JP7209273B2 - フィルタアレイおよび光検出システム - Google Patents
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Description
第1の項目に係るフィルタアレイは、2次元的に配列された複数の光学フィルタを備える。前記複数の光学フィルタのうちの少なくとも1つの光学フィルタは、第1表面、および前記第1表面の反対側の第2表面を有する干渉層、及び前記第1表面上に設けられた反射層を含む。前記少なくとも1つの光学フィルタの透過スペクトルは、特定の波長域に複数の極大値を有する。前記反射層は、前記第2表面上には設けられていない。
第1の項目に係るフィルタアレイにおいて、前記反射層が、分布ブラッグ反射器および金属膜からなる群から選択される少なくとも1つを含んでいてもよい。
第2の項目に係るフィルタアレイにおいて、前記分布ブラッグ反射器が、第1屈折率層および第2屈折率層の組を1組以上含んでいてもよい。前記第1屈折率層の屈折率は、前記第2屈折率層の屈折率よりも高くてもよい。
第3の項目に係るフィルタアレイにおいて、前記特定の波長域に含まれる波長をλとし、前記第1屈折率層の前記屈折率をnHとし、前記第2屈折率層の前記屈折率をnLとすると、前記第1屈折率層の厚さがλ/(4nH)であり、前記第2屈折率層の厚さがλ/(4nL)であり、前記干渉層の厚さがλ/(2nH)よりも大きくてもよい。
第2の項目に係るフィルタアレイにおいて、前記金属膜の厚さが1nm以上100nm以下であってもよい。
第1から第5の項目のいずれかに係るフィルタアレイにおいて、前記少なくとも1つの光学フィルタが、透明層をさらに含んでいてもよい。前記干渉層は、前記透明層と前記反射層との間に配置されていてもよい。
第1から第5の項目のいずれかに係るフィルタアレイにおいて、前記少なくとも1つの光学フィルタが、透明層をさらに含んでいてもよい。前記反射層は、前記透明層と前記干渉層との間に配置されていてもよい。
第6または第7の項目に係るフィルタアレイにおいて、前記少なくとも1つの光学フィルタが、前記透明層上に位置するマイクロレンズをさらに含んでいてもよい。
第9の項目に係る光検出システムは、第1から第8の項目のいずれかに記載のフィルタアレイと、前記複数の光学フィルタを透過した光を受ける位置に配置され、前記特定の波長域に含まれる波長を有する光に感度を有するイメージセンサと、を備える。
第9の項目に係る光検出システムは、前記複数の光学フィルタの透過スペクトルの空間分布を示すデータと、前記イメージセンサによって取得された画像データとに基づいて、複数の波長バンドそれぞれに対応する分光画像データを生成する処理回路、をさらに備え、前記複数の光学フィルタは、互いに異なる透過スペクトルを有する第1の光学フィルタ及び第2の光学フィルタを含んでいてもよい。
<光検出システム>
図1Aは、本開示の例示的な実施形態による光検出システム400を模式的に示す図である。光検出システム400は、光学系40と、フィルタアレイ10と、イメージセンサ60と、処理回路200とを備える。フィルタアレイ10は、特許文献1に開示されている「符号化素子」と同様の機能を有する。このため、フィルタアレイ10を、「符号化素子」と称することもできる。光学系40およびフィルタアレイ10は、対象物70から入射する光の光路に配置されている。図1Aに示す例では、フィルタアレイ10は、光学系40とイメージセンサ60との間に配置されている。
以下に、本実施形態によるフィルタアレイ10を説明する。フィルタアレイ10は、対象物から入射する光の光路に配置され、入射光の強度を波長ごとに変調して出力する。フィルタアレイすなわち符号化素子によるこの過程を、本明細書では「符号化」と称する。
次に、処理回路200によって多波長の分離画像220を再構成する方法を説明する。ここで多波長とは、例えば通常のカラーカメラで取得されるRGBの3色の波長域よりも多くの波長域を意味する。この波長域の数は、例えば4から100程度の数であり得る。この波長域の数を、「分光帯域数」とも称する。用途によっては、分光帯域数は100を超えていてもよい。
次に、図5Aおよび図5Bを参照して、本実施形態によるフィルタアレイ10の具体的な構造の例を説明する。図5Aおよび図5Bは、それぞれ、光検出装置300の第1の例および第2の例を模式的に示す断面図である。当該断面図は、図2Aに示すフィルタアレイ10の1つの行およびイメージセンサ60の断面構造の例を示す。図5Aおよび図5Bに示す例では、フィルタアレイ10がイメージセンサ60上に配置されている。イメージセンサ60に含まれる複数の光検出素子60aは、それぞれ、フィルタアレイ10に含まれる複数のフィルタ100の直下に位置する。フィルタアレイ10とイメージセンサ60とが分離していてもよい。その場合であっても、複数の光検出素子60aの各々は、複数のフィルタの1つを透過した光を受ける位置に配置され得る。複数のフィルタを透過した光が、ミラーを介して複数の光検出素子60aにそれぞれ入射するように、各構成要素が配置されていてもよい。その場合、複数の光検出素子60aの各々は、複数のフィルタの1つの直下には配置されない。
