JP7225727B2 - drying equipment - Google Patents
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Description
本開示は、乾燥装置に関する。 The present disclosure relates to drying apparatus.
特許文献1には、乾燥室内の被乾燥物を流動させて乾燥する流動層乾燥装置が開示されている。かかる技術では、乾燥室を形成するオーバーフロー堰を介して予備乾燥室が連設されている。被乾燥物の投入口は、予備乾燥室の上部に設けられており、予備乾燥室および乾燥室の両方に連通している。
特許文献1の技術では、被乾燥物の投入口が乾燥室にも連通しているため、投入された被乾燥物が予備乾燥室に十分に滞在せずに乾燥室に移動してしまうことがある。このため、かかる技術では、被乾燥物が十分に予備乾燥されないことがある。
In the technique of
本開示は、被乾燥物に付着する水分を低減することが可能な乾燥装置を提供することを目的としている。 An object of the present disclosure is to provide a drying apparatus capable of reducing moisture adhering to an object to be dried.
上記課題を解決するために、本開示の一態様に係る乾燥装置は、乾燥室と、乾燥室と隣接して設けられた分散室と、乾燥室に流動化ガスを供給する第1ガス供給部と、分散室に流動化ガスを供給する第2ガス供給部と、乾燥室と分散室とを仕切るオーバーフロー壁と、オーバーフロー壁の上方、もしくは、オーバーフロー壁自体に設けられ、乾燥室と分散室とを連通させる供給口と、分散室の内外を連通させ、供給口の最下部よりも上方に位置する投入口と、分散室内において投入口と供給口との間に位置し、供給口の最下部よりも下方まで延在し、分散室の底面から離隔して設けられる仕切り板と、仕切り板に対してオーバーフロー壁とは反対側に設けられ、鉛直下方に向かって分散室内の水平断面積を漸減させる傾斜部と、を備え、乾燥室には、熱媒体が供給される複数の内管が設けられており、分散室には、複数の内管が設けられておらず、仕切り板と傾斜部の頂部との間の水平断面積と、仕切り板とオーバーフロー壁との間の水平断面積とが等しい。 In order to solve the above problems, a drying apparatus according to an aspect of the present disclosure includes a drying chamber, a dispersion chamber provided adjacent to the drying chamber, and a first gas supply unit that supplies a fluidizing gas to the drying chamber. a second gas supply unit that supplies a fluidizing gas to the dispersion chamber; an overflow wall that separates the drying chamber from the dispersion chamber; a supply port that communicates with the inside and outside of the dispersion chamber and is positioned above the lowest part of the supply port; A partition plate that extends downward and is spaced apart from the bottom surface of the dispersion chamber, and a partition plate that is provided on the opposite side of the partition plate to the overflow wall and gradually decreases the horizontal cross-sectional area in the dispersion chamber vertically downward. The drying chamber is provided with a plurality of inner pipes to which a heat medium is supplied, and the dispersion chamber is not provided with a plurality of inner pipes, and the partition plate and the inclined portion and the horizontal cross-sectional area between the partition plate and the overflow wall are equal .
また、傾斜部は、水平面に対する角度が被乾燥物の安息角以上であってもよい。 Also, the angle of the inclined portion with respect to the horizontal plane may be equal to or greater than the angle of repose of the material to be dried.
また、仕切り板の最下部は、傾斜部の頂部以下に位置してもよい。 Also, the lowermost portion of the partition plate may be positioned below the top portion of the inclined portion.
また、仕切り板の最下部は、傾斜部の最下部よりもオーバーフロー壁側に位置してもよい。 Also, the lowermost portion of the partition plate may be positioned closer to the overflow wall than the lowermost portion of the inclined portion.
本開示によれば、被乾燥物に付着する水分を低減することが可能となる。 According to the present disclosure, it is possible to reduce the moisture adhering to the material to be dried.
