JP7076099B2 - Thermally conductive insulating elastomer composition, thermally conductive insulating elastomer molded product and its manufacturing method - Google Patents

Thermally conductive insulating elastomer composition, thermally conductive insulating elastomer molded product and its manufacturing method Download PDF

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本発明は、電子回路基板等の絶縁性と放熱性が求められる部材の材料として有用な、熱伝導性絶縁エラストマー組成物、熱伝導性絶縁エラストマー成形体及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a thermally conductive insulating elastomer composition, a thermally conductive insulating elastomer molded body, and a method for producing the same, which are useful as materials for members required for insulation and heat dissipation such as electronic circuit boards.

電気・電子機器の小型化、高集積化に伴い、実装部品の発熱や使用環境の高温化が顕著となり、構成部材の放熱性向上に対する要求が高くなっている。特に自動車部材やハイパワーLEDの放熱部材には、現在、熱伝導率の高い金属やセラミックスが用いられているが、軽量化、加工性、及び形状の自由度を高めるために、高い熱伝導性、及び成形加工性を有する熱伝導性樹脂材料が求められている。特に高分子化合物からなる樹脂は、成形性に優れた安価な絶縁材料であることから、電子回路基板用基材、モータ絶縁材、及び絶縁接着剤等の様々な電子部品に用いられている。近年、これら電子部品の高密度化・高出力化に伴い、電子部品からの発熱量が増大している。このため電子部品の熱を放出させるための対策が強く求められている。 With the miniaturization and high integration of electrical and electronic devices, heat generation of mounted parts and high temperature of the usage environment have become remarkable, and there is an increasing demand for improving heat dissipation of constituent members. In particular, metals and ceramics with high thermal conductivity are currently used for heat dissipation members of automobile members and high-power LEDs, but in order to reduce weight, processability, and increase the degree of freedom in shape, high thermal conductivity is achieved. , And a heat conductive resin material having molding processability is required. In particular, a resin made of a polymer compound is an inexpensive insulating material having excellent moldability, and is therefore used in various electronic components such as a base material for an electronic circuit board, a motor insulating material, and an insulating adhesive. In recent years, as the density and output of these electronic components have increased, the amount of heat generated from the electronic components has increased. Therefore, there is a strong demand for measures to release the heat of electronic components.

この課題に対して、従来技術では、樹脂内部にアルミナやシリカなどの無機物からなるフィラーを充填し、樹脂の熱伝導度を高める方法が用いられている。例えば、特許文献1及び2では、結晶性シリカ、及び酸化アルミニウム等の無機フィラーを高分子樹脂中に添加して熱伝導性を付与する技術が提案されている。この場合、無機フィラーが繋がって形成される連続体が熱の伝導路として機能する。すなわち、樹脂中に充填された無機フィラーは相互に接触している必要があり、効率的な熱伝導のためには多量の無機フィラーを充填する必要があった。更に、従来の熱伝導性絶縁樹脂成形体は、無機フィラーを多量に添加する必要があったため、以下の技術的課題を有していた。(1)重量が重い。(2)無機フィラーは硬いため加工性が悪い。(3)無機フィラーと樹脂の界面に空隙が発生し易く、そこに水が滞留するため耐湿性が低い。(4)無機フィラーは高価であるため製造コストが高い。(5)無機フィラーの充填量が多い樹脂成形体は、形状を保持するために一定の厚みが必要であり、薄型化が困難である。これらの課題を解決するために、特許文献3では、高分子化合物を含むコア粒子と、該コア粒子を被覆する、熱伝導性かつ絶縁性の無機化合物を含むシェルとを備えるコア/シェル粒子の集合体により成形される熱伝導性絶縁樹脂成形体が提案されている。 To solve this problem, in the prior art, a method of filling the inside of a resin with a filler made of an inorganic substance such as alumina or silica to increase the thermal conductivity of the resin is used. For example, Patent Documents 1 and 2 propose a technique of adding an inorganic filler such as crystalline silica and aluminum oxide to a polymer resin to impart thermal conductivity. In this case, the continuum formed by connecting the inorganic fillers functions as a heat conduction path. That is, the inorganic fillers filled in the resin need to be in contact with each other, and it is necessary to fill a large amount of the inorganic fillers for efficient heat conduction. Further, the conventional heat conductive insulating resin molded product has the following technical problems because it is necessary to add a large amount of an inorganic filler. (1) The weight is heavy. (2) Since the inorganic filler is hard, it has poor workability. (3) Voids are likely to be generated at the interface between the inorganic filler and the resin, and water stays there, so that the moisture resistance is low. (4) Since the inorganic filler is expensive, the manufacturing cost is high. (5) A resin molded body having a large amount of inorganic filler filled requires a certain thickness in order to maintain its shape, and it is difficult to reduce the thickness. In order to solve these problems, in Patent Document 3, a core / shell particle comprising a core particle containing a polymer compound and a shell containing a thermally conductive and insulating inorganic compound covering the core particle. A thermally conductive insulating resin molded body molded by an aggregate has been proposed.

特開平11-233694号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 11-23649 特許第3559137号公報Japanese Patent No. 3559137 特許第5278488号公報Japanese Patent No. 5278488

しかし、特許文献3に記載の熱伝導性絶縁樹脂成形体は、高分子化合物を含むコア粒子が無機化合物を含むシェルで被覆されているため、熱伝導性が低いという問題がある。また、従来の熱伝導性絶縁樹脂成形体は、樹脂中に充填された無機フィラーが凝集しやすく、無機フィラーが繋がって形成される連続体が形成されにくいため、十分な熱伝導性が得られないという問題があった。 However, the heat conductive insulating resin molded body described in Patent Document 3 has a problem that the heat conductivity is low because the core particles containing the polymer compound are coated with the shell containing the inorganic compound. Further, in the conventional heat conductive insulating resin molded body, the inorganic filler filled in the resin tends to aggregate, and it is difficult to form a continuous body formed by connecting the inorganic fillers, so that sufficient heat conductivity can be obtained. There was a problem that there was no.

本発明は、無機フィラーの含有量が少ない場合でも熱伝導性及び絶縁性に優れる熱伝導性絶縁エラストマー成形体及びその製造方法、並びに当該熱伝導性絶縁エラストマー成形体を得るための熱伝導性絶縁エラストマー組成物を提供することを目的とする。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention relates to a thermally conductive insulating elastomer molded body having excellent thermal conductivity and insulating properties even when the content of the inorganic filler is small, a method for producing the same, and thermal conductive insulation for obtaining the thermally conductive insulating elastomer molded body. It is an object of the present invention to provide an elastomer composition.

本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、熱伝導性絶縁エラストマー組成物中に、無機フィラーと共にトリアジンジチオール系化合物を添加することにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have found that the above object can be achieved by adding a triazinedithiol-based compound together with an inorganic filler to the thermally conductive insulating elastomer composition. The present invention has been completed.

すなわち、本発明は、以下の構成からなる。
[1]
シリコーン系エラストマー及びフッ素系エラストマーからなる群より選択される少なくとも1種のエラストマー、無機フィラー、及び下記一般式(1)で表されるトリアジンジチオール系化合物を含有する熱伝導性絶縁エラストマー組成物。

Figure 0007076099000001
(式中、M及びMはそれぞれ独立にH、Li、Na、K、又はCsであり、RはS、O、又はNRであり、RはH、又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基、ハロゲン化アルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルコキシアルケニル基、フェニル基、ハロゲン化フェニル基、ヒドロキシフェニル基、アルコキシフェニル基、ビフェニル基、ハロゲン化ビフェニル基、ヒドロキシビフェニル基、アルコキシビフェニル基、ナフチル基、ハロゲン化ナフチル基、ヒドロキシナフチル基、アルコキシナフチル基、カルボキシル基、エステル基、ウレタン基、アゾ基、シアノ基、アミノ基、アミド基、及びアルコキシシリル基からなる群より選択される少なくとも1種の官能基を有する有機基であり、Rは前記有機基と同じであり、あるいはNRとRはヘテロ環を構成する。)
[2]
前記トリアジンジチオール系化合物は、下記一般式(2)~(4)で表されるトリアジンジチオール系化合物の少なくとも1種である[1]に記載の熱伝導性絶縁エラストマー組成物。
Figure 0007076099000002
(式中、M、M、R、及びRは前記と同じである。)
Figure 0007076099000003
(式中、M及びMは前記と同じであり、RはS、O、-NHCHCHO-、-N(CH)CHCHO-、-N(C)CHCHO-、-NHCHCHCHCHO-、-N(C)CHCHCHCHO-、-NHCH(CHCHO-、-NHCHCH(CH)O-、-NHCO-、-N(C)CO-、-NHC10O-、-N(CHCHCHO-、-N(CHCHNCHCHO-、-N(CHCHOH)CHCHO-、-N(CHCHCHOH)CHCHCHO-、-N(CHCH(CH)OH)CHCH(CH)O-、-N(CHCHCHCHOH)CHCHCHCHO-、-NHCHO-、-NHC11O-、又は-N(C)CO-であり、Rはアルキレン基であり、Rはアルコキシ基であり、R及びRはそれぞれ独立にアルコキシ基又はアルキル基である。)
Figure 0007076099000004
(式中、M、M、及びR~Rは前記と同じであり、Rは水素又はアルキル基であり、Rはアルキレン基又はアルキレンオキシ基であり、RとRは互いに結合して環を形成してもよい。)
[3]
前記無機フィラーは、窒化アルミニウムフィラー及び窒化ホウ素フィラーからなる群より選択される少なくとも1種を含む[1]又は[2]に記載の熱伝導性絶縁エラストマー組成物。
[4]
前記無機フィラーの含有量は、前記エラストマー100質量部に対して20~400質量部である[1]~[3]のいずれかに記載の熱伝導性絶縁エラストマー組成物。
[5]
前記トリアジンジチオール系化合物の含有量は、前記無機フィラー100質量部に対して5×10-7~5質量部である[1]~[4]のいずれかに記載の熱伝導性絶縁エラストマー組成物。
[6]
[1]~[5]のいずれかに記載の熱伝導性絶縁エラストマー組成物から得られる熱伝導性絶縁エラストマー成形体。
[7]
前記熱伝導性絶縁エラストマー成形体は、熱伝導性絶縁エラストマーシートである[6]に記載の熱伝導性絶縁エラストマー成形体。
[8]
[6]又は[7]に記載の熱伝導性絶縁エラストマー成形体の製造方法であって、前記無機フィラーと前記トリアジンジチオール系化合物とを接触させて、前記無機フィラーの表面に前記トリアジンジチオール系化合物を付着させて表面修飾無機フィラーを得る工程A、前記表面修飾無機フィラーを前記エラストマー中に分散させて前記熱伝導性絶縁エラストマー組成物を得る工程B、及び前記熱伝導性絶縁エラストマー組成物を成形する工程Cを含む熱伝導性絶縁エラストマー成形体の製造方法。
[9]
前記工程Cにおいて、前記熱伝導性絶縁エラストマー組成物を加圧及び/又は加熱して成形する[8]に記載の熱伝導性絶縁エラストマー成形体の製造方法。 That is, the present invention has the following configuration.
[1]
A thermally conductive insulating elastomer composition containing at least one elastomer selected from the group consisting of a silicone-based elastomer and a fluorine-based elastomer, an inorganic filler, and a triazinedithiol-based compound represented by the following general formula (1).
Figure 0007076099000001
(In the formula, M 1 and M 2 are independently H, Li, Na, K, or Cs, R 1 is S, O, or NR 3 , and R 3 is H, or an alkyl group, halogenated. Alkyl group, hydroxyalkyl group, alkoxyalkyl group, alkenyl group, halogenated alkenyl group, hydroxyalkenyl group, alkoxyalkenyl group, phenyl group, halogenated phenyl group, hydroxyphenyl group, alkoxyphenyl group, biphenyl group, halogenated biphenyl group , Hydroxybiphenyl group, alkoxybiphenyl group, naphthyl group, naphthyl halide group, hydroxynaphthyl group, alkoxynaphthyl group, carboxyl group, ester group, urethane group, azo group, cyano group, amino group, amide group, and alkoxysilyl group. It is an organic group having at least one functional group selected from the group consisting of, R 2 is the same as the organic group, or NR 3 and R 2 form a heterocycle).
[2]
The thermally conductive insulating elastomer composition according to [1], wherein the triazinedithiol-based compound is at least one of the triazinedithiol-based compounds represented by the following general formulas (2) to (4).
Figure 0007076099000002
(In the formula, M 1 , M 2 , R 2 and R 3 are the same as above.)
Figure 0007076099000003
(In the formula, M 1 and M 2 are the same as described above, and R 1 is S, O, -NHCH 2 CH 2 O-, -N (CH 3 ) CH 2 CH 2 O-, -N (C 3 H). 7 ) CH 2 CH 2 O-, -NHCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O-, -N (C 2 H 5 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O-, -NHCH 2 (CH 2 ) 8 CH 2 O-, -NHCH 2 CH (CH 3 ) O-, -NHC 6 H 4 O-, -N (C 2 H 5 ) C 6 H 4 O-, -NHC 10 H 6 O-, -N (CH 2 ) CH 2 ) 2 CHO-, -N (CH 2 CH 2 ) 2 NCH 2 CH 2 O-, -N (CH 2 CH 2 OH) CH 2 CH 2 O-, -N (CH 2 CH 2 CH 2 OH) CH 2 CH 2 CH 2 O-, -N (CH 2 CH (CH 3 ) OH) CH 2 CH (CH 3 ) O-, -N (CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OH) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O-, -NHCH 2 C 6 H 4 O-, -NHC 6 H 11 O-, or -N (C 3 H 7 ) C 6 H 4 O-, where R 4 is an alkylene group and R 5 is an alkoxy group, and R 6 and R 7 are independently alkoxy groups or alkyl groups, respectively.)
Figure 0007076099000004
(In the formula, M 1 , M 2 and R 5 to R 7 are the same as above, R 8 is a hydrogen or alkyl group, R 9 is an alkylene or alkylene oxy group, R 8 and R 9 May combine with each other to form a ring.)
[3]
The thermally conductive insulating elastomer composition according to [1] or [2], wherein the inorganic filler contains at least one selected from the group consisting of an aluminum nitride filler and a boron nitride filler.
[4]
The thermally conductive insulating elastomer composition according to any one of [1] to [3], wherein the content of the inorganic filler is 20 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the elastomer.
[5]
The thermally conductive insulating elastomer composition according to any one of [1] to [4], wherein the content of the triazinedithiol-based compound is 5 × 10 -7 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler. ..
[6]
A thermally conductive insulating elastomer molded product obtained from the thermally conductive insulating elastomer composition according to any one of [1] to [5].
[7]
The thermally conductive insulating elastomer molded body according to [6], wherein the thermally conductive insulating elastomer molded body is a thermally conductive insulating elastomer sheet.
[8]
The method for producing a thermally conductive insulating elastomer molded product according to [6] or [7], wherein the inorganic filler is brought into contact with the triazinedithiol-based compound, and the triazinedithiol-based compound is brought onto the surface of the inorganic filler. Step A to obtain the surface-modified inorganic filler, step B to disperse the surface-modified inorganic filler in the elastomer to obtain the thermally conductive insulating elastomer composition, and molding the thermally conductive insulating elastomer composition. A method for producing a thermally conductive insulating elastomer molded product, which comprises the step C.
[9]
The method for producing a thermally conductive insulating elastomer molded product according to [8], wherein the thermally conductive insulating elastomer composition is formed by pressurizing and / or heating in the step C.