一方、図5Bに示す光検出装置300のフィルタ100においては、干渉層26の上面上に反射層24が配置されている。図5Bに示す光検出装置300のフィルタ100において、干渉層26の上面が第1表面に相当し、下面が第2表面に相当する。
24、25 反射層
26 干渉層
26s1 下面
26s2 上面
28 透明層
40 光学系
40a マイクロレンズ
60 イメージセンサ
60a 光検出素子
70 対象物
100 フィルタ
120 画像
200 処理回路
220 分離画像
300 光検出装置
400 光検出システム
Claims (11)
- 2次元平面内に配置された複数の光学フィルタを備え、
前記複数の光学フィルタのうちの少なくとも1つの光学フィルタは、
第1表面、および前記第1表面の反対側の第2表面を有する干渉層、及び前記第1表面上に設けられた反射層を含み、
前記少なくとも1つの光学フィルタの透過スペクトルは、複数の極大値を有し、
前記干渉層の内部において、前記第1表面および前記反射層の少なくとも一方から反射された光と、前記第2表面から反射された光に起因する定在波が形成され、
前記反射層は、前記第2表面上には設けられていない、
フィルタアレイ。 - 前記反射層は、分布ブラッグ反射器および金属膜からなる群から選択される少なくとも1つを含む、
請求項1に記載のフィルタアレイ。 - 前記分布ブラッグ反射器は、第1屈折率層および第2屈折率層の組を1組以上含み、
前記第1屈折率層の屈折率は、前記第2屈折率層の屈折率よりも高い、
請求項2に記載のフィルタアレイ。 - 前記複数の極大値を有する特定の波長域に含まれる波長をλとし、
前記第1屈折率層の前記屈折率をnHとし、前記第2屈折率層の前記屈折率をnLとすると、
前記第1屈折率層の厚さはλ/(4nH)であり、前記第2屈折率層の厚さはλ/(4nL)であり、
前記干渉層の厚さはλ/(2nH)よりも大きい、
請求項3に記載のフィルタアレイ。 - 前記金属膜の厚さは1nm以上100nm以下である、
請求項2に記載のフィルタアレイ。 - 前記少なくとも1つの光学フィルタは、透明層をさらに含み、
前記干渉層は、前記透明層と前記反射層との間に配置されている、
請求項1から5のいずれかに記載のフィルタアレイ。 - 前記少なくとも1つの光学フィルタは、透明層をさらに含み、
前記反射層は、前記透明層と前記干渉層との間に配置されている、
請求項1から5のいずれかに記載のフィルタアレイ。 - 前記少なくとも1つの光学フィルタは、前記透明層上に位置するマイクロレンズをさらに含む、
請求項6または7に記載のフィルタアレイ。 - 前記第2表面を界面として、前記界面を形成する前記干渉層の内部の媒質および外部の媒質の屈折率の相対誤差は9%よりも大きい、
請求項1から8のいずれかに記載のフィルタアレイ。 - 請求項1から9のいずれかに記載のフィルタアレイと、
前記複数の光学フィルタを透過した光を受ける位置に配置されたイメージセンサと、
を備える、
光検出システム。 - 前記複数の光学フィルタの透過スペクトルの空間分布を示すデータと、前記イメージセンサによって取得された画像データとに基づいて、複数の波長バンドそれぞれに対応する分光画像データを生成する処理回路、をさらに備える、
請求項10に記載の光検出システム。
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JP2018164153A (ja) | 2017-03-24 | 2018-10-18 | 株式会社リコー | 画像処理システム、マルチバンドフィルタ、及び撮像装置 |
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US10451783B2 (en) * | 2017-05-22 | 2019-10-22 | Viavi Solutions Inc. | Induced transmission filter having plural groups of alternating layers of dielectric material for filtering light with less than a threshold angle shift |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012064824A (ja) | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Toshiba Corp | 固体撮像素子、その製造方法、カメラ |
WO2018155486A1 (ja) | 2017-02-21 | 2018-08-30 | 株式会社ナノルクス | 固体撮像素子及び撮像装置 |
JP2018164153A (ja) | 2017-03-24 | 2018-10-18 | 株式会社リコー | 画像処理システム、マルチバンドフィルタ、及び撮像装置 |
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