JP7220864B2 - Thermally conductive insulating composition, thermally conductive insulating molded article, and method for producing the same - Google Patents

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本発明は、電子回路基板等の絶縁性と放熱性が求められる部材の材料として有用な、熱伝導性絶縁組成物、熱伝導性絶縁成形体及びその製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a thermally conductive insulating composition, a thermally conductive insulating molded product, and a method for producing the same, which are useful as materials for members such as electronic circuit boards that require insulation and heat dissipation.

電気・電子機器の小型化、高集積化に伴い、実装部品の発熱や使用環境の高温化が顕著となり、構成部材の放熱性向上に対する要求が高くなっている。特に自動車部材やハイパワーLEDの放熱部材には、現在、熱伝導率の高い金属やセラミックスが用いられているが、軽量化、加工性、及び形状の自由度を高めるために、高い熱伝導性、及び成形加工性を有する熱伝導性樹脂材料が求められている。特に、樹脂等の高分子材料は、成形性に優れた安価な絶縁材料であることから、電子回路基板用基材、モータ絶縁材、及び絶縁接着剤等の様々な電子部品に用いられている。近年、これら電子部品の高密度化・高出力化に伴い、電子部品からの発熱量が増大している。このため電子部品の熱を放出させるための対策が強く求められている。 2. Description of the Related Art With the miniaturization and high integration of electrical and electronic equipment, the heat generated by mounted parts and the high temperature of the operating environment have become conspicuous, and the demand for improving the heat dissipation of constituent members has increased. In particular, metals and ceramics with high thermal conductivity are currently used for automobile parts and heat dissipation parts for high-power LEDs. , and a thermally conductive resin material having moldability. In particular, polymer materials such as resins are inexpensive insulating materials with excellent moldability, so they are used in various electronic components such as substrates for electronic circuit boards, motor insulating materials, and insulating adhesives. . In recent years, the amount of heat generated from these electronic components has increased as the density and output of these electronic components have increased. Therefore, there is a strong demand for countermeasures for releasing heat from electronic components.

この課題に対して、従来技術では、樹脂内部にアルミナやシリカなどの無機物からなるフィラーを充填し、樹脂の熱伝導度を高める方法が用いられている。例えば、特許文献1及び2では、結晶性シリカ、及び酸化アルミニウム等の無機フィラーを高分子樹脂中に添加して熱伝導性を付与する技術が提案されている。この場合、無機フィラーが繋がって形成される連続体が熱の伝導路として機能する。すなわち、樹脂中に充填された無機フィラーは相互に接触している必要があり、効率的な熱伝導のためには多量の無機フィラーを充填する必要があった。更に、従来の熱伝導性絶縁樹脂成形体は、無機フィラーを多量に添加する必要があったため、以下の技術的課題を有していた。(1)重量が重い。(2)無機フィラーは硬いため加工性が悪い。(3)無機フィラーと樹脂の界面に空隙が発生し易く、そこに水が滞留するため耐湿性が低い。(4)無機フィラーは高価であるため製造コストが高い。(5)無機フィラーの充填量が多い樹脂成形体は、形状を保持するために一定の厚みが必要であり、薄型化が困難である。これらの課題を解決するために、特許文献3では、高分子化合物を含むコア粒子と、該コア粒子を被覆する、熱伝導性かつ絶縁性の無機化合物を含むシェルとを備えるコア/シェル粒子の集合体により成形される熱伝導性絶縁樹脂成形体が提案されている。 In order to solve this problem, in the prior art, a method is used in which a filler made of an inorganic substance such as alumina or silica is filled inside the resin to increase the thermal conductivity of the resin. For example, Patent Literatures 1 and 2 propose a technique of adding crystalline silica and an inorganic filler such as aluminum oxide to a polymer resin to impart thermal conductivity. In this case, a continuum formed by connecting inorganic fillers functions as a heat conducting path. That is, the inorganic filler filled in the resin must be in contact with each other, and a large amount of inorganic filler must be filled for efficient heat conduction. Furthermore, conventional thermally conductive insulating resin moldings require the addition of a large amount of inorganic filler, and thus have the following technical problems. (1) Heavy weight. (2) Inorganic fillers are hard and have poor workability. (3) Air gaps are likely to occur at the interface between the inorganic filler and the resin, and water stays there, resulting in low moisture resistance. (4) Inorganic fillers are expensive, resulting in high production costs. (5) A resin molded article with a large amount of inorganic filler filled therein requires a certain thickness in order to retain its shape, and it is difficult to make it thinner. In order to solve these problems, Patent Document 3 discloses a core/shell particle comprising a core particle containing a polymer compound and a shell containing a thermally conductive and insulating inorganic compound covering the core particle. A thermally conductive insulating resin molded body formed from an aggregate has been proposed.

特開平11-233694号公報JP-A-11-233694 特許第3559137号公報Japanese Patent No. 3559137 特許第5278488号公報Japanese Patent No. 5278488

しかし、特許文献3に記載の熱伝導性絶縁樹脂成形体は、高分子化合物を含むコア粒子が無機化合物を含むシェルで被覆されているため、熱伝導性が低いという問題がある。また、従来の熱伝導性絶縁樹脂成形体は、樹脂中に充填された無機フィラーが凝集しやすく、無機フィラーが繋がって形成される連続体が形成されにくいため、十分な熱伝導性が得られないという問題があった。 However, the thermally conductive insulating resin molded article described in Patent Document 3 has a problem of low thermal conductivity because core particles containing a polymer compound are coated with a shell containing an inorganic compound. In addition, in the conventional thermally conductive insulating resin molded product, the inorganic filler filled in the resin tends to aggregate, and it is difficult to form a continuous body formed by connecting the inorganic filler, so sufficient thermal conductivity cannot be obtained. There was no problem.

本発明は、無機フィラーの含有量が少ない場合でも熱伝導性及び絶縁性に優れる熱伝導性絶縁成形体及びその製造方法、並びに当該熱伝導性絶縁成形体を得るための熱伝導性絶縁組成物を提供することを目的とする。 The present invention provides a thermally conductive insulating molded article that has excellent thermal conductivity and insulating properties even when the content of inorganic filler is small, a method for producing the same, and a thermally conductive insulating composition for obtaining the thermally conductive insulating molded article. intended to provide

本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、熱伝導性絶縁組成物中に、無機フィラーと共にトリアジンジチオール系化合物を添加することにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventors have made intensive studies to solve the above problems, and as a result, found that the above objects can be achieved by adding a triazinedithiol-based compound together with an inorganic filler to a thermally conductive insulating composition. I have perfected my invention.

すなわち、本発明は、以下の構成からなる。
[1]
高分子材料、無機フィラー、及び下記一般式(1)で表されるトリアジンジチオール系化合物を含有する熱伝導性絶縁組成物。

Figure 0007220864000001
(式中、M及びMはそれぞれ独立にH、Li、Na、K、又はCsであり、RはS、O、又はNRであり、RはH、又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基、ハロゲン化アルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルコキシアルケニル基、フェニル基、ハロゲン化フェニル基、ヒドロキシフェニル基、アルコキシフェニル基、ビフェニル基、ハロゲン化ビフェニル基、ヒドロキシビフェニル基、アルコキシビフェニル基、ナフチル基、ハロゲン化ナフチル基、ヒドロキシナフチル基、アルコキシナフチル基、カルボキシル基、エステル基、ウレタン基、アゾ基、シアノ基、アミノ基、アミド基、及びアルコキシシリル基からなる群より選択される少なくとも1種の官能基を有する有機基であり、Rは前記有機基と同じであり、あるいはNRとRはヘテロ環を構成する。)
[2]
前記トリアジンジチオール系化合物は、下記一般式(2)~(4)で表されるトリアジンジチオール系化合物の少なくとも1種である[1]に記載の熱伝導性絶縁組成物。
Figure 0007220864000002

(式中、M、M、R、及びRは前記と同じである。)
Figure 0007220864000003

(式中、M及びMは前記と同じであり、RはS、O、-NHCHCHO-、-N(CH)CHCHO-、-N(C)CHCHO-、-NHCHCHCHCHO-、-N(C)CHCHCHCHO-、-NHCH(CHCHO-、-NHCHCH(CH)O-、-NHCO-、-N(C)CO-、-NHC10O-、-N(CHCHCHO-、-N(CHCHNCHCHO-、-N(CHCHOH)CHCHO-、-N(CHCHCHOH)CHCHCHO-、-N(CHCH(CH)OH)CHCH(CH)O-、-N(CHCHCHCHOH)CHCHCHCHO-、-NHCHO-、-NHC11O-、又は-N(C)CO-であり、Rはアルキレン基であり、Rはアルコキシ基であり、R及びRはそれぞれ独立にアルコキシ基又はアルキル基である。)
Figure 0007220864000004
(式中、M、M、及びR~Rは前記と同じであり、Rは水素又はアルキル基であり、Rはアルキレン基又はアルキレンオキシ基であり、RとRは互いに結合して環を形成してもよい。)
[3]
前記高分子材料は、エラストマーを含む[1]又は[2]に記載の熱伝導性絶縁組成物。
[4]
前記エラストマーは、ポリエステル系エラストマー及びポリアミド系エラストマーからなる群より選択される少なくとも1種である[3]に記載の熱伝導性絶縁組成物。
[5]
前記無機フィラーは、窒化アルミニウムフィラー及び窒化ホウ素フィラーからなる群より選択される少なくとも1種を含む[1]~[4]のいずれかに記載の熱伝導性絶縁組成物。
[6]
前記無機フィラーの含有量は、前記高分子材料100質量部に対して20~400質量部である[1]~[5]のいずれかに記載の熱伝導性絶縁組成物。
[7]
前記トリアジンジチオール系化合物の含有量は、前記無機フィラー100質量部に対して5×10-7~5質量部である[1]~[6]のいずれかに記載の熱伝導性絶縁組成物。
[8]
[1]~[7]のいずれかに記載の熱伝導性絶縁組成物から得られる熱伝導性絶縁成形体。
[9]
前記熱伝導性絶縁成形体は、熱伝導性絶縁シートである[8]に記載の熱伝導性絶縁成形体。
[10]
[8]又は[9]に記載の熱伝導性絶縁成形体の製造方法であって、前記無機フィラーと前記トリアジンジチオール系化合物とを接触させて、前記無機フィラーの表面に前記トリアジンジチオール系化合物を付着させて表面修飾無機フィラーを得る工程A、前記表面修飾無機フィラーを前記高分子材料中に分散させて前記熱伝導性絶縁組成物を得る工程B、及び前記熱伝導性絶縁組成物を成形する工程Cを含む熱伝導性絶縁成形体の製造方法。
[11]
前記工程Cにおいて、前記熱伝導性絶縁組成物を加圧及び/又は加熱して成形する[10]に記載の熱伝導性絶縁成形体の製造方法。 That is, the present invention consists of the following configurations.
[1]
A thermally conductive insulating composition containing a polymeric material, an inorganic filler, and a triazinedithiol-based compound represented by the following general formula (1).
Figure 0007220864000001
(wherein M 1 and M 2 are each independently H, Li, Na, K, or Cs, R 1 is S, O, or NR 3 , R 3 is H, or an alkyl group, halogenated Alkyl group, hydroxyalkyl group, alkoxyalkyl group, alkenyl group, halogenated alkenyl group, hydroxyalkenyl group, alkoxyalkenyl group, phenyl group, halogenated phenyl group, hydroxyphenyl group, alkoxyphenyl group, biphenyl group, halogenated biphenyl group , hydroxybiphenyl group, alkoxybiphenyl group, naphthyl group, halogenated naphthyl group, hydroxynaphthyl group, alkoxynaphthyl group, carboxyl group, ester group, urethane group, azo group, cyano group, amino group, amide group, and alkoxysilyl group is an organic group having at least one functional group selected from the group consisting of R 2 is the same as the above organic group, or NR 3 and R 2 form a heterocyclic ring.)
[2]
The thermally conductive insulating composition according to [1], wherein the triazinedithiol-based compound is at least one triazinedithiol-based compound represented by the following general formulas (2) to (4).
Figure 0007220864000002

(In the formula, M 1 , M 2 , R 2 and R 3 are the same as above.)
Figure 0007220864000003

(wherein M 1 and M 2 are the same as above, R 1 is S, O, -NHCH 2 CH 2 O-, -N(CH 3 )CH 2 CH 2 O-, -N(C 3 H 7 ) CH2CH2O- , -NHCH2CH2CH2CH2O- , -N ( C2H5 ) CH2CH2CH2CH2O- , -NHCH2 ( CH2 ) 8CH2 O—, —NHCH 2 CH(CH 3 )O—, —NHC 6 H 4 O—, —N(C 2 H 5 )C 6 H 4 O—, —NHC 10 H 6 O—, —N(CH 2 CH2 ) 2CHO- , -N ( CH2CH2 )2NCH2CH2O- , -N ( CH2CH2OH ) CH2CH2O- , -N( CH2CH2CH2OH ) CH2CH2CH2O- , -N ( CH2CH ( CH3 ) OH ) CH2CH ( CH3 ) O- , -N (CH2CH2CH2CH2OH) CH2CH2CH2 CH 2 O—, —NHCH 2 C 6 H 4 O—, —NHC 6 H 11 O—, or —N(C 3 H 7 )C 6 H 4 O—, R 4 is an alkylene group, R 5 is an alkoxy group, and R6 and R7 are each independently an alkoxy group or an alkyl group.)
Figure 0007220864000004
(wherein M 1 , M 2 and R 5 to R 7 are the same as above, R 8 is hydrogen or an alkyl group, R 9 is an alkylene group or an alkyleneoxy group, R 8 and R 9 may combine with each other to form a ring.)
[3]
The thermally conductive insulating composition according to [1] or [2], wherein the polymer material contains an elastomer.
[4]
The thermally conductive insulating composition according to [3], wherein the elastomer is at least one selected from the group consisting of polyester elastomers and polyamide elastomers.
[5]
The thermally conductive insulating composition according to any one of [1] to [4], wherein the inorganic filler contains at least one selected from the group consisting of aluminum nitride filler and boron nitride filler.
[6]
The thermally conductive insulating composition according to any one of [1] to [5], wherein the content of the inorganic filler is 20 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer material.
[7]
The thermally conductive insulating composition according to any one of [1] to [6], wherein the content of the triazinedithiol-based compound is 5×10 −7 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler.
[8]
A thermally conductive insulating molded article obtained from the thermally conductive insulating composition according to any one of [1] to [7].
[9]
The thermally conductive insulating molded article according to [8], wherein the thermally conductive insulating molded article is a thermally conductive insulating sheet.
[10]
[8] or [9] The method for producing a thermally conductive insulating molded article, wherein the inorganic filler and the triazinedithiol-based compound are brought into contact with each other, and the triazinedithiol-based compound is applied to the surface of the inorganic filler. Step A of attaching to obtain a surface-modified inorganic filler, Step B of dispersing the surface-modified inorganic filler in the polymer material to obtain the thermally conductive insulating composition, and molding the thermally conductive insulating composition A method for producing a thermally conductive insulating molded body including step C.
[11]
The method for producing a thermally conductive insulating molded article according to [10], wherein in the step C, the thermally conductive insulating composition is molded by pressing and/or heating.

本発明の熱伝導性絶縁組成物は、無機フィラーと共にトリアジンジチオール系化合物を含有している。トリアジンジチオール系化合物を無機フィラーの表面に付着させることにより、トリアジンジチオール系化合物により表面修飾された無機フィラー(表面修飾無機フィラー)が得られる。当該表面修飾無機フィラーは、従来の無機フィラーに比べて分散性が高いため、高分子材料中で凝集しにくい。そのため、高分子材料中に、表面修飾無機フィラーが繋がって形成される連続体が形成されやすい。その結果、本発明の熱伝導性絶縁組成物から得られる熱伝導性絶縁成形体は、無機フィラーの含有量が少ない場合でも優れた熱伝導性を有する。 The thermally conductive insulating composition of the present invention contains a triazinedithiol compound together with an inorganic filler. By attaching the triazinedithiol-based compound to the surface of the inorganic filler, an inorganic filler surface-modified with the triazinedithiol-based compound (surface-modified inorganic filler) is obtained. Since the surface-modified inorganic filler has higher dispersibility than conventional inorganic fillers, it is less likely to agglomerate in the polymer material. Therefore, a continuum formed by connecting the surface-modified inorganic fillers is likely to be formed in the polymer material. As a result, the thermally conductive insulating molded article obtained from the thermally conductive insulating composition of the present invention has excellent thermal conductivity even when the content of the inorganic filler is small.

以下、本発明の実施の形態について説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below.

