JP7231560B2 - 光学素子の移動装置、狭帯域化レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 - Google Patents

光学素子の移動装置、狭帯域化レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 Download PDF

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Description

本開示は、光学素子の移動装置、狭帯域化レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法に関する。
半導体集積回路の微細化、高集積化につれて、半導体露光装置においては解像力の向上が要請されている。半導体露光装置を以下、単に「露光装置」という。このため露光用光源から出力される光の短波長化が進められている。露光用光源には、従来の水銀ランプに代わってガスレーザ装置が用いられている。現在、露光用のガスレーザ装置としては、波長248nmの紫外線を出力するKrFエキシマレーザ装置ならびに、波長193nmの紫外線を出力するArFエキシマレーザ装置が用いられている。
現在の露光技術としては、露光装置側の投影レンズとウエハ間の間隙を液体で満たして、当該間隙の屈折率を変えることによって、露光用光源の見かけの波長を短波長化する液浸露光が実用化されている。ArFエキシマレーザ装置を露光用光源として用いて液浸露光が行われた場合は、ウエハには水中における波長134nmの紫外光が照射される。この技術をArF液浸露光という。ArF液浸露光はArF液浸リソグラフィーとも呼ばれる。
KrF、ArFエキシマレーザ装置の自然発振におけるスペクトル線幅は約350~400pmと広いため、露光装置側の投影レンズによってウエハ上に縮小投影されるレーザ光(紫外線光)の色収差が発生して解像力が低下する。そこで色収差が無視できる程度となるまでガスレーザ装置から出力されるレーザ光のスペクトル線幅を狭帯域化する必要がある。スペクトル線幅はスペクトル幅とも呼ばれる。このためガスレーザ装置のレーザ共振器内には狭帯域化素子を有する狭帯域化モジュール(Line Narrow Module)が設けられ、この狭帯域化モジュールによりスペクトル幅の狭帯域化が実現されている。なお、狭帯域化素子はエタロンやグレーティング等であってもよい。このようにスペクトル幅が狭帯域化されたレーザ装置を狭帯域化レーザ装置という。
国際公開第2017/026000号公報
概要
本開示の1つの観点に係る光学素子の移動装置は、第1の光学素子を保持する第1の保持部と、第2の光学素子を保持し、第1の保持部に近づく第1の方向に対して傾斜した傾斜面を有する第2の保持部と、第2の保持部を第1の方向と平行に移動可能にするガイド部と、第1の保持部と第2の保持部との間の位置であって、傾斜面と垂直に交差し第1の方向に平行な第1の面が通る位置に配置された弾性部材と、を備える。
本開示の1つの観点に係る狭帯域化レーザ装置は、レーザ共振器と、レーザ共振器に配置され、レーザガスを収容するチャンバと、チャンバに配置された一対の電極と、レーザ共振器に配置された波長選択素子と、レーザ共振器に配置されたスペクトル幅可変部と、を備える。スペクトル幅可変部は、第1の光学素子と、第1の光学素子を保持する第1の保持部と、第2の光学素子と、第2の光学素子を保持し、第1の保持部に近づく第1の方向に対して傾斜した傾斜面を有する第2の保持部と、第2の保持部を第1の方向と平行に移動可能にするガイド部と、第1の保持部と第2の保持部との間の位置であって、傾斜面と垂直に交差し第1の方向に平行な第1の面が通る位置に配置された弾性部材と、を備える。
本開示の1つの観点に係る電子デバイスの製造方法は、狭帯域化レーザ装置によってレーザ光を生成し、レーザ光を露光装置に出力し、電子デバイスを製造するために、露光装置内で感光基板上にレーザ光を露光することを含む。狭帯域化レーザ装置は、レーザ共振器と、レーザ共振器に配置され、レーザガスを収容するチャンバと、チャンバに配置された一対の電極と、レーザ共振器に配置された波長選択素子と、レーザ共振器に配置されたスペクトル幅可変部と、を備える。スペクトル幅可変部は、第1の光学素子と、第1の光学素子を保持する第1の保持部と、第2の光学素子と、第2の光学素子を保持し、第1の保持部に近づく第1の方向に対して傾斜した傾斜面を有する第2の保持部と、第2の保持部を第1の方向と平行に移動可能にするガイド部と、第1の保持部と第2の保持部との間の位置であって、傾斜面と垂直に交差し第1の方向に平行な第1の面が通る位置に配置された弾性部材と、を備える。
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図1は、比較例に係る狭帯域化レーザ装置の構成を模式的に示す。 図2A~図2Cは、比較例におけるスペクトル幅可変部15の具体的構成を示す。 図3A~図3Cは、本開示の第1の実施形態におけるスペクトル幅可変部15の具体的構成を示す。 図4A~図4Cは、本開示の第2の実施形態におけるスペクトル幅可変部15の具体的構成を示す。 図5A~図5Cは、本開示の第3の実施形態におけるスペクトル幅可変部15の具体的構成を示す。 図6は、狭帯域化レーザ装置1に接続された露光装置4の構成を概略的に示す。
実施形態
<内容>
1.比較例
1.1 狭帯域化レーザ装置の構成
1.1.1 チャンバ及びパルスパワーモジュール
1.1.2 レーザ共振器
1.1.3 センサユニット
1.1.4 レーザ制御部
1.2 狭帯域化レーザ装置の動作
1.2.1 チャンバ及びパルスパワーモジュール
1.2.2 レーザ共振器
1.2.3 センサユニット
1.2.4 レーザ制御部
1.3 スペクトル幅可変部に含まれる移動装置
1.3.1 構成
1.3.2 動作
1.4 課題
2.弾性部材を第1の面内に配置した移動装置
2.1 構成
2.2 作用
3.弾性部材を第1の直線上に配置した移動装置
3.1 構成
3.2 作用
4.ガイド部を構成するレールを第1の面内に配置した移動装置
4.1 構成
4.2 作用
5.その他
