JP7183056B2 - 荷電粒子ソース及びバックスパッタリングを利用した荷電粒子ソースのクリーニング方法 - Google Patents
荷電粒子ソース及びバックスパッタリングを利用した荷電粒子ソースのクリーニング方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7183056B2 JP7183056B2 JP2019013721A JP2019013721A JP7183056B2 JP 7183056 B2 JP7183056 B2 JP 7183056B2 JP 2019013721 A JP2019013721 A JP 2019013721A JP 2019013721 A JP2019013721 A JP 2019013721A JP 7183056 B2 JP7183056 B2 JP 7183056B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- charged particle
- particle source
- emitter
- source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/073—Electron guns using field emission, photo emission, or secondary emission electron sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/08—Ion sources; Ion guns
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J1/00—Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J1/02—Main electrodes
- H01J1/30—Cold cathodes, e.g. field-emissive cathode
- H01J1/304—Field-emissive cathodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/063—Geometrical arrangement of electrodes for beam-forming
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
- H01J37/3177—Multi-beam, e.g. fly's eye, comb probe
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/022—Avoiding or removing foreign or contaminating particles, debris or deposits on sample or tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/06—Sources
- H01J2237/063—Electron sources
- H01J2237/06308—Thermionic sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/06—Sources
- H01J2237/063—Electron sources
- H01J2237/06308—Thermionic sources
- H01J2237/06316—Schottky emission
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
本発明は、
とりわけマルチビームタイプの、荷電粒子ナノパターン形成ないし検査ツールの部分内での又はその部分としての使用に好適な荷電粒子ソースに関する。より具体的には、本発明は、荷電粒子を、とりわけ電子を荷電粒子ビームとしてエミッション方向に沿って放出するための荷電粒子ソースであって、該荷電粒子ソースが、
・荷電粒子ソースを高真空で作動可能にする、真空システムに接続可能なハウジング、
・エミッタ電極(即ち荷電粒子が正電荷又は負電荷の何れを有するかに依存してエミッタアノード又はカソード)、但し、該エミッタ電極はエミッション方向に沿って(電子のような(尤も代替的にイオン、とりわけ正電荷を有するイオンでも可能である))特定の粒子種の荷電粒子を放出するよう構成されたエミッタ面を有する、
・荷電粒子の符号と反対の符号のエミッタ電極に対する静電電圧が印加されるよう構成された対向電極、但し、該対向電極はエミッション方向に沿ったエミッタ面の下流側の位置にエミッタアパーチャを有する、及び、
・エミッタ面とエミッタアパーチャとの間に規定される空間、但し、該空間はソース空間と称される、
を含む、荷電粒子ソースに関する。
・エミッション方向に沿って特定の粒子種の荷電粒子を放出するよう構成されたエミッタ面を有するエミッタ電極、
・荷電粒子の符号と反対の符号のエミッタ電極に対する静電電圧が印加されるよう構成された対向電極、但し、該対向電極はエミッション方向に沿ったエミッタ面の下流側の位置にエミッタアパーチャを有する、及び、
・エミッタ電極と対向電極の間のソース空間を包囲するよう配置された少なくとも2つの調整電極、但し、各調整電極は対向電極及び/又はエミッタ電極に対する制御された静電電圧が印加されるよう構成されている、
