JP7221536B2 - 散乱測定解析方法、散乱測定解析装置、及び散乱測定解析プログラム - Google Patents
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Description
ステップ1では、試料の測定散乱強度データが取得される。前述の通り、散乱測定部2が試料100のX線小角散乱強度を測定し、測定される測定散乱強度データを、散乱測定解析部3は入力部4を介して取得する。散乱測定解析部3は、記憶部5に保持される測定散乱強度データを取得してもよい。なお、測定散乱強度データと理論散乱強度とを明確に区別するために、前者を散乱強度の測定曲線と、後者を散乱強度の理論曲線と、それぞれ呼んでもよい。
ステップ2では、散乱ベクトルに対する理論散乱強度を算出するのに必要な構造モデルパラメータを取得する。かかる構造モデルパラメータは、ユーザが入力部4に入力してもよいし、少なくとも一部は自動的に設定されてもよい。かかる構造モデルパラメータの詳細は後述する。
ステップ3では、多粒子系散乱体の構造モデルからの理論散乱強度を取得する。ここでは、散乱測定解析部3がDebye式(数式3)を用いて理論散乱強度を算出し、それを取得しているがそれに限定されることはない。散乱測定解析部3又は外部のコンピュータが事前に算出する理論散乱強度が記憶部5に保持されており、散乱測定解析部3が記憶部5に保持される理論散乱強度を取得してもよい。当該実施形態では、Debye式(数式3)の計算において、次に示す計算式を用いており、それについて詳細を説明する。
ステップ4では、測定散乱強度データに対して、理論散乱強度によるフィッティングを施す。構造モデルパラメータの一部をフィッティング関数とし、フィッティング結果を評価し、結果が良好であると判断すれば終了する。結果が不良であると判断すると、フィッティング関数の値を変更して、ステップ2へ進む。これを繰り返すことにより、測定散乱強度データに適合する理論散乱強度を見つけ出し、その構造モデルパラメータにより試料に含まれる散乱体の構造が解析される。
Claims (11)
- 多粒子系散乱体の構造モデルからの理論散乱強度I(q)を取得する、理論散乱強度取得ステップを備える散乱測定解析方法であって、
前記理論散乱強度取得ステップにおいては、
複数の散乱体のうち、散乱体mと該散乱体mからの距離rにある散乱体nとのペアの前記理論散乱強度への寄与を、
散乱体mと散乱体nとの寄与をそれぞれの散乱因子fm(q)とfn*(q)および中心間距離rmnから計算する下記の第1計算、
前記散乱体nの散乱因子fn*(q)を散乱因子f n *(q)の平均値f ave *(q)で代用し、かつ前記構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数ρ a を用いて計算する下記の第2計算、
前記第1計算の計算結果と前記第2計算の計算結果に基づいて前記理論散乱強度I(q)を取得する、
ことを特徴とする、散乱測定解析方法。
I(q):理論散乱強度
f m (q):散乱体mの散乱因子
f n *(q):散乱体nの散乱因子
q:入射波と出射波それぞれの波数ベクトルの差の大きさ
r mn :散乱体mと散乱体nとの中心間距離
N:散乱体の個数
f ave (q):散乱因子f m (q)の平均値
f ave *(q):散乱因子f n *(q)の平均値
ρ a :構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数 - 多粒子系散乱体の構造モデルからの理論散乱強度I(q)を取得する、理論散乱強度取得ステップを備える散乱測定解析方法であって、
前記理論散乱強度取得ステップにおいては、
前記距離rが一定の値R未満の場合、前記理論散乱強度I(q)への寄与を前記第1計算により取得し、
前記距離rが前記一定の値R以上の場合、前記理論散乱強度I(q)への寄与を前記第2計算により取得し、
前記第1計算の計算結果と前記第2計算の計算結果とを合成することにより前記理論散乱強度I(q)を取得する、
ことを特徴とする、請求項1に記載の散乱測定解析方法。 - 多粒子系散乱体の構造モデルからの理論散乱強度I(q)を取得する、理論散乱強度取得ステップを備える散乱測定解析方法であって、
前記理論散乱強度取得ステップにおいては、
散乱測定に使われるプローブのコヒーレント長に対応して導かれる、距離rが大きくなるにつれて1から0に単調減少する第2関数C(r)を用いると共に、右辺第2項において前記構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数ρ a を用いた下記式(14)に基づいて前記理論散乱強度I(q)を取得する、
ことを特徴とする、散乱測定解析方法。
f m (q):散乱体mの散乱因子
f n *(q):散乱体nの散乱因子
q:入射波と出射波それぞれの波数ベクトルの差の大きさ
r mn :散乱体mと散乱体nとの中心間距離
C(r):第2関数
N:散乱体の個数
f ave (q):散乱因子f m (q)の平均値
f ave *(q):散乱因子f n *(q)の平均値
ρ a :構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数 - 多粒子系散乱体の構造モデルからの理論散乱強度I(q)を取得する、理論散乱強度取得ステップを備える散乱測定解析方法であって、
前記理論散乱強度取得ステップにおいては、
前記散乱体mからの前記散乱体nの距離rが大きくなるにつれて0から1へ連続的に増加する第1関数G(r)と、散乱測定に使われるプローブのコヒーレント長に対応して導かれる、距離rが大きくなるにつれて1から0に単調減少する第2関数C(r)とを用いると共に、右辺第3項において前記構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数ρ a を用いた下記式(15)に基づいて前記理論散乱強度I(q)を取得する、