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
1.比較例
1.1 狭帯域化レーザ装置の構成
図1は、比較例に係る狭帯域化レーザ装置の構成を模式的に示す。図1に示される狭帯域化レーザ装置は、チャンバ10と、一対の放電電極11a及び11bと、パルスパワーモジュール(PPM)13と、狭帯域化モジュール14と、スペクトル幅可変部15と、を含む。狭帯域化レーザ装置は、さらに、センサユニット16と、レーザ制御部30と、を含む。狭帯域化レーザ装置は、露光装置4等の外部装置に入射させるためのパルスレーザ光を出力するエキシマレーザ装置である。
図1においては、一対の放電電極11a及び11bの間の放電方向に平行な方向からみた狭帯域化レーザ装置が示されている。放電電極11bは、放電電極11aよりも紙面の奥行側に位置する。狭帯域化レーザ装置から出力されるパルスレーザ光の進行方向は、+Z方向である。一対の放電電極11a及び11bの間の放電方向は、+V方向又は-V方向である。-V方向は、重力の方向とほぼ一致している。+H方向は、+Z方向と+V方向との両方に垂直な方向である。+Z方向は、本開示における第1の方向に相当する。+V方向又は-V方向は、本開示における第2の方向に相当する。なお、本開示において、「平行」及び「垂直」とは、方向や角度の厳密な数値を規定するものではなく、実用的範囲内での誤差を許容する趣旨である。「平行」は「略平行」と読み替えることができ、「垂直」は「略垂直」と読み替えることができる。
1.1.1 チャンバ及びパルスパワーモジュール
チャンバ10は、例えば、レアガスとしてアルゴンガスやクリプトンガス、ハロゲンガスとしてフッ素ガスや塩素ガス、バッファガスとしてネオンガスやヘリュームガスを含むレーザガスを封入している。
チャンバ10内に、一対の放電電極11a及び11bが配置されている。一対の放電電極11a及び11bに、パルスパワーモジュール13が接続される。パルスパワーモジュール13は、図示しない充電コンデンサと、スイッチ13aと、を含む。パルスパワーモジュール13の充電コンデンサに、充電器12が接続される。
チャンバ10の両端にはウインドウ10a及び10bが設けられている。図1に示されるように、ウインドウ10a及び10bは、これらのウインドウに対する光の入射面とHZ面とが略一致し、かつ、この光の入射角度が略ブリュースター角となるように配置されている。
1.1.2 レーザ共振器
狭帯域化モジュール14及びスペクトル幅可変部15が、レーザ共振器を構成する。
狭帯域化モジュール14は、2つのプリズム14a及び14bと、グレーティング14cと、を含む。プリズム14a、プリズム14b、及びグレーティング14cは、それぞれ図示しないホルダに支持されている。プリズム14a、プリズム14b、及びグレーティング14cは、本開示の波長選択素子を構成する。
プリズム14bは、V方向に平行な回転軸を有する回転ステージ14dによって、姿勢を調節できるように構成されている。回転ステージ14dは、ドライバ14eによって駆動される。
グレーティング14cは、表面の物質が高反射率の材料によって構成され、表面に多数の溝が所定間隔で形成されている。各溝の方向はV方向と平行である。各溝のHZ面に平行な断面の形状は、例えば直角三角形である。
スペクトル幅可変部15は、レーザ共振器内のレーザ光の波面を可変する波面可変部であって、平凸シリンドリカルレンズ151と、平凹シリンドリカルレンズ152とを含む。平凹シリンドリカルレンズ152は、平凸シリンドリカルレンズ151よりもチャンバ10に近い位置に配置されている。平凸シリンドリカルレンズ151のシリンドリカル凸面153と、平凹シリンドリカルレンズ152のシリンドリカル凹面154とが向き合うように、これらのレンズが配置されている。平凸シリンドリカルレンズ151は本開示における第1の光学素子に相当し、平凹シリンドリカルレンズ152は本開示における第2の光学素子に相当する。
平凸シリンドリカルレンズ151のシリンドリカル凸面153の中心軸は、V方向と平行である。平凸シリンドリカルレンズ151の平面は、Z方向と垂直である。平凸シリンドリカルレンズ151の平面には、部分反射膜がコーティングされている。
平凹シリンドリカルレンズ152のシリンドリカル凹面154の中心軸は、V方向と平行である。平凹シリンドリカルレンズ152の平面は、Z方向と垂直である。平凹シリンドリカルレンズ152は、移動装置50によって、+Z方向又は-Z方向に移動可能とされている。移動装置50は、ドライバ65によって駆動される。
チャンバ10と狭帯域化モジュール14との間に、ビーム幅を制限するスリット板10cが配置される。チャンバ10とスペクトル幅可変部15との間に、ビーム幅を制限するスリット板10dが配置される。
1.1.3 センサユニット
センサユニット16は、ビームスプリッタ16a、16b及び16cと、パルスエネルギー検出器16dと、スペクトル幅検出器16eと、波長検出器16fと、を含む。
ビームスプリッタ16aは、スペクトル幅可変部15と露光装置4との間のパルスレーザ光の光路に配置されている。ビームスプリッタ16aは、スペクトル幅可変部15から出力されたパルスレーザ光を高い透過率で透過させ、スペクトル幅可変部15から出力されたパルスレーザ光の一部を反射するように構成されている。
ビームスプリッタ16bは、ビームスプリッタ16aによって反射されたパルスレーザ光の光路に配置されている。ビームスプリッタ16bは、ビームスプリッタ16aによって反射されたパルスレーザ光の一部を透過させ、ビームスプリッタ16aによって反射されたパルスレーザ光の他の一部を反射するように構成されている。
ビームスプリッタ16cは、ビームスプリッタ16bを透過したパルスレーザ光の光路に配置されている。ビームスプリッタ16cは、ビームスプリッタ16bを透過したパルスレーザ光の一部を透過させ、ビームスプリッタ16bを透過したパルスレーザ光の他の一部を反射するように構成されている。
パルスエネルギー検出器16dは、ビームスプリッタ16bによって反射されたパルスレーザ光の光路に配置されている。パルスエネルギー検出器16dは、フォトダイオード、光電管、あるいは焦電素子で構成される。