を含み、
粒子ソースはエミッションモードで作動可能であり、エミッションモードでは、エミッタ電極と対向電極の間に電圧が印加されて、エミッション方向に沿って粒子ソースから出射する荷電粒子が生成され、
粒子ソースは、更に、第1クリーニングモードで作動可能であり、第1クリーニングモードでは、
・ガスはソース空間内において予め設定された圧力値に保持され、その間、エミッタ電極と対向電極の間に電圧が印加され、その際、対向電極において荷電粒子によって生成される二次電子はソース空間内の当該ガスの粒子をイオン化して、イオン化ガス粒子を生成し、及び、
・調整電極の少なくともいずれかに静電ポテンシャルが印加されて、前記イオン化ガス粒子をエミッタ面に指向させる電界が生成される(形態1・第1基本構成)。
荷電粒子のビームによる露光によってターゲットの処理又は検査をするための荷電粒子マルチビーム装置が提供される。この荷電粒子マルチビーム装置は、
・照明システム、
・パターン規定装置、及び、
・投射光学システム
を含み、
該照明システムは本発明の荷電粒子ソースを含む(形態11:第2基本形態)。
エミッタ電極と対向電極の間に電圧を印加することによりエミッション方向に沿って荷電粒子、とりわけ電子を放出するよう構成された荷電粒子ソースのエミッタ電極のインサイチュ(in-situ)クリーニング方法が提供される。この方法は、
・エミッタ電極と対向電極との間に位置付けられたソース空間内のガスの圧力を調節し、及び、エミッタ電極と対向電極との間に電圧を印加すること、その際、該対向電極において荷電粒子によって生成された二次電子はソース空間内の当該ガスの粒子をイオン化して、イオン化ガス粒子を生成すること、及び、
・エミッタ電極と対向電極との間に配置された調整電極(複数)に静電ポテンシャルを印加して、当該イオン化ガス粒子をエミッタ面に指向させる電界を生成すること、
を含む(形態12・第3基本構成)。
荷電粒子ソースのエミッタ電極のインサイチュクリーニング方法が提供される。この方法は、
・荷電粒子ソースのソース空間内のガスの圧力を調節すること、
・荷電粒子ソースのエミッション方向に対する横方向に沿ってソース空間内へエネルギ放射線を照射すること、但し、該エネルギ放射線は、プラズマを得るために、ソース空間内の当該ガスの粒子をイオン化可能であること、及び、
・エミッタ電極と当該エミッタ電極のための対向電極との間に配置された調整電極(複数)に静電ポテンシャルを印加して、当該プラズマを当該エミッタ電極のエミッタ面に指向させる電界を生成すること、
を含む(形態13・第4基本構成)。
(形態1)上記第1基本構成参照。
(形態2)形態1の荷電粒子ソースは、更に、ガスイオン化装置を含み、該ガスイオン化装置はエネルギ放射線をソース空間内へ照射するよう構成されており、該エネルギ放射線は、プラズマを得るために、ソース空間に存在する又はソース空間に供給される前記ガスの粒子をイオン化することが可能であり、
荷電粒子ソースは第2クリーニングモードで作動可能であり、第2クリーニングモードでは、ガスイオン化装置はソース空間内のガス中にプラズマを生成するよう作動され、その間、当該プラズマをエミッタ面に指向させるよう、調整電極(複数)の選択された調整電極間に電圧が印加されることが好ましい。
(形態3)形態2の荷電粒子ソースにおいて、前記エネルギ放射線は電子を含み、及び、前記ガスイオン化装置は当該電子をソース空間内へ、好ましくはエミッション方向に対する横方向に、注入するよう構成された電子銃であることが好ましい。
(形態4)形態2又は3の荷電粒子ソースにおいて、前記ガスイオン化装置は、エミッション方向に対する横方向に沿ってソース空間内へエネルギ放射線を照射するよう構成された、中空カソード型電子銃であることが好ましい。
(形態5)形態1~4の何れかの荷電粒子ソースにおいて、エミッタ電極と対向電極の間に電圧が印加されている間に、第1クリーニングモードでの運転中にイオン化されるべき1又は2以上のガス種をソース空間内へ供給するよう構成されている圧力調節装置を更にに含むことが好ましい。
(形態6)形態1~5の何れかの荷電粒子ソースにおいて、エミッタ電極に対する異なる静電ポテンシャル(複数)が印加可能な調整電極の数は少なくとも2つ、好ましくは5つまで、より好ましくは4つであることが好ましい。
(形態7)形態1~6の何れかの荷電粒子ソースにおいて、調整電極の少なくとも2つは分割電極として構成されており、該分割電極の各々は少なくとも2つの、好ましくは4つの部分円環状(扇状:sectorial)電極から構成されており、該少なくとも2つの部分円環状電極は夫々異なる静電ポテンシャルが印加されるよう構成されていることが好ましい。
(形態8)形態7の荷電粒子ソースにおいて、荷電粒子ソースは、エミッタ面の特定の領域(複数)にイオン化粒子を指向させるために、クリーニングモード中に前記分割電極を使用するよう構成されていることが好ましい。
(形態9)形態7又は8の荷電粒子ソースにおいて、荷電粒子ソースは、対向電極と、分割電極を含む調整電極との静電ポテンシャル(複数)によって、エミッタ面に衝突するイオン化粒子の強度(intensity)を調節するよう構成されていることが好ましい。
(形態10)形態1~9の何れかの荷電粒子ソースにおいて、荷電粒子ソースは、更に、エミッタ電極と調整電極との間に、好ましくはエミッタ電極のより近くに配置されるヴェーネルト(Wehnelt)タイプの制御電極を含み、
