JP7252767B2 - Method for manufacturing suspension board with circuit, and suspension board assembly with circuit - Google Patents

Method for manufacturing suspension board with circuit, and suspension board assembly with circuit Download PDF

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本発明は、回路付サスペンション基板の製造方法、および、回路付サスペンション基板集合体に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a suspension board with circuit and a suspension board assembly with circuit.

従来より、磁気ヘッドを有するスライダが実装され、ハードディスクドライブに搭載される回路付サスペンション基板が知られている。 2. Description of the Related Art Conventionally, a suspension board with circuit mounted with a slider having a magnetic head and mounted on a hard disk drive has been known.

例えば、金属支持基板と、金属支持基板の一方面に配置されるベース絶縁層と、ベース絶縁層の一方面に配置される導体パターンと、ベース絶縁層の一方面に配置され、導体パターンを被覆するカバー絶縁層と、カバー絶縁層の一方面に配置され、スライダを支持する支持層と、を備える回路付サスペンション基板が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 For example, a metal supporting substrate, a base insulating layer arranged on one side of the metal supporting substrate, a conductor pattern arranged on one side of the base insulating layer, and a conductor pattern arranged on one side of the base insulating layer and covering the conductive pattern A suspension board with circuit has been proposed that includes an insulating cover layer that supports a slider, and a support layer that is disposed on one side of the insulating cover layer and supports a slider (see, for example, Patent Document 1).

そして、そのような回路付サスペンション基板を製造するには、まず、金属支持基板上に感光性樹脂を含むワニスを塗布した後、露光および現像してベース絶縁層を形成する。その後、ベース絶縁層上に、アディティブ法またはサブトラクティブ法によって導体パターンを形成し、続いて、感光性樹脂を含むワニスを、ベース絶縁層および導体パターン上に塗布した後、露光および現像してカバー絶縁層を形成する。次いで、感光性樹脂を含むワニスを、カバー絶縁層上に塗布した後、露光および現像して支持層を形成する。 In order to manufacture such a suspension board with circuit, first, a varnish containing a photosensitive resin is coated on a metal supporting board, and then exposed and developed to form an insulating base layer. After that, a conductive pattern is formed on the base insulating layer by an additive method or a subtractive method, and then a varnish containing a photosensitive resin is applied on the base insulating layer and the conductive pattern, and then exposed and developed to cover. forming an insulating layer; Next, a varnish containing a photosensitive resin is applied onto the insulating cover layer, and then exposed and developed to form a support layer.

特開2016-152051号公報JP 2016-152051 A

しかるに、特許文献1に記載される回路付サスペンション基板の製造において、例えば、露光が実施されないなどのエラーにより、絶縁層(ベース絶縁層、カバー絶縁層および支持層)の形成不良が生じる場合がある。 However, in the production of the suspension board with circuit described in Patent Document 1, there are cases where the insulating layers (the insulating base layer, the insulating cover layer, and the support layer) are poorly formed due to errors such as failure to perform exposure. .

そこで、回路付サスペンション基板の製造において、絶縁層の形成不良を検査して、回路付サスペンション基板の品質の向上を図ることが望まれている。 Therefore, in manufacturing the suspension board with circuit, it is desired to improve the quality of the suspension board with circuit by inspecting the formation defect of the insulating layer.

本発明は、第1絶縁層および/または第2絶縁層の形成不良を検査することができる回路付サスペンション基板の製造方法および回路付サスペンション基板集合体を提供する。 The present invention provides a method of manufacturing a suspension board with circuit and a suspension board assembly with circuit, which can inspect formation defects of the first insulating layer and/or the second insulating layer.

本発明[1]は、金属支持層を準備する工程と、前記金属支持層の厚み方向一方面に第1絶縁層を形成する工程と、前記第1絶縁層の前記厚み方向一方側に導体パターンを形成する工程と、前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に第2絶縁層を形成する工程と、前記第1絶縁層および/または前記第2絶縁層の形成不良を検査する工程と、を含み、前記第1絶縁層を形成する工程および/または前記第2絶縁層を形成する工程では、前記第1絶縁層および/または前記第2絶縁層の形成と同一工程により、前記金属支持層の前記厚み方向一方面における前記第1絶縁層と異なる位置に検査絶縁層を形成し、前記検査する工程において、前記検査絶縁層にプローブを接触させて、前記金属支持層との導通を検査する、回路付サスペンション基板の製造方法を含んでいる。 The present invention [1] comprises the steps of preparing a metal supporting layer, forming a first insulating layer on one side of the metal supporting layer in the thickness direction, and forming a conductive pattern on one side of the first insulating layer in the thickness direction. forming a second insulating layer on one side in the thickness direction of the first insulating layer; and inspecting a formation defect of the first insulating layer and/or the second insulating layer; In the step of forming the first insulating layer and/or the step of forming the second insulating layer, the metal support layer is formed by the same step as the step of forming the first insulating layer and/or the second insulating layer forming an inspection insulating layer at a position different from the first insulating layer on one side in the thickness direction, and in the step of inspecting, bringing a probe into contact with the inspection insulating layer to inspect continuity with the metal support layer , a method of manufacturing a suspension board with circuit.

このような方法によれば、第1絶縁層および/または第2絶縁層の形成と同一工程により検査絶縁層を形成するので、それら絶縁層を形成する工程が正常に実施されると、第1絶縁層および/または第2絶縁層と検査絶縁層との両方が形成される一方、それら絶縁層を形成する工程においてエラーが生じると、第1絶縁層および/または第2絶縁層と検査絶縁層との両方に形成不良が生じる。 According to this method, the test insulating layer is formed in the same step as the formation of the first insulating layer and/or the second insulating layer. While both the insulating layer and/or the second insulating layer and the test insulating layer are formed, if an error occurs in the process of forming the insulating layers, the first insulating layer and/or the second insulating layer and the test insulating layer are formed. malformation occurs in both

そのため、検査する工程において、プローブが検査絶縁層と接触して金属支持層との導通が阻害されると、第1絶縁層および/または第2絶縁層が正常に形成されていると確認でき、プローブが検査絶縁層と接触することなく金属支持層と接触して導通すると、第1絶縁層および/または第2絶縁層に形成不良が生じていると確認できる。 Therefore, in the inspection process, if the probe contacts the inspection insulating layer and the conduction with the metal support layer is blocked, it can be confirmed that the first insulating layer and/or the second insulating layer are formed normally. If the probe contacts and conducts with the metal support layer without contacting the test insulating layer, it can be confirmed that the first insulating layer and/or the second insulating layer are malformed.

その結果、簡易な方法でありながら、第1絶縁層および/または第2絶縁層の形成不良を検査することができる。 As a result, it is possible to inspect for formation defects of the first insulating layer and/or the second insulating layer using a simple method.

本発明[2]は、前記第2絶縁層を形成する工程は、前記導体パターンを被覆するように、前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に第1カバー絶縁層を形成する工程と、前記第1カバー絶縁層の前記厚み方向一方面に第2カバー絶縁層を形成する工程と、を含み、前記第2カバー絶縁層を形成する工程は、前記第1カバー絶縁層の前記厚み方向一方面と、前記金属支持層の前記厚み方向一方面における前記第1絶縁層と異なる位置とに、感光性樹脂を含有するワニスを一括して塗布する工程と、塗布された前記ワニスを露光および現像して、前記第2カバー絶縁層と前記検査絶縁層とを同時に形成する、上記[1]に記載の回路付サスペンション基板の製造方法を含む。 In the present invention [2], the step of forming the second insulating layer includes forming a first insulating cover layer on one surface in the thickness direction of the first insulating layer so as to cover the conductor pattern; and forming a second insulating cover layer on one side in the thickness direction of the first insulating cover layer, wherein the step of forming the second insulating cover layer is performed on the one side in the thickness direction of the first insulating cover layer. a step of collectively applying a varnish containing a photosensitive resin to the surface and a position different from the first insulating layer on the one surface in the thickness direction of the metal support layer; and exposing and developing the applied varnish. and forming the second insulating cover layer and the inspection insulating layer at the same time.

このような方法によれば、感光性樹脂を含有するワニスを、第1カバー絶縁層の厚み方向一方面と、金属支持層の厚み方向一方面における第1絶縁層と異なる位置とに一括して塗布した後、塗布されたワニスを露光および現像して、第2カバー絶縁層と検査絶縁層とを同時に形成する。 According to this method, the varnish containing the photosensitive resin is collectively applied to one surface of the first insulating cover layer in the thickness direction and to a position different from that of the first insulating layer on one surface of the metal support layer in the thickness direction. After application, the applied varnish is exposed and developed to simultaneously form a second cover insulating layer and a test insulating layer.

そのため、第2カバー絶縁層および検査絶縁層を形成する工程が正常に実施されると、第2カバー絶縁層および検査絶縁層の両方を確実に形成できる一方、第2カバー絶縁層および検査絶縁層を形成する工程において、例えば、露光が実施されないなどのエラーが生じると、第2カバー絶縁層および検査絶縁層との両方が形成されない。 Therefore, if the steps of forming the second cover insulating layer and the inspection insulating layer are performed normally, both the second cover insulating layer and the inspection insulating layer can be reliably formed, while the second cover insulating layer and the inspection insulating layer If an error occurs in the process of forming the , for example, exposure is not performed, both the second cover insulating layer and the inspection insulating layer are not formed.

その結果、第2カバー絶縁層の形成不良に関する検査精度の向上を図ることができる。 As a result, it is possible to improve the inspection accuracy for defective formation of the second insulating cover layer.

とりわけ、第2カバー絶縁層は、導体パターンの導通に影響しないために、導体パターンの導通検査において、第2カバー絶縁層の形成不良を確認することが困難である。一方、上記の方法によれば、第2カバー絶縁層の形成不良を円滑に検査することができる。 In particular, since the second insulating cover layer does not affect the conduction of the conductor pattern, it is difficult to confirm the formation defect of the second insulating cover layer in the conduction test of the conductor pattern. On the other hand, according to the method described above, it is possible to smoothly inspect for defective formation of the second insulating cover layer.

本発明[3]は、複数の回路付サスペンション基板を備える回路付サスペンション基板集合体であって、複数の前記回路付サスペンション基板に対応する複数のサスペンション部分、および、複数の前記回路付サスペンション基板を一括して支持する支持部分を含む金属支持層と、前記サスペンション部分の厚み方向一方面に配置される第1絶縁層と、前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に配置される導体パターンと、前記第1絶縁層の前記厚み方向一方側に配置される第2絶縁層と、前記支持部分の前記厚み方向一方面に配置され、前記第1絶縁層および/または前記第2絶縁層の形成不良を検査するための検査絶縁層と、を備える、回路付サスペンション基板集合体を含む。 The present invention [3] is a suspension board assembly with circuit comprising a plurality of suspension boards with circuit, comprising a plurality of suspension parts corresponding to the plurality of suspension boards with circuit, and a plurality of suspension boards with circuit. A metal support layer including a support portion for collective support, a first insulating layer arranged on one side in the thickness direction of the suspension portion, and a conductor pattern arranged on one side in the thickness direction of the first insulating layer. , forming a second insulating layer arranged on one side in the thickness direction of the first insulating layer, and forming the first insulating layer and/or the second insulating layer arranged on one side in the thickness direction of the supporting portion; and an inspection insulating layer for inspecting for defects.

