JP7183108B2 - glass - Google Patents

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Description

本発明は、ガラスに関し、具体的には携帯電話、デジタルカメラ、PDA(携帯端末)、太陽電池、チップサイズパッケージ(CSP)、電荷結合素子(CCD)、等倍近接型固体撮像素子(CIS)のカバーガラス、特にタッチパネルディスプレイのカバーガラスに好適なガラスに関する。 The present invention relates to glass, and specifically to mobile phones, digital cameras, PDAs (portable terminals), solar cells, chip size packages (CSP), charge-coupled devices (CCD), and same-magnification proximity solid-state imaging devices (CIS). cover glass, particularly glass suitable for the cover glass of a touch panel display.

携帯電話、デジタルカメラ、PDA等のデバイスは、益々普及する傾向にある。これらの用途には、イオン交換処理された強化ガラスが、タッチパネルディスプレイのカバーガラスとして用いられている(特許文献1、非特許文献1参照)。 Devices such as mobile phones, digital cameras, PDAs, etc. tend to become more popular. For these applications, tempered glass subjected to ion exchange treatment is used as a cover glass for touch panel displays (see Patent Document 1 and Non-Patent Document 1).

従来まで、強化ガラスは、予めガラス板を所定形状に切断した後、イオン交換処理を行うこと、所謂、「強化前切断」で作製されていたが、近年、大型の強化用ガラス板をイオン交換処理した後、タッチセンサー等の膜を形成し、所定サイズに切断すること、所謂、「強化後切断」が検討されている。強化後切断を行うと、デバイスの製造効率が飛躍的に向上する。 Conventionally, tempered glass has been produced by cutting a glass plate into a predetermined shape in advance and then performing an ion exchange treatment, that is, so-called “cutting before tempering”. After processing, a film such as a touch sensor is formed and cut into a predetermined size, that is, so-called "cutting after strengthening" is under consideration. Cutting after strengthening dramatically improves device manufacturing efficiency.

特開2006-83045号公報JP-A-2006-83045

泉谷徹郎等、「新しいガラスとその物性」、初版、株式会社経営システム研究所、1984年8月20日、p.451-498Tetsuro Izumiya et al., "New Glass and Its Physical Properties", First Edition, Management System Research Institute, August 20, 1984, p. 451-498

ところで、カバーガラスには、(1)傷が付き難いこと、(2)落下衝撃強度が高いことが要求される。従来のカバーガラスは、上記(1)、(2)の特性を満たすために、イオン交換処理により、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスとされている。 By the way, the cover glass is required to (1) be resistant to scratches and (2) have high drop impact strength. A conventional cover glass is tempered glass having a compressive stress layer on its surface by ion exchange treatment in order to satisfy the above characteristics (1) and (2).

しかし、イオン交換処理は、カバーガラスの製造コストを高騰させる。 However, the ion exchange treatment increases the production cost of the cover glass.

また、強化後切断を行う場合、表面に存在する圧縮応力層が障壁になるため、切断時に強化ガラスが破損し易くなると共に、切断後に圧縮応力層が存在しない領域が端面に露出するため、端面強度が低下し易くなる。更に強化ガラスの表面にタッチセンサー等の膜を形成する場合、強化ガラスの面内強度が低下し易くなる。 In addition, when cutting after strengthening, the compressive stress layer existing on the surface becomes a barrier, so the tempered glass is easily broken during cutting. Strength tends to decrease. Furthermore, when a film such as a touch sensor is formed on the surface of the tempered glass, the in-plane strength of the tempered glass tends to decrease.

更に、近年では、大型テレビにもカバーガラスを用いることが検討されており、そのカバーガラスには、強化ガラスが使用されている。しかし、従来の強化ガラスは、十分に軽量であるとは言えず、大型デバイスの軽量化に資するものではない。 Furthermore, in recent years, the use of cover glass for large-sized televisions has also been studied, and tempered glass is used for the cover glass. However, conventional tempered glass cannot be said to be sufficiently lightweight and does not contribute to weight reduction of large-sized devices.

本発明は、上記事情に鑑み成されたものであり、その技術的課題は、イオン交換処理しなくても、傷が付き難く、落下衝撃強度が高く、しかも軽量なガラスを創案することである。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and its technical object is to create a glass that is resistant to scratches, has high drop impact strength, and is lightweight even without ion exchange treatment. .

本発明者等は、種々の実験を繰り返した結果、ガラス組成範囲を所定範囲に規制することにより、上記技術的課題を解決できることを見出し、本発明として、提案するものである。すなわち、本発明のガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO 50~70%、Al 0~20%、B 15~30%、LiO+NaO+KO 0~3%、MgO+CaO+SrO+BaO 0~12%を含有することを特徴とする。ここで、「LiO+NaO+KO」は、LiO、NaO及びKOの合量を指す。「MgO+CaO+SrO+BaO」は、MgO、CaO、SrO及びBaOの合量を指す。 As a result of repeating various experiments, the inventors of the present invention have found that the above technical problems can be solved by restricting the glass composition range to a predetermined range, and propose the present invention. That is, the glass of the present invention has, as a glass composition, SiO 2 50 to 70%, Al 2 O 3 0 to 20%, B 2 O 3 15 to 30%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 0. 3%, and MgO+CaO+SrO+BaO 0-12%. Here, " Li2O + Na2O + K2O " refers to the total amount of Li2O , Na2O and K2O . "MgO+CaO+SrO+BaO" refers to the total amount of MgO, CaO, SrO and BaO.

本発明のガラスは、ガラス組成中にBを15質量%以上含む。このようにすれば、耐スクラッチ性、耐クラック性を高めることができる。更にヤング率が低下するため、落下衝撃性も高めることができる。更に、本発明のガラスは、ガラス組成中のLiO+NaO+KOの含有量を3質量%以下、MgO+CaO+SrO+BaOの含有量を12質量%以下、好ましくは8質量%以下に規制している。このようにすれば、密度が低下し易くなり、結果としてカバーガラスを軽量化し易くなる。 The glass of the present invention contains 15% by mass or more of B 2 O 3 in the glass composition. In this way, scratch resistance and crack resistance can be improved. Furthermore, since the Young's modulus is lowered, drop impact resistance can be enhanced. Furthermore, in the glass of the present invention, the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O in the glass composition is regulated to 3% by mass or less, and the content of MgO + CaO + SrO + BaO is regulated to 12% by mass or less, preferably 8% by mass or less. By doing so, the density is easily lowered, and as a result, the weight of the cover glass is easily reduced.

また本発明のガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO 58~70%、Al 7~20%、B 18~30%、LiO+NaO+KO 0~1%、MgO+CaO+SrO+BaO 0~10%を含有することが好ましい。 Further, the glass of the present invention has a composition of SiO 2 58 to 70%, Al 2 O 3 7 to 20%, B 2 O 3 18 to 30%, and Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 1 in mass %. %, and MgO+CaO+SrO+BaO 0-10%.

また本発明のガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO 50~70%、Al 0~15%、B 15~30%、LiO+NaO+KO 0~3%、MgO+CaO+SrO+BaO 0~8%を含有することが好ましい。 Further, the glass of the present invention has a glass composition of 50 to 70% SiO 2 , 0 to 15% Al 2 O 3 , 15 to 30% B 2 O 3 , and 0 to 3 Li 2 O+Na 2 O+K 2 O in mass %. %, MgO+CaO+SrO+BaO 0-8%.

また本発明のガラスは、B-(MgO+CaO+SrO+BaO)が5質量%以上であることが好ましい。ここで「B-(MgO+CaO+SrO+BaO)」とは、Bの含有量から、MgO、CaO、SrO及びBaOの含有量の合量を減じた値を指す。 In the glass of the present invention, B 2 O 3 -(MgO+CaO+SrO+BaO) is preferably 5% by mass or more. Here, “B 2 O 3 −(MgO+CaO+SrO+BaO)” refers to the value obtained by subtracting the total content of MgO, CaO, SrO and BaO from the content of B 2 O 3 .

例えば板厚200μm以下のフィルム状ガラスの場合、軽量であること、及びロール状に巻き取る際に有利なように小さい曲率半径で曲げられることが求められる。そこで上記構成を採用すれば、低密度で且つ低ヤング率のガラスを得やすくなり、フィルム状ガラス材質として好適である。 For example, in the case of a glass film having a thickness of 200 μm or less, it is required to be lightweight and to be bent with a small radius of curvature so as to be advantageous when wound into a roll. Therefore, by adopting the above structure, it becomes easy to obtain a glass having a low density and a low Young's modulus, which is suitable as a film-like glass material.

また本発明のガラスは、質量比で(SrO+BaO)/(MgO+CaO)が1以下であることが好ましい。ここで「(SrO+BaO)/(MgO+CaO)」とは、SrOとBaOの含有量の合量をMgOとCaOの含有量の合量で除した値を指す。 Further, the glass of the present invention preferably has a mass ratio of (SrO+BaO)/(MgO+CaO) of 1 or less. Here, "(SrO+BaO)/(MgO+CaO)" refers to a value obtained by dividing the total content of SrO and BaO by the total content of MgO and CaO.

上記構成を採用すれば、低密度のガラスを得やすくなり、フィルム状ガラス材質として好適である。 By adopting the above structure, it becomes easy to obtain a low-density glass, and it is suitable as a film-like glass material.

また本発明のガラスは、質量基準でBの含有量がAlの含有量よりも多いこと(すなわち、B-Alが0質量%超であること)が好ましい。 In addition, the glass of the present invention has a B 2 O 3 content greater than an Al 2 O 3 content on a mass basis (that is, B 2 O 3 —Al 2 O 3 is greater than 0% by mass). is preferred.

上記構成を採用すれば、低ヤング率のガラスを得やすくなり、フィルム状ガラス材質として好適である。 By adopting the above structure, it becomes easy to obtain a glass with a low Young's modulus, and it is suitable as a film-like glass material.