本発明の熱伝導性絶縁組成物は、高分子材料、無機フィラー、及び下記一般式(1)で表されるトリアジンジチオール系化合物を含有する。

Figure 0007220864000005
(式中、M及びMはそれぞれ独立にH、Li、Na、K、又はCsであり、RはS、O、又はNRであり、RはH、又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基、ハロゲン化アルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルコキシアルケニル基、フェニル基、ハロゲン化フェニル基、ヒドロキシフェニル基、アルコキシフェニル基、ビフェニル基、ハロゲン化ビフェニル基、ヒドロキシビフェニル基、アルコキシビフェニル基、ナフチル基、ハロゲン化ナフチル基、ヒドロキシナフチル基、アルコキシナフチル基、カルボキシル基、エステル基、ウレタン基、アゾ基、シアノ基、アミノ基、アミド基、及びアルコキシシリル基からなる群より選択される少なくとも1種の官能基を有する有機基であり、Rは前記有機基と同じであり、あるいはNRとRはヘテロ環を構成する。) The thermally conductive insulating composition of the present invention contains a polymeric material, an inorganic filler, and a triazinedithiol-based compound represented by the following general formula (1).
Figure 0007220864000005
(wherein M 1 and M 2 are each independently H, Li, Na, K, or Cs, R 1 is S, O, or NR 3 , R 3 is H, or an alkyl group, halogenated Alkyl group, hydroxyalkyl group, alkoxyalkyl group, alkenyl group, halogenated alkenyl group, hydroxyalkenyl group, alkoxyalkenyl group, phenyl group, halogenated phenyl group, hydroxyphenyl group, alkoxyphenyl group, biphenyl group, halogenated biphenyl group , hydroxybiphenyl group, alkoxybiphenyl group, naphthyl group, halogenated naphthyl group, hydroxynaphthyl group, alkoxynaphthyl group, carboxyl group, ester group, urethane group, azo group, cyano group, amino group, amide group, and alkoxysilyl group is an organic group having at least one functional group selected from the group consisting of R 2 is the same as the above organic group, or NR 3 and R 2 form a heterocyclic ring.)

<高分子材料>
高分子材料は公知のものを特に制限なく使用することができ、熱伝導性絶縁成形体の用途に応じて適宜選択する。高分子材料としては、例えば、エラストマー、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及びゴムが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Polymer material>
Any known polymeric material can be used without particular limitation, and is appropriately selected according to the application of the thermally conductive insulating molding. Polymeric materials include, for example, elastomers, thermoplastics, thermosets, and rubbers. These may be used alone or in combination of two or more.

エラストマーとしては、例えば、シリコーン系エラストマー、フッ素系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ポリアミド系エラストマー、ゴム系エラストマー、オレフィン系エラストマー、スチレン系エラストマー、塩化ビニル系エラストマー、及びポリウレタン系エラストマーなどが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of elastomers include silicone-based elastomers, fluorine-based elastomers, polyester-based elastomers, polyamide-based elastomers, rubber-based elastomers, olefin-based elastomers, styrene-based elastomers, vinyl chloride-based elastomers, and polyurethane-based elastomers. These may be used alone or in combination of two or more.

熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、熱可塑性ポリウレタン、フッ素樹脂、ABS樹脂、AS樹脂、及び(メタ)アクリル樹脂などの汎用プラスチック;ポリエステル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、及び環状ポリオレフィンなどのエンジニアリングプラスチック;ポリフェニレンスルフィド、ポリテトラフルオロエチレン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、非晶ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、熱可塑性ポリイミド、及びポリアミドイミドなどのスーパーエンジニアリングプラスチックが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of thermoplastic resins include general-purpose plastics such as polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, polyvinyl acetate, thermoplastic polyurethanes, fluororesins, ABS resins, AS resins, and (meth)acrylic resins; Engineering plastics such as polyester, polyamide, polyacetal, polycarbonate, modified polyphenylene ether, and cyclic polyolefin; polyphenylene sulfide, polytetrafluoroethylene, polysulfone, polyethersulfone, amorphous polyarylate, liquid crystal polymer, polyetheretherketone, thermoplastic polyimide , and super engineering plastics such as polyamideimide. These may be used alone or in combination of two or more.

熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、熱硬化性ポリウレタン、及び熱硬化性ポリイミドなどが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Thermosetting resins include, for example, phenolic resins, epoxy resins, melamine resins, urea resins, unsaturated polyester resins, alkyd resins, thermosetting polyurethanes, and thermosetting polyimides. These may be used alone or in combination of two or more.

ゴムとしては、例えば、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、ニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、アクリルゴム、ウレタンゴム、及びフッ素ゴムなどが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of rubber include natural rubber, isoprene rubber, styrene rubber, butadiene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, nitrile rubber, ethylene propylene rubber, acrylic rubber, urethane rubber, and fluororubber. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明においては、高分子材料としてエラストマーを用いることが好ましく、より好ましくはポリエステル系エラストマー及びポリアミド系エラストマーからなる群より選択される少なくとも1種であり、さらに好ましくはポリエステル系エラストマーである。 In the present invention, it is preferable to use an elastomer as the polymeric material, more preferably at least one selected from the group consisting of polyester elastomers and polyamide elastomers, and still more preferably polyester elastomers.

エラストマーは、高分子材料全体に対して20重量%以上用いることが好ましく、より好ましくは30重量%以上であり、さらに好ましくは40重量%以上であり、特に好ましくは100重量%である。 The elastomer content is preferably 20% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, still more preferably 40% by weight or more, and particularly preferably 100% by weight, based on the entire polymeric material.

ポリエステル系エラストマーは公知のものを特に制限なく使用することができる。ポリエステル系エラストマーとしては、例えば、ジカルボン酸とジオールの反応物が挙げられる。 A known polyester-based elastomer can be used without particular limitation. Examples of polyester-based elastomers include reaction products of dicarboxylic acids and diols.

ジカルボン酸は特に制限されず、例えば、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸、及び不飽和ジカルボン酸が挙げられる。芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、ジフェニル-4,4’-ジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、4,4′-ジフェニルスルホンジカルボン酸、1,3-フェニレンジオキシジ酢酸、及びその機能的誘導体などが挙げられる。脂肪族ジカルボン酸や脂環族ジカルボン酸としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸、テトラデカンジカルボン酸、ヘキサデカンジカルボン酸、1,3-シクロブタンジカルボン酸、1,3-シクロペンタンジカルボン酸、1,2-シクロヘキサンジカルボン酸、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、2,5-ノルボルナンジカルボン酸、ダイマー酸、及び水添ダイマー酸などが挙げられる。不飽和ジカルボン酸としては、例えば、フマル酸、及びイタコン酸などが挙げられる。また、p-オキシ安息香酸、及びオキシカプロン酸等のオキシ酸及びその機能的誘導体を用いてもよい。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Dicarboxylic acids are not particularly limited, and examples thereof include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, and unsaturated dicarboxylic acids. Examples of aromatic dicarboxylic acids include terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, diphenyl-4,4′-dicarboxylic acid, diphenoxyethanedicarboxylic acid, 4,4′-diphenylsulfonedicarboxylic acid, 1 , 3-phenylenedioxydiacetic acid, and functional derivatives thereof. Examples of aliphatic dicarboxylic acids and alicyclic dicarboxylic acids include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, decanedicarboxylic acid, dodecanedicarboxylic acid, tetradecanedicarboxylic acid, hexadecanedicarboxylic acid, 1,3-cyclobutanedicarboxylic acid, 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 2 , 5-norbornanedicarboxylic acid, dimer acid, and hydrogenated dimer acid. Examples of unsaturated dicarboxylic acids include fumaric acid and itaconic acid. Also, oxyacids such as p-oxybenzoic acid and oxycaproic acid and functional derivatives thereof may be used. These may be used alone or in combination of two or more.

ジオールは特に制限されず、例えば、芳香族グリコール、脂肪族グリコール、脂環族グリコール、及び不飽和グリコールが挙げられる。芳香族グリコールとしては、例えば、ヒドロキノン、4,4’-ジヒドロキシビスフェノール、1,4-ビス(β-ヒドロキシエトキシ)ベンゼン、1,4-ビス(β-ヒドロキシエトキシフェニル)スルホン、ビス(p-ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(p-ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(p-ヒドロキシフェニル)メタン、1,2-ビス(p-ヒドロキシフェニル)エタン、ビスフェノールA、及びビスフェノールAのアルキレンオキサイド付加物などが挙げられる。脂肪族グリコールや脂環族グリコールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-プロパンジオール、1,4-ブチレングリコール、1,2-ブチレングリコール、1,3-ブチレングリコール、2,3-ブチレングリコール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,2-シクロヘキサンジオール、1,3-シクロヘキサンジオール、1,4-シクロヘキサンジオール、1,2-シクロヘキサンジメタノール、1,3-シクロヘキサンジメタノール、1,4-シクロヘキサンジメタノール、1,4-シクロヘキサンジエタノール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2-メチル-1,5-ペンタンジオール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、2-エチル-1,3-プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、2-エチル-2-メチル-1,3-プロパンジオール、2,2-ジエチル-1,3-プロパンジオール、2-メチル-2-n-ブチル-1,3-プロパンジオール、2-n-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオール、2,2-ジ-n-ブチル-1,3-プロパンジオール、2-エチル-2-n-ヘキシル-1,3-プロパンジオール、2,2-ジ-n-ヘキシル-1,3-プロパンジオール、1,9-ノナンジオール、1,10-デカンジオール、1,12-ドデカンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリトリメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、及びポリプロピレングリコールなどが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Diols are not particularly limited and include, for example, aromatic glycols, aliphatic glycols, alicyclic glycols, and unsaturated glycols. Examples of aromatic glycols include hydroquinone, 4,4′-dihydroxybisphenol, 1,4-bis(β-hydroxyethoxy)benzene, 1,4-bis(β-hydroxyethoxyphenyl)sulfone, bis(p-hydroxy phenyl)ether, bis(p-hydroxyphenyl)sulfone, bis(p-hydroxyphenyl)methane, 1,2-bis(p-hydroxyphenyl)ethane, bisphenol A, and alkylene oxide adducts of bisphenol A. . Examples of aliphatic glycols and alicyclic glycols include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butylene glycol, 1,2-butylene glycol, 1,3-butylene glycol, 2,3 -butylene glycol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,2-cyclohexanediol, 1,3-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,3 -cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanediethanol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2-methyl-1,5-pentanediol, 2-methyl-1,3- Propanediol, 2-ethyl-1,3-propanediol, neopentyl glycol, 2-ethyl-2-methyl-1,3-propanediol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 2-methyl- 2-n-butyl-1,3-propanediol, 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 2,2-di-n-butyl-1,3-propanediol, 2-ethyl -2-n-hexyl-1,3-propanediol, 2,2-di-n-hexyl-1,3-propanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 1,12-dodecane Diol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, polytrimethylene glycol, polytetramethylene glycol, polypropylene glycol and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

また、3官能以上の多価カルボン酸を用いてもよい。前記多価カルボン酸としては、例えば、トリメリット酸、ピロメリット酸、メチルシクロへキセントリカルボン酸、オキシジフタル酸二無水物(ODPA)、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)、3,3’,4,4’-ジフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物(DSDA)、4,4’-(ヘキサフロロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)、及び2,2’-ビス[(ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物(BSAA)などが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Moreover, you may use polyhydric carboxylic acid more than trifunctional. Examples of the polyvalent carboxylic acid include trimellitic acid, pyromellitic acid, methylcyclohexene tricarboxylic acid, oxydiphthalic dianhydride (ODPA), and 3,3′,4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride. (BTDA), 3,3′,4,4′-diphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), 3,3′,4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride (DSDA), 4,4 '-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA) and 2,2'-bis[(dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride (BSAA). These may be used alone or in combination of two or more.

また、3官能以上の多価アルコールを用いてもよい。前記多価アルコールとしては、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチロールペンタン、及びトリメチロールプロパンなどが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Moreover, you may use the polyhydric alcohol more than trifunctional. Examples of the polyhydric alcohol include glycerin, pentaerythritol, trimethylolethane, trimethylolpentane, and trimethylolpropane. These may be used alone or in combination of two or more.

ポリエステル系エラストマーは、好ましくは、ハードセグメントが芳香族ジカルボン酸と脂肪族又は脂環族ジオールとのポリエステルで構成され、ソフトセグメントが脂肪族ポリエーテル、脂肪族ポリエステル、及び脂肪族ポリカーボネートからなる群より選ばれる1種以上で構成され、前記ハードセグメントと前記ソフトセグメントが結合してなるものである。 The polyester-based elastomer is preferably selected from the group in which the hard segment is composed of a polyester of an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic or alicyclic diol, and the soft segment is composed of an aliphatic polyether, an aliphatic polyester, and an aliphatic polycarbonate. It is composed of one or more selected types, and is formed by combining the hard segment and the soft segment.

ハードセグメントのポリエステルを構成する芳香族ジカルボン酸としては、一般的な芳香族ジカルボン酸が広く用いられ、例えば、テレフタル酸又はナフタレンジカルボン酸(異性体の中では2,6-ナフタレンジカルボン酸が好ましい)が挙げられる。その他のジカルボン酸としては、ジフェニルジカルボン酸、イソフタル酸、及び5-ナトリウムスルホイソフタル酸などの芳香族ジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、及びテトラヒドロ無水フタル酸などの脂環族ジカルボン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、ダイマー酸、及び水添ダイマー酸などの脂肪族ジカルボン酸などが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 As the aromatic dicarboxylic acid constituting the polyester of the hard segment, a general aromatic dicarboxylic acid is widely used, for example, terephthalic acid or naphthalenedicarboxylic acid (among the isomers, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid is preferred). is mentioned. Other dicarboxylic acids include aromatic dicarboxylic acids such as diphenyldicarboxylic acid, isophthalic acid, and 5-sodiumsulfoisophthalic acid, alicyclic dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid and tetrahydrophthalic anhydride, succinic acid, and glutaric acid. , adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid, dimer acid, and hydrogenated dimer acid. These may be used alone or in combination of two or more.

ハードセグメントのポリエステルを構成する脂肪族又は脂環族ジオールとしては、一般的な脂肪族又は脂環族ジオールが広く用いられ、炭素数2~8のアルキレングリコール類が好ましい。具体的には、エチレングリコール、1,3-プロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、及び1,4-シクロヘキサンジメタノールなどが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、エチレングリコール及び1,4-ブタンジオールから選択される少なくとも1種であることが好ましい。 As the aliphatic or alicyclic diol constituting the hard segment polyester, general aliphatic or alicyclic diols are widely used, and alkylene glycols having 2 to 8 carbon atoms are preferred. Specific examples include ethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, and 1,4-cyclohexanedimethanol. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, at least one selected from ethylene glycol and 1,4-butanediol is preferable.

ハードセグメントのポリエステルを構成する成分としては、物性、成形性、及びコストパフォーマンスの観点から、ブチレンテレフタレート単位(テレフタル酸と1,4-ブタンジオールからなる単位)又はブチレンナフタレート単位(2,6-ナフタレンジカルボン酸と1,4-ブタンジオールからなる単位)を含むものが好ましい。 From the viewpoint of physical properties, moldability, and cost performance, the components that make up the hard segment polyester include butylene terephthalate units (units consisting of terephthalic acid and 1,4-butanediol) or butylene naphthalate units (2,6- Units consisting of naphthalenedicarboxylic acid and 1,4-butanediol) are preferred.

ハードセグメントを構成するポリエステルとして好適な芳香族ポリエステルを事前に製造し、その後ソフトセグメント成分と共重合させる場合、当該芳香族ポリエステルは、通常のポリエステルの製造法に従って容易に得ることができる。また、かかるポリエステルの数平均分子量は、1000~40000であることが好ましい。 When an aromatic polyester suitable as the polyester constituting the hard segment is produced in advance and then copolymerized with the soft segment component, the aromatic polyester can be easily obtained according to a normal polyester production method. Moreover, the number average molecular weight of such polyester is preferably 1,000 to 40,000.

ソフトセグメントは、脂肪族ポリエーテル、脂肪族ポリエステル、及び脂肪族ポリカーボネートから選ばれる少なくとも1種である。 The soft segment is at least one selected from aliphatic polyethers, aliphatic polyesters, and aliphatic polycarbonates.