スペクトル幅検出器16eは、ビームスプリッタ16cによって反射されたパルスレーザ光の光路に配置されている。スペクトル幅検出器16eは、エタロン分光器を含む。
波長検出器16fは、ビームスプリッタ16cを透過したパルスレーザ光の光路に配置されている。波長検出器16fは、エタロン分光器を含む。
1.1.4 レーザ制御部
露光装置4は、露光装置制御部40を含んでいる。露光装置制御部40は、後述のワークピーステーブルWTの移動などの制御を行うように構成されている。露光装置制御部40は、レーザ制御部30に対し、目標パルスエネルギーのデータと、目標スペクトル幅のデータと、目標波長のデータと、トリガ信号とを出力する。
レーザ制御部30は、パルスエネルギー制御部30a、スペクトル幅制御部30b、及び波長制御部30cを含む。パルスエネルギー制御部30a、スペクトル幅制御部30b、及び波長制御部30cの各々は、レーザ制御部30に含まれる後述のメモリ1002にロードされたプログラムモジュールとして構成されている。
1.2 狭帯域化レーザ装置の動作
1.2.1 チャンバ及びパルスパワーモジュール
レーザ制御部30は、露光装置制御部40からトリガ信号を受信する。レーザ制御部30は、露光装置制御部40から受信したトリガ信号に基づいて、パルスパワーモジュール13にトリガ信号を送信する。
パルスパワーモジュール13は、レーザ制御部30からトリガ信号を受信すると、充電器12に充電された電気エネルギーからパルス状の高電圧を生成し、この高電圧を一対の放電電極11a及び11bの間に印加する。
一対の放電電極11a及び11bの間に高電圧が印加されると、一対の放電電極11a及び11bの間に放電が起こる。この放電のエネルギーにより、チャンバ10内のレーザガスが励起されて高エネルギー準位に移行する。励起されたレーザガスが、その後、低エネルギー準位に移行するとき、そのエネルギー準位差に応じた波長の光を放出する。
チャンバ10内で発生した光は、ウインドウ10a及び10bを介してチャンバ10の外部に出射する。
1.2.2 レーザ共振器
プリズム14a及び14bは、チャンバ10のウインドウ10aから出射した光のH方向のビーム幅を拡大させて、その光をグレーティング14cに入射させる。また、プリズム14a及び14bは、グレーティング14cからの反射光のH方向のビーム幅を縮小させるとともに、その光を、ウインドウ10aを介して、チャンバ10内の放電空間に戻す。
グレーティング14cは、プリズム14a及び14bを介して入射した光を、HZ面に平行な面内で光の波長に応じた方向に回折させる。グレーティング14cは、プリズム14a及び14bを介してグレーティング14cに入射する光の入射角と、所望波長の回折光の回折角とが一致するようにリトロー配置されている。これにより、所望波長付近の光がプリズム14a及び14bを介してチャンバ10に戻される。
回転ステージ14dがプリズム14bの姿勢を調節することにより、プリズム14a及び14bを介してグレーティング14cに入射する光の入射角が変更される。これにより、狭帯域化モジュール14によって選択される光の波長が変更される。
平凸シリンドリカルレンズ151を含むスペクトル幅可変部15は、チャンバ10のウインドウ10bから出射した光のうちの一部を透過させて出力し、他の一部を反射させてチャンバ10に戻す。
このようにして、チャンバ10から出射した光は、狭帯域化モジュール14とスペクトル幅可変部15との間で往復する。この光は、一対の放電電極11a及び11bの間の放電空間を通過する度に増幅される。また、この光は、狭帯域化モジュール14で折り返される度に狭帯域化される。さらに、上述したウインドウ10a及び10bの配置によって、H方向の偏光成分が選択される。こうしてレーザ発振し狭帯域化された光が、スペクトル幅可変部15からレーザ光として出力される。
移動装置50が平凹シリンドリカルレンズ152を+Z方向又は-Z方向に移動させることにより、スペクトル幅可変部15からチャンバ10に戻される光の波面のHZ面に平行な断面の形状が変化する。これにより、グレーティング14cに入射する光の波面が変化し、狭帯域化モジュール14によって選択される光のスペクトル幅が変更される。
1.2.3 センサユニット
センサユニット16に含まれるパルスエネルギー検出器16dは、ビームスプリッタ16bによって反射されたパルスレーザ光のパルスエネルギーを検出する。パルスエネルギー検出器16dは、検出されたパルスエネルギーのデータを、レーザ制御部30に出力する。
センサユニット16に含まれるスペクトル幅検出器16eは、ビームスプリッタ16cによって反射されたパルスレーザ光のスペクトル幅を検出する。スペクトル幅検出器16eは、検出されたスペクトル幅のデータを、レーザ制御部30に出力する。
センサユニット16に含まれる波長検出器16fは、ビームスプリッタ16cを透過したパルスレーザ光の波長を検出する。波長検出器16fが検出する波長は、ピーク波長または重心波長であってもよいし、ピークの半値における2波長の平均値であってもよい。波長検出器16fは、検出された波長のデータを、レーザ制御部30に出力する。
1.2.4 レーザ制御部
レーザ制御部30に含まれるパルスエネルギー制御部30aは、パルスエネルギー検出器16dから受信したパルスエネルギーのデータと、露光装置制御部40から受信した目標パルスエネルギーのデータとに基づいて、充電器12の充電電圧を設定する。これにより、狭帯域化レーザ装置から出力されるパルスレーザ光のパルスエネルギーが目標パルスエネルギーに近づけられる。
レーザ制御部30に含まれるスペクトル幅制御部30bは、スペクトル幅検出器16eから受信したスペクトル幅のデータと、露光装置制御部40から受信した目標スペクトル幅のデータとに基づいて、ドライバ65を介してスペクトル幅可変部15を制御する。これにより、狭帯域化レーザ装置から出力されるパルスレーザ光のスペクトル幅が目標スペクトル幅に近づけられる。
レーザ制御部30に含まれる波長制御部30cは、波長検出器16fから受信した波長のデータと、露光装置制御部40から受信した目標波長のデータとに基づいて、ドライバ14eを介して回転ステージ14dを制御する。これにより、狭帯域化レーザ装置から出力されるパルスレーザ光の波長が目標波長に近づけられる。