また本発明のガラスは、液相粘度が105.0dPa・s以上であることが好ましい。ここで、「液相粘度」は、液相温度におけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値を指す。「液相温度」は、標準篩30メッシュ(500μm)を通過し、50メッシュ(300μm)に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に24時間保持して、結晶の析出する温度を測定した値を指す。 Further, the glass of the present invention preferably has a liquidus viscosity of 10 5.0 dPa·s or more. Here, the "liquidus viscosity" refers to a value obtained by measuring the viscosity of the glass at the liquidus temperature by the platinum ball pull-up method. The "liquidus temperature" is measured by passing through a 30-mesh (500 µm) standard sieve, placing the glass powder remaining on the 50-mesh (300 µm) in a platinum boat, holding it in a temperature gradient furnace for 24 hours, and measuring the temperature at which crystals precipitate. Refers to the measured value.

また本発明のガラスは、密度が2.40g/cm以下(特に2.30g/cm以下)、30~380℃の温度範囲における熱膨張係数が25~40×10-7/℃、歪点が610℃以下、且つヤング率が66GPa以下(特に65GPa以下)であることを特徴とする。ここで、「密度」は、周知のアルキメデス法で測定可能である。「30~380℃の温度範囲における熱膨張係数」は、ディラトメーターで測定した平均値を指す。「歪点」は、ASTM C336の方法に基づいて測定した値を指す。「ヤング率」は、周知の共振法で測定した値を指す。 Further, the glass of the present invention has a density of 2.40 g/cm 3 or less (especially 2.30 g/cm 3 or less), a thermal expansion coefficient of 25 to 40×10 -7 /°C in a temperature range of 30 to 380°C, a strain It is characterized by having a point of 610° C. or less and a Young's modulus of 66 GPa or less (especially 65 GPa or less). Here, "density" can be measured by the well-known Archimedes method. "Thermal expansion coefficient in the temperature range of 30 to 380°C" refers to the average value measured with a dilatometer. "Strain point" refers to a value measured according to the method of ASTM C336. "Young's modulus" refers to a value measured by the well-known resonance method.

また本発明のガラスは、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。ここで、「オーバーフローダウンドロー法」は、溶融ガラスを耐熱性の樋状構造物の両側から溢れさせて、溢れた溶融ガラスを樋状構造物の下端で合流させながら、下方に延伸成形してガラス板を作製する方法である。 Moreover, the glass of the present invention is preferably formed by an overflow down-draw method. Here, in the "overflow down-draw method", molten glass is overflowed from both sides of a heat-resistant gutter-shaped structure, and the overflowed molten glass is drawn downward while joining at the lower end of the gutter-shaped structure. It is a method of producing a glass plate.

また本発明のガラスは、カバーガラスに用いることが好ましい。 Moreover, it is preferable to use the glass of this invention for a cover glass.

また本発明のガラスは、イオン交換処理されていないことが好ましい。このようにすれば、カバーガラスの製造コストを低廉化することができる。 Further, the glass of the present invention is preferably not ion-exchanged. In this way, the manufacturing cost of the cover glass can be reduced.

ところで本発明のガラスをカバーガラス等として使用する場合、指紋等の付着による汚れが問題となり易い。このような場合、ガラス表面に光触媒粒子が担持されていることが好ましい。 By the way, when the glass of the present invention is used as a cover glass or the like, contamination due to adhesion of fingerprints or the like tends to become a problem. In such a case, it is preferable that photocatalyst particles are supported on the glass surface.

このような構成とすれば、光触媒粒子の作用によって、表面に付着した指紋等の汚れを分解除去することができる。 With such a configuration, dirt such as fingerprints adhering to the surface can be decomposed and removed by the action of the photocatalyst particles.

またBを多量に含有するガラスは分相傾向が強く、特別な熱処理を行わなくても表面が分相している場合がある。このようなガラスに酸処理を施せば、表面部分が多孔質になり、比表面積の大きいガラスを容易に得ることが可能になる。 Further, a glass containing a large amount of B 2 O 3 has a strong tendency of phase separation, and there are cases where phase separation occurs on the surface without special heat treatment. By subjecting such glass to acid treatment, the surface portion becomes porous, making it possible to easily obtain glass having a large specific surface area.

また本発明のガラスは、ガラス表面が多孔質状であることが好ましい。ここで「表面が多孔質状」であるとは、表面のみが多孔質状であること、言い換えれば粒子全体が多孔質体でない、ということを意味する。「多孔質状」とは、無数の孔が存在する状態を意味しているが、必ずしも孔同士が連通している必要はない。 Further, the glass of the present invention preferably has a porous surface. Here, "having a porous surface" means that only the surface is porous, in other words, the entire particle is not porous. The term "porous" means a state in which numerous pores are present, but the pores do not necessarily communicate with each other.

上記構成を採用すれば、ガラス表面に多くの光触媒粒子を担持することができ、また多くの有機物を光触媒体表面に吸着できることから、光触媒機能を大幅に向上させることができる。 By adopting the above configuration, many photocatalyst particles can be supported on the glass surface, and many organic substances can be adsorbed on the photocatalyst surface, so that the photocatalytic function can be greatly improved.

また本発明のガラスは、光触媒粒子が酸化チタン粒子であることが好ましい。 In the glass of the present invention, the photocatalyst particles are preferably titanium oxide particles.

上記構成を採用すれば、太陽光など紫外光を含む光が照射されると、汚れや菌などの有機物を素早く分解し、防汚や抗菌・抗カビなどの優れた効果が得られる。 By adopting the above structure, when irradiated with light including ultraviolet light such as sunlight, organic substances such as dirt and bacteria are quickly decomposed, and excellent antifouling, antibacterial, and antifungal effects can be obtained.

本発明のカバーガラスは、ガラス表面が多孔質状であり、且つ光触媒粒子が担持されていることを特徴とする。 The cover glass of the present invention is characterized by having a porous glass surface and supporting photocatalyst particles.

上記構成のカバーガラスは、光触媒粒子の作用によって、表面に付着した指紋等の汚れを分解除去可能であるから、清浄な状態を維持することが容易である。 Since the cover glass having the above structure can decompose and remove stains such as fingerprints adhering to the surface by the action of the photocatalyst particles, it is easy to maintain a clean state.

本発明のガラスの製造方法は、ガラス組成として、質量%で、SiO 50~70%、Al 0~20%、B 15~30%、LiO+NaO+KO 0~3%、MgO+CaO+SrO+BaO 0~12%を含有するガラスとなるように調製した原料バッチを溶融し、成形することを特徴とする。より好適には、質量%で、SiO 58~70%、Al 7~20%、B 18~30%、LiO+NaO+KO 0~1%、MgO+CaO+SrO+BaO 0~10%含有するガラスや、質量%で、SiO 50~70%、Al 0~15%、B 15~30%、LiO+NaO+KO 0~3%、MgO+CaO+SrO+BaO 0~8%を含有するガラスとなるように原料バッチを調製することが好ましい。 In the method for producing the glass of the present invention, the glass composition is SiO 2 50 to 70%, Al 2 O 3 0 to 20%, B 2 O 3 15 to 30%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 in mass %. It is characterized by melting and shaping a raw material batch prepared to a glass containing ˜3% MgO+CaO+SrO+BaO 0-12%. More preferably, in mass %, SiO 2 58-70%, Al 2 O 3 7-20 % , B 2 O 3 18-30%, Li 2 O+Na 2 O+K 2 O 0-1%, MgO+CaO+SrO+BaO 0-10 SiO 2 50 to 70%, Al 2 O 3 0 to 15%, B 2 O 3 15 to 30%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 3% , MgO + CaO + SrO + BaO 0 to It is preferred to prepare the raw batch to give a glass containing 8%.

また本発明の製造方法は、さらにガラス表面に光触媒成分を含む溶液を塗布した後、熱処理してガラス表面に光触媒粒子を担持させることが好ましい。 Further, in the production method of the present invention, it is preferable that the glass surface is further coated with a solution containing a photocatalyst component and then heat-treated to support photocatalyst particles on the glass surface.

上記構成を採用すれば、ガラス表面に光触媒粒子を容易に担持させることができる。 By adopting the above configuration, the photocatalyst particles can be easily supported on the glass surface.

また本発明の製造方法は、ガラス表面を酸処理した後、光触媒成分を含む溶液を塗布することが好ましい。 Further, in the manufacturing method of the present invention, it is preferable to apply a solution containing a photocatalyst component after acid-treating the glass surface.

上記構成を採用すれば、基材となるガラスの表面が多孔質状となり、比表面積を大きくできることから、多量の光触媒粒子を担持させることが可能になる。 By adopting the above structure, the surface of the glass serving as the base material becomes porous and the specific surface area can be increased, so that a large amount of photocatalyst particles can be supported.

また本発明の製造方法は、光触媒成分を含む溶液として、酸化チタン粒子が分散した溶液を使用することが好ましい。 Further, in the production method of the present invention, it is preferable to use a solution in which titanium oxide particles are dispersed as the solution containing the photocatalyst component.

上記構成を採用すれば、汚れや菌などの有機物を素早く分解できる酸化チタン粒子をガラス表面に容易に塗布することができる。 By adopting the above configuration, the titanium oxide particles capable of quickly decomposing organic matters such as dirt and bacteria can be easily applied to the glass surface.

本発明のガラスにおいて、上記のように各成分の含有量を限定した理由を以下に示す。なお、以下の%表示は、特に断りがある場合を除き、質量%を指す。 The reason why the content of each component in the glass of the present invention is limited as described above will be described below. In addition, the following % display points out the mass % unless there is particular notice.

SiOの含有量は、好ましくは50~70%、53~70%、55~70%、58~70%、60~70%、62~69%、特に62~67%である。SiOの含有量が少な過ぎると、密度が高くなり易い。一方、SiOの含有量が多過ぎると、高温粘度が高くなって、溶融性が低下することに加えて、ガラス中に失透結晶(クリストバライト)等の欠陥が生じ易くなる。 The content of SiO 2 is preferably 50-70%, 53-70%, 55-70%, 58-70%, 60-70%, 62-69%, especially 62-67%. If the SiO2 content is too low, the density tends to increase. On the other hand, if the content of SiO 2 is too high, the high-temperature viscosity increases, the meltability decreases, and defects such as devitrified crystals (cristobalite) tend to occur in the glass.