脂肪族ポリエーテルとしては、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、ポリ(プロピレンオキシド)グリコール、ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコール、ポリ(ヘキサメチレンオキシド)グリコール、ポリ(トリメチレンオキシド)グリコール、エチレンオキシドとプロピレンオキシドの共重合体、ポリ(プロピレンオキシド)グリコールのエチレンオキシド付加物、及びエチレンオキシドとテトラヒドロフランの共重合体などが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、弾性特性の点から、ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコール、及びポリ(プロピレンオキシド)グリコールのエチレンオキシド付加物から選択される少なくとも1種であることが好ましい。 Aliphatic polyethers include poly(ethylene oxide) glycol, poly(propylene oxide) glycol, poly(tetramethylene oxide) glycol, poly(hexamethylene oxide) glycol, poly(trimethylene oxide) glycol, co-polymer of ethylene oxide and propylene oxide. polymers, ethylene oxide adducts of poly(propylene oxide) glycol, and copolymers of ethylene oxide and tetrahydrofuran. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, at least one selected from poly(tetramethylene oxide) glycol and an ethylene oxide adduct of poly(propylene oxide) glycol is preferred from the viewpoint of elastic properties.

脂肪族ポリエステルとしては、ポリ(ε-カプロラクトン)、ポリエナントラクトン、ポリカプリロラクトン、及びポリブチレンアジペートなどが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、弾性特性の点から、ポリ(ε-カプロラクトン)、及びポリブチレンアジペートから選択される少なくとも1種であることが好ましい。 Aliphatic polyesters include poly(ε-caprolactone), polyenantholactone, polycapryrolactone, and polybutylene adipate. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, at least one selected from poly(ε-caprolactone) and polybutylene adipate is preferable from the viewpoint of elastic properties.

脂肪族ポリカーボネートは、炭素数2~12の脂肪族ジオール残基を含むものであることが好ましい。前記脂肪族ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、1,3-プロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,8-オクタンジオール、2,2-ジメチル-1,3-プロパンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、2,4-ジエチル-1,5-ペンタンジオール、1,9-ノナンジオール、及び2-メチル-1,8-オクタンジオールなどが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。特に、得られるポリエステル系エラストマーの柔軟性や低温特性の観点から、炭素数5~12の脂肪族ジオールが好ましい。 The aliphatic polycarbonate preferably contains an aliphatic diol residue having 2 to 12 carbon atoms. Examples of the aliphatic diol include ethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 2,2 -dimethyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, and 2-methyl-1,8- octanediol and the like. These may be used alone or in combination of two or more. In particular, aliphatic diols having 5 to 12 carbon atoms are preferred from the viewpoint of the flexibility and low-temperature properties of the resulting polyester-based elastomer.

ソフトセグメントを構成する、低温特性が良好な脂肪族ポリカーボネートジオールとしては、融点が低く(例えば、70℃以下)かつ、ガラス転移温度が低いものが好ましい。一般に、ポリエステル系エラストマーのソフトセグメントの形成に用いられる1,6-ヘキサンジオールを含む脂肪族ポリカーボネートジオールは、ガラス転移温度が-60℃前後と低く、融点も50℃前後となるため、ポリエステル系エラストマーの低温特性が良好なものとなる。その他にも、前記脂肪族ポリカーボネートジオールに、例えば、3-メチル-1,5-ペンタンジオールを適当量共重合して得られる脂肪族ポリカーボネートジオールは、元の脂肪族ポリカーボネートジオールに対してガラス転移点が若干高くなるものの、融点が低下もしくは非晶性となるため、低温特性が良好な脂肪族ポリカーボネートジオールである。また、例えば、1,9-ノナンジオールと2-メチル-1,8-オクタンジオールを含む脂肪族ポリカーボネートジオールは、融点が30℃程度、ガラス転移温度が-70℃前後と十分に低いため、低温特性が良好な脂肪族ポリカーボネートジオールである。 As the aliphatic polycarbonate diol which constitutes the soft segment and which has good low-temperature properties, one having a low melting point (for example, 70° C. or lower) and a low glass transition temperature is preferred. Aliphatic polycarbonate diols containing 1,6-hexanediol, which are generally used to form soft segments of polyester elastomers, have a low glass transition temperature of around -60°C and a melting point of around 50°C. The low-temperature characteristics of are good. In addition, an aliphatic polycarbonate diol obtained by copolymerizing an appropriate amount of, for example, 3-methyl-1,5-pentanediol with the above-mentioned aliphatic polycarbonate diol has a glass transition point higher than that of the original aliphatic polycarbonate diol. Although the melting point is lowered or becomes amorphous, the aliphatic polycarbonate diol has good low-temperature properties. In addition, for example, an aliphatic polycarbonate diol containing 1,9-nonanediol and 2-methyl-1,8-octanediol has a melting point of about 30°C and a glass transition temperature of about -70°C, which are sufficiently low. It is an aliphatic polycarbonate diol with good properties.

ポリエステル系エラストマーのソフトセグメントとしては、本発明の課題を解決する観点から、脂肪族ポリエーテルが好ましい。 From the viewpoint of solving the problems of the present invention, the soft segment of the polyester-based elastomer is preferably an aliphatic polyether.

ポリエステル系エラストマーは、テレフタル酸、イソフタル酸、1,4-ブタンジオール、及びポリ(テトラメチレンオキシド)グリコールを主たる成分とする共重合体であることが好ましい。ポリエステル系エラストマーを構成するジカルボン酸成分中、テレフタル酸およびイソフタル酸の合計は40モル%以上であることが好ましく、70モル%以上であることがより好ましく、80モル%以上であることがさらに好ましく、90モル%以上であることが特に好ましい。ポリエステル系エラストマーを構成するジオール成分中、1,4-ブタンジオールとポリ(テトラメチレンオキシド)グリコールの合計は40モル%以上であることが好ましく、70モル%以上であることがより好ましく、80モル%以上であることがさらに好ましく、90モル%以上であることが特に好ましい。 The polyester-based elastomer is preferably a copolymer containing terephthalic acid, isophthalic acid, 1,4-butanediol, and poly(tetramethylene oxide) glycol as main components. The total amount of terephthalic acid and isophthalic acid in the dicarboxylic acid component constituting the polyester elastomer is preferably 40 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, and even more preferably 80 mol% or more. , is particularly preferably 90 mol % or more. Among the diol components constituting the polyester elastomer, the total amount of 1,4-butanediol and poly(tetramethylene oxide) glycol is preferably 40 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, and 80 mol. % or more, and particularly preferably 90 mol % or more.

前記ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコールの数平均分子量は、500~4000であることが好ましい。数平均分子量が500未満であると、エラストマー特性を発現しにくい場合がある。一方、数平均分子量が4000を超えると、ハードセグメント成分との相溶性が低下し、ブロック状に共重合することが難しくなる場合がある。ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコールの数平均分子量は、800~3000であることがより好ましく、1000~2500であることがさらに好ましい。 The poly(tetramethylene oxide) glycol preferably has a number average molecular weight of 500-4000. If the number average molecular weight is less than 500, it may be difficult to develop elastomeric properties. On the other hand, if the number average molecular weight exceeds 4,000, the compatibility with the hard segment component may be lowered, making block-like copolymerization difficult. The number average molecular weight of poly(tetramethylene oxide) glycol is more preferably 800-3000, more preferably 1000-2500.

ポリエステル系エラストマーにおいて、ソフトセグメントの含有量は、20~80質量%が好ましく、より好ましくは20~70質量%、さらに好ましくは20~50質量%である。ソフトセグメントの含有量が20質量%よりも低いと、結晶性が高すぎるため、衝撃吸収性に劣り、80質量%を超えると、結晶性が低下しすぎるため、発泡成形性に劣る傾向にある。 In the polyester-based elastomer, the soft segment content is preferably 20 to 80% by mass, more preferably 20 to 70% by mass, still more preferably 20 to 50% by mass. If the content of the soft segment is less than 20% by mass, the crystallinity is too high, resulting in poor impact absorption. .

ポリエステル系エラストマーは、公知の方法で製造することができる。例えば、ジカルボン酸の低級アルコールジエステル、過剰量の低分子量グリコール、及びソフトセグメント成分を触媒の存在下でエステル交換反応させ、得られた反応生成物を重縮合する方法、ジカルボン酸と過剰量のグリコールとソフトセグメント成分を触媒の存在下でエステル化反応させ、得られた反応生成物を重縮合する方法、予めハードセグメントのポリエステルを作っておき、これにソフトセグメント成分を添加してエステル交換反応によりランダム化させる方法、ハードセグメントとソフトセグメントを鎖連結剤でつなぐ方法、ポリ(ε-カプロラクトン)をソフトセグメントに用いる場合は、ハードセグメントにε-カプロラクトンモノマーを付加反応させる方法などが挙げられ、いずれの方法をとってもよい。 A polyester-based elastomer can be produced by a known method. For example, a method of subjecting a lower alcohol diester of a dicarboxylic acid, an excessive amount of a low molecular weight glycol, and a soft segment component to a transesterification reaction in the presence of a catalyst, and polycondensing the resulting reaction product, a dicarboxylic acid and an excessive amount of glycol. and the soft segment component are subjected to an esterification reaction in the presence of a catalyst, and the resulting reaction product is polycondensed. A method of randomizing, a method of connecting the hard segment and the soft segment with a chain linking agent, and a method of adding ε-caprolactone monomer to the hard segment when poly (ε-caprolactone) is used for the soft segment. You can take the method of

ポリエステル系エラストマーの組成及び組成比を決定する方法としては、例えば、試料を重クロロホルム等の溶剤に溶解して測定するH-NMRのプロトン積分比から算出する方法が挙げられる。 Methods for determining the composition and composition ratio of the polyester elastomer include, for example, a method of calculating from the proton integral ratio of 1 H-NMR measured by dissolving a sample in a solvent such as heavy chloroform.

ポリアミド系エラストマーは公知のものを特に制限なく使用することができる。ポリアミド系エラストマーとしては、例えば、ハードセグメントが、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン11、ナイロン12、又はそれらの共重合ナイロンであり、ソフトセグメントが、平均分子量が約300~5000のポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、及びエチレンオキシド-プロピレンオキシド共重合体等のポリアルキレンジオールから構成されるブロックを1種以上含むものが挙げられる。さらに、非エラストマー成分がブレンドされたもの、共重合されたもの等が挙げられる。 Known polyamide-based elastomers can be used without particular limitations. As the polyamide-based elastomer, for example, the hard segment is nylon 6, nylon 66, nylon 610, nylon 612, nylon 11, nylon 12, or their copolymerized nylon, and the soft segment has an average molecular weight of about 300 to 5000. polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, and ethylene oxide-propylene oxide copolymer containing one or more blocks composed of polyalkylenediol. Furthermore, those in which non-elastomeric components are blended or copolymerized may be mentioned.

<無機フィラー>
無機フィラーは公知のものを特に制限なく使用することができる。無機フィラーとしては、例えば、アルミニウム、銅、ニッケル;アルミナ、酸化マグネシウム、酸化ベリリウム、酸化クロム、酸化チタン;窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化シリコン、窒化チタン、窒化タンタル、窒化クロム;ホウ化チタン、ホウ化ジルコニウム、ホウ化ハフニウム、ホウ化イットリウム、ホウ化バナジウム、2ホウ化マグネシウム、ホウ化ニオブ、ホウ化タンタル、ホウ化タリウム;炭化ホウ素、炭化チタン、炭化ジルコニウム、炭化バナジウム、炭化ニオブ、炭化タンタル、炭化クロム、炭化モリブデン、炭化タングステン、炭化IIタングステン炭化珪素;Fe-Si合金、Fe-Al合金、Fe-Si-Al合金、Fe-Si-Cr合金、Fe-Ni合金、Fe-Ni-Co合金、Fe-Ni-Mo合金、Fe-Co合金、Fe-Si-Al-Cr合金、Fe-Si-B合金、Fe-Si-Co-B合金;Mn-Znフェライト、Mn-Mg-Znフェライト、Mg-Cu-Znフェライト、Ni-Znフェライト、Ni-Cu-Znフェライト、Cu-Znフェライトなどが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Inorganic filler>
Any known inorganic filler can be used without any particular limitation. Examples of inorganic fillers include aluminum, copper, nickel; alumina, magnesium oxide, beryllium oxide, chromium oxide, titanium oxide; boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride, tantalum nitride, chromium nitride; titanium boride, boron Zirconium boride, hafnium boride, yttrium boride, vanadium boride, magnesium diboride, niobium boride, tantalum boride, thallium boride; boron carbide, titanium carbide, zirconium carbide, vanadium carbide, niobium carbide, tantalum carbide, Chromium carbide, molybdenum carbide, tungsten carbide, tungsten carbide II, silicon carbide; Fe—Si alloy, Fe—Al alloy, Fe—Si—Al alloy, Fe—Si—Cr alloy, Fe—Ni alloy, Fe—Ni—Co alloy , Fe—Ni—Mo alloy, Fe—Co alloy, Fe—Si—Al—Cr alloy, Fe—Si—B alloy, Fe—Si—Co—B alloy; Mn—Zn ferrite, Mn—Mg—Zn ferrite, Examples include Mg--Cu--Zn ferrite, Ni--Zn ferrite, Ni--Cu--Zn ferrite and Cu--Zn ferrite. These may be used alone or in combination of two or more.

これらのうち、熱伝導性及び電気絶縁性の観点から、好ましくは、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化ベリリウム、酸化クロム、酸化チタン、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化シリコン、窒化チタン、窒化クロム、窒化タンタル、ホウ化チタン、ホウ化ジルコニウム、ホウ化ハフニウム、ホウ化イットリウム、ホウ化バナジウム、2ホウ化マグネシウム、ホウ化ニオブ、ホウ化タンタル、ホウ化タリウム、及びホウ化モリブデンからなる群より選択される少なくとも1種であり、より好ましくは、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化ベリリウム、酸化クロム、酸化チタン、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化シリコン、窒化チタン、窒化クロム、ホウ化チタン、ホウ化ジルコニウム、ホウ化ハフニウム、ホウ化イットリウム、ホウ化バナジウム、2ホウ化マグネシウム、ホウ化ニオブ、ホウ化タンタル、ホウ化タリウム、及びホウ化モリブデンからなる群より選択される少なくとも1種であり、さらに好ましくは、窒化アルミニウム及び窒化ホウ素からなる群より選択される少なくとも1種である。 Among these, from the viewpoint of thermal conductivity and electrical insulation, preferably alumina, magnesium oxide, magnesium oxide, beryllium oxide, chromium oxide, titanium oxide, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride, chromium nitride, selected from the group consisting of tantalum nitride, titanium boride, zirconium boride, hafnium boride, yttrium boride, vanadium boride, magnesium diboride, niobium boride, tantalum boride, thallium boride, and molybdenum boride More preferably, alumina, magnesium oxide, magnesium oxide, beryllium oxide, chromium oxide, titanium oxide, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride, chromium nitride, titanium boride, zirconium boride , hafnium boride, yttrium boride, vanadium boride, magnesium diboride, niobium boride, tantalum boride, thallium boride, and molybdenum boride, more preferably , aluminum nitride and boron nitride.

無機フィラーは、長さ・幅・厚み方向で極端な差がない粒子であることが好ましく、アスペクト比は0.8~1.0であることが好ましい。無機フィラーの形状は、球状だけでなく、針状、塊状、立方体、又は十二面体といった多面体状であってもよい。 The inorganic filler is preferably particles with no extreme difference in the length, width, and thickness directions, and preferably has an aspect ratio of 0.8 to 1.0. The shape of the inorganic filler may be not only spherical but also polyhedral such as acicular, massive, cubic, or dodecahedron.

無機フィラーの粒径は特に制限されないが、好ましくは0.1~500μm、より好ましくは0.5~300μm、さらに好ましくは1~200μm以上であり、粒径が500μmを超えると、熱伝導性、表面外観の観点から好ましくなく、粒径が0.1μm未満では、分散性が低下したり、コストアップになり好ましくない傾向を示す。 Although the particle size of the inorganic filler is not particularly limited, it is preferably 0.1 to 500 μm, more preferably 0.5 to 300 μm, and still more preferably 1 to 200 μm or more. It is not preferable from the viewpoint of surface appearance, and if the particle size is less than 0.1 μm, the dispersibility tends to decrease and the cost increases, which is not preferable.

熱伝導性絶縁組成物中における無機フィラーの含有量は特に制限されないが、優れた熱伝導性を得る観点から、前記高分子材料100質量部に対して、好ましくは20~400質量部であり、より好ましくは25~350質量部であり、さらに好ましくは30~300質量部であり、20質量部未満では、熱伝導性が低下する傾向になり、400質量部を超えると、柔軟性が低下する傾向にある。 The content of the inorganic filler in the thermally conductive insulating composition is not particularly limited, but from the viewpoint of obtaining excellent thermal conductivity, it is preferably 20 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer material, More preferably 25 to 350 parts by mass, more preferably 30 to 300 parts by mass. If it is less than 20 parts by mass, thermal conductivity tends to decrease, and if it exceeds 400 parts by mass, flexibility decreases. There is a tendency.

