JP7192423B2 - めっき厚判定方法、並びに多層配線基板の製造方法 - Google Patents
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Description
以下、FC-BGA配線基板を多層配線基板と称する。
1)前記多面付け多層配線基板の少なくとも一層の配線層の作製に、請求項1に記載のめっき厚判定方法を用いる工程。
2)前記多面付け多層配線基板を断裁して個片化する工程。
線基板20の間には、個々の多層配線基板に断裁され個片化されるための切りしろ領域12を備え、多層配線基板20は、導通ビアを有する絶縁樹脂層と、配線パターンと、が少なくとも1層ずつ交互に積層された配線層を備えている。
凹部S+1、S+2のみ逆台形状の側面からの反射光が斜め反射光となるので、リング状の暗部R+1、R+2が観察される。
11・・・・・・・・外周部
12・・・・・・・・切りしろ領域
20・・・・・・・・多層配線基板
20x、20y・・・テストパターン領域
2・・・・・・・・・配線パターン
3・・・・・・・・・絶縁樹脂層
5・・・・・・・・・薄膜導体層
22・・・・・・・・銅めっき層
V、V+1、V+2、V-1、V-2・・・・ビア用孔
S、S+1、S+2、S-1、S-2、S’、S+1’、S+2’、S-1’、S+2’
’・・・凹部
R、R+1、R+2、R-1、R-2、R’、R+1’、R+2’、R-1’、R+2’
’・・・暗部
30・・・・・・・・多面付け多層配線基板(従来)
40・・・・・・・・多層配線基板
50・・・・・・・・配線層
51・・・・・・・・コア基板(絶縁基板)
51a・・・・・・・スルーホール
51b・・・・・・・スルーホールめっき層
52・・・・・・・・第1配線パターン
53・・・・・・・・絶縁樹脂層
54・・・・・・・・ビア用孔
55・・・・・・・・薄膜導体層
56・・・・・・・・レジストパターン
61・・・・・・・・導通ビア(フィルドビア)
62・・・・・・・・第2配線パターン
70・・・・・・・・第1端子電極
80・・・・・・・・第2端子電極
Claims (2)
- コア基板の少なくとも一方の面に、平面配列された多層配線基板と外周部とを備え、
隣り合う前記多層配線基板の間には、個々の前記多層配線基板に断裁され個片化されるための切りしろ領域を備える多面付け多層配線基板であって、
前記多層配線基板は、導通ビアを有する絶縁樹脂層と、配線パターンと、が少なくとも1層ずつ交互に積層された配線層を備え、
前記導通ビアと前記配線パターンとは銅めっきにより成り、
前記多層配線基板の少なくとも1層の前記配線層の前記導通ビアと同じ大きさの径の導通ビア、及び前記導通ビアよりも小さい径の導通ビア、並びに前記導通ビアよりも大きい径の非導通ビアを有する多面付け多層配線基板または、前記多層配線基板の少なくとも1層の前記配線層の前記導通ビアと同じ大きさの径の導通ビア、及び前記導通ビアよりも小さい径の導通ビア、並びに前記導通ビアよりも大きい径の非導通ビアを前記外周部または前記切りしろ領域の少なくとも一方に有する多面付け多層配線基板の銅めっき厚の判定方法であって、
前記配線パターン形成時の銅めっき後の光学顕微鏡による平面視像により、前記配線層内のビア用孔と同じ大きさの径のビア用孔及び前記配線層内のビア用孔よりも小さい径のビア用孔に銅めっきを施した部分の周囲に暗部または明部が観察されず、前記配線層内のビア用孔よりも大きい径のビア用孔に銅めっきを施した部分の周囲に暗部または明部が観察される場合にめっき厚の良判定を行う、ことを特徴とするめっき厚判定方法。 - 以下の工程を含む、ことを特徴とする多層配線基板の製造方法。
1)少なくとも一層の前記配線層の作製に、請求項1に記載のめっき厚判定方法を用いる工程。
2)前記多面付け多層配線基板を断裁して個片化する工程。
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