Alは任意成分であるが、その含有量が少な過ぎると、耐スクラッチ性、耐クラック性、耐熱性が低下し易くなる。また分相により透過率が低下し易くなる。よって、Alの好適な下限範囲は0%以上、1%以上、2%以上、3%以上、4%以上、5%以上、6%以上、7%以上、8%以上、特に9%以上である。一方、Alには、ヤング率を高める働きがあるが、その含有量が多過ぎると、ヤング率が高くなり過ぎて、耐衝撃強度が低下し易くなる。またフィルム状ガラスとする場合には、曲率半径を小さくすることが難しくなる。さらにAlの含有量が多過ぎると、液相温度が高くなって、耐失透性が低下し易くなる。よって、Alの好適な上限範囲は20%以下、19%以下、18%以下、17%以下、15%以下、13%未満、12%以下、特に11%以下である。 Al 2 O 3 is an optional component, but if its content is too small, the scratch resistance, crack resistance, and heat resistance tend to deteriorate. In addition, the transmittance tends to decrease due to phase separation. Therefore, the preferable lower limit of Al 2 O 3 is 0% or more, 1% or more, 2% or more, 3% or more, 4% or more, 5% or more, 6% or more, 7% or more, 8% or more, especially 9 % or more. On the other hand, Al 2 O 3 has the function of increasing the Young's modulus, but if the content is too large, the Young's modulus becomes too high and the impact strength tends to decrease. Moreover, when making it into film-like glass, it becomes difficult to make a curvature radius small. Furthermore, if the content of Al 2 O 3 is too high, the liquidus temperature becomes high and the devitrification resistance tends to decrease. Therefore, the preferred upper limit range of Al 2 O 3 is 20% or less, 19% or less, 18% or less, 17% or less, 15% or less, 13% or less, 12% or less, particularly 11% or less.

は、耐スクラッチ性、耐クラック性を高める成分であり、またヤング率を低下させる成分である。更に密度を低下させる成分である。また誘電損失や、振動損失を少なくする成分である。さらに分相を誘起しやすくする成分である。ガラスが分相していれば、酸処理によってガラス表面を多孔質状に改質しやすくなり、光触媒粒子を担持させて高度な光触媒活性機能を得ることが可能になる。Bの含有量は15~30%が好ましい。Bの含有量が少な過ぎると、耐スクラッチ性、耐クラック性が低下し易くなることに加えて、ヤング率が高くなって、耐衝撃性が低下し易くなる。またフィルム状ガラスとする場合には、曲率半径を小さくすることが難しくなる。さらに融剤としての働きが不十分になり、高温粘性が高くなって、泡品位が低下し易くなる。更に低密度化を図り難くなる。よって、Bの好適な下限範囲は15%以上、18%以上、20%以上、20%超、22%以上、24%以上、特に25%以上である。一方、Bの含有量が多過ぎると、耐熱性、化学的耐久性が低下し易くなったり、分相により透過率が低下し易くなる。よって、Bの好適な上限範囲は30%以下、28%以下、27%以下である。 B 2 O 3 is a component that enhances scratch resistance and crack resistance, and is a component that lowers Young's modulus. It is also a component that lowers the density. It is also a component that reduces dielectric loss and vibration loss. Furthermore, it is a component that facilitates the induction of phase separation. If the glass is phase-separated, it becomes easier to modify the glass surface into a porous state by acid treatment, and it becomes possible to support photocatalyst particles and obtain a high degree of photocatalytic activity. The content of B 2 O 3 is preferably 15-30%. If the content of B 2 O 3 is too small, the scratch resistance and crack resistance tend to decrease, and the Young's modulus tends to increase, resulting in a decrease in impact resistance. Moreover, when making it into film-like glass, it becomes difficult to make a curvature radius small. Furthermore, the action as a flux becomes insufficient, the high-temperature viscosity increases, and the foam quality tends to deteriorate. Furthermore, it becomes difficult to achieve low density. Therefore, the preferred lower limit range of B 2 O 3 is 15% or more, 18% or more, 20% or more, 20% or more, 22% or more, 24% or more, especially 25% or more. On the other hand, if the content of B 2 O 3 is too large, the heat resistance and chemical durability tend to deteriorate, and the transmittance tends to decrease due to phase separation. Therefore, the preferable upper limit range of B 2 O 3 is 30% or less, 28% or less, and 27% or less.

-Alは、0%超、1%以上、2%以上、3%以上、4%以上、5%以上、6%以上、7%以上、8%以上、9%以上、特に10%以上である。この値が大きいほどヤング率が低下し易くなるため、落下衝撃強度を高め易くなる。またフィルム状ガラスとする場合には、曲率半径を小さくすることが容易になる。なお、「B-Al」は、Bの含有量からAlの含有量を減じたものである。 B 2 O 3 —Al 2 O 3 is more than 0%, 1% or more, 2% or more, 3% or more, 4% or more, 5% or more, 6% or more, 7% or more, 8% or more, 9% or more , in particular greater than or equal to 10%. The larger this value, the easier it is for the Young's modulus to decrease, making it easier to increase the drop impact strength. Moreover, when it is made into film-like glass, it becomes easy to make curvature radius small. “B 2 O 3 —Al 2 O 3 ” is obtained by subtracting the content of Al 2 O 3 from the content of B 2 O 3 .

アルカリ金属酸化物は、溶融性、成形性を高める成分であるが、その含有量が多過ぎると、密度が高くなったり、耐水性が低下したり、熱膨張係数が不当に高くなって、耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料の熱膨張係数に整合させ難くなる。またアルカリ金属酸化物は、表面に光触媒粒子を担持させた場合に、光触媒活性機能を低下させる。よって、LiO+NaO+KOの含有量は、好ましくは0~3%、0~2%、0~1%、0~0.5%、0~0.2%、0~0.1%、特に0~0.1%未満である。LiO、NaO及びKOのそれぞれの含有量は、好ましくは0~3%、0~2%、0~1%、0~0.5%、0~0.2%、0~0.1%、特に0~0.1%未満である。なお、アルカリ金属酸化物の含有量が少ないと、SiO膜等のアルカリバリア膜が不要になる。 Alkali metal oxide is a component that enhances meltability and moldability. Impact resistance is lowered, and it becomes difficult to match the coefficient of thermal expansion of surrounding materials. Alkali metal oxides reduce photocatalytic activity when photocatalyst particles are supported on the surface. Therefore, the content of Li 2 O+Na 2 O+K 2 O is preferably 0-3%, 0-2%, 0-1%, 0-0.5%, 0-0.2%, 0-0.1 %, especially from 0 to less than 0.1%. The respective contents of Li 2 O, Na 2 O and K 2 O are preferably 0-3%, 0-2%, 0-1%, 0-0.5%, 0-0.2%, 0 ~0.1%, especially between 0 and less than 0.1%. In addition, when the content of the alkali metal oxide is small, an alkali barrier film such as a SiO 2 film becomes unnecessary.

アルカリ土類金属酸化物は、液相温度を下げて、ガラス中に結晶異物を発生させ難くする成分であり、また溶融性や成形性を高める成分である。MgO+CaO+SrO+BaOの含有量は、好ましくは0~12%、0~10%、0~8%、0~7%、1~7%、2~7%、3~9%、特に3~6%である。MgO+CaO+SrO+BaOの含有量が少な過ぎると、融剤としての働きを十分に発揮できず、溶融性が低下することに加えて、耐失透性が低下し易くなる。一方、MgO+CaO+SrO+BaOの含有量が多過ぎると、密度が上昇して、ガラスの軽量化を図り難くなることに加えて、熱膨張係数が不当に高くなって、耐熱衝撃性が低下し易くなる。またガラスの分相性が悪化する。さらにヤング率が高くなり、フィルム状ガラスとする場合には、曲率半径を小さくすることが難しくなる。 Alkaline earth metal oxide is a component that lowers the liquidus temperature to make it difficult for crystal foreign matter to occur in the glass, and is a component that enhances meltability and formability. The content of MgO+CaO+SrO+BaO is preferably 0-12%, 0-10%, 0-8%, 0-7%, 1-7%, 2-7%, 3-9%, especially 3-6% . If the content of MgO+CaO+SrO+BaO is too small, the function as a flux cannot be sufficiently exhibited, and in addition to the deterioration of the meltability, the resistance to devitrification tends to deteriorate. On the other hand, if the content of MgO + CaO + SrO + BaO is too large, the density increases, making it difficult to reduce the weight of the glass, and in addition, the coefficient of thermal expansion becomes unreasonably high, and the thermal shock resistance tends to decrease. Further, the phase separation of the glass deteriorates. Furthermore, the Young's modulus increases, and it becomes difficult to reduce the radius of curvature in the case of film-like glass.

質量比(MgO+CaO+SrO+BaO)/Alが小さ過ぎると、耐失透性が低下して、オーバーフローダウンドロー法でガラス板を成形し難くなる。一方、質量比(MgO+CaO+SrO+BaO)/Alが大き過ぎると、密度、熱膨張係数が不当に上昇する虞がある。よって、質量比(MgO+CaO+SrO+BaO)/Alは、好ましくは0.1~1.2、0.2~1.2、0.3~1.2、0.4~1.1、特に0.5~1.0である。なお、「(MgO+CaO+SrO+BaO)/Al」は、MgO+CaO+SrO+BaOの含有量をAlの含有量で除した値を指す。 If the mass ratio (MgO+CaO+SrO+BaO)/Al 2 O 3 is too small, the devitrification resistance is lowered, making it difficult to form a glass sheet by the overflow downdraw method. On the other hand, if the mass ratio (MgO+CaO+SrO+BaO)/Al 2 O 3 is too large, the density and thermal expansion coefficient may unduly increase. Therefore, the mass ratio (MgO+CaO+SrO+BaO)/Al 2 O 3 is preferably 0.1-1.2, 0.2-1.2, 0.3-1.2, 0.4-1.1, especially 0 0.5 to 1.0. Note that "(MgO+CaO+SrO+ BaO )/ Al2O3 " refers to a value obtained by dividing the content of MgO+CaO+SrO+BaO by the content of Al2O3 .

質量比(SrO+BaO)/Bは、好ましくは0.1以下、0.05以下、0.03以下、特に0.02以下である。このようにすれば、耐スクラッチ性、耐クラック性を高め易くなる。なお、「SrO+BaO」は、SrOとBaOの合量である。また、「(SrO+BaO)/B」は、SrO+BaOの含有量をBの含有量で除した値を指す。 The mass ratio (SrO+BaO)/B 2 O 3 is preferably 0.1 or less, 0.05 or less, 0.03 or less, particularly 0.02 or less. By doing so, it becomes easier to improve scratch resistance and crack resistance. "SrO+BaO" is the total amount of SrO and BaO. Also, "(SrO+BaO) / B2O3 " indicates a value obtained by dividing the content of SrO+BaO by the content of B2O3 .