<トリアジンジチオール系化合物>
本発明で用いられるトリアジンジチオール系化合物は、下記一般式(1)で表される。トリアジンジチオール系化合物は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。

Figure 0007220864000006

(式中、M及びMはそれぞれ独立にH、Li、Na、K、又はCsであり、RはS、O、又はNRであり、RはH、又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基、ハロゲン化アルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルコキシアルケニル基、フェニル基、ハロゲン化フェニル基、ヒドロキシフェニル基、アルコキシフェニル基、ビフェニル基、ハロゲン化ビフェニル基、ヒドロキシビフェニル基、アルコキシビフェニル基、ナフチル基、ハロゲン化ナフチル基、ヒドロキシナフチル基、アルコキシナフチル基、カルボキシル基、エステル基、ウレタン基、アゾ基、シアノ基、アミノ基、アミド基、及びアルコキシシリル基からなる群より選択される少なくとも1種の官能基を有する有機基であり、Rは前記有機基と同じであり、あるいはNRとRはヘテロ環を構成する。) <Triazinedithiol compound>
The triazinedithiol-based compound used in the present invention is represented by the following general formula (1). The triazinedithiol-based compound may be used singly or in combination of two or more.
Figure 0007220864000006

(wherein M 1 and M 2 are each independently H, Li, Na, K, or Cs, R 1 is S, O, or NR 3 , R 3 is H, or an alkyl group, halogenated Alkyl group, hydroxyalkyl group, alkoxyalkyl group, alkenyl group, halogenated alkenyl group, hydroxyalkenyl group, alkoxyalkenyl group, phenyl group, halogenated phenyl group, hydroxyphenyl group, alkoxyphenyl group, biphenyl group, halogenated biphenyl group , hydroxybiphenyl group, alkoxybiphenyl group, naphthyl group, halogenated naphthyl group, hydroxynaphthyl group, alkoxynaphthyl group, carboxyl group, ester group, urethane group, azo group, cyano group, amino group, amide group, and alkoxysilyl group is an organic group having at least one functional group selected from the group consisting of R 2 is the same as the above organic group, or NR 3 and R 2 form a heterocyclic ring.)

前記アルキル基は、直鎖状、分岐状、又は環状のいずれであってもよい。前記アルキル基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~40であり、より好ましくは1~30である。 The alkyl group may be linear, branched, or cyclic. Although the number of carbon atoms in the alkyl group is not particularly limited, it is preferably 1-40, more preferably 1-30.

前記アルケニル基は、直鎖、分岐、又は環状のいずれであってもよい。前記アルケニル基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~40であり、より好ましくは1~30である。 The alkenyl group may be linear, branched or cyclic. Although the number of carbon atoms in the alkenyl group is not particularly limited, it is preferably 1-40, more preferably 1-30.

前記ハロゲンは特に制限されず、例えば、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素が挙げられる。 The halogen is not particularly limited, and examples thereof include fluorine, chlorine, bromine, and iodine.

前記アルコキシ基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~40であり、より好ましくは1~30である。 Although the number of carbon atoms in the alkoxy group is not particularly limited, it is preferably 1-40, more preferably 1-30.

前記トリアジンジチオール系化合物は、下記一般式(2)~(4)で表されるトリアジンジチオール系化合物の少なくとも1種であることが好ましい。

Figure 0007220864000007

(式中、M、M、R、及びRは前記と同じである。) The triazinedithiol-based compound is preferably at least one triazinedithiol-based compound represented by the following general formulas (2) to (4).
Figure 0007220864000007

(In the formula, M 1 , M 2 , R 2 and R 3 are the same as above.)

前記一般式(2)において、Rは、好ましくは、-H、-CH、-C、-C、-CHCHCN、又は-CHCH=CHであり、Rは、好ましくは、-C16CH=CHC17、-C16CH=CH、-CCH=CHC、-CCH=CHCOCH、-CCH=CH、-CHCH=CH、-CHCH=CH、-CHNHCOC(CH)=CH、-CNHC、-CN=NC、-C[C(CHOH、-C、-C、-CHCOOH、-CHCOOC、-CHCOOC17、-CHCH(C、-CHCHOH、-CHCHCHCHOH、-CH(CHCHOH、-CHCH(CH)OH、-COH、-C10OH、-CH、-CH13、-CH15、-CH17、-CHCH、-CHCH13、-CHCH17、-CHCH1021、-CHCHCH17、-C17、-C、-C、-CSi(OCH、-CSi(OCH、-C12Si(OCH、-C1020Si(OCH、-CHCHNHCSi(OCH、-CSi(OC、-CSi(OCHCH、-CSi(CHOCH、又は-CSi(CHOSi(CHである。 In the general formula (2), R 3 is preferably -H, -CH 3 , -C 2 H 5 , -C 3 H 7 , -CH 2 CH 2 CN, or -CH 2 CH=CH 2 and R 2 is preferably -C 8 H 16 CH=CHC 8 H 17 , -C 8 H 16 CH=CH 2 , -C 6 H 4 CH=CHC 6 H 5 , -C 6 H 4 CH= CHC6H4OCH3 , -C6H4CH = CH2 , -CH2C6H4CH =CH2 , -CH2CH = CH2 , -CH2NHCOC ( CH3 )= CH2 , - C6H4NHC6H5 , -C6H4N = NC6H5 , -C6H2 [ C ( CH3 ) 3 ] 2OH , -C6H4C6H5 , -C6 H4C6H4C6H5 , -CH2COOH , -CH2COOC2H5 , -CH2COOC8H17 , -CH2CH ( C6H5 ) 2 , -CH2CH2OH _ _ _ , —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OH, —CH 2 (CH 2 ) 8 CH 2 OH, —CH 2 CH(CH 3 )OH, —C 6 H 4 OH, —C 10 H 6 OH, —CH 2C4F9 , -CH2C6F13 , -CH2C7F15 , -CH2C8F17 , -CH2CH2C4F9 , -CH2CH2C6F13 , _ _ _ _ _ _ _ _ -CH2CH2C8F17 , -CH2CH2C10F21 , -CH2CH2CH2C8F17 , -C6H4C8F17 , -C6H4C4F _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ 9 , —C 6 F 5 , —C 3 H 6 Si(OCH 3 ) 3 , —C 4 H 8 Si(OCH 3 ) 3 , —C 6 H 12 Si(OCH 3 ) 3 , —C 10 H 20 Si ( OCH3 ) 3 , -CH2CH2NHC3H6Si ( OCH3 ) 3 , -C3H6Si ( OC2H5 ) 3 , -C3H6Si( OCH3 ) 2CH3 , —C 3 H 6 Si(CH 3 ) 2 OCH 3 , or —C 3H6Si ( CH3 ) 2OSi ( CH3 ) 3 .

あるいは、前記一般式(2)において、RとRは同一であって、好ましくは、-CHCH=CH、-C16CH=CHC17、-C16CH=CH、-CCH=CHC、-CCH=CHCOCH、-CCH=CH、-CHCH=CH、-CHCH=CH、-CHNHCOC(CH)=CH、-CNHC、-CN=NC、-C[C(CHOH、-C、-C、-CHCOOH、-CHCOOC、-CHCOOC17、-CHCH(C、-CHCHOH、-CHCHCHCHOH、-CH(CHCHOH、-CHCH(CH)OH、-COH、-C10OH、-CH、-CH13、-CH17、-CHCH、-CHCH13、-CHCH17、-CHCH1021、-CHCHCH17、-C17、-C、-C、-CSi(OCH、-CSi(OCH、-C12Si(OCH、-C1020Si(OCH、-CHCHNHCSi(OCH、-CSi(OC、-CSi(OCHCH、-CSi(CHOCH、又は-CSi(CHOSi(CHである。 Alternatively, in the general formula (2), R 3 and R 2 are the same, preferably -CH 2 CH=CH 2 , -C 8 H 16 CH=CHC 8 H 17 , -C 8 H 16 CH = CH2 , -C6H4CH = CHC6H5 , -C6H4CH = CHC6H4OCH3 , -C6H4CH = CH2 , -CH2C6H4CH = CH 2 , -CH2CH = CH2 , -CH2NHCOC ( CH3 ) = CH2 , -C6H4NHC6H5 , -C6H4N= NC6H5 , -C6H2 [ C ( CH3 ) 3 ] 2OH , -C6H4C6H5 , -C6H4C6H4C6H5 , -CH2COOH , -CH2COOC2H5 , -CH2 _ COOC8H17 , -CH2CH ( C6H5 ) 2 , -CH2CH2OH , -CH2CH2CH2CH2OH , -CH2 ( CH2 ) 8CH2OH , -CH2 CH ( CH3 ) OH , -C6H4OH , -C10H6OH , -CH2C4F9 , -CH2C6F13 , -CH2C8F17 , -CH2CH2 C4F9 , -CH2CH2C6F13 , -CH2CH2C8F17 , -CH2CH2C10F21 , -CH2CH2CH2C8F17 , -C6 _ _ _ _ _ _ _ _ _ H4C8F17 , -C6H4C4F9 , -C6F5 , -C3H6Si ( OCH3 ) 3 , -C4H8Si ( OCH3 ) 3 , -C6 H12Si ( OCH3 ) 3 , -C10H20Si ( OCH3 ) 3 , -CH2CH2NHC3H6Si ( OCH3 ) 3 , -C3H6Si ( OC2H5 ) 3 , —C 3 H 6 Si(OCH 3 ) 2 CH 3 , —C 3 H 6 Si(CH 3 ) 2 OCH 3 , or —C 3 H 6 Si(CH 3 ) 2 OSi(CH 3 ) 3 .

あるいは、前記一般式(2)において、NとRとRはヘテロ環を構成し、RとRは、好ましくは、-(CHCHCHOH、-(CHCHCHOCOC17CH=CH、-(CHCHCHOCH、又は-(CHCHCHOCOC(CH)=CHである。 Alternatively, in the general formula (2), N, R 3 and R 2 form a heterocyclic ring, and R 3 and R 2 are preferably —(CH 2 CH 2 ) 2 CHOH, —(CH 2 CH 2 ) 2CHOCOC 8 H 17 CH=CH 2 , -(CH 2 CH 2 ) 2 CHOCH 3 , or -(CH 2 CH 2 ) 2 CHOCOC(CH 3 )=CH 2 .

Figure 0007220864000008

(式中、M及びMは前記と同じであり、RはS、O、-NHCHCHO-、-N(CH)CHCHO-、-N(C)CHCHO-、-NHCHCHCHCHO-、-N(C)CHCHCHCHO-、-NHCH(CHCHO-、-NHCHCH(CH)O-、-NHCO-、-N(C)CO-、-NHC10O-、-N(CHCHCHO-、-N(CHCHNCHCHO-、-N(CHCHOH)CHCHO-、-N(CHCHCHOH)CHCHCHO-、-N(CHCH(CH)OH)CHCH(CH)O-、-N(CHCHCHCHOH)CHCHCHCHO-、-NHCHO-、-NHC11O-、又は-N(C)CO-であり、Rはアルキレン基であり、Rはアルコキシ基であり、R及びRはそれぞれ独立にアルコキシ基又はアルキル基である。)
Figure 0007220864000008

(wherein M 1 and M 2 are the same as above, R 1 is S, O, -NHCH 2 CH 2 O-, -N(CH 3 )CH 2 CH 2 O-, -N(C 3 H 7 ) CH2CH2O- , -NHCH2CH2CH2CH2O- , -N ( C2H5 ) CH2CH2CH2CH2O- , -NHCH2 ( CH2 ) 8CH2 O—, —NHCH 2 CH(CH 3 )O—, —NHC 6 H 4 O—, —N(C 2 H 5 )C 6 H 4 O—, —NHC 10 H 6 O—, —N(CH 2 CH2 ) 2CHO- , -N( CH2CH2 ) 2NCH2CH2O- , -N ( CH2CH2OH ) CH2CH2O- , -N( CH2CH2CH2OH ) CH2CH2CH2O- , -N ( CH2CH ( CH3 ) OH ) CH2CH ( CH3 ) O- , -N (CH2CH2CH2CH2OH) CH2CH2CH2 CH 2 O—, —NHCH 2 C 6 H 4 O—, —NHC 6 H 11 O—, or —N(C 3 H 7 )C 6 H 4 O—, R 4 is an alkylene group, R 5 is an alkoxy group, and R6 and R7 are each independently an alkoxy group or an alkyl group.)

前記一般式(3)において、Rのアルキレン基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~40であり、より好ましくは1~30である。また、R~Rのアルコキシ基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~30であり、より好ましくは1~20である。また、R及びRのアルキル基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~30であり、より好ましくは1~20である。 In general formula (3), the number of carbon atoms in the alkylene group of R 4 is not particularly limited, but is preferably 1-40, more preferably 1-30. Although the number of carbon atoms in the alkoxy groups of R 5 to R 7 is not particularly limited, it is preferably 1-30, more preferably 1-20. Although the number of carbon atoms in the alkyl groups of R 6 and R 7 is not particularly limited, it is preferably 1-30, more preferably 1-20.

Figure 0007220864000009
(式中、M、M、及びR~Rは前記と同じであり、Rは水素又はアルキル基であり、Rはアルキレン基又はアルキレンオキシ基であり、RとRは互いに結合して環を形成してもよい。)
Figure 0007220864000009
(wherein M 1 , M 2 and R 5 to R 7 are the same as above, R 8 is hydrogen or an alkyl group, R 9 is an alkylene group or an alkyleneoxy group, R 8 and R 9 may combine with each other to form a ring.)

前記一般式(4)において、R~Rのアルコキシ基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~30であり、より好ましくは1~20である。また、R及びRのアルキル基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~30であり、より好ましくは1~20である。Rのアルキル基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~30であり、より好ましくは1~20である。Rのアルキレン基又はアルキレンオキシ基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~20であり、より好ましくは1~15である。RとRとが結合して形成する環としては、5員環及び6員環等が挙げられ、RとRとは結合して、プロパントリイル基(5員環を形成する場合)、ブタントリイル基(6員環を形成する場合)等を形成する。 In general formula (4), the number of carbon atoms in the alkoxy group represented by R 5 to R 7 is not particularly limited, but is preferably 1-30, more preferably 1-20. Although the number of carbon atoms in the alkyl groups of R 6 and R 7 is not particularly limited, it is preferably 1-30, more preferably 1-20. Although the number of carbon atoms in the alkyl group of R 8 is not particularly limited, it is preferably 1-30, more preferably 1-20. The number of carbon atoms in the alkylene group or alkyleneoxy group of R 9 is not particularly limited, but is preferably 1-20, more preferably 1-15. Examples of the ring formed by combining R 8 and R 9 include a 5-membered ring and a 6-membered ring. R 8 and R 9 combine to form a propanetriyl group (a 5-membered ring case), butanetriyl group (when forming a 6-membered ring), and the like.

前記一般式(1)で表されるトリアジンジチオール系化合物は、公知の方法で製造することができる。 The triazinedithiol compound represented by the general formula (1) can be produced by a known method.

例えば、前記一般式(2)で表されるトリアジンジチオール系化合物は、トリアジントリチオール又はその誘導体と、NHRで表されるアミン類とを混合し、反応させることにより合成することができる。なお、当該反応では、硫化水素が副生する。 For example, the triazinedithiol-based compound represented by the general formula (2) can be synthesized by mixing and reacting triazinetrithiol or a derivative thereof with an amine represented by NHR 2 R 3 . . Hydrogen sulfide is produced as a by-product in this reaction.

また、前記一般式(3)で表されるトリアジンジチオール系化合物は、トリアジントリチオール又はその誘導体と、NCO-R-SiRで表されるアルコキシシリルアルキルイソシアネートとを混合し、反応させることにより合成することができる。前記アルコキシシリルアルキルイソシアネートとしては、例えば、3-トリメトキシシリルプロピルイソシアネート、及び3-トリエトキシシリルプロピルイソシアネート等が挙げられる。 Further, the triazinedithiol-based compound represented by the general formula (3) is obtained by mixing triazinetrithiol or a derivative thereof with an alkoxysilylalkylisocyanate represented by NCO--R 4 --SiR 5 R 6 R 7 , It can be synthesized by reacting. Examples of the alkoxysilylalkyl isocyanate include 3-trimethoxysilylpropyl isocyanate and 3-triethoxysilylpropyl isocyanate.

また、前記一般式(4)で表されるトリアジンジチオール系化合物は、トリアジントリチオール又はその誘導体と、下記一般式(5)で表されるエポキシ基含有アルコキシシランとを混合し、反応させることにより合成することができる。

Figure 0007220864000010
(式中、R~Rは前記と同じである。) Further, the triazinedithiol-based compound represented by the general formula (4) can be obtained by mixing and reacting a triazinetrithiol or a derivative thereof with an epoxy group-containing alkoxysilane represented by the following general formula (5). Can be synthesized.
Figure 0007220864000010
(In the formula, R 5 to R 9 are the same as above.)