1.3 スペクトル幅可変部に含まれる移動装置
1.3.1 構成
図2A~図2Cは、比較例におけるスペクトル幅可変部15の具体的構成を示す。図2Aは、スペクトル幅可変部15を-V方向に見た一部断面図であり、図1と同じ方向から見た図に相当する。図2Bは、スペクトル幅可変部15を-H方向に見た図である。図2Cは、スペクトル幅可変部15を+Z方向に見た図である。
スペクトル幅可変部15に含まれる移動装置は、第1の保持部51と、第2の保持部52と、第1のレール531と、第2のレール532と、弾性部材54と、を含む。
第1の保持部51は、レンズ保持部511と、レール保持部512と、を含む。図2Aに示されるように、第1の保持部51は、レンズ保持部511とレール保持部512とで略L字型に構成されている。レンズ保持部511は、平凸シリンドリカルレンズ151の端部を保持している。レール保持部512は、ガイド部を構成する第1のレール531及び第2のレール532を保持している。
第1のレール531及び第2のレール532は、それぞれの長手方向がZ方向と平行である。
第2の保持部52は、レンズ保持部521と、傾斜面構成部522と、第1ガイドフォロア部525と、第2ガイドフォロア部526と、を含む。レンズ保持部521は、平凹シリンドリカルレンズ152の端部を保持している。レンズ保持部521の+H方向側に、傾斜面構成部522が位置している。傾斜面構成部522は、傾斜面529を有している。傾斜面529は、V方向及びZ方向の両方に対して傾斜し、H方向に平行である。レンズ保持部521の-H方向側に、第1ガイドフォロア部525と第2ガイドフォロア部526とが位置している。第1ガイドフォロア部525は、第1のレール531に沿って移動するように構成されている。第2ガイドフォロア部526は、第2のレール532に沿って移動するように構成されている。
弾性部材54は、例えばコイルバネで構成される。弾性部材54は、第1の保持部51のレンズ保持部511と、第2の保持部52のレンズ保持部521と、の間に位置している。弾性部材54の両端の位置を規定するために、レンズ保持部511とレンズ保持部521とにそれぞれ弾性部材54の端部を収容する窪みが形成されている。
スペクトル幅可変部15に含まれる移動装置は、さらに、車輪61と、ロッド部62と、アクチュエータ63と、固定部64と、を含む。
車輪61は、ロッド部62の先端に位置している。車輪61は、H方向に平行な回転軸の周りに回転可能に構成されている。ロッド部62は、第1ロッド621と、第2ロッド622と、連結部623と、を含む。第1ロッド621の先端に車輪61が支持されている。第2ロッド622はアクチュエータ63に支持されている。第1ロッド621と第2ロッド622とが連結部623によって連結されている。ロッド部62の長手方向はV方向と平行である。連結部623は、ロッド部62の長さを手動で調整できるように構成されている。
アクチュエータ63は、固定部64に支持されている。固定部64は、図示しない部材により、第1の保持部51に対する相対的な位置が固定されている。アクチュエータ63は、ロッド部62及び車輪61を、固定部64に対して+V方向及び-V方向に移動させることができるように構成されている。例えば、アクチュエータ63は、車輪61が傾斜面529に接するようにロッド部62及び車輪61を移動させることができる。アクチュエータ63は、上述のドライバ65によって駆動される。
1.3.2 動作
傾斜面529が押圧されると、第2の保持部52が、第1のレール531及び第2のレール532に沿って移動する。傾斜面529が押圧されたときの第2の保持部52の移動方向は、第1の保持部51に近づく方向、すなわち、+Z方向である。これにより、平凹シリンドリカルレンズ152が平凸シリンドリカルレンズ151に近づく方向に移動する。また、このとき、弾性部材54が圧縮される。
傾斜面529への押圧力が緩められると、弾性部材54の反発力により、第2の保持部52が第1のレール531及び第2のレール532に沿って、-Z方向に移動する。これにより、平凹シリンドリカルレンズ152が平凸シリンドリカルレンズ151から遠ざかる方向に移動する。
傾斜面529を押圧する力は、アクチュエータ63によって、ロッド部62及び車輪61を介して傾斜面529に与えられる。アクチュエータ63が車輪61を-V方向に移動させることにより、傾斜面529が押圧され、第2の保持部52及び平凹シリンドリカルレンズ152が+Z方向に移動する。アクチュエータ63が車輪61を+V方向に移動させることにより、弾性部材54の反発力により、第2の保持部52及び平凹シリンドリカルレンズ152が-Z方向に移動する。平凹シリンドリカルレンズ152の移動方向に対して車輪61の移動方向を垂直にすることにより、アクチュエータ63の配置の自由度を向上することができる。
1.4 課題
平凹シリンドリカルレンズ152が移動させられるとき、平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢は第1のレール531及び第2のレール532によって規制される。すなわち、シリンドリカル凹面154の中心軸がV方向と平行である状態がほぼ維持され、平凹シリンドリカルレンズ152の平面がZ方向と垂直である状態がほぼ維持される。
しかしながら、スペクトル線幅を高速に制御するために、第2の保持部52を高速に移動させようとすると、第2の保持部52への負荷が大きくなる。これにより、第2の保持部52が弾性変形する場合がある。第2の保持部52が弾性変形すると、平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢が変化する場合がある。
特に、平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢の変化が、V方向と平行な軸周りの回転成分を含む場合、グレーティング14cに入射する光の入射角が変更される。これにより、狭帯域化モジュール14によって選択される光の波長が変化する。そのような平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢の変化に起因する波長の変化は、波長制御部30cが狭帯域化モジュール14を制御することによって所望の範囲に収めることが望ましい。