また質量比B/(SrO+BaO)は、好ましくは10以上、20以上、30以上、40以上、特に50以上である。このようにすれば、耐スクラッチ性、耐クラック性を高め易くなる。なお、「B/(SrO+BaO)」は、SrO+BaOの含有量をBの含有量で除した値を指す。 Also, the mass ratio B 2 O 3 /(SrO+BaO) is preferably 10 or more, 20 or more, 30 or more, 40 or more, particularly 50 or more. By doing so, it becomes easier to improve scratch resistance and crack resistance. In addition, " B2O3 /(SrO + BaO)" refers to the value obtained by dividing the content of SrO+BaO by the content of B2O3 .

-(MgO+CaO+SrO+BaO)は、好ましくは5%以上、6%以上、7%以上、8%以上、9%以上、10%以上、11%以上、特に12%以上である。このようにすれば、密度が低下し易くなるため、デバイスの軽量化を図り易くなる。またヤング率が小さくなる。 B 2 O 3 −(MgO+CaO+SrO+BaO) is preferably 5% or more, 6% or more, 7% or more, 8% or more, 9% or more, 10% or more, 11% or more, especially 12% or more. By doing so, the density is easily lowered, so that the weight of the device can be easily reduced. Also, Young's modulus becomes small.

MgOは、歪点を低下させずに、高温粘性を下げ、溶融性を高める成分であり、またアルカリ土類金属酸化物の中では最も密度を下げる効果がある成分である。更に耐クラック性を高める成分である。また分相を誘起しやすくする成分でもある。ガラスが分相していれば、酸処理によってガラス表面を多孔質状に改質しやすくなり、光触媒粒子を担持させて高度な光触媒活性機能を得ることが可能になる。MgOの含有量は、好ましくは0~12%、0~10%、0~8%、0.1~6%、0.5~3%、特に1~2%である。しかし、MgOの含有量が多過ぎると、液相温度が上昇して、耐失透性が低下し易くなる。またガラスが分相し易くなって、透明性が低下し易くなる。 MgO is a component that lowers high-temperature viscosity and enhances meltability without lowering the strain point, and is the component most effective in lowering density among alkaline earth metal oxides. Furthermore, it is a component that enhances crack resistance. It is also a component that facilitates the induction of phase separation. If the glass is phase-separated, it becomes easier to modify the glass surface into a porous state by acid treatment, and it becomes possible to support photocatalyst particles and obtain a high degree of photocatalytic activity. The content of MgO is preferably 0-12%, 0-10%, 0-8%, 0.1-6%, 0.5-3%, especially 1-2%. However, if the content of MgO is too high, the liquidus temperature rises and the devitrification resistance tends to decrease. Moreover, the glass tends to undergo phase separation, and the transparency tends to decrease.

CaOは、歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を顕著に高める成分であると共に、本発明のガラス組成系において、耐失透性を高める効果が大きい成分である。よって、CaOの好適な下限範囲は0%以上、0.1%以上、1%以上、2%以上、3%以上、特に4%以上である。一方、CaOの含有量が多過ぎると、熱膨張係数、密度が不当に上昇したり、ガラス組成の成分バランスを損なわれて、かえって耐失透性が低下し易くなる。よって、CaOの好適な上限範囲は12%以下、10%以下、8%以下、7%以下、6%以下、特に5%以下である。 CaO is a component that lowers the high-temperature viscosity without lowering the strain point to remarkably enhance the meltability, and is also a component that has a large effect of enhancing the devitrification resistance in the glass composition system of the present invention. Therefore, the preferable lower limit range of CaO is 0% or more, 0.1% or more, 1% or more, 2% or more, 3% or more, particularly 4% or more. On the other hand, if the content of CaO is too high, the coefficient of thermal expansion and density will unduly increase, or the balance of components in the glass composition will be impaired, and the resistance to devitrification will rather deteriorate. Therefore, the preferable upper limit range of CaO is 12% or less, 10% or less, 8% or less, 7% or less, 6% or less, and particularly 5% or less.

SrOは、歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であるが、SrOの含有量が多くなると、耐スクラッチ性、耐クラック性が低下し易くなる。よって、SrOの含有量は、好ましくは0~3%、0~2%、0~1.5%、0~1%、0~0.5%、特に0~0.1%である。 SrO is a component that lowers high-temperature viscosity and improves meltability without lowering the strain point. Therefore, the content of SrO is preferably 0-3%, 0-2%, 0-1.5%, 0-1%, 0-0.5%, especially 0-0.1%.

BaOは、歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であるが、BaOの含有量が多くなると、耐スクラッチ性、耐クラック性が低下し易くなる。よって、BaOの含有量は、好ましくは0~3%、0~2%、0~1.5%、0~1%、0~0.5%、特に0~0.1%未満である。 BaO is a component that lowers high-temperature viscosity and improves meltability without lowering the strain point. Therefore, the content of BaO is preferably 0-3%, 0-2%, 0-1.5%, 0-1%, 0-0.5%, especially 0-0.1%.

質量比(SrO+BaO)/(MgO+CaO)は、好ましくは1以下、0.8以下、0.5以下、特に0.3以下である。質量比(SrO+BaO)/(MgO+CaO)が大き過ぎるとガラスの密度が大きくなり過ぎる。 The mass ratio (SrO+BaO)/(MgO+CaO) is preferably 1 or less, 0.8 or less, 0.5 or less, especially 0.3 or less. If the mass ratio (SrO+BaO)/(MgO+CaO) is too large, the density of the glass will be too high.

上記成分以外にも、以下の成分をガラス組成中に導入してもよい。 In addition to the above components, the following components may be introduced into the glass composition.

ZnOは、溶融性を高める成分であるが、ガラス組成中に多量に含有させると、ガラスが失透し易くなり、密度も上昇し易くなる。よって、ZnOの含有量は、好ましくは0~5%、0~3%、0~0.5%、0~0.3%、特に0~0.1%である。 ZnO is a component that enhances the meltability, but when contained in a large amount in the glass composition, the glass tends to devitrify and the density tends to increase. The content of ZnO is therefore preferably 0-5%, 0-3%, 0-0.5%, 0-0.3%, especially 0-0.1%.

ZrOは、ヤング率を高める成分である。ZrOの含有量は、好ましくは0~5%、0~3%、0~0.5%、0~0.2%、特に0~0.02%である。ZrOの含有量が多過ぎると、液相温度が上昇して、ジルコンの失透結晶が析出し易くなる。 ZrO2 is a component that increases Young's modulus. The content of ZrO 2 is preferably 0-5%, 0-3%, 0-0.5%, 0-0.2%, especially 0-0.02%. If the content of ZrO 2 is too high, the liquidus temperature rises and devitrification crystals of zircon tend to precipitate.

TiOは、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であると共に、ソラリゼーションを抑制する成分であるが、ガラス組成中に多く含有させると、ガラスが着色して、透過率が低下し易くなる。よって、TiOの含有量は、好ましくは0~5%、0~3%、0~1%、0~0.1%、特に0~0.02%である。 TiO 2 is a component that lowers high-temperature viscosity and enhances meltability, and is also a component that suppresses solarization. . Thus, the content of TiO 2 is preferably 0-5%, 0-3%, 0-1%, 0-0.1%, especially 0-0.02%.

は、耐失透性を高める成分であるが、ガラス組成中に多量に含有させると、ガラスが分相、乳白し易くなり、また耐水性が顕著に低下する虞がある。よって、Pの含有量は、好ましくは0~5%、0~1%、0~0.5%、特に0~0.1%である。 P 2 O 5 is a component that enhances devitrification resistance, but if it is contained in a large amount in the glass composition, the glass tends to undergo phase separation and become milky, and there is a possibility that the water resistance may be significantly lowered. The content of P 2 O 5 is therefore preferably 0-5%, 0-1%, 0-0.5%, especially 0-0.1%.

SnOは、高温域で良好な清澄作用を有する成分であると共に、高温粘性を低下させる成分である。SnOの含有量は、好ましくは0~1%、0.01~0.5%、0.05~0.3、特に0.1~0.3%である。SnOの含有量が多過ぎると、SnOの失透結晶がガラス中に析出し易くなる。 SnO 2 is a component that has a good clarification action in a high temperature range and also a component that lowers the high temperature viscosity. The SnO 2 content is preferably 0-1%, 0.01-0.5%, 0.05-0.3%, especially 0.1-0.3%. When the SnO 2 content is too high, devitrified crystals of SnO 2 tend to precipitate in the glass.

上記の通り、本発明のガラスは、清澄剤として、SnOの添加が好適であるが、ガラス特性が損なわない限り、清澄剤として、CeO、SO、C、金属粉末(例えばAl、Si等)を1%まで添加してもよい。 As described above, the glass of the present invention preferably contains SnO 2 as a fining agent. etc.) may be added up to 1%.

As、Sb、F、Clも清澄剤として有効に作用し、本発明のガラスは、これらの成分の含有を排除するものではないが、環境的観点から、これらの成分の含有量はそれぞれ0.1%未満、特に0.05%未満が好ましい。 As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , F, and Cl also act effectively as refining agents, and the glass of the present invention does not exclude the inclusion of these components, but from an environmental point of view, these components are Each content is preferably less than 0.1%, particularly less than 0.05%.

本発明のガラスは、以下の特性を有することが好ましい。 The glass of the present invention preferably has the following properties.

密度は2.40g/cm以下、2.35g/cm以下、特に2.30g/cm以下が好ましい。密度が高過ぎると、ガラスの軽量化を図り難くなる。 The density is preferably 2.40 g/cm 3 or less, 2.35 g/cm 3 or less, particularly 2.30 g/cm 3 or less. If the density is too high, it becomes difficult to reduce the weight of the glass.