前記エポキシ基含有アルコキシシランとしては、例えば、ジエトキシ(3-グリシジル)メチルシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシジルプロピル(ジメトキシ)メチルシラン、3-グリシジルプロピルトリメトキシシラン、ジエトキシ(3-グリシジルオキシ)メチルシラン、3-グリシジルオキシプロピル(ジメトキシ)メチルシラン、及び3-グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the epoxy group-containing alkoxysilane include diethoxy(3-glycidyl)methylsilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidylpropyl(dimethoxy)methylsilane, and 3-glycidylpropyltrimethoxysilane. , diethoxy(3-glycidyloxy)methylsilane, 3-glycidyloxypropyl(dimethoxy)methylsilane, and 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane.

前記反応は、前記原料を溶剤中に分散又は溶解させるなどして混合し、更に加熱反応させることにより行うことが好ましい。それにより、目的物を短時間で容易に合成することができる。 The reaction is preferably carried out by dispersing or dissolving the raw materials in a solvent, mixing them, and further reacting them by heating. As a result, the desired product can be easily synthesized in a short time.

溶剤としては、例えば、水;メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロパノール、プロピレングリコール、カルビトール、及びセルソルブ等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、及びシクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、安息香酸メチル、フタル酸ジエチル、アジピン酸ジエチル、ジブチルエーテル、及びアニソール等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン、及びデカリン等の芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホアミド、及びメチルピロリドン等の極性溶媒、又はこれらの混合溶媒等が挙げられる。 Examples of solvents include water; alcohols such as methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropanol, propylene glycol, carbitol, and cellosolve; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone; ethyl acetate, methyl benzoate, and phthalic acid. Ethers such as diethyl, diethyl adipate, dibutyl ether, and anisole; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and decalin; Polar solvents such as dimethylformamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoamide, and methylpyrrolidone. , or a mixed solvent thereof.

溶剤中のトリアジントリチオール又はその誘導体の濃度は特に制限されないが、通常0.1~500g/Lであり、好ましくは1~100g/Lである。トリアジントリチオール又はその誘導体の濃度が1g/L未満の場合には、反応効率が悪くなる傾向があり、一方、濃度が100g/Lを超えると、溶液又は分散媒体の粘度が高くなりすぎて撹拌が困難になり、均一な反応が起こりにくくなる。 The concentration of triazinetrithiol or its derivative in the solvent is not particularly limited, but is usually 0.1-500 g/L, preferably 1-100 g/L. When the concentration of the triazine trithiol or its derivative is less than 1 g/L, the reaction efficiency tends to be poor. becomes difficult, and a homogeneous reaction becomes difficult to occur.

反応温度は、使用する溶剤の沸点と関係するので一義的に設定できないが、通常0~200℃であり、好ましくは30~160℃である。30℃未満では、反応時間が長くなり、生産性が低下する傾向にある。また、160℃を超えると、反応速度が高くなり生産性は向上するが、2量体等の副生成物が生成し、目的物との分離に特別の操作が必要となることがある。 Although the reaction temperature is related to the boiling point of the solvent used, it cannot be set unambiguously, but it is usually 0 to 200°C, preferably 30 to 160°C. If the temperature is less than 30°C, the reaction time tends to be long and the productivity tends to decrease. On the other hand, when the temperature exceeds 160°C, the reaction rate increases and the productivity improves, but by-products such as dimers are produced, and a special operation may be required for separation from the desired product.

反応終了後、溶剤を留去することで、トリアジンジチオール系化合物が白色結晶又は液体で得られるが、これを溶剤抽出又は洗浄することにより、あるいは蒸留又は結晶化することにより、精製することが可能である。また、副生成物が生成した場合には、目的物を水中でナトリウム塩とした後、不溶物を除去し、可溶物を1%-HCl溶液で中和して精製する工程を追加することが好ましい。 After completion of the reaction, the solvent is distilled off to obtain the triazinedithiol compound as white crystals or liquid, which can be purified by solvent extraction, washing, distillation or crystallization. is. In addition, when a by-product is generated, a step of converting the target product into a sodium salt in water, removing insoluble matter, and neutralizing and purifying the soluble matter with a 1%-HCl solution should be added. is preferred.

熱伝導性絶縁組成物中におけるトリアジンジチオール系化合物の含有量は特に制限されないが、優れた熱伝導性を得る観点から、前記無機フィラー100質量部に対して、好ましくは5×10-7~5質量部、より好ましくは1×10-6~4質量部、さらに好ましくは1.5×10-6~3質量部であり、5×10-7質量部未満では、熱伝導性、分散性が低下する傾向にあり、5質量部を超えると、コストアップになる傾向にある。 The content of the triazinedithiol-based compound in the thermally conductive insulating composition is not particularly limited, but from the viewpoint of obtaining excellent thermal conductivity, it is preferably 5 × 10 -7 to 5 Parts by mass, more preferably 1×10 −6 to 4 parts by mass, more preferably 1.5× 10 −6 to 3 parts by mass. The amount tends to decrease, and if it exceeds 5 parts by mass, the cost tends to increase.

<その他の成分>
熱伝導性絶縁組成物には、芳香族アミン系、ヒンダードフェノール系、リン系、及び硫黄系などの酸化防止剤を配合することが好ましい。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Other ingredients>
The thermally conductive insulating composition preferably contains an aromatic amine-based, hindered phenol-based, phosphorus-based, and sulfur-based antioxidant. These may be used alone or in combination of two or more.

芳香族アミン系酸化防止剤としては、例えば、フェニルナフチルアミン、4,4’-ジメトキシジフェニルアミン、4,4’-ビス(α,α-ジメチルベンジル)ジフェニルアミン、及び4-イソプロポキシジフェニルアミンなどが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of aromatic amine antioxidants include phenylnaphthylamine, 4,4'-dimethoxydiphenylamine, 4,4'-bis(α,α-dimethylbenzyl)diphenylamine, and 4-isopropoxydiphenylamine. These may be used alone or in combination of two or more.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ-トルエン、n-オクタデシル-β-(4’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-ブチルフェニル)プロピオネート、テトラキス〔メチレン-3-(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタン、1,3,5-トリメチル-2,4,6’-トリス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)ベンゼン、カルシウム(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシーベンジルーモノエチル-フォスフェート)、トリエチレングリコール-ビス〔3-(3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、ペンテリスリチル-テトラキス〔3-(3,5-ジ-t-ブチルアニリノ)-1,3,5-トリアジン、3,9-ビス〔1,1-ジメチル-2-{β-(3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル〕2,4,8,10-テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン、ビス〔3,3-ビス(4’-ヒドロキシ-3’-t-ブチルフェニル)酪酸〕グリコールエステル、トリフェノール、2,2’-エチリデンビス(4,6-ジ-t-ブチルフェノール)、N,N’-ビス〔3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕ヒドラジン、2,2’-オキサミドビス〔エチル-3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,1,3-トリス(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシベンジル)-S-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオン、1,3,5-トリス(4-t-ブチル-3-ヒドロキシ-2,6-ジメチルベンジル)イソシアヌレート、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシヒドロシンナミックアヒドトリエステルウイズ-1,3,5-トリス(2-ヒドロキシエチル)-S-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)、及びN,N-ヘキサメチレンビス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ-ヒドロシンナアミド)などが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of hindered phenol antioxidants include 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-toluene, n-octadecyl-β-(4'-hydroxy-3',5'-di-t- butylphenyl)propionate, tetrakis[methylene-3-(3′,5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl)propionate]methane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6′-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl)benzene, calcium (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzyl-monoethyl-phosphate), triethylene glycol-bis[3 -(3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl)propionate], penterithrityl-tetrakis [3-(3,5-di-t-butylanilino)-1,3,5-triazine, 3,9- Bis[1,1-dimethyl-2-{β-(3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propionyloxy}ethyl]2,4,8,10-tetraoxaspiro[5,5] undecane, bis[3,3-bis(4′-hydroxy-3′-t-butylphenyl)butyric acid] glycol ester, triphenol, 2,2′-ethylidenebis(4,6-di-t-butylphenol), N,N'-bis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyl]hydrazine, 2,2'-oxamidebis[ethyl-3-(3,5-di-t-butyl -4-hydroxyphenyl)propionate], 1,1,3-tris(3′,5′-di-t-butyl-4′-hydroxybenzyl)-S-triazine-2,4,6(1H,3H, 5H)-trione, 1,3,5-tris(4-t-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl)isocyanurate, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyhydrocinnamic Hydrotriester with-1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-S-triazine-2,4,6(1H,3H,5H) and N,N-hexamethylenebis(3,5-di -t-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamide) and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

リン系酸化防止剤としては、例えば、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸誘導体、フェニルホスホン酸、ポリホスホネート、及びジホスファイト系化合物などのリンを含む化合物が挙げられる。具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリ(ノニルフェニル)ホスファイト、ビス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、及びビス(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト等が挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Phosphorus-based antioxidants include, for example, phosphorus-containing compounds such as phosphoric acid, phosphorous acid, hypophosphorous acid derivatives, phenylphosphonic acid, polyphosphonates, and diphosphite-based compounds. Specific examples include triphenylphosphite, diphenyldecylphosphite, phenyldiisodecylphosphite, tri(nonylphenyl)phosphite, bis(2,4-di-t-butylphenyl)pentaerythritol diphosphite, and bis( 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl)pentaerythritol diphosphite and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

硫黄系酸化防止剤としては、例えば、チオエーテル系、ジチオ酸塩系、メルカプトベンズイミダゾール系、チオカルバニリド系、及びチオジプロピオンエステル系などの硫黄を含む化合物が挙げられる。具体例としては、ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ジドデシルチオジプロピオネート、ジテトラデシルチオジプロピオネート、ジオクタデシルチオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス(3-ドデシルチオプロピオネート)、チオビス(N-フェニル-β-ナフチルアミン)、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、テトラメチルチウラムモノサルファイド、テトラメチルチウラムジサルファイド、ニッケルジブチルジチオカルバメート、ニッケルイソプロピルキサンテート、及びトリラウリルトリチオホスファイト等が挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of sulfur-based antioxidants include sulfur-containing compounds such as thioether-based, dithioate-based, mercaptobenzimidazole-based, thiocarbanilide-based, and thiodipropionate-based antioxidants. Specific examples include dilaurylthiodipropionate, distearylthiodipropionate, didodecylthiodipropionate, ditetradecylthiodipropionate, dioctadecylthiodipropionate, pentaerythritol tetrakis(3-dodecylthiopropionate pionate), thiobis(N-phenyl-β-naphthylamine), 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, tetramethylthiuram monosulfide, tetramethylthiuram disulfide, nickel dibutyldithiocarbamate, nickel isopropylxanthate, and and trilauryl trithiophosphite. These may be used alone or in combination of two or more.

酸化防止剤の配合(含有)量は、高分子材料100質量部に対して0.01~3質量部が好ましく、より好ましくは0.05~2質量部、さらに好ましくは0.1~1質量部である。酸化防止剤を2種以上配合する場合、酸化防止剤の配合量の合計は5質量部以下であることが好ましい。 The content (content) of the antioxidant is preferably 0.01 to 3 parts by mass, more preferably 0.05 to 2 parts by mass, and still more preferably 0.1 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer material. Department. When two or more antioxidants are blended, the total amount of the antioxidants to be blended is preferably 5 parts by mass or less.

熱伝導性絶縁組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲で、必要に応じて架橋剤を配合してもよい。架橋剤としては、高分子材料が持つ官能基と反応する架橋剤である限り特に限定されず、例えば、エポキシ系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、酸無水物系架橋剤、シラノール系架橋剤、メラミン樹脂系架橋剤、金属塩系架橋剤、金属キレート系架橋剤、及びアミノ樹脂系架橋剤などが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 If necessary, the thermally conductive insulating composition may contain a cross-linking agent within a range that does not impair the effects of the present invention. The cross-linking agent is not particularly limited as long as it is a cross-linking agent that reacts with the functional groups possessed by the polymer material. cross-linking agents, melamine resin-based cross-linking agents, metal salt-based cross-linking agents, metal chelate-based cross-linking agents, and amino resin-based cross-linking agents. These may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ系架橋剤は、分子中に2つ以上のエポキシ基(グリシジル基)を持つ多官能エポキシ化合物であれば特に制限されず、具体的には、2つのエポキシ基を持つ1,6-ジハイドロキシナフタレンジグリシジルエーテルや1,3-ビス(オキシラニルメトキシ)ベンゼン、3つのエポキシ基を持つ1,3,5-トリス(2,3-エポキシプロピル)-1,3,5-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオンやジグリセロールトリグリシジルエーテル、4つのエポキシ基を持つ1-クロロ-2,3-エポキシプロパン・ホルムアルデヒド・2,7-ナフタレンジオール重縮合物やペンタエリスリトールポリグリシジルエーテルが挙げられる。これらのうち、骨格に耐熱性を保有した多官能のエポキシ化合物が好ましい。特に、ナフタレン構造を骨格にもつ2官能、もしくは4官能のエポキシ化合物、又はトリアジン構造を骨格にもつ3官能のエポキシ化合物が好ましい。 The epoxy-based cross-linking agent is not particularly limited as long as it is a polyfunctional epoxy compound having two or more epoxy groups (glycidyl groups) in the molecule. Naphthalene diglycidyl ether, 1,3-bis(oxiranylmethoxy)benzene, 1,3,5-tris(2,3-epoxypropyl)-1,3,5-triazine-2, which has three epoxy groups, 4,6(1H,3H,5H)-trione, diglycerol triglycidyl ether, 1-chloro-2,3-epoxypropane/formaldehyde/2,7-naphthalenediol polycondensate with four epoxy groups and pentaerythritol Polyglycidyl ethers are mentioned. Among these, polyfunctional epoxy compounds having heat resistance in the skeleton are preferred. In particular, a bifunctional or tetrafunctional epoxy compound having a naphthalene structure in its skeleton or a trifunctional epoxy compound having a triazine structure in its skeleton is preferred.

その他にも、グリシジル基を1分子あたり2個以上含有し重量平均分子量が4000~25000であり、かつ(X)20~99質量%のビニル芳香族モノマー、(Y)1~80質量%のグリシジル(メタ)アクリレート、及び(Z)0~79質量%のエポキシ基を含有していない(X)以外のビニル基含有モノマーからなるスチレン系共重合体を挙げることができる。より好ましくは(X)が20~99質量%、(Y)が1~80質量%、(Z)が0~40質量%からなる共重合体であり、さらに好ましくは(X)が25~90質量%、(Y)が10~75質量%、(Z)が0~35質量%からなる共重合体である。前記(X)ビニル芳香族モノマーとしては、例えば、スチレン、α-メチルスチレン等が挙げられる。前記(Y)グリシジル(メタ)アクリレートとしては、例えば、(メタ)アクリル酸グリシジル、シクロヘキセンオキシド構造を有する(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリルグリシジルエーテル等が挙げられ、これらの中でも、反応性の高い点で(メタ)アクリル酸グリシジルが好ましい。前記(Z)その他のビニル基含有モノマーとしては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ステアリル、及び(メタ)アクリル酸メトキシエチル等の炭素数が1~22のアルキル基(アルキル基は直鎖、分岐鎖でもよい)を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸ポリアルキレングリコールエステル、(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、(メタ)アクリル酸ジアルキルアミノアルキルエステル、(メタ)アクリル酸ベンジルエステル、(メタ)アクリル酸フェノキシアルキルエステル、(メタ)アクリル酸イソボルニルエステル、(メタ)アクリル酸アルコキシシリルアルキルエステル等が挙げられる。また(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルジアルキルアミド、及び酢酸ビニル等のビニルエステル類、ビニルエーテル類、(メタ)アリルエーテル類等の芳香族系ビニル系単量体、エチレン、プロピレン等のα-オレフィンモノマーなども前記(Z)その他のビニル基含有モノマーとして使用可能である。 In addition, it contains two or more glycidyl groups per molecule and has a weight average molecular weight of 4000 to 25000, and (X) 20 to 99% by mass of a vinyl aromatic monomer, (Y) 1 to 80% by mass of glycidyl (Meth)acrylates and (Z) styrenic copolymers composed of vinyl group-containing monomers other than (X) containing no epoxy groups in an amount of 0 to 79% by mass can be mentioned. More preferably, (X) is 20 to 99% by mass, (Y) is 1 to 80% by mass, and (Z) is 0 to 40% by mass. 10 to 75% by mass of (Y) and 0 to 35% by mass of (Z). Examples of the vinyl aromatic monomer (X) include styrene and α-methylstyrene. Examples of the (Y) glycidyl (meth)acrylate include glycidyl (meth)acrylate, (meth)acrylic acid ester having a cyclohexene oxide structure, (meth)acryl glycidyl ether, and the like. glycidyl (meth)acrylate is preferred in terms of high Examples of (Z) other vinyl group-containing monomers include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, (Meth) having an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms (the alkyl group may be linear or branched) such as cyclohexyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, and methoxyethyl (meth)acrylate Alkyl acrylate, polyalkylene glycol (meth)acrylate, alkoxyalkyl (meth)acrylate, hydroxyalkyl (meth)acrylate, dialkylaminoalkyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate , (meth)acrylic acid phenoxyalkyl ester, (meth)acrylic acid isobornyl ester, (meth)acrylic acid alkoxysilylalkyl ester, and the like. In addition, vinyl esters such as (meth)acrylamide, (meth)acryldialkylamide, and vinyl acetate, aromatic vinyl monomers such as vinyl ethers and (meth)allyl ethers, α-olefins such as ethylene and propylene Monomers can also be used as (Z) other vinyl group-containing monomers.