このような構成によれば、回路付サスペンション基板集合体が、支持部分の厚み方向一方面に配置される検査絶縁層を備えるので、上記した回路付サスペンション基板の製造方法における検査工程を円滑に実施することができ、第1絶縁層および/または第2絶縁層の形成不良を検査することができる。 According to such a configuration, the suspension board with circuit assembly includes the inspection insulating layer arranged on one side in the thickness direction of the support portion, so that the inspection step in the method for manufacturing the suspension board with circuit described above can be smoothly carried out. It is possible to inspect the formation defects of the first insulating layer and/or the second insulating layer.

また、検査絶縁層は、回路付サスペンション基板に対応するサスペンション部分とは異なる支持部分に配置されているので、検査絶縁層がサスペンション部分に配置されている場合と比較して、プローブを検査絶縁層に円滑に接触させることができる。そのため、検査絶縁層を、第1絶縁層および/または第2絶縁層の形成不良の検査に円滑に利用することができる。 In addition, since the inspection insulating layer is arranged in a support portion different from the suspension portion corresponding to the suspension board with circuit, the probe is placed on the inspection insulating layer as compared with the case where the inspection insulating layer is arranged in the suspension portion. can be brought into contact with the Therefore, the inspection insulating layer can be smoothly used for inspection of formation defects of the first insulating layer and/or the second insulating layer.

本発明[4]は、前記第2絶縁層は、前記導体パターンを被覆するように、前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に配置される第1カバー絶縁層と、前記第1カバー絶縁層の前記厚み方向一方面に配置される第2カバー絶縁層と、を備え、前記検査絶縁層の厚みは、前記第2カバー絶縁層の厚み以上である、上記[3]に記載の回路付サスペンション基板集合体を含む。 In the present invention [4], the second insulating layer comprises a first insulating cover layer arranged on one side in the thickness direction of the first insulating layer so as to cover the conductor pattern, and the first insulating cover layer. and a second insulating cover layer arranged on one side in the thickness direction of the layer, wherein the thickness of the inspection insulating layer is equal to or greater than the thickness of the second insulating cover layer. A suspension board assembly is included.

このような構成によれば、検査絶縁層の厚みが第2カバー絶縁層の厚み以上であるので、検査絶縁層に対して厚み方向からプローブを接触させて、金属支持層との導通を検査するときに、検査絶縁層とプローブとを安定して接触させることができる。そのため、第2カバー絶縁層の形成不良の検査精度の向上をより一層図ることができる。 According to such a configuration, since the thickness of the inspection insulation layer is equal to or greater than the thickness of the second cover insulation layer, the probe is brought into contact with the inspection insulation layer from the thickness direction to inspect the continuity with the metal support layer. Sometimes it is possible to make a stable contact between the test insulating layer and the probe. Therefore, it is possible to further improve the inspection accuracy for defective formation of the second insulating cover layer.

本発明[5]は、前記厚み方向と直交する第1方向における前記検査絶縁層の寸法は、30μm以上500μm以下であり、前記厚み方向および前記第1方向の両方向と直交する第2方向における前記検査絶縁層の寸法は、30μm以上500μm以下である、上記[4]または[5]に記載の回路付サスペンション基板集合体を含む。 In the present invention [5], the dimension of the inspection insulating layer in a first direction orthogonal to the thickness direction is 30 μm or more and 500 μm or less, and the dimension in a second direction orthogonal to both the thickness direction and the first direction is The suspension board with circuit assembly according to the above [4] or [5], wherein the inspection insulating layer has a dimension of 30 μm or more and 500 μm or less.

このような構成によれば、第1方向における検査絶縁層の寸法が上記範囲であり、かつ、第2方向における検査絶縁層の寸法が上記範囲であるので、プローブを検査絶縁層に接触させて金属支持層との導通を検査するときに、検査絶縁層とプローブとをより一層安定して接触させることができる。 According to this configuration, since the dimension of the inspection insulating layer in the first direction is within the above range and the dimension of the inspection insulating layer in the second direction is within the above range, the probe is brought into contact with the inspection insulating layer. When testing continuity with the metal support layer, the test insulating layer and probes can be brought into contact with each other more stably.

本発明の回路付サスペンション基板の製造方法によれば、簡易な方法でありながら、第1絶縁層および/または第2絶縁層の形成不良を検査することができる。 According to the method for manufacturing a suspension board with circuit of the present invention, it is possible to inspect for defective formation of the first insulating layer and/or the second insulating layer, although it is a simple method.

本発明の回路付サスペンション基板集合体は、上記した回路付サスペンション基板の製造方法における検査工程を円滑に実施することができ、検査絶縁層を第1絶縁層および/または第2絶縁層の形成不良の検査に円滑に利用することができる。 The suspension-board-with-circuit assembly of the present invention can smoothly perform the inspection step in the above-described suspension-board-with-circuit manufacturing method, and the inspection insulating layer is used to detect defects in the first insulating layer and/or the second insulating layer. can be used smoothly for the inspection of

図1は、本発明の回路付サスペンション基板集合体の一実施形態としての集合体シートの平面図を示す。FIG. 1 shows a plan view of an assembly sheet as one embodiment of the suspension board assembly with circuit of the present invention. 図2は、図1に示す回路付サスペンション基板の拡大図を示す。FIG. 2 shows an enlarged view of the suspension board with circuit shown in FIG. 図3は、図2に示す回路付サスペンション基板のA-A断面図を示す。FIG. 3 shows a cross-sectional view of the suspension board with circuit shown in FIG. 2 along the line AA. 図4は、図2に示す検査部の拡大図を示す。FIG. 4 shows an enlarged view of the inspection part shown in FIG. 図5は、図4に示す検査部のB-B断面図を示す。FIG. 5 shows a BB cross-sectional view of the inspection section shown in FIG. 図6Aは、金属支持層を準備する工程を示す。図6Bは、図6Aに続いて、金属支持層上にベース絶縁層および検査ベース層を形成する工程を示す。図6Cは、図6Bに続いて、ベース絶縁層上に導体パターンを形成するとともに、検査ベース層上に検査導体層を形成する工程を示す。図6Dは、図6Cに続いて、ベース絶縁層上に第1カバー絶縁層を形成するとともに、検査ベース層上に検査カバー層を形成する工程を示す。FIG. 6A shows the step of preparing a metal support layer. FIG. 6B shows the step of forming a base insulating layer and an inspection base layer on the metal support layer following FIG. 6A. FIG. 6C shows a step of forming a conductor pattern on the insulating base layer and forming an inspection conductor layer on the inspection base layer, following FIG. 6B. FIG. 6D shows a step of forming a first insulating cover layer on the insulating base layer and forming an inspection cover layer on the inspection base layer, following FIG. 6C. 図7Aは、図6Dに続いて、カバー皮膜を形成する工程を示す。図7Bは、図7Aに続いて、カバー皮膜をフォトマスクを介して露光する工程を示す。図7Cは、図7Bに続いて、カバー皮膜を現像して第2カバー絶縁層および検査絶縁層を形成する工程を示す。FIG. 7A shows the step of forming a cover film following FIG. 6D. FIG. 7B shows a step of exposing the cover film through a photomask following FIG. 7A. FIG. 7C shows the step of developing the cover coating to form a second cover insulating layer and a test insulating layer following FIG. 7B. 図8は、図5に示す検査部の第1の変形例(検査絶縁層がベース絶縁層と同一工程により形成される態様)を示す。FIG. 8 shows a first modification of the inspection section shown in FIG. 5 (a form in which the inspection insulating layer and the base insulating layer are formed in the same process). 図9は、図5に示す検査部の第2の変形例(検査絶縁層が第1カバー絶縁層と同一工程により形成される態様)を示す。FIG. 9 shows a second modification of the inspection portion shown in FIG. 5 (a form in which the inspection insulation layer is formed in the same process as the first cover insulation layer). 図10は、図5に示す検査部の第3の変形例(検査絶縁層が複数設けられる態様)を示す。FIG. 10 shows a third modification (mode in which a plurality of inspection insulating layers are provided) of the inspection section shown in FIG. 図11は、図4に示す回路付サスペンション基板の第1の変形例(導体パターンおよび第2導体パターンを備える態様)を示す。FIG. 11 shows a first modified example (an embodiment including a conductor pattern and a second conductor pattern) of the suspension board with circuit shown in FIG. 図12は、図5に示す検査部の第4の変形例(検査絶縁層のみからなる態様)を示す。FIG. 12 shows a fourth modified example of the inspection section shown in FIG.

<第1実施形態>
1.集合体シート
以下、図1~図5を参照して、本発明の回路付サスペンション集合体の第1実施形態としての集合体シート1について説明する。
<First embodiment>
1. Assembly Sheet Hereinafter, an assembly sheet 1 as a first embodiment of a suspension assembly with circuit according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5. FIG.

図1に示すように、集合体シート1は、複数のサスペンション群2と、支持部分の一例としての支持部3と、複数の検査部4とを備える。なお、図1では、便宜上、複数のサスペンション群2の個数が4つであり、複数の検査部4の個数が4つであるが、サスペンション群2および検査部4のそれぞれの個数は、特に制限されない。 As shown in FIG. 1 , the assembly sheet 1 includes a plurality of suspension groups 2 , a support section 3 as an example of a support section, and a plurality of inspection sections 4 . In FIG. 1, the number of the plurality of suspension groups 2 is four and the number of the plurality of inspection units 4 is four for the sake of convenience. not.

複数のサスペンション群2は、後述する格子状の枠体6により互いに区切られている。各サスペンション群2は、所定方向に延びる複数の回路付サスペンション基板5からなり、各サスペンション群2において、複数の回路付サスペンション基板5は、所定方向と直交する並び方向に互いに間隔を空けて配置されている。つまり、集合体シート1は、複数の回路付サスペンション基板5を備える。 The plurality of suspension groups 2 are separated from each other by a grid-like frame 6, which will be described later. Each suspension group 2 is composed of a plurality of suspension boards with circuit 5 extending in a predetermined direction, and in each suspension group 2, the plurality of suspension boards with circuit 5 are spaced apart from each other in an alignment direction orthogonal to the predetermined direction. ing. That is, the assembly sheet 1 includes a plurality of suspension boards with circuit 5 .

詳しくは、集合体シート1は、回路付サスペンション基板5の長手方向(所定方向)と直交する並び方向に並ぶ複数(2つ)のサスペンション群2からなる列を、長手方向に複数(2つ)備える。 More specifically, the assembly sheet 1 has a plurality (two) of rows of a plurality (two) of suspension groups 2 arranged in a row direction orthogonal to the longitudinal direction (predetermined direction) of the suspension board with circuit 5 in the longitudinal direction. Prepare.

なお、図1では、便宜上、各サスペンション群2において、3つの回路付サスペンション基板5を図示するが、各サスペンション群2が備える回路付サスペンション基板5の個数は、特に制限されない。 Although FIG. 1 shows three suspension boards with circuit 5 in each suspension group 2 for convenience, the number of suspension boards with circuit 5 provided in each suspension group 2 is not particularly limited.

図1において、紙面上下方向は、回路付サスペンション基板5の長手方向(第1方向)であって、紙面上側が長手方向一方側(第1方向一方側)、紙面下側が長手方向他方側(第1方向他方側)である。 In FIG. 1, the vertical direction of the paper is the longitudinal direction (first direction) of the suspension board with circuit 5, the upper side of the paper is one longitudinal direction side (first direction one side), and the lower side of the paper is the other longitudinal direction side (first direction). one direction and the other side).

