JP7260454B2 - 半導体チップのチップ温度センサ、流量測定装置 - Google Patents
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Description
本発明は、半導体装置の構造に係り、特に、半導体チップのチップ温度を計測するチップ温度センサに適用して有効な技術に関する。
車載用エアフローセンサは、エンジンへの吸入空気の流量を測定することで、エンジンの燃料噴射量を適正化し、燃費の向上とともに、二酸化炭素(CO2)や排出ガスの低減に貢献する内燃機関の基幹部品として位置づけられている。
代表的なエアフローセンサとして、シリコン(Si)などの半導体チップ上に不純物濃度を変えた抵抗温度係数の異なる2個の抵抗素子を直列接続した形で形成してチップ温度センサを構成し、ヒータ抵抗とその両隣に上流側温度センサと下流側温度センサとして2つのチップ温度センサを配置したものがある。
ヒータ抵抗に電流を供給して一定温度に加熱制御し、空気への熱伝達量が空気流速に依存して両隣のチップ温度センサに分配されることを利用して空気の流量と流れの方向を求める。
異なる抵抗温度係数を有する2個の抵抗素子を直列接続することで半導体チップのチップ温度を検出する例として、例えば、特許文献1に記載された技術がある。
特許文献1では、正の温度係数を有するN型拡散抵抗素子と負の温度係数を有する多結晶シリコン抵抗素子を直列接続して、これらの抵抗素子の接続点の電圧がチップ温度に応じて変化することを利用して半導体チップのチップ温度を計測する。
また、特許文献2には「互いに電気的に直列に接続されたN型抵抗部とP型抵抗部とを備え、N型抵抗部は、互いに直角をなすように配置され、かつ、電気的に直列に接続された第1N型拡散層抵抗素子と第2N型拡散層抵抗素子とを有し、P型抵抗部は、互いに直角をなすように配置され、かつ、電気的に直列に接続された第1P型拡散層抵抗素子と第2P型拡散層抵抗素子とを有し、第1N型拡散層抵抗素子は<110>方向に沿って配置され、第1P型拡散層抵抗素子は<100>方向に沿って配置される抵抗回路」が開示されている。
上記特許文献1の方式では正の温度係数と負の温度係数を有する抵抗素子を使用しているため、温度に対する感度が大きくなる利点がある。
しかしながら、実際の半導体チップでは樹脂モールドによる実装応力や半導体チップをプリント基板に固定することによって生じる実装応力が半導体チップに働く。この実装応力により、正の温度係数を有するN型拡散抵抗素子は大きく抵抗値を変化させる。また、負の温度係数を有する多結晶シリコン抵抗素子もN型拡散抵抗素子程では無いが、実装応力により抵抗値を変化させる。
また、この実装応力はプリント基板の線膨張係数やモールド樹脂の線膨張係数、半導体チップの線膨張係数の差と周囲温度の変化により変化する。また、プリント基板への取り付け時に与える熱処理やモールド樹脂を成型する温度によっても変化する。更に、モールド樹脂やプリント基板が吸湿することでも変化する。
これらによって生じる実装応力の変化はN型拡散抵抗素子や多結晶シリコン抵抗素子の抵抗値を変化させるため、チップ温度の計測に誤差を生じさせる。つまり、上記特許文献1では半導体チップに生じる実装応力に対する配慮が欠けていた。
一方、上記特許文献2は、パッケージ材料などから受ける半導体チップの応力を考慮した回路構成ではあるが、半導体チップが応力を受けた際にN型抵抗部とP型抵抗部のそれぞれの抵抗値の変化量が必ずしも等しくなるとは限らず、チップ温度の計測に誤差を生じさせる可能性がある。
そこで、本発明の目的は、実装応力の影響が小さい半導体チップのチップ温度センサを提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明は、同一の半導体チップに、第1の不純物濃度を有する第1の抵抗素子と、前記第1の抵抗素子に直列接続され、前記第1の不純物濃度と異なる第2の不純物濃度を有する第2の抵抗素子と、を備え、前記第1の抵抗素子の電流の通電方向と前記半導体チップのピエゾ抵抗係数が極小となる前記半導体チップのチップ表面内の角度方向との角度が、前記第2の抵抗素子の電流の通電方向と前記半導体チップのピエゾ抵抗係数が極小となる前記半導体チップのチップ表面内の角度方向との角度よりも大きいことを特徴とする。