該制御電極は、エミッタ電極に対する対向電極の電圧と反対のエミッタ電極に対する制御電圧が印加されるよう、かつ、前記エミッション方向に沿ってエミッタ電極の下流側の位置に制御アパーチャを有するよう構成されていることが好ましい。
(形態11)上記第2基本構成参照。
(形態12)上記第3基本構成参照。
(形態13)上記第4基本構成参照。
(形態14)形態12又は13の方法において、少なくとも2つの調整電極がエミッタ電極と対向電極の間の空間に設けられ、該調整電極の各々は分割電極として構成され、該分割電極の各々は少なくとも2つの、好ましくは4つの部分円環状電極から構成され、該部分円環状電極は、エミッタ面の特定の領域(複数)へイオン化粒子を指向させるために、夫々異なる静電ポテンシャルが印加されることが好ましい。
(形態15)形態12~14の何れかの方法において、関連する調整電極の電圧はステップ状に時間変化され、各ステップについて調整電極の電圧は夫々の持続時間にわたって維持されることが好ましい。
・エミッタ電極と対向電極の間のソース空間を包囲するよう配置された少なくとも2つの調整電極、但し、各調整電極は(基準点として何れが選択されるかに依存して)対向電極及又はエミッタ電極に対する制御された静電電圧が印加されるよう構成されている、及び、
・圧力調節装置、但し、該圧力調節装置はソース空間内のガスの圧力を制御するよう構成されている、
を含み、
粒子ソースは、エミッタ電極と対向電極の間に電圧が印加されてエミッション方向に沿って粒子ソースから出射する荷電粒子が生成されるエミッションモードで作動可能であるのみならず、第1クリーニングモードでも作動可能である。但し、第1クリーニングモードでは、ガスはソース空間内において予め設定された圧力値に保持され、その間、エミッタ電極と対向電極の間に電圧が印加され、その際、対向電極において荷電粒子によって生成される二次電子はソース空間内の当該ガスの粒子をイオン化して、イオン化ガス粒子を生成し、及び、調整電極の少なくともいずれかに静電ポテンシャルが印加されて、これらのイオン化ガス粒子をエミッタ面に指向させる電界が生成される。ソース空間内に存在するガスは、例えば、場合によっては(例えばMFC又はその他の適切な調量(metering)装置を含む)圧力調節装置の制御下で、1つのガスソース(又は複数のガスソース)から供給されるガスであってもよく、又は、残留ガスを含む、雰囲気(大気)からのガスであってもよい。
・荷電粒子ソースのソース空間内のガスの圧力を調節し(既述の通り、ガスは雰囲気ガスであってもよく又は何らかのガスソースから供給されてもよく、場合によっては圧力調節装置を介して供給されてもよい)、及び、エミッタ電極と対向電極との間に電圧を印加すること、その際、該対向電極において荷電粒子によって生成される二次電子はソース空間内の当該ガスの粒子をイオン化して、イオン化ガス粒子を生成すること、及び、
・エミッタ電極と対向電極との間に配置された調整電極(複数)に静電ポテンシャルを印加して、当該イオン化ガス粒子をエミッタ面に指向させる電界を生成すること、
を含む。
・荷電粒子ソースのソース空間内のガスの圧力を調節すること、これは、場合によっては、ガスを荷電粒子ソースのソース空間内へ供給することを含む、
・エネルギ放射線(energetic radiation)(例えば電子)を、好ましくはエミッション方向に対する横方向に沿って、ソース空間内へ照射すること、但し、該エネルギ放射線は、プラズマを得るために、ソース空間内の当該ガスの粒子をイオン化可能であること、及び、
・エミッタ電極と対向電極との間に配置された調整電極(複数)に静電ポテンシャルを印加して、当該プラズマをエミッタ電極のエミッタ面に指向させる電界を生成すること、
を含む。
・フォーカスビーム(点線)について:ソフトクリーニングモードの場合と同様に、分割電極106はグランドポテンシャル0kVであり、-2kVのポテンシャルが分割電極107に印加される。この構成を得るために、分割電極106及び107のサブ電極(複数)は(モノポールモードの場合と同様に)同じポテンシャルを共有する。
・デフォーカスビーム(実線)について:ソフトクリーニングモードの場合と同様に、分割電極106はグランドポテンシャル0kVであり、-2kVのポテンシャルが分割電極107に印加される。このモードでは、付加的な四極子場が電極106及び107の夫々のサブ電極661~664及び671~674によって生成される。これについては図13aに示されているが、図中、プラスとマイナスの記号は、四極子場を実現するために印加される電圧であって、(必要とされるデフォーカスの量に依存して適切に選択される典型的な値である)10~20Vのオーダーの、各電極106、107の全体ポテンシャル(0kV/-2kV)に重ね合わされる電圧を表している。電極106に印加される四極子場構成は、電極107に対して90°回転されている。換言すれば、F. Hinterberg の“Ion optics with electrostatic lenses”のセクション8.1に記載されているようなイオン光学補正(ion-optical correction)が適用されている。
・シフトビーム(一点鎖線)について:ソフトクリーニングモードの場合と同様に、分割電極106はグランドポテンシャル0kVであり、-2kVのポテンシャルが分割電極107に印加される。このモードでは、付加的な双極子場が電極106及び107の夫々のサブ電極661~664及び671~674によって適用される。ポール(複数)(ここでいう「ポール(複数)」とは図13bにおけるプレートペア661、664及び662、663と、671、674及び672、673を指称することが意図されている)間の静電ポテンシャル差は、(必要とされるシフトの量に依存して好都合に選択される典型的な値である)10~20Vのオーダーであり、各電極106、107の全体ポテンシャル(0kV/-2kV)に重ね合わされる。電極106に適用される双極子場構成は電極107に対して180°回転されている。