本発明の熱伝導性絶縁エラストマー組成物は、無機フィラーと共にトリアジンジチオール系化合物を含有している。トリアジンジチオール系化合物を無機フィラーの表面に付着させることにより、トリアジンジチオール系化合物により表面修飾された無機フィラー(表面修飾無機フィラー)が得られる。当該表面修飾無機フィラーは、従来の無機フィラーに比べて分散性が高いため、エラストマー中で凝集しにくい。そのため、エラストマー中に、表面修飾無機フィラーが繋がって形成される連続体が形成されやすい。その結果、本発明の熱伝導性絶縁エラストマー組成物から得られる熱伝導性絶縁エラストマー成形体は、無機フィラーの含有量が少ない場合でも優れた熱伝導性を有する。 The thermally conductive insulating elastomer composition of the present invention contains a triazinedithiol-based compound together with an inorganic filler. By adhering the triazinedithiol-based compound to the surface of the inorganic filler, an inorganic filler surface-modified with the triazinedithiol-based compound (surface-modified inorganic filler) can be obtained. Since the surface-modified inorganic filler has higher dispersibility than the conventional inorganic filler, it is less likely to aggregate in the elastomer. Therefore, a continuum formed by connecting surface-modified inorganic fillers is likely to be formed in the elastomer. As a result, the thermally conductive insulating elastomer molded product obtained from the thermally conductive insulating elastomer composition of the present invention has excellent thermal conductivity even when the content of the inorganic filler is small.

以下、本発明の実施の形態について説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.

本発明の熱伝導性絶縁エラストマー組成物は、シリコーン系エラストマー及びフッ素系エラストマーからなる群より選択される少なくとも1種のエラストマー、無機フィラー、及び下記一般式(1)で表されるトリアジンジチオール系化合物を含有する。

Figure 0007076099000005
(式中、M及びMはそれぞれ独立にH、Li、Na、K、又はCsであり、RはS、O、又はNRであり、RはH、又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基、ハロゲン化アルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルコキシアルケニル基、フェニル基、ハロゲン化フェニル基、ヒドロキシフェニル基、アルコキシフェニル基、ビフェニル基、ハロゲン化ビフェニル基、ヒドロキシビフェニル基、アルコキシビフェニル基、ナフチル基、ハロゲン化ナフチル基、ヒドロキシナフチル基、アルコキシナフチル基、カルボキシル基、エステル基、ウレタン基、アゾ基、シアノ基、アミノ基、アミド基、及びアルコキシシリル基からなる群より選択される少なくとも1種の官能基を有する有機基であり、Rは前記有機基と同じであり、あるいはNRとRはヘテロ環を構成する。) The thermally conductive insulating elastomer composition of the present invention comprises at least one elastomer selected from the group consisting of a silicone-based elastomer and a fluorine-based elastomer, an inorganic filler, and a triazinedithiol-based compound represented by the following general formula (1). Contains.
Figure 0007076099000005
(In the formula, M 1 and M 2 are independently H, Li, Na, K, or Cs, R 1 is S, O, or NR 3 , and R 3 is H, or an alkyl group, halogenated. Alkyl group, hydroxyalkyl group, alkoxyalkyl group, alkenyl group, halogenated alkenyl group, hydroxyalkenyl group, alkoxyalkenyl group, phenyl group, halogenated phenyl group, hydroxyphenyl group, alkoxyphenyl group, biphenyl group, halogenated biphenyl group , Hydroxybiphenyl group, alkoxybiphenyl group, naphthyl group, naphthyl halide group, hydroxynaphthyl group, alkoxynaphthyl group, carboxyl group, ester group, urethane group, azo group, cyano group, amino group, amide group, and alkoxysilyl group. It is an organic group having at least one functional group selected from the group consisting of, R 2 is the same as the organic group, or NR 3 and R 2 form a heterocycle).

<エラストマー>
シリコーン系エラストマー及びフッ素系エラストマーは公知のものを特に制限なく使用することができ、熱伝導性絶縁エラストマー成形体の用途等に応じて適宜選択する。前記エラストマーは1種で用いてもよく、併用してもよい。なお、本発明の効果を損なわない範囲で、ポリエステル系エラストマー、ポリアミド系エラストマー、ゴム系エラストマー、オレフィン系エラストマー、スチレン系エラストマー、塩化ビニル系エラストマー、及びポリウレタン系エラストマーなどの他のエラストマー、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及びゴムを前記組成物中に適宜配合してもよい。これらは1種配合してもよく、2種以上配合してもよい。
<Elastomer>
Known silicone-based elastomers and fluorine-based elastomers can be used without particular limitation, and are appropriately selected depending on the intended use of the thermally conductive insulating elastomer molded product and the like. The elastomer may be used alone or in combination. Other elastomers such as polyester-based elastomers, polyamide-based elastomers, rubber-based elastomers, olefin-based elastomers, styrene-based elastomers, vinyl chloride-based elastomers, and polyurethane-based elastomers, and thermoplastic resins, as long as the effects of the present invention are not impaired. , The thermoplastic resin, and the rubber may be appropriately blended in the composition. These may be blended alone or in combination of two or more.

シリコーン系エラストマーは特に制限されず、例えば、下記一般式(5)で表される構造単位を有するものが挙げられる。

Figure 0007076099000006
The silicone-based elastomer is not particularly limited, and examples thereof include those having a structural unit represented by the following general formula (5).
Figure 0007076099000006

シリコーン系エラストマーとしては、前記一般式(5)において、全てのRがメチル基であるポリジメチルシロキサン、前記メチル基の一部が他のアルキル基、ビニル基、フェニル基、及びフルオロアルキル基等の置換基の1種以上で置換された各種のポリオルガノシロキサンが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 As the silicone-based elastomer, in the above general formula (5), polydimethylsiloxane in which all Rs are methyl groups, and some of the methyl groups are other alkyl groups, vinyl groups, phenyl groups, fluoroalkyl groups and the like. Examples thereof include various polyorganosiloxanes substituted with one or more substituents. These may be used alone or in combination of two or more.

前記一般式(5)において、nは特に制限されないが、5~100000の整数であることが好ましい。 In the general formula (5), n is not particularly limited, but is preferably an integer of 5 to 100,000.

シリコーン系エラストマーは、耐熱性の観点から、付加反応または過酸化物によって硬化する架橋タイプであることが好ましい。架橋タイプのシリコーン系エラストマーとしては、例えば、1分子中に、ケイ素原子に結合したアルケニル基を2個以上、好ましくは3個以上有するものが挙げられる。ケイ素原子に結合したアルケニル基の含有量が前記数値範囲より少ないと、硬化が付加反応によって行われる場合には、得られる組成物が十分に硬化しない。前記アルケニル基としてはビニル基が好ましい。前記アルケニル基は、分子鎖末端のケイ素原子、又は分子鎖末端以外のケイ素原子のいずれに結合していてもよいが、少なくとも1個のアルケニル基が分子鎖末端のケイ素原子に結合していることが好ましい。 From the viewpoint of heat resistance, the silicone-based elastomer is preferably a crosslinked type that is cured by an addition reaction or a peroxide. Examples of the crosslinked type silicone-based elastomer include those having two or more, preferably three or more alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule. If the content of the alkenyl group bonded to the silicon atom is less than the above numerical range, the obtained composition will not be sufficiently cured when the curing is carried out by an addition reaction. A vinyl group is preferable as the alkenyl group. The alkenyl group may be bonded to either a silicon atom at the end of the molecular chain or a silicon atom other than the end of the molecular chain, but at least one alkenyl group is bonded to the silicon atom at the end of the molecular chain. Is preferable.

付加反応によって硬化するシリコーン系エラストマーとしては、例えば、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルビニルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルビニルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、及び分子鎖両末端トリビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン等を挙げることができる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the silicone-based elastomer that is cured by the addition reaction include a dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane copolymer having both ends of the molecular chain, a trimethylsiloxy group-blocking methylvinylpolysiloxane at both ends of the molecular chain, and a trimethylsiloxy having both ends of the molecular chain. Base-blocked dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, molecular chain double-ended dimethylvinylsiloxy group-blocked dimethylpolysiloxane, molecular chain double-ended dimethylvinylsiloxy group-blocked methylvinylpolysiloxane, molecular chain double-ended dimethylvinylsiloxy Base-blocked dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane copolymer, molecular chain double-ended dimethylvinylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, molecular chain double-ended trivinylsiloxy group-blocked dimethylpolysiloxane, etc. Can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

過酸化物によって硬化するシリコーン系エラストマーとしては、例えば、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端メチルフェニルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチル(3,3,3-トリフルオロプロピル)ポリシロキサン、分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、及び分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体等が挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of silicone-based elastomers that can be cured by peroxide include dimethylpolysiloxane with both ends of the molecular chain dimethylvinylsiloxy group sealed, dimethylpolysiloxane at both ends of the molecular chain, dimethylpolysiloxane, and dimethylvinylsiloxy group sealed at both ends of the molecular chain. Dimethylsiloxane / Methylphenylsiloxane copolymer, dimethylvinylsyloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane copolymer at both ends of the molecular chain, trimethylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane copolymer at both ends of the molecular chain, both molecular chains Terminal dimethylvinyl siloxy group-blocked methyl (3,3,3-trifluoropropyl) polysiloxane, molecular chain double-ended silanol group-blocked dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane copolymer, and molecular chain double-ended silanol group-blocked dimethylsiloxane / methyl Examples thereof include vinyl siloxane and methyl phenyl siloxane copolymers. These may be used alone or in combination of two or more.

付加反応によって硬化を行う場合には、例えば、硬化剤としてオルガノハイドロジェンポリシロキサンを用い、白金系触媒の存在下で反応が行われる。過酸化物によって硬化を行う場合には、例えば、硬化剤として有機過酸化物を用いる。前記硬化剤及び触媒は、いずれも当該技術分野において公知のものを使用することができる。 When curing is performed by an addition reaction, for example, organohydrogenpolysiloxane is used as a curing agent, and the reaction is performed in the presence of a platinum-based catalyst. When curing is performed with a peroxide, for example, an organic peroxide is used as a curing agent. As the curing agent and the catalyst, those known in the art can be used.

フッ素系エラストマーは特に制限されず、例えば、ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン系共重合体、ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン/テトラフロロエチレン系共重合体、及びテトラフロロエチレン/プロピレン系共重合体等が挙げられる。また、これらの共重合体にエチレンやパーフロロアルキルビニルエーテルを更に共重合させたものでもよい。また、フッ素ゴム(ビニリデンフロライド/ヘキサフロロプロペン/テトラフロロエチレン系共重合体)とフッ素樹脂(テトラフロロエチレン/エチレン交互共重合体及びポリビニリデンフロライド)とのブロック共重合体であるフッ素系熱可塑性エラストマーも使用できる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The fluorine-based elastomer is not particularly limited, and is, for example, vinylidenefluorolide / hexafluoropropene-based copolymer, vinylidenefluorolide / hexafluoropropene / tetrafluoroethylene-based copolymer, tetrafluoroethylene / propylene-based copolymer, and the like. Can be mentioned. Further, these copolymers may be further copolymerized with ethylene or perfluoroalkyl vinyl ether. In addition, it is a block copolymer of fluororubber (vinylidenefluorolide / hexafluoropropene / tetrafluoroethylene-based copolymer) and fluororesin (tetrafluoroethylene / ethylene alternating copolymer and polyvinylidenefluorolide). Thermoplastic elastomers can also be used. These may be used alone or in combination of two or more.

また、フッ素系エラストマーとしては、パーフルオロエラストマーを用いることもできる。パーフルオロエラストマーとしては、例えば、パーフルオロオレフィンと、パーフルオロ(アルキルビニル)エーテル、パーフルオロ(アルコキシビニル)エーテル、及びその混合物からなる群より選択されたパーフルオロビニルエーテルと、硬化部位モノマーとの共重合単位を含有するパーフルオロエラストマー等が挙げられる。 Further, as the fluoroelastomer, a perfluoroelastomer can also be used. Examples of the perfluoroelastomer include a perfluoroolefin, a perfluorovinyl ether selected from the group consisting of a perfluoro (alkyl vinyl) ether, a perfluoro (alkoxyvinyl) ether, and a mixture thereof, and a copolymer of a cured site monomer. Examples thereof include perfluoroelastomers containing a polymerization unit.

硬化部位モノマーとしては、ヨウ素や臭素を含む硬化部位モノマー、シアノ基を含む硬化部位モノマーが挙げられる。ヨウ素や臭素を含む硬化部位モノマーとしては、例えば、CF=CF(CFI、CF=CF(CFBr、及びI(CFI等が挙げられる。また、シアノ基を含む硬化部位モノマーとしては、例えば、シアノ基含有パーフルオロビニルエーテルが挙げられ、具体的には、CF=CFO(CFOCF(CF)CN(n:2~4)、CF=CFO(CFCN(n:2~12)、CF=CFO[CFCF(CF)O](CFCN(n:2、m:1~5)、CF=CFO[CFCF(CF)O](CFCN(n:1~4、m:1~2)、及びCF=CFO[CFCF(CF)O]CFCF(CF)CN(n:0~4)等が挙げられる。パーフルオロエラストマーは、公知の方法により合成してもよいが、市販されているものを用いてもよい。 Examples of the cured site monomer include a cured site monomer containing iodine and bromine, and a cured site monomer containing a cyano group. Examples of the cured site monomer containing iodine and bromine include CF 2 = CF (CF 2 ) n I, CF 2 = CF (CF 2 ) n Br, and I (CF 2 ) n I. Examples of the cured site monomer containing a cyano group include cyano group-containing perfluorovinyl ether, and specifically, CF 2 = CFO (CF 2 ) n OCF (CF 3 ) CN (n: 2 to 4). ), CF 2 = CFO (CF 2 ) n CN (n: 2-12), CF 2 = CFO [CF 2 CF (CF 3 ) O] m (CF 2 ) n CN (n: 2, m: 1 ~ 5), CF 2 = CFO [CF 2 CF (CF 3 ) O] m (CF 2 ) n CN (n: 1 to 4, m: 1 to 2), and CF 2 = CFO [CF 2 CF (CF 3 ) ) O] n CF 2 CF (CF 3 ) CN (n: 0 to 4) and the like. The perfluoroelastomer may be synthesized by a known method, or a commercially available one may be used.