30~380℃の温度範囲における熱膨張係数は、好ましくは25~40×10-7/℃、30~38×10-7/℃、特に32~36×10-7/℃である。熱膨張係数が低過ぎると、各種周辺材料の熱膨張係数に整合させ難くなり、ガラス板が反り易くなる。一方、熱膨張係数が高過ぎると、耐熱衝撃性が低下し易くなる。 The coefficient of thermal expansion in the temperature range from 30 to 380°C is preferably from 25 to 40 x 10 -7 /°C, from 30 to 38 x 10 -7 /°C, especially from 32 to 36 x 10 -7 /°C. If the coefficient of thermal expansion is too low, it will be difficult to match the coefficient of thermal expansion with that of various peripheral materials, and the glass sheet will tend to warp. On the other hand, if the coefficient of thermal expansion is too high, the thermal shock resistance tends to decrease.

歪点は、好ましくは610℃以下、600℃以下、590以下、580℃以下、特に570℃以下である。ガラスの粘性、特に歪点が低いと、高度から落下した物体がガラスに衝突した場合、ガラスの変形により衝突の応力を緩和し易くなり、落下の衝撃を緩和し易くなる。 The strain point is preferably 610° C. or lower, 600° C. or lower, 590° C. or lower, 580° C. or lower, particularly 570° C. or lower. If the viscosity of the glass, particularly the strain point, is low, when an object that has fallen from a high altitude collides with the glass, the deformation of the glass facilitates the relaxation of the impact stress and the impact of the drop.

102.5dPa・sにおける温度は、好ましくは1650℃以下、1620℃以下、1600℃以下、特に1580℃以下である。泡品位は、ガラスの歩留まりのみならず、タッチセンサーの歩留まりにも影響を及ぼす。このため、高温粘性を低下させて、泡品位を高めることは重要である。ここで、「102.5dPa・sにおける温度」は、白金球引き上げ法で測定した値である。 The temperature at 10 2.5 dPa·s is preferably 1650°C or less, 1620°C or less, 1600°C or less, especially 1580°C or less. The bubble quality affects not only the glass yield but also the touch sensor yield. Therefore, it is important to lower the high-temperature viscosity and improve the foam quality. Here, "temperature at 10 2.5 dPa·s" is a value measured by the platinum ball pull-up method.

ヤング率は、好ましくは66GPa以下、65GPa以下、63GPa以下、61GPa以下、特に60GPa以下である。ヤング率を低減すると、一定の変形量当たりに発生する応力を低減することができる。また高度から落下した物体がガラスに衝突した場合、ガラスが弾性変形し易くなるため、落下の衝撃を緩和し易くなる。結果として、ガラスの変形量が小さい範囲に限定される用途、特にカバーガラスに好適になる。またフィルム状ガラスに成形する場合は、ヤング率が低いほど小さい曲率半径でロール状に巻くことが可能となる。 Young's modulus is preferably 66 GPa or less, 65 GPa or less, 63 GPa or less, 61 GPa or less, particularly 60 GPa or less. Reducing the Young's modulus can reduce the stress generated per constant amount of deformation. Also, when an object that has fallen from a high altitude collides with the glass, the glass is likely to be elastically deformed, so that the impact of the drop can be easily mitigated. As a result, it is suitable for applications in which the amount of deformation of the glass is limited to a small range, particularly for cover glass. In the case of forming a glass film, the lower the Young's modulus, the smaller the radius of curvature of the film.

液相温度は、好ましくは1180℃以下、1150℃以下、1130℃以下、1110℃以下、1090℃以下、特に1070℃以下である。液相粘度は、好ましくは105.0dPa・s以上、105.2dPa・s以上、105.3dPa・s以上、105.5dPa・s以上、特に105.7dPa・s以上である。このようにすれば、成形時に失透結晶が発生し難くなるため、オーバーフローダウンドロー法等でガラス板を成形し易くなり、ガラス板の表面品位を高め易くなる。 The liquidus temperature is preferably 1180° C. or lower, 1150° C. or lower, 1130° C. or lower, 1110° C. or lower, 1090° C. or lower, particularly 1070° C. or lower. The liquidus viscosity is preferably 10 5.0 dPa·s or more, 10 5.2 dPa·s or more, 10 5.3 dPa·s or more, 10 5.5 dPa·s or more, particularly 10 5.7 dPa·s or more. s or more. In this way, devitrification crystals are less likely to occur during molding, so that the glass sheet can be easily molded by an overflow down-draw method or the like, and the surface quality of the glass sheet can be easily improved.

スクラッチレジスタンスは、好ましくは5N以上、7N以上、10N以上、12N以上、15N以上である。スクラッチレジスタンスが低いと、クラックを伴う傷がガラスに入り難くなる。ここで、「スクラッチレジスタンス」とはガラス表面をヌープ圧子で0.4mm/sの速さで引っ掻いたときに、引っ掻き方向と垂直な方向にひっかき傷の2倍以上の幅のクラックが、引っ掻いた全長の15%以上の長さ発生する荷重を指す。なお引っ掻き試験は、Bruker社のトライボロジー試験機UMT-2を用い、湿度30%、温度25%に保持された恒温恒湿槽内において行う。 The scratch resistance is preferably 5N or higher, 7N or higher, 10N or higher, 12N or higher, 15N or higher. If the scratch resistance is low, it becomes difficult for scratches accompanied by cracks to enter the glass. Here, "scratch resistance" means that when the glass surface is scratched with a Knoop indenter at a speed of 0.4 mm / s, a crack with a width of more than twice the scratch is scratched in a direction perpendicular to the scratching direction. Refers to a load that occurs over 15% of the total length. The scratch test is performed using a Bruker tribology tester UMT-2 in a constant temperature and humidity chamber maintained at a humidity of 30% and a temperature of 25%.

クラックレジスタンスは、好ましくは200gf以上、500gf以上、700gf以上、900gf以上、1200gf以上、1500gf以上、2000gf以上、2500gf以上、3000gf以上、特に35000gf以上である。クラックレジスタンスが低いと、ガラスに傷が付き易くなる。ここで、「クラックレジスタンス」とは、クラック発生率が50%となる荷重のことを指す。また、「クラック発生率」は、次のようにして測定した値を指す。まず湿度30%、温度25℃に保持された恒温恒湿槽内において、所定荷重に設定したビッカース圧子をガラス表面(光学研磨面)に15秒間打ち込み、その15秒後に圧痕の4隅から発生するクラックの数をカウント(1つの圧痕につき最大4とする)する。このようにして圧子を50回打ち込み、総クラック発生数を求めた後、総クラック発生数/200×100(%)の式により求める。 The crack resistance is preferably 200 gf or more, 500 gf or more, 700 gf or more, 900 gf or more, 1200 gf or more, 1500 gf or more, 2000 gf or more, 2500 gf or more, 3000 gf or more, particularly 35000 gf or more. If the crack resistance is low, the glass will be easily scratched. Here, "crack resistance" refers to a load at which the crack generation rate is 50%. Moreover, the "crack incidence rate" refers to a value measured as follows. First, in a constant temperature and humidity chamber maintained at a humidity of 30% and a temperature of 25°C, a Vickers indenter set to a predetermined load is driven into the glass surface (optical polished surface) for 15 seconds, and after 15 seconds, the indentations are generated from the four corners. Count the number of cracks (up to 4 per indentation). After indenting the indenter 50 times in this manner and obtaining the total number of cracks, the total number of cracks/200×100(%) is used.

1MHzの周波数における誘電正接は、0.01以下、0.05以下、特に0.001以下であることが好ましい。 The dielectric loss tangent at a frequency of 1 MHz is preferably 0.01 or less, 0.05 or less, particularly 0.001 or less.

内部摩擦は、0.01以下、0.002以下、0.001以下、特に0.0008以下であることが好ましい。 The internal friction is preferably 0.01 or less, 0.002 or less, 0.001 or less, especially 0.0008 or less.

本発明のガラスは、所定のガラス組成となるように調合したガラスバッチを連続式ガラス溶融窯に投入し、このガラスバッチを加熱溶融し、得られた溶融ガラスを清澄した後、成形装置に供給した上で平板形状等に成形することにより作製することができる。 The glass of the present invention is prepared by putting a glass batch prepared to have a predetermined glass composition into a continuous glass melting furnace, heating and melting the glass batch, refining the resulting molten glass, and then supplying it to a molding apparatus. After that, it can be produced by molding into a flat plate shape or the like.

本発明のガラスは、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。このようにすれば、未研磨で表面品位が良好なガラス板を得ることができる。オーバーフローダウンドロー法の場合、ガラス板の表面となるべき面は樋状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形されるため、ガラス板の表面品位を高めることができる。本発明のガラスは、耐失透性に優れると共に、成形に適した粘度特性を有しているため、オーバーフローダウンドロー法でガラス板を効率良く成形することができる。 The glass of the present invention is preferably formed by the overflow downdraw method. In this way, an unpolished glass plate with good surface quality can be obtained. In the case of the overflow down-draw method, the surface to be the surface of the glass sheet does not come into contact with the gutter-shaped refractory and is molded in the state of a free surface, so that the surface quality of the glass sheet can be improved. Since the glass of the present invention has excellent devitrification resistance and viscosity characteristics suitable for molding, it can be efficiently molded into a glass sheet by the overflow down-draw method.

本発明のガラスは、オーバーフローダウンドロー法以外にも、種々の成形方法を採択することができる。例えば、スロットダウン法、フロート法、ロールアウト法等の成形方法を採択することができる。 The glass of the present invention can employ various molding methods other than the overflow downdraw method. For example, molding methods such as a slot-down method, a float method, and a roll-out method can be adopted.

本発明のガラスは、平板形状を有する、つまりガラス板であることが好ましく、その板厚は0.6mm以下、0.5mm以下、0.4mm以下、特に0.05~0.3mmが好ましい。平板形状であれば、カバーガラスに適用し易くなる。また板厚が小さい程、ガラス板を軽量化し易くなり、デバイスも軽量化し易くなる。 The glass of the present invention preferably has a flat plate shape, that is, is a glass plate, and has a plate thickness of 0.6 mm or less, 0.5 mm or less, or 0.4 mm or less, particularly preferably 0.05 to 0.3 mm. If it is flat plate shape, it will be easy to apply to a cover glass. Further, the smaller the plate thickness, the easier it is to reduce the weight of the glass plate, and the easier it is to reduce the weight of the device.