また、本発明は、半導体チップ上に、ヒータ抵抗と、前記ヒータ抵抗の両隣に上流側温度センサと下流側温度センサと、を備える流量測定装置であって、前記上流側温度センサ及び前記下流側温度センサは、上記の半導体チップのチップ温度センサであることを特徴とする。
本発明によれば、実装応力の影響が小さい半導体チップのチップ温度センサを提供することが可能となる。
これにより、半導体チップのチップ温度センサ、及びそれを用いた流量測定装置(エアフローセンサ)の検出精度の向上が図れる。
上記した以外の課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。
以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。なお、各図面において同一の構成については同一の符号を付し、重複する部分についてはその詳細な説明は省略する。
先ず、図1から図5を参照して、本発明の第1の実施例である半導体チップのチップ温度センサについて説明する。なお、図1は本実施例の半導体チップのチップ温度センサの回路図、図2はN型拡散抵抗素子1,2の半導体チップ上の配置図、図3は不純物濃度と抵抗温度係数の関係を示す図、図4は不純物濃度とピエゾ抵抗係数の関係を示す図、図5はN型拡散抵抗素子の電流の通電方向と<110>方向との角度θとピエゾ抵抗係数の関係を示す図である。
本実施例の半導体チップのチップ温度センサは、図1に示すように、不純物濃度の高いN型拡散抵抗素子1と、不純物濃度の低いN型拡散抵抗素子2と、N型拡散抵抗素子1とN型拡散抵抗素子2の接続点の電圧を増幅する増幅器3により構成される。N型拡散抵抗素子1は、一端が電源電圧Vccに接続され、他端がN型拡散抵抗素子2に接続されている。N型拡散抵抗素子2は、一端がグランドに接続され、他端がN型拡散抵抗素子1に接続されている。
また、図2に示すように、N型拡散抵抗素子1とN型拡散抵抗素子2はシリコン(Si)からなる同一の半導体チップ4に配置され、N型拡散抵抗素子1の長手方向を<110>の結晶軸方向からθpの角度だけずらして配置し、N型拡散抵抗素子2の長手方向は<110>の結晶軸方向に配置している。
なお、図示していないが、N型拡散抵抗素子1,2の電流の通電方向は、それぞれN型拡散抵抗素子1,2の長手方向になるようにN型拡散抵抗素子1,2の長手方向の両端にコンタクトを設けている。また、N型拡散抵抗素子1,2ではピエゾ抵抗係数が極小となる半導体チップ4のチップ表面内の角度方向は<110>になる。
また、半導体チップ4を構成するシリコンの結晶構造は単純立方晶なので[110]、[101]、[011]などは等価であるため、これらを<110>と記載した。
次に、本実施例のチップ温度検出の動作について説明する。図3に示すように、拡散抵抗素子の抵抗温度係数は不純物濃度に応じて変化するので、不純物濃度の高いN型拡散抵抗素子1と不純物濃度の低いN型拡散抵抗素子2とでは抵抗温度係数が異なり、不純物濃度の高いN型拡散抵抗素子1の抵抗温度係数は小さく、不純物濃度の低いN型拡散抵抗素子2の抵抗温度係数は大きくなる。
ここで、半導体チップ4のチップ温度が変化すると、N型拡散抵抗素子1の抵抗値の変化よりも、N型拡散抵抗素子2の抵抗値の変化の方が大きくなる。この結果、N型拡散抵抗素子1とN型拡散抵抗素子2の接続点の電圧は半導体チップ4のチップ温度に応じて変化するので、この電圧を増幅器3で増幅することで半導体チップ4のチップ温度に応じた出力電圧Voutを得ることができる。
