JP7216093B2 - 鋳造装置及び鋳造方法 - Google Patents
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Description
Claims (12)
- 鋳造品(35)の連続又は半連続鋳造のための鋳造装置(10)であって、
液体金属(20)を供給するための貯留部(15)であって、前記液体金属(20)が液体アルミニウム又はアルミニウム合金であり、且つ前記鋳造品(35)がアルミニウム又はアルミニウム合金製品である、前記貯留部(15)と、
液体金属(20)を少なくとも一時的に保持し且つ前記液体金属(20)を少なくとも部分的に凝固させて鋳造品(35)にするための金属キャビティ(30)を有する直接チル鋳造用金型(25)であって、
前記液体金属(20)用の流路(55)が前記貯留部(15)と前記金型キャビティ(30)との間に画定され、且つ
前記液体金属(20)が重力(g)によって前記貯留部(15)から前記流路(55)に沿って前記金型キャビティ(30)に流れ込む動きをするように前記鋳造装置(10)が構成され、
前記液体金属(20)が、前記金型(25)の第1の垂直方向上側(26)を通じて前記金型キャビティ(30)に入り、且つ
前記鋳造品(35)が、前記金型(25)の第2の垂直方向下側(27)を通じて金型(25)から出る、直接チル鋳造用金型(25)と、
前記貯留部(15)と前記金型キャビティ(30)との間の前記流路(55)に配置されたポンプ(60)であって、
前記ポンプ(60)が、前記貯留部(15)から前記金型キャビティ(30)内への前記液体金属(20)の流れを制御するために、重力(g)によって前記貯留部(15)から前記流路(55)に沿って前記金型キャビティ(30)に流れ込む前記液体金属(20)の動きに抗して作用する力を前記液体金属(20)中に発生させるように動作可能であり、
前記ポンプ(60)が直流電磁ポンプであり、
前記液体金属(20)が層流で前記金型キャビティ(30)に流入するように、分流器(90)が、前記金型キャビティ(30)内で前記液体金属(20)の少なくとも一部を所定の方向に導くために前記ポンプ(60)の下流側の前記流路(55)に設けられ、
前記所定の方向は、前記貯留部(15)と前記金型キャビティ(30)との間の前記流路(55)に対して垂直である、ポンプ(60)と
を備える、鋳造装置(10)。 - 前記金型キャビティ(30)内の液体金属(20)の液面(h)を検出するための、且つ前記金型キャビティ(30)内の液体金属(20)の前記液面(h)を表す液面値を出力するためのセンサ(75)と、
制御器(95)であって、前記センサ(75)及び前記ポンプ(60)が前記制御器(95)に動作可能に接続され、且つ前記液面値と前記設定値との差が最小限に抑えられるように、前記制御器(95)が、前記液面値と前記金型キャビティ(30)内の前記液体金属(20)の所望の液面を表す所定の設定値とに基づいて前記ポンプ(60)を動作させるように構成される、前記制御器(95)と
を更に備える、請求項1に記載の鋳造装置(10)。 - 前記金型キャビティ(30)内の雰囲気が前記鋳造装置(10)の周囲の雰囲気から隔離されるように、前記金型(25)の前記第1の側(26)が少なくとも部分的に密閉され、且つ
前記金型キャビティ(30)内の前記液体金属(20)と前記第1の側(26)との間の前記金型キャビティ(30)内の前記雰囲気が、前記金型キャビティ(30)内の前記液体金属(20)の酸化を制御するために制御される、請求項2に記載の鋳造装置(10)。 - 前記センサ(75)が、レーダ放射領域(85c)における前記金型キャビティ(30)内の前記液体金属(20)に入射する80GHz以上の周波数を有する電磁レーダ放射(76)を放出するレーダセンサである、請求項2又は3に記載の鋳造装置(10)。
- 前記レーダセンサ(75)と前記金型キャビティ(30)内の前記液体金属(20)との間のレーダビームパス内に、少なくとも部分的レーダ放射透過体(85)が設けられ、且つ
前記少なくとも部分的レーダ放射透過体(85)が、2つの外側表面(85a、85b)を有し、前記2つの外側表面(85a、85b)の各々は、前記少なくとも部分的レーダ放射透過体(85)によって反射されたレーダ放射(76)を前記レーダセンサ(75)で、検出するのを回避するために、前記レーダ放射領域(85c)における前記金型キャビティ(30)内の前記レーダセンサ(75)と前記液体金属(20)との間の直線に平行でない法線ベクトルを有する、請求項4に記載の鋳造装置(10)。 - 前記少なくとも部分的レーダ放射透過体(85)が、前記金型の前記密閉された第1の側(26)と一体に設けられる、請求項5に記載の鋳造装置(10)。
- 前記制御器(95)が、前記鋳造品(35)の鋳造作業中に前記所定の設定値を変更するように構成される、請求項2~6のいずれか一項に記載の鋳造装置(10)。
- 前記制御器(95)が、前記鋳造品(35)の前記鋳造作業の初期における前記金型キャビティ(30)内の前記液体金属(20)のより高い液面を表す値から前記鋳造品(35)の前記鋳造作業の後期における前記金型キャビティ(30)内の前記液体金属(20)のより低い液面を表す値に前記所定の設定値を変更するように構成される、請求項7に記載の鋳造装置(10)。
- 前記金型(25)が、前記鋳造品(35)の能動冷却のための手段(45、50)を備える、請求項1~8のいずれか一項に記載の鋳造装置(10)。
- 請求項1~9のいずれか一項に記載の鋳造装置を使用した鋳造品(35)の連続又は半連続鋳造方法であって、
貯留部(15)と金型キャビティ(30)との間に画定された流路(55)に沿って液体金属を前記貯留部(15)から直接チル鋳造用金型(25)の前記金型キャビティ(30)内に重力を用いて供給することと、
前記鋳造品(35)の鋳造中に前記金型キャビティ(30)への前記液体金属(20)の供給を制御して前記金型キャビティ(30)内の液体金属(20)の液面(h)を制御するために、前記重力によって生じる前記流路(55)に沿った前記液体金属(20)の前記流れに抗して作用するポンプ(60)を使用して前記液体金属(20)に作用する力を発生させることと
を含む、方法。 - 前記金型キャビティ(30)内の前記液体金属(20)の所望の液面(h)を表す設定値を算出することと、
前記金型キャビティ(30)内の液体金属(20)の前記実際の液面(h)を表す実際の値を測定することと、
前記設定値と前記実際の値との差が最小限に抑えられるように、前記ポンプ(60)を使用して前記力の発生を制御することと
を更に含む、請求項10に記載の方法。 - ポンプ(60)を使用して前記力を発生させることが、前記流路(55)に沿った前記液体金属(20)の流れに対向する方向を有する力を生じさせる、前記液体金属(20)に作用する電磁界を発生させることを含む、請求項10又は11に記載の方法。
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