[付記1]
荷電粒子、とりわけ電子を荷電粒子ビームとしてエミッション方向沿って放出するよう構成された荷電粒子ソース。該荷電粒子ソースは、
・荷電粒子ソースを高真空で作動可能にする、真空システムに接続可能なハウジング、
・エミッション方向に沿って特定の粒子種の荷電粒子を放出するよう構成されたエミッタ面を有するエミッタ電極、
・荷電粒子の符号と反対の符号のエミッタ電極に対する静電電圧が印加されるよう構成された対向電極、但し、該対向電極はエミッション方向に沿ったエミッタ面の下流側の位置にエミッタアパーチャを有する、
・エミッタ面とエミッタアパーチャとの間に規定されるソース空間、
・エミッタ電極と対向電極の間のソース空間を包囲するよう配置された少なくとも2つの調整電極、但し、各調整電極は対向電極及び/又はエミッタ電極に対する制御された静電電圧が印加されるよう構成されている、及び、
・圧力調節装置、但し、該圧力調節装置はソース空間に存在するガスの圧力を制御するよう構成されている、
を含む。
粒子ソースはエミッションモードで作動可能であり、エミッションモードでは、エミッタ電極と対向電極の間に電圧が印加されて、エミッション方向に沿って粒子ソースから出射する荷電粒子が生成される。
粒子ソースは、更に、第1クリーニングモードで作動可能であり、第1クリーニングモードでは、
・ガスはソース空間内において予め設定された圧力値に保持され、その間、エミッタ電極と対向電極の間に電圧が印加され、その際、対向電極において荷電粒子によって生成される二次電子はソース空間内の当該ガスの粒子をイオン化して、イオン化ガス粒子を生成し、及び、
・調整電極(複数)の少なくともいずれかに静電ポテンシャルが印加されて、前記イオン化ガス粒子をエミッタ面に指向させる電界が生成される。
[付記2]上記の荷電粒子ソースは、更に、ガスイオン化装置を含み、該ガスイオン化装置はエネルギ放射線をソース空間内へ照射するよう構成されており、該エネルギ放射線は、プラズマを得るために、ソース空間に存在する又はソース空間に供給される前記ガスの粒子をイオン化することが可能である。
荷電粒子ソースは第2クリーニングモードで作動可能であり、第2クリーニングモードでは、ガスイオン化装置はソース空間内のガス中にプラズマを生成するよう作動され、その間、当該プラズマをエミッタ面に指向させるよう、調整電極(複数)の選択された調整電極(複数)間に電圧が印加される。
[付記3]上記の荷電粒子ソースにおいて、前記エネルギ放射線は電子を含み、及び、前記ガスイオン化装置は当該電子をソース空間内へ、好ましくはエミッション方向に対する横方向に、注入するよう構成された電子銃である。
[付記4]上記の荷電粒子ソースにおいて、前記ガスイオン化装置は、エミッション方向に対する横方向に沿ってソース空間内へエネルギ放射線を照射するよう構成された、中空カソード型電子銃である。
[付記5]上記の荷電粒子ソースにおいて、前記圧力調節装置は、エミッタ電極と対向電極の間に電圧が印加されている間に、第1クリーニングモードでの運転中にイオン化されることが想定される1又は2以上のガス種をソース空間内へ供給するよう構成されている。
[付記6]上記の荷電粒子ソースにおいて、エミッタ電極に対する異なる静電ポテンシャル(複数)が印加可能な調整電極の数は少なくとも2つ、好ましくは5つまで、より好ましくは4つである。
[付記7]上記の荷電粒子ソースにおいて、調整電極の少なくとも2つは分割電極として構成されている。該分割電極の各々は少なくとも2つの、好ましくは4つの部分円環状(扇状:sectorial)電極から構成されており、該少なくとも2つの部分円環状電極は夫々異なる静電ポテンシャルが印加されるよう構成されている。
[付記8]上記の荷電粒子ソースは、エミッタ面の特定の領域(複数)にイオン化粒子を指向させるために、クリーニングモード中に前記分割電極を使用するよう構成されている。
[付記9]上記の荷電粒子ソースは、対向電極と分割電極を含む調整電極の静電ポテンシャル(複数)によって、エミッタ面に衝突するイオン化粒子の強度(intensity)を調節する(tune)よう構成されている。
[付記10]上記の荷電粒子ソースは、更に、エミッタ電極と調整電極との間に、好ましくはエミッタ電極のより近くに配置されるヴェーネルトタイプの制御電極を含む。
該制御電極は、エミッタ電極に対する対向電極の電圧と反対のエミッタ電極に対する制御電圧が印加されるよう、かつ、前記エミッション方向に沿ってエミッタ電極の下流側の位置に制御アパーチャを有するよう構成されている。
[付記11]荷電粒子のビームによる露光によってターゲットの処理又は検査をするための荷電粒子マルチビーム装置。該荷電粒子マルチビーム装置は、
・照明システム、
・パターン規定装置、及び、
・投射光学システム
を含み、
該照明システムは、上記の付記の何れかに記載の荷電粒子ソースを含む。
[付記12]エミッタ電極と対向電極の間に電圧を印加することによりエミッション方向に沿って荷電粒子、とりわけ電子を放出するよう構成された荷電粒子ソースのエミッタ電極のインサイチュ(in-situ)クリーニング方法。該方法は、
