JP7196338B2 - 電気めっき装置及びめっき物の製造方法 - Google Patents

Description

本開示は、電気めっき装置及びめっき物の製造方法に関する。

特許文献１は、電気めっき工程と同時に撹拌工程を行い、基材に対するめっき層の密着性を高めることを開示する。特許文献２は、磁気研磨方法及び装置に関し、特には、大型のワークを研磨するに際して複数の磁石円板を設けることを開示する（段落０００１、段落０００３、及び段落００３０等参照）。磁石円板が動かされ、交番磁界のデッドゾーンが低減されることも開示されている（段落００３２、段落００３５、及び段落００３６等参照）。特許文献３は、特許文献２と同様、大型の被研磨材を研磨することに関し（図４参照）、磁石円盤及び回転用モーターを基盤で指示し、この基盤を揺動することにより、磁石円盤の回転軸周辺の交番磁界のデッドゾーンを解消することを開示する（段落０００６、段落００３５、及び段落００３６等参照）。

国際公開第２０１８／１８９９１６号 特開平１０－１８０６１１号公報 特開２００１－１３８２０８号公報

電気めっきと研磨を同槽で行う場合、電気めっきと研磨を上手く両立する必要がある。

本開示の一態様に係るめっき装置は、少なくとも被めっき物と磁性メディアが沈降する電解液を貯留するめっき槽と、交番磁界を生成するべくめっき槽の下方に回転可能に設けられた少なくとも一つの磁性回転体を備える。少なくとも一つの磁性回転体は、磁性回転体の上方の空間を占める第１空間と第１空間以外の空間を占める第２空間にめっき槽の槽内空間を区分するように設けられる。少なくとも一つの磁性回転体は、磁性回転体の回転軸に交差する横方向に移動可能に設けられ、これによって、被めっき物が、第１空間において電解液中にある状態と第２空間において電解液中にある状態の間で切り替えられる。

幾つかの実施形態においては、磁性回転体は、当該磁性回転体の外周部が横方向においてめっき槽から突出する位置に到達するまで横方向沿いに動かされる。

幾つかの実施形態においては、めっき槽は、第１空間に対応する第１底面領域と、第２空間に対応する第２底面領域を有し、第２底面領域の面積は、第１底面領域の面積よりも大きい。

幾つかの実施形態においては、めっき槽が第１及び第２端部を有するべく長尺に形状付けられ、磁性回転体は第１端部の直下の第１末端位置と第２端部の直下の第２末端位置の間を往復するように動かされる。

幾つかの実施形態においては、めっき装置は、磁性回転体に回転力を供給する回転力供給部と、回転力供給部を横方向に移動するべく構成された移動機構を更に備える

本開示の別態様に係るめっき物の製造方法は、
少なくとも被めっき物と磁性メディアが沈降した電解液を貯留するめっき槽において被めっき物を電気めっきする工程と、
磁気的吸引力及び磁気的反発力に応じて電解液中の磁性メディアが運動するようにめっき槽の下方で磁性回転体を回転する工程にして、めっき槽の槽内空間が、磁性回転体の上方の空間を占める第１空間と第１空間以外の空間を占める第２空間に区分される、工程と、
磁性回転体の回転軸に交差する横方向に磁性回転体を動かす工程にして、被めっき物が、第１空間において電解液中にある状態と第２空間において電解液中にある状態の間で切り替えられる工程を含む。

幾つかの実施形態においては、鋭利な先端を有しない磁性メディアが用いられる。

本開示の一態様によれば、電気めっきと研磨を上手く両立することが促進される。

本開示の一態様に係る電気めっき装置の概略図であり、磁性回転体がめっき槽の第１端部の直下の第１末端位置に位置付けられる。 本開示の一態様に係る電気めっき装置におけるめっき槽と磁性回転体の相対的な位置関係を主に示す概略図であり、磁性回転体がめっき槽の第１端部の直下の第１末端位置に位置付けられる。 本開示の一態様に係る電気めっき装置の概略図であり、磁性回転体がめっき槽の第２端部の直下の第２末端位置に位置付けられる。 本開示の一態様に係る電気めっき装置におけるめっき槽と磁性回転体の相対的な位置関係を主に示す概略図であり、磁性回転体がめっき槽の第２端部の直下の第２末端位置に位置付けられる。 磁性回転体における永久磁石の配置例を示す概略的な上面図である。 別のめっき槽を示す概略的な側面図である。 めっき物の製造方法を示す概略的なフローチャートである。