しかしながら、スペクトル線幅を高速に制御する場合、平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢の変化に起因する波長の変化に、狭帯域化モジュール14の制御が十分に追い付けない場合がある。
以下に説明する実施形態においては、平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢の変化を低減し、ビーム特性の高精度な制御を実現する。
2.弾性部材を第1の面内に配置した移動装置
2.1 構成
図3A~図3Cは、本開示の第1の実施形態におけるスペクトル幅可変部15の具体的構成を示す。図3Aは、スペクトル幅可変部15を-V方向に見た一部断面図であり、図1及び図2Aと同じ方向から見た図に相当する。図3Bは、スペクトル幅可変部15を-H方向に見た図であり、図2Bと同じ方向から見た図に相当する。図3Cは、スペクトル幅可変部15を+Z方向に見た図であり、図2Cと同じ方向から見た図に相当する。
第1の実施形態におけるスペクトル幅可変部15は、図2A~図2Cを参照しながら説明した比較例におけるスペクトル幅可変部15と同様の構成要素を含んでいる。第1の実施形態におけるスペクトル幅可変部15においては、弾性部材54の位置が、比較例におけるスペクトル幅可変部15と異なっている。
第1の実施形態において、傾斜面529と垂直に交差しZ方向に平行な面を、第1の面P1とする。第1の面P1は、VZ面に平行である。図3A及び図3Cにおいて、第1の面P1は、傾斜面529の中心において傾斜面529と交差するように図示されているが、本開示はこれに限定されない。第1の面P1は、傾斜面529のいずれかの位置において傾斜面529と垂直に交差し、Z方向に平行な面であればよい。
第1の実施形態において、弾性部材54は、第1の面P1が通る位置に配置されている。これに伴い、弾性部材54の端部を収容するためにレンズ保持部511とレンズ保持部521とにそれぞれ形成される窪みの位置も、比較例における窪みの位置と異なっている。
他の点については、第1の実施形態は比較例と同様である。
2.2 作用
第2の保持部52は、車輪61からの押圧力と、弾性部材54からの反発力とを受ける。これらの力は、第2の保持部52の変位量、第2の保持部52の加速度等によって変動する。上述の比較例においては、これらの力の作用線は、それぞれVZ面に平行な別々の面内に位置している。すなわち、比較例において、これらの力の作用線は、H方向に異なる面内に位置している。このため、これらの力の変動に伴い、第2の保持部52にはV方向と平行な軸周りの偶力が発生していた。これにより、V方向と平行な軸周りに平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢が変化し、狭帯域化モジュール14によって選択される光の波長が変化することがあった。
これに対し、第1の実施形態においては、第1の面P1が通る位置に弾性部材54が配置されている。これにより、第2の保持部52が車輪61から受ける押圧力の作用線と、第2の保持部52が弾性部材54から受ける反発力の作用線とが、VZ面に平行なほぼ同じ面内に位置するようになった。これによれば、第2の保持部52におけるV方向と平行な軸周りの偶力が低減される。従って、第2の保持部52が弾性変形して平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢が変化するとしても、V方向と平行な軸周りの回転成分が低減される。これにより、狭帯域化モジュール14によって選択される光の波長の変化が低減される。
3.弾性部材を第1の直線上に配置した移動装置
3.1 構成
図4A~図4Cは、本開示の第2の実施形態におけるスペクトル幅可変部15の具体的構成を示す。図4Aは、スペクトル幅可変部15を-V方向に見た一部断面図であり、図1、図2A、及び図3Aと同じ方向から見た図に相当する。図4Bは、スペクトル幅可変部15を-H方向に見た図であり、図2B及び図3Bと同じ方向から見た図に相当する。図4Cは、スペクトル幅可変部15を+Z方向に見た図であり、図2C及び図3Cと同じ方向から見た図に相当する。
第2の実施形態におけるスペクトル幅可変部15は、図2A~図2Cを参照しながら説明した比較例、及び図3A~図3Cを参照しながら説明した第1の実施形態におけるスペクトル幅可変部15と同様の構成要素を含んでいる。第2の実施形態におけるスペクトル幅可変部15は、弾性部材54の位置が、比較例及び第1の実施形態におけるスペクトル幅可変部15と異なっている。
第2の実施形態において、傾斜面529と交差しZ方向に平行な直線を、第1の直線L1とする。図4Aに示されるように、第1の直線L1は、第1の面P1内に位置している。図4A及び図4Bにおいて、第1の直線L1は、傾斜面529の中心からわずかに-V方向及び-Z方向にずれた位置において傾斜面529と交差するように図示されているが、本開示はこれに限定されない。第1の直線L1は、傾斜面529のいずれかの位置において傾斜面529と交差し、Z方向に平行な直線であればよい。
第2の実施形態において、弾性部材54は、第1の直線L1が通る位置に配置されている。これに伴い、弾性部材54の端部を収容するためにレンズ保持部511に形成される窪みの位置も、第1の実施形態における窪みの位置と異なっている。また、弾性部材54のもう1つの端部を収容するための窪みは、レンズ保持部521ではなく傾斜面構成部522に形成されている。
他の点については、第2の実施形態は第1の実施形態と同様である。
3.2 作用