<無機フィラー>
無機フィラーは公知のものを特に制限なく使用することができる。無機フィラーとしては、例えば、アルミニウム、銅、ニッケル;アルミナ、酸化マグネシウム、酸化ベリリウム、酸化クロム、酸化チタン;窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化シリコン、窒化チタン、窒化タンタル、窒化クロム;ホウ化チタン、ホウ化ジルコニウム、ホウ化ハフニウム、ホウ化イットリウム、ホウ化バナジウム、2ホウ化マグネシウム、ホウ化ニオブ、ホウ化タンタル、ホウ化タリウム;炭化ホウ素、炭化チタン、炭化ジルコニウム、炭化バナジウム、炭化ニオブ、炭化タンタル、炭化クロム、炭化モリブデン、炭化タングステン、炭化IIタングステン炭化珪素;Fe-Si合金、Fe-Al合金、Fe-Si-Al合金、Fe-Si-Cr合金、Fe-Ni合金、Fe-Ni-Co合金、Fe-Ni-Mo合金、Fe-Co合金、Fe-Si-Al-Cr合金、Fe-Si-B合金、Fe-Si-Co-B合金;Mn-Znフェライト、Mn-Mg-Znフェライト、Mg-Cu-Znフェライト、Ni-Znフェライト、Ni-Cu-Znフェライト、Cu-Znフェライトなどが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Inorganic filler>
As the inorganic filler, known ones can be used without particular limitation. Examples of the inorganic filler include aluminum, copper, nickel; alumina, magnesium oxide, beryllium oxide, chromium oxide, titanium oxide; boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride, tantalum nitride, chromium nitride; titanium boride, hoof. Zirconium boro, hafnium borohydride, ittrium borohydride, vanadium borohydride, magnesium boroborohydride, niobium borohydride, tantalum borohydride, talium borohydride; boron carbide, titanium carbide, zirconium carbide, vanadium carbide, niobium carbide, tantalum carbide, Chromium carbide, molybdenum carbide, tungsten carbide, tungsten carbide II tungsten carbide; Fe-Si alloy, Fe-Al alloy, Fe-Si-Al alloy, Fe-Si-Cr alloy, Fe-Ni alloy, Fe-Ni-Co alloy , Fe-Ni-Mo alloy, Fe-Co alloy, Fe-Si-Al-Cr alloy, Fe-Si-B alloy, Fe-Si-Co-B alloy; Mn-Zn ferrite, Mn-Mg-Zn ferrite, Examples thereof include Mg-Cu-Zn ferrite, Ni-Zn ferrite, Ni-Cu-Zn ferrite, Cu-Zn ferrite and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

これらのうち、熱伝導性及び電気絶縁性の観点から、好ましくは、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化ベリリウム、酸化クロム、酸化チタン、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化シリコン、窒化チタン、窒化クロム、窒化タンタル、ホウ化チタン、ホウ化ジルコニウム、ホウ化ハフニウム、ホウ化イットリウム、ホウ化バナジウム、2ホウ化マグネシウム、ホウ化ニオブ、ホウ化タンタル、ホウ化タリウム、及びホウ化モリブデンからなる群より選択される少なくとも1種であり、より好ましくは、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化ベリリウム、酸化クロム、酸化チタン、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化シリコン、窒化チタン、窒化クロム、ホウ化チタン、ホウ化ジルコニウム、ホウ化ハフニウム、ホウ化イットリウム、ホウ化バナジウム、2ホウ化マグネシウム、ホウ化ニオブ、ホウ化タンタル、ホウ化タリウム、及びホウ化モリブデンからなる群より選択される少なくとも1種であり、さらに好ましくは、窒化アルミニウム及び窒化ホウ素からなる群より選択される少なくとも1種である。 Of these, from the viewpoint of thermal conductivity and electrical insulation, alumina, magnesium oxide, magnesium oxide, beryllium oxide, chromium oxide, titanium oxide, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride, chromium nitride, etc. are preferable. Selected from the group consisting of tantalum nitride, titanium borate, zirconium borate, hafnium borate, ittrium borate, vanadium borate, magnesium diboride, niobium borate, tantalum borate, tallium borate, and molybdenum borate. Alumina, magnesium oxide, magnesium oxide, beryllium oxide, chromium oxide, titanium oxide, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride, chromium nitride, titanium boride, zirconium borate. , Hafnium boride, ittrium borate, vanadium borate, magnesium boride, niobium borate, tantalum borate, tallium borate, and molybdenum borate, more preferably at least one selected from the group. , At least one selected from the group consisting of aluminum nitride and boron nitride.

無機フィラーは、長さ・幅・厚み方向で極端な差がない粒子であることが好ましく、アスペクト比は0.8~1.0であることが好ましい。無機フィラーの形状は、球状だけでなく、針状、塊状、立方体や十二面体といった多面体状であってもよい。 The inorganic filler is preferably particles having no extreme difference in length, width, and thickness, and the aspect ratio is preferably 0.8 to 1.0. The shape of the inorganic filler may be not only spherical but also a polyhedron such as a needle, a lump, a cube or an icosidodecahedron.

無機フィラーの粒径は特に制限されないが、好ましくは0.1~500μm、より好ましくは0.5~300μm、さらに好ましくは1~200μm以上であり、粒径が500μmを超えると、熱伝導性、表面外観の観点から好ましくなく、粒径が0.1μm未満では、分散性が低下したり、コストアップになり好ましくない傾向を示す。 The particle size of the inorganic filler is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 500 μm, more preferably 0.5 to 300 μm, still more preferably 1 to 200 μm or more, and when the particle size exceeds 500 μm, the thermal conductivity is increased. It is not preferable from the viewpoint of surface appearance, and if the particle size is less than 0.1 μm, the dispersibility is lowered and the cost is increased, which tends to be unfavorable.

熱伝導性絶縁エラストマー組成物中における無機フィラーの含有量は特に制限されないが、優れた熱伝導性を得る観点から、前記エラストマー100質量部に対して、好ましくは20~400質量部であり、より好ましくは25~350質量部であり、さらに好ましくは30~300質量部であり、20質量部未満では、熱伝導性が低下する傾向になり、400質量部を超えると、柔軟性が低下する傾向にある。 The content of the inorganic filler in the heat conductive insulating elastomer composition is not particularly limited, but is preferably 20 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the elastomer from the viewpoint of obtaining excellent heat conductivity. It is preferably 25 to 350 parts by mass, more preferably 30 to 300 parts by mass, and if it is less than 20 parts by mass, the thermal conductivity tends to decrease, and if it exceeds 400 parts by mass, the flexibility tends to decrease. It is in.

<トリアジンジチオール系化合物>
本発明で用いられるトリアジンジチオール系化合物は、下記一般式(1)で表される。トリアジンジチオール系化合物は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。

Figure 0007076099000007
(式中、M及びMはそれぞれ独立にH、Li、Na、K、又はCsであり、RはS、O、又はNRであり、RはH、又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基、ハロゲン化アルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルコキシアルケニル基、フェニル基、ハロゲン化フェニル基、ヒドロキシフェニル基、アルコキシフェニル基、ビフェニル基、ハロゲン化ビフェニル基、ヒドロキシビフェニル基、アルコキシビフェニル基、ナフチル基、ハロゲン化ナフチル基、ヒドロキシナフチル基、アルコキシナフチル基、カルボキシル基、エステル基、ウレタン基、アゾ基、シアノ基、アミノ基、アミド基、及びアルコキシシリル基からなる群より選択される少なくとも1種の官能基を有する有機基であり、Rは前記有機基と同じであり、あるいはNRとRはヘテロ環を構成する。) <Triazinedithiol compound>
The triazinedithiol-based compound used in the present invention is represented by the following general formula (1). The triazinedithiol-based compound may be used alone or in combination of two or more.
Figure 0007076099000007
(In the formula, M 1 and M 2 are independently H, Li, Na, K, or Cs, R 1 is S, O, or NR 3 , and R 3 is H, or an alkyl group, halogenated. Alkyl group, hydroxyalkyl group, alkoxyalkyl group, alkenyl group, halogenated alkenyl group, hydroxyalkenyl group, alkoxyalkenyl group, phenyl group, halogenated phenyl group, hydroxyphenyl group, alkoxyphenyl group, biphenyl group, halogenated biphenyl group , Hydroxybiphenyl group, alkoxybiphenyl group, naphthyl group, naphthyl halide group, hydroxynaphthyl group, alkoxynaphthyl group, carboxyl group, ester group, urethane group, azo group, cyano group, amino group, amide group, and alkoxysilyl group. It is an organic group having at least one functional group selected from the group consisting of, R 2 is the same as the organic group, or NR 3 and R 2 form a heterocycle).

前記アルキル基は、直鎖状、分岐状、又は環状のいずれであってもよい。前記アルキル基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~40であり、より好ましくは1~30である。 The alkyl group may be linear, branched, or cyclic. The number of carbon atoms of the alkyl group is not particularly limited, but is preferably 1 to 40, more preferably 1 to 30.

前記アルケニル基は、直鎖、分岐、又は環状のいずれであってもよい。前記アルケニル基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~40であり、より好ましくは1~30である。 The alkenyl group may be linear, branched or cyclic. The number of carbon atoms of the alkenyl group is not particularly limited, but is preferably 1 to 40, more preferably 1 to 30.

前記ハロゲンは特に制限されず、例えば、フッ素、塩素、臭素、及びヨウ素が挙げられる。 The halogen is not particularly limited, and examples thereof include fluorine, chlorine, bromine, and iodine.

前記アルコキシ基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~40であり、より好ましくは1~30である。 The number of carbon atoms of the alkoxy group is not particularly limited, but is preferably 1 to 40, more preferably 1 to 30.

前記トリアジンジチオール系化合物は、下記一般式(2)~(4)で表されるトリアジンジチオール系化合物の少なくとも1種であることが好ましい。

Figure 0007076099000008
(式中、M、M、R、及びRは前記と同じである。) The triazinedithiol-based compound is preferably at least one of the triazinedithiol-based compounds represented by the following general formulas (2) to (4).
Figure 0007076099000008
(In the formula, M 1 , M 2 , R 2 and R 3 are the same as above.)

前記一般式(2)において、Rは、好ましくは、-H、-CH、-C、-C、-CHCHCN、又は-CHCH=CHであり、Rは、好ましくは、-C16CH=CHC17、-C16CH=CH、-CCH=CHC、-CCH=CHCOCH、-CCH=CH、-CHCH=CH、-CHCH=CH、-CHNHCOC(CH)=CH、-CNHC、-CN=NC、-C[C(CHOH、-C、-C、-CHCOOH、-CHCOOC、-CHCOOC17、-CHCH(C、-CHCHOH、-CHCHCHCHOH、-CH(CHCHOH、-CHCH(CH)OH、-COH、-C10OH、-CH、-CH13、-CH15、-CH17、-CHCH、-CHCH13、-CHCH17、-CHCH1021、-CHCHCH17、-C17、-C、-C、-CSi(OCH、-CSi(OCH、-C12Si(OCH、-C1020Si(OCH、-CHCHNHCSi(OCH、-CSi(OC、-CSi(OCHCH、-CSi(CHOCH、又は-CSi(CHOSi(CHである。 In the general formula (2), R 3 is preferably -H, -CH 3 , -C 2 H 5 , -C 3 H 7 , -CH 2 CH 2 CN, or -CH 2 CH = CH 2 . Yes, R 2 is preferably -C 8 H 16 CH = CHC 8 H 17 , -C 8 H 16 CH = CH 2 , -C 6 H 4 CH = CHC 6 H 5 , -C 6 H 4 CH = CHC 6 H 4 OCH 3 , -C 6 H 4 CH = CH 2 , -CH 2 C 6 H 4 CH = CH 2 , -CH 2 CH = CH 2 , -CH 2 NHCOC (CH 3 ) = CH 2 ,- C 6 H 4 NHC 6 H 5 , -C 6 H 4 N = NC 6 H 5 , -C 6 H 2 [C (CH 3 ) 3 ] 2 OH, -C 6 H 4 C 6 H 5 , -C 6 H 4 C 6 H 4 C 6 H 5 , -CH 2 COOH, -CH 2 COOC 2 H 5 , -CH 2 COOC 8 H 17 , -CH 2 CH (C 6 H 5 ) 2 , -CH 2 CH 2 OH , -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OH, -CH 2 (CH 2 ) 8 CH 2 OH, -CH 2 CH (CH 3 ) OH, -C 6 H 4 OH, -C 10 H 6 OH, -CH 2 C 4 F 9 , -CH 2 C 6 F 13 , -CH 2 C 7 F 15 , -CH 2 C 8 F 17 , -CH 2 CH 2 C 4 F 9 , -CH 2 CH 2 C 6 F 13 , -CH 2 CH 2 C 8 F 17 , -CH 2 CH 2 C 10 F 21 , -CH 2 CH 2 CH 2 C 8 F 17 , -C 6 H 4 C 8 F 17 , -C 6 H 4 C 4 F 9 , -C 6 F 5 , -C 3 H 6 Si (OCH 3 ) 3 , -C 4 H 8 Si (OCH 3 ) 3 , -C 6 H 12 Si (OCH 3 ) 3 , -C 10 H 20 Si (OCH 3 ) 3 , -CH 2 CH 2 NHC 3 H 6 Si (OCH 3 ) 3 , -C 3 H 6 Si (OC 2 H 5 ) 3 , -C 3 H 6 Si (OCH 3 ) 2 CH 3 , -C 3 H 6 Si (CH 3 ) 2 OCH 3 or -C 3 H 6 Si (CH 3 ) 2 OSI (CH 3 ) 3 .