以下、図１乃至図７を参照しつつ、様々な実施形態及び特徴について説明する。当業者は、過剰説明を要せず、各実施形態及び／又は各特徴を組み合わせることができ、この組み合わせによる相乗効果も理解可能である。実施形態間の重複説明は、原則的に省略する。参照図面は、発明の記述を主たる目的とするものであり、作図の便宜のために簡略化されている。各特徴は、本願に開示された電気めっき装置及び方法にのみ有効であるものではなく、本明細書に開示されていない他の様々な電気めっき装置及び方法にも通用する普遍的な特徴として理解される。

図１に示すように、電気めっき装置１００は、被めっき物１と磁性メディア２が沈降する電解液を貯留するめっき槽１０と、交番磁界を生成するべくめっき槽１０の下方に回転可能に設けられた少なくとも一つの磁性回転体６と、磁性回転体６に回転力を供給する回転力供給部６５と、回転力供給部６５を横方向に移動するべく構成された移動機構Ｍ１を有する。移動機構Ｍ１から回転力供給部６５を介して伝達する力に応じて磁性回転体６が横方向に移動する。横方向は、磁性回転体６の回転軸ＡＸ６６に交差（例えば、直交）する。横方向は、典型的には鉛直方向に直交する水平方向であるが、これに限られない。磁性回転体６の横方向移動のために回転力供給部６５を介して磁性回転体６に力を伝達することは必須ではなく、他の機構も採用可能であることに留意されたい。

めっき槽１０は、導電性、例えば、金属製の槽である。めっき槽１０は、横方向に長尺に構成され、第１及び第２端部１６，１７を有する（図２参照）。めっき槽１０は、上下面により厚みが規定される底部１１、底部１１の外周から上方に立ち上がる周壁１２、及び周壁１２の上端でめっき槽外方に突出したフランジ部１３を有する。周壁１２は、横方向に延びる横壁１２ａ，１２ｂと、横方向に交差するように延びる湾曲壁１２ｃ，１２ｄを有する。めっき槽１０の槽内空間は、底部１１と周壁１２により画定され、めっき槽１０の第１及び第２端部１６，１７の間を延びる。周壁１２は、底部１１に対して垂直に設けられる場合に限られず、底部１１に対して斜めに設けられても良い（図６参照）。

めっき槽１０に貯留される電解液には、被めっき物１と磁性メディア２が投入されて沈降し、かつ陽極が浸される。電解液は、例えば、シアン系めっき液であるが、これに限られず、他の種類のめっき液も利用可能である。めっき槽１０内にメッシュ状の導電性の受容部２２が配置され、この受容部２２内に金属塊２３が受容される。金属塊２３は、めっき槽１０の電解液中で陽極として機能する。受容部２２は、めっき槽１０と同様、横方向に長尺であり、金属塊２３から溶出した金属イオンの濃度差が横方向において生じることが抑制される。陽極として不溶性陽極を採用することもできる。めっき槽１０と金属塊２３（陽極）が直流電源Ｅ１に接続され、めっき槽１０に電気的に接続された被めっき物１（陰極）が電気めっきされる。被めっき物１がめっき槽１０に電気的に接続されることは、被めっき物１がめっき槽１０に直接的に接触している状態に限られず、他の被めっき物１を介してめっき槽１０に電気的に接続されている状態を含む。

被めっき物１は、少なくとも部分的に導電性を有する導電性部品である。例えば、被めっき物１は、服飾用の金属製ボタン、又はスライドファスナー用の金属製スライダーといった金属製品であるが、これに限られない。被めっき物１は、磁性メディア２により電解液中で撹拌されるサイズを有するが、これに限られない。磁性メディア２は、被めっき物１を物理的に研磨するように形状づけられた磁性体である。例えば、磁性メディア２は、針、棒、立方体、直方体、ピラミッド形の強磁性体であるが、このような形状に限られない。メディア２は、鋭利な先端を有しないものであり得る。このような非鋭利な先端を有しないメディア２を用いることによって被めっき物１が過剰に研磨されてしまうことが回避又は抑制され、所望のめっき厚及び／又は色目のめっき物を得ることが促進される。購入したメディア２が鋭利な先端を有する場合、めっき槽１０を研磨槽として用いてメディア２の鋭利な先端を事前に除去する。例えば、メディア２と砥石を研磨槽に投入し、磁性回転体６を回転させる。これによってメディア２の鋭利な先端が砥石によって研がれて除去される。このような研磨処理したメディアは、金属粉で汚れているため、界面活性剤を用いて洗浄することが望ましい。