ことを特徴とする、散乱測定解析方法。
f m (q):散乱体mの散乱因子
f n *(q):散乱体nの散乱因子
q:入射波と出射波それぞれの波数ベクトルの差の大きさ
r mn :散乱体mと散乱体nとの中心間距離
G(r):第1関数
C(r):第2関数
N:散乱体の個数
f ave (q):散乱因子f m (q)の平均値
f ave *(q):散乱因子f n *(q)の平均値
ρ a :構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数 - 多粒子系散乱体の構造モデルからの理論散乱強度I(q)を取得する、理論散乱強度取得手段を備える散乱測定解析装置であって、
前記理論散乱強度取得手段は、
複数の散乱体のうち、散乱体mと該散乱体mからの距離rにある散乱体nとのペアの前記理論散乱強度への寄与を、
散乱体mと散乱体nとの寄与をそれぞれの散乱因子fm(q)とfn*(q)および中心間距離rmnから計算する下記の第1計算、
及び、
前記散乱体nの散乱因子fn*(q)を散乱因子f n *(q)の平均値f ave *(q)で代用し、かつ前記構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数ρ a を用いて計算する下記の第2計算、
前記第1計算の計算結果と前記第2計算の計算結果に基づいて前記理論散乱強度I(q)を取得する、
ことを特徴とする、散乱測定解析装置。
I(q):理論散乱強度
f m (q):散乱体mの散乱因子
f n *(q):散乱体nの散乱因子
q:入射波と出射波それぞれの波数ベクトルの差の大きさ
r mn :散乱体mと散乱体nとの中心間距離
N:散乱体の個数
f ave (q):散乱因子f m (q)の平均値
f ave *(q):散乱因子f n *(q)の平均値
ρ a :構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数
- 多粒子系散乱体の構造モデルからの理論散乱強度I(q)を取得する、理論散乱強度取得手段を備える散乱測定解析装置であって、
前記理論散乱強度取得手段においては、
散乱測定に使われるプローブのコヒーレント長に対応して導かれる、距離rが大きくなるにつれて1から0に単調減少する第2関数C(r)を用いると共に、右辺第2項において前記構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数ρ a を用いた下記式(14)に基づいて前記理論散乱強度I(q)を取得する、
ことを特徴とする、散乱測定解析装置。
f m (q):散乱体mの散乱因子
f n *(q):散乱体nの散乱因子
q:入射波と出射波それぞれの波数ベクトルの差の大きさ
r mn :散乱体mと散乱体nとの中心間距離
C(r):第2関数
N:散乱体の個数
f ave (q):散乱因子f m (q)の平均値
f ave *(q):散乱因子f n *(q)の平均値
ρ a :構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数 - 多粒子系散乱体の構造モデルからの理論散乱強度I(q)を取得する、理論散乱強度取得手段を備える散乱測定解析装置であって、
前記理論散乱強度取得手段においては、
前記散乱体mからの前記散乱体nの距離rが大きくなるにつれて0から1へ連続的に増加する第1関数G(r)と、散乱測定に使われるプローブのコヒーレント長に対応して導かれる、距離rが大きくなるにつれて1から0に単調減少する第2関数C(r)とを用いると共に、右辺第3項において前記構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数ρ a を用いた下記式(15)に基づいて前記理論散乱強度I(q)を取得する、
ことを特徴とする、散乱測定解析装置。
f m (q):散乱体mの散乱因子
f n *(q):散乱体nの散乱因子
q:入射波と出射波それぞれの波数ベクトルの差の大きさ
r mn :散乱体mと散乱体nとの中心間距離
G(r):第1関数
C(r):第2関数
N:散乱体の個数
f ave (q):散乱因子f m (q)の平均値
f ave *(q):散乱因子f n *(q)の平均値
ρ a :構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数 - コンピュータを、
多粒子系散乱体の構造モデルからの理論散乱強度I(q)を取得する、理論散乱強度取得手段、として機能させる、散乱測定解析プログラムであって、
前記理論散乱強度取得手段は、
複数の散乱体のうち、散乱体mと該散乱体mからの距離rにある散乱体nとのペアの前記理論散乱強度への寄与を、
散乱体mと散乱体nとの寄与をそれぞれの散乱因子fm(q)とfn*(q)および中心間距離rmnから計算する下記の第1計算、
前記散乱体nの散乱因子fn*(q)を散乱因子f n *(q)の平均値f ave *(q)で代用し、かつ前記構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数ρ a を用いて計算する下記の第2計算、
前記第1計算の計算結果と前記第2計算の計算結果に基づいて前記理論散乱強度I(q)を取得する、
ことを特徴とする、散乱測定解析プログラム。
I(q):理論散乱強度
f m (q):散乱体mの散乱因子
f n *(q):散乱体nの散乱因子
q:入射波と出射波それぞれの波数ベクトルの差の大きさ
r mn :散乱体mと散乱体nとの中心間距離
N:散乱体の個数
f ave (q):散乱因子f m (q)の平均値
f ave *(q):散乱因子f n *(q)の平均値