以下に添付図面を参照しながら、本開示の実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本開示を限定するものではない。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本開示に直接関係のない要素は図示を省略する。 Embodiments of the present disclosure will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. The dimensions, materials, and other specific numerical values shown in such embodiments are merely examples for facilitating understanding, and do not limit the present disclosure unless otherwise specified. In the present specification and drawings, elements having substantially the same function and configuration are given the same reference numerals to omit redundant description, and elements that are not directly related to the present disclosure are omitted from the drawings. do.
図1は、乾燥装置1の構成を示す透視斜視図である。図2は、乾燥装置1の構成を示す断面図である。乾燥装置1は、石炭(例えば、褐炭)などの被乾燥物を流動化させて乾燥する。被乾燥物を流動化させる流動化ガスは、例えば、100℃以上の蒸気である。図1および図2では、流動化ガスの流れの方向を実線の矢印で示している。また、図1および図2では、被乾燥物の流れの方向を一点鎖線の矢印で示している。また、図1および図2では、信号の流れの方向を破線の矢印で示している。なお、図1では、乾燥装置1内の被乾燥物の表記を省略している。
FIG. 1 is a see-through perspective view showing the configuration of the
乾燥装置1は、乾燥室10および分散室12を含んで構成される。分散室12は、水分を含んだ被乾燥物を予備的に乾燥(予備乾燥)する予備乾燥室である。乾燥室10は、分散室12で予備乾燥された被乾燥物をさらに乾燥(本乾燥)する本乾燥室である。
The
乾燥室10は、本体20およびテーパ部22を含んで構成される。本体20は、中空の箱状に形成されている。本体20は、1個のオーバーフロー壁24および3個の側壁26により区画されている。オーバーフロー壁24および側壁26は、鉛直方向に延在している。分散室12は、オーバーフロー壁24を挟んで乾燥室10に隣接して設けられている。オーバーフロー壁24は、乾燥室10と分散室12とを仕切る。
側壁26の頂部は、本体20を塞ぐ天井部28に接続されている。オーバーフロー壁24は、鉛直方向の高さが側壁26よりも低くなっており、天井部28に接続されていない。つまり、オーバーフロー壁24の頂部30と天井部28との間には、乾燥室10と分散室12とを連通させる供給口32が形成されている。供給口32の最下部は、オーバーフロー壁24の頂部30に相当し、供給口32の最上部は天井部28に相当する。オーバーフロー壁24の頂部30と天井部28との離隔距離(供給口32の開口高さ)は、被乾燥物の粒径よりも十分に長い。被乾燥物は、供給口32を通じて、すなわち、オーバーフロー壁24の頂部30を超えて分散室12から乾燥室10に供給される。
The tops of the
テーパ部22は、本体20の下部に連続している。テーパ部22は、鉛直下方に向かうにしたがって水平断面積が漸減する中空の角錐状に形成されている。テーパ部22内における本体20付近には、複数の散気管34が設けられている。複数の散気管34は、オーバーフロー壁24と交差する方向(図1および図2の横方向)に、互いに平行して延在している。複数の散気管34は、互いに離隔している。
The