次に、本実施例の実装応力影響について説明する。図4に示すように、拡散抵抗素子のピエゾ抵抗係数は不純物濃度に応じて変化し、不純物濃度の高いN型拡散抵抗素子1と不純物濃度の低いN型拡散抵抗素子2とではピエゾ抵抗係数が異なり、不純物濃度の高いN型拡散抵抗素子1のピエゾ抵抗係数は小さく、不純物濃度の低いN型拡散抵抗素子2のピエゾ抵抗係数は大きくなる。
この結果、半導体チップ4に実装応力が働くと、N型拡散抵抗素子1の抵抗値の変化よりも、N型拡散抵抗素子2の抵抗値の方が大きく変化し、N型拡散抵抗素子1とN型拡散抵抗素子2の接続点の電圧が変化する。このことでチップ温度の計測に誤差を生じさせる。
N型拡散抵抗素子の場合、図5に示すように、ピエゾ抵抗係数は不純物濃度と電流の通電方向と<110>方向との角度θに応じて変化する。そこで、異なる不純物濃度のN型拡散抵抗素子1,2であっても角度θを適切に選択することでN型拡散抵抗素子1,2のピエゾ抵抗係数を等しくできる。
本実施例においては、N型拡散抵抗素子1の電流の通電方向と<110>方向との角度θをθpに設定し、N型拡散抵抗素子2の電流の通電方向と<110>方向との角度θをゼロに設定することでN型拡散抵抗素子1とN型拡散抵抗素子2のピエゾ抵抗係数を等しくしている。
こうすることで、半導体チップ4に実装応力が働いたとしてもN型拡散抵抗素子1,2の抵抗値は同じだけ変化するので、N型拡散抵抗素子1とN型拡散抵抗素子2の接続点の電圧は変化しない。つまり、半導体チップ4に実装応力が働いたとしてもチップ温度の計測誤差を無くすことができる。
なお、N型拡散抵抗素子のピエゾ抵抗係数が極小になる電流の通電方向は図5からも明らかなように90°毎に存在するが、これらは全て<110>方向なので、N型拡散抵抗素子1,2の電流の通電方向を90°、180°270°回転させても実装応力が一様(全方向に引っ張りあるいは圧縮の応力が掛かった状態)である場合は等価である。
また、本実施例では、N型拡散抵抗素子1,2には共にN型拡散抵抗を用いて説明した。これはN型拡散抵抗とP型拡散抵抗ではピエゾ抵抗係数の極性が異なるので本実施例のように抵抗素子に流れる電流方向を変える方法ではピエゾ抵抗係数の大きさしか変更できないため、N型拡散抵抗素子1,2には共にN型拡散抵抗を用いている。
次に、図6から図8を参照して、本発明の第2の実施例である半導体チップのチップ温度センサについて説明する。なお、図6は本実施例の半導体チップのチップ温度センサの回路図、図7はP型拡散抵抗素子5,6の半導体チップ上の配置図、図8はP型拡散抵抗素子の電流の通電方向と<100>方向との角度θとピエゾ抵抗係数の関係を示す図である。
本実施例の半導体チップのチップ温度センサは、図6に示すように、不純物濃度の高いP型拡散抵抗素子5と、不純物濃度の低いP型拡散抵抗素子6と、P型拡散抵抗素子5とP型拡散抵抗素子6の接続点の電圧を増幅する増幅器7により構成される。P型拡散抵抗素子5は、一端が電源電圧Vccに接続され、他端がP型拡散抵抗素子6に接続されている。P型拡散抵抗素子6は、一端がグランドに接続され、他端がP型拡散抵抗素子5に接続されている。
また、図7に示すように、P型拡散抵抗素子5とP型拡散抵抗素子6はシリコン(Si)からなる同一の半導体チップ8に配置され、P型拡散抵抗素子5の長手方向を<100>の結晶軸方向からθpの角度だけずらして配置し、P型拡散抵抗素子6の長手方向は<100>の結晶軸方向に配置している。
なお、図示していないが、P型拡散抵抗素子5,6の電流の通電方向は、それぞれP型拡散抵抗素子5,6の長手方向になるようにP型拡散抵抗素子5,6の長手方向の両端にコンタクトを設けている。また、P型拡散抵抗素子5,6ではピエゾ抵抗係数が極小となる半導体チップ8のチップ表面内の角度方向は<100>になる。
また、半導体チップ8を構成するシリコンの結晶構造は単純立方晶なので[100]、[010]、[001]などは等価であるため、これらは<100>と記載した。