磁性回転体６は、その回転によって交番磁界を生成するように構成される。幾つかの場合、磁性回転体６は、回転円盤６８と回転円盤６８に設けられた複数の永久磁石６９を有する。永久磁石６９は、磁性回転体６の回転軸ＡＸ６６から径方向外側にオフセットして配置される。磁性回転体６の回転に応じて、永久磁石６９が、磁性回転体６の回転軸ＡＸ６６に関する周方向に移動し、交番磁界が生成される。交番磁界の適切な形成のため、図５に示すように周方向においてＮ極上向きの永久磁石６９とＳ極上向きの永久磁石６９が交互に配置される。永久磁石６９の個数は任意に決定することができる。

磁束は、Ｎ極から出てＳ極に向かう。磁性回転体６の回転によって磁性メディア２は、第１及び第２磁化状態の間を任意のタイミングで推移し得る。第１磁化状態において、磁性メディアの第１端がＮ極であり、その第２端がＳ極である。第２磁化状態において、磁性メディアの第１端がＳ極であり、その第２端がＮ極である。磁性メディアは、永久磁石６９に磁気的に吸引されて周方向に流れ、また、その磁化状態の反転によって不規則に回転運動し得る。磁性メディア２が被めっき物１に衝突して被めっき物１が磁性回転体６の回転方向に流動する。磁化状態の反転に伴う磁性メディア２の不規則な回転運動によって被めっき物１がより均一に研磨される。

めっき槽１０の下方に磁性回転体６が配置される時、めっき槽１０の槽内空間は、磁性回転体６の上方の空間を占める第１空間ＳＰ１と第１空間ＳＰ１以外の空間を占める第２空間ＳＰ２に区分される。磁性回転体６が横方向に移動するため、これに同調して第１空間ＳＰ１が移動する。第２空間ＳＰ２は、めっき槽１０の槽内空間の全容積から第１空間ＳＰ１を差し引いた空間であり、第１空間ＳＰ１の移動に同調してめっき槽１０の槽内空間における位置及び／又は範囲が変化する。言うまでもなく、第１空間ＳＰ１は、めっき槽１０の槽内空間形状と、磁性回転体６の形状と、めっき槽１０の槽内空間と磁性回転体６の相対的な配置関係に依存し、図示のものに限られない。

回転力供給部６５は、磁性回転体６に対して回転力を供給するように構成される。回転力供給部６５の具体的な構成は任意であるが、直流又は交流電動機の採用が便利である。電動機のオン・オフ制御により研磨時間を制御することができ、電動機の回転子の回転速度の制御により研磨速度を制御することができる。図示例では、回転力供給部６５は、電動モーター６１を含み、その回転軸６７に磁性回転体６が回転不能に軸着している。電動モーター６１で生成される回転力が磁性回転体６に伝達し、磁性回転体６がその回転軸ＡＸ６６を回転中心として回転する。磁性回転体６の回転速度は、適切な研磨速度が達成されるように当業者により決定される。電動モーター６１で生成される回転力を無端ベルトを介して磁性回転体６に伝達する機構も想定される。

必ずしもこの限りではないが、回転力供給部６５は、移動機構Ｍ１によって横方向に動かされるべく設けられる。これによって磁性回転体６が横方向に動かされる。図示例では、回転力供給部６５は、横方向に並走するガイドレールＧ１に実装されて支持される。ガイドレールＧ１は、不図示の筐体等により支持されている。ガイドレールＧ１の使用は必須ではなく、回転力供給部６５に車輪を設けて床面上を移動可能としても良い。