あるいは、前記一般式(2)において、RとRは同一であって、好ましくは、-CHCH=CH、-C16CH=CHC17、-C16CH=CH、-CCH=CHC、-CCH=CHCOCH、-CCH=CH、-CHCH=CH、-CHCH=CH、-CHNHCOC(CH)=CH、-CNHC、-CN=NC、-C[C(CHOH、-C、-C、-CHCOOH、-CHCOOC、-CHCOOC17、-CHCH(C、-CHCHOH、-CHCHCHCHOH、-CH(CHCHOH、-CHCH(CH)OH、-COH、-C10OH、-CH、-CH13、-CH17、-CHCH、-CHCH13、-CHCH17、-CHCH1021、-CHCHCH17、-C17、-C、-C、-CSi(OCH、-CSi(OCH、-C12Si(OCH、-C1020Si(OCH、-CHCHNHCSi(OCH、-CSi(OC、-CSi(OCHCH、-CSi(CHOCH、又は-CSi(CHOSi(CHである。 Alternatively, in the general formula (2), R 3 and R 2 are the same, preferably -CH 2 CH = CH 2 , -C 8 H 16 CH = CH C 8 H 17 , -C 8 H 16 CH. = CH 2 , -C 6 H 4 CH = CHC 6 H 5 , -C 6 H 4 CH = CHC 6 H 4 OCH 3 , -C 6 H 4 CH = CH 2 , -CH 2 C 6 H 4 CH = CH 2 , -CH 2 CH = CH 2 , -CH 2 NHCOC (CH 3 ) = CH 2 , -C 6 H 4 NHC 6 H 5 , -C 6 H 4 N = NC 6 H 5 , -C 6 H 2 [ C (CH 3 ) 3 ] 2 OH, -C 6 H 4 C 6 H 5 , -C 6 H 4 C 6 H 4 C 6 H 5 , -CH 2 COOH, -CH 2 COOC 2 H 5 , -CH 2 COOC 8 H 17 , -CH 2 CH (C 6 H 5 ) 2 , -CH 2 CH 2 OH, -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OH, -CH 2 (CH 2 ) 8 CH 2 OH, -CH 2 CH (CH 3 ) OH, -C 6 H 4 OH, -C 10 H 6 OH, -CH 2 C 4 F 9 , -CH 2 C 6 F 13 , -CH 2 C 8 F 17 , -CH 2 CH 2 C 4 F 9 , -CH 2 CH 2 C 6 F 13 , -CH 2 CH 2 C 8 F 17 , -CH 2 CH 2 C 10 F 21 , -CH 2 CH 2 CH 2 C 8 F 17 , -C 6 H 4 C 8 F 17 , -C 6 H 4 C 4 F 9 , -C 6 F 5 , -C 3 H 6 Si (OCH 3 ) 3 , -C 4 H 8 Si (OCH 3 ) 3 , -C 6 H 12 Si (OCH 3 ) 3 , -C 10 H 20 Si (OCH 3 ) 3 , -CH 2 CH 2 NHC 3 H 6 Si (OCH 3 ) 3 , -C 3 H 6 Si (OC 2 H 5 ) 3 , -C 3 H 6 Si (OCH 3 ) 2 CH 3 , -C 3 H 6 Si (CH 3 ) 2 OCH 3 , or -C 3 H 6 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 3 .

あるいは、前記一般式(2)において、NとRとRはヘテロ環を構成し、RとRは、好ましくは、-(CHCHCHOH、-(CHCHCHOCOC17CH=CH、-(CHCHCHOCH、又は-(CHCHCHOCOC(CH)=CHである。 Alternatively, in the general formula (2), N, R 3 and R 2 form a heterocycle, and R 3 and R 2 are preferably − (CH 2 CH 2 ) 2 CHOH, − (CH 2 CH 2 ). ) 2 CHOCOC 8 H 17 CH = CH 2 ,-(CH 2 CH 2 ) 2 CHOCH 3 or-(CH 2 CH 2 ) 2 CHOCOC (CH 3 ) = CH 2 .

Figure 0007076099000009
(式中、M及びMは前記と同じであり、RはS、O、-NHCHCHO-、-N(CH)CHCHO-、-N(C)CHCHO-、-NHCHCHCHCHO-、-N(C)CHCHCHCHO-、-NHCH(CHCHO-、-NHCHCH(CH)O-、-NHCO-、-N(C)CO-、-NHC10O-、-N(CHCHCHO-、-N(CHCHNCHCHO-、-N(CHCHOH)CHCHO-、-N(CHCHCHOH)CHCHCHO-、-N(CHCH(CH)OH)CHCH(CH)O-、-N(CHCHCHCHOH)CHCHCHCHO-、-NHCHO-、-NHC11O-、又は-N(C)CO-であり、Rはアルキレン基であり、Rはアルコキシ基であり、R及びRはそれぞれ独立にアルコキシ基又はアルキル基である。)
Figure 0007076099000009
(In the formula, M 1 and M 2 are the same as described above, and R 1 is S, O, -NHCH 2 CH 2 O-, -N (CH 3 ) CH 2 CH 2 O-, -N (C 3 H). 7 ) CH 2 CH 2 O-, -NHCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O-, -N (C 2 H 5 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O-, -NHCH 2 (CH 2 ) 8 CH 2 O-, -NHCH 2 CH (CH 3 ) O-, -NHC 6 H 4 O-, -N (C 2 H 5 ) C 6 H 4 O-, -NHC 10 H 6 O-, -N (CH 2 ) CH 2 ) 2 CHO-, -N (CH 2 CH 2 ) 2 NCH 2 CH 2 O-, -N (CH 2 CH 2 OH) CH 2 CH 2 O-, -N (CH 2 CH 2 CH 2 OH) CH 2 CH 2 CH 2 O-, -N (CH 2 CH (CH 3 ) OH) CH 2 CH (CH 3 ) O-, -N (CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OH) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O-, -NHCH 2 C 6 H 4 O-, -NHC 6 H 11 O-, or -N (C 3 H 7 ) C 6 H 4 O-, where R 4 is an alkylene group and R 5 is an alkoxy group, and R 6 and R 7 are independently alkoxy groups or alkyl groups, respectively.)

前記一般式(3)において、Rのアルキレン基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~40であり、より好ましくは1~30である。また、R~Rのアルコキシ基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~30であり、より好ましくは1~20である。また、R及びRのアルキル基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~30であり、より好ましくは1~20である。 In the general formula (3), the carbon number of the alkylene group of R4 is not particularly limited, but is preferably 1 to 40, more preferably 1 to 30. The number of carbon atoms of the alkoxy groups of R 5 to R 7 is not particularly limited, but is preferably 1 to 30, and more preferably 1 to 20. The number of carbon atoms of the alkyl groups of R 6 and R 7 is not particularly limited, but is preferably 1 to 30, and more preferably 1 to 20.

Figure 0007076099000010
(式中、M、M、及びR~Rは前記と同じであり、Rは水素又はアルキル基であり、Rはアルキレン基又はアルキレンオキシ基であり、RとRは互いに結合して環を形成してもよい。)
Figure 0007076099000010
(In the formula, M 1 , M 2 and R 5 to R 7 are the same as above, R 8 is a hydrogen or alkyl group, R 9 is an alkylene or alkylene oxy group, R 8 and R 9 May combine with each other to form a ring.)

前記一般式(4)において、R~Rのアルコキシ基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~30であり、より好ましくは1~20である。また、R及びRのアルキル基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~30であり、より好ましくは1~20である。Rのアルキル基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~30であり、より好ましくは1~20である。Rのアルキレン基又はアルキレンオキシ基の炭素数は特に制限されないが、好ましくは1~20であり、より好ましくは1~15である。RとRとが結合して形成する環としては、5員環及び6員環等が挙げられ、RとRとは結合して、プロパントリイル基(5員環を形成する場合)、ブタントリイル基(6員環を形成する場合)等を形成する。 In the general formula (4), the number of carbon atoms of the alkoxy groups of R5 to R7 is not particularly limited, but is preferably 1 to 30, and more preferably 1 to 20. The number of carbon atoms of the alkyl groups of R 6 and R 7 is not particularly limited, but is preferably 1 to 30, and more preferably 1 to 20. The number of carbon atoms of the alkyl group of R8 is not particularly limited, but is preferably 1 to 30, and more preferably 1 to 20. The carbon number of the alkylene group or the alkyleneoxy group of R 9 is not particularly limited, but is preferably 1 to 20, and more preferably 1 to 15. Examples of the ring formed by bonding R 8 and R 9 include a 5-membered ring and a 6-membered ring, and the rings R 8 and R 9 are bonded to form a propantriyl group (5-membered ring). Case), butantryyl group (when forming a 6-membered ring), etc. are formed.

前記一般式(1)で表されるトリアジンジチオール系化合物は、公知の方法で製造することができる。 The triazinedithiol-based compound represented by the general formula (1) can be produced by a known method.

例えば、前記一般式(2)で表されるトリアジンジチオール系化合物は、トリアジントリチオール又はその誘導体と、NHRで表されるアミン類とを混合し、反応させることにより合成することができる。なお、当該反応では、硫化水素が副生する。 For example, the triazinedithiol-based compound represented by the general formula (2) can be synthesized by mixing triazinetrithiol or a derivative thereof with amines represented by NHR 2 R 3 and reacting them. .. In this reaction, hydrogen sulfide is produced as a by-product.

また、前記一般式(3)で表されるトリアジンジチオール系化合物は、トリアジントリチオール又はその誘導体と、NCO-R-SiRで表されるアルコキシシリルアルキルイソシアネートとを混合し、反応させることにより合成することができる。前記アルコキシシリルアルキルイソシアネートとしては、例えば、3-トリメトキシシリルプロピルイソシアネート、及び3-トリエトキシシリルプロピルイソシアネート等が挙げられる。 The triazinedithiol-based compound represented by the general formula (3) is obtained by mixing triazinetrithiol or a derivative thereof with an alkoxysilylalkyl isocyanate represented by NCO-R 4 -SiR 5 R 6 R 7 . It can be synthesized by reacting. Examples of the alkoxysilylalkyl isocyanate include 3-trimethoxysilylpropyl isocyanate and 3-triethoxysilylpropyl isocyanate.

また、前記一般式(4)で表されるトリアジンジチオール系化合物は、トリアジントリチオール又はその誘導体と、下記一般式(6)で表されるエポキシ基含有アルコキシシランとを混合し、反応させることにより合成することができる。

Figure 0007076099000011
(式中、R~Rは前記と同じである。) The triazinedithiol-based compound represented by the general formula (4) is prepared by mixing triazinetrithiol or a derivative thereof with an epoxy group-containing alkoxysilane represented by the following general formula (6) and reacting them. Can be synthesized.
Figure 0007076099000011
( In the formula, R5 to R9 are the same as above.)

前記エポキシ基含有アルコキシシランとしては、例えば、ジエトキシ(3-グリシジル)メチルシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシジルプロピル(ジメトキシ)メチルシラン、3-グリシジルプロピルトリメトキシシラン、ジエトキシ(3-グリシジルオキシ)メチルシラン、3-グリシジルオキシプロピル(ジメトキシ)メチルシラン、及び3-グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the epoxy group-containing alkoxysilane include diethoxy (3-glycidyl) methylsilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidylpropyl (dimethoxy) methylsilane, and 3-glycidylpropyltrimethoxysilane. , Diethoxy (3-glycidyloxy) methylsilane, 3-glycidyloxypropyl (dimethoxy) methylsilane, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane and the like.

前記反応は、前記原料を溶剤中に分散又は溶解させるなどして混合し、更に加熱反応させることにより行うことが好ましい。それにより、目的物を短時間で容易に合成することができる。 The reaction is preferably carried out by mixing the raw materials by dispersing or dissolving them in a solvent and further heating and reacting them. Thereby, the target product can be easily synthesized in a short time.

溶剤としては、例えば、水;メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロパノール、プロピレングリコール、カルビトール、及びセルソルブ等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、及びシクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、安息香酸メチル、フタル酸ジエチル、アジピン酸ジエチル、ジブチルエーテル、及びアニソール等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン、及びデカリン等の芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホアミド、及びメチルピロリドン等の極性溶媒、又はこれらの混合溶媒等が挙げられる。 Solvents include, for example, water; alcohols such as methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropanol, propylene glycol, carbitol, and cellsolve; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone; ethyl acetate, methyl benzoate, phthalic acid. Ethers such as diethyl, diethyl adipate, dibutyl ether, and anisole; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and decalin; polar solvents such as dimethylformamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoamide, and methylpyrrolidone. , Or a mixed solvent thereof and the like.

溶剤中のトリアジントリチオール又はその誘導体の濃度は特に制限されないが、通常0.1~500g/Lであり、好ましくは1~100g/Lである。トリアジントリチオール又はその誘導体の濃度が1g/L未満の場合には、反応効率が悪くなる傾向があり、一方、濃度が100g/Lを超えると、溶液又は分散媒体の粘度が高くなりすぎて撹拌が困難になり、均一な反応が起こりにくくなる。 The concentration of triazine trithiol or a derivative thereof in the solvent is not particularly limited, but is usually 0.1 to 500 g / L, preferably 1 to 100 g / L. When the concentration of triazine trithiol or its derivative is less than 1 g / L, the reaction efficiency tends to be poor, while when the concentration exceeds 100 g / L, the viscosity of the solution or dispersion medium becomes too high and stirring is performed. Becomes difficult and a uniform reaction is less likely to occur.

反応温度は、使用する溶剤の沸点と関係するので一義的に設定できないが、通常0~200℃であり、好ましくは30~160℃である。30℃未満では、反応時間が長くなり、生産性が低下する傾向にある。また、160℃を超えると、反応速度が高くなり生産性は向上するが、2量体等の副生成物が生成し、目的物との分離に特別の操作が必要となることがある。 The reaction temperature cannot be uniquely set because it is related to the boiling point of the solvent used, but is usually 0 to 200 ° C, preferably 30 to 160 ° C. Below 30 ° C., the reaction time becomes long and the productivity tends to decrease. Further, when the temperature exceeds 160 ° C., the reaction rate is increased and the productivity is improved, but by-products such as dimers are produced, and a special operation may be required for separation from the target product.

反応終了後、溶剤を留去することで、トリアジンジチオール系化合物が白色結晶又は液体で得られるが、これを溶剤抽出又は洗浄することにより、あるいは蒸留又は結晶化することにより、精製することが可能である。また、副生成物が生成した場合には、目的物を水中でナトリウム塩とした後、不溶物を除去し、可溶物を1%-HCl溶液で中和して精製する工程を追加することが好ましい。 After completion of the reaction, the triazinedithiol compound can be obtained as white crystals or liquid by distilling off the solvent, which can be purified by solvent extraction or washing, or by distillation or crystallization. Is. In addition, when a by-product is produced, a step of converting the target product into a sodium salt in water, removing the insoluble material, neutralizing the solubilized product with a 1% -HCl solution, and purifying the product should be added. Is preferable.