図1において、紙面左右方向は、複数の回路付サスペンション基板5が並ぶ並び方向(第2方向)であって、紙面左側が並び方向一方側(第2方向一方側)、紙面右側が並び方向他方側(第2方向他方側)である。 In FIG. 1, the horizontal direction of the paper is the alignment direction (second direction) in which the plurality of suspension boards with circuit 5 are aligned. side (the other side in the second direction).

図1において、紙面紙厚方向は、集合体シート1の厚み方向(第1方向および第2方向と直交する第3方向)であって、紙面手前側が厚み方向一方側(第3方向一方側)、紙面手奥側が厚み方向他方側(第3方向他方側)である。具体的には、各図の方向矢印に準拠する。 In FIG. 1, the paper thickness direction is the thickness direction of the aggregate sheet 1 (the third direction orthogonal to the first direction and the second direction), and the front side of the paper is one side in the thickness direction (one side in the third direction). , is the other side in the thickness direction (the other side in the third direction). Specifically, it conforms to the directional arrows in each figure.

なお、以下では、回路付サスペンション基板5の長手方向を単に長手方向とし、複数の回路付サスペンション基板5の並び方向を単に並び方向とし、集合体シート1の厚み方向を単に厚み方向とする。 In the following description, the longitudinal direction of the suspension board with circuit 5 is simply referred to as the longitudinal direction, the alignment direction of the plurality of suspension boards with circuit 5 is simply the alignment direction, and the thickness direction of the assembly sheet 1 is simply the thickness direction.

支持部3は、複数の回路付サスペンション基板5の金属支持体8(後述)と連続して、複数の回路付サスペンション基板5を一括して支持する。支持部3は、枠体6と、複数の接続部7とを備える。枠体6は、格子形状を有しており、枠体6が区画する複数の開口6Aのそれぞれに、サスペンション群2が1つずつ配置される。これにより、枠体6は、サスペンション群2を1つずつ囲っており、複数のサスペンション群2を区切っている。接続部7は、後述する金属支持体8と枠体6とを接続している。 The supporting portion 3 is continuous with a metal support 8 (described later) of the plurality of suspension boards with circuit 5 and collectively supports the plurality of suspension boards with circuit 5 . The support portion 3 includes a frame 6 and a plurality of connection portions 7 . The frame 6 has a lattice shape, and one suspension group 2 is arranged in each of the plurality of openings 6A defined by the frame 6 . Thereby, the frame 6 surrounds the suspension groups 2 one by one, and separates the plurality of suspension groups 2 . The connecting portion 7 connects the metal support 8 and the frame 6, which will be described later.

複数の検査部4は、支持部3の枠体6に設けられている。本実施形態では、検査部4は、サスペンション群2に対応しており、サスペンション群2と同数設けられている。 A plurality of inspection units 4 are provided on a frame 6 of the support unit 3 . In this embodiment, the inspection units 4 correspond to the suspension group 2 and are provided in the same number as the suspension group 2 .

2.回路付サスペンション基板
次に、図2および図3を参照して、回路付サスペンション基板5の詳細について説明する。
2. Suspension Board with Circuit Next, details of the suspension board with circuit 5 will be described with reference to FIGS. 2 and 3. FIG.

図2に示すように、各回路付サスペンション基板5は、長手方向に延びる平帯形状を有し、その長手方向の途中部(例えば、中央部)が並び方向に屈曲している。 As shown in FIG. 2, each suspension board with circuit 5 has a flat belt shape extending in the longitudinal direction, and the middle portion (for example, the central portion) in the longitudinal direction is bent in the alignment direction.

このような回路付サスペンション基板5は、図3に示すように、サスペンション部分の一例としての金属支持体8と、第1絶縁層の一例としてのベース絶縁層9と、導体パターン10と、第2絶縁層の一例としてのカバー絶縁層11とを、厚み方向他方側から一方側に向かって順に備える。なお、図1では、便宜上、ベース絶縁層9およびカバー絶縁層11を省略している。 As shown in FIG. 3, such a suspension board with circuit 5 includes a metal support 8 as an example of a suspension portion, an insulating base layer 9 as an example of a first insulating layer, a conductor pattern 10, and a second insulating layer. An insulating cover layer 11 as an example of an insulating layer is provided in order from the other side in the thickness direction toward the one side. Note that the insulating base layer 9 and the insulating cover layer 11 are omitted in FIG. 1 for the sake of convenience.

図1に示すように、金属支持体8は、上記した回路付サスペンション基板5と同じ外形形状を有しており、長手方向に延び、その長手方向の途中部(例えば、中央部)が並び方向に屈曲している。金属支持体8は、開口部16を有する。開口部16は、金属支持体8の長手方向一端部に配置される。開口部16は、長手方向一方側に向かって開放される凹形状を有する。開口部16は、金属支持体8を厚み方向に貫通する。 As shown in FIG. 1, the metal support 8 has the same outer shape as the suspension board with circuit 5 described above, extends in the longitudinal direction, and has a middle portion (for example, central portion) in the longitudinal direction. is bent into The metal support 8 has openings 16 . The opening 16 is arranged at one longitudinal end of the metal support 8 . The opening 16 has a concave shape that opens toward one side in the longitudinal direction. The opening 16 penetrates the metal support 8 in the thickness direction.

このような金属支持体8は、上記した支持部3と一体であり、支持部3と金属支持体8とは同一平面上に位置する。支持部3と金属支持体8とは、金属支持層12を構成する。つまり、金属支持層12は、複数の回路付サスペンション基板5に対応する複数の金属支持体8と、支持部3とを含む。 Such a metal support 8 is integrated with the support portion 3 described above, and the support portion 3 and the metal support 8 are positioned on the same plane. The support portion 3 and the metal support 8 constitute a metal support layer 12 . That is, the metal support layer 12 includes a plurality of metal supports 8 corresponding to the plurality of suspension boards with circuit 5 and the support portion 3 .

金属支持層12の材料として、例えば、ステンレス、42アロイ、アルミニウム、銅-ベリリウム、りん青銅などの金属材料が挙げられ、好ましくは、ステンレスが挙げられる。金属支持層12の厚みは、例えば、10μm以上、好ましくは、15μm以上、例えば、35μm以下、好ましくは、25μm以下である。 Examples of the material of the metal support layer 12 include metal materials such as stainless steel, 42 alloy, aluminum, copper-beryllium, and phosphor bronze, preferably stainless steel. The thickness of the metal support layer 12 is, for example, 10 μm or more, preferably 15 μm or more, and for example, 35 μm or less, preferably 25 μm or less.

図3に示すように、ベース絶縁層9は、金属支持体8の厚み方向一方面に配置される。ベース絶縁層9は、図示しないが、後述する導体パターン10に対応する所定のパターンとして設けられ、厚み方向における金属支持体8と導体パターン10との間に配置される。 As shown in FIG. 3, the insulating base layer 9 is arranged on one surface of the metal support 8 in the thickness direction. Although not shown, the insulating base layer 9 is provided as a predetermined pattern corresponding to the conductor pattern 10 to be described later, and is arranged between the metal support 8 and the conductor pattern 10 in the thickness direction.

ベース絶縁層9の材料として、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテル樹脂、ニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの合成樹脂が挙げられ、好ましくは、ポリイミド樹脂が挙げられる。ベース絶縁層9の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、3μm以上、例えば、25μm以下、好ましくは、15μm以下である。 Examples of materials for the base insulating layer 9 include synthetic resins such as polyimide resin, polyamideimide resin, acrylic resin, polyether resin, nitrile resin, polyethersulfone resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, and polyvinyl chloride resin. and preferably a polyimide resin. The thickness of the insulating base layer 9 is, for example, 1 μm or more, preferably 3 μm or more, and for example, 25 μm or less, preferably 15 μm or less.

導体パターン10は、ベース絶縁層9の厚み方向一方面に配置される。図2に示すように、導体パターン10は、複数(4つ)の磁気ヘッド用端子13と、複数(4つ)の外部接続端子14と、複数(4つ)の配線15とを備える。 The conductive pattern 10 is arranged on one side of the insulating base layer 9 in the thickness direction. As shown in FIG. 2 , the conductor pattern 10 includes multiple (four) magnetic head terminals 13 , multiple (four) external connection terminals 14 , and multiple (four) wirings 15 .

複数(4つ)の磁気ヘッド用端子13は、スライダ100が回路付サスペンション基板5に実装されたときに、スライダ100が備える磁気ヘッドと電気的に接続される(図3参照)。複数の磁気ヘッド用端子13は、回路付サスペンション基板5の長手方向一端部に配置される。複数の磁気ヘッド用端子13は、厚み方向一方側から見て開口部16に囲まれるように、ベース絶縁層9の厚み方向一方面に配置される。 The plurality (four) of magnetic head terminals 13 are electrically connected to the magnetic head of the slider 100 when the slider 100 is mounted on the suspension board with circuit 5 (see FIG. 3). The plurality of magnetic head terminals 13 are arranged at one longitudinal end of the suspension board with circuit 5 . The plurality of magnetic head terminals 13 are arranged on one side in the thickness direction of the insulating base layer 9 so as to be surrounded by the opening 16 when viewed from the one side in the thickness direction.

複数(4つ)の外部接続端子14は、回路付サスペンション基板5の長手方向他端部において、ベース絶縁層9の厚み方向一方面に配置される。 A plurality of (four) external connection terminals 14 are arranged on one surface of the insulating base layer 9 in the thickness direction at the other longitudinal end of the suspension board with circuit 5 .

複数(4つ)の配線15は、ベース絶縁層9上を引き回されて、複数の磁気ヘッド用端子13と複数の外部接続端子14とを電気的に接続している。 A plurality of (four) wirings 15 are routed on the insulating base layer 9 to electrically connect the plurality of magnetic head terminals 13 and the plurality of external connection terminals 14 .

導体パターン10の材料として、例えば、銅、ニッケル、金、はんだ、またはこれらの合金などの導体材料が挙げられ、好ましくは、銅が挙げられる。導体パターン10の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、3μm以上、例えば、20μm以下、好ましくは、12μm以下である。 Examples of the material of the conductive pattern 10 include conductive materials such as copper, nickel, gold, solder, or alloys thereof, preferably copper. The thickness of the conductive pattern 10 is, for example, 1 μm or more, preferably 3 μm or more, and for example, 20 μm or less, preferably 12 μm or less.

図3に示すように、カバー絶縁層11は、ベース絶縁層9の厚み方向一方側に配置される。カバー絶縁層11は、第1カバー絶縁層18と、第2カバー絶縁層19とを備える。 As shown in FIG. 3 , the insulating cover layer 11 is arranged on one side of the insulating base layer 9 in the thickness direction. The insulating cover layer 11 includes a first insulating cover layer 18 and a second insulating cover layer 19 .

第1カバー絶縁層18は、導体パターン10を被覆するように、ベース絶縁層9の厚み方向一方面に配置される。詳しくは、図2に示すように、第1カバー絶縁層18は、厚み方向一方側から見て、磁気ヘッド用端子13および外部接続端子14を露出し、配線15を被覆するパターン形状を有している。 The first insulating cover layer 18 is arranged on one side in the thickness direction of the insulating base layer 9 so as to cover the conductive pattern 10 . Specifically, as shown in FIG. 2, the first insulating cover layer 18 has a pattern shape that exposes the magnetic head terminals 13 and the external connection terminals 14 and covers the wiring 15 when viewed from one side in the thickness direction. ing.