・エミッタ電極と対向電極との間に位置付けられたソース空間内のガスの圧力を調節し、及び、エミッタ電極と対向電極との間に電圧を印加すること、その際、該対向電極において荷電粒子によって生成された二次電子はソース空間内の当該ガスの粒子をイオン化して、イオン化ガス粒子を生成すること、及び、
・エミッタ電極と対向電極との間に配置された調整電極(複数)に静電ポテンシャルを印加して、当該イオン化ガス粒子をエミッタ面に指向させる電界を生成すること、
を含む。
[付記13]荷電粒子ソースのエミッタ電極のインサイチュクリーニング方法。該方法は、
・荷電粒子ソースのソース空間内のガスの圧力を調節すること、
・荷電粒子ソースのエミッション方向に対する横方向に沿ってソース空間内へエネルギ放射線を照射すること、但し、該エネルギ放射線は、プラズマを得るために、ソース空間内の当該ガスの粒子をイオン化可能であること、及び、
・エミッタ電極と当該エミッタ電極のための対向電極との間に配置された調整電極(複数)に静電ポテンシャルを印加して、当該プラズマを当該エミッタ電極のエミッタ面に指向させる電界を生成すること、
を含む。
[付記14]上記の方法において、少なくとも2つの調整電極がエミッタ電極と対向電極の間の空間に設けられ、該調整電極の各々は分割電極として構成され、該分割電極の各々は少なくとも2つの、好ましくは4つの部分円環状電極から構成され、該部分円環状電極は、エミッタ面の特定の領域(複数)へイオン化粒子を指向させるために、夫々異なる静電ポテンシャルが印加される。
[付記15]上記の方法において、関連する調整電極(複数)の電圧はステップ状に時間変化され、各ステップについて調整電極(複数)の電圧は夫々の持続時間にわたって維持される。
Claims (14)
- 荷電粒子を荷電粒子ビームとしてエミッション方向(e)に沿って放出するよう構成された荷電粒子ソース(100)であって、該荷電粒子ソースは、
・エミッション方向に沿って特定の粒子種の荷電粒子を放出するよう構成されたエミッタ面(111)を有するエミッタ電極(101)、
・荷電粒子の符号と反対の符号のエミッタ電極(101)に対する静電電圧が印加されるよう構成された対向電極(103)、但し、該対向電極はエミッション方向に沿ったエミッタ面の下流側の位置にエミッタアパーチャ(113)を有する、及び、
・エミッタ電極(101)と対向電極(103)の間のソース空間(110)を包囲するよう配置された少なくとも2つの調整電極(106、107、108、109)、但し、各調整電極は対向電極及び/又はエミッタ電極に対する制御された静電電圧が印加されるよう構成されている、
を含み、
粒子ソース(100)はエミッションモードで作動可能であり、エミッションモードでは、エミッタ電極(101)と対向電極(103)の間に電圧が印加されて、エミッション方向(e)に沿って粒子ソースから出射する荷電粒子が生成され、
粒子ソース(100)は、更に、第1クリーニングモードで作動可能であり、第1クリーニングモードでは、
・ガスはソース空間(110)内において予め設定された圧力値に保持され、その間、エミッタ電極(101)と対向電極(103)の間に電圧が印加され、その際、対向電極(103)において荷電粒子によって生成される二次電子(169)はソース空間内の当該ガスの粒子をイオン化して、イオン化ガス粒子(161)を生成し、及び、
・調整電極(106、107、108、109)の少なくともいずれかに静電ポテンシャルが印加されて、前記イオン化ガス粒子(161)をエミッタ面(111)に指向させる電界が生成される、
荷電粒子ソース。 - 請求項1に記載の荷電粒子ソースにおいて、
荷電粒子ソースは、更に、ガスイオン化装置(105)を含み、該ガスイオン化装置はエネルギ放射線(175)をソース空間内へ照射するよう構成されており、該エネルギ放射線(175)は、プラズマ(170)を得るために、ソース空間に存在する又はソース空間に供給される前記ガスの粒子をイオン化することが可能であり、
荷電粒子ソースは第2クリーニングモードで作動可能であり、第2クリーニングモードでは、ガスイオン化装置(105)はソース空間内のガス中にプラズマ(170)を生成するよう作動され、その間、当該プラズマ(170、171)をエミッタ面に指向させるよう、調整電極(106~109)の選択された調整電極間に電圧が印加される、
荷電粒子ソース。 - 請求項2に記載の荷電粒子ソースにおいて、
前記エネルギ放射線は電子を含み、及び、前記ガスイオン化装置は当該電子をソース空間内へ注入するよう構成された電子銃である、
荷電粒子ソース。 - 請求項2又は3に記載の荷電粒子ソースにおいて、
前記ガスイオン化装置は、エミッション方向に対する横方向に沿ってソース空間内へエネルギ放射線を照射するよう構成された、中空カソード型電子銃である、
荷電粒子ソース。 - 請求項1~4の何れかに記載の荷電粒子ソースにおいて、
エミッタ電極(101)と対向電極(103)の間に電圧が印加されている間に、第1クリーニングモードでの運転中にイオン化されるべき1又は2以上のガス種をソース空間(110)内へ供給するよう構成されている圧力調節装置(104)を更に含む、
荷電粒子ソース。 - 請求項1~5の何れかに記載の荷電粒子ソースにおいて、
エミッタ電極に対する異なる静電ポテンシャルが印加可能な調整電極の数は少なくとも2つである、
荷電粒子ソース。 - 請求項1~6の何れかに記載の荷電粒子ソースにおいて、