熱伝導性絶縁エラストマー組成物中におけるトリアジンジチオール系化合物の含有量は特に制限されないが、優れた熱伝導性を得る観点から、前記無機フィラー100質量部に対して、好ましくは5×10-7~5質量部、より好ましくは1×10-6~4質量部、さらに好ましくは1.5×10-6~3質量部であり、5×10-7質量部未満では、熱伝導性、分散性が低下する傾向にあり、5質量部を超えると、コストアップになる傾向にある。 The content of the triazinedithiol-based compound in the heat conductive insulating elastomer composition is not particularly limited, but from the viewpoint of obtaining excellent heat conductivity, it is preferably 5 × 10 -7 to 100 parts by mass of the inorganic filler. 5 parts by mass, more preferably 1 × 10 -6 to 4 parts by mass, further preferably 1.5 × 10 -6 to 3 parts by mass, and less than 5 × 10 -7 parts by mass, thermal conductivity and dispersibility. Tends to decrease, and if it exceeds 5 parts by mass, the cost tends to increase.

<その他の成分>
熱伝導性絶縁エラストマー組成物には、芳香族アミン系、ヒンダードフェノール系、リン系、及び硫黄系などの酸化防止剤を配合することが好ましい。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Other ingredients>
It is preferable to add an antioxidant such as an aromatic amine-based, a hindered phenol-based, a phosphorus-based, and a sulfur-based antioxidant to the thermally conductive insulating elastomer composition. These may be used alone or in combination of two or more.

芳香族アミン系酸化防止剤としては、例えば、フェニルナフチルアミン、4,4’-ジメトキシジフェニルアミン、4,4’-ビス(α,α-ジメチルベンジル)ジフェニルアミン、及び4-イソプロポキシジフェニルアミンなどが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the aromatic amine-based antioxidant include phenylnaphthylamine, 4,4'-dimethoxydiphenylamine, 4,4'-bis (α, α-dimethylbenzyl) diphenylamine, and 4-isopropoxydiphenylamine. These may be used alone or in combination of two or more.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ-トルエン、n-オクタデシル-β-(4’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-ブチルフェニル)プロピオネート、テトラキス〔メチレン-3-(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタン、1,3,5-トリメチル-2,4,6’-トリス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)ベンゼン、カルシウム(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシーベンジルーモノエチル-フォスフェート)、トリエチレングリコール-ビス〔3-(3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、ペンテリスリチル-テトラキス〔3-(3,5-ジ-t-ブチルアニリノ)-1,3,5-トリアジン、3,9-ビス〔1,1-ジメチル-2-{β-(3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル〕2,4,8,10-テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン、ビス〔3,3-ビス(4’-ヒドロキシ-3’-t-ブチルフェニル)酪酸〕グリコールエステル、トリフェノール、2,2’-エチリデンビス(4,6-ジ-t-ブチルフェノール)、N,N’-ビス〔3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕ヒドラジン、2,2’-オキサミドビス〔エチル-3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,1,3-トリス(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシベンジル)-S-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオン、1,3,5-トリス(4-t-ブチル-3-ヒドロキシ-2,6-ジメチルベンジル)イソシアヌレート、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシヒドロシンナミックアヒドトリエステルウイズ-1,3,5-トリス(2-ヒドロキシエチル)-S-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)、及びN,N-ヘキサメチレンビス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ-ヒドロシンナアミド)などが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the hindered phenolic antioxidant include 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-toluene and n-octadecyl-β- (4'-hydroxy-3', 5'-di-t-. Butylphenyl) propionate, tetrakis [methylene-3- (3', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6'-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, calcium (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzyl-monoethyl-phosphate), triethylene glycol-bis [3 -(3-t-Butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], penterislityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butylanilino) -1,3,5-triazine, 3,9- Bis [1,1-dimethyl-2- {β- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} ethyl] 2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] Undecane, bis [3,3-bis (4'-hydroxy-3'-t-butylphenyl) butyl acid] glycol ester, triphenol, 2,2'-ethylidenebis (4,6-di-t-butylphenol), N, N'-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine, 2,2'-oxamidbis [ethyl-3- (3,5-di-t-butyl) -4-Hydroxyphenyl) propionate], 1,1,3-tris (3', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxybenzyl) -S-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -Trione, 1,3,5-Tris (4-t-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl) isocyanurate, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyhydrocinnamic acid Hydrotriester with-1,3,5-tris (2-hydroxyethyl) -S-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H), and N, N-hexamethylenebis (3,5-di) -T-Butyl-4-hydroxy-hydrocinnaamide) and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

リン系酸化防止剤としては、例えば、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸誘導体、フェニルホスホン酸、ポリホスホネート、及びジホスファイト系化合物などのリンを含む化合物が挙げられる。具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリ(ノニルフェニル)ホスファイト、ビス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、及びビス(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト等が挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the phosphorus-based antioxidant include compounds containing phosphorus such as phosphoric acid, phosphite, hypophosphite derivative, phenylphosphonic acid, polyphosphonate, and diphosphite-based compound. Specific examples include triphenylphosphine, diphenyldecylphosphite, phenyldiisodecylphosphite, tri (nonylphenyl) phosphite, bis (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, and bis ( 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

硫黄系酸化防止剤としては、例えば、チオエーテル系、ジチオ酸塩系、メルカプトベンズイミダゾール系、チオカルバニリド系、及びチオジプロピオンエステル系などの硫黄を含む化合物が挙げられる。具体例としては、ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ジドデシルチオジプロピオネート、ジテトラデシルチオジプロピオネート、ジオクタデシルチオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス(3-ドデシルチオプロピオネート)、チオビス(N-フェニル-β-ナフチルアミン)、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、テトラメチルチウラムモノサルファイド、テトラメチルチウラムジサルファイド、ニッケルジブチルジチオカルバメート、ニッケルイソプロピルキサンテート、及びトリラウリルトリチオホスファイト等が挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the sulfur-based antioxidant include sulfur-containing compounds such as thioether-based, dithioate-based, mercaptobenzimidazole-based, thiocarbanilide-based, and thiodipropion ester-based compounds. Specific examples include dilaurylthiodipropionate, distearylthiodipropionate, didodecylthiodipropionate, ditetradecylthiodipropionate, dioctadecylthiodipropionate, and pentaerythritol tetrakis (3-dodecylthiopro). Pionate), thiobis (N-phenyl-β-naphthylamine), 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, tetramethylthiuram monosulfide, tetramethylthiuram disulfide, nickeldibutyldithiocarbamate, nickelisopropylxanthate, and Examples thereof include trilauryl trithiophosphite. These may be used alone or in combination of two or more.

酸化防止剤の配合(含有)量は、エラストマー100質量部に対して0.01~3質量部が好ましく、より好ましくは0.05~2質量部、さらに好ましくは0.1~1質量部である。酸化防止剤を2種以上配合する場合、酸化防止剤の配合量の合計は5質量部以下であることが好ましい。 The blending (content) amount of the antioxidant is preferably 0.01 to 3 parts by mass, more preferably 0.05 to 2 parts by mass, and further preferably 0.1 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the elastomer. be. When two or more kinds of antioxidants are blended, the total amount of the antioxidants blended is preferably 5 parts by mass or less.

熱伝導性絶縁エラストマー組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲で、必要に応じて架橋剤を配合してもよい。架橋剤としては、エラストマーが持つ官能基と反応する架橋剤である限り特に限定されず、例えば、エポキシ系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、酸無水物系架橋剤、シラノール系架橋剤、メラミン樹脂系架橋剤、金属塩系架橋剤、金属キレート系架橋剤、及びアミノ樹脂系架橋剤などが挙げられる。これらは1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 A cross-linking agent may be added to the thermally conductive insulating elastomer composition, if necessary, as long as the effect of the present invention is not impaired. The cross-linking agent is not particularly limited as long as it is a cross-linking agent that reacts with the functional group of the elastomer. Examples thereof include agents, melamine resin-based cross-linking agents, metal salt-based cross-linking agents, metal chelate-based cross-linking agents, and amino resin-based cross-linking agents. These may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ系架橋剤は、分子中に2つ以上のエポキシ基(グリシジル基)を持つ多官能エポキシ化合物であれば特に制限されず、具体的には、2つのエポキシ基を持つ1,6-ジハイドロキシナフタレンジグリシジルエーテルや1,3-ビス(オキシラニルメトキシ)ベンゼン、3つのエポキシ基を持つ1,3,5-トリス(2,3-エポキシプロピル)-1,3,5-トリアジン-2,4,6(1H,3H,5H)-トリオンやジグリセロールトリグリシジルエーテル、4つのエポキシ基を持つ1-クロロ-2,3-エポキシプロパン・ホルムアルデヒド・2,7-ナフタレンジオール重縮合物やペンタエリスリトールポリグリシジルエーテルが挙げられる。これらのうち、骨格に耐熱性を保有した多官能のエポキシ化合物が好ましい。特に、ナフタレン構造を骨格にもつ2官能、もしくは4官能のエポキシ化合物、又はトリアジン構造を骨格にもつ3官能のエポキシ化合物が好ましい。 The epoxy-based cross-linking agent is not particularly limited as long as it is a polyfunctional epoxy compound having two or more epoxy groups (glycidyl groups) in the molecule, and specifically, 1,6-dihydroxyx having two epoxy groups. Naphthalenediglycidyl ether, 1,3-bis (oxylanylmethoxy) benzene, 1,3,5-tris (2,3-epoxypropyl) -1,3,5-triazine-2, with three epoxy groups, 4,6 (1H, 3H, 5H) -trione and diglycerol triglycidyl ether, 1-chloro-2,3-epoxypropane, formaldehyde, 2,7-naphthalenediol polycondensate and pentaerythritol with four epoxy groups Examples include polyglycidyl ether. Of these, a polyfunctional epoxy compound having heat resistance in the skeleton is preferable. In particular, a bifunctional or tetrafunctional epoxy compound having a naphthalene structure as a skeleton, or a trifunctional epoxy compound having a triazine structure as a skeleton is preferable.

その他にも、グリシジル基を1分子あたり2個以上含有し重量平均分子量が4000~25000であり、かつ(X)20~99質量%のビニル芳香族モノマー、(Y)1~80質量%のグリシジル(メタ)アクリレート、及び(Z)0~79質量%のエポキシ基を含有していない(X)以外のビニル基含有モノマーからなるスチレン系共重合体を挙げることができる。より好ましくは(X)が20~99質量%、(Y)が1~80質量%、(Z)が0~40質量%からなる共重合体であり、さらに好ましくは(X)が25~90質量%、(Y)が10~75質量%、(Z)が0~35質量%からなる共重合体である。前記(X)ビニル芳香族モノマーとしては、例えば、スチレン、α-メチルスチレン等が挙げられる。前記(Y)グリシジル(メタ)アクリレートとしては、例えば、(メタ)アクリル酸グリシジル、シクロヘキセンオキシド構造を有する(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリルグリシジルエーテル等が挙げられ、これらの中でも、反応性の高い点で(メタ)アクリル酸グリシジルが好ましい。前記(Z)その他のビニル基含有モノマーとしては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ステアリル、及び(メタ)アクリル酸メトキシエチル等の炭素数が1~22のアルキル基(アルキル基は直鎖、分岐鎖でもよい)を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸ポリアルキレングリコールエステル、(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、(メタ)アクリル酸ジアルキルアミノアルキルエステル、(メタ)アクリル酸ベンジルエステル、(メタ)アクリル酸フェノキシアルキルエステル、(メタ)アクリル酸イソボルニルエステル、(メタ)アクリル酸アルコキシシリルアルキルエステル等が挙げられる。また(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルジアルキルアミド、及び酢酸ビニル等のビニルエステル類、ビニルエーテル類、(メタ)アリルエーテル類等の芳香族系ビニル系単量体、エチレン、プロピレン等のα-オレフィンモノマーなども前記(Z)その他のビニル基含有モノマーとして使用可能である。 In addition, a vinyl aromatic monomer containing two or more glycidyl groups per molecule and having a weight average molecular weight of 4000 to 25000, (X) 20 to 99% by mass, and (Y) 1 to 80% by mass glycidyl. Examples thereof include a styrene-based polymer composed of (meth) acrylate and (Z) a vinyl group-containing monomer other than (X) which does not contain 0 to 79% by mass of an epoxy group. A copolymer composed of 20 to 99% by mass of (X), 1 to 80% by mass of (Y), and 0 to 40% by mass of (Z) is more preferable, and 25 to 90% of (X) is more preferable. It is a copolymer consisting of mass%, (Y) 10 to 75% by mass, and (Z) 0 to 35% by mass. Examples of the (X) vinyl aromatic monomer include styrene and α-methylstyrene. Examples of the (Y) glycidyl (meth) acrylate include glycidyl (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid ester having a cyclohexene oxide structure, (meth) acrylic glycidyl ether, and the like, and among these, reactive. Glysidyl (meth) acrylate is preferred because of its high value. Examples of the (Z) other vinyl group-containing monomer include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate. It has an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms (the alkyl group may be a straight chain or a branched chain) such as cyclohexyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, and methoxyethyl (meth) acrylate (meth). Acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylic acid polyalkylene glycol ester, (meth) acrylic acid alkoxyalkyl ester, (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester, (meth) acrylic acid dialkylaminoalkyl ester, (meth) acrylic acid benzyl ester , (Meta) acrylic acid phenoxyalkyl ester, (meth) acrylic acid isobornyl ester, (meth) acrylic acid alkoxysilylalkyl ester and the like. Further, vinyl esters such as (meth) acrylamide, (meth) acrylic dialkylamide, and vinyl acetate, vinyl ethers, aromatic vinyl monomers such as (meth) allyl ethers, and α-olefins such as ethylene and propylene. Monomers and the like can also be used as the above-mentioned (Z) and other vinyl group-containing monomers.

前記スチレン系共重合体の重量平均分子量は、4000~25000であることが好ましく、より好ましくは5000~15000である。前記スチレン系共重合体のエポキシ価は、400~2500当量/1×10gであることが好ましく、より好ましくは500~1500当量/1×10g、さらに好ましくは600~1000当量/1×10gである。 The weight average molecular weight of the styrene-based copolymer is preferably 4000 to 25000, and more preferably 5000 to 15000. The epoxy value of the styrene-based copolymer is preferably 400 to 2500 equivalents / 1 × 10 6 g, more preferably 500 to 1500 equivalents / 1 × 10 6 g, still more preferably 600 to 1000 equivalents / 1. × 10 6 g.