次に、本実施例のチップ温度検出の動作について説明する。図3に示すように、P型拡散抵抗素子でも抵抗温度係数は不純物濃度に応じて変化するので、不純物濃度の高いP型拡散抵抗素子5と不純物濃度の低いP型拡散抵抗素子6とでは抵抗温度係数が異なり、不純物濃度の高いP型拡散抵抗素子5の抵抗温度係数は小さく、不純物濃度の低いP型拡散抵抗素子6の抵抗温度係数は大きくなる。
ここで、半導体チップ8のチップ温度が変化すると、P型拡散抵抗素子5の抵抗値の変化よりも、P型拡散抵抗素子6の抵抗値の変化の方が大きくなる。この結果、P型拡散抵抗素子5とP型拡散抵抗素子6の接続点の電圧は半導体チップ8のチップ温度に応じて変化するので、この電圧を増幅器7で増幅することで半導体チップ8のチップ温度に応じた出力電圧Voutを得ることができる。
次に、本実施例の実装応力影響について説明する。図4に示すように、P型拡散抵抗素子でもピエゾ抵抗係数は不純物濃度に応じて変化するので、不純物濃度の高いP型拡散抵抗素子5と不純物濃度の低いP型拡散抵抗素子6とではピエゾ抵抗係数が異なり、不純物濃度の高いP型拡散抵抗素子5のピエゾ抵抗係数は小さく、不純物濃度の低いP型拡散抵抗素子6のピエゾ抵抗係数は大きくなる。
この結果、半導体チップ8に実装応力が働くと、P型拡散抵抗素子5の抵抗値の変化よりも、P型拡散抵抗素子6の抵抗値の方が大きく変化し、P型拡散抵抗素子5とP型拡散抵抗素子6の接続点の電圧が変化する。このことでチップ温度の計測に誤差を生じさせる。
P型拡散抵抗素子の場合、図8に示すように、ピエゾ抵抗係数は不純物濃度と電流の通電方向と<100>方向との角度θに応じて変化する。そこで、異なる不純物濃度のP型拡散抵抗素子5,6であっても角度θを適切に選択することでP型拡散抵抗素子5,6のピエゾ抵抗係数を等しくできる。
本実施例においては、P型拡散抵抗素子5の電流の通電方向と<100>方向との角度θをθpに設定し、P型拡散抵抗素子6の電流の通電方向と<100>方向との角度θをゼロに設定することでP型拡散抵抗素子5とP型拡散抵抗素子6のピエゾ抵抗係数を等しくしている。
こうすることで、半導体チップ8に実装応力が働いたとしてもP型拡散抵抗素子5,6の抵抗値は同じだけ変化するので、P型拡散抵抗素子5とP型拡散抵抗素子6の接続点の電圧は変化しない。つまり、半導体チップ8に実装応力が働いたとしてもチップ温度の計測誤差を無くすことができる。
本実施例の半導体チップのチップ温度センサは、言い換えると、第1の抵抗素子(P型拡散抵抗素子5)および第2の抵抗素子(P型拡散抵抗素子6)は、共にP型拡散抵抗素子であり、第1の抵抗素子(P型拡散抵抗素子5)の電流の通電方向と半導体チップ8の<100>方向との間に成す角度(θp)が、第2の抵抗素子(P型拡散抵抗素子6)の電流の通電方向と半導体チップ8の<100>方向との間に成す角度よりも大きくなるように構成されている。
また、第2の抵抗素子(P型拡散抵抗素子6)の電流の通電方向と半導体チップ8のピエゾ抵抗係数が極小となる半導体チップ8のチップ表面内の角度方向との角度が等しくなるように構成されている。
なお、P型拡散抵抗素子のピエゾ抵抗係数が極小になる電流の通電方向は図8からも明らかなように90°毎に存在するが、これらは全て<100>方向なので、P型拡散抵抗素子5,6の電流の通電方向を90°、180°270°回転させても実装応力が一様(全方向に引っ張りあるいは圧縮の応力が掛かった状態)である場合は等価である。
また、本実施例では、P型拡散抵抗素子5,6には共にP型拡散抵抗を用いて説明した。これはN型拡散抵抗とP型拡散抵抗ではピエゾ抵抗係数の極性が異なるので本実施例のように抵抗素子に流れる電流方向を変える方法ではピエゾ抵抗係数の大きさしか変更できないため、P型拡散抵抗素子5,6には共にP型拡散抵抗を用いている。
次に、図9から図11を参照して、本発明の第3の実施例である半導体チップのチップ温度センサについて説明する。なお、図9は本実施例の半導体チップのチップ温度センサの回路図、図10はN型拡散抵抗素子1,2の半導体チップ上の配置図、図11はN型拡散抵抗素子の電流の通電方向と<110>方向との角度θとピエゾ抵抗係数の関係を示す図である。