移動機構Ｍ１は、回転力供給部６５（及び回転力供給部６５を介して磁性回転体６）を横方向に動かすように構成される。図示例では、移動機構Ｍ１は、電動モーター６１と、電動モーター６１で生成される回転力を回転力供給部６５の横方向の移動に変換するためのクランク機構を含む。クランク機構は、互いに枢動可能に連結した第１及び第２リンク６２，６３を含む。第１リンク６２は、電動モーター６１の回転軸６１ａに回転不能に軸着する第１端部と、第２リンク６３に対して回転可能に軸着する第２端部を有する。第２リンク６３は、第１リンク６２に回転可能に軸着する第１端部と、回転力供給部６５に回転可能に軸着する第２端部を有する。クランク機構の採用によって回転力供給部６５の進行方向の反転が連続的に及び円滑に行われる。

電動モーター６１の回転軸６１ａの回転に応じて第１リンク６２が時計回り又は反時計回りに回動する。第１リンク６２の回動に応じて第２リンク６３の姿勢が変化し、ガイドレールＧ１沿いの回転力供給部６５の位置が変化する。回転力供給部６５と一緒に磁性回転体６が横方向に移動する。図示例を含む幾つかの場合、電動モーター６１の回転軸６１ａの１８０°の回転によって回転力供給部６５がめっき槽１０の第１端部１６の直下の第１末端位置から第２端部１７の直下の第２末端位置に移動する。電動モーター６１の回転軸６１ａの更なる１８０°の回転によって回転力供給部６５がめっき槽１０の第２端部１７の直下の第２末端位置から第１端部１６の直下の第１末端位置に移動する。このような回転軸６１ａの回転の継続によって、回転力供給部６５は、めっき槽１０の第１端部１６の直下の第１末端位置と第２端部１７の直下の第２末端位置の間で往復運動する。回転力供給部６５の回転軸６１ａに軸着した磁性回転体６についても同様であり、重複説明は省略する。

上述のように、磁性回転体６は、磁性回転体６の回転軸ＡＸ６６に交差する横方向に移動可能に設けられる。これによって、被めっき物１は、第１空間ＳＰ１において電解液中にある状態と第２空間ＳＰ２において電解液中にある状態の間で切り替え可能となる。第１空間ＳＰ１における電解液中では電気めっきよりも研磨が支配的である。他方、第２空間ＳＰ２における電解液中では研磨よりも電気めっきが支配的である。磁性回転体６の横方向の移動によって、被めっき物１に対する電気めっきと研磨が上手く両立できる。例えば、過剰な研磨によってめっき層の成長が阻害され過ぎることが回避又は抑制される。めっき槽１０の槽内空間に第１及び第２空間ＳＰ１，ＳＰ２を割り当てることによって、より多くの被めっき物１に対して電気めっきすることも促進される。

幾つかの場合、被めっき物１は、磁性回転体６の横方向の移動に応じて、第１空間ＳＰ１における電解液中で第１速度で電気めっきされる状態と第２空間ＳＰ２における電解液中で第１速度よりも大きい第２速度で電気めっきされる状態の間で切り替えられる。永久磁石６９からの離間距離の二乗に比例して磁束密度が低下するため、第１空間ＳＰ１における電解液中での磁性メディア２による被めっき物１の研磨速度は、第２空間ＳＰ２における電解液中での磁性メディア２による被めっき物１の研磨速度よりも大きい。従って、第１空間ＳＰ１における電解液中での電気めっきの第１速度よりも第２空間ＳＰ２における電解液中での電気めっきの第２速度が大きくなる。なお、第１及び第２速度は、単位時間当たりに成膜されるめっき層の厚みとして表現され得る。被めっき物１は、第１空間ＳＰ１において電解液中にある状態と第２空間ＳＰ２において電解液中にある状態の間を何回も推移することが予期される。従って、被めっき物１上に形成されるめっき層の成膜速度は、第１速度と第２速度に応じた値、例えば、それらの平均値となり得る。第１空間ＳＰ１で電気めっきがほとんど進行しない、すなわち、第１速度≒０となる形態も想定される。