第2の保持部52が車輪61から受ける押圧力は、+Z方向の分力と-V方向の分力とに分けることができる。これらの分力のうちの+Z方向の分力が、第2の保持部52を+Z方向に移動させる。上述の第1の実施形態において、第2の保持部52が車輪61から受ける押圧力の+Z方向の分力の作用線と、第2の保持部52が弾性部材54から受ける反発力の作用線とは、第1の面P1内でV方向にずれて位置している。このため、これらの力の変動に伴い、第2の保持部52の傾斜面構成部522にはH方向と平行な軸周りの偶力が発生していた。第2の保持部52の傾斜面構成部522にH方向と平行な軸周りの偶力が発生すると、第2の保持部52がねじれて、平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢が変化する。第2の保持部52がねじれることによる平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢の変化は、V方向と平行な軸周りの回転成分を含むことがある。
これに対し、第2の実施形態においては、第1の直線L1が通る位置に弾性部材54が配置されている。これにより、第2の保持部52が車輪61から受ける押圧力の+Z方向の分力の作用線と、第2の保持部52が弾性部材54から受ける反発力の作用線とのV方向のずれが低減される。これによれば、第2の保持部52の傾斜面構成部522におけるH方向と平行な軸周りの偶力が低減される。従って、第2の保持部52のねじれが低減され、平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢の変化が低減される。平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢が変化するとしても、V方向と平行な軸周りの回転成分が低減される。これにより、狭帯域化モジュール14によって選択される光の波長の変化が低減される。
4.ガイド部を構成するレールを第1の面内に配置した移動装置
4.1 構成
図5A~図5Cは、本開示の第3の実施形態におけるスペクトル幅可変部15の具体的構成を示す。図5Aは、スペクトル幅可変部15を-V方向に見た一部断面図であり、図1、図2A、図3A、及び図4Aと同じ方向から見た図に相当する。図5Bは、スペクトル幅可変部15を-H方向に見た図であり、図2B、図3B、及び図4Bと同じ方向から見た図に相当する。図5Cは、スペクトル幅可変部15を+Z方向に見た図であり、図2C、図3C、及び図4Cと同じ方向から見た図に相当する。
第3の実施形態におけるスペクトル幅可変部15は、第1のレール531及び第2のレール532の位置が、第2の実施形態におけるスペクトル幅可変部15と異なっている。
第3の実施形態におけるスペクトル幅可変部15において、第1の保持部51は、レンズ保持部513と、レール保持部514と、を含む。図5Bに示されるように、第1の保持部51は、レンズ保持部513とレール保持部514とで略L字型に構成されている。レンズ保持部513は、平凸シリンドリカルレンズ151の端部を保持している。レール保持部514は、ガイド部を構成する第1のレール531及び第2のレール532を保持している。また、レール保持部514には、第2の保持部52の移動方向に沿った溝519が形成されている。
図5Cに示されるように、第2の保持部52は、レンズ保持部521の-H方向側と+H方向側とに、それぞれ第1の突起部527と第2の突起部528とを備えている。第1の突起部527の-V方向側と第2の突起部528の-V方向側とに、それぞれ第1ガイドフォロア部525と第2ガイドフォロア部526とが固定されている。第1ガイドフォロア部525は本開示における第1部分に相当し、第2ガイドフォロア部526は本開示における第2部分に相当する。傾斜面構成部522は、第2の突起部528の+V方向側に固定されている。傾斜面構成部522は、レンズ保持部521から離れて位置している。
第3の実施形態において、傾斜面529と交差しV方向に平行な直線を、第2の直線L2とする。図5Cに示されるように、第2の直線L2は、第1の面P1内に位置している。図5B及び図5Cにおいて、第2の直線L2は、傾斜面529の中心において傾斜面529と交差するように図示されているが、本開示はこれに限定されない。第2の直線L2は、傾斜面529のいずれかの位置において傾斜面529と交差し、V方向に平行な直線であればよい。
第3の実施形態において、第2のレール532は、第1の面P1が通る位置に配置されている。
さらに、第2のレール532は、第2の直線L2が通る位置に配置されていることが望ましい。
また、平凹シリンドリカルレンズ152が、第1ガイドフォロア部525と第2ガイドフォロア部526との間に位置することが望ましい。
他の点については、第3の実施形態は第2の実施形態と同様である。
4.2 作用
上述の第2の実施形態においては、第2の保持部52のレンズ保持部521が、傾斜面構成部522が車輪61から受ける押圧力のうちの-V方向の分力によって、弾性変形することがある。レンズ保持部521が弾性変形すると、平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢が変化する。平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢の変化は、V方向と平行な軸周りの回転成分を含むことがある。
これに対し、第3の実施形態においては、第1の面P1が通る位置に第2のレール532が配置されている。これによれば、傾斜面構成部522が車輪61から受ける押圧力のうちの-V方向の分力を、第1の面P1が通る位置に配置された第2のレール532で受けることができる。また、傾斜面構成部522は第2の突起部528に固定され、レンズ保持部521に直接には固定されていないので、傾斜面構成部522が弾性変形したとしてもレンズ保持部521への影響は少なくなっている。これにより、レンズ保持部521の弾性変形が抑制され、平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢の変化が抑制される。
また、第3の実施形態においては、第2の直線L2が通る位置に第2のレール532が配置されている。これによれば、第2の保持部52の傾斜面構成部522におけるH方向と平行な軸周りの偶力が低減される。従って、傾斜面構成部522及び第2の突起部528の弾性変形が低減され、平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢の変化が低減される。
また、第3の実施形態においては、平凹シリンドリカルレンズ152が、第1ガイドフォロア部525と第2ガイドフォロア部526との間に位置している。これによれば、平凹シリンドリカルレンズ152の重心に近い位置で第2の保持部52を支持することができ、第2の保持部52を高速に移動させても平凹シリンドリカルレンズ152の姿勢の変化を抑制することができる。
これにより、狭帯域化モジュール14によって選択される光の波長の変化が低減される。
5.その他
図6は、狭帯域化レーザ装置1に接続された露光装置4の構成を概略的に示す。上述のように、狭帯域化レーザ装置1はレーザ光を生成して露光装置4に出力する。
図6において、露光装置4は、照明光学系41と投影光学系42とを含む。照明光学系41は、狭帯域化レーザ装置1から入射したレーザ光によって、レチクルステージRTのレチクルパターンを照明する。投影光学系42は、レチクルを透過したレーザ光を、縮小投影してワークピーステーブルWT上に配置された図示しないワークピースに結像させる。ワークピースはフォトレジストが塗布された半導体ウエハ等の感光基板である。露光装置4は、レチクルステージRTとワークピーステーブルWTとを同期して平行移動させることにより、レチクルパターンを反映したレーザ光をワークピースに露光する。以上のような露光工程によって半導体ウエハにデバイスパターンを転写することで電子デバイスを製造することができる。
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図している。従って、特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかである。また、本開示の実施形態を組み合わせて使用することも当業者には明らかである。
本明細書及び特許請求の範囲全体で使用される用語は、明記が無い限り「限定的でない」用語と解釈されるべきである。たとえば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、不定冠詞「1つの」は、「少なくとも1つ」又は「1又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。また、「A、B及びCの少なくとも1つ」という用語は、「A」「B」「C」「A+B」「A+C」「B+C」又は「A+B+C」と解釈されるべきである。さらに、それらと「A」「B」「C」以外のものとの組み合わせも含むと解釈されるべきである。

Claims (13)

  1. 第1の光学素子を保持する第1の保持部と、
    第2の光学素子を保持し、前記第1の保持部に近づく第1の方向に対して傾斜した傾斜面を有する第2の保持部と、
    前記傾斜面に押圧力を加えて前記第2の保持部を前記第1の方向に移動させる押圧部と、
    前記第2の保持部の前記第1の方向と垂直な方向成分の移動を規制し、前記第2の保持部を前記第1の方向と平行に移動可能にするガイド部と、
    前記第1の保持部と前記第2の保持部との間の位置に配置され、かつ、前記傾斜面と垂直に交差し前記第1の方向に平行な第1の面が通る領域に収まるように配置され、前記第2の保持部に弾性力を加えて前記第2の保持部を前記第1の方向と逆方向に移動させる弾性部材と、
    を備え
    前記ガイド部の少なくとも一部が、前記第1の面が通る位置であって、前記第1の方向に垂直で前記傾斜面と交差する直線が通る位置に配置された、
    光学素子の移動装置。
  2. 請求項1に記載の光学素子の移動装置であって、
    前記弾性部材は、前記第1の方向に平行で前記傾斜面と交差する直線が通る位置に配置された、光学素子の移動装置。
  3. 請求項に記載の光学素子の移動装置であって、
    前記ガイド部が、前記第1の保持部に保持された第1のレールと第2のレールとを含み、
    前記第2の保持部が、前記第1のレールに沿って移動する第1部分と前記第2のレールに沿って移動する第2部分とを含み、
    前記第2の光学素子は、前記第1部分と前記第2部分との間に保持される、
    光学素子の移動装置。
  4. 請求項1に記載の光学素子の移動装置であって、
    前記第1の光学素子はシリンドリカル凸レンズであり、
    前記第2の光学素子はシリンドリカル凹レンズであり、
    前記シリンドリカル凸レンズのシリンドリカル凸面の中心軸と、前記シリンドリカル凹レンズのシリンドリカル凹面の中心軸は、前記第1の面内で前記第1の方向に垂直な第2の方向と平行である、
    光学素子の移動装置。
  5. 請求項1に記載の光学素子の移動装置であって、
    車輪と、
    前記車輪を支持するロッド部と、
    前記車輪が前記傾斜面を押圧するように前記ロッド部を移動させるアクチュエータと、
    をさらに備える光学素子の移動装置。
  6. 請求項に記載の光学素子の移動装置であって、
    前記アクチュエータは、前記第1の面内で前記第1の方向に垂直な第2の方向に前記ロッド部を移動させる、光学素子の移動装置。
  7. レーザ共振器と、
    前記レーザ共振器に配置され、レーザガスを収容するチャンバと、
    前記チャンバに配置された一対の電極と、
    前記レーザ共振器に配置された波長選択素子と、
    前記レーザ共振器に配置されたスペクトル幅可変部と、
    を備える狭帯域化レーザ装置であって、
    前記スペクトル幅可変部が、
    第1の光学素子と、
    前記第1の光学素子を保持する第1の保持部と、
    第2の光学素子と、
    前記第2の光学素子を保持し、前記第1の保持部に近づく第1の方向に対して傾斜した傾斜面を有する第2の保持部と、
    前記傾斜面に押圧力を加えて前記第2の保持部を前記第1の方向に移動させる押圧部と、
    前記第2の保持部の前記第1の方向と垂直な方向成分の移動を規制し、前記第2の保持部を前記第1の方向と平行に移動可能にするガイド部と、
    前記第1の保持部と前記第2の保持部との間の位置に配置され、かつ、前記傾斜面と垂直に交差し前記第1の方向に平行な第1の面が通る領域に収まるように配置され、前記第2の保持部に弾性力を加えて前記第2の保持部を前記第1の方向と逆方向に移動させる弾性部材と、
    を備え
    前記ガイド部の少なくとも一部が、前記第1の面が通る位置であって、前記第1の方向に垂直で前記傾斜面と交差する直線が通る位置に配置された
    狭帯域化レーザ装置。
  8. 請求項に記載の狭帯域化レーザ装置であって、
    前記弾性部材は、前記第1の方向に平行で前記傾斜面と交差する直線が通る位置に配置された、狭帯域化レーザ装置。
  9. 請求項に記載の狭帯域化レーザ装置であって、
    前記ガイド部が、前記第1の保持部に保持された第1のレールと第2のレールとを含み、
    前記第2の保持部が、前記第1のレールに沿って移動する第1部分と前記第2のレールに沿って移動する第2部分とを含み、
    前記第2の光学素子は、前記第1部分と前記第2部分との間に保持される、
    狭帯域化レーザ装置。
  10. 請求項に記載の狭帯域化レーザ装置であって、
    前記第1の光学素子はシリンドリカル凸レンズであり、
    前記第2の光学素子はシリンドリカル凹レンズであり、
    前記シリンドリカル凸レンズのシリンドリカル凸面の中心軸と、前記シリンドリカル凹レンズのシリンドリカル凹面の中心軸は、前記第1の面内で前記第1の方向に垂直な第2の方向と平行である、
    狭帯域化レーザ装置。
  11. 請求項に記載の狭帯域化レーザ装置であって、
    車輪と、
    前記車輪を支持するロッド部と、
    前記車輪が前記傾斜面を押圧するように前記ロッド部を移動させるアクチュエータと、
    をさらに備える狭帯域化レーザ装置。
  12. 請求項1に記載の狭帯域化レーザ装置であって、
    前記アクチュエータは、前記第1の面内で前記第1の方向に垂直な第2の方向に前記ロッド部を移動させる、狭帯域化レーザ装置。
  13. 電子デバイスの製造方法であって、
    レーザ共振器と、
    前記レーザ共振器に配置され、レーザガスを収容するチャンバと、
    前記チャンバに配置された一対の電極と、
    前記レーザ共振器に配置された波長選択素子と、
    前記レーザ共振器に配置されたスペクトル幅可変部と、
    を備える狭帯域化レーザ装置であって、
    前記スペクトル幅可変部が、
    第1の光学素子と、
    前記第1の光学素子を保持する第1の保持部と、
    第2の光学素子と、
    前記第2の光学素子を保持し、前記第1の保持部に近づく第1の方向に対して傾斜した傾斜面を有する第2の保持部と、
    前記傾斜面に押圧力を加えて前記第2の保持部を前記第1の方向に移動させる押圧部と、
    前記第2の保持部の前記第1の方向と垂直な方向成分の移動を規制し、前記第2の保持部を前記第1の方向と平行に移動可能にするガイド部と、
    前記第1の保持部と前記第2の保持部との間の位置に配置され、かつ、前記傾斜面と垂直に交差し前記第1の方向に平行な第1の面が通る領域に収まるように配置され、前記第2の保持部に弾性力を加えて前記第2の保持部を前記第1の方向と逆方向に移動させる弾性部材と、
    を備え
    前記ガイド部の少なくとも一部が、前記第1の面が通る位置であって、前記第1の方向に垂直で前記傾斜面と交差する直線が通る位置に配置された
    前記狭帯域化レーザ装置によってレーザ光を生成し、
    前記レーザ光を露光装置に出力し、
    電子デバイスを製造するために、前記露光装置内で感光基板上に前記レーザ光を露光すること
    を含む電子デバイスの製造方法。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006322967A (ja) 2005-05-17 2006-11-30 Olympus Imaging Corp 撮像装置
JP2009136050A (ja) 2007-11-29 2009-06-18 Nidec Copal Corp 駆動装置
JP2015055799A (ja) 2013-09-13 2015-03-23 Hoya株式会社 光学要素の駆動機構
WO2017026000A1 (ja) 2015-08-07 2017-02-16 ギガフォトン株式会社 狭帯域化レーザ装置
CN106824924A (zh) 2017-02-14 2017-06-13 王建 一种用于机械零件的除尘散热一体化设备

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11352012A (ja) * 1998-06-11 1999-12-24 Nikon Corp 光学系の検査方法、光学系の製造方法及び露光装置の製造方法
AU2003246243A1 (en) * 2002-07-03 2004-01-23 Nikon Corporation Method of exposure and aligner
US8339503B2 (en) * 2008-09-10 2012-12-25 Panasonic Corporation Lens barrel and imaging device
JP2014048467A (ja) * 2012-08-31 2014-03-17 Ricoh Co Ltd レンズ鏡胴
WO2015133515A1 (ja) * 2014-03-07 2015-09-11 コニカミノルタ株式会社 レンズユニットおよび撮像装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006322967A (ja) 2005-05-17 2006-11-30 Olympus Imaging Corp 撮像装置
JP2009136050A (ja) 2007-11-29 2009-06-18 Nidec Copal Corp 駆動装置
JP2015055799A (ja) 2013-09-13 2015-03-23 Hoya株式会社 光学要素の駆動機構
WO2017026000A1 (ja) 2015-08-07 2017-02-16 ギガフォトン株式会社 狭帯域化レーザ装置
CN106824924A (zh) 2017-02-14 2017-06-13 王建 一种用于机械零件的除尘散热一体化设备

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