第1カバー絶縁層18の材料として、例えば、ベース絶縁層9と同じ合成樹脂が挙げられ、好ましくは、ポリイミド樹脂が挙げられる。第1カバー絶縁層18の厚みは、例えば、2μm以上、好ましくは、4μm以上、例えば、20μm以下、好ましくは、15μm以下である。 Examples of the material of the first insulating cover layer 18 include the same synthetic resin as the insulating base layer 9, preferably polyimide resin. The thickness of the first insulating cover layer 18 is, for example, 2 μm or more, preferably 4 μm or more, and for example, 20 μm or less, preferably 15 μm or less.

図3に示すように、第2カバー絶縁層19は、第1カバー絶縁層18の厚み方向一方面に配置される。第2カバー絶縁層19は、スライダ100が回路付サスペンション基板5に実装されたときに、スライダ100を支持する1対の台座部20を備える。 As shown in FIG. 3 , the second insulating cover layer 19 is arranged on one surface of the first insulating cover layer 18 in the thickness direction. The second insulating cover layer 19 includes a pair of pedestals 20 that support the slider 100 when the slider 100 is mounted on the suspension board with circuit 5 .

1対の台座部20は、複数の磁気ヘッド用端子13よりも長手方向一方側に配置される。1対の台座部20は、長手方向に互いに間隔を空けて配置される。各台座部20は、並び方向に延びる平面視矩形状を有する(図2参照)。 The pair of pedestals 20 is arranged on one side in the longitudinal direction of the plurality of magnetic head terminals 13 . The pair of pedestals 20 are arranged with a space therebetween in the longitudinal direction. Each of the pedestals 20 has a rectangular shape in a plan view extending in the row direction (see FIG. 2).

第2カバー絶縁層19の材料として、例えば、ベース絶縁層9と同じ合成樹脂が挙げられ、好ましくは、ポリイミド樹脂が挙げられる。第2カバー絶縁層19の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、2μm以上、例えば、10μm以下、好ましくは、8μm以下である。 Examples of the material of the second insulating cover layer 19 include the same synthetic resin as the insulating base layer 9, preferably polyimide resin. The thickness of the second insulating cover layer 19 is, for example, 1 μm or more, preferably 2 μm or more, and for example, 10 μm or less, preferably 8 μm or less.

3.支持部
次に、図1を参照して、支持部3の詳細について説明する。
3. Support Section Next, the details of the support section 3 will be described with reference to FIG.

支持部3は、上記したように、枠体6と、複数の接続部7とを備える。 The support portion 3 includes the frame 6 and the plurality of connection portions 7 as described above.

枠体6は、格子形状を有しており、複数(3つ)の縦枠22と、複数(3つ)の横枠23とを一体的に備える。 The frame body 6 has a lattice shape and integrally includes a plurality (three) of vertical frames 22 and a plurality (three) of horizontal frames 23 .

複数の縦枠22は、並び方向において各サスペンション群2を挟むように、互いに間隔を空けて配置される。各縦枠22は、長手方向に延びる平面視略矩形状を有する。 The plurality of vertical frames 22 are arranged at intervals so as to sandwich each suspension group 2 in the alignment direction. Each vertical frame 22 has a substantially rectangular shape in a plan view extending in the longitudinal direction.

複数の横枠23は、長手方向において各サスペンション群2を挟むように、互いに間隔を空けて配置される。複数の横枠23は、複数の縦枠22と格子状を形成するように、複数の縦枠22に接続されている。各横枠23は、並び方向に延びる平面視略矩形状を有する。 The plurality of horizontal frames 23 are arranged at intervals so as to sandwich each suspension group 2 in the longitudinal direction. The plurality of horizontal frames 23 are connected to the plurality of vertical frames 22 so as to form a grid pattern with the plurality of vertical frames 22 . Each horizontal frame 23 has a substantially rectangular shape in plan view extending in the row direction.

複数の接続部7は、複数の回路付サスペンション基板5に対応している。詳しくは、図2に示すように、接続部7は、各回路付サスペンション基板5の長手方向両側に設けられている。 The plurality of connecting portions 7 correspond to the plurality of suspension boards with circuit 5 . More specifically, as shown in FIG. 2, the connecting portions 7 are provided on both sides of each suspension board with circuit 5 in the longitudinal direction.

回路付サスペンション基板5に対して長手方向の一方側に位置する接続部7は、金属支持体8の長手方向一端部と、回路付サスペンション基板5に対して長手方向の一方側に位置する横枠23とを接続し、回路付サスペンション基板5に対して長手方向の他方側に位置する接続部7は、金属支持体8の長手方向他端部と、回路付サスペンション基板5に対して長手方向の他方側に位置する横枠23とを接続する。 The connection portion 7 positioned on one longitudinal side of the suspension board with circuit 5 is formed by connecting one longitudinal end of the metal support 8 and a lateral frame positioned on one longitudinal side of the suspension board with circuit 5 . 23 and located on the other side in the longitudinal direction with respect to the suspension board with circuit 5 , the other end in the longitudinal direction of the metal support 8 and It connects with the horizontal frame 23 located on the other side.

4.検査部
次に、図2、図4および図5を参照して、検査部4の詳細について説明する。
4. Inspection Unit Next, details of the inspection unit 4 will be described with reference to FIGS. 2, 4 and 5. FIG.

図2に示すように、検査部4は、支持部3の横枠23に配置される。本実施形態において、検査部4は、各サスペンション群2に1つずつ対応しており、長手方向から見て、各サスペンション群2における並び方向一端に位置する回路付サスペンション基板5と重なるように配置される(図1参照)。 As shown in FIG. 2 , the inspection section 4 is arranged on the horizontal frame 23 of the support section 3 . In the present embodiment, one inspection unit 4 corresponds to each suspension group 2, and is arranged so as to overlap the suspension board with circuit 5 positioned at one end in the alignment direction of each suspension group 2 when viewed from the longitudinal direction. (See FIG. 1).

図4および図5に示すように、検査部4は、検査ベース層25と、検査導体層26と、検査カバー層27と、検査絶縁層28とを備える。 As shown in FIGS. 4 and 5, the inspection section 4 includes an inspection base layer 25, an inspection conductor layer 26, an inspection cover layer 27, and an inspection insulation layer .

検査ベース層25は、横枠23の厚み方向一方面に配置される。検査ベース層25は、ベース絶縁層9(図3参照)と同一平面上に位置する。検査ベース層25は、厚み方向から見て、並び方向に延びる平面視矩形状を有する。 The inspection base layer 25 is arranged on one surface of the horizontal frame 23 in the thickness direction. The inspection base layer 25 is located on the same plane as the base insulating layer 9 (see FIG. 3). The inspection base layer 25 has a planar rectangular shape extending in the alignment direction when viewed from the thickness direction.

検査ベース層25は、第1開口部25Aと、第2開口部25Bとを有する。 The inspection base layer 25 has a first opening 25A and a second opening 25B.

第1開口部25Aは、検査ベース層25における並び方向一方側に配置される。第1開口部25Aは、検査ベース層25を厚み方向に貫通して、横枠23の厚み方向一方面を露出させる。第1開口部25Aは、平面視矩形状を有する。 The first opening 25A is arranged on one side of the inspection base layer 25 in the alignment direction. The first opening 25A penetrates the inspection base layer 25 in the thickness direction and exposes one surface of the horizontal frame 23 in the thickness direction. The first opening 25A has a rectangular shape in plan view.

第2開口部25Bは、第1開口部25Aに対して並び方向他方側に間隔を空けて位置する。第2開口部25Bは、検査ベース層25を厚み方向に貫通して、横枠23の厚み方向一方面を露出させる。第2開口部25Bは、平面視円形状を有する。 The second opening 25B is spaced apart from the first opening 25A on the other side in the alignment direction. The second opening 25B penetrates the inspection base layer 25 in the thickness direction and exposes one side of the horizontal frame 23 in the thickness direction. The second opening 25B has a circular shape in plan view.

検査ベース層25の材料は、ベース絶縁層9の材料と同じである。検査ベース層25の厚みは、ベース絶縁層9の厚みと同じである。 The material of the inspection base layer 25 is the same as the material of the base insulating layer 9 . The thickness of the inspection base layer 25 is the same as the thickness of the insulating base layer 9 .

検査導体層26は、検査端子29と、ビア部30とを備える。 The inspection conductor layer 26 includes inspection terminals 29 and via portions 30 .

検査端子29は、検査ベース層25の厚み方向一方面に配置される。検査端子29は、第2開口部25Bに対して、第1開口部25Aの反対側に位置する。 The inspection terminals 29 are arranged on one surface of the inspection base layer 25 in the thickness direction. The inspection terminal 29 is located on the side opposite to the first opening 25A with respect to the second opening 25B.

検査端子29は、平面視略矩形状を有する。検査端子29の長手方向の寸法は、例えば、15μm以上、好ましくは、30μm以上、例えば、1000μm以下、好ましくは、500μm以下である。検査端子29の並び方向の寸法は、例えば、15μm以上、好ましくは、30μm以上、例えば、1000μm以下、好ましくは、500μm以下である。 The inspection terminal 29 has a substantially rectangular shape in plan view. The longitudinal dimension of the inspection terminal 29 is, for example, 15 μm or more, preferably 30 μm or more, and for example, 1000 μm or less, preferably 500 μm or less. The dimension of the inspection terminals 29 in the alignment direction is, for example, 15 μm or more, preferably 30 μm or more, and for example, 1000 μm or less, preferably 500 μm or less.

ビア部30は、検査端子29に対して並び方向の一方側に位置し、検査端子29と連続している。ビア部30は、第2開口部25Bを介して、横枠23と電気的に接続されている。ビア部30の中央部分は、第2開口部25Bに落ち込んで充填され、横枠23と接触している。ビア部30の周縁部分は、検査ベース層25の厚み方向一方面に配置される。 The via portion 30 is positioned on one side of the inspection terminals 29 in the alignment direction and is continuous with the inspection terminals 29 . The via portion 30 is electrically connected to the horizontal frame 23 through the second opening 25B. The central portion of the via portion 30 is depressed to fill the second opening 25B and is in contact with the lateral frame 23 . A peripheral portion of the via portion 30 is arranged on one surface of the inspection base layer 25 in the thickness direction.

検査導体層26の材料は、導体パターン10の材料と同じである。検査導体層26の厚みは、導体パターン10の厚みと同じである。 The material of the inspection conductor layer 26 is the same as the material of the conductor pattern 10 . The thickness of the inspection conductor layer 26 is the same as the thickness of the conductor pattern 10 .

検査カバー層27は、ビア部30を被覆するように、検査ベース層25の厚み方向一方面に配置される。検査カバー層27は、連通口27Aと、端子露出口27Bとを有する。 The inspection cover layer 27 is arranged on one side in the thickness direction of the inspection base layer 25 so as to cover the via portion 30 . The inspection cover layer 27 has a communication port 27A and a terminal exposure port 27B.

連通口27Aは、検査カバー層27を厚み方向に貫通しており、第1開口部25Aと連通している。連通口27Aは、厚み方向から見て、第1開口部25Aと同じ形状を有する。 The communication port 27A penetrates the inspection cover layer 27 in the thickness direction and communicates with the first opening 25A. The communication port 27A has the same shape as the first opening 25A when viewed in the thickness direction.