また本発明のガラスは、フィルム状であることが好ましい。この場合、その板厚は200μm以下、100μm以下、50μm以下、特に30μm以下であることが好ましい。 Moreover, the glass of the present invention is preferably in the form of a film. In this case, the plate thickness is preferably 200 μm or less, 100 μm or less, 50 μm or less, particularly 30 μm or less.

本発明のガラスは、表面上に各種機能膜を有することが好ましい。機能膜として、例えば、導電性を付与するための透明導電膜、反射率を低下させるための反射防止膜、防眩機能を付与して、視認性を高めたり、タッチペン等での書き味を高めるためのアンチグレア膜、指紋の付着を防止して、撥水性、撥油性を付与するための防汚膜等が好ましい。透明導電膜は、タッチセンサー用の電極として機能し、例えば、ディスプレイデバイス側になるべき表面に形成されることが好ましい。透明導電膜として、例えば、スズドープ酸化インジウム(ITO)、フッ素ドープ酸化スズ(FTO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)等が用いられる。特に、ITOは、電気抵抗が低いため好ましい。ITOは、例えば、スパッタリング法により形成することができる。また、FTO、ATOは、CVD(Chemical Vapor Deposition)法により形成することができる。反射防止膜は、観察者側になるべき表面に形成される。また、タッチパネルとカバーガラスとの間に空隙がある場合、カバーガラスの裏面側(ディスプレイデバイス側とは反対側)になるべき表面にも反射防止膜を形成することが好ましい。反射防止膜は、例えば、相対的に屈折率が低い低屈折率層と相対的に屈折率が高い高屈折率層とが交互に積層された誘電体多層膜であることが好ましい。反射防止膜は、例えば、スパッタリング法、CVD法等により形成することができる。アンチグレア膜は、カバーガラスとして使用する場合、観察者側になるべき表面に形成される。アンチグレア膜は、凹凸構造を有することが好ましい。凹凸構造は、ガラスの表面を部分的に覆う島状の構造であってもよい。また、凹凸構造は、規則性を有していないことが好ましい。これにより、アンチグレア機能を高めることができる。アンチグレア膜は、例えば、スプレー法によりSiO等の透光性材料を塗布し、乾燥させることにより形成することができる。防汚膜は、カバーガラスとして使用する場合、観察者側になるべき表面に形成される。防汚膜は、主鎖中にケイ素を含む含フッ素重合体を含むことが好ましい。含フッ素重合体として、主鎖中に、-O-Si-O-ユニットを有し、且つフッ素を含む撥水性の官能基を側鎖に有する重合体が好ましい。含フッ素重合体は、例えば、シラノールを脱水縮合することにより合成することができる。反射防止膜と防汚膜を形成する場合、反射防止膜の上に防汚膜を形成することが好ましい。更にアンチグレア膜を形成する場合、まずアンチグレア膜を形成し、その上に、反射防止膜及び/又は防汚膜が形成することが好ましい。 The glass of the present invention preferably has various functional films on its surface. As a functional film, for example, a transparent conductive film for imparting conductivity, an antireflection film for reducing reflectance, and an antiglare function are imparted to improve visibility and improve writing comfort with a touch pen or the like. An anti-glare film for preventing adhesion of fingerprints and an antifouling film for imparting water repellency and oil repellency are preferable. The transparent conductive film functions as an electrode for the touch sensor, and is preferably formed on the surface to be the display device side, for example. As the transparent conductive film, for example, tin-doped indium oxide (ITO), fluorine-doped tin oxide (FTO), antimony-doped tin oxide (ATO), or the like is used. In particular, ITO is preferable because of its low electric resistance. ITO can be formed, for example, by a sputtering method. Moreover, FTO and ATO can be formed by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method. An antireflection coating is formed on the surface to be the viewer side. Moreover, when there is a gap between the touch panel and the cover glass, it is preferable to form an antireflection film on the surface that should be the back side of the cover glass (the side opposite to the display device side). The antireflection film is preferably a dielectric multilayer film in which, for example, low refractive index layers with a relatively low refractive index and high refractive index layers with a relatively high refractive index are alternately laminated. The antireflection film can be formed by, for example, a sputtering method, a CVD method, or the like. When used as a cover glass, the anti-glare film is formed on the surface to be the viewer side. The antiglare film preferably has an uneven structure. The uneven structure may be an island-shaped structure that partially covers the surface of the glass. Moreover, it is preferable that the concave-convex structure does not have regularity. Thereby, the anti-glare function can be enhanced. The anti-glare film can be formed, for example, by applying a translucent material such as SiO 2 by a spray method and drying it. When used as a cover glass, the antifouling film is formed on the surface to be the viewer side. The antifouling film preferably contains a fluoropolymer containing silicon in the main chain. As the fluorine-containing polymer, a polymer having --O--Si--O-- units in the main chain and water-repellent functional groups containing fluorine in the side chains is preferable. A fluoropolymer can be synthesized, for example, by dehydration condensation of silanol. When forming an antireflection film and an antifouling film, it is preferable to form an antifouling film on the antireflection film. Furthermore, when forming an anti-glare film, it is preferable to first form an anti-glare film and then form an antireflection film and/or an antifouling film thereon.

また本発明のガラス或いはカバーガラスは、表面に光触媒粒子が担持されていることが好ましい。光触媒粒子には種々の材料からなる粒子が使用可能である。例えば酸化チタン粒子、酸化タングステン粒子等が使用できる。特にアナターゼ型の酸化チタン粒子が好ましい。アナターゼ型の酸化チタンが好ましい理由は、ルチル型又はブルッカイト型の酸化チタンと比べて、光触媒としての反応性が高いからである。光触媒粒子の平均粒子径は、1nm以上、2nm以上、特に3nm以上であることが好ましく、また200nm、100nm以下、50nm以下、30nm以下、20nm以下、特に10nm以下であることが好ましい。 The glass or cover glass of the present invention preferably has photocatalyst particles supported on its surface. Particles made of various materials can be used as the photocatalyst particles. For example, titanium oxide particles, tungsten oxide particles, and the like can be used. Anatase-type titanium oxide particles are particularly preferred. The reason why anatase-type titanium oxide is preferable is that it has higher reactivity as a photocatalyst than rutile-type or brookite-type titanium oxide. The average particle size of the photocatalyst particles is preferably 1 nm or more, 2 nm or more, particularly 3 nm or more, and is preferably 200 nm, 100 nm or less, 50 nm or less, 30 nm or less, 20 nm or less, particularly 10 nm or less.

また上記した紫外光応答型の他に、窒素ドープ型酸化チタン粒子、酸化銅ドープ型酸化チタン粒子、酸化銅ドープ型酸化タングステン粒子等の可視光応答型の光触媒を使用してもよい。このタイプの光触媒を採用すれば、室内環境であっても光触媒の効果が得られる。また野外環境での使用の場合、紫外光応答型よりも多くの光エネルギーを使用できるという利点がある。 In addition to the ultraviolet-light-responsive photocatalysts described above, visible-light-responsive photocatalysts such as nitrogen-doped titanium oxide particles, copper oxide-doped titanium oxide particles, and copper oxide-doped tungsten oxide particles may also be used. If this type of photocatalyst is used, the effect of the photocatalyst can be obtained even in an indoor environment. Moreover, when used in an outdoor environment, there is an advantage that more light energy can be used than the ultraviolet light responsive type.

表面に多量の光触媒粒子を担持させるにはガラス表面が多孔質状であることが望ましい。表面を多孔質状にする方法として、ガラス表面を酸処理する方法を採用することができる。つまり本発明に係るガラス組成は、分相し易い性質を有しており、多くの場合、表面が分相している。このため表面を酸処理すると、ホウ酸成分を多く含む耐酸性の低い相が溶出し、ケイ素を多く含む耐酸性の高い相が表面に残る。その結果、ガラス表面が多孔質状になり、比表面積が著しく増加する。なおガラス内部は分相しにくいことから、酸処理しても多孔質状となるのはガラス表面のみとなる。なお多孔質状となる表面(多孔質層)の厚さ(深さ)は、10μm以下であることが好ましい。多孔質状となる表面の厚さが薄すぎると、比表面積を大きくする効果が小さくなる。表面の厚さが厚すぎると、内部に有機物等が堆積して光触媒としての機能が低下する。 In order to support a large amount of photocatalyst particles on the surface, it is desirable that the glass surface be porous. As a method of making the surface porous, a method of acid-treating the glass surface can be employed. That is, the glass composition according to the present invention has a property of being easily phase-separated, and in many cases, the surface is phase-separated. Therefore, when the surface is treated with an acid, the phase containing a large amount of boric acid and having a low acid resistance is eluted, and the phase containing a large amount of silicon and having a high acid resistance remains on the surface. As a result, the glass surface becomes porous and the specific surface area is significantly increased. Since the inside of the glass is difficult to undergo phase separation, only the surface of the glass becomes porous even after the acid treatment. The thickness (depth) of the porous surface (porous layer) is preferably 10 μm or less. If the thickness of the porous surface is too thin, the effect of increasing the specific surface area is reduced. If the thickness of the surface is too thick, organic substances and the like will be deposited inside and the function as a photocatalyst will be lowered.

次に上記したガラスに光触媒粒子を担持させる方法を説明する。 Next, a method for supporting photocatalyst particles on the above-described glass will be described.

まず上記組成を有するガラスを用意する。用意するガラスは、分相していることが重要である。ガラス中に含まれる分相粒子の大きさは1nm以上、2nm以上、3nm以上、5nm以上、特に10nm以上であることが好ましく、また100nm以下、80nm以下、特に60nm以下であることが好ましい。このようなガラスは、オーバーフローダウンドロー法を用いて作製することができる。なおガラスの組成、特性等の特徴は既述の通りであり、ここでは説明を省略する。 First, a glass having the above composition is prepared. It is important that the glass to be prepared has phase separation. The size of the phase-separated particles contained in the glass is preferably 1 nm or more, 2 nm or more, 3 nm or more, 5 nm or more, particularly 10 nm or more, and preferably 100 nm or less, 80 nm or less, particularly 60 nm or less. Such glasses can be made using the overflow downdraw method. The characteristics such as the composition and characteristics of the glass are as described above, and the description is omitted here.