調整電極の少なくとも2つは分割電極(60)として構成されており、該分割電極の各々は少なくとも2つの部分円環状電極(61、62、63、64)から構成されており、該少なくとも2つの部分円環状電極は夫々異なる静電ポテンシャルが印加されるよう構成されている、
荷電粒子ソース。 - 請求項7に記載の荷電粒子ソースにおいて、
荷電粒子ソースは、エミッタ面の特定の領域にイオン化粒子を指向させるために、クリーニングモード中に前記分割電極を使用するよう構成されている、
荷電粒子ソース。 - 請求項7又は8に記載の荷電粒子ソースにおいて、
荷電粒子ソースは、対向電極と、分割電極を含む調整電極との静電ポテンシャルによって、エミッタ面に衝突するイオン化粒子の強度を調節するよう構成されている、
荷電粒子ソース。 - 請求項1~9の何れかに記載の荷電粒子ソースにおいて、
荷電粒子ソースは、更に、エミッタ電極と調整電極との間に配置されるヴェーネルトタイプの制御電極を含み、
該制御電極は、エミッタ電極に対する対向電極の電圧と反対のエミッタ電極に対する制御電圧が印加されるよう、かつ、前記エミッション方向に沿ってエミッタ電極の下流側の位置に制御アパーチャを有するよう構成されている、
荷電粒子ソース。 - 荷電粒子のビームによる露光によってターゲット(16)の処理又は検査をするための荷電粒子マルチビーム装置(1)であって、該装置は、
・照明システム(3)、
・パターン規定装置(4)、及び、
・投射光学システム(5)
を含み、
該照明システム(3)は、請求項1~10の何れかに記載の荷電粒子ソースを含む、
装置。 - エミッタ電極と対向電極の間に電圧を印加することによりエミッション方向(e)に沿って荷電粒子を放出するよう構成された荷電粒子ソース(100)のエミッタ電極(101)のインサイチュクリーニング方法であって、
該方法は、
・エミッタ電極(101)と対向電極(103)との間に位置付けられたソース空間(110)内のガスの圧力を調節し、及び、エミッタ電極(101)と対向電極(103)との間に電圧を印加すること、その際、該対向電極(103)において荷電粒子によって生成された二次電子(169)はソース空間内の当該ガスの粒子をイオン化して、イオン化ガス粒子(161)を生成すること、及び、
・エミッタ電極(101)と対向電極(103)との間に配置された調整電極(106~109)に静電ポテンシャルを印加して、当該イオン化ガス粒子(161)をエミッタ面(111)に指向させる電界を生成すること、
を含み、
少なくとも2つの調整電極がエミッタ電極と対向電極の間の空間に設けられ、該調整電極の各々は分割電極として構成され、該分割電極の各々は少なくとも2つの部分円環状電極(61、62、63、64)から構成され、該部分円環状電極は、エミッタ面の特定の領域へイオン化粒子を指向させるために、夫々異なる静電ポテンシャルが印加される、
方法。 - 荷電粒子ソース(100)のエミッタ電極(101)のインサイチュクリーニング方法であって、
該方法は、
・荷電粒子ソースのソース空間(110)内のガスの圧力を調節すること、
・荷電粒子ソースのエミッション方向(e)に対する横方向に沿ってソース空間(110)内へエネルギ放射線(175)を照射すること、但し、該エネルギ放射線(175)は、プラズマ(170)を得るために、ソース空間内の当該ガスの粒子をイオン化可能であること、及び、
・エミッタ電極(101)と当該エミッタ電極のための対向電極(103)との間に配置された調整電極(106~109)に静電ポテンシャルを印加して、当該プラズマ(170、171)を当該エミッタ電極のエミッタ面(111)に指向させる電界を生成すること、
を含み、
少なくとも2つの調整電極がエミッタ電極と対向電極の間の空間に設けられ、該調整電極の各々は分割電極として構成され、該分割電極の各々は少なくとも2つの部分円環状電極(61、62、63、64)から構成され、該部分円環状電極は、エミッタ面の特定の領域へイオン化粒子を指向させるために、夫々異なる静電ポテンシャルが印加される、
方法。 - 請求項12又は13に記載の方法において、
関連する調整電極の電圧はステップ状に時間変化され、各ステップについて調整電極の電圧は夫々の持続時間にわたって維持される、
方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP18154140.0 | 2018-01-30 | ||
EP18154140 | 2018-01-30 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019149370A JP2019149370A (ja) | 2019-09-05 |
JP2019149370A5 JP2019149370A5 (ja) | 2022-01-11 |
JP7183056B2 true JP7183056B2 (ja) | 2022-12-05 |
Family
ID=61094315
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019013721A Active JP7183056B2 (ja) | 2018-01-30 | 2019-01-30 | 荷電粒子ソース及びバックスパッタリングを利用した荷電粒子ソースのクリーニング方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP3518268A1 (ja) |
JP (1) | JP7183056B2 (ja) |