端子露出口27Bは、連通口27Aに対して並び方向他方側に間隔を空けて位置する。端子露出口27Bは、検査カバー層27を厚み方向に貫通しており、検査端子29を露出させる。 The terminal exposure opening 27B is positioned on the other side in the alignment direction with a space therebetween with respect to the communication opening 27A. The terminal exposure opening 27B penetrates the inspection cover layer 27 in the thickness direction and exposes the inspection terminal 29 .

検査カバー層27の材料は、第1カバー絶縁層18の材料と同じである。検査カバー層27の厚みは、第1カバー絶縁層18の厚みと同じである。 The material of the inspection cover layer 27 is the same as the material of the first insulating cover layer 18 . The thickness of the inspection cover layer 27 is the same as the thickness of the first insulating cover layer 18 .

検査絶縁層28は、本実施形態において、第2カバー絶縁層19の形成不良を検査するために利用される(図3参照)。 In this embodiment, the inspection insulating layer 28 is used to inspect formation defects of the second insulating cover layer 19 (see FIG. 3).

検査絶縁層28は、第1開口部25A内において、横枠23の厚み方向一方面に配置される。検査絶縁層28は、平面視矩形状を有する。 The inspection insulating layer 28 is arranged on one side in the thickness direction of the horizontal frame 23 in the first opening 25A. The inspection insulating layer 28 has a rectangular shape in plan view.

検査絶縁層28の長手方向の寸法は、例えば、15μm以上、好ましくは、30μm以上、例えば、1000μm以下、好ましくは、500μm以下である。 The longitudinal dimension of the inspection insulating layer 28 is, for example, 15 μm or more, preferably 30 μm or more, and for example, 1000 μm or less, preferably 500 μm or less.

また、検査絶縁層28の長手方向の寸法は、後述する第1絶縁層検査プローブ42の外形に対して、例えば、1倍以上、好ましくは、2倍以上、例えば、30倍以下、好ましくは、20倍以下である。 In addition, the longitudinal dimension of the inspection insulating layer 28 is, for example, 1 time or more, preferably 2 times or more, for example, 30 times or less, and preferably, the outer shape of the first insulation layer inspection probe 42 described later. 20 times or less.

検査絶縁層28の並び方向の寸法は、例えば、15μm以上、好ましくは、30μm以上、例えば、1000μm以下、好ましくは、500μm以下である。 The dimension in the alignment direction of the inspection insulating layer 28 is, for example, 15 μm or more, preferably 30 μm or more, and for example, 1000 μm or less, preferably 500 μm or less.

また、検査絶縁層28の並び方向の寸法は、後述する第1絶縁層検査プローブ42の外形に対して、例えば、1倍以上、好ましくは、2倍以上、例えば、30倍以下、好ましくは、20倍以下である。 In addition, the dimension in the alignment direction of the inspection insulating layer 28 is, for example, 1 time or more, preferably 2 times or more, for example 30 times or less, and preferably, the outer shape of the first insulation layer inspection probe 42 described later. 20 times or less.

検査絶縁層28の材料は、第2カバー絶縁層19の材料と同じである。検査絶縁層28の厚みは、例えば、第2カバー絶縁層19の厚み以上であり、好ましくは、第2カバー絶縁層19の厚みの1.1倍以上であり、例えば、第2カバー絶縁層19の厚みの5倍以下である。 The material of the inspection insulation layer 28 is the same as the material of the second cover insulation layer 19 . The thickness of the inspection insulating layer 28 is, for example, the thickness of the second insulating cover layer 19 or more, preferably 1.1 times or more the thickness of the second insulating cover layer 19, for example, the thickness of the second insulating cover layer 19. is less than 5 times the thickness of the

具体的には、検査絶縁層28の厚みは、例えば、2μm以上、好ましくは、4μm以上、さらに好ましくは、5μm以上、例えば、30μm以下、好ましくは、20μm以下である。 Specifically, the thickness of the inspection insulating layer 28 is, for example, 2 μm or more, preferably 4 μm or more, more preferably 5 μm or more, for example, 30 μm or less, preferably 20 μm or less.

5.回路付サスペンション基板の製造方法
次に、図6A~図7Cを参照して、本発明の回路付サスペンション基板の製造方法の一実施形態としての回路付サスペンション基板5の製造方法について説明する。
5. Method for Manufacturing Suspension Board with Circuit Next, a method for manufacturing the suspension board with circuit 5 as an embodiment of the method for manufacturing the suspension board with circuit of the present invention will be described with reference to FIGS. 6A to 7C.

回路付サスペンション基板5の製造方法は、集合体シート1の製造工程と、第2カバー絶縁層19の形成不良を検査する検査工程とを含む。 The manufacturing method of the suspension board with circuit 5 includes a manufacturing process of the assembly sheet 1 and an inspection process of inspecting the formation defect of the second insulating cover layer 19 .

(5-1)集合体シートの製造工程
集合体シート1の製造工程は、例えば、ロールトゥロール法により実施される。集合体シート1の製造方法では、まず、図6Aに示すように、金属支持層12を準備する。金属支持層12は、長尺の平帯形状を有している。
(5-1) Assembly Sheet Manufacturing Process The assembly sheet 1 manufacturing process is performed by, for example, a roll-to-roll method. In the manufacturing method of the assembly sheet 1, first, as shown in FIG. 6A, the metal support layer 12 is prepared. The metal support layer 12 has an elongated flat belt shape.

次いで、図6Bに示すように、金属支持層12の厚み方向一方面に、ベース絶縁層9の形成(図6B-1参照)と同一工程により、検査ベース層25を形成する(図6B-2参照)。 Next, as shown in FIG. 6B, an inspection base layer 25 is formed on one side in the thickness direction of the metal support layer 12 (FIG. 6B-2) by the same process as the formation of the insulating base layer 9 (see FIG. 6B-1). reference).

詳しくは、感光性樹脂(例えば、ポリイミドなど)を含有するワニスを、金属支持層12の厚み方向一方面全体に塗布して乾燥させて、ベース皮膜を形成する。その後、ベース皮膜を露光および現像し、必要により加熱硬化させて、ベース絶縁層9および検査ベース層25を同時に形成する。 Specifically, a varnish containing a photosensitive resin (for example, polyimide) is applied to the entire one surface of the metal support layer 12 in the thickness direction and dried to form a base film. After that, the base film is exposed and developed, and heat-hardened if necessary to simultaneously form the insulating base layer 9 and the inspection base layer 25 .

なお、ベース絶縁層9および検査ベース層25の形成方法と、後述する第1カバー絶縁層18および検査カバー層27の形成方法と、後述する第2カバー絶縁層19および検査絶縁層28の形成方法とは、互いに同様である。そのため、後述する第2カバー絶縁層19および検査絶縁層28の形成方法を、図示して詳細に説明し、他の絶縁層の形成方法の図示を省略する。 A method of forming the insulating base layer 9 and the inspection base layer 25, a method of forming the first insulating cover layer 18 and the inspection cover layer 27, which will be described later, and a method of forming the second insulating cover layer 19 and the inspection insulating layer 28, which will be described later. are similar to each other. Therefore, the method of forming the second insulating cover layer 19 and the inspection insulating layer 28, which will be described later, will be illustrated and explained in detail, and the method of forming the other insulating layers will be omitted.

次いで、図6Cに示すように、例えば、アディティブ法またはサブトラクティブ法などにより、ベース絶縁層9の厚み方向一方面に導体パターン10を形成するとともに(図6C-1参照)、検査ベース層25の厚み方向一方面に検査導体層26を形成する(図6C-2参照)。 Next, as shown in FIG. 6C, for example, by an additive method or a subtractive method, a conductive pattern 10 is formed on one side in the thickness direction of the base insulating layer 9 (see FIG. 6C-1), and an inspection base layer 25 is formed. An inspection conductor layer 26 is formed on one side in the thickness direction (see FIG. 6C-2).

次いで、図6Dに示すように、上記したベース絶縁層9および検査ベース層25の形成と同様にして、配線15を被覆するようにベース絶縁層9の厚み方向一方面に第1カバー絶縁層18を形成するとともに(図6D-1参照)、ビア部30を被覆するように検査ベース層25の厚み方向一方面に検査カバー層27を形成する(図6D-2参照)。 Next, as shown in FIG. 6D, a first insulating cover layer 18 is formed on one side in the thickness direction of the insulating base layer 9 so as to cover the wiring 15 in the same manner as the insulating base layer 9 and the inspection base layer 25 described above. is formed (see FIG. 6D-1), and an inspection cover layer 27 is formed on one surface in the thickness direction of the inspection base layer 25 so as to cover the via portion 30 (see FIG. 6D-2).

次いで、図7A~図7Cに示すように、第1カバー絶縁層18の厚み方向一方面に第2カバー絶縁層19を形成するとともに、第1開口部25Aから露出する横枠23の厚み方向一方面に検査絶縁層28を形成する。 Next, as shown in FIGS. 7A to 7C, the second insulating cover layer 19 is formed on one surface of the first insulating cover layer 18 in the thickness direction, and the horizontal frame 23 exposed from the first opening 25A is also covered in the thickness direction. A test insulating layer 28 is formed on the surface.

詳しくは、図7Aに示すように、感光性樹脂(例えば、ポリイミドなど)を含有するワニスを、ベース絶縁層9と、導体パターン10と、第1カバー絶縁層18と、検査ベース層25と、検査導体層26と、検査カバー層27とを一括して覆うように塗布して乾燥させて、カバー皮膜32を形成する。 Specifically, as shown in FIG. 7A, a varnish containing a photosensitive resin (for example, polyimide) is applied to the base insulating layer 9, the conductor pattern 10, the first cover insulating layer 18, the inspection base layer 25, A cover film 32 is formed by coating and drying so as to cover the inspection conductor layer 26 and the inspection cover layer 27 collectively.

つまり、感光性樹脂を含有するワニスは、第1カバー絶縁層18の厚み方向一方面と、第1開口部25Aから露出する金属支持層12の厚み方向一方面とに一括して塗布される。 In other words, the varnish containing the photosensitive resin is collectively applied to one surface in the thickness direction of the first insulating cover layer 18 and one surface in the thickness direction of the metal support layer 12 exposed from the first openings 25A.

なお、カバー皮膜32の表面32A(厚み方向一方面)は、金属支持層12と平行な平坦面である。 A surface 32</b>A (one side in the thickness direction) of the cover film 32 is a flat surface parallel to the metal support layer 12 .

その後、図7Bに示すように、フォトマスク33を、カバー皮膜32の表面32Aと向かい合うように配置して、カバー皮膜32を、フォトマスク33を介して露光する。 After that, as shown in FIG. 7B, a photomask 33 is arranged to face the surface 32A of the cover film 32, and the cover film 32 is exposed through the photomask 33. Then, as shown in FIG.

フォトマスク33は、第2カバー絶縁層19のパターン(1対の台座部20)に対応する第1光透過部33A(図7B-1参照)と、検査絶縁層28に対応する第2光透過部33B(図7B-2参照)と、遮光部33Cとを備える。 The photomask 33 has a first light-transmitting portion 33A (see FIG. 7B-1) corresponding to the pattern (a pair of pedestal portions 20) of the second insulating cover layer 19 and a second light-transmitting portion 33A corresponding to the inspection insulating layer . It includes a portion 33B (see FIG. 7B-2) and a light shielding portion 33C.