前記スチレン系共重合体の重量平均分子量は、4000~25000であることが好ましく、より好ましくは5000~15000である。前記スチレン系共重合体のエポキシ価は、400~2500当量/1×10gであることが好ましく、より好ましくは500~1500当量/1×10g、さらに好ましくは600~1000当量/1×10gである。 The weight average molecular weight of the styrenic copolymer is preferably 4,000 to 25,000, more preferably 5,000 to 15,000. The epoxy value of the styrenic copolymer is preferably 400 to 2500 equivalents/1×10 6 g, more preferably 500 to 1500 equivalents/1×10 6 g, still more preferably 600 to 1000 equivalents/1. x 10 6 g.

カルボジイミド系架橋剤としては、1分子内にカルボジイミド基(-N=C=N-の構造)を2つ以上有するポリカルボジイミドであれば特に制限されず、例えば、脂肪族ポリカルボジイミド、脂環族ポリカルボジイミド、芳香族ポリカルボジイミド、及びこれらの共重合体などが挙げられる。好ましくは脂肪族ポリカルボジイミド又は脂環族ポリカルボジイミドである。 The carbodiimide-based cross-linking agent is not particularly limited as long as it is a polycarbodiimide having two or more carbodiimide groups (-N=C=N- structure) in one molecule. Carbodiimide, aromatic polycarbodiimide, copolymers thereof, and the like. Preferred are aliphatic polycarbodiimides and alicyclic polycarbodiimides.

ポリカルボジイミドは、例えば、ジイソシアネート化合物の脱二酸化炭素反応により得ることができる。ジイソシアネート化合物としては、例えば、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、1,3-フェニレンジイソシアネート、1,4-フェニレンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、1,5-ナフチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、シクロヘキサン-1,4-ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、1,3,5-トリイソプロピルフェニレン-2,4-ジイソシアネートなどが挙げられる。これらは1種のみ用いてもよいし、2種以上を共重合させて用いることもできる。また、分岐構造を導入したり、カルボジイミド基やイソシアネート基以外の官能基を共重合により導入してもよい。さらに、末端イソシアネートはそのままでも使用可能であるが、末端イソシアネートを反応させることにより重合度を制御してもよく、末端イソシアネートの一部を封鎖してもよい。 Polycarbodiimide can be obtained, for example, by decarbonization reaction of a diisocyanate compound. Examples of diisocyanate compounds include 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 4,4′-diphenyldimethylmethane diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6 - tolylene diisocyanate, 1,5-naphthylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, cyclohexane-1,4-diisocyanate, xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylcyclohexane diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, 1,3, and 5-triisopropylphenylene-2,4-diisocyanate. These may be used alone, or two or more may be copolymerized and used. Also, a branched structure may be introduced, or a functional group other than a carbodiimide group or an isocyanate group may be introduced by copolymerization. Furthermore, although the terminal isocyanate can be used as it is, the degree of polymerization may be controlled by reacting the terminal isocyanate, or a portion of the terminal isocyanate may be blocked.

ポリカルボジイミドとしては、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、シクロヘキサン-1,4-ジイソシアネート、及びイソホロンジイソシアネートなどに由来する脂環族ポリカルボジイミドが好ましく、より好ましくはジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、及びイソホロンジイソシアネートに由来する脂環族ポリカルボジイミドである。 As the polycarbodiimide, alicyclic polycarbodiimides derived from dicyclohexylmethane diisocyanate, cyclohexane-1,4-diisocyanate, isophorone diisocyanate, etc. are preferred, and alicyclic polycarbodiimides derived from dicyclohexylmethane diisocyanate and isophorone diisocyanate are more preferred. is.

ポリカルボジイミドは、安定性と取り扱い性の観点から、1分子あたり2~50個のカルボジイミド基を含有することが好ましく、より好ましくは5~30個である。ポリカルボジイミド分子中のカルボジイミドの個数(すなわちカルボジイミド基数)は、ジイソシアネート化合物から得られたポリカルボジイミドであれば、重合度に相当する。例えば、21個のジイソシアネート化合物が鎖状につながって得られたポリカルボジイミドの重合度は20であり、分子鎖中のカルボジイミド基数は20である。通常、ポリカルボジイミドは、種々の長さの分子の混合物であり、カルボジイミド基数は平均値で表される。前記範囲のカルボジイミド基数を有し、室温付近で固形であるポリカルボジイミドは、粉末化できるので、エラストマーとの混合時の作業性や相溶性に優れ、均一反応性、耐ブリードアウト性の点でも好ましい。なお、カルボジイミド基数は、例えば、常法(アミンで溶解して塩酸で逆滴定を行う方法)を用いて測定できる。 Polycarbodiimide preferably contains 2 to 50 carbodiimide groups per molecule, more preferably 5 to 30 groups, from the viewpoint of stability and handleability. The number of carbodiimides in a polycarbodiimide molecule (that is, the number of carbodiimide groups) corresponds to the degree of polymerization in the case of polycarbodiimide obtained from a diisocyanate compound. For example, the degree of polymerization of polycarbodiimide obtained by connecting 21 diisocyanate compounds in a chain is 20, and the number of carbodiimide groups in the molecular chain is 20. Polycarbodiimides are usually mixtures of molecules of various lengths and the number of carbodiimide groups is expressed as an average value. Polycarbodiimide, which has the number of carbodiimide groups within the above range and is solid at around room temperature, can be pulverized, and is therefore excellent in workability and compatibility when mixed with an elastomer, and is also preferable in terms of uniform reactivity and bleed-out resistance. . The number of carbodiimide groups can be measured, for example, by a conventional method (method of dissolving with amine and performing back titration with hydrochloric acid).

ポリカルボジイミドは、安定性と取り扱い性の観点から、末端にイソシアネート基を有し、イソシアネート基含有率は0.5~4質量%であることが好ましく、より好ましくは1~3質量%である。特に、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートやイソホロンジイソシアネートに由来するポリカルボジイミドであって、前記範囲のイソシアネート基含有率を有するものが好ましい。なお、イソシアネート基含有率は常法(アミンで溶解して塩酸で逆滴定を行う方法)を用いて測定できる。 Polycarbodiimide has an isocyanate group at its end, and the isocyanate group content is preferably 0.5 to 4% by mass, more preferably 1 to 3% by mass, from the viewpoint of stability and handleability. Particularly preferred are polycarbodiimides derived from dicyclohexylmethane diisocyanate and isophorone diisocyanate and having an isocyanate group content within the above range. The isocyanate group content can be measured by a conventional method (method of dissolving with amine and performing back titration with hydrochloric acid).

イソシアネート系架橋剤としては、例えば、前記イソシアネート基を含有するポリカルボジイミド化合物、及び前記ポリカルボジイミド化合物の原料となるイソシアネート化合物が挙げられる。 Examples of the isocyanate-based cross-linking agent include the polycarbodiimide compound containing the isocyanate group and the isocyanate compound used as the raw material of the polycarbodiimide compound.

酸無水物系架橋剤としては、安定性と取り扱い性の観点から、1分子あたり、2~4個の無水物を含有する化合物が好ましい。このような化合物としては、例えば、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物、及びピロメリット酸無水物などが挙げられる。 As the acid anhydride cross-linking agent, a compound containing 2 to 4 anhydrides per molecule is preferable from the viewpoint of stability and handleability. Such compounds include, for example, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, and pyromellitic anhydride.

架橋剤の配合(含有)量は、押出条件、所望する発泡倍率等によって適宜調整されるが、高分子材料100質量部に対して0.1~4.5質量部であることが好ましく、より好ましくは0.1~4質量部、さらに好ましくは0.1~3質量部である。 The blending (content) amount of the cross-linking agent is appropriately adjusted depending on the extrusion conditions, the desired expansion ratio, etc., but it is preferably 0.1 to 4.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer material, and more It is preferably 0.1 to 4 parts by mass, more preferably 0.1 to 3 parts by mass.

熱伝導性絶縁組成物には、前記酸化防止剤や架橋剤以外にも、目的に応じて種々の添加剤を配合することができる。添加剤としては、例えば、ヒンダードアミン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ベンゾエート系、トリアゾール系、ニッケル系、及びサリチル系等の光安定剤、滑剤、充填剤、難燃剤、難燃助剤、離型剤、帯電防止剤、過酸化物等の分子調整剤、金属不活性剤、有機系及び無機系の核剤、中和剤、制酸剤、防菌剤、蛍光増白剤、有機系及び無機系の顔料、難燃性付与や熱安定性付与の目的で使用される有機系及び無機系の燐化合物などが挙げられる。前記添加剤を配合する場合、その含有量(複数の添加剤を用いる場合には合計含有量)は、熱伝導性絶縁組成物中に30質量%以下であることが好ましく、より好ましくは20質量%以下、さらに好ましくは10質量%以下、特に好ましくは5質量%以下である。 Various additives other than the antioxidant and the cross-linking agent can be added to the thermally conductive insulating composition according to the purpose. Additives include, for example, hindered amine-based, benzotriazole-based, benzophenone-based, benzoate-based, triazole-based, nickel-based, and salicyl-based light stabilizers, lubricants, fillers, flame retardants, flame retardant aids, and release agents. agents, antistatic agents, molecular modifiers such as peroxides, metal deactivators, organic and inorganic nucleating agents, neutralizers, antacids, antibacterial agents, fluorescent brighteners, organic and inorganic and organic and inorganic phosphorus compounds used for the purpose of imparting flame retardancy and thermal stability. When the additive is blended, the content (the total content when using a plurality of additives) is preferably 30% by mass or less in the thermally conductive insulating composition, more preferably 20% by mass. % or less, more preferably 10 mass % or less, and particularly preferably 5 mass % or less.

<熱伝導性絶縁組成物>
本発明の熱伝導性絶縁組成物の製造方法は特に制限されず、前記各成分を混合することにより製造することができる。本発明においては、前記組成物中における無機フィラーの分散性を高めて、無機フィラーが繋がって形成される連続体を形成しやすくする観点から、前記無機フィラーと前記トリアジンジチオール系化合物とを接触させて、前記無機フィラーの表面に前記トリアジンジチオール系化合物を付着させて表面修飾無機フィラーを得て、その後、得られた表面修飾無機フィラーを前記高分子材料中に分散させて熱伝導性絶縁組成物を製造することが好ましい。
<Thermal conductive insulating composition>
The method for producing the thermally conductive insulating composition of the present invention is not particularly limited, and it can be produced by mixing the respective components described above. In the present invention, from the viewpoint of increasing the dispersibility of the inorganic filler in the composition and facilitating the formation of a continuous body formed by connecting the inorganic filler, the inorganic filler and the triazinedithiol compound are brought into contact with each other. Then, the triazinedithiol-based compound is attached to the surface of the inorganic filler to obtain a surface-modified inorganic filler, and then the obtained surface-modified inorganic filler is dispersed in the polymer material to form a thermally conductive insulating composition. is preferably produced.

前記無機フィラーと前記トリアジンジチオール系化合物とを接触させる方法は特に制限されず、例えば、前記無機フィラーと前記トリアジンジチオール系化合物とを混合する方法、前記トリアジンジチオール系化合物を溶剤に溶かした溶液、又は前記トリアジンジチオール系化合物を溶剤に分散させた分散液中に、前記無機フィラーを浸漬し、前記無機フィラーを取り出した後、乾燥する方法などが挙げられる。 The method of contacting the inorganic filler with the triazinedithiol-based compound is not particularly limited. For example, a method of mixing the inorganic filler and the triazinedithiol-based compound, a solution of the triazinedithiol-based compound dissolved in a solvent, or A method of immersing the inorganic filler in a dispersion of the triazinedithiol-based compound in a solvent, removing the inorganic filler, and then drying the inorganic filler may be used.

<熱伝導性絶縁成形体>
本発明の熱伝導性絶縁成形体は、前記熱伝導性絶縁組成物を成形することにより得られる。前記熱伝導性絶縁成形体の製造方法は特に制限されないが、前記熱伝導性絶縁組成物を加圧及び/又は加熱して成形することが好ましい。成形方法としては、例えば、押出成形法、金型成形法、及びホットプレス法などが挙げられる。成形時の温度及び圧力は、使用する高分子材料の種類に応じて適宜調整する。
<Thermal conductive insulating molding>
The thermally conductive insulating molded article of the present invention is obtained by molding the thermally conductive insulating composition. Although the method for producing the thermally conductive insulating molded article is not particularly limited, it is preferable to pressurize and/or heat the thermally conductive insulating composition for molding. The molding method includes, for example, an extrusion molding method, a mold molding method, a hot press method, and the like. The temperature and pressure during molding are appropriately adjusted according to the type of polymeric material used.

熱伝導性絶縁成形体の形状は用途に応じて適宜選択することができ、例えば、シート状、板状、フィルム状、及びブロック状などが挙げられる。 The shape of the thermally conductive insulating molded product can be appropriately selected according to the application, and examples thereof include sheet-like, plate-like, film-like and block-like shapes.

以下、実施例および比較例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではなく、前記及び後記の趣旨に適合し得る範囲で適宜変更して実施することが可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these, and can be carried out with appropriate modifications within the scope that can conform to the spirit of the above and below. and all of them are included in the technical scope of the present invention.

製造例1
(ポリエステル系エラストマー(A1)の製造)
撹拌機、温度計、溜出用冷却器を装備した反応缶内に、ジメチルテレフタレート194質量部、1,4-ブタンジオール109質量部、数平均分子量2000のポリテトラメチレングリコール「PTMG2000」(三菱化学(株)製)580質量部、及びテトラブチルチタネート0.25質量部を加え、170~220℃で2時間エステル化反応を行った。エステル化反応終了後、255℃まで昇温する一方、系内をゆっくり減圧にして、60分かけて255℃で665Paとした。そして、さらに133Pa以下で30分間重縮合反応を行い、ポリエステル系エラストマー(A1)を得た。ポリエステル系エラストマー(A1)の組成および物性を表1に示す。
Production example 1
(Production of polyester elastomer (A1))
In a reactor equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser for distillation, 194 parts by mass of dimethyl terephthalate, 109 parts by mass of 1,4-butanediol, and polytetramethylene glycol having a number average molecular weight of 2000 "PTMG2000" (Mitsubishi Chemical 580 parts by mass of Co., Ltd. and 0.25 parts by mass of tetrabutyl titanate were added, and an esterification reaction was carried out at 170 to 220° C. for 2 hours. After completion of the esterification reaction, the temperature was raised to 255° C. while the pressure in the system was slowly reduced to 665 Pa at 255° C. over 60 minutes. Then, a polycondensation reaction was further carried out at 133 Pa or less for 30 minutes to obtain a polyester elastomer (A1). Table 1 shows the composition and physical properties of the polyester elastomer (A1).

製造例2~6
(ポリエステル系エラストマー(A2)~(A6)の製造)
表1に示す組成に変更した以外は製造例1と同様の方法でポリエステル系エラストマー(A2)~(A6)を製造した。ポリエステル系エラストマー(A2)~(A6)の組成および物性を表1に示す。
Production Examples 2-6
(Production of polyester elastomers (A2) to (A6))
Polyester elastomers (A2) to (A6) were produced in the same manner as in Production Example 1, except that the compositions were changed to those shown in Table 1. Table 1 shows the compositions and physical properties of the polyester elastomers (A2) to (A6).