KR (1) | KR102652202B1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210132599A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 아이엠에스 나노패브릭케이션 게엠베하 | 대전 입자 소스 |
US11830699B2 (en) | 2021-07-06 | 2023-11-28 | Kla Corporation | Cold-field-emitter electron gun with self-cleaning extractor using reversed e-beam current |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050001178A1 (en) | 2000-02-19 | 2005-01-06 | Parker N. William | Multi-column charged particle optics assembly |
JP2007172862A (ja) | 2005-12-19 | 2007-07-05 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線源用清浄化装置及びそれを用いた荷電粒子線装置 |
US20110084219A1 (en) | 2009-10-13 | 2011-04-14 | Ict Integrated Circuit Testing Gesellschaft Fur Halbleiterpruftechnik Mbh | Method and apparatus of pretreatment of an electron gun chamber |
JP2012174691A (ja) | 2011-02-22 | 2012-09-10 | Fei Co | 安定な冷陰極電界放出型電子源 |
JP2014183046A5 (ja) | 2014-03-13 | 2015-07-02 | ||
JP2017027917A (ja) | 2015-07-28 | 2017-02-02 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子源のクリーニング方法及び電子ビーム描画装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6768125B2 (en) | 2002-01-17 | 2004-07-27 | Ims Nanofabrication, Gmbh | Maskless particle-beam system for exposing a pattern on a substrate |
EP2187427B1 (en) | 2008-11-17 | 2011-10-05 | IMS Nanofabrication AG | Method for maskless particle-beam exposure |
JP2011199279A (ja) | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Ims Nanofabrication Ag | ターゲット上へのマルチビーム露光のための方法 |
EP2779204A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-17 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Electron gun arrangement |
EP2830083B1 (en) | 2013-07-25 | 2016-05-04 | IMS Nanofabrication AG | Method for charged-particle multi-beam exposure |
US9653263B2 (en) | 2015-03-17 | 2017-05-16 | Ims Nanofabrication Ag | Multi-beam writing of pattern areas of relaxed critical dimension |
EP3096342B1 (en) | 2015-03-18 | 2017-09-20 | IMS Nanofabrication AG | Bi-directional double-pass multi-beam writing |
-
2019
- 2019-01-29 EP EP19154110.1A patent/EP3518268A1/en active Pending
- 2019-01-30 KR KR1020190011633A patent/KR102652202B1/ko active IP Right Grant
- 2019-01-30 JP JP2019013721A patent/JP7183056B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050001178A1 (en) | 2000-02-19 | 2005-01-06 | Parker N. William | Multi-column charged particle optics assembly |