第1光透過部33Aと向かい合うカバー皮膜32の部分(以下、第1部分32Bとする。)の厚みは、第1カバー絶縁層18の厚み方向一方面から表面32Aまでの距離であって、第2光透過部33Bと向かい合うカバー皮膜32の部分(以下、第2部分32Cとする。)の厚み(金属支持層12の厚み方向一方面から表面32Aまでの距離)よりも短い。 The thickness of the portion of the cover film 32 facing the first light transmitting portion 33A (hereinafter referred to as the first portion 32B) is the distance from one surface of the first insulating cover layer 18 in the thickness direction to the surface 32A. 2 It is shorter than the thickness of the portion of the cover film 32 facing the light transmitting portion 33B (hereinafter referred to as the second portion 32C) (the distance from one side in the thickness direction of the metal support layer 12 to the surface 32A).

そのため、露光において、カバー皮膜32の第1部分32Bの厚み方向の全体を十分に不溶化できる紫外線が照射される場合、カバー皮膜32の第2部分32Cにおいて不溶化する部分の厚みは、第1部分32Bの厚み以上となる。 Therefore, in the case of exposure, when ultraviolet rays capable of sufficiently insolubilizing the entire thickness direction of the first portion 32B of the cover film 32 are irradiated, the thickness of the insolubilized portion in the second portion 32C of the cover film 32 is equal to the thickness of the first portion 32B. thickness or more.

次いで、図7Cに示すように、公知の現像液(例えば、γ―ブチロラクトンなど)により現像処理して、カバー皮膜32における未露光部分および露光不全部分を溶解除去する。 Next, as shown in FIG. 7C, the cover film 32 is developed with a known developing solution (eg, γ-butyrolactone) to dissolve and remove the unexposed portions and insufficiently exposed portions of the cover film 32 .

その後、必要により加熱硬化させて、第2カバー絶縁層19および検査絶縁層28を同一工程により形成する。 After that, the second insulating cover layer 19 and the inspection insulating layer 28 are formed in the same step by heating and curing as necessary.

次いで、図3および図5に示すように、金属支持層12を、公知の加工方法により、支持部3および複数の金属支持体8を形成するように外形加工する。 Then, as shown in FIGS. 3 and 5, the metal support layer 12 is contoured to form the support 3 and the plurality of metal supports 8 by known processing methods.

以上によって、集合体シート1が製造される。 As described above, the assembly sheet 1 is manufactured.

(5-2)検査工程
次いで、本実施形態では、第2カバー絶縁層19の形成不良を検査する。
(5-2) Inspection Step Next, in the present embodiment, formation defects of the second insulating cover layer 19 are inspected.

より具体的には、図1に示すように、検査冶具40を用いて、各サスペンション群2における複数の回路付サスペンション基板5の配線15の断線および/または短絡を検査するとともに、第2カバー絶縁層19の形成不良を検査する。 More specifically, as shown in FIG. 1, an inspection jig 40 is used to inspect disconnection and/or short-circuiting of the wiring 15 of the plurality of suspension boards with circuit 5 in each suspension group 2, and to inspect the second cover insulation. Inspect layer 19 for malformations.

図3および図5に示すように、検査冶具40は、複数の第1導体検査プローブ41と、複数の第2導体検査プローブ(図示せず)と、プローブの一例としての第1絶縁層検査プローブ42と、第2絶縁層検査プローブ43とを備える。 As shown in FIGS. 3 and 5, the inspection jig 40 includes a plurality of first conductor inspection probes 41, a plurality of second conductor inspection probes (not shown), and a first insulation layer inspection probe as an example of probes. 42 and a second insulating layer inspection probe 43 .

図3に示すように、複数の第1導体検査プローブ41は、複数の磁気ヘッド用端子13と接触可能である。図3では、便宜上、1つの磁気ヘッド用端子13に対して1つの第1導体検査プローブ41が接触しているが、各磁気ヘッド用端子13に接触する第1導体検査プローブ41の個数は、特に制限されず、2以上であってもよい。各第1導体検査プローブ41は、厚み方向に延びる針形状を有する。なお、図示しないが、第1導体検査プローブ41は、電圧を検出可能な第1電圧検知回路に電気的に接続されている。 As shown in FIG. 3 , the plurality of first conductor inspection probes 41 can contact the plurality of magnetic head terminals 13 . In FIG. 3, one first conductor inspection probe 41 is in contact with one magnetic head terminal 13 for convenience, but the number of first conductor inspection probes 41 in contact with each magnetic head terminal 13 is There are no particular restrictions, and the number may be two or more. Each first conductor inspection probe 41 has a needle shape extending in the thickness direction. Although not shown, the first conductor inspection probe 41 is electrically connected to a first voltage detection circuit capable of detecting voltage.

複数の第2導体検査プローブ(図示せず)は、複数の外部接続端子14と接触可能である。各外部接続端子14に接触する第2導体検査プローブの個数は、例えば、各磁気ヘッド用端子13に接触する第1導体検査プローブ41の個数と同じである。なお、図示しないが、第2導体検査プローブは、電圧を印加可能な電圧印加装置に電気的に接続されている。 A plurality of second conductor inspection probes (not shown) can contact the plurality of external connection terminals 14 . The number of second conductor inspection probes in contact with each external connection terminal 14 is, for example, the same as the number of first conductor inspection probes 41 in contact with each magnetic head terminal 13 . Although not shown, the second conductor inspection probe is electrically connected to a voltage application device capable of applying voltage.

図5に示すように、第1絶縁層検査プローブ42は、検査絶縁層28と接触可能である。図5では、便宜上、検査絶縁層28に対して1つの第1絶縁層検査プローブ42が接触しているが、各検査絶縁層28に接触する第1絶縁層検査プローブ42の個数は、特に制限されず、2以上であってもよい。 As shown in FIG. 5, a first insulating layer inspection probe 42 is capable of contacting the test insulating layer 28 . In FIG. 5, one first insulating layer inspection probe 42 is in contact with each inspection insulating layer 28 for convenience, but the number of first insulating layer inspection probes 42 in contact with each inspection insulating layer 28 is particularly limited. may be two or more.

第1絶縁層検査プローブ42は、厚み方向に延びる針形状を有する。第1絶縁層検査プローブ42の外径は、例えば、30μm以上100μm以下である。なお、図示しないが、第1絶縁層検査プローブ42は、電圧を検出可能な第2電圧検知回路に電気的に接続されている。 The first insulating layer inspection probe 42 has a needle shape extending in the thickness direction. The outer diameter of the first insulating layer inspection probe 42 is, for example, 30 μm or more and 100 μm or less. Although not shown, the first insulating layer inspection probe 42 is electrically connected to a second voltage detection circuit capable of detecting voltage.

第2絶縁層検査プローブ43は、検査端子29と接触可能である。検査端子29に接触する第2絶縁層検査プローブ43の個数は、例えば、検査絶縁層28に接触する第1絶縁層検査プローブ42の個数と同じである。 The second insulating layer inspection probe 43 can contact the inspection terminal 29 . The number of the second insulating layer inspection probes 43 in contact with the inspection terminals 29 is, for example, the same as the number of the first insulating layer inspection probes 42 in contact with the inspection insulating layer 28 .

第2絶縁層検査プローブ43は、厚み方向に延びる針形状を有する。第2絶縁層検査プローブ43の外径の範囲は、第1絶縁層検査プローブ42の外径の範囲と同じである。なお、図示しないが、第2絶縁層検査プローブ43は、電圧を印加可能な電圧印加装置に電気的に接続されている。 The second insulating layer inspection probe 43 has a needle shape extending in the thickness direction. The outer diameter range of the second insulating layer inspection probe 43 is the same as the outer diameter range of the first insulating layer inspection probe 42 . Although not shown, the second insulating layer inspection probe 43 is electrically connected to a voltage applying device capable of applying voltage.

検査工程では、まず、図1に示すように、検査冶具40を、1つのサスペンション群2に対して厚み方向一方側から向かい合わせる。 In the inspection process, first, as shown in FIG. 1, the inspection jig 40 is opposed to one suspension group 2 from one side in the thickness direction.

そして、図3に示すように、第1導体検査プローブ41を対応する磁気ヘッド用端子13に接触させ、第2導体検査プローブ(図示せず)を対応する外部接続端子14に接触させる。 Then, as shown in FIG. 3, the first conductor inspection probe 41 is brought into contact with the corresponding magnetic head terminal 13 and the second conductor inspection probe (not shown) is brought into contact with the corresponding external connection terminal 14 .

また、図5に示すように、第1絶縁層検査プローブ42を検査絶縁層28に接触させ、第2絶縁層検査プローブ43を検査端子29に接触させる。 Also, as shown in FIG. 5, the first insulating layer inspection probe 42 is brought into contact with the inspection insulating layer 28 and the second insulating layer inspection probe 43 is brought into contact with the inspection terminal 29 .

しかし、上記した第2カバー絶縁層19および検査絶縁層28の形成工程(図7A~図7C参照)において、例えば、露光が実施されないなどのエラーが生じていると、第2カバー絶縁層19および検査絶縁層28の両方が形成されない。この場合、第1絶縁層検査プローブ42は、検査絶縁層28と接触することなく横枠23と接触する。 However, in the process of forming the second insulating cover layer 19 and the inspection insulating layer 28 described above (see FIGS. 7A to 7C), if an error occurs, for example, exposure is not performed, the second insulating cover layer 19 and Neither test insulating layer 28 is formed. In this case, the first insulation layer inspection probe 42 contacts the horizontal frame 23 without contacting the inspection insulation layer 28 .

次いで、電圧印加装置(図示せず)が、第2導体検査プローブ(図示せず)を介して、配線15に電圧を印加し、第1導体検査プローブ41に接続される第1電圧検知回路(図示せず)が、電圧を検知するか否かにより、配線15の断線および/または短絡を検査する。 Next, a voltage application device (not shown) applies a voltage to the wiring 15 via a second conductor inspection probe (not shown), and a first voltage detection circuit (not shown) connected to the first conductor inspection probe 41 (not shown) checks wiring 15 for breaks and/or shorts depending on whether it senses voltage.

また、電圧印加装置(図示せず)は、第2絶縁層検査プローブ43を介して、検査導体層26に電圧を印加する。 A voltage applying device (not shown) applies a voltage to the inspection conductor layer 26 via the second insulating layer inspection probe 43 .

そして、検査絶縁層28が形成されている場合、第1絶縁層検査プローブ42は、検査絶縁層28と接触しており、横枠23との導通が阻害されているので、第1絶縁層検査プローブ42に接続される第2電圧検知回路(図示せず)は、電圧を検知しない。これにより、第2カバー絶縁層19および検査絶縁層28が形成されていることが確認される。 When the inspection insulating layer 28 is formed, the first insulating layer inspection probe 42 is in contact with the inspection insulating layer 28 and the conduction with the lateral frame 23 is blocked. A second voltage sensing circuit (not shown) connected to probe 42 senses no voltage. This confirms that the second insulating cover layer 19 and the inspection insulating layer 28 are formed.

一方、検査絶縁層28が形成されていない場合、第1絶縁層検査プローブ42は、横枠23と接触しているので、第2絶縁層検査プローブ43からの電圧は、検査導体層26、横枠23および第1絶縁層検査プローブ42を介して、第1絶縁層検査プローブ42に接続される第2電圧検知回路(図示せず)に検知される。これにより、第2カバー絶縁層19および検査絶縁層28が形成されていないことが確認される。 On the other hand, when the inspection insulating layer 28 is not formed, the first insulating layer inspection probe 42 is in contact with the horizontal frame 23, so the voltage from the second insulating layer inspection probe 43 is It is detected by a second voltage detection circuit (not shown) connected to the first insulation layer inspection probe 42 via the frame 23 and the first insulation layer inspection probe 42 . This confirms that the second insulating cover layer 19 and the inspection insulating layer 28 are not formed.