散気管34には、ボイラなどの流動化ガス供給源36から流動化ガス(蒸気)が供給される。散気管34は、流動化ガスを乾燥室10内に供給する。つまり、散気管34および流動化ガス供給源36は、乾燥室10に流動化ガスを供給する第1ガス供給部として機能する。乾燥室10内に供給された流動化ガスは、乾燥室10内を上昇し、乾燥室10内の被乾燥物を流動化させる。これにより、乾燥室10内の被乾燥物は、流動層を形成することとなる。また、乾燥室10内に供給された流動化ガスは、乾燥室10内の被乾燥物と接触することで、流動化ガスの熱によって被乾燥物を乾燥させる。
Fluidizing gas (steam) is supplied to the
天井部28の一部には、乾燥室10の内外を連通させる開口部38が設けられている。開口部38には、配管39が接続されている。配管39は、例えば、サイクロンに接続される。乾燥室10内を上昇した流動化ガスは、開口部38を通じて配管39(乾燥装置1外)に送出される。配管39には、流動化ガスに同伴して、被乾燥物から発生する微小粒子(紛じん)が送出される。微小粒子を伴う流動化ガスは、配管39を通じてサイクロンに送られる。サイクロンは、流動化ガスから微小粒子を除去する。微小粒子が除去された流動化ガスは、散気管34等(後述の内管40および風箱62)に送られ、再利用される。
An
本体20には、複数の内管40が設けられている。複数の内管40は、水平方向であり、散気管34に交差する方向に、互いに平行して延在している。複数の内管40は、鉛直方向および散気管34の延在方向に、互いに離隔して並べられている。また、複数の内管40は、散気管34よりも鉛直上方であり、オーバーフロー壁24の頂部30よりも鉛直下方の範囲に配置されている。複数の内管40の両端は、各々ヘッダ42で集合されている。
A plurality of
複数の内管40には、ヘッダ42を通じて熱媒体が供給される。具体的に説明すると、複数の内管40には、流動化ガス供給源36から100℃以上の蒸気が熱媒体として供給される。つまり、ここでは、蒸気を流動化ガスと熱媒体とで併用している。複数の内管40は、乾燥室10内の被乾燥物に熱媒体の熱を伝える。これにより、乾燥室10では、散気管34から供給される流動化ガスの熱と複数の内管40を通じた伝熱とによって、被乾燥物が十分に加熱され、被乾燥物の乾燥が促進される。
A heat medium is supplied to the plurality of
テーパ部22の下部は、フィーダ44に接続されている。フィーダ44は、例えば、ロータリーフィーダである。フィーダ44には、複数の散気管34の隙間を通じて鉛直下方に移動した被乾燥物が供給される。フィーダ44は、乾燥された被乾燥物を乾燥装置1外に送出する(抜き出す)。
A lower portion of the tapered
乾燥室10には、乾燥室10内の被乾燥物の層高(堆積高さ)を検出するレベルセンサ46が設けられている。また、層高制御部48は、中央処理装置(CPU)、プログラム等が格納されたROM、ワークエリアとしてのRAM等を含む半導体集積回路から構成される。層高制御部48は、レベルセンサ46の検出結果に基づいて、被乾燥物の送出量(フィーダ44の回転量)を制御することで、乾燥室10内の被乾燥物の層高を制御する。
The drying
分散室12は、中空の箱状に形成されている。分散室12は、乾燥室10と共用のオーバーフロー壁24、1個の前壁50および2個の側壁52により区画されている。オーバーフロー壁24、前壁50および側壁52は、鉛直方向に延在している。
The
前壁50の頂部および側壁52の頂部は、乾燥室10の側壁26の頂部と同じ高さに位置する。前壁50の頂部および側壁52の頂部は、分散室12を塞ぐ天井部54に接続されている。分散室12の天井部54は、乾燥室10の天井部28に連続している。オーバーフロー壁24は、鉛直方向の高さが前壁50および側壁52よりも低くなっており、天井部54に接続されていない。
The top of the
前壁50は、オーバーフロー壁24に対して対向方向に離隔して配置されている。換言すると、前壁50は、後述する仕切り板70に対してオーバーフロー壁24とは反対側に設けられている。前壁50は、鉛直部56と傾斜部58とから構成される。鉛直部56は、前壁50における上部に位置し、鉛直方向に延在している。傾斜部58は、前壁50における下部に位置し、鉛直部56に連続している。以後、鉛直部56と傾斜部58との境界を、傾斜部58の頂部60と呼ぶことがある。傾斜部58の頂部60は、オーバーフロー壁24の頂部30よりも下方に位置する。
The
傾斜部58は、鉛直下方に向かって分散室12内の水平断面積を漸減させるように傾斜している。傾斜部58は、水平面に対する傾斜角が被乾燥物の安息角以上となっている。具体的には、傾斜部58は、水平面に対する傾斜角が約60度となっている。
The
分散室12の下方には、風箱62が設けられる。風箱62は、中空の箱状に形成されている。風箱62の上部は、分散板64で形成されている。分散板64は、傾斜部58の最下部66に連続しており、分散室12の底面としても機能する。分散板64には、起立した複数のノズル68が所定間隔で設けられている。ノズル68には、被乾燥物の粒径よりも小さい径の開孔が設けられている。ノズル68の開孔は、分散板64を挟んで風箱62内と分散室12内とを連通させる。風箱62には、流動化ガス供給源36から流動化ガス(蒸気)が供給される。風箱62は、流動化ガスを、複数のノズル68を通じて分散室12内に均一に供給する。つまり、風箱62および流動化ガス供給源36は、分散室に流動化ガスを供給する第2ガス供給部として機能する。
A
分散室12内には、鉛直方向に延在する仕切り板70が設けられている。仕切り板70は、オーバーフロー壁24に平行して設けられている。仕切り板70の頂部72は、前壁50および側壁52の頂部と同じ高さに位置しており、天井部54に接続されている。仕切り板70の頂部72は、供給口32の最上部(天井部28、54)と同じ高さに位置する。仕切り板70は、オーバーフロー壁24の頂部30(供給口32の最下部)よりも下方まで延在している。仕切り板70は、一方の側壁52から他方の側壁52に亘って設けられている。
A vertically extending
仕切り板70は、分散室12内における前壁50側の領域とオーバーフロー壁24側の領域とを区画する。以下、仕切り板70と前壁50との間の領域を、前壁側領域A1と呼ぶことがある。また、仕切り板70とオーバーフロー壁24との間の領域を、オーバーフロー壁側領域A2と呼ぶことがある。
The
仕切り板70は、傾斜部58より上方(鉛直部56)の前壁側領域A1の水平断面積と、オーバーフロー壁側領域A2の水平断面積とが等しくなるように区画する。具体的には、仕切り板70と傾斜部58の頂部60との間の水平断面積は、仕切り板70とオーバーフロー壁24との間の水平断面積と等しくなっている。
The
仕切り板70の頂部72の一部には、切欠き部74が設けられている。切欠き部74は、仕切り板70のオーバーフロー壁24側と前壁50側とを連通させる。切欠き部74は、頂部72から所定深さだけ窪んでいる。所定深さは、例えば、10mm(ミリメートル)程度であるが、この例に限らない。切欠き部74は、頂部72の稜線方向(一方の側壁52から他方の側壁52へ向かう方向)に延在している。切欠き部74は、稜線方向の中央部と一方の側壁52との間の一区間、および、稜線方向の中央部と他方の側壁52との間の一区間に設けられている。つまり、頂部72における稜線方向の中央部付近、および、両側壁52付近には、切欠き部74が設けられていない。仕切り板70は、頂部72における切欠き部74が設けられていない中央部付近および両側壁52付近において天井部54に接続されている。
A
天井部54における仕切り板70よりも前壁50側には、開口部76が設けられている。開口部76には、ホッパ80が接続されている。ホッパ80は、テーパ部82およびスカート部84を含む。テーパ部82は、鉛直下方に向かうにしたがって水平断面積が漸減する中空の錐状に形成されている。スカート部84は、中空の筒状に形成されており、鉛直方向に延在する。スカート部84の一端は、テーパ部82の下部に連続している。スカート部84におけるテーパ部82とは反対側端は、開口部76を介して分散室12内に挿入されている。
An
スカート部84におけるテーパ部82とは反対側端には、分散室12内に開口する投入口86が形成されている。投入口86は、ホッパ80を通じて分散室12の内外を連通させる。投入口86は、仕切り板70の頂部72よりも下方に位置する。具体的には、投入口86は、仕切り板70の切欠き部74の下端よりも下方に位置する。また、投入口86は、仕切り板70よりも前壁50側に位置する。換言すると、仕切り板70は、投入口86と供給口32との水平方向の間に位置する。
An
分散室12には、ホッパ80および投入口86を通じて、水分を含んだ被乾燥物(例えば、褐炭)が投入される。分散室12には、例えば、単位時間あたり所定量(例えば、30t/hなど)の被乾燥物が連続的に投入される。
Moisture-containing material to be dried (eg, lignite) is introduced into the
仕切り板70の最下部88は、分散板64(分散室12の底面)から離隔している。分散室12内における仕切り板70の最下部88よりも下方では、前壁側領域A1とオーバーフロー壁側領域A2とが連通している。このため、前壁側領域A1に投入された被乾燥物は、仕切り板70の最下部88の下方を通じてオーバーフロー壁側領域A2に移動可能となっている。仕切り板70の最下部88と分散板64との離隔距離は、例えば、被乾燥物が仕切り板70の最下部88の下方を通過する際の摩擦抵抗が所定値以下となるように設定される。
A
このように、仕切り板70は、分散室12の下部において前壁側領域A1とオーバーフロー壁側領域A2とを連通させつつ、分散室12の上部において前壁側領域A1とオーバーフロー壁側領域A2とを区画する。
In this way, the
また、仕切り板70の最下部88は、傾斜部58の頂部60以下に位置する。また、仕切り板70の最下部88は、傾斜部58の最下部66よりもオーバーフロー壁24側に位置する。
Also, the
上述のように、風箱62には流動化ガスが供給される。風箱62を通じて分散室12に供給された流動化ガスは、分散室12内を上昇し、分散室12内の被乾燥物を流動化させる。これにより、分散室12内の被乾燥物は、流動層を形成することとなる。また、分散室12内に供給された流動化ガスは、分散室12内の被乾燥物と接触することで、流動化ガスの熱によって被乾燥物を乾燥させる。分散室12内の流動化ガスは、切欠き部74、供給口32および開口部38を通じて配管39に送出される。なお、分散室12の天井部54に、配管39に接続される開口部が形成されてもよい。
As mentioned above, the
分散室12には、例えば、乾燥室10に供給される流動化ガスと同じ条件の流動化ガスが供給される。ところが、分散室12には、乾燥室10とは異なり、流動抵抗の要因となる複数の内管40が設けられていない。このため、分散室12における空塔速度は、乾燥室10における空塔速度よりも高くなる。空塔速度が高くなると、被乾燥物の分散性(被乾燥物と流動化ガスとの混合性)が高くなる。このため、分散室12では、複数の内管40がなくとも、流動化ガスで被乾燥物が予備乾燥される。なお、乾燥室10では、複数の内管40による伝熱が加わるため、空塔速度が低くても分散室12以上に被乾燥物を乾燥させることができる。
The
次に、乾燥装置1の動作を説明する。被乾燥物は、投入口86を通じて分散室12の前壁側領域A1に投入される。前壁側領域A1に堆積された被乾燥物は、風箱62を通じて供給された流動化ガスによって上方に押し上げられる。
Next, the operation of the
ここで、前壁側領域A1では、傾斜部58の最下部66から鉛直部56に向かって水平断面積が漸増している。これにより、前壁側領域A1における流動化ガスの速度は、鉛直上方に進むにしたがって低下する。つまり、前壁側領域A1では、鉛直上方に向かうにしたがって、被乾燥物を上方に押し上げる力が低下する。
Here, in the front wall region A1, the horizontal cross-sectional area gradually increases from the
このため、押し上げられた被乾燥物のうち自重(粒径)が大きな粒子は、上層に到達する前に自重で落下する。落下した粒子は、傾斜部58の斜面を転がり落ち、傾斜部58の最下部66付近において、再び流動化ガスによって上方に押し上げられる。このようにして、前壁側領域A1では、図2の一点鎖線の矢印B1に示すように、被乾燥物の循環流が形成される。乾燥装置1では、分散室12の前壁側領域A1で被乾燥物が循環するため、被乾燥物と流動化ガスとの混合性がより高くなり、被乾燥物の乾燥がより促進される。
For this reason, particles having a large dead weight (particle size) among the objects to be dried that have been pushed up fall by their own weight before reaching the upper layer. The fallen particles roll down the slope of the