ρ a :構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数 - コンピュータを、
多粒子系散乱体の構造モデルからの理論散乱強度I(q)を取得する、理論散乱強度取得手段、として機能させる、散乱測定解析プログラムであって、
前記理論散乱強度取得手段においては、
散乱測定に使われるプローブのコヒーレント長に対応して導かれる、距離rが大きくなるにつれて1から0に単調減少する第2関数C(r)を用いると共に、右辺第2項において前記構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数ρ a を用いた下記式(14)に基づいて前記理論散乱強度I(q)を取得する、
ことを特徴とする、散乱測定解析プログラム。
f m (q):散乱体mの散乱因子
f n *(q):散乱体nの散乱因子
q:入射波と出射波それぞれの波数ベクトルの差の大きさ
r mn :散乱体mと散乱体nとの中心間距離
C(r):第2関数
N:散乱体の個数
f ave (q):散乱因子f m (q)の平均値
f ave *(q):散乱因子f n *(q)の平均値
ρ a :構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数 - コンピュータを、
多粒子系散乱体の構造モデルからの理論散乱強度I(q)を取得する、理論散乱強度取得手段、として機能させる、散乱測定解析プログラムであって、
前記理論散乱強度取得手段においては、
前記散乱体mからの前記散乱体nの距離rが大きくなるにつれて0から1へ連続的に増加する第1関数G(r)と、散乱測定に使われるプローブのコヒーレント長に対応して導かれる、距離rが大きくなるにつれて1から0に単調減少する第2関数C(r)とを用いると共に、右辺第3項において前記構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数ρ a を用いた下記式(15)に基づいて前記理論散乱強度I(q)を取得する、
ことを特徴とする、散乱測定解析プログラム。
f m (q):散乱体mの散乱因子
f n *(q):散乱体nの散乱因子
q:入射波と出射波それぞれの波数ベクトルの差の大きさ
r mn :散乱体mと散乱体nとの中心間距離
G(r):第1関数
C(r):第2関数
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f ave (q):散乱因子f m (q)の平均値
f ave *(q):散乱因子f n *(q)の平均値
ρ a :構造モデルの単位体積当たりの平均粒子数
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US17/132,095 US20210200922A1 (en) | 2019-12-27 | 2020-12-23 | Scattering Measurement Analysis Method, Scattering Measurement Analysis Device, And Non-Transitory Computer-Readable Storage Medium Storing Scattering Measurement Analysis Program |
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Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114742942B (zh) * | 2022-03-18 | 2024-07-26 | 华中科技大学 | 一种saxs散射体的形状因子计算方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005249613A (ja) | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Rigaku Corp | 空孔率の測定方法及び装置並びに粒子率の測定方法及び装置 |
JP2019152468A (ja) | 2018-03-01 | 2019-09-12 | 株式会社リガク | X線発生装置、及びx線分析装置 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3058042B2 (ja) * | 1995-01-31 | 2000-07-04 | 株式会社島津製作所 | イオン散乱分析装置 |
JP3953754B2 (ja) * | 2001-06-27 | 2007-08-08 | 株式会社リガク | 密度不均一試料解析方法ならびにその装置およびシステム |
JP2003166953A (ja) * | 2001-12-04 | 2003-06-13 | Osaka Gas Co Ltd | 炭素材の構造解析法および構造解析システム |
JP2004233330A (ja) * | 2002-12-04 | 2004-08-19 | Osaka Gas Co Ltd | 炭素材の構造解析法および構造解析システム |
JP2013108800A (ja) * | 2011-11-18 | 2013-06-06 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | ゴム材料のシミュレーション方法 |
CN103344658A (zh) * | 2013-07-23 | 2013-10-09 | 中国科学院青海盐湖研究所 | 液体x射线散射测量方法 |
US9778213B2 (en) * | 2013-08-19 | 2017-10-03 | Kla-Tencor Corporation | Metrology tool with combined XRF and SAXS capabilities |