製造例7
(ポリエステル系エラストマー(A7)の製造)
撹拌機、温度計、溜出用冷却器を装備した反応缶内に、ポリブチレンテレフタレート(PBT)220質量部、ε‐カプロラクトン(ダイセル化学工業(株)製)269質量部を仕込み、窒素ガスパージ後、230℃で撹拌しながら120分溶融反応させた。その後、真空下で未反応のε‐カプロラクトンを除去し、ポリエステル系エラストマー(A7)を得た。ポリエステル系エラストマー(A7)の組成および物性を表1に示す。
Production example 7
(Production of polyester elastomer (A7))
220 parts by mass of polybutylene terephthalate (PBT) and 269 parts by mass of ε-caprolactone (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) were charged into a reactor equipped with a stirrer, thermometer, and distillation cooler, and after purging with nitrogen gas. , and 230° C. with stirring for 120 minutes. Thereafter, unreacted ε-caprolactone was removed under vacuum to obtain a polyester elastomer (A7). Table 1 shows the composition and physical properties of the polyester elastomer (A7).

製造例8
(ポリエステル系エラストマー(A8)の製造)
ポリブチレンテレフタレート(PBT)220質量部と数平均分子量10000のポリカーボネートジオール(PCD)118質量部とを混合し、230~245℃、130Pa下で1時間撹拌した。反応物が透明になったことを確認した後、反応物を取り出し、冷却して、ポリエステル系エラストマー(A8)を得た。ポリエステル系エラストマー(A8)の組成および物性を表1に示す。
Production example 8
(Production of polyester elastomer (A8))
220 parts by mass of polybutylene terephthalate (PBT) and 118 parts by mass of polycarbonate diol (PCD) having a number average molecular weight of 10,000 were mixed and stirred at 230 to 245° C. under 130 Pa for 1 hour. After confirming that the reactant became transparent, the reactant was taken out and cooled to obtain a polyester elastomer (A8). Table 1 shows the composition and physical properties of the polyester elastomer (A8).

製造例9
(ポリエステル系エラストマー(A9)の製造)
表1に示す組成に変更した以外は製造例8と同様の方法でポリエステル系エラストマー(A9)を製造した。ポリエステル系エラストマー(A9)の組成および物性を表1に示す。
Production example 9
(Production of polyester elastomer (A9))
A polyester elastomer (A9) was produced in the same manner as in Production Example 8, except that the composition was changed to that shown in Table 1. Table 1 shows the composition and physical properties of the polyester elastomer (A9).

製造例10
(ポリエステル系エラストマー(A10)の製造)
最終品の共重合ポリエステル系エラストマーの理論スケールを11kgとして、ビスヒドロキシエチレンテレフタレート(BHET)5.38kg、テレフタル酸(TPA)3.52kg、及びエチレングリコール0.5kgを精留塔を備えた30Lオートクレーブに仕込み、窒素フローした大気圧下、内温250℃まで昇温しながらエステル化反応を行い、反応により溜出する水を分溜して所定量を系外へ除いて、エステル化率95%以上までエステル化反応を行った。その後、エチレングリコール0.66kgを系内へ投入して低下する内温を引き上げて250℃で30分以上重合反応を行った。得られたエステルオリゴマーの数平均分子量は340であった。その後、水添ダイマー酸と1,4ブタンジオールから得られた数平均分子量2200のポリエステルポリオール(Priplast3199:クローダ社製;酸価1mgKOH/g)2.75kgを系内へ添加し、30分以上撹拌して追加のエステル化反応を行った。引き続いて、重縮合触媒としてテトラブトキシチタネートをチタン元素として60ppm添加し撹拌後、1時間で13.3kPa以下まで減圧し、この間に内温を250℃から265℃へ引き上げ、13.3kPa以下の高真空下で所定の粘度まで撹拌して共重合反応を行い、口金から索状に水中へ押出してペレタイザーでカットしてポリエステル系エラストマー(A10)のペレットを得た。なお、得られたペレットの外観は、淡黄色透明であった。また、ポリエステル系エラストマー(A10)のソフトセグメント量は60質量%、融点は210℃、測定温度220℃における溶融粘度は3000dPa・sであった。
Production example 10
(Production of polyester elastomer (A10))
Assuming that the theoretical scale of the final copolyester elastomer is 11 kg, 5.38 kg of bishydroxyethylene terephthalate (BHET), 3.52 kg of terephthalic acid (TPA), and 0.5 kg of ethylene glycol are placed in a 30 L autoclave equipped with a rectifying column. under atmospheric pressure with nitrogen flow, the esterification reaction is carried out while raising the internal temperature to 250 ° C., and the water distilled by the reaction is distilled off and a predetermined amount is removed from the system, resulting in an esterification rate of 95%. The esterification reaction was carried out up to the above. Thereafter, 0.66 kg of ethylene glycol was introduced into the system to raise the decreasing internal temperature, and the polymerization reaction was carried out at 250° C. for 30 minutes or more. The obtained ester oligomer had a number average molecular weight of 340. Then, 2.75 kg of a polyester polyol having a number average molecular weight of 2200 obtained from hydrogenated dimer acid and 1,4 butanediol (Priplast 3199: manufactured by Croda; acid value 1 mgKOH/g) was added to the system and stirred for 30 minutes or more. An additional esterification reaction was carried out. Subsequently, tetrabutoxy titanate was added as a polycondensation catalyst at 60 ppm as a titanium element, and after stirring, the pressure was reduced to 13.3 kPa or less in 1 hour. A copolymerization reaction was carried out by stirring to a predetermined viscosity under vacuum, extruded into water from a spinneret in a cord shape, and cut with a pelletizer to obtain pellets of the polyester elastomer (A10). The appearance of the obtained pellets was pale yellow and transparent. The polyester elastomer (A10) had a soft segment content of 60% by mass, a melting point of 210°C, and a melt viscosity of 3000 dPa·s at a measurement temperature of 220°C.

Figure 0007220864000011
Figure 0007220864000011

表1中の化合物は以下のとおりである。
DMT:ジメチルテレフタレート
DMN:ジメチルナフタレート
BD:1,4-ブタンジオール
PTMG2000:数平均分子量2000のポリテトラメチレングリコール
PTMG1000:数平均分子量1000のポリテトラメチレングリコール
PBT:ポリブチレンテレフタレート
PCL:ε‐カプロラクトン
PCD:数平均分子量10000のポリカーボネートジオール
The compounds in Table 1 are as follows.
DMT: dimethyl terephthalate DMN: dimethyl naphthalate BD: 1,4-butanediol PTMG2000: polytetramethylene glycol with a number average molecular weight of 2000 PTMG1000: polytetramethylene glycol with a number average molecular weight of 1000 PBT: polybutylene terephthalate PCL: ε-caprolactone PCD : Polycarbonate diol with a number average molecular weight of 10,000

製造例11
(下記式(6)で表されるトリアジンジチオール系化合物の製造)

Figure 0007220864000012
Production Example 11
(Production of a triazinedithiol compound represented by the following formula (6))
Figure 0007220864000012

トリアジントリチオール17.72g(0.1mol)及び3-トリエトキシシリルプロピルアミン0.102molをトルエン100mLに加えて、混合物を得た。ここで、トリアジントリチオールはトルエンに分散しており、3-トリエトキシシリルプロピルアミンはトルエンに溶解している。そして、混合物を140℃で30分間撹拌して反応を進行させた。反応終了後、トルエンを減圧下で留去して回収し、ガス成分を20%NaOH水溶液に吸収させて、発生した硫化水素を除去した。得られた固体をエチルエーテルで洗浄し、微量の未反応アミンを除去して、粗トリアジンジチオール系化合物を96%以上の収率で得た。その後、粗トリアジンジチオール系化合物をイソプロパノールで再結晶して精製し、上記式(6)で表されるトリアジンジチオール系化合物を得た。再結晶後の前記トリアジンジチオール系化合物の融点は235~236℃、元素分析値はC:40.2%、N:16.0%、S:18.2%であった。なお、融点分析には三田理研工業社製の融点測定器を使用した。また、炭素と窒素分析には柳本CHNコーダーを、硫黄分析にはパーキンエルマ社製のCHNコーダーを使用した。 17.72 g (0.1 mol) of triazinetrithiol and 0.102 mol of 3-triethoxysilylpropylamine were added to 100 mL of toluene to obtain a mixture. Here, triazinetrithiol is dispersed in toluene and 3-triethoxysilylpropylamine is dissolved in toluene. The mixture was then stirred at 140° C. for 30 minutes to allow the reaction to proceed. After completion of the reaction, the toluene was distilled off under reduced pressure and recovered, and the gas component was absorbed in a 20% NaOH aqueous solution to remove the generated hydrogen sulfide. The obtained solid was washed with ethyl ether to remove a trace amount of unreacted amine to obtain a crude triazinedithiol compound in a yield of 96% or more. Thereafter, the crude triazinedithiol-based compound was recrystallized with isopropanol and purified to obtain the triazinedithiol-based compound represented by the above formula (6). The melting point of the triazinedithiol compound after recrystallization was 235 to 236° C., and the elemental analysis values were C: 40.2%, N: 16.0%, S: 18.2%. For melting point analysis, a melting point measuring instrument manufactured by Mita Riken Kogyo Co., Ltd. was used. Also, a Yanagimoto CHN coder was used for carbon and nitrogen analysis, and a CHN coder manufactured by PerkinElmer was used for sulfur analysis.

製造例12
(表面修飾窒化アルミニウムフィラー(B1)の製造)
製造例11で製造したトリアジンジチオール系化合物をイオン交換水に溶解させて、0.1wt%の前記トリアジンジチオール系化合物を含む水溶液を得た。そして、窒化アルミニウムフィラー(古川電子(株)製、FAN-05)100gを、前記水溶液に10分間浸漬し、その後、取り出して100℃で60分乾燥して、表面修飾窒化アルミニウムフィラー(B1)を得た。
Production example 12
(Production of surface-modified aluminum nitride filler (B1))
The triazinedithiol-based compound produced in Production Example 11 was dissolved in ion-exchanged water to obtain an aqueous solution containing 0.1 wt % of the triazinedithiol-based compound. Then, 100 g of aluminum nitride filler (manufactured by Furukawa Electronics Co., Ltd., FAN-05) was immersed in the aqueous solution for 10 minutes, then taken out and dried at 100° C. for 60 minutes to obtain the surface-modified aluminum nitride filler (B1). Obtained.

製造例13
(表面修飾窒化ホウ素フィラー(B2)の製造)
製造例11で製造したトリアジンジチオール系化合物をイオン交換水に溶解させて、0.1wt%の前記トリアジンジチオール系化合物を含む水溶液を得た。そして、窒化ホウ素フィラー(デンカ(株)製、SP-2)100gを、前記水溶液に10分間浸漬し、その後、取り出して100℃で60分乾燥して、表面修飾窒化ホウ素フィラー(B2)を得た。
Production example 13
(Production of surface-modified boron nitride filler (B2))
The triazinedithiol-based compound produced in Production Example 11 was dissolved in ion-exchanged water to obtain an aqueous solution containing 0.1 wt % of the triazinedithiol-based compound. Then, 100 g of boron nitride filler (manufactured by Denka Co., Ltd., SP-2) is immersed in the aqueous solution for 10 minutes, then taken out and dried at 100 ° C. for 60 minutes to obtain surface-modified boron nitride filler (B2). rice field.

実施例1
(熱伝導性絶縁組成物の製造)
ポリエステル系エラストマー(A1)60質量部、及び表面修飾窒化アルミニウムフィラー(B1)40質量部を混合した後、得られた混合物を180℃に予熱した東洋精機(株)製卓上型混練機(ラボプラストミル20C200)に投入し、40rpmで10分間混練して、熱伝導性絶縁組成物を得た。
Example 1
(Production of thermally conductive insulating composition)
After mixing 60 parts by mass of the polyester-based elastomer (A1) and 40 parts by mass of the surface-modified aluminum nitride filler (B1), the resulting mixture was preheated to 180 ° C. A desktop kneader manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. (Laboplast It was put into a mill 20C200) and kneaded at 40 rpm for 10 minutes to obtain a thermally conductive insulating composition.

実施例2
(熱伝導性絶縁組成物の製造)
ポリエステル系エラストマー(A1)60質量部、及び表面修飾窒化ホウ素フィラー(B2)40質量部を混合した後、得られた混合物を180℃に予熱した東洋精機(株)製卓上型混練機(ラボプラストミル20C200)に投入し、40rpmで10分間混練して、熱伝導性絶縁組成物を得た。
Example 2
(Production of thermally conductive insulating composition)
After mixing 60 parts by mass of the polyester-based elastomer (A1) and 40 parts by mass of the surface-modified boron nitride filler (B2), the resulting mixture was preheated to 180 ° C. A desktop kneader manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. (Laboplast It was put into a mill 20C200) and kneaded at 40 rpm for 10 minutes to obtain a thermally conductive insulating composition.

実施例3
(熱伝導性絶縁組成物の製造)
ポリエステル系エラストマー(A1)50質量部、及び表面修飾窒化アルミニウムフィラー(B1)2質量部を混合した後、得られた混合物を180℃に予熱した東洋精機(株)製卓上型混練機(ラボプラストミル20C200)に投入し、40rpmで10分間混練した。得られた混練物を取り出した後、チップ状にカットし、得られたチップとアルミナフィラー48質量部とを混合したのち、再度、40rpmで10分間混練して、熱伝導性絶縁組成物を製造した。
Example 3
(Production of thermally conductive insulating composition)
After mixing 50 parts by mass of the polyester-based elastomer (A1) and 2 parts by mass of the surface-modified aluminum nitride filler (B1), the resulting mixture was preheated to 180 ° C. A desktop kneader manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. (Laboplast It was put into a mill 20C200) and kneaded at 40 rpm for 10 minutes. After taking out the obtained kneaded material, cutting it into chips, mixing the obtained chips with 48 parts by mass of alumina filler, and then kneading again at 40 rpm for 10 minutes to produce a thermally conductive insulating composition. bottom.

実施例4~14
(熱伝導性絶縁組成物の製造)
ポリエステル系エラストマー及びフィラーの種類と配合量を、表2に示すように変更した以外は実施例3と同様の方法で熱伝導性絶縁組成物を製造した。なお、混練温度は、使用するポリエステル系エラストマーの融点+20℃となるように設定した。
Examples 4-14
(Production of thermally conductive insulating composition)
A thermally conductive insulating composition was produced in the same manner as in Example 3, except that the types and blending amounts of the polyester elastomer and filler were changed as shown in Table 2. The kneading temperature was set to be the melting point of the polyester elastomer used plus 20°C.

比較例1~4
(熱伝導性絶縁組成物の製造)
ポリエステル系エラストマー及びフィラーの種類と配合量を、表2に示すように変更した以外は実施例1と同様の方法で熱伝導性絶縁組成物を製造した。なお、混練温度は、使用するポリエステル系エラストマーの融点+20℃となるように設定した。
Comparative Examples 1-4
(Production of thermally conductive insulating composition)
A thermally conductive insulating composition was produced in the same manner as in Example 1, except that the types and blending amounts of the polyester elastomer and filler were changed as shown in Table 2. The kneading temperature was set to be the melting point of the polyester elastomer used plus 20°C.

〔評価方法〕
熱伝導率、耐熱性、耐湿熱性、熱抵抗、及び絶縁破壊電圧の評価を以下の方法で行った。
(評価用シートサンプルの作製)
評価用シートサンプルは、ヒートプレス機(テスター産業(株)製、SA-302-I)を用いて作製した。所定の厚みを有する型枠内に、実施例及び比較例で作製した熱伝導性絶縁組成物を入れ、ポリエステル系エラストマーの融点+20℃の温度条件で2分間溶融させた。得られた溶融物に100kgf/cmの荷重をかけ、1分後に水につけて急冷し、所定厚みの評価用シートサンプルを得た。
〔Evaluation methods〕
Thermal conductivity, heat resistance, moist heat resistance, thermal resistance, and dielectric breakdown voltage were evaluated by the following methods.
(Preparation of Sheet Sample for Evaluation)
A sheet sample for evaluation was produced using a heat press (SA-302-I, manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.). The thermally conductive insulating compositions prepared in Examples and Comparative Examples were placed in a mold having a predetermined thickness, and melted for 2 minutes at a temperature of +20° C., the melting point of the polyester elastomer. A load of 100 kgf/cm 2 was applied to the obtained melt, and after 1 minute, it was immersed in water and rapidly cooled to obtain a sheet sample for evaluation having a predetermined thickness.