カルボジイミド系架橋剤としては、1分子内にカルボジイミド基(-N=C=N-の構造)を2つ以上有するポリカルボジイミドであれば特に制限されず、例えば、脂肪族ポリカルボジイミド、脂環族ポリカルボジイミド、芳香族ポリカルボジイミド、及びこれらの共重合体などが挙げられる。好ましくは脂肪族ポリカルボジイミド又は脂環族ポリカルボジイミドである。 The carbodiimide-based cross-linking agent is not particularly limited as long as it is a polycarbodiimide having two or more carbodiimide groups (-N = C = N- structure) in one molecule, and is, for example, an aliphatic polycarbodiimide or an alicyclic poly. Examples include carbodiimides, aromatic polycarbodiimides, and copolymers thereof. It is preferably an aliphatic polycarbodiimide or an alicyclic polycarbodiimide.

ポリカルボジイミドは、例えば、ジイソシアネート化合物の脱二酸化炭素反応により得ることができる。ジイソシアネート化合物としては、例えば、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、1,3-フェニレンジイソシアネート、1,4-フェニレンジイソシアネート、2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、1,5-ナフチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、シクロヘキサン-1,4-ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、1,3,5-トリイソプロピルフェニレン-2,4-ジイソシアネートなどが挙げられる。これらは1種のみ用いてもよいし、2種以上を共重合させて用いることもできる。また、分岐構造を導入したり、カルボジイミド基やイソシアネート基以外の官能基を共重合により導入してもよい。さらに、末端イソシアネートはそのままでも使用可能であるが、末端イソシアネートを反応させることにより重合度を制御してもよく、末端イソシアネートの一部を封鎖してもよい。 Polycarbodiimide can be obtained, for example, by a decarbonization reaction of a diisocyanate compound. Examples of the diisocyanate compound include 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenyldimethylmethane diisocyanate, 1,3-phenylenediocyanate, 1,4-phenylenediocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, and 2,6. -Toluene diisocyanate, 1,5-naphthylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, cyclohexane-1,4-diisocyanate, xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylcyclohexane diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, 1,3 Examples thereof include 5-triisopropylphenylene-2,4-diisocyanate. Only one of these may be used, or two or more thereof may be copolymerized and used. Further, a branched structure may be introduced, or a functional group other than a carbodiimide group or an isocyanate group may be introduced by copolymerization. Further, although the terminal isocyanate can be used as it is, the degree of polymerization may be controlled by reacting the terminal isocyanate, or a part of the terminal isocyanate may be blocked.

ポリカルボジイミドとしては、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、シクロヘキサン-1,4-ジイソシアネート、及びイソホロンジイソシアネートなどに由来する脂環族ポリカルボジイミドが好ましく、より好ましくはジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、及びイソホロンジイソシアネートに由来する脂環族ポリカルボジイミドである。 As the polycarbodiimide, alicyclic polycarbodiimide derived from dicyclohexylmethane diisocyanate, cyclohexane-1,4-diisocyanate, isophorone diisocyanate and the like is preferable, and more preferably dicyclohexylmethane diisocyanate and alicyclic polycarbodiimide derived from isophorone diisocyanate. Is.

ポリカルボジイミドは、安定性と取り扱い性の観点から、1分子あたり2~50個のカルボジイミド基を含有することが好ましく、より好ましくは5~30個である。ポリカルボジイミド分子中のカルボジイミドの個数(すなわちカルボジイミド基数)は、ジイソシアネート化合物から得られたポリカルボジイミドであれば、重合度に相当する。例えば、21個のジイソシアネート化合物が鎖状につながって得られたポリカルボジイミドの重合度は20であり、分子鎖中のカルボジイミド基数は20である。通常、ポリカルボジイミドは、種々の長さの分子の混合物であり、カルボジイミド基数は平均値で表される。前記範囲のカルボジイミド基数を有し、室温付近で固形であるポリカルボジイミドは、粉末化できるので、エラストマーとの混合時の作業性や相溶性に優れ、均一反応性、耐ブリードアウト性の点でも好ましい。なお、カルボジイミド基数は、例えば、常法(アミンで溶解して塩酸で逆滴定を行う方法)を用いて測定できる。 From the viewpoint of stability and handleability, the polycarbodiimide preferably contains 2 to 50 carbodiimide groups per molecule, more preferably 5 to 30 groups. The number of carbodiimides in the polycarbodiimide molecule (that is, the number of carbodiimide groups) corresponds to the degree of polymerization if the polycarbodiimide is obtained from a diisocyanate compound. For example, the degree of polymerization of polycarbodiimide obtained by connecting 21 diisocyanate compounds in a chain is 20 and the number of carbodiimide groups in the molecular chain is 20. Usually, polycarbodiimide is a mixture of molecules of various lengths, and the number of carbodiimide groups is expressed as an average value. Polycarbodiimide, which has the number of carbodiimide groups in the above range and is solid at around room temperature, can be powdered, so that it is excellent in workability and compatibility when mixed with an elastomer, and is also preferable in terms of uniform reactivity and bleed-out resistance. .. The number of carbodiimide groups can be measured, for example, by using a conventional method (a method of dissolving with an amine and performing back titration with hydrochloric acid).

ポリカルボジイミドは、安定性と取り扱い性の観点から、末端にイソシアネート基を有し、イソシアネート基含有率は0.5~4質量%であることが好ましく、より好ましくは1~3質量%である。特に、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートやイソホロンジイソシアネートに由来するポリカルボジイミドであって、前記範囲のイソシアネート基含有率を有するものが好ましい。なお、イソシアネート基含有率は常法(アミンで溶解して塩酸で逆滴定を行う方法)を用いて測定できる。 From the viewpoint of stability and handleability, the polycarbodiimide has an isocyanate group at the terminal, and the isocyanate group content is preferably 0.5 to 4% by mass, more preferably 1 to 3% by mass. In particular, polycarbodiimides derived from dicyclohexylmethane diisocyanate or isophorone diisocyanate, which have an isocyanate group content in the above range, are preferable. The isocyanate group content can be measured by using a conventional method (a method of dissolving with amine and performing back titration with hydrochloric acid).

イソシアネート系架橋剤としては、例えば、前記イソシアネート基を含有するポリカルボジイミド化合物、及び前記ポリカルボジイミド化合物の原料となるイソシアネート化合物が挙げられる。 Examples of the isocyanate-based cross-linking agent include the polycarbodiimide compound containing the isocyanate group and the isocyanate compound which is a raw material of the polycarbodiimide compound.

酸無水物系架橋剤としては、安定性と取り扱い性の観点から、1分子あたり、2~4個の無水物を含有する化合物が好ましい。このような化合物としては、例えば、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物、及びピロメリット酸無水物などが挙げられる。 As the acid anhydride-based cross-linking agent, a compound containing 2 to 4 anhydrides per molecule is preferable from the viewpoint of stability and handleability. Examples of such a compound include phthalic acid anhydride, trimellitic acid anhydride, pyromellitic acid anhydride and the like.

架橋剤の配合(含有)量は、押出条件、所望する発泡倍率等によって適宜調整されるが、エラストマー100質量部に対して0.1~4.5質量部であることが好ましく、より好ましくは0.1~4質量部、さらに好ましくは0.1~3質量部である。 The blending (content) amount of the cross-linking agent is appropriately adjusted depending on the extrusion conditions, the desired expansion ratio, etc., but is preferably 0.1 to 4.5 parts by mass, more preferably 0.1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the elastomer. It is 0.1 to 4 parts by mass, more preferably 0.1 to 3 parts by mass.

熱伝導性絶縁エラストマー組成物には、前記酸化防止剤や架橋剤以外にも、目的に応じて種々の添加剤を配合することができる。添加剤としては、例えば、ヒンダードアミン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ベンゾエート系、トリアゾール系、ニッケル系、及びサリチル系等の光安定剤、滑剤、充填剤、難燃剤、難燃助剤、離型剤、帯電防止剤、過酸化物等の分子調整剤、金属不活性剤、有機系及び無機系の核剤、中和剤、制酸剤、防菌剤、蛍光増白剤、有機系及び無機系の顔料、難燃性付与や熱安定性付与の目的で使用される有機系及び無機系の燐化合物などが挙げられる。前記添加剤を配合する場合、その含有量(複数の添加剤を用いる場合には合計含有量)は、熱伝導性絶縁エラストマー組成物中に30質量%以下であることが好ましく、より好ましくは20質量%以下、さらに好ましくは10質量%以下、特に好ましくは5質量%以下である。 In addition to the antioxidant and the cross-linking agent, various additives can be added to the thermally conductive insulating elastomer composition depending on the purpose. Examples of the additive include light stabilizers such as hindered amine-based, benzotriazole-based, benzophenone-based, benzoate-based, triazole-based, nickel-based, and salicyl-based light stabilizers, lubricants, fillers, flame retardants, flame retardant aids, and mold release agents. Agents, antistatic agents, molecular modifiers such as peroxides, metal deactivators, organic and inorganic nucleating agents, neutralizing agents, antioxidants, antibacterial agents, fluorescent whitening agents, organic and inorganic Examples thereof include based pigments, organic and inorganic phosphorus compounds used for the purpose of imparting flame retardancy and thermal stability. When the additive is blended, the content (total content when a plurality of additives are used) is preferably 30% by mass or less, more preferably 20 in the thermally conductive insulating elastomer composition. It is 0% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and particularly preferably 5% by mass or less.

<熱伝導性絶縁エラストマー組成物>
本発明の熱伝導性絶縁エラストマー組成物の製造方法は特に制限されず、前記各成分を混合することにより製造することができる。本発明においては、前記組成物中における無機フィラーの分散性を高めて、無機フィラーが繋がって形成される連続体を形成しやすくする観点から、前記無機フィラーと前記トリアジンジチオール系化合物とを接触させて、前記無機フィラーの表面に前記トリアジンジチオール系化合物を付着させて表面修飾無機フィラーを得て、その後、得られた表面修飾無機フィラーを前記エラストマー中に分散させて熱伝導性絶縁エラストマー組成物を製造することが好ましい。
<Thermal Conductive Insulating Elastomer Composition>
The method for producing the thermally conductive insulating elastomer composition of the present invention is not particularly limited, and can be produced by mixing the above components. In the present invention, the inorganic filler and the triazinedithiol-based compound are brought into contact with each other from the viewpoint of enhancing the dispersibility of the inorganic filler in the composition and facilitating the formation of a continuum formed by connecting the inorganic fillers. Then, the triazinedithiol-based compound is adhered to the surface of the inorganic filler to obtain a surface-modified inorganic filler, and then the obtained surface-modified inorganic filler is dispersed in the elastomer to obtain a thermally conductive insulating elastomer composition. It is preferable to manufacture.

前記無機フィラーと前記トリアジンジチオール系化合物とを接触させる方法は特に制限されず、例えば、前記無機フィラーと前記トリアジンジチオール系化合物とを混合する方法、前記トリアジンジチオール系化合物を溶剤に溶かした溶液、又は前記トリアジンジチオール系化合物を溶剤に分散させた分散液中に、前記無機フィラーを浸漬し、前記無機フィラーを取り出した後、乾燥する方法などが挙げられる。 The method of contacting the inorganic filler with the triazinedithiol-based compound is not particularly limited, and for example, a method of mixing the inorganic filler with the triazinedithiol-based compound, a solution in which the triazinedithiol-based compound is dissolved in a solvent, or a solution of the triazinedithiol-based compound. Examples thereof include a method in which the inorganic filler is immersed in a dispersion liquid in which the triazinedithiol-based compound is dispersed in a solvent, the inorganic filler is taken out, and then the inorganic filler is dried.

<熱伝導性絶縁エラストマー成形体>
本発明の熱伝導性絶縁エラストマー成形体は、前記熱伝導性絶縁エラストマー組成物を成形することにより得られる。前記熱伝導性絶縁エラストマー成形体の製造方法は特に制限されないが、前記熱伝導性絶縁エラストマー組成物を加圧及び/又は加熱して成形することが好ましい。成形方法としては、例えば、押出成形法、金型成形法、及びホットプレス法などが挙げられる。成形時の温度及び圧力は、使用するエラストマーの種類に応じて適宜調整する。
<Thermal conductive insulating elastomer molded product>
The thermally conductive insulating elastomer molded product of the present invention can be obtained by molding the thermally conductive insulating elastomer composition. The method for producing the thermally conductive insulating elastomer molded product is not particularly limited, but it is preferable to press and / or heat the thermally conductive insulating elastomer composition for molding. Examples of the molding method include an extrusion molding method, a mold molding method, and a hot press method. The temperature and pressure at the time of molding are appropriately adjusted according to the type of elastomer used.

熱伝導性絶縁エラストマー成形体の形状は用途に応じて適宜選択することができ、例えば、シート状、板状、フィルム状、及びブロック状などが挙げられる。 The shape of the thermally conductive insulating elastomer molded product can be appropriately selected depending on the intended use, and examples thereof include a sheet shape, a plate shape, a film shape, and a block shape.

以下、実施例および比較例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではなく、前記及び後記の趣旨に適合し得る範囲で適宜変更して実施することが可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto, and can be appropriately modified and carried out to the extent that it can be applied to the above-mentioned and the purposes described below. And all of them are included in the technical scope of the present invention.

製造例1
(下記式(7)で表されるトリアジンジチオール系化合物の製造)

Figure 0007076099000012
Production Example 1
(Production of triazinedithiol-based compound represented by the following formula (7))
Figure 0007076099000012

トリアジントリチオール17.72g(0.1mol)及び3-トリエトキシシリルプロピルアミン0.102molをトルエン100mLに加えて、混合物を得た。ここで、トリアジントリチオールはトルエンに分散しており、3-トリエトキシシリルプロピルアミンはトルエンに溶解している。そして、混合物を140℃で30分間撹拌して反応を進行させた。反応終了後、トルエンを減圧下で留去して回収し、ガス成分を20%NaOH水溶液に吸収させて、発生した硫化水素を除去した。得られた固体をエチルエーテルで洗浄し、微量の未反応アミンを除去して、粗トリアジンジチオール系化合物を96%以上の収率で得た。その後、粗トリアジンジチオール系化合物をイソプロパノールで再結晶して精製し、上記式(7)で表されるトリアジンジチオール系化合物を得た。再結晶後の前記トリアジンジチオール系化合物の融点は235~236℃、元素分析値はC:40.2%、N:16.0%、S:18.2%であった。なお、融点分析には三田理研工業社製の融点測定器を使用した。また、炭素と窒素分析には柳本CHNコーダーを、硫黄分析にはパーキンエルマ社製のCHNコーダーを使用した。 17.72 g (0.1 mol) of triazine trithiol and 0.102 mol of 3-triethoxysilylpropylamine were added to 100 mL of toluene to give a mixture. Here, triazine trithiol is dispersed in toluene, and 3-triethoxysilylpropylamine is dissolved in toluene. Then, the mixture was stirred at 140 ° C. for 30 minutes to allow the reaction to proceed. After completion of the reaction, toluene was distilled off under reduced pressure and recovered, and the gas component was absorbed in a 20% NaOH aqueous solution to remove the generated hydrogen sulfide. The obtained solid was washed with ethyl ether to remove a trace amount of unreacted amine, and a crude triazinedithiol-based compound was obtained in a yield of 96% or more. Then, the crude triazinedithiol-based compound was recrystallized from isopropanol and purified to obtain a triazinedithiol-based compound represented by the above formula (7). The melting point of the triazinedithiol-based compound after recrystallization was 235 to 236 ° C., and the elemental analysis values were C: 40.2%, N: 16.0%, and S: 18.2%. A melting point measuring instrument manufactured by Mita Riken Kogyo Co., Ltd. was used for melting point analysis. A Yanagimoto CHN coder was used for carbon and nitrogen analysis, and a CHN coder manufactured by Parkin Elma was used for sulfur analysis.