前壁側領域A1で循環されて乾燥された被乾燥物の一部は、仕切り板70の最下部88の下方を通じてオーバーフロー壁側領域A2に移動し、流動化ガスによって上方に押し上げられる。
Part of the material to be dried that has been circulated and dried in the front wall area A1 moves to the overflow wall area A2 through the
上述のように、分散室12では、鉛直部56における前壁側領域A1の水平断面積とオーバーフロー壁側領域A2の水平断面積とが等しくなっている。これにより、分散室12内の被乾燥物は、オーバーフロー壁側領域A2の被乾燥物の層高と前壁側領域A1の被乾燥物の層高とが等しくなるように流動する。具体的には、被乾燥物が投入されて前壁側領域A1の層高が高くなると、両領域の層高が等しくなるように、仕切り板70の最下部88の下方を通じてオーバーフロー壁側領域A2に移動する被乾燥物の量が増加する。これにより、オーバーフロー壁側領域A2の層高が上昇する。
As described above, in the
このとき、オーバーフロー壁側領域A2の層高が、既に最大高さ(オーバーフロー壁24の頂部30)に達していた場合、図2の一点鎖線の矢印B2に示すように、被乾燥物がオーバーフロー壁24を超えて乾燥室10側に溢れる(オーバーフローする)。このように、被乾燥物は、オーバーフローによって分散室12から乾燥室10に供給される。このため、乾燥装置1では、オーバーフロー壁24の頂部30の稜線方向において、被乾燥物の乾燥室10への供給量を均一にすることができる。
At this time, if the layer height of the overflow wall side region A2 has already reached the maximum height (the
また、乾燥装置1では、投入口86と供給口32とが仕切り板70によって隔てられている。このため、乾燥装置1では、被乾燥物が投入口86から供給口32に至るまでに時間がかかり、被乾燥物の分散室12での滞在時間が長い。したがって、被乾燥物は、分散室12で十分に予備乾燥される。具体的には、被乾燥物の表面に付着している水分(表面水分)が、分散室12で十分に除去される。
Moreover, in the
乾燥室10に供給された被乾燥物は、表面水分が除去されているため、複数の内管40の外面に接触しても付着(固着)しない。このため、乾燥装置1では、付着した被乾燥物によって複数の内管40の隙間が実質的に狭くなって被乾燥物の流動化が阻害される事態を防止できる。その結果、乾燥室10内の被乾燥物は、流動化ガスと複数の内管40とによって十分に本乾燥される。具体的には、乾燥室10では、被乾燥物の内部の水分(固有水分)まで除去される。そして、本乾燥された被乾燥物は、散気管34の隙間を通じてフィーダ44に移動し、乾燥装置1外に送出される。
The material to be dried supplied to the drying
また、乾燥室10内の被乾燥物の層高は、基本的には、複数の内管40よりも高く制御されている。しかし、場合によっては、被乾燥物の層高が低くなり、複数の内管40のうち一部の内管40が被乾燥物の上層から露出することがある。内管40が露出すると、供給口32を通じて供給される被乾燥物が、露出した内管40に直接的に接触することがある。乾燥装置1では、分散室12で被乾燥物の表面水分が十分に除去されているため、乾燥室10に供給される被乾燥物が内管40に直接的に接触したとしても、被乾燥物が内管40に付着しない。このため、乾燥装置1では、被乾燥物の層高が低くなったとしても、乾燥室10内の被乾燥物の流動化が阻害される事態を防止できる。
Moreover, the layer height of the material to be dried in the drying
以上のように、本実施形態の乾燥装置1では、分散室12内において投入口86と供給口32との間に位置する仕切り板70が設けられている。仕切り板70は、供給口32の最下部よりも下方まで延在し、分散室12の底面から離隔している。つまり、本実施形態の乾燥装置1では、分散室12の投入口86と乾燥室10の供給口32とが、仕切り板70で区切られており、直接的に連通していない。
As described above, in the