第１空間ＳＰ１における電解液中では、磁性メディア２が被めっき物１に衝突することによって被めっき物１がめっき槽１０の底部１１から浮き上がってめっき槽１０から絶縁される可能性が高い。もちろん、めっき槽１０の底部１１から浮き上がった被めっき物１は、その重力、又は、他の磁性メディア２や他の被めっき物１から受ける衝撃、又は、めっき槽１０の電解液に生じる流れに応じて、めっき槽１０の底部１１又は周壁１２に再び接触してめっき槽１０に電気的に接続される可能性もある。

磁性メディア２は、第１空間ＳＰ１における電解液中のみで運動するのではなく、第１空間ＳＰ１の周囲の第２空間ＳＰ２における電解液中でも運動する。しかしながら、永久磁石６９からの離間距離の二乗に比例して磁束密度が低下するため、磁性メディア２の運動量（運動量＝質量×速度）は、第１空間ＳＰ１よりも第２空間ＳＰ２において低下する。すなわち、磁性メディア２が被めっき物１に衝突することによって被めっき物１がめっき槽１０の底部１１から浮き上がる等によってめっき槽１０から絶縁される可能性は、第１空間ＳＰ１よりも第２空間ＳＰ２において低くなる。例えば、磁性回転体６が第１末端位置（図２）にある時、めっき槽１０の第２端部１７近傍に残留している被めっき物１は、磁性メディア２により研磨されず、ただ電気めっきされるのみである。被めっき物１が常に研磨されるか否かは、第１空間ＳＰ１に対する第２空間ＳＰ２の相対的な大きさに依存する。

磁性メディア２の中には、磁性回転体６に磁気的に誘引されて横方向において磁性回転体６と同じ側に動く磁性メディア２が含まれる。被めっき物１の中には磁性メディア２から受ける衝撃によって同じ方向に動くものが含まれる。従って、磁性回転体６の移動に関わらず、被めっき物１の幾つかは、第１空間ＳＰ１における電解液中で研磨され続けることも想定される。しかしながら、被めっき物１が、第１空間ＳＰ１から脱しないことは想定していない。なぜなら、磁性メディア２は、交番磁界に晒されており、ランダムに運動するためである。磁性回転体６が横方向に動くとしても同じ方向に移動しない磁性メディア２及び被めっき物１があることは当然である。このような被めっき物１は、第１空間ＳＰ１における電解液中で研磨を受ける状態から第２空間ＳＰ２における電解液中であまり又は完全に研磨を受けない状態に推移し、過度な研磨から開放される。第１空間ＳＰ１を研磨空間と呼び、第２空間ＳＰ２を非研磨空間と呼ぶこともできる。

図１乃至図４を参照して第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２の変動についてより具体的に述べる。第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２の境界は、少なくとも部分的に、磁性回転体６の外周に対して設定された仮想面により画定される。図示例では、磁性回転体６が円形の外周を有する。仮想面は、磁性回転体６の円形の外周に等しい断面輪郭を有する中空円柱の外周面である。この仮想面は、めっき槽１０の第１端部１６側の第１領域Ｖ１と、めっき槽１０の第２端部１７側の第２領域Ｖ２に区分可能である。図１及び図２に示す時、仮想面の第２領域Ｖ２がめっき槽１０の横壁１２ａ，１２ｂに交差し、仮想面の第２領域Ｖ２と湾曲壁１２ｃの間で第１空間ＳＰ１が定められる。図３及び図４に示す時、仮想面の第１領域Ｖ１がめっき槽１０の横壁１２ａ，１２ｂに交差し、仮想面の第１領域Ｖ１と湾曲壁１２ｄの間で第１空間ＳＰ１が定められる。

磁性回転体６が図２に示す第１末端位置から図４に示す第２末端位置に向けて移動するに応じて、仮想面の第２領域Ｖ２と湾曲壁１２ｄの間の第２空間ＳＰ２が狭められる。また、この磁性回転体６の移動過程で、仮想面の第１領域Ｖ１が湾曲壁１２ｃ又は横壁１２ａ，１２ｂに交差し、第１領域Ｖ１と湾曲壁１２ｃの間に新たな第２空間ＳＰ２が生成される。磁性回転体６の移動に応じた第２領域Ｖ２と湾曲壁１２ｄの間の第２空間ＳＰ２の減少は、磁性回転体６の移動に応じた第１領域Ｖ１と湾曲壁１２ｃの間の第２空間ＳＰ２の増加によって補償される。第２領域Ｖ２が湾曲壁１２ｄを超えてめっき槽１０外方まで移動すると、第２領域Ｖ２と湾曲壁１２ｄの間の第２空間ＳＰ２が消滅する。