本実施例の半導体チップのチップ温度センサは、図10に示すように、N型拡散抵抗素子1の長手方向を<110>の結晶軸方向からθp2の角度だけずらして配置し、N型拡散抵抗素子2の長手方向は<110>の結晶軸方向からθp1の角度だけずらして配置している点において、実施例1の半導体チップのチップ温度センサとは異なる。図9に示すように、N型拡散抵抗素子1やN型拡散抵抗素子2、増幅器3の接続関係など、その他の構成は、基本的に実施例1と同様である。
<110>の結晶軸方向に対し、N型拡散抵抗素子1の長手方向及びN型拡散抵抗素子2の長手方向を、それぞれθp2,θp1の角度だけずらして配置することで、図11に示すように不純物濃度の異なるN型拡散抵抗素子1,2のピエゾ抵抗係数を等しくしている。
こうすることで、半導体チップ4に実装応力が働いたとしてもN型拡散抵抗素子1,2の抵抗値は同じだけ変化するので、N型拡散抵抗素子1とN型拡散抵抗素子2の接続点の電圧は変化しない。つまり、半導体チップ4に実装応力が働いたとしてもチップ温度の計測誤差を無くすことができる。
なお、不純物濃度の高い方の抵抗素子であるN型拡散抵抗素子1の電流の通電方向とピエゾ抵抗係数が極小となる方向である<110>方向との角度θp2を不純物濃度の低い方の抵抗素子であるN型拡散抵抗素子2の電流の通電方向とピエゾ抵抗係数が極小となる方向である<110>方向との角度θp1よりも大きくすることで、N型拡散抵抗素子1,2のピエゾ抵抗係数を近づけることができ、実装応力の影響を確実に低減することができる。(θp2>θp1)
以上説明したように、本実施例の半導体チップのチップ温度センサは、同一の半導体チップ4に、第1の不純物濃度を有する第1の抵抗素子(N型拡散抵抗素子1)と、第1の抵抗素子(N型拡散抵抗素子1)に直列接続され、第1の不純物濃度と異なる第2の不純物濃度を有する第2の抵抗素子(N型拡散抵抗素子2)と、を備えており、第1の抵抗素子(N型拡散抵抗素子1)の電流の通電方向と半導体チップ4のピエゾ抵抗係数が極小となる半導体チップ4のチップ表面内の角度方向との角度(θp2)が、第2の抵抗素子(N型拡散抵抗素子2)の電流の通電方向と半導体チップ4のピエゾ抵抗係数が極小となる半導体チップ4のチップ表面内の角度方向との角度(θp1)よりも大きくなるように構成されている。
以上説明したように、本実施例の半導体チップのチップ温度センサは、同一の半導体チップ4に、第1の不純物濃度を有する第1の抵抗素子(N型拡散抵抗素子1)と、第1の抵抗素子(N型拡散抵抗素子1)に直列接続され、第1の不純物濃度と異なる第2の不純物濃度を有する第2の抵抗素子(N型拡散抵抗素子2)と、を備えており、第1の抵抗素子(N型拡散抵抗素子1)の電流の通電方向と半導体チップ4のピエゾ抵抗係数が極小となる半導体チップ4のチップ表面内の角度方向との角度(θp2)が、第2の抵抗素子(N型拡散抵抗素子2)の電流の通電方向と半導体チップ4のピエゾ抵抗係数が極小となる半導体チップ4のチップ表面内の角度方向との角度(θp1)よりも大きくなるように構成されている。
そして、第1の不純物濃度は、第2の不純物濃度よりも高くなるように形成されている。
また、本実施例の半導体チップのチップ温度センサは、言い換えると、第1の抵抗素子(N型拡散抵抗素子1)の電流の通電方向と半導体チップ4の<110>方向との間に成す角度(θp2)が、第2の抵抗素子(N型拡散抵抗素子2)の電流の通電方向と半導体チップ4の<110>方向との間に成す角度(θp1)よりも大きくなるように構成されている。
なお、本実施例では、N型拡散抵抗素子1の電流の通電方向を<110>の結晶軸方向からθp2の角度だけずらして配置し、N型拡散抵抗素子2の電流の通電方向は<110>の結晶軸方向からθp1の角度だけずらして配置しているが、N型拡散抵抗素子1,2の各々のピエゾ抵抗係数自体を小さくした方が実装応力の影響を小さくできるので、N型拡散抵抗素子2の電流の通電方向は<110>の結晶軸方向にした方がより好適である。