つまり、検査絶縁層28に第1絶縁層検査プローブ42を接触させて、横枠23との導通を検査することにより、第2カバー絶縁層19の形成の有無が確認される。 That is, by bringing the first insulating layer inspection probe 42 into contact with the inspection insulating layer 28 and inspecting the continuity with the lateral frame 23 , it is confirmed whether or not the second insulating cover layer 19 is formed.

以上によって、1つのサスペンション群2に対する検査工程(つまり、配線15の断線および/または短絡の検査、および、第2カバー絶縁層19の形成不良の検査)が完了する。 Thus, the inspection process for one suspension group 2 (that is, inspection for disconnection and/or short circuit of wiring 15 and inspection for defective formation of second insulating cover layer 19) is completed.

その後、すべてのサスペンション群2に対して検査工程が実施されるように、検査冶具40を移動させて、検査工程を繰り返す。 Thereafter, the inspection jig 40 is moved and the inspection process is repeated so that all the suspension groups 2 are subjected to the inspection process.

そして、すべてのサスペンション群2に対する検査工程が完了した後、複数の接続部7を切断して、複数の回路付サスペンション基板5を枠体6から分離する。 After the inspection process for all the suspension groups 2 is completed, the plurality of connecting portions 7 are cut to separate the plurality of suspension boards with circuit 5 from the frame 6 .

以上によって、複数の回路付サスペンション基板5が製造される。 As described above, a plurality of suspension boards with circuit 5 are manufactured.

上記した回路付サスペンション基板5の製造方法によれば、図7Bに示すように、感光性樹脂を含有するワニスを、第1カバー絶縁層18の厚み方向一方面と、金属支持層12の厚み方向一方面とに一括して塗布した後、塗布されたワニスを露光および現像して、図7Cに示すように、第2カバー絶縁層19の形成と同一工程により検査絶縁層28を形成する。 According to the method for manufacturing the suspension board with circuit 5 described above, as shown in FIG. After the varnish is coated on one side and the other side at once, the coated varnish is exposed and developed to form an inspection insulating layer 28 in the same process as the formation of the second insulating cover layer 19, as shown in FIG. 7C.

そのため、第2カバー絶縁層19および検査絶縁層28の形成工程が正常に実施されると、第2カバー絶縁層19および検査絶縁層28の両方が形成される一方、第2カバー絶縁層19および検査絶縁層28の形成工程において、例えば、露光が実施されないなどのエラーが起きると、第2カバー絶縁層19および検査絶縁層28の両方が形成されない。 Therefore, when the steps of forming the second insulating cover layer 19 and the inspection insulating layer 28 are normally performed, both the second insulating cover layer 19 and the inspection insulating layer 28 are formed, while the second insulating cover layer 19 and the inspection insulating layer 28 are both formed. In the process of forming the inspection insulating layer 28, if an error occurs, for example, exposure is not performed, both the second cover insulating layer 19 and the inspection insulating layer 28 are not formed.

これにより、図5に示すように、第1絶縁層検査プローブ42が検査絶縁層28と接触して横枠23との導通が阻害されると、第2カバー絶縁層19が正常に形成されていると確認でき、第1絶縁層検査プローブ42が検査絶縁層28と接触することなく横枠23と接触して導通すると、第2カバー絶縁層19が形成されていないと確認できる。 As a result, as shown in FIG. 5, when the first insulating layer inspection probe 42 comes into contact with the inspection insulating layer 28 and the conduction with the lateral frame 23 is blocked, the second insulating cover layer 19 is not normally formed. If the first insulating layer inspection probe 42 is in contact with the horizontal frame 23 without contacting the inspection insulating layer 28 and is electrically connected, it can be confirmed that the second insulating cover layer 19 is not formed.

つまり、簡易な方法でありながら、第2カバー絶縁層19の形成不良を検査することができる。 In other words, it is possible to inspect the formation defect of the second insulating cover layer 19 using a simple method.

とりわけ、第2カバー絶縁層19は、導体パターン10の導通に影響しないために、導体パターン10の導通検査において、第2カバー絶縁層19の形成不良を検査することが困難である。一方、上記の方法によれば、第2カバー絶縁層19の形成不良を円滑に検査することができる。 In particular, since the second insulating cover layer 19 does not affect the continuity of the conductive pattern 10 , it is difficult to check for defective formation of the second insulating cover layer 19 in the continuity test of the conductive pattern 10 . On the other hand, according to the above method, it is possible to smoothly inspect the second insulating cover layer 19 for defective formation.

図1に示すように、集合体シート1では、支持部3に検査絶縁層28が配置されており、上記した回路付サスペンション基板5の製造方法における検査工程を円滑に実施することができ、第2カバー絶縁層19の形成不良を検査することができる。 As shown in FIG. 1, in the assembly sheet 1, the inspection insulating layer 28 is arranged on the supporting portion 3, so that the inspection process in the manufacturing method of the suspension board with circuit 5 can be smoothly carried out. Formation defects of the second cover insulating layer 19 can be inspected.

また、図5に示すように、検査絶縁層28の厚みは、第2カバー絶縁層19の厚み以上である。そのため、検査絶縁層28に対して厚み方向から第1絶縁層検査プローブ42を接触させて、横枠23との導通を検査するときに、検査絶縁層28と第1絶縁層検査プローブ42とを安定して接触させることができる。その結果、第2カバー絶縁層19の形成不良の検査精度の向上をより一層図ることができる。 Moreover, as shown in FIG. 5 , the thickness of the inspection insulating layer 28 is equal to or greater than the thickness of the second cover insulating layer 19 . Therefore, when the first insulating layer inspection probe 42 is brought into contact with the inspection insulating layer 28 from the thickness direction to inspect continuity with the lateral frame 23, the inspection insulating layer 28 and the first insulating layer inspection probe 42 are brought into contact with each other. stable contact. As a result, it is possible to further improve the inspection accuracy for defective formation of the second insulating cover layer 19 .

また、図4に示すように、検査絶縁層28の長手方向の寸法は上記範囲であり、かつ、検査絶縁層28の並び方向の寸法は上記範囲である。そのため、第1絶縁層検査プローブ42を検査絶縁層28に接触させて横枠23との導通を検査するときに、検査絶縁層28と第1絶縁層検査プローブ42とをより一層安定して接触させることができる。 Further, as shown in FIG. 4, the longitudinal dimension of the inspection insulating layer 28 is within the above range, and the alignment direction dimension of the inspection insulating layer 28 is within the above range. Therefore, when the first insulation layer inspection probes 42 are brought into contact with the inspection insulation layer 28 to inspect continuity with the horizontal frame 23, the inspection insulation layer 28 and the first insulation layer inspection probes 42 are brought into contact with each other more stably. can be made

<変形例>
上記の一実施形態では、検査絶縁層28が、第2カバー絶縁層19と同一工程により形成されて、第2カバー絶縁層19の形成不良の検査に利用されるが、検査絶縁層の構成はこれに限定されない。
<Modification>
In the above-described embodiment, the inspection insulating layer 28 is formed in the same process as the second insulating cover layer 19 and is used for inspection of formation defects of the second insulating cover layer 19. However, the configuration of the inspection insulating layer is It is not limited to this.

例えば、図8に示すように、検査絶縁層を、ベース絶縁層9と同一工程により形成して、ベース絶縁層9の形成不良の検査に利用することもできる。この場合、検査ベース層25は、第1開口部25Aを有さず、検査ベース層25において連通口27Aから露出する部分が、検査絶縁層44として区画される。 For example, as shown in FIG. 8, an inspection insulating layer may be formed in the same process as the insulating base layer 9 and used to inspect for defective formation of the insulating base layer 9 . In this case, the inspection base layer 25 does not have the first opening 25A, and the portion of the inspection base layer 25 exposed from the communication port 27A is defined as the inspection insulating layer 44 .

また、図9に示すように、検査絶縁層を、第1カバー絶縁層18と同一工程により形成して、第1カバー絶縁層18の形成不良の検査に利用することもできる。この場合、検査カバー層27は、連通口27Aを有さず、検査ベース層25の第1開口部25Aに落ち込むように充填される。そして、検査カバー層27のうち第1開口部25A内に位置する部分が、検査絶縁層45として構成される。 Further, as shown in FIG. 9, the inspection insulating layer can be formed in the same process as the first insulating cover layer 18 and used for inspection of formation defects of the first insulating cover layer 18 . In this case, the inspection cover layer 27 does not have the communication port 27A and is filled so as to drop into the first opening 25A of the inspection base layer 25 . A portion of the inspection cover layer 27 located within the first opening 25</b>A is configured as an inspection insulating layer 45 .

また、図10に示すように、検査絶縁層を複数設けることもできる。 Also, as shown in FIG. 10, a plurality of inspection insulating layers can be provided.

例えば、横枠23上において、ベース絶縁層9と同一工程により形成する第1検査絶縁層46と、第1カバー絶縁層18と同一工程により形成する第2検査絶縁層47と、第2カバー絶縁層19と同一工程により形成する第3検査絶縁層48とを、互いに間隔を空けて配置してもよい。これによって、検査工程において、ベース絶縁層9、第1カバー絶縁層18および第2カバー絶縁層19の形成不良を一括して検査することができる。 For example, on the horizontal frame 23, a first inspection insulating layer 46 formed in the same process as the base insulating layer 9, a second inspection insulating layer 47 formed in the same process as the first cover insulating layer 18, and a second cover insulating layer The layer 19 and the third inspection insulating layer 48 formed in the same process may be spaced apart from each other. This makes it possible to collectively inspect for defects in the insulating base layer 9, the first insulating cover layer 18, and the second insulating cover layer 19 in the inspection process.

また、図11に示すように、回路付サスペンション基板5は、第1カバー絶縁層18の厚み方向一方面に、第2導体パターン50を備えることもできる。この場合、第1カバー絶縁層18は、導体パターン10と第2導体パターン50との間に配置される中間絶縁層である。そして、第2カバー絶縁層19は、第2導体パターン50を被覆するように、第1カバー絶縁層18の厚み方向一方面に配置される。 Further, as shown in FIG. 11 , the suspension board with circuit 5 may be provided with a second conductor pattern 50 on one surface of the first insulating cover layer 18 in the thickness direction. In this case, the first insulating cover layer 18 is an intermediate insulating layer arranged between the conductor pattern 10 and the second conductor pattern 50 . The second insulating cover layer 19 is arranged on one side in the thickness direction of the first insulating cover layer 18 so as to cover the second conductor pattern 50 .

このような態様において、図9に示すように、横枠23上において、第1カバー絶縁層18と同一工程により形成する検査絶縁層45を配置してもよく、図10に示すように、横枠23上において、ベース絶縁層9と同一工程により形成する第1検査絶縁層46と、第1カバー絶縁層18と同一工程により形成する第2検査絶縁層47と、第2カバー絶縁層19と同一工程により形成する第3検査絶縁層48とを配置してもよい。 In such a mode, as shown in FIG. 9, an inspection insulating layer 45 formed in the same process as the first insulating cover layer 18 may be arranged on the horizontal frame 23, and as shown in FIG. On the frame 23 , a first inspection insulating layer 46 formed in the same process as the base insulating layer 9 , a second inspection insulating layer 47 formed in the same process as the first cover insulating layer 18 , and a second cover insulating layer 19 . A third inspection insulating layer 48 formed by the same process may be arranged.