磁性回転体６が図４に示す第２末端位置から図２に示す第１末端位置に向けて移動するに応じて、仮想面の第１領域Ｖ１と湾曲壁１２ｃの間の第２空間ＳＰ２が狭められる。また、この磁性回転体６の移動過程で、仮想面の第２領域Ｖ２が湾曲壁１２ｃ又は横壁１２ａ，１２ｂに交差し、第２領域Ｖ２と湾曲壁１２ｄの間に新たな第２空間ＳＰ２が生成される。磁性回転体６の移動に応じた第１領域Ｖ１と湾曲壁１２ｃの間の第２空間ＳＰ２の減少は、磁性回転体６の移動に応じた第２領域Ｖ２と湾曲壁１２ｄの間の第２空間ＳＰ２の増加によって補償される。第１領域Ｖ１が湾曲壁１２ｃを超えてめっき槽１０外方まで移動すると、第１領域Ｖ１と湾曲壁１２ｃの間の第２空間ＳＰ２が消滅する。

めっき槽１０の底部１１の底面は、第１空間ＳＰ１に対応する第１底面領域１１１と、第２空間ＳＰ２に対応する第２底面領域１１２に区分可能である。第１底面領域１１１は、第１空間ＳＰ１と同様、磁性回転体６の横方向の移動に応じて移動する。第２底面領域１１２の位置及び範囲は、第２空間ＳＰ２と同様、磁性回転体６の横方向の移動に応じて変化する。有利には、第２底面領域１１２の面積は、第１底面領域１１１の面積（例えば、その最大面積）よりも大きい。これによって、被めっき物１が磁性メディア２により過度に研磨され、めっき層の成長が過度に妨げられることが回避又は抑制される。

磁性回転体６は、当該磁性回転体６の外周部が横方向においてめっき槽１０から突出する位置に到達するまで横方向沿いに動かされる。これによって、めっき槽１０において研磨のデッドスペースが生成されることが抑制される。必ずしもこの限りではないが、磁性回転体６の永久磁石６９がめっき槽１０とオーバーラップしない位置まで動かされ得る（図２及び図４参照）。永久磁石６９は、めっき槽１０の周壁１２、例えば、横壁１２ａ，１２ｂ及び湾曲壁１２ｃ，１２ｄの直下を移動する。めっき槽１０の第１及び第２端部１６，１７の周壁１２を（例えば、湾曲壁１２ｃ，１２ｄの如く弧状に）湾曲させると良い。めっき槽１０の長手方向の端部において被めっき物１が滞留し、電気めっき及び研磨が不十分になることが回避又は抑制される。

最後に図７のフローチャートを参照してめっき物の製造方法について説明する。まず、めっき槽１０に貯留された電解液に被めっき物１と磁性メディア２を投入する（Ｓ１）。次に受容部２２に受容された電解液中の金属塊２３（すなわち、陽極）とめっき槽１０を直流電源Ｅ１に接続し、めっき槽１０に対して電気的に接続された被めっき物１を電気めっきする（Ｓ２）。次に、回転力供給部６５を作動させて磁性回転体６を回転させる（Ｓ３）。磁気的吸引力及び磁気的反発力に応じて電解液中の磁性メディア２が運動する。次に、移動機構Ｍ１を作動させて磁性回転体６を動かす（Ｓ４）。被めっき物１は、第１空間ＳＰ１において電解液中にある状態と第２空間ＳＰ２において電解液中にある状態の間を推移する。端的には、被めっき物１は、第１空間ＳＰ１における電解液中で第１速度で電気めっきされる状態と第２空間ＳＰ２における電解液中で第１速度よりも大きい第２速度で電気めっきされる状態の間を推移する。工程Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４は、順不同で行われる。Ｓ４，Ｓ３，Ｓ２，Ｓ１の順番、Ｓ３，Ｓ４，Ｓ１，Ｓ２の順番も可能である。