JP2007172862A (ja) | 2005-12-19 | 2007-07-05 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線源用清浄化装置及びそれを用いた荷電粒子線装置 |
US20110084219A1 (en) | 2009-10-13 | 2011-04-14 | Ict Integrated Circuit Testing Gesellschaft Fur Halbleiterpruftechnik Mbh | Method and apparatus of pretreatment of an electron gun chamber |
JP2012174691A (ja) | 2011-02-22 | 2012-09-10 | Fei Co | 安定な冷陰極電界放出型電子源 |
JP2014183046A5 (ja) | 2014-03-13 | 2015-07-02 | ||
JP2017027917A (ja) | 2015-07-28 | 2017-02-02 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子源のクリーニング方法及び電子ビーム描画装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20190092308A (ko) | 2019-08-07 |
JP2019149370A (ja) | 2019-09-05 |
KR102652202B1 (ko) | 2024-03-28 |
EP3518268A1 (en) | 2019-07-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10840054B2 (en) | Charged-particle source and method for cleaning a charged-particle source using back-sputtering | |
KR102626796B1 (ko) | 대전 입자 빔 시스템들에서의 오염의 제거 및/또는 회피를 위한 방법 및 시스템 | |
US6924493B1 (en) | Ion beam lithography system | |
Kazanskiy et al. | Gas discharge devices generating the directed fluxes of off-electrode plasma | |
JP6439620B2 (ja) | 電子源のクリーニング方法及び電子ビーム描画装置 | |
WO2006086815A2 (en) | Charged-particle exposure apparatus | |
US9224580B2 (en) | Plasma generator | |
US7763851B2 (en) | Particle-beam apparatus with improved wien-type filter | |
JP7183056B2 (ja) | 荷電粒子ソース及びバックスパッタリングを利用した荷電粒子ソースのクリーニング方法 | |
US9269542B2 (en) | Plasma cathode charged particle lithography system | |
Livesay | Large‐area electron‐beam source | |
JP6480534B1 (ja) | 荷電粒子ビーム照射装置及び基板の帯電低減方法 | |
US6888146B1 (en) | Maskless micro-ion-beam reduction lithography system | |
US11735391B2 (en) | Charged-particle source | |
JP6461979B2 (ja) | 基板をパターニングするシステム及び方法 | |
JP2007019195A (ja) | 電子ビーム装置及び電子ビーム露光装置 | |
Ji | Maskless, resistless ion beam lithography | |
Bernshteyn | High speed electron-beam dose modulation by electrostatic quadra-deflection | |
JP2015149449A (ja) | 荷電粒子線描画装置、汚染物除去方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2006013386A (ja) | 電子ビーム露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211202 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220726 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221021 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221101 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221122 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7183056 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |