JP7239285B2 - X線検査装置 - Google Patents
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Description
上記のX線検査装置において、前記制御部は、前記第2の処理を1回実施する毎に前記第1の処理を実施することが好ましい。
上記のX線検査装置において、前記X線管と前記ステージとの間に挿脱自在に配置され、前記X線のうち特定の波長域を吸収するフィルタを備え、前記制御部は、前記第1の処理において前記フィルタを前記X線管と前記ステージとの間から抜脱し、前記第2の処理において前記フィルタを前記X線管と前記ステージとの間に挿入することが好ましい。
なお、添付図面は、理解を容易にするために構成要素を拡大して示している場合がある。構成要素の寸法比率は実際のものと、または別の図面中のものと異なる場合がある。
照射ボックス10には、ステージ11、X線管12、変位計13、X線検出器14,15、回転ステージ16、支持アーム17、遮蔽ユニット20を有している。
ステージ11は、被検査物70が載置される載置面11aを有し、水平方向(X軸方向及びY軸方向)に移動自在なXYステージである。ステージ11は、アクチュエータとしてのモータを含むステージ移動機構(図示略)を有し、そのステージ移動機構により載置面11aと平行な水平方向に移動する。コントロール部50のモータ制御部51は、ステージ11のモータを制御する。これにより、X線検査装置1は、載置面11aに載置された被検査物70を所定の検査対象位置へと導く。
図3に示すように、被検査物70としてのウェハはダイシング前のものであり、複数の半導体チップ71を含む。各半導体チップ71が被検査物(評価サンプル)70である。X線検査装置1は、このような被検査物70の構造を検査するために利用される。なお、1回の検査処理(データ収集及び再構成処理)では、被検査物70(半導体チップ71)の一部分のみが検査対象となる場合があり、1つの被検査物70(1つの半導体チップ71)が複数回処理されることもある。
コントロール部50は、校正用ファントム80を撮影し、校正用ファントム80の立体画像を生成する。そして、コントロール部50は、生成した立体画像における校正用ファントム80の位置ずれ量を検出し、その位置ずれ量によりX線管12の焦点F1の位置を調整する。
先ず、ウオームアップ[warm-up]を行う(ステップ201)。ウオームアップの時間は、例えば1時間である。次に、ステージを移動させ、被検査物(サンプル)を視野中心に配置する[move stage(sample)](ステップ202)。視野中心は、X線検出器にてX線を受ける領域(視野)の中心位置である。次に、X線を照射し、被検査物(サンプル)の1周分のデータを取得する[daq:data acquisition(sample)](ステップ203)。そして、取得した1周分のデータにより、被検査物のデータ(立体画像)を再構成する[reconstruction](ステップ204)。そして、次の被検査物に対する処理を行うべく、ステップ202に移行する。この比較例による処理では、X線の焦点の位置ずれが発生し、サンプルによって拡大率が異なる、つまり再構成により得られる立体画像に差が生じる場合がある。
先ず、ウオームアップ[warm-up]を行う(ステップ101)。ウオームアップの時間は、図10に示すように、焦点F1の変動に応じて、その変動が少なくなるまでに要する時間に設定され、例えば1時間である。
次に、X線を照射し、ステージ11及びX線検出器15を1周旋回させ、被検査物70のデータを取得する[daq:data acquisition(sample)](ステップ108)。データは、例えば図1に示すステージ11及びX線検出器15を所定の角度毎に回転させ、X線を照射してX線検出器15に入射したX線のデータである。所定の角度は、1周を所定数に分割した角度である。分割数は、例えば60~4000とすることができる。
(1)X線検査装置1は、X線を照射するX線管12と、被検査物70が載置される載置面11aを有するステージ11と、ステージ11に配設された校正用ファントム80と、X線検出器15とを有している。X線検出器15は、ステージ11を挟んでX線管12と対向する位置の周辺、且つ、X線を入射する検出面15aがX線管12から照射されるX線の軸線方向に対して斜めに配置されている。コントロール部50は、X線検出器15により撮影した校正用ファントム80の断面画像91を生成し、断面画像91における校正用ファントム80の位置を検出する。そして、検出した校正用ファントム80の位置に基づいてX線の焦点F1の位置を調整する第1の処理と、X線検出器15により撮影した被検査物70の立体画像を生成する第2の処理と、を実施する。
尚、上記実施形態は、以下の態様で実施してもよい。
・上記実施形態における処理を適宜変更してもよい。
Claims (3)
- X線を照射するX線管と、
被検査物が載置される載置面を有するステージと、
前記ステージに配設された校正用ファントムと、
前記ステージを挟んで前記X線管と対向する位置の周辺、且つ、前記X線を入射する検出面が前記X線管から照射されるX線の軸線方向に対して斜めに配置されたX線検出器と、
前記X線検出器により撮影した前記校正用ファントムの断面画像を生成し、前記断面画像における前記校正用ファントムの位置を検出し、その検出した前記校正用ファントムの位置に基づいて前記X線の焦点位置を調整する第1の処理と、前記X線検出器により撮影した前記被検査物の立体画像を生成する第2の処理と、を実施する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記第2の処理において前記X線検出器を半周以上回転させて取得した複数の撮影データを再構成して前記被検査物の立体画像を生成し、前記第1の処理において前記校正用ファントムの撮影データを取得し、取得した撮影データを再構成して生成した前記校正用ファントムの立体画像のうちの1つの断面を前記断面画像とし、
前記制御部は、前記第1の処理を実施した後、前記第2の処理を実施し、前記第2の処理の実施後にさらに第2の処理を行う時には、該第2の処理を実施する前に前記第1の処理を再び実施し、
前記第1の処理では、その直後に実施する第2の処理で取得する前記被検査物の撮影データより少ない数の前記校正用ファントムの撮影データを取得するX線検査装置。 - 前記制御部は、前記断面画像において検出した前記校正用ファントムの位置と基準位置との差に基づいて前記X線の焦点位置を調整する、請求項1に記載のX線検査装置。
- 前記X線管と前記ステージとの間に挿脱自在に配置され、前記X線のうち特定の波長域を吸収するフィルタを備え、
前記制御部は、前記第1の処理において前記フィルタを前記X線管と前記ステージとの間から抜脱し、前記第2の処理において前記フィルタを前記X線管と前記ステージとの間に挿入する、請求項1又は2に記載のX線検査装置。
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