外周面のうち該ダンパピンの中心よりも前記ロータの前記径方向外側の半円弧上に位置する点である。
   （ｂ）前記第２点は、前記第１点と前記中心を結んだ直線によって前記外周面を２分割して得られる２個の半円弧のうち、前記外周面上で前記ロータの最も前記径方向外側に位置する基準点を含む半円弧上に位置する点である。
9. ロータと、
   請求項１乃至８の何れか一項に記載の回転機械用の振動抑制装置と、
   を備える
   回転機械。

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