このため、本実施形態の乾燥装置1では、被乾燥物が分散室12に滞在する時間を長くすることができる。したがって、本実施形態の乾燥装置1によれば、被乾燥物を予備乾燥することで、被乾燥物に付着する水分を低減することが可能となる。その結果、本実施形態の乾燥装置1では、乾燥室10内の複数の内管40に被乾燥物が付着して流動化が阻害される事態を防止できる。
Therefore, in the
また、予備乾燥を行わない比較例の乾燥装置では、起動時において、乾燥済で保管されていた被乾燥物を乾燥装置に先に投入し、その後、水分を含む被乾燥物を乾燥装置に投入する必要があった。これに対し、本実施形態の乾燥装置1は、水分を含む被乾燥物を、起動開始から分散室12に投入することができる。このため、本実施形態の乾燥装置1は、上述の比較例に比べ、乾燥装置1の起動にかかる時間を短縮することができる。
In addition, in the drying apparatus of the comparative example that does not perform pre-drying, at the time of startup, the material to be dried that has been dried and stored is first put into the drying apparatus, and then the material to be dried containing moisture is put into the drying apparatus. I had to. On the other hand, the drying
また、本実施形態の乾燥装置1では、仕切り板70に対してオーバーフロー壁24とは反対側の前壁50に、鉛直下方に向かって分散室12内の水平断面積を漸減させる傾斜部58が形成されている。これにより、本実施形態の乾燥装置1では、前壁側領域A1において被乾燥物の循環流を形成することができる。このため、本実施形態の乾燥装置1では、被乾燥物を十分に予備乾燥することが可能となる。
In addition, in the
また、本実施形態の乾燥装置1では、傾斜部58の水平面に対する角度が被乾燥物の安息角以上となっている。このため、本実施形態の乾燥装置1では、前壁側領域A1における被乾燥物を十分に循環させることができる。
Further, in the
また、本実施形態の乾燥装置1では、仕切り板70と傾斜部58の頂部60との間の水平断面積と、仕切り板70とオーバーフロー壁24との間の水平断面積とが等しい。これにより、本実施形態の乾燥装置1では、前壁側領域A1の圧損とオーバーフロー壁側領域A2の圧損との差を最小限とすることができる。このため、本実施形態の乾燥装置1では、被乾燥物を分散室12から乾燥室10に円滑に供給することが可能となる。
Further, in the
また、本実施形態の乾燥装置1では、仕切り板70の最下部88が傾斜部58の頂部60以下に位置している。このため、本実施形態の乾燥装置1では、前壁側領域A1における被乾燥物を十分に循環させることができる。
Further, in the
また、本実施形態の乾燥装置1では、仕切り板70の最下部88が傾斜部58の最下部66よりもオーバーフロー壁24側に位置している。このため、本実施形態の乾燥装置1では、前壁側領域A1における被乾燥物を十分に循環させることができる。
Further, in the
以上、添付図面を参照しながら実施形態について説明したが、本開示は上記実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本開示の技術的範囲に属するものと了解される。 Although the embodiments have been described above with reference to the accompanying drawings, it goes without saying that the present disclosure is not limited to the above embodiments. It is clear that a person skilled in the art can conceive of various modifications or modifications within the scope of the claims, and it is understood that these also belong to the technical scope of the present disclosure. be done.