製造例2
(表面修飾窒化アルミニウムフィラー(B1)の製造)
製造例1で製造したトリアジンジチオール系化合物をイオン交換水に溶解させて、0.1wt%の前記トリアジンジチオール系化合物を含む水溶液を得た。そして、窒化アルミニウムフィラー(古川電子(株)製、FAN-05)100gを、前記水溶液に10分間浸漬し、その後、取り出して100℃で60分乾燥して、表面修飾窒化アルミニウムフィラー(B1)を得た。
Manufacturing example 2
(Manufacturing of surface-modified aluminum nitride filler (B1))
The triazine-dithiol-based compound produced in Production Example 1 was dissolved in ion-exchanged water to obtain an aqueous solution containing 0.1 wt% of the triazine-dithiol-based compound. Then, 100 g of the aluminum nitride filler (FAN-05 manufactured by Furukawa Denshi Co., Ltd.) was immersed in the aqueous solution for 10 minutes, then taken out and dried at 100 ° C. for 60 minutes to obtain the surface-modified aluminum nitride filler (B1). Obtained.

製造例3
(表面修飾窒化ホウ素フィラー(B2)の製造)
製造例1で製造したトリアジンジチオール系化合物をイオン交換水に溶解させて、0.1wt%の前記トリアジンジチオール系化合物を含む水溶液を得た。そして、窒化ホウ素フィラー(デンカ(株)製、SP-2)100gを、前記水溶液に10分間浸漬し、その後、取り出して100℃で60分乾燥して、表面修飾窒化ホウ素フィラー(B2)を得た。
Production example 3
(Manufacturing of surface-modified boron nitride filler (B2))
The triazine-dithiol-based compound produced in Production Example 1 was dissolved in ion-exchanged water to obtain an aqueous solution containing 0.1 wt% of the triazine-dithiol-based compound. Then, 100 g of the boron nitride filler (SP-2 manufactured by Denka Co., Ltd.) was immersed in the aqueous solution for 10 minutes, then taken out and dried at 100 ° C. for 60 minutes to obtain a surface-modified boron nitride filler (B2). rice field.

実施例1
(熱伝導性絶縁エラストマー組成物の製造)
平均重合度が8000である、ジメチルビニル基で両末端封止したジメチルポリシロキサン(A1)60質量部、及び表面修飾窒化アルミニウムフィラー(B1)40質量部を混合した後、得られた混合物を150℃に予熱した東洋精機(株)製卓上型混練機(ラボプラストミル20C200)に投入し、40rpmで10分間混練して、熱伝導性絶縁エラストマー組成物を得た。
Example 1
(Manufacturing of Thermally Conductive Insulating Elastomer Composition)
After mixing 60 parts by mass of dimethylpolysiloxane (A1) sealed at both ends with a dimethylvinyl group having an average degree of polymerization of 8000 and 40 parts by mass of a surface-modified aluminum nitride filler (B1), 150 parts of the obtained mixture was mixed. It was put into a tabletop kneader (Laboplast Mill 20C200) manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. preheated to ° C. and kneaded at 40 rpm for 10 minutes to obtain a thermally conductive insulating elastomer composition.

実施例2
(熱伝導性絶縁エラストマー組成物の製造)
平均重合度が8000である、ジメチルビニル基で両末端封止したジメチルポリシロキサン(A1)50質量部、2-メチルベンゾイルパーオキサイド10部、及び表面修飾窒化ホウ素フィラー(B2)40質量部を混合した後、得られた混合物を150℃に予熱した東洋精機(株)製卓上型混練機(ラボプラストミル20C200)に投入し、40rpmで10分間混練して、熱伝導性絶縁エラストマー組成物を得た。
Example 2
(Manufacturing of Thermally Conductive Insulating Elastomer Composition)
A mixture of 50 parts by mass of dimethylpolysiloxane (A1) sealed at both ends with a dimethylvinyl group having an average degree of polymerization of 8000, 10 parts by mass of 2-methylbenzoyl peroxide, and 40 parts by mass of a surface-modified boron nitride filler (B2). Then, the obtained mixture was put into a tabletop kneader (Laboplast Mill 20C200) manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. preheated to 150 ° C. and kneaded at 40 rpm for 10 minutes to obtain a thermally conductive insulating elastomer composition. rice field.

実施例3
(熱伝導性絶縁エラストマー組成物の製造)
平均重合度が8000である、ジメチルビニル基で両末端封止したジメチルポリシロキサン(A1)50質量部、及び表面修飾窒化アルミニウムフィラー(B1)2質量部を混合した後、得られた混合物を150℃に予熱した東洋精機(株)製卓上型混練機(ラボプラストミル20C200)に投入し、40rpmで10分間混練した。得られた混練物を取り出した後、チップ状にカットし、得られたチップとアルミナフィラー48質量部とを混合したのち、再度、40rpmで10分間混練して、熱伝導性絶縁エラストマー組成物を製造した。
Example 3
(Manufacturing of Thermally Conductive Insulating Elastomer Composition)
After mixing 50 parts by mass of dimethylpolysiloxane (A1) sealed at both ends with a dimethylvinyl group having an average degree of polymerization of 8000 and 2 parts by mass of a surface-modified aluminum nitride filler (B1), 150 parts of the obtained mixture was mixed. The mixture was placed in a tabletop kneader (Laboplast Mill 20C200) manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. preheated to ° C. and kneaded at 40 rpm for 10 minutes. After taking out the obtained kneaded product, it is cut into chips, the obtained chips and 48 parts by mass of the alumina filler are mixed, and then kneaded again at 40 rpm for 10 minutes to obtain a thermally conductive insulating elastomer composition. Manufactured.

実施例4、5、及び8
(熱伝導性絶縁エラストマー組成物の製造)
シリコーン系エラストマー及びフィラーの種類と配合量を、表1に示すように変更した以外は実施例3と同様の方法で熱伝導性絶縁エラストマー組成物を製造した。
Examples 4, 5, and 8
(Manufacturing of Thermally Conductive Insulating Elastomer Composition)
A thermally conductive insulating elastomer composition was produced by the same method as in Example 3 except that the types and blending amounts of the silicone-based elastomer and the filler were changed as shown in Table 1.

実施例6
(熱伝導性絶縁エラストマー組成物の製造)
信越シリコーン KE-541-U(信越化学工業株式会社製)(A3)40質量部、2-メチルベンゾイルパーオキサイド10部、及び表面修飾窒化ホウ素フィラー(B2)2質量部を混合した後、得られた混合物を150℃に予熱した東洋精機(株)製卓上型混練機(ラボプラストミル20C200)に投入し、40rpmで10分間混練した。得られた混練物を取り出した後、チップ状にカットし、得られたチップとアルミナフィラー48質量部とを混合したのち、再度、40rpmで10分間混練して、熱伝導性絶縁エラストマー組成物を製造した。
Example 6
(Manufacturing of Thermally Conductive Insulating Elastomer Composition)
Obtained after mixing 40 parts by mass of Shin-Etsu Silicone KE-541-U (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) (A3), 10 parts by mass of 2-methylbenzoyl peroxide, and 2 parts by mass of a surface-modified boron nitride filler (B2). The mixture was put into a tabletop kneader (Laboplast Mill 20C200) manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. preheated to 150 ° C., and kneaded at 40 rpm for 10 minutes. After taking out the obtained kneaded product, it is cut into chips, the obtained chips and 48 parts by mass of the alumina filler are mixed, and then kneaded again at 40 rpm for 10 minutes to obtain a thermally conductive insulating elastomer composition. Manufactured.

実施例7
(熱伝導性絶縁エラストマー組成物の製造)
フィラーの種類を、表1に示すように変更した以外は実施例6と同様の方法で熱伝導性絶縁エラストマー組成物を製造した。
Example 7
(Manufacturing of Thermally Conductive Insulating Elastomer Composition)
A thermally conductive insulating elastomer composition was produced in the same manner as in Example 6 except that the type of the filler was changed as shown in Table 1.

比較例1~4
(熱伝導性絶縁エラストマー組成物の製造)
シリコーン系エラストマー及びフィラーの種類と配合量を、表1に示すように変更した以外は実施例1と同様の方法で熱伝導性絶縁エラストマー組成物を製造した。
Comparative Examples 1 to 4
(Manufacturing of Thermally Conductive Insulating Elastomer Composition)
A thermally conductive insulating elastomer composition was produced in the same manner as in Example 1 except that the types and blending amounts of the silicone-based elastomer and the filler were changed as shown in Table 1.

〔評価方法〕
熱伝導率、耐熱性、耐湿熱性、熱抵抗、及び絶縁破壊電圧の評価を以下の方法で行った。
(評価用シートサンプルの作製)
評価用シートサンプルは、ヒートプレス機(テスター産業(株)製、SA-302-I)を用いて作製した。所定の厚みを有する型枠内に、実施例及び比較例で作製した熱伝導性絶縁エラストマー組成物を入れ、シリコーン系エラストマーの融点+20℃の温度条件で2分間溶融させた。得られた溶融物に100kgf/cmの荷重をかけ、1分後に水につけて急冷し、所定厚みの評価用シートサンプルを得た。
〔Evaluation method〕
Thermal conductivity, heat resistance, moisture heat resistance, thermal resistance, and dielectric breakdown voltage were evaluated by the following methods.
(Preparation of evaluation sheet sample)
The evaluation sheet sample was prepared using a heat press machine (SA-302-I manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.). The thermally conductive insulating elastomer compositions prepared in Examples and Comparative Examples were placed in a mold having a predetermined thickness and melted for 2 minutes at a temperature condition of the melting point of the silicone-based elastomer + 20 ° C. A load of 100 kgf / cm 2 was applied to the obtained melt, and after 1 minute, the melt was soaked in water and rapidly cooled to obtain an evaluation sheet sample having a predetermined thickness.

(熱伝導率の測定)
比熱は、TAインスツルメンツ(株)製のDSC2920を用いて測定した。実施例及び比較例で作製した熱伝導性絶縁エラストマー組成物(サンプル)10.0mgをアルミパンに入れ、室温から10℃/分の昇温温度で200℃まで昇温し、200℃に達してから5分間保持した。その後、10℃/分で降温した。同様に、基準物質としてサファイア26.8mgをアルミパンに入れ、同条件で測定した。さらに、ブランクとしてサンプルを入れていない空のアルミパンを同条件で測定した。それぞれのDSC曲線の23℃におけるHeat Flowの値を読み取り、下記式により比熱容量を算出した。

Cp=(h/H)×(m’/m)×C’p

Cp:サンプルの比熱
C’p:23℃における基準物質(サファイア)の比熱
h:ブランクとサンプルのDSC曲線の差
H:ブランクと基準物質(サファイア)のDSC曲線の差
m:サンプルの質量(g)
m’:基準物質(サファイア)の質量(g)

比重は、東洋精機(株)製の自動比重計D-H100を用いて測定した。作製した評価用シートサンプルをヒートプレスして、厚さ0.5mmのシートを得た。そして、当該シートを10mm×10mmのサイズに切断して比重測定用サンプルを得た。作製した比重測定用サンプルを用いて、水中置換法により比重測定を行った。
熱拡散率は、アイフェイズ(株)製の熱拡散係数測定装置ai-phase Mobile1を用いて測定した。作製した評価用シートサンプルをヒートプレスして、厚さ0.5mmのシートを得た。作製したシートを用いて、厚み方向の熱拡散率を測定した。
そして、熱伝導率は、前記方法で求めた比熱、比重、及び熱拡散率から下式により算出した。

熱伝導率(W/m・K)=比重×比熱(J/g・K)×熱拡散率(m/sec)
(Measurement of thermal conductivity)
The specific heat was measured using DSC2920 manufactured by TA Instruments Co., Ltd. 10.0 mg of the thermally conductive insulating elastomer composition (sample) prepared in Examples and Comparative Examples was placed in an aluminum pan, and the temperature was raised from room temperature to 200 ° C. at a heating temperature of 10 ° C./min to reach 200 ° C. Was held for 5 minutes. Then, the temperature was lowered at 10 ° C./min. Similarly, 26.8 mg of sapphire as a reference substance was placed in an aluminum pan and measured under the same conditions. Furthermore, an empty aluminum pan containing no sample as a blank was measured under the same conditions. The value of Heat Flow at 23 ° C. of each DSC curve was read, and the specific heat capacity was calculated by the following formula.

Cp = (h / H) x (m'/ m) x C'p

Cp: Specific heat of the sample C'p: Specific heat of the reference material (sapphire) at 23 ° C. h: Difference between the DSC curve of the blank and the sample H: Difference between the DSC curves of the blank and the reference material (sapphire) m: Mass of the sample (g) )
m': Mass (g) of reference substance (sapphire)

The specific gravity was measured using an automatic hydrometer DH100 manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. The prepared evaluation sheet sample was heat-pressed to obtain a sheet having a thickness of 0.5 mm. Then, the sheet was cut into a size of 10 mm × 10 mm to obtain a sample for specific gravity measurement. Using the prepared sample for specific gravity measurement, the specific gravity was measured by the underwater substitution method.
The thermal diffusivity was measured using a thermal diffusivity coefficient measuring device ai-phase Mobile 1 manufactured by iPhase Co., Ltd. The prepared evaluation sheet sample was heat-pressed to obtain a sheet having a thickness of 0.5 mm. The thermal diffusivity in the thickness direction was measured using the prepared sheet.
Then, the thermal conductivity was calculated by the following formula from the specific heat, specific gravity, and thermal diffusivity obtained by the above method.