また、上記の一実施形態では、検査部4が、検査ベース層25と、検査導体層26と、検査カバー層27と、検査絶縁層28とを備えるが、検査部4の構成は、これに限定されない。例えば、図12に示すように、検査部4は、検査絶縁層28のみからなってもよい。 In addition, in the above embodiment, the inspection unit 4 includes the inspection base layer 25, the inspection conductor layer 26, the inspection cover layer 27, and the inspection insulating layer 28, but the configuration of the inspection unit 4 is Not limited. For example, as shown in FIG. 12, the inspection section 4 may consist of only the inspection insulating layer 28 .

この場合、例えば、検査工程において、回路付サスペンション基板5が備えるグランド配線を介して、金属支持体8に電圧を印加し、第1絶縁層検査プローブ42を、検査絶縁層28に接触させて、横枠23との導通を検査する。 In this case, for example, in the inspection process, a voltage is applied to the metal support 8 via the ground wiring included in the suspension board with circuit 5, and the first insulating layer inspection probes 42 are brought into contact with the inspection insulating layer 28, Conductivity with the horizontal frame 23 is inspected.

また、上記した実施形態では、検査部4は、サスペンション群2に1つずつ対応するが、検査部4の配置および個数は、特に制限されない。集合体シート1において、検査部4を1つのみ設けることもできる。また、1つのサスペンション群2に対して、複数の検査部4を設けてもよい。 Further, in the above-described embodiment, one inspection unit 4 corresponds to each suspension group 2, but the arrangement and number of inspection units 4 are not particularly limited. Only one inspection unit 4 may be provided in the aggregate sheet 1 . Also, a plurality of inspection units 4 may be provided for one suspension group 2 .

また、上記した実施形態では、カバー皮膜32が、露光部分が不溶化し未露光部分が可溶化するネガ型であるが、これに限定されず、カバー皮膜32は、未露光部分が不溶化し露光部分が可溶化するポジ型であってもよい。この場合、フォトマスク33は、上記した実施形態と逆のパターンを有する。 In the above-described embodiment, the cover film 32 is a negative type in which the exposed portion is insolubilized and the unexposed portion is soluble. It may be a positive type in which is solubilized. In this case, the photomask 33 has a pattern opposite to that of the embodiment described above.

これらによっても、上記した実施形態と同様の作用効果を奏することができる。また、上記した実施形態と変形例とは適宜組みわせることができる。 These can also provide the same effects as the above-described embodiment. Further, the above-described embodiment and modifications can be appropriately combined.

1 集合体シート
3 支持部
4 検査部
5 回路付サスペンション基板
8 金属支持体
9 ベース絶縁層
10 導体パターン
11 カバー絶縁層
12 金属支持層
18 第1カバー絶縁層
19 第2カバー絶縁層
28 検査絶縁層
44 検査絶縁層
45 検査絶縁層
46 第1検査絶縁層
47 第2検査絶縁層
48 第3検査絶縁層
REFERENCE SIGNS LIST 1 assembly sheet 3 support part 4 inspection part 5 suspension board with circuit 8 metal support 9 base insulating layer 10 conductor pattern 11 cover insulating layer 12 metal supporting layer 18 first cover insulating layer 19 second cover insulating layer 28 inspection insulating layer 44 inspection insulation layer 45 inspection insulation layer 46 first inspection insulation layer 47 second inspection insulation layer 48 third inspection insulation layer

Claims (5)

金属支持層を準備する工程と、
前記金属支持層の厚み方向一方面に第1絶縁層を形成する工程と、
前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に導体パターンを形成する工程と、
前記第1絶縁層の前記厚み方向一方側に第2絶縁層を形成する工程と、
前記第1絶縁層および/または前記第2絶縁層の形成不良を検査する工程と、を含み、
前記第1絶縁層を形成する工程および/または前記第2絶縁層を形成する工程では、前記第1絶縁層および/または前記第2絶縁層の形成と同一工程により、前記金属支持層の前記厚み方向一方面における前記第1絶縁層と異なる位置に検査絶縁層を形成し、
前記検査する工程において、前記検査絶縁層にプローブを接触させて、前記金属支持層との導通を検査することを特徴とする、回路付サスペンション基板の製造方法。
providing a metal support layer;
forming a first insulating layer on one side in the thickness direction of the metal support layer;
forming a conductor pattern on one surface of the first insulating layer in the thickness direction;
forming a second insulating layer on one side of the first insulating layer in the thickness direction;
inspecting the formation defects of the first insulating layer and/or the second insulating layer;
In the step of forming the first insulating layer and/or the step of forming the second insulating layer, the thickness of the metal support layer is reduced by the same step as the step of forming the first insulating layer and/or the second insulating layer. forming an inspection insulating layer at a position different from the first insulating layer on one side in the direction;
A method of manufacturing a suspension board with circuit, wherein in the inspecting step, a probe is brought into contact with the inspection insulating layer to inspect continuity with the metal support layer.
前記第2絶縁層を形成する工程は、
前記導体パターンを被覆するように、前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に第1カバー絶縁層を形成する工程と、
前記第1カバー絶縁層の前記厚み方向一方面に第2カバー絶縁層を形成する工程と、を含み、
前記第2カバー絶縁層を形成する工程は、
前記第1カバー絶縁層の前記厚み方向一方面と、前記金属支持層の前記厚み方向一方面における前記第1絶縁層と異なる位置とに、感光性樹脂を含有するワニスを一括して塗布する工程と、
塗布された前記ワニスを露光および現像して、前記第2カバー絶縁層と前記検査絶縁層とを同時に形成することを特徴とする、請求項1に記載の回路付サスペンション基板の製造方法。
The step of forming the second insulating layer includes:
forming a first insulating cover layer on one side in the thickness direction of the first insulating layer so as to cover the conductor pattern;
forming a second insulating cover layer on one surface in the thickness direction of the first insulating cover layer,
The step of forming the second insulating cover layer includes:
A step of collectively applying a varnish containing a photosensitive resin to the one surface of the first insulating cover layer in the thickness direction and a position different from the first insulating layer on the one surface of the metal support layer in the thickness direction. and,
2. The method of manufacturing a suspension board with circuit according to claim 1, wherein the applied varnish is exposed and developed to simultaneously form the second insulating cover layer and the inspection insulating layer.
複数の回路付サスペンション基板を備える回路付サスペンション基板集合体であって、
複数の前記回路付サスペンション基板に対応する複数のサスペンション部分、および、複数の前記回路付サスペンション基板を一括して支持する支持部分を含む金属支持層と、
前記サスペンション部分の厚み方向一方面に配置される第1絶縁層と、
前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に配置される導体パターンと、
前記第1絶縁層の前記厚み方向一方側に配置される第2絶縁層と、
前記支持部分に配置される検査部と
を備え、
前記検査部は、
前記金属支持層の厚み方向一方面に配置される検査ベース層と、
前記検査ベース層の前記厚み方向一方面に配置される検査導体層と、
を備え、
前記検査ベース層は、前記検査ベース層を厚み方向に貫通する第2開口部を有し、
前記検査導体層は、検査端子と、前記検査端子と連続しているビア部とを備え、
前記ビア部の中央部分は、前記第2開口部に落ち込んで充填され、前記金属支持層と接触し、
前記検査部は、さらに
前記支持部分の前記厚み方向一方面に配置され、前記第1絶縁層および/または前記第2絶縁層の形成不良を検査するための検査絶縁層と、を備えることを特徴とする、回路付サスペンション基板集合体。
A suspension board with circuit assembly comprising a plurality of suspension boards with circuit,
a metal support layer including a plurality of suspension portions corresponding to the plurality of suspension boards with circuit and a support portion collectively supporting the plurality of suspension boards with circuit;
a first insulating layer disposed on one surface in the thickness direction of the suspension portion;
a conductor pattern arranged on one surface in the thickness direction of the first insulating layer;
a second insulating layer arranged on one side of the first insulating layer in the thickness direction;
an inspection unit disposed on the support portion;
with
The inspection unit
an inspection base layer disposed on one side in the thickness direction of the metal support layer;
an inspection conductor layer arranged on one side in the thickness direction of the inspection base layer;
with
The inspection base layer has a second opening penetrating the inspection base layer in the thickness direction,
The inspection conductor layer includes an inspection terminal and a via section that is continuous with the inspection terminal,
a central portion of the via portion is recessed into the second opening to be filled and is in contact with the metal support layer;
The inspection unit further
and an inspection insulating layer arranged on one side in the thickness direction of the supporting portion for inspecting formation defects of the first insulating layer and/or the second insulating layer. board assembly.
複数の回路付サスペンション基板を備える回路付サスペンション基板集合体であって、
複数の前記回路付サスペンション基板に対応する複数のサスペンション部分、および、複数の前記回路付サスペンション基板を一括して支持する支持部分を含む金属支持層と、
前記サスペンション部分の厚み方向一方面に配置される第1絶縁層と、
前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に配置される導体パターンと、
前記第1絶縁層の前記厚み方向一方側に配置される第2絶縁層と、
前記支持部分の前記厚み方向一方面に配置され、前記第1絶縁層および/または前記第2絶縁層の形成不良を検査するための検査絶縁層と、を備え、
前記第2絶縁層は、
前記導体パターンを被覆するように、前記第1絶縁層の前記厚み方向一方面に配置される第1カバー絶縁層と、
前記第1カバー絶縁層の前記厚み方向一方面に配置される第2カバー絶縁層と、を備え、
前記検査絶縁層の厚みは、前記第2カバー絶縁層の厚み以上であることを特徴とする、回路付サスペンション基板集合体。
A suspension board with circuit assembly comprising a plurality of suspension boards with circuit,
a metal support layer including a plurality of suspension portions corresponding to the plurality of suspension boards with circuit and a support portion collectively supporting the plurality of suspension boards with circuit;
a first insulating layer disposed on one surface in the thickness direction of the suspension portion;
a conductor pattern arranged on one surface in the thickness direction of the first insulating layer;
a second insulating layer arranged on one side of the first insulating layer in the thickness direction;
an inspection insulating layer arranged on one side in the thickness direction of the supporting portion for inspecting formation defects of the first insulating layer and/or the second insulating layer;
The second insulating layer is
a first insulating cover layer arranged on one side in the thickness direction of the first insulating layer so as to cover the conductor pattern;
a second insulating cover layer disposed on one surface in the thickness direction of the first insulating cover layer,
The suspension board assembly with circuit, wherein the thickness of the inspection insulating layer is equal to or greater than the thickness of the second insulating cover layer.
前記厚み方向と直交する第1方向における前記検査絶縁層の寸法は、30μm以上500μm以下であり、
前記厚み方向および前記第1方向の両方向と直交する第2方向における前記検査絶縁層の寸法は、30μm以上500μm以下であることを特徴とする、請求項3または4に記載の回路付サスペンション基板集合体。
a dimension of the inspection insulating layer in a first direction perpendicular to the thickness direction is 30 μm or more and 500 μm or less;
5. The suspension board with circuit assembly according to claim 3, wherein the dimension of said inspection insulating layer in a second direction perpendicular to both said thickness direction and said first direction is 30 μm or more and 500 μm or less. body.
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