例えば、上記実施形態では、供給口32がオーバーフロー壁24の上方(オーバーフロー壁24の頂部30と天井部28との間)に設けられていた。しかし、供給口32は、オーバーフロー壁24自体に設けられてもよい。つまり、供給口32は、オーバーフロー壁24における鉛直方向の一部の区間において形成されてもよい。この態様においても、被乾燥物は、オーバーフロー壁24自体に設けられた供給口32の最下部からオーバーフローして乾燥室10に移動可能である。なお、この場合、オーバーフロー壁24の頂部30は天井部28に接続されてもよい。
For example, in the above embodiment, the
また、上記実施形態では、仕切り板70の頂部72に切欠き部74が設けられていた。しかし、切欠き部74が仕切り板70に設けられていなくともよい。
Further, in the above-described embodiment, the
また、上記実施形態において、投入口86は、仕切り板70の頂部72よりも下方に位置していた。しかし、投入口86は、仕切り板70の頂部72と同じ高さに位置してもよい。つまり、投入口86は、仕切り板70の頂部72以下であり、供給口32の最下部よりも上方に位置してもよい。
Further, in the above-described embodiment, the
また、上記実施形態において、仕切り板70の頂部72は、供給口32の最上部と同じ高さに位置していた。しかし、仕切り板70の頂部72は、供給口32の最上部よりも上方に位置してもよい。
Further, in the above embodiment, the
また、仕切り板70は、仕切り板70と傾斜部58の頂部60との間の水平断面積と、仕切り板70とオーバーフロー壁24との間の水平断面積とが異なるように、前壁50側あるいはオーバーフロー壁24側に偏った位置に配置されてもよい。
Further, the
また、仕切り板70の最下部88は、傾斜部58の頂部60よりも上方に位置してもよい。また、仕切り板70の最下部88は、傾斜部58の最下部66よりも前壁50側に位置してもよい。
Also, the
また、傾斜部58は、水平面に対する角度が被乾燥物の安息角よりも小さくてもよい。また、傾斜部58の頂部60は、オーバーフロー壁24の頂部30より上方に位置してもよい。また、傾斜部58が前壁50に設けられていなくてもよい。
Also, the angle of the
本開示は、乾燥装置に利用することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present disclosure can be used for drying equipment.
1 乾燥装置
10 乾燥室
12 分散室
24 オーバーフロー壁
30 頂部
32 供給口
50 前壁
58 傾斜部
60 頂部
66 最下部
70 仕切り板
72 頂部
86 投入口
88 最下部
1 drying
Claims (4)
前記乾燥室と隣接して設けられた分散室と、
前記乾燥室に流動化ガスを供給する第1ガス供給部と、
前記分散室に流動化ガスを供給する第2ガス供給部と、
前記乾燥室と前記分散室とを仕切るオーバーフロー壁と、
前記オーバーフロー壁の上方、もしくは、前記オーバーフロー壁自体に設けられ、前記乾燥室と前記分散室とを連通させる供給口と、
前記分散室の内外を連通させ、前記供給口の最下部よりも上方に位置する投入口と、
前記分散室内において前記投入口と前記供給口との間に位置し、前記供給口の最下部よりも下方まで延在し、前記分散室の底面から離隔して設けられる仕切り板と、
前記仕切り板に対して前記オーバーフロー壁とは反対側に設けられ、鉛直下方に向かって前記分散室内の水平断面積を漸減させる傾斜部と、
を備え、
前記乾燥室には、熱媒体が供給される複数の内管が設けられており、前記分散室には、前記複数の内管が設けられておらず、
前記仕切り板と前記傾斜部の頂部との間の水平断面積と、前記仕切り板と前記オーバーフロー壁との間の水平断面積とが等しい乾燥装置。 a drying room;
a dispersion chamber adjacent to the drying chamber;
a first gas supply unit that supplies a fluidizing gas to the drying chamber;
a second gas supply unit that supplies a fluidizing gas to the dispersion chamber;
an overflow wall separating the drying chamber and the dispersion chamber;
a supply port provided above the overflow wall or on the overflow wall itself and communicating between the drying chamber and the dispersion chamber;
an inlet located above the lowermost part of the supply port and communicating between the inside and the outside of the dispersion chamber;
a partition plate located between the input port and the supply port in the dispersion chamber, extending below the lowest portion of the supply port, and spaced apart from the bottom surface of the dispersion chamber;
an inclined portion provided on the side opposite to the overflow wall with respect to the partition plate for gradually decreasing the horizontal cross-sectional area in the dispersion chamber vertically downward;
with
The drying chamber is provided with a plurality of inner pipes to which a heat medium is supplied, and the dispersion chamber is not provided with the plurality of inner pipes,
A dryer in which the horizontal cross-sectional area between said partition and the top of said ramp is equal to the horizontal cross-sectional area between said partition and said overflow wall.
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- 2018-11-20 JP JP2018217507A patent/JP7225727B2/en active Active
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