前処理として、ガラスの表面を酸処理しておくことが好ましい。予め表面を酸処理しておくことにより、ガラスの表面を多孔質状に改質し、比表面積を大きくすることができる。酸処理の方法としては、例えば酸溶液中にガラスを浸漬する方法を採用することができる。また酸溶液をガラスに噴霧してもよい。酸としては、例えば塩酸、硝酸、硫酸等を使用することができる。 As a pretreatment, it is preferable to acid-treat the surface of the glass. By acid-treating the surface in advance, the surface of the glass can be modified to be porous and the specific surface area can be increased. As a method of acid treatment, for example, a method of immersing the glass in an acid solution can be adopted. Alternatively, the acid solution may be sprayed onto the glass. Acids that can be used include, for example, hydrochloric acid, nitric acid, and sulfuric acid.

次にガラスの表面に、光触媒粒子を含む溶液を塗布する。塗布の方法は限定されない。例えば、光触媒粒子を分散させて溶液中にガラスを浸漬する方法を採用することができる。また光触媒粒子を含む溶液をガラス表面に噴霧してもよい。 Next, the surface of the glass is coated with a solution containing photocatalyst particles. The application method is not limited. For example, a method of dispersing photocatalyst particles and immersing glass in a solution can be employed. Alternatively, a solution containing photocatalyst particles may be sprayed onto the glass surface.

続いて、ガラスを熱処理する。熱処理することにより、光触媒粒子をガラス表面に固定することができる。加熱温度としては、250℃以上、410℃以上、特に420℃以上であることが好ましい。加熱温度が高いほど、光触媒粒子を強固にガラス表面に固定できる。なお、加熱温度が高すぎるとガラスが軟化して空孔が塞がれ、表面積が低減するという不具合が生じることがある。そのため加熱温度は650℃以下とすることが好ましい。 The glass is then heat treated. The heat treatment can fix the photocatalyst particles on the glass surface. The heating temperature is preferably 250° C. or higher, 410° C. or higher, particularly 420° C. or higher. The higher the heating temperature, the more strongly the photocatalyst particles can be fixed to the glass surface. If the heating temperature is too high, the glass may be softened to clog the pores and reduce the surface area. Therefore, the heating temperature is preferably 650° C. or lower.

このようにして光触媒体が表面に担持されたガラスを得ることができる。 Thus, a glass having a photocatalyst carried on its surface can be obtained.

次に本発明のガラスの好ましい態様を例示する。
(1)ガラス組成として、質量%で、SiO 55~70%、Al 3~15%、B 18~30%、LiO+NaO+KO 0~1%、MgO+CaO+SrO+BaO 0~7%を含有するガラス。
(2)ガラス組成として、質量%で、SiO 55~70%、Al 3~12%、B 20~30%、LiO+NaO+KO 0~0.5%、MgO+CaO+SrO+BaO 0~6%を含有し、密度が2.28g/cm以下、歪点が610℃以下、且つヤング率が66GPa以下であるガラス。
(3)ガラス組成として、質量%で、SiO 58~70%、Al 7~20%、B 18~30%、LiO+NaO+KO 0~1%、MgO+CaO+SrO+BaO 0~6%を含有し、ヤング率が63GPa以下であるガラス。
(4) 密度が2.40g/cm以下、30~380℃の温度範囲における熱膨張係数が36×10-7/℃以下、歪点が610℃以下、且つヤング率が63GPa以下であるガラス。
(5) 密度が2.30g/cm以下、30~380℃の温度範囲における熱膨張係数が25~36×10-7/℃、歪点が610℃以下、且つヤング率が63GPa以下であるガラス。
(6) 密度が2.30g/cm以下、30~380℃の温度範囲における熱膨張係数が25~40×10-7/℃、歪点が610℃以下、且つヤング率が65GPa以下であるガラス。
Preferred embodiments of the glass of the present invention are illustrated below.
(1) Glass composition, in mass %, SiO 2 55-70%, Al 2 O 3 3-15%, B 2 O 3 18-30%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0-1% , MgO + CaO + SrO + BaO 0 Glass containing ~7%.
(2) The glass composition, in mass %, is SiO 2 55-70%, Al 2 O 3 3-12%, B 2 O 3 20-30%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0-0.5%, Glass containing 0 to 6% of MgO+CaO+SrO+BaO, having a density of 2.28 g/cm 3 or less, a strain point of 610° C. or less, and a Young's modulus of 66 GPa or less.
(3) Glass composition, in mass %, SiO 2 58-70%, Al 2 O 3 7-20%, B 2 O 3 18-30%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0-1%, MgO + CaO + SrO + BaO 0 A glass containing ~6% and having a Young's modulus of 63 GPa or less.
(4) Glass having a density of 2.40 g/cm 3 or less, a thermal expansion coefficient of 36×10 −7 /° C. or less in a temperature range of 30 to 380° C., a strain point of 610° C. or less, and a Young's modulus of 63 GPa or less. .
(5) It has a density of 2.30 g/cm 3 or less, a thermal expansion coefficient of 25 to 36×10 -7 /°C in a temperature range of 30 to 380°C, a strain point of 610°C or less, and a Young's modulus of 63 GPa or less. glass.
(6) It has a density of 2.30 g/cm 3 or less, a thermal expansion coefficient of 25 to 40×10 -7 /°C in a temperature range of 30 to 380°C, a strain point of 610°C or less, and a Young's modulus of 65 GPa or less. glass.

以下、実施例に基づいて、本発明を詳細に説明する。なお、以下の実施例は、単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。 The present invention will be described in detail below based on examples. It should be noted that the following examples are merely illustrative. The present invention is by no means limited to the following examples.

表1~6は、本発明の実施例(試料No.1~42)を示している。なお、表中の[未]は、未測定であることを示している。 Tables 1-6 show examples of the invention (Sample Nos. 1-42). In addition, [not yet] in the table indicates that the measurement has not been performed.

Figure 0007183108000001
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Figure 0007183108000002
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Figure 0007183108000003
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Figure 0007183108000004
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Figure 0007183108000006
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次のようにして、試料No.1~42を作製した。まず表中のガラス組成になるように調合したガラス原料を白金坩堝に入れ、1600℃で24時間溶融した後、カーボン板上に流し出して平形板状に成形した。次に、得られた各試料について、密度ρ、熱膨張係数α、歪点Ps、徐冷点Ta、軟化点Ts、10dPa・sにおける温度、10dPa・sにおける温度、102.5dPa・sにおける温度、ヤング率E、液相温度TL、液相粘度logηTL、スクラッチレジスタンス(耐スクラッチ性)及びクラックレジスタンス(耐クラック性)を評価した。なお本実施例では清澄剤としてSnOを使用したが、SnO以外の清澄剤を使用してもよい。また溶融条件やバッチの調整により泡切れが良好であれば、清澄剤は使用しなくてもよい。 Sample no. 1-42 were produced. First, a glass raw material prepared so as to have the glass composition shown in the table was placed in a platinum crucible, melted at 1600° C. for 24 hours, poured onto a carbon plate, and formed into a flat plate. Next, density ρ, coefficient of thermal expansion α, strain point Ps, annealing point Ta, softening point Ts, temperature at 10 4 dPa·s, temperature at 10 3 dPa·s, 10 2. The temperature at 5 dPa·s, Young's modulus E, liquidus temperature TL, liquidus viscosity logηTL, scratch resistance and crack resistance were evaluated. Although SnO 2 was used as the clarifier in this example, clarifiers other than SnO 2 may be used. Further, if the melting conditions and the batch are adjusted so that bubbles can be easily removed, the clarifier may not be used.

密度ρは、周知のアルキメデス法で測定した値である。 The density ρ is a value measured by the well-known Archimedes method.

熱膨張係数αは、ディラトメーターで測定した値であり、30~380℃の温度範囲における平均値である。 The coefficient of thermal expansion α is a value measured with a dilatometer and is an average value in the temperature range of 30 to 380°C.

歪点Ps、徐冷点Ta及び軟化点Tsは、ASTM C336、C338の方法に基づいて測定した値である。 The strain point Ps, annealing point Ta and softening point Ts are values measured according to the methods of ASTM C336 and C338.

104.0dPa・sにおける温度、103.0dPa・sにおける温度及び102.5dPa・sにおける温度は、白金球引き上げ法で測定した値である。 The temperature at 10 4.0 dPa·s, the temperature at 10 3.0 dPa·s, and the temperature at 10 2.5 dPa·s are values measured by the platinum ball pull-up method.

ヤング率Eは、共振法で測定した値である。ヤング率が大きい程、比ヤング率(ヤング率/密度)が大きくなり易く、平板形状の場合、自重によりガラスが撓み難くなる。 Young's modulus E is a value measured by a resonance method. The higher the Young's modulus, the higher the specific Young's modulus (Young's modulus/density).

液相温度TLは、標準篩30メッシュ(500μm)を通過し、50メッシュ(300
μm)に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に24時間保持して、結晶の析出する温度を測定した値である。
The liquidus temperature TL passes through a standard sieve of 30 mesh (500 μm),
μm) is placed in a platinum boat, held in a temperature gradient furnace for 24 hours, and the temperature at which crystals precipitate is measured.

液相粘度logηTLは、液相温度TLにおけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値である。 The liquidus viscosity logηTL is a value obtained by measuring the viscosity of the glass at the liquidus temperature TL by the platinum ball pull-up method.

耐スクラッチ性(スクラッチレジスタンス)は、ガラス表面をヌープ圧子で0.4mm/sの速さで引っ掻いたときに、引っ掻き方向と垂直な方向にひっかき傷の2倍以上の幅のクラックが、引っ掻いた全長の15%以上の長さ発生する荷重を測定し、その荷重が10N以上となる場合を「○」、10N未満となる場合を「×」として評価した。引っ掻き試験は、Bruker社のトライボロジー試験機UMT-2を用い、湿度30%、温度25%に保持された恒温恒湿槽内において行った。 Scratch resistance is measured by scratching the glass surface with a Knoop indenter at a speed of 0.4 mm / s. A load generated over a length of 15% or more of the total length was measured, and the case where the load was 10 N or more was evaluated as "O", and the case where the load was less than 10 N was evaluated as "X". The scratch test was performed using a Bruker tribology tester UMT-2 in a constant temperature and humidity chamber maintained at a humidity of 30% and a temperature of 25%.