(熱伝導率の測定)
比熱は、TAインスツルメンツ(株)製のDSC2920を用いて測定した。実施例及び比較例で作製した熱伝導性絶縁組成物(サンプル)10.0mgをアルミパンに入れ、室温から10℃/分の昇温温度で200℃まで昇温し、200℃に達してから5分間保持した。その後、10℃/分で降温した。同様に、基準物質としてサファイア26.8mgをアルミパンに入れ、同条件で測定した。さらに、ブランクとしてサンプルを入れていない空のアルミパンを同条件で測定した。それぞれのDSC曲線の23℃におけるHeat Flowの値を読み取り、下記式により比熱容量を算出した。

Cp=(h/H)×(m’/m)×C’p

Cp:サンプルの比熱
C’p:23℃における基準物質(サファイア)の比熱
h:ブランクとサンプルのDSC曲線の差
H:ブランクと基準物質(サファイア)のDSC曲線の差
m:サンプルの質量(g)
m’:基準物質(サファイア)の質量(g)

比重は、東洋精機(株)製の自動比重計D-H100を用いて測定した。作製した評価用シートサンプルをヒートプレスして、厚さ0.5mmのシートを得た。そして、当該シートを10mm×10mmのサイズに切断して比重測定用サンプルを得た。作製した比重測定用サンプルを用いて、水中置換法により比重測定を行った。
熱拡散率は、アイフェイズ(株)製の熱拡散係数測定装置ai-phase Mobile1を用いて測定した。作製した評価用シートサンプルをヒートプレスして、厚さ0.5mmのシートを得た。作製したシートを用いて、厚み方向の熱拡散率を測定した。
そして、熱伝導率は、前記方法で求めた比熱、比重、及び熱拡散率から下式により算出した。

熱伝導率(W/m・K)=比重×比熱(J/g・K)×熱拡散率(m/sec)
(Measurement of thermal conductivity)
Specific heat was measured using DSC2920 manufactured by TA Instruments. 10.0 mg of the thermally conductive insulating composition (sample) prepared in Examples and Comparative Examples was placed in an aluminum pan, heated from room temperature to 200 ° C. at a temperature increase of 10 ° C./min, and after reaching 200 ° C. Hold for 5 minutes. After that, the temperature was lowered at 10°C/min. Similarly, 26.8 mg of sapphire was placed in an aluminum pan as a reference substance and measured under the same conditions. Furthermore, as a blank, an empty aluminum pan containing no sample was measured under the same conditions. The heat flow value at 23° C. of each DSC curve was read, and the specific heat capacity was calculated by the following formula.

Cp = (h/H) x (m'/m) x C'p

Cp: specific heat of the sample C'p: specific heat of the reference material (sapphire) at 23 ° C. h: difference between the DSC curves of the blank and the sample H: difference between the DSC curves of the blank and the reference material (sapphire) m: mass of the sample (g )
m': Mass (g) of reference material (sapphire)

The specific gravity was measured using an automatic hydrometer D-H100 manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. The prepared sheet sample for evaluation was heat-pressed to obtain a sheet having a thickness of 0.5 mm. Then, the sheet was cut into a size of 10 mm×10 mm to obtain a sample for specific gravity measurement. Using the prepared sample for specific gravity measurement, the specific gravity was measured by the water substitution method.
The thermal diffusivity was measured using a thermal diffusivity measuring device ai-phase Mobile 1 manufactured by i-Phase Co., Ltd. The prepared sheet sample for evaluation was heat-pressed to obtain a sheet having a thickness of 0.5 mm. Using the produced sheet, the thermal diffusivity in the thickness direction was measured.
Then, the thermal conductivity was calculated from the specific heat, specific gravity, and thermal diffusivity determined by the above method, using the following formula.

Thermal conductivity (W/m·K) = specific gravity x specific heat (J/g·K) x thermal diffusivity (m 2 /sec)

(耐熱性の評価)
作製した評価用シートサンプルをヒートプレスして、厚さ1mmのシートを得た。そして、当該シートを10mm×50mmのサイズに切断して耐熱性評価用サンプルを得た。耐熱性評価用サンプルを恒温槽に投入し、温度85℃で1000時間経過後、その引張伸度を測定し、初期値の50%となる温度を調べた。そして、下記基準で評価した。初期値の50%となる温度が高いほど耐熱性が高いことを示す。
◎:160℃以上
○:130℃以上160℃未満
△:110℃以上130℃未満
×:110℃未満
(Evaluation of heat resistance)
The prepared sheet sample for evaluation was heat-pressed to obtain a sheet having a thickness of 1 mm. Then, the sheet was cut into a size of 10 mm×50 mm to obtain a sample for heat resistance evaluation. A sample for heat resistance evaluation was placed in a constant temperature bath, and after 1000 hours at a temperature of 85° C., its tensile elongation was measured, and the temperature at which it reached 50% of the initial value was investigated. And it evaluated by the following reference|standard. The higher the temperature at which the initial value is 50%, the higher the heat resistance.
◎: 160 ° C. or higher ○: 130 ° C. or higher and lower than 160 ° C. △: 110 ° C. or higher and lower than 130 ° C. ×: lower than 110 ° C.

(耐湿熱性の評価)
作製した評価用シートサンプルをヒートプレスして、厚さ1mmのシートを得た。そして、当該シートを10mm×50mmのサイズに切断して耐湿熱性評価用サンプルを得た。耐湿熱性評価用サンプルを恒温恒湿槽に投入し、85℃×85%Rhの条件下におけるサンプルの膨張率を観察した。恒温恒湿槽投入前と投入1000時間経過後のサンプルの長さ、幅、及び厚さ(mm)をそれぞれ測定し、各方向における膨張率(%)を算出した。さらに、それらの積をとり、体積膨張率(%)を算出した。このとき恒温恒湿槽投入前の膨張率を100%とする。なお、測定には定圧ノギスを使用した。体積膨張率は小さいほど好ましい。体積膨張率が110%以下であると、脆性の悪化が小さく、良好である。体積膨張率が110%を超えると、脆性が悪化するため、高湿度下での使用は好ましくない。
(Evaluation of moist heat resistance)
The prepared sheet sample for evaluation was heat-pressed to obtain a sheet having a thickness of 1 mm. Then, the sheet was cut into a size of 10 mm×50 mm to obtain a sample for wet heat resistance evaluation. A sample for moist heat resistance evaluation was placed in a constant temperature and humidity chamber, and the expansion rate of the sample was observed under conditions of 85° C.×85% Rh. The length, width, and thickness (mm) of the sample were measured before and after 1000 hours from the constant temperature and humidity bath, and the expansion rate (%) in each direction was calculated. Furthermore, the volume expansion rate (%) was calculated by taking the product of them. At this time, the expansion rate before being put into the constant temperature and humidity bath is assumed to be 100%. A constant pressure vernier caliper was used for the measurement. The smaller the volumetric expansion rate, the better. When the volume expansion coefficient is 110% or less, deterioration of brittleness is small and favorable. If the volume expansion rate exceeds 110%, the brittleness worsens, so use under high humidity is not preferable.

(熱抵抗の測定)
作製した評価用シートサンプルをヒートプレスして、厚さ0.3mmのシートを得た。当該シートの熱抵抗は、ASTM D5470に従って測定した。熱抵抗は、0.6×10e-3(mK/W)以下であることが好ましい。なお、熱抵抗はシートの厚さにほぼ比例する。
(Measurement of thermal resistance)
The prepared sheet sample for evaluation was heat-pressed to obtain a sheet having a thickness of 0.3 mm. The thermal resistance of the sheets was measured according to ASTM D5470. The thermal resistance is preferably 0.6×10e −3 (m 2 K/W) or less. Note that the thermal resistance is approximately proportional to the thickness of the sheet.

(絶縁破壊電圧の測定)
作製した評価用シートサンプルをヒートプレスして、厚さ0.1mmのシートを得た。当該シートの絶縁破壊電圧は、JIS K6249に従って測定した。絶縁破壊電圧は、3kV以上であることが好ましい。なお、絶縁破壊電圧はシートの厚さにほぼ比例する。
(Measurement of dielectric breakdown voltage)
The prepared sheet sample for evaluation was heat-pressed to obtain a sheet having a thickness of 0.1 mm. The dielectric breakdown voltage of the sheet was measured according to JIS K6249. The dielectric breakdown voltage is preferably 3 kV or higher. Note that the dielectric breakdown voltage is approximately proportional to the thickness of the sheet.

Figure 0007220864000013
Figure 0007220864000013

本発明の熱伝導性絶縁成形体は、自動車部材、及び電子回路基板等の絶縁性と放熱性が求められる部材の材料として有用である。 The thermally conductive insulating molded article of the present invention is useful as a material for members requiring insulation and heat dissipation, such as automobile members and electronic circuit boards.

Claims (10)

エラストマーを含む高分子材料、無機フィラー、及び下記一般式(1)で表されるトリアジンジチオール系化合物を含有する熱伝導性絶縁組成物。
Figure 0007220864000014
(式中、M及びMはそれぞれ独立にH、Li、Na、K、又はCsであり、RはS、O、又はNRであり、RはH、又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基、ハロゲン化アルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルコキシアルケニル基、フェニル基、ハロゲン化フェニル基、ヒドロキシフェニル基、アルコキシフェニル基、ビフェニル基、ハロゲン化ビフェニル基、ヒドロキシビフェニル基、アルコキシビフェニル基、ナフチル基、ハロゲン化ナフチル基、ヒドロキシナフチル基、アルコキシナフチル基、カルボキシル基、エステル基、ウレタン基、アゾ基、シアノ基、アミノ基、アミド基、及びアルコキシシリル基からなる群より選択される少なくとも1種の官能基を有する有機基であり、Rは前記有機基と同じであり、あるいはNRとRはヘテロ環を構成する。)
A thermally conductive insulating composition containing a polymeric material containing an elastomer , an inorganic filler, and a triazinedithiol-based compound represented by the following general formula (1).
Figure 0007220864000014
(wherein M 1 and M 2 are each independently H, Li, Na, K, or Cs, R 1 is S, O, or NR 3 , R 3 is H, or an alkyl group, halogenated Alkyl group, hydroxyalkyl group, alkoxyalkyl group, alkenyl group, halogenated alkenyl group, hydroxyalkenyl group, alkoxyalkenyl group, phenyl group, halogenated phenyl group, hydroxyphenyl group, alkoxyphenyl group, biphenyl group, halogenated biphenyl group , hydroxybiphenyl group, alkoxybiphenyl group, naphthyl group, halogenated naphthyl group, hydroxynaphthyl group, alkoxynaphthyl group, carboxyl group, ester group, urethane group, azo group, cyano group, amino group, amide group, and alkoxysilyl group is an organic group having at least one functional group selected from the group consisting of R 2 is the same as the above organic group, or NR 3 and R 2 form a heterocyclic ring.)
前記トリアジンジチオール系化合物は、下記一般式(2)~(4)で表されるトリアジンジチオール系化合物の少なくとも1種である請求項1に記載の熱伝導性絶縁組成物。
Figure 0007220864000015
(式中、M、M、R、及びRは前記と同じである。)
Figure 0007220864000016
(式中、M及びMは前記と同じであり、RはS、O、-NHCHCHO-、-N(CH)CHCHO-、-N(C)CHCHO-、-NHCHCHCHCHO-、-N(C)CHCHCHCHO-、-NHCH(CHCHO-、-NHCHCH(CH)O-、-NHCO-、-N(C)CO-、-NHC10O-、-N(CHCHCHO-、-N(CHCHNCHCHO-、-N(CHCHOH)CHCHO-、-N(CHCHCHOH)CHCHCHO-、-N(CHCH(CH)OH)CHCH(CH)O-、-N(CHCHCHCHOH)CHCHCHCHO-、-NHCHO-、-NHC11O-、又は-N(C)CO-であり、Rはアルキレン基であり、Rはアルコキシ基であり、R及びRはそれぞれ独立にアルコキシ基又はアルキル基である。)
Figure 0007220864000017
(式中、M、M、及びR~Rは前記と同じであり、Rは水素又はアルキル基であり、Rはアルキレン基又はアルキレンオキシ基であり、RとRは互いに結合して環を形成してもよい。)
2. The thermally conductive insulating composition according to claim 1, wherein the triazinedithiol-based compound is at least one triazinedithiol-based compound represented by the following general formulas (2) to (4).
Figure 0007220864000015
(In the formula, M 1 , M 2 , R 2 and R 3 are the same as above.)
Figure 0007220864000016
(wherein M 1 and M 2 are the same as above, R 1 is S, O, -NHCH 2 CH 2 O-, -N(CH 3 )CH 2 CH 2 O-, -N(C 3 H 7 ) CH2CH2O- , -NHCH2CH2CH2CH2O- , -N ( C2H5 ) CH2CH2CH2CH2O- , -NHCH2 ( CH2 ) 8CH2 O—, —NHCH 2 CH(CH 3 )O—, —NHC 6 H 4 O—, —N(C 2 H 5 )C 6 H 4 O—, —NHC 10 H 6 O—, —N(CH 2 CH2 ) 2CHO- , -N ( CH2CH2 )2NCH2CH2O- , -N ( CH2CH2OH ) CH2CH2O- , -N( CH2CH2CH2OH ) CH2CH2CH2O- , -N ( CH2CH ( CH3 ) OH ) CH2CH ( CH3 ) O- , -N (CH2CH2CH2CH2OH) CH2CH2CH2 CH 2 O—, —NHCH 2 C 6 H 4 O—, —NHC 6 H 11 O—, or —N(C 3 H 7 )C 6 H 4 O—, R 4 is an alkylene group, R 5 is an alkoxy group, and R6 and R7 are each independently an alkoxy group or an alkyl group.)
Figure 0007220864000017
(wherein M 1 , M 2 and R 5 to R 7 are the same as above, R 8 is hydrogen or an alkyl group, R 9 is an alkylene group or an alkyleneoxy group, R 8 and R 9 may combine with each other to form a ring.)
前記エラストマーは、ポリエステル系エラストマー及びポリアミド系エラストマーからなる群より選択される少なくとも1種である請求項1又は2に記載の熱伝導性絶縁組成物。 3. The thermally conductive insulating composition according to claim 1, wherein said elastomer is at least one selected from the group consisting of polyester elastomers and polyamide elastomers. 前記無機フィラーは、窒化アルミニウムフィラー及び窒化ホウ素フィラーからなる群より選択される少なくとも1種を含む請求項1~のいずれかに記載の熱伝導性絶縁組成物。 The thermally conductive insulating composition according to any one of claims 1 to 3 , wherein the inorganic filler contains at least one selected from the group consisting of aluminum nitride filler and boron nitride filler. 前記無機フィラーの含有量は、前記高分子材料100質量部に対して20~400質量部である請求項1~のいずれかに記載の熱伝導性絶縁組成物。 The thermally conductive insulating composition according to any one of claims 1 to 4 , wherein the content of the inorganic filler is 20 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer material. 前記トリアジンジチオール系化合物の含有量は、前記無機フィラー100質量部に対して5×10-7~5質量部である請求項1~のいずれかに記載の熱伝導性絶縁組成物。 The thermally conductive insulating composition according to any one of claims 1 to 5 , wherein the content of said triazinedithiol-based compound is 5 × 10 -7 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of said inorganic filler. 請求項1~のいずれかに記載の熱伝導性絶縁組成物から得られる熱伝導性絶縁成形体。 A thermally conductive insulating molded article obtained from the thermally conductive insulating composition according to any one of claims 1 to 6 . 前記熱伝導性絶縁成形体は、熱伝導性絶縁シートである請求項に記載の熱伝導性絶縁成形体。 The thermally conductive insulating molded article according to claim 7 , wherein the thermally conductive insulating molded article is a thermally conductive insulating sheet. 請求項又はに記載の熱伝導性絶縁成形体の製造方法であって、前記無機フィラーと前記トリアジンジチオール系化合物とを接触させて、前記無機フィラーの表面に前記トリアジンジチオール系化合物を付着させて表面修飾無機フィラーを得る工程A、前記表面修飾無機フィラーを前記高分子材料中に分散させて前記熱伝導性絶縁組成物を得る工程B、及び前記熱伝導性絶縁組成物を成形する工程Cを含む熱伝導性絶縁成形体の製造方法。 9. The method for producing a thermally conductive insulating molded article according to claim 7 or 8 , wherein the inorganic filler and the triazinedithiol compound are brought into contact to adhere the triazinedithiol compound to the surface of the inorganic filler. step A of obtaining a surface-modified inorganic filler by dispersing the surface-modified inorganic filler in the polymer material to obtain the thermally conductive insulating composition; and step C of molding the thermally conductive insulating composition. A method for producing a thermally conductive insulating molded body comprising: 前記工程Cにおいて、前記熱伝導性絶縁組成物を加圧及び/又は加熱して成形する請求項に記載の熱伝導性絶縁成形体の製造方法。 10. The method for producing a thermally conductive insulating molded article according to claim 9 , wherein in said step C, said thermally conductive insulating composition is molded by pressing and/or heating.
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