所定時間経過すると、被めっき物１の表面上に十分な膜厚のめっき層が形成される。従って、電気めっきのための通電を停止し（Ｓ５）、磁性回転体６の回転を停止し（Ｓ６）、磁性回転体６の移動を停止する（Ｓ７）。電気めっきと研磨が同時に行われるため、密着性の高い緻密なめっき層が形成され、またその表面も滑らかである。Ｓ５～Ｓ７は、Ｓ２～Ｓ４と同じく順不同である。

上述の教示を踏まえ、当業者は、各実施形態に対して様々な変更を加えることができる。請求の範囲に盛り込まれた符号は、参考のためであり、請求の範囲を限定解釈する目的で参照されるべきものではない。横方向は、直線方向に限らず、湾曲した方向でも良い。めっき槽は、その全体が導電性を有するものに限られない。絶縁性の槽本体の内壁面に導電性皮膜を形成してめっき槽を導電性としても良い。

１ 被めっき物
２ 磁性メディア
６ 磁性回転体
１０ めっき槽
１００ 電気めっき装置
ＳＰ１ 第１空間
ＳＰ２ 第２空間

Claims (6)

1. 少なくとも被めっき物（１）と磁性メディア（２）が沈降する電解液を貯留するめっき槽（１０）と、
   交番磁界を生成するべく前記めっき槽（１０）の下方に回転可能に設けられた少なくとも一つの磁性回転体（６）を備える電気めっき装置（１００）であって、
   前記少なくとも一つの磁性回転体（６）は、前記磁性回転体（６）の上方の空間を占める第１空間（ＳＰ１）と前記第１空間（ＳＰ１）以外の空間を占める第２空間（ＳＰ２）に前記めっき槽（１０）の槽内空間を区分するように設けられ、
   前記少なくとも一つの磁性回転体（６）は、前記磁性回転体（６）の回転軸（ＡＸ６６）に交差する横方向に移動可能に設けられ、これによって、前記被めっき物（１）が、前記第１空間（ＳＰ１）において前記電解液中にある状態と前記第２空間（ＳＰ２）において前記電解液中にある状態の間で切り替えられる、電気めっき装置。
2. 前記磁性回転体（６）は、当該磁性回転体（６）の外周部が前記横方向において前記めっき槽（１０）から突出する位置に到達するまで前記横方向沿いに動かされることを特徴とする請求項１に記載の電気めっき装置。
3. 前記めっき槽（１０）は、前記第１空間（ＳＰ１）に対応する第１底面領域（１１１）と、前記第２空間（ＳＰ２）に対応する第２底面領域（１１２）を有し、前記第２底面領域（１１２）の面積は、前記第１底面領域（１１１）の面積よりも大きいことを特徴とする請求項１又は２に記載の電気めっき装置。
4. 前記めっき槽（１０）が第１及び第２端部（１６，１７）を有するべく長尺に形状付けられ、前記磁性回転体（６）は前記第１端部（１６）の直下の第１末端位置と前記第２端部（１７）の直下の第２末端位置の間を往復するように動かされることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気めっき装置。
5. 前記磁性回転体（６）に回転力を供給する回転力供給部（６５）と、
   前記回転力供給部（６５）を前記横方向に移動するべく構成された移動機構（Ｍ１）を更に備えることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の電気めっき装置。
6. 少なくとも被めっき物（１）と磁性メディア（２）が沈降した電解液を貯留するめっき槽（１０）において前記被めっき物（１）を電気めっきする工程と、
   磁気的吸引力及び磁気的反発力に応じて前記電解液中の磁性メディア（２）が運動するように前記めっき槽（１０）の下方で磁性回転体（６）を回転する工程にして、前記めっき槽（１０）の槽内空間が、前記磁性回転体（６）の上方の空間を占める第１空間（ＳＰ１）と前記第１空間（ＳＰ１）以外の空間を占める第２空間（ＳＰ２）に区分される、工程と、
   前記磁性回転体（６）の回転軸（ＡＸ６６）に交差する横方向に前記磁性回転体（６）を動かす工程にして、前記被めっき物（１）が、前記第１空間（ＳＰ１）において前記電解液中にある状態と前記第２空間（ＳＰ２）において前記電解液中にある状態の間で切り替えられる工程を含むめっき物の製造方法。

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