また、実施例2のように、P型の拡散抵抗素子を用いた場合はP型拡散抵抗素子の電流の通電方向は<100>の結晶軸方向にした方が良い。
次に、図12及び図13を参照して、本発明の第4の実施例である半導体チップのチップ温度センサについて説明する。なお、図12は本実施例の半導体チップのチップ温度センサの回路図、図13はN型拡散抵抗素子9,10,11,12の半導体チップ上の配置図である。
本実施例の半導体チップのチップ温度センサは、図12及び図13に示すように、実施例1(図1及び図2)のN型拡散抵抗素子1の代わりにN型拡散抵抗素子9,10を配置し、N型拡散抵抗素子2の代わりにN型拡散抵抗素子11,12を配置している点において、実施例1の半導体チップのチップ温度センサとは異なる。
N型拡散抵抗素子9は、一端が電源電圧Vccに接続され、他端がN型拡散抵抗素子10に接続されている。N型拡散抵抗素子10は、一端がN型拡散抵抗素子9に接続され、他端がN型拡散抵抗素子11に接続されている。N型拡散抵抗素子11は、一端がN型拡散抵抗素子10に接続され、他端がN型拡散抵抗素子12に接続されている。N型拡散抵抗素子12は、一端がグランドに接続され、他端がN型拡散抵抗素子11に接続されている。
なお、N型拡散抵抗素子10とN型拡散抵抗素子11の接続点に増幅器3が接続されている点など、その他の構成は、基本的に実施例1と同様である。
図13に示すように、本実施例では、N型拡散抵抗素子1の代わりにN型拡散抵抗素子9,10を配置し、N型拡散抵抗素子10の長手方向を<110>の結晶軸方向からθpの角度だけずらして配置し、N型拡散抵抗素子9の長手方向は90°ずれた<110>の結晶軸方向からθpの角度だけずらして配置し、N型拡散抵抗素子2の代わりにN型拡散抵抗素子11,12を配置し、N型拡散抵抗素子12の長手方向を<110>の結晶軸方向に配置し、N型拡散抵抗素子11の長手方向を90°ずれた<110>の結晶軸方向に配置している。
本実施例の半導体チップのチップ温度センサは、言い換えると、第2の抵抗素子は、第3の抵抗素子(N型拡散抵抗素子11)と第4の抵抗素子(N型拡散抵抗素子12)の直列接続で構成されており、第3の抵抗素子(N型拡散抵抗素子11)の電流の通電方向と第4の抵抗素子(N型拡散抵抗素子12)の電流の通電方向は、互いに直角となるように構成されている。
また、第1の抵抗素子は、第5の抵抗素子(N型拡散抵抗素子9)と第6の抵抗素子(N型拡散抵抗素子10)の直列接続で構成されており、第5の抵抗素子(N型拡散抵抗素子9)の電流の通電方向と第6の抵抗素子(N型拡散抵抗素子10)の電流の通電方向は、互いに直角となるように構成されている。
なお、N型拡散抵抗素子9,10,11,12の電流の通電方向が、それぞれN型拡散抵抗素子9,10,11,12の長手方向になるようにN型拡散抵抗素子9,10,11,12の長手方向の両端にコンタクトを設けている。
本実施例では、N型拡散抵抗素子1の代わりにN型拡散抵抗素子9と90°回転したN型拡散抵抗素子10を配置することで、実装応力が一様でなく、例えば、図13に示したX軸方向に引っ張り応力、Y向に圧縮応力が働いたような状態でもN型拡散抵抗素子9,10の合成抵抗とN型拡散抵抗素子11,12の合成抵抗の実装応力による影響を等しくすることができる。このことは上記特許文献2に詳しく記載されている。
つまり、実装応力の働き方が如何なる角度方向からの応力であっても、一様に全体的に引っ張り応力の様な状態であったとしても、N型拡散抵抗素子9,10の合成抵抗とN型拡散抵抗素子11,12の合成抵抗の実装応力による影響を等しくできる。
この結果、実装応力の働き方がいかようになっても、実装応力によるチップ温度の計測の誤差を無くすことができる。