耐クラック性(クラックレジスタンス)は、クラック発生率が50%となる荷重が1000gf以上となる場合を「○」、1000gf未満となる場合を「×」として評価したものである。クラック発生率は、次のようにして測定した。まず湿度30%、温度25℃に保持された恒温恒湿槽内において、所定荷重に設定したビッカース圧子をガラス表面(光学研磨面)に15秒間打ち込み、その15秒後に圧痕の4隅から発生するクラックの数をカウント(1つの圧痕につき最大4とする)する。このようにして圧子を50回打ち込み、総クラック発生数を求めた後、総クラック発生数/200×100(%)の式により求めた。 Crack resistance was evaluated as "○" when the load at which the crack generation rate was 50% was 1000 gf or more, and as "X" when it was less than 1000 gf. The crack generation rate was measured as follows. First, in a constant temperature and humidity chamber maintained at a humidity of 30% and a temperature of 25°C, a Vickers indenter set to a predetermined load is driven into the glass surface (optical polished surface) for 15 seconds, and after 15 seconds, the indentations are generated from the four corners. Count the number of cracks (up to 4 per indentation). After indenting the indenter 50 times in this way and determining the total number of cracks, it was determined by the formula: total number of cracks/200×100(%).

1MHzの周波数における誘電正接は、公知の平行板コンデンサ法で1MHz、25℃の条件で測定した。 The dielectric loss tangent at a frequency of 1 MHz was measured at 1 MHz and 25° C. by a known parallel plate capacitor method.

内部摩擦は、公知の半価幅法を用いて測定した。 Internal friction was measured using the known half width method.

表1に記載の試料No.4、5の材質を試験溶融炉で溶融して、溶融ガラスを得た後、オーバーフローダウンドロー法で板厚0.3mmのガラス板を成形した。その結果、ガラス板の反りは0.075%以下、うねり(WCA)は0.15μm以下(カットオフfh:0.8mm、fl:8mm)、表面粗さ(Ry)は20Å以下(カットオフλc:9μm)であった。成形に際し、引っ張りローラーの速度、冷却ローラーの速度、加熱装置の温度分布、溶融ガラスの温度、溶融ガラスの流量、板引き速度、攪拌スターラーの回転数等を適宜調整することで、ガラス板の表面品位を調節した。なお、「反り」は、ガラス板を光学定盤上に置き、JIS B-7524に記載の隙間ゲージを用いて測定した値である。「うねり」は、触針式の表面形状測定装置を用いて、JIS B-0610に記載のWCA(ろ波中心線うねり)を測定した値であり、この測定は、SEMI STD D15-1296「FPDガラス基板の表面うねりの測定方法」に準拠している。「平均表面粗さ(Ry)」は、SEMI D7-94「FPDガラス基板の表面粗さの測定方法」に準拠した方法により測定した値である。 Sample No. listed in Table 1. After melting the materials of 4 and 5 in a test melting furnace to obtain molten glass, a glass plate having a thickness of 0.3 mm was formed by an overflow down-draw method. As a result, the warpage of the glass plate was 0.075% or less, the waviness (WCA) was 0.15 μm or less (cutoff fh: 0.8 mm, fl: 8 mm), and the surface roughness (Ry) was 20 Å or less (cutoff λc : 9 μm). At the time of molding, the surface of the glass plate can be controlled by appropriately adjusting the speed of the pulling roller, the speed of the cooling roller, the temperature distribution of the heating device, the temperature of the molten glass, the flow rate of the molten glass, the plate drawing speed, the rotation speed of the stirring stirrer, etc. Adjusted the quality. "Warp" is a value measured by placing a glass plate on an optical surface plate and using a clearance gauge described in JIS B-7524. "Waviness" is a value obtained by measuring WCA (filtered centerline waviness) described in JIS B-0610 using a stylus-type surface profile measuring device. Measurement Method of Surface Waviness of Glass Substrate". "Average surface roughness (Ry)" is a value measured by a method based on SEMI D7-94 "Method for measuring surface roughness of FPD glass substrate".

実施例2で作成したNo.5のガラスを100mm×100mm×0.3mmの大きさに加工することによりガラス試料を準備した。このガラス試料を80℃―5wt%のHClに10分間浸漬し、表面を多孔質状に改質した。続いて酸処理後のガラス試料をエタノール水溶液に10分間浸漬して洗浄した。 No. 1 created in Example 2. A glass sample was prepared by processing the glass of No. 5 into a size of 100 mm x 100 mm x 0.3 mm. This glass sample was immersed in 80° C.-5 wt % HCl for 10 minutes to modify the surface into a porous state. Subsequently, the acid-treated glass sample was immersed in an ethanol aqueous solution for 10 minutes for washing.

次に、平均粒子径5nmの酸化チタン(アナターゼ)粒子を2-プロパノール溶液に2wt%分散させた溶液中に、ガラス試料を5分浸漬し、ガラス試料表面にチタン粒子を付着させた。 Next, the glass sample was immersed for 5 minutes in a solution in which 2 wt % of titanium oxide (anatase) particles having an average particle size of 5 nm were dispersed in a 2-propanol solution to adhere the titanium particles to the surface of the glass sample.

その後、ガラス試料を500℃に保持したアニーラーに入れ、2時間熱処理した後に取り出すことにより、酸化チタン粒子を表面に担持したガラス試料を得た。このようにして得られた試料に紫外線を照射すれば、酸化チタン粒子の光触媒機能により、指紋や有機物を分解することができる。 After that, the glass sample was placed in an annealer maintained at 500° C., heat-treated for 2 hours, and taken out to obtain a glass sample having titanium oxide particles supported on its surface. By irradiating the sample thus obtained with ultraviolet rays, fingerprints and organic matter can be decomposed by the photocatalytic function of the titanium oxide particles.

表3に記載の試料No.19の材質を試験溶融炉で溶融して、溶融ガラスを得た後、オーバーフローダウンドロー法で板厚100μmのフィルム状ガラスを成形した。このフィルム状ガラスは、曲率半径60mmのロール状に巻き取ることができた。 Sample No. described in Table 3. After melting the material No. 19 in a test melting furnace to obtain molten glass, a glass film having a thickness of 100 μm was formed by an overflow down-draw method. This film-like glass could be wound into a roll having a radius of curvature of 60 mm.

本発明のガラスは、カバーガラスとして好適であるが、それ以外にも、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ等のフラットディスプレイ用基板、CSP、CCD、CIS等のイメージセンサー用基板、タッチセンサー用基板としても好適である。また光触媒粒子を表面に担持させる場合は、その防汚機能を恒久的に維持することが可能であることから、上記用途以外にも、例えば建築用ガラスとして使用することができる The glass of the present invention is suitable as a cover glass, but it can also be used as a substrate for flat displays such as liquid crystal displays and organic EL displays, as a substrate for image sensors such as CSP, CCD and CIS, and as a substrate for touch sensors. preferred. In addition, when photocatalyst particles are supported on the surface, the antifouling function can be permanently maintained, so it can be used as architectural glass, for example, in addition to the above applications.

Claims (10)

板厚が0.6mm以下であり、ガラス組成として、質量%で、SiO 50~70%、Al 0~11%、B 20~30%、LiO+NaO+KO 0~1%、MgO+CaO+SrO+BaO 2~10%、CaO 0~5.5%、SrO 0~3%、BaO 0~3%、ZnO 0~5%を含有し、B-Alが9質量%以上であることを特徴とするガラス板。 The plate thickness is 0.6 mm or less, and the glass composition is SiO 2 50 to 70%, Al 2 O 3 0 to 11%, B 2 O 3 20 to 30%, and Li 2 O + Na 2 O + K 2 O in mass%. 0-1%, MgO+CaO+SrO+BaO 2-10%, CaO 0-5.5%, SrO 0-3%, BaO 0-3%, ZnO 0-5%, and B 2 O 3 -Al 2 O 3 A glass plate having a content of 9% by mass or more. ガラス組成として、質量%で、Al 7~11%を含有することを特徴とする請求項1に記載のガラス板。 2. The glass plate according to claim 1, wherein the glass composition contains 7 to 11% by mass of Al 2 O 3 . ガラス組成として、質量%で、MgO+CaO+SrO+BaO 3~8%を含有することを特徴とする請求項1又は2に記載のガラス板。 3. The glass plate according to claim 1, wherein the glass composition contains 3 to 8% by mass of MgO+CaO+SrO+BaO. -(MgO+CaO+SrO+BaO)が12質量%以上であることを特徴とする請求項1~3の何れかに記載のガラス板。 4. The glass plate according to claim 1, wherein B 2 O 3 −(MgO+CaO+SrO+BaO) is 12 mass % or more. 質量比で(SrO+BaO)/(MgO+CaO)が1以下であることを特徴とする請求項1~4の何れかに記載のガラス板。 5. The glass plate according to claim 1, wherein (SrO+BaO)/(MgO+CaO) is 1 or less in mass ratio. 密度が2.40g/cm以下、30~380℃の温度範囲における熱膨張係数が25~40×10-7/℃、歪点が610℃以下、且つヤング率が66GPa以下であることを特徴とする請求項1~5の何れかに記載のガラス板。 It has a density of 2.40 g/cm 3 or less, a thermal expansion coefficient of 25 to 40×10 −7 /° C. in a temperature range of 30 to 380° C., a strain point of 610° C. or less, and a Young's modulus of 66 GPa or less. The glass plate according to any one of claims 1 to 5. 液相粘度が105.0dPa・s以上であることを特徴とする請求項1~6の何れかに記載のガラス板。 7. The glass plate according to any one of claims 1 to 6, which has a liquidus viscosity of 10 5.0 dPa·s or more. オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする請求項1~7の何れかに記載のガラス板。 8. The glass plate according to any one of claims 1 to 7, which is formed by an overflow down-draw method. カバーガラスに用いることを特徴とする請求項1~8の何れかに記載のガラス板。 9. The glass plate according to any one of claims 1 to 8, which is used as a cover glass. イオン交換処理されていないことを特徴とする請求項1~9の何れかに記載のガラス板。 10. The glass plate according to any one of claims 1 to 9, which is not subjected to ion exchange treatment.
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