Thermal conductivity (W / m · K) = specific gravity x specific heat (J / g · K) x thermal diffusivity (m 2 / sec)

(耐熱性の評価)
作製した評価用シートサンプルをヒートプレスして、厚さ1mmのシートを得た。そして、当該シートを10mm×50mmのサイズに切断して耐熱性評価用サンプルを得た。耐熱性評価用サンプルを恒温槽に投入し、温度85℃で1000時間経過後、その引張伸度を測定し、初期値の50%となる温度を調べた。そして、下記基準で評価した。初期値の50%となる温度が高いほど耐熱性が高いことを示す。
◎:160℃以上
○:130℃以上160℃未満
△:110℃以上130℃未満
×:110℃未満
(Evaluation of heat resistance)
The prepared evaluation sheet sample was heat-pressed to obtain a sheet having a thickness of 1 mm. Then, the sheet was cut into a size of 10 mm × 50 mm to obtain a sample for heat resistance evaluation. A sample for heat resistance evaluation was put into a constant temperature bath, and after 1000 hours had passed at a temperature of 85 ° C., the tensile elongation was measured, and the temperature which became 50% of the initial value was examined. Then, it was evaluated according to the following criteria. The higher the temperature, which is 50% of the initial value, the higher the heat resistance.
⊚: 160 ° C or higher ○: 130 ° C or higher and lower than 160 ° C Δ: 110 ° C or higher and lower than 130 ° C ×: less than 110 ° C

(耐湿熱性の評価)
作製した評価用シートサンプルをヒートプレスして、厚さ1mmのシートを得た。そして、当該シートを10mm×50mmのサイズに切断して耐湿熱性評価用サンプルを得た。耐湿熱性評価用サンプルを恒温恒湿槽に投入し、85℃×85%Rhの条件下におけるサンプルの膨張率を観察した。恒温恒湿槽投入前と投入1000時間経過後のサンプルの長さ、幅、及び厚さ(mm)をそれぞれ測定し、各方向における膨張率(%)を算出した。さらに、それらの積をとり、体積膨張率(%)を算出した。このとき恒温恒湿槽投入前の膨張率を100%とする。なお、測定には定圧ノギスを使用した。体積膨張率は小さいほど好ましい。体積膨張率が110%以下であると、脆性の悪化が小さく、良好である。体積膨張率が110%を超えると、脆性が悪化するため、高湿度下での使用は好ましくない。
(Evaluation of moisture resistance)
The prepared evaluation sheet sample was heat-pressed to obtain a sheet having a thickness of 1 mm. Then, the sheet was cut into a size of 10 mm × 50 mm to obtain a sample for evaluation of moisture resistance and heat resistance. The sample for evaluation of moisture resistance and heat resistance was put into a constant temperature and humidity chamber, and the expansion coefficient of the sample was observed under the condition of 85 ° C. × 85% Rh. The length, width, and thickness (mm) of the sample before and after 1000 hours of charging into the constant temperature and humidity chamber were measured, and the expansion coefficient (%) in each direction was calculated. Furthermore, the product was taken and the coefficient of thermal expansion (%) was calculated. At this time, the expansion coefficient before the constant temperature and humidity chamber is set to 100%. A constant pressure caliper was used for the measurement. The smaller the coefficient of thermal expansion, the more preferable. When the coefficient of thermal expansion is 110% or less, the deterioration of brittleness is small and good. If the coefficient of thermal expansion exceeds 110%, the brittleness deteriorates, so that it is not preferable to use it under high humidity.

(熱抵抗の測定)
作製した評価用シートサンプルをヒートプレスして、厚さ0.3mmのシートを得た。当該シートの熱抵抗は、ASTM D5470に従って測定した。熱抵抗は、0.6×10e-3(mK/W)以下であることが好ましい。なお、熱抵抗はシートの厚さにほぼ比例する。
(Measurement of thermal resistance)
The prepared evaluation sheet sample was heat-pressed to obtain a sheet having a thickness of 0.3 mm. The thermal resistance of the sheet was measured according to ASTM D5470. The thermal resistance is preferably 0.6 × 10 e -3 (m 2 K / W) or less. The thermal resistance is almost proportional to the thickness of the sheet.

(絶縁破壊電圧の測定)
作製した評価用シートサンプルをヒートプレスして、厚さ0.1mmのシートを得た。当該シートの絶縁破壊電圧は、JIS K6249に従って測定した。絶縁破壊電圧は、3kV以上であることが好ましい。なお、絶縁破壊電圧はシートの厚さにほぼ比例する。
(Measurement of dielectric breakdown voltage)
The prepared evaluation sheet sample was heat-pressed to obtain a sheet having a thickness of 0.1 mm. The breakdown voltage of the sheet was measured according to JIS K6249. The dielectric breakdown voltage is preferably 3 kV or more. The breakdown voltage is almost proportional to the thickness of the sheet.

Figure 0007076099000013
Figure 0007076099000013

表1中の化合物は以下のとおりである。
A1:平均重合度が8000である、ジメチルビニル基で両末端封止したジメチルポリシロキサン
A2:平均重合度が10000である、ジメチルビニル基で両末端封止したジメチルポリシロキサン
A3:信越シリコーン KE-541-U(信越化学工業株式会社製)
B1:製造例2で作製した表面修飾窒化アルミニウムフィラー
B2:製造例3で作製した表面修飾窒化ホウ素フィラー
The compounds in Table 1 are as follows.
A1: Didimethylpolysiloxane with an average degree of polymerization of 8000 and sealed at both ends with a dimethylvinyl group A2: Didimethylpolysiloxane with an average degree of polymerization of 10,000 and sealed at both ends with a dimethylvinyl group A3: Shinetsu Silicone KE- 541-U (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.)
B1: Surface-modified aluminum nitride filler produced in Production Example 2 B2: Surface-modified boron nitride filler produced in Production Example 3

本発明の熱伝導性絶縁エラストマー成形体は、自動車部材、及び電子回路基板等の絶縁性と放熱性が求められる部材の材料として有用である。 The thermally conductive insulating elastomer molded body of the present invention is useful as a material for automobile members and members such as electronic circuit boards that are required to have insulation and heat dissipation.

Claims (9)

シリコーン系エラストマー及びフッ素系エラストマーからなる群より選択される少なくとも1種のエラストマー、無機フィラー、及び下記一般式(1)で表されるトリアジンジチオール系化合物を含有する熱伝導性絶縁エラストマー組成物。
Figure 0007076099000014
(式中、M及びMはそれぞれ独立にH、Li、Na、K、又はCsであり、RはS、O、又はNRであり、RはH、又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルケニル基、ハロゲン化アルケニル基、ヒドロキシアルケニル基、アルコキシアルケニル基、フェニル基、ハロゲン化フェニル基、ヒドロキシフェニル基、アルコキシフェニル基、ビフェニル基、ハロゲン化ビフェニル基、ヒドロキシビフェニル基、アルコキシビフェニル基、ナフチル基、ハロゲン化ナフチル基、ヒドロキシナフチル基、アルコキシナフチル基、カルボキシル基、エステル基、ウレタン基、アゾ基、シアノ基、アミノ基、アミド基、及びアルコキシシリル基からなる群より選択される少なくとも1種の官能基を有する有機基であり、Rは前記有機基と同じであり、あるいはNRとRはヘテロ環を構成する。)
A thermally conductive insulating elastomer composition containing at least one elastomer selected from the group consisting of a silicone-based elastomer and a fluorine-based elastomer, an inorganic filler, and a triazinedithiol-based compound represented by the following general formula (1).
Figure 0007076099000014
(In the formula, M 1 and M 2 are independently H, Li, Na, K, or Cs, R 1 is S, O, or NR 3 , and R 3 is H, or an alkyl group, halogenated. Alkyl group, hydroxyalkyl group, alkoxyalkyl group, alkenyl group, halogenated alkenyl group, hydroxyalkenyl group, alkoxyalkenyl group, phenyl group, halogenated phenyl group, hydroxyphenyl group, alkoxyphenyl group, biphenyl group, halogenated biphenyl group , Hydroxybiphenyl group, alkoxybiphenyl group, naphthyl group, naphthyl halide group, hydroxynaphthyl group, alkoxynaphthyl group, carboxyl group, ester group, urethane group, azo group, cyano group, amino group, amide group, and alkoxysilyl group. It is an organic group having at least one functional group selected from the group consisting of, R 2 is the same as the organic group, or NR 3 and R 2 form a heterocycle).
前記トリアジンジチオール系化合物は、下記一般式(2)~(4)で表されるトリアジンジチオール系化合物の少なくとも1種である請求項1に記載の熱伝導性絶縁エラストマー組成物。
Figure 0007076099000015
(式中、M、M、R、及びRは前記と同じである。)
Figure 0007076099000016
(式中、M及びMは前記と同じであり、RはS、O、-NHCHCHO-、-N(CH)CHCHO-、-N(C)CHCHO-、-NHCHCHCHCHO-、-N(C)CHCHCHCHO-、-NHCH(CHCHO-、-NHCHCH(CH)O-、-NHCO-、-N(C)CO-、-NHC10O-、-N(CHCHCHO-、-N(CHCHNCHCHO-、-N(CHCHOH)CHCHO-、-N(CHCHCHOH)CHCHCHO-、-N(CHCH(CH)OH)CHCH(CH)O-、-N(CHCHCHCHOH)CHCHCHCHO-、-NHCHO-、-NHC11O-、又は-N(C)CO-であり、Rはアルキレン基であり、Rはアルコキシ基であり、R及びRはそれぞれ独立にアルコキシ基又はアルキル基である。)
Figure 0007076099000017
(式中、M、M、及びR~Rは前記と同じであり、Rは水素又はアルキル基であり、Rはアルキレン基又はアルキレンオキシ基であり、RとRは互いに結合して環を形成してもよい。)
The thermally conductive insulating elastomer composition according to claim 1, wherein the triazinedithiol-based compound is at least one of the triazinedithiol-based compounds represented by the following general formulas (2) to (4).
Figure 0007076099000015
(In the formula, M 1 , M 2 , R 2 and R 3 are the same as above.)
Figure 0007076099000016
(In the formula, M 1 and M 2 are the same as described above, and R 1 is S, O, -NHCH 2 CH 2 O-, -N (CH 3 ) CH 2 CH 2 O-, -N (C 3 H). 7 ) CH 2 CH 2 O-, -NHCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O-, -N (C 2 H 5 ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O-, -NHCH 2 (CH 2 ) 8 CH 2 O-, -NHCH 2 CH (CH 3 ) O-, -NHC 6 H 4 O-, -N (C 2 H 5 ) C 6 H 4 O-, -NHC 10 H 6 O-, -N (CH 2 ) CH 2 ) 2 CHO-, -N (CH 2 CH 2 ) 2 NCH 2 CH 2 O-, -N (CH 2 CH 2 OH) CH 2 CH 2 O-, -N (CH 2 CH 2 CH 2 OH) CH 2 CH 2 CH 2 O-, -N (CH 2 CH (CH 3 ) OH) CH 2 CH (CH 3 ) O-, -N (CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OH) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O-, -NHCH 2 C 6 H 4 O-, -NHC 6 H 11 O-, or -N (C 3 H 7 ) C 6 H 4 O-, where R 4 is an alkylene group and R 5 is an alkoxy group, and R 6 and R 7 are independently alkoxy groups or alkyl groups, respectively.)
Figure 0007076099000017
(In the formula, M 1 , M 2 and R 5 to R 7 are the same as above, R 8 is a hydrogen or alkyl group, R 9 is an alkylene or alkylene oxy group, R 8 and R 9 May combine with each other to form a ring.)
前記無機フィラーは、窒化アルミニウムフィラー及び窒化ホウ素フィラーからなる群より選択される少なくとも1種を含む請求項1又は2に記載の熱伝導性絶縁エラストマー組成物。 The heat conductive insulating elastomer composition according to claim 1 or 2, wherein the inorganic filler contains at least one selected from the group consisting of an aluminum nitride filler and a boron nitride filler. 前記無機フィラーの含有量は、前記エラストマー100質量部に対して20~400質量部である請求項1~3のいずれかに記載の熱伝導性絶縁エラストマー組成物。 The heat conductive insulating elastomer composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the content of the inorganic filler is 20 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the elastomer. 前記トリアジンジチオール系化合物の含有量は、前記無機フィラー100質量部に対して5×10-7~5質量部である請求項1~4のいずれかに記載の熱伝導性絶縁エラストマー組成物。 The thermally conductive insulating elastomer composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the content of the triazinedithiol-based compound is 5 × 10 -7 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler. 請求項1~5のいずれかに記載の熱伝導性絶縁エラストマー組成物から得られる熱伝導性絶縁エラストマー成形体。 A thermally conductive insulating elastomer molded product obtained from the thermally conductive insulating elastomer composition according to any one of claims 1 to 5. 前記熱伝導性絶縁エラストマー成形体は、熱伝導性絶縁エラストマーシートである請求項6に記載の熱伝導性絶縁エラストマー成形体。 The heat conductive insulating elastomer molded body according to claim 6, wherein the heat conductive insulating elastomer molded body is a heat conductive insulating elastomer sheet. 請求項6又は7に記載の熱伝導性絶縁エラストマー成形体の製造方法であって、前記無機フィラーと前記トリアジンジチオール系化合物とを接触させて、前記無機フィラーの表面に前記トリアジンジチオール系化合物を付着させて表面修飾無機フィラーを得る工程A、前記表面修飾無機フィラーを前記エラストマー中に分散させて前記熱伝導性絶縁エラストマー組成物を得る工程B、及び前記熱伝導性絶縁エラストマー組成物を成形する工程Cを含む熱伝導性絶縁エラストマー成形体の製造方法。 The method for producing a thermally conductive insulating elastomer molded product according to claim 6 or 7, wherein the inorganic filler is brought into contact with the triazinedithiol-based compound, and the triazinedithiol-based compound is adhered to the surface of the inorganic filler. Step A to obtain the surface-modified inorganic filler, step B to obtain the thermally conductive insulating elastomer composition by dispersing the surface-modified inorganic filler in the elastomer, and a step of molding the thermally conductive insulating elastomer composition. A method for producing a thermally conductive insulating elastomer molded product containing C. 前記工程Cにおいて、前記熱伝導性絶縁エラストマー組成物を加圧及び/又は加熱して成形する請求項8に記載の熱伝導性絶縁エラストマー成形体の製造方法。 The method for producing a thermally conductive insulating elastomer molded product according to claim 8, wherein in the step C, the thermally conductive insulating elastomer composition is pressurized and / or heated to be molded.
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