つまり、不純物濃度の高い方のN型拡散抵抗素子9,10を直列接続で構成し、N型拡散抵抗素子9,10の電流の通電方向は互いに直角になるように配置し、不純物濃度の低い方のN型拡散抵抗素子11,12を直列接続で構成し、N型拡散抵抗素子11,12の電流の通電方向は互いに直角になるように配置することで、実装応力の働き方がいかようになっても、実装応力によるチップ温度の計測の誤差を無くすことができる。
次に、図14及び図15を参照して、本発明の第5の実施例である半導体チップのチップ温度センサについて説明する。なお、図14は本実施例の半導体チップのチップ温度センサの回路図、図15はN型拡散抵抗素子1,2,13,14の半導体チップ上の配置図である。
本実施例の半導体チップのチップ温度センサは、図14及び図15に示すように、実施例1(図1及び図2)の構成に加えて、N型拡散抵抗素子13,14と切り換え手段15,16,17を配置している点において、実施例1の半導体チップのチップ温度センサとは異なる。
N型拡散抵抗素子1は、一端が電源電圧Vccに接続され、他端が切り換え手段16を介してN型拡散抵抗素子2に接続されている。N型拡散抵抗素子13は、一端が電源電圧Vccに接続され、他端が切り換え手段15を介してN型拡散抵抗素子2に接続されている。N型拡散抵抗素子14は、一端が電源電圧Vccに接続され、他端が切り換え手段17を介してN型拡散抵抗素子2に接続されている。
なお、N型拡散抵抗素子1,13,14とN型拡散抵抗素子2の接続点に増幅器3が接続されている点など、その他の構成は、基本的に実施例1と同様である。
図15に示すように、本実施例では、N型拡散抵抗素子13の長手方向を<110>の結晶軸方向からθp―αの角度だけずらして配置し、N型拡散抵抗素子14の長手方向を<110>の結晶軸方向からθp+αの角度だけずらして配置している。また、N型拡散抵抗素子2と接続するN型拡散抵抗素子を選択するために切り換え手段15,16,17を配置している。
切り換え手段15,16,17は、スイッチや配線の有無、ヒューズなどの接続の有無を切り換えることができる構成であれば良い。また、N型拡散抵抗素子1,2,13,14の電流の通電方向がN型拡散抵抗素子1,2,13,14の長手方向になるようにN型拡散抵抗素子1,2,13,14の長手方向の両端にコンタクトを設けている。
本実施例の半導体チップのチップ温度センサは、言い換えると、第1の抵抗素子は、電流の通電方向の角度が異なる複数の抵抗素子(N型拡散抵抗素子1,13,14)で構成され、複数の抵抗素子(N型拡散抵抗素子1,13,14)の各々と第2の抵抗素子(N型拡散抵抗素子2)との接続を切り換える切り換え手段15,16,17を有している。
本実施例では、N型拡散抵抗素子13,14を設けて、N型拡散抵抗素子1の代わりにN型拡散抵抗素子13,14を切り換え手段15,15,17を用いてN型拡散抵抗素子2に接続できるようにしている。このことによって、N型拡散抵抗素子1,2,13,14の不純物濃度が変化しても適切なN型拡散抵抗素子の電流の通電方向とピエゾ抵抗係数が極小となる方向である<110>方向との角度を選択できるようになる。
なお、以上の各実施例において説明した半導体チップのチップ温度センサを流量測定装置(エアフローセンサ)に搭載することで、空気流量の検出精度の向上を図ることができる。
この場合、流量測定装置(エアフローセンサ)は、半導体チップ上に、ヒータ抵抗と、ヒータ抵抗の両隣に上流側温度センサと下流側温度センサと、を備えて構成され、上流側温度センサ及び下流側温度センサに、実施例1から5のいずれかで説明した半導体チップのチップ温度センサを用いる。
また、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
1…N型拡散抵抗素子(高不純物濃度)、2…N型拡散抵抗素子(低不純物濃度)、3…増幅器、4…半導体チップ、5…P型拡散抵抗素子(高不純物濃度)、6…P型拡散抵抗素子(低不純物濃度)、7…増幅器、8…半導体チップ、9…N型拡散抵抗素子、10…N型拡散抵抗素子、11…N型拡散抵抗素子、12…N型拡散抵抗素子、13…N型拡散抵抗素子、14…N型拡散抵抗素子、15…切り換え手段、16…切り換え手段、17…切り換え手段。