FR3023000B1 (fr) * | 2014-06-30 | 2016-07-29 | Commissariat Energie Atomique | Procede et systeme d'analyse d'un objet par diffractometrie utilisant un spectre en diffusion et un spectre en transmission |
CN104330347B (zh) * | 2014-09-30 | 2016-02-10 | 中国科学院广州地球化学研究所 | Spams实测气溶胶核壳结构颗粒光学参数非线性反演方法 |
CN105808933B (zh) * | 2016-03-03 | 2019-03-15 | 中国科学院微电子研究所 | 一种高分子表面活性剂的结构稳定性判断方法及系统 |
US10359377B2 (en) * | 2016-04-22 | 2019-07-23 | Kla-Tencor Corporation | Beam shaping slit for small spot size transmission small angle X-ray scatterometry |
CN107589136B (zh) * | 2016-07-08 | 2019-10-01 | 中国科学院化学研究所 | 一种小角x射线散射的双模型拟合方法及系统 |
US11073487B2 (en) * | 2017-05-11 | 2021-07-27 | Kla-Tencor Corporation | Methods and systems for characterization of an x-ray beam with high spatial resolution |
US11231379B2 (en) * | 2017-08-04 | 2022-01-25 | Cornell University | Sample cell arrays and hardware for high-throughput cryoSAXS |
US10983227B2 (en) * | 2017-08-14 | 2021-04-20 | Kla-Tencor Corporation | On-device metrology using target decomposition |
KR101987973B1 (ko) * | 2017-11-30 | 2019-06-11 | 한국과학기술연구원 | 극소각 및 소각 산란을 이용한 먹에 사용된 탄소 그을음의 종류 분석방법 |
EP3611568A1 (en) * | 2018-08-15 | 2020-02-19 | ASML Netherlands B.V. | Method and metrology apparatus for determining estimated scattered radiation intensity |
JP2020041991A (ja) * | 2018-09-13 | 2020-03-19 | キオクシア株式会社 | 形状計測方法および形状計測装置 |
JP7222749B2 (ja) * | 2019-02-13 | 2023-02-15 | 株式会社日立製作所 | 計測ガイド装置、及び、それに用いるシミュレーション演算装置 |
-
2019
- 2019-12-27 JP JP2019239494A patent/JP7221536B2/ja active Active
-
2020
- 2020-12-21 EP EP20215862.2A patent/EP3865866B1/en active Active
- 2020-12-23 US US17/132,095 patent/US20210200922A1/en active Pending
- 2020-12-25 CN CN202011565438.6A patent/CN113049615B/zh active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005249613A (ja) | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Rigaku Corp | 空孔率の測定方法及び装置並びに粒子率の測定方法及び装置 |
JP2019152468A (ja) | 2018-03-01 | 2019-09-12 | 株式会社リガク | X線発生装置、及びx線分析装置 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
K. Omote and T. Iwata,Real-space modeling for complex structures based on small-angle X-ray scattering,J. Appl. Cryst. ,2021年,Vol.54,PP.1290-1297 |
Robert P. Rambo et al.,Super-Resolution in Solution X-Ray Scattering and Its Applications to Structural Systems Biology,Annual Review of Biophysics,2013年03月11日,Vol. 42,PP.415-441 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20210200922A1 (en) | 2021-07-01 |
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