Claims (12)
- 同一の半導体チップに、第1の不純物濃度を有する第1の抵抗素子と、
前記第1の抵抗素子に直列接続され、前記第1の不純物濃度と異なる第2の不純物濃度を有する第2の抵抗素子と、を備え、
前記第1の抵抗素子の電流の通電方向と前記半導体チップのピエゾ抵抗係数が極小となる前記半導体チップのチップ表面内の角度方向との角度が、前記第2の抵抗素子の電流の通電方向と前記半導体チップのピエゾ抵抗係数が極小となる前記半導体チップのチップ表面内の角度方向との角度よりも大きい半導体チップのチップ温度センサ。 - 請求項1に記載の半導体チップのチップ温度センサであって、
前記第1の不純物濃度は、前記第2の不純物濃度よりも高い半導体チップのチップ温度センサ。 - 請求項1に記載の半導体チップのチップ温度センサであって、
前記第1の抵抗素子および前記第2の抵抗素子は、共にN型拡散抵抗素子、或いは、共にP型拡散抵抗素子である半導体チップのチップ温度センサ。 - 請求項2に記載の半導体チップのチップ温度センサであって、
前記第1の抵抗素子および前記第2の抵抗素子は、共にN型拡散抵抗素子であり、
前記第1の抵抗素子の電流の通電方向と前記半導体チップの<110>方向との間に成す角度が、前記第2の抵抗素子の電流の通電方向と前記半導体チップの<110>方向との間に成す角度よりも大きい半導体チップのチップ温度センサ。 - 請求項2に記載の半導体チップのチップ温度センサであって、
前記第1の抵抗素子および前記第2の抵抗素子は、共にP型拡散抵抗素子であり、
前記第1の抵抗素子の電流の通電方向と前記半導体チップの<100>方向との間に成す角度が、前記第2の抵抗素子の電流の通電方向と前記半導体チップの<100>方向との間に成す角度よりも大きい半導体チップのチップ温度センサ。 - 請求項2に記載の半導体チップのチップ温度センサであって、
前記第2の抵抗素子の電流の通電方向と前記半導体チップのピエゾ抵抗係数が極小となる前記半導体チップのチップ表面内の角度方向との角度が等しい半導体チップのチップ温度センサ。 - 請求項4に記載の半導体チップのチップ温度センサであって、
前記第2の抵抗素子の電流の通電方向と前記半導体チップの<110>方向が等しい半導体チップのチップ温度センサ。 - 請求項5に記載の半導体チップのチップ温度センサであって、
前記第2の抵抗素子の電流の通電方向と前記半導体チップの<100>方向が等しい半導体チップのチップ温度センサ。 - 請求項2に記載の半導体チップのチップ温度センサであって、
前記第2の抵抗素子は、第3の抵抗素子と第4の抵抗素子の直列接続で構成され、
前記第3の抵抗素子の電流の通電方向と前記第4の抵抗素子の電流の通電方向は、互いに直角である半導体チップのチップ温度センサ。 - 請求項2に記載の半導体チップのチップ温度センサであって、
前記第1の抵抗素子は、第5の抵抗素子と第6の抵抗素子の直列接続で構成され、
前記第5の抵抗素子の電流の通電方向と前記第6の抵抗素子の電流の通電方向は、互いに直角である半導体チップのチップ温度センサ。 - 請求項2に記載の半導体チップのチップ温度センサであって、
前記第1の抵抗素子は、電流の通電方向の角度が異なる複数の抵抗素子で構成され、
前記複数の抵抗素子の各々と前記第2の抵抗素子との接続を切り換える切り換え手段を有する半導体チップのチップ温度センサ。 - 半導体チップ上に、ヒータ抵抗と、
前記ヒータ抵抗の両隣に上流側温度センサと下流側温度センサと、を備える流量測定装置であって、
前記上流側温度センサ及び前記下流側温度センサは、請求項1から11のいずれか1項に記載の半導体チップのチップ温度センサである流量測定装置。
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