JP6461979B2 - 基板をパターニングするシステム及び方法 - Google Patents
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Description
するステップと、複数のビームレットのうちの第1荷電粒子ビームレットを、当該荷電粒子ビームレットが複数の開口のうちの第1開口を通過する際に偏向させるステップと、複数のビームレットのうちの第2荷電粒子ビームレットを、偏向なしに複数の開口のうちの第2開口を通過させるステップとを有し、第1荷電粒子ビームレットは基板に当たらず、第2荷電粒子ビームレット は基板に当たる。
Claims (13)
- 基板をパターニングするシステムであって、
プラズマ室と、
前記プラズマ室内においてプラズマを生成するための電源と、
複数の開口を含み、前記プラズマ室の一方側に沿って配置され、前記プラズマ室に対して抽出プレートシステムをバイアスする抽出電圧を受け取るように構成される抽出プレートシステムであって、前記複数の開口は前記プラズマから複数のそれぞれの荷電粒子ビームレットを抽出するように構成される、抽出プレートシステムと、
前記複数の荷電粒子ビームレットを受け取り、該複数の荷電粒子ビームレットのうちの少なくとも1つを前記基板へと導くように構成される投影光学システムと、
を備え、
前記抽出プレートシステムは、
前記複数の荷電粒子ビームレットを生成するように構成される第1の複数の開口を有する第1開口アレイを含む開口プレートと、
第2の複数の開口を有する第2開口アレイを含むブランキングプレートと
を含み、
前記第1の複数の開口は、前記第2の複数の開口と位置合わせされて、開口アレイを形成し、前記第2の複数の開口は、それぞれの複数の偏向電極を含み、前記開口プレート及び前記ブランキングプレートは、前記プラズマ室と前記投影光学システムとの間に配置される、システム。 - 前記電源は、誘導結合RF電源、容量結合RF電源、マイクロ波電源、またはアーク放電電源を含む、請求項1に記載のシステム。
- さらに、前記抽出プレートシステムと前記プラズマ室との間に前記抽出電圧を供給するように構成される電圧源を備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記抽出電圧は、前記プラズマ室に対して前記抽出プレートシステムの正バイアスを確立し、
前記荷電粒子ビームレットは、電子である、
請求項3に記載のシステム。 - 前記開口プレートは、平面を定義する前記プラズマ室に隣接する表面を含み、
前記荷電粒子は、前記平面への垂線に対して+0.5度〜−0.5度の入射角で前記開口プレートに当たる、
請求項1に記載のシステム。 - さらに、前記複数の偏向電極に結合されて、偏向電圧を前記開口アレイの選択開口に印加するプログラマブル偏向電圧源を備え、
偏向電圧が前記開口アレイの開口の偏向電極に印加されると、該開口を通過する前記複数の荷電粒子ビームレットのうちの少なくとも1つの荷電粒子ビームレットは偏向される、
請求項1に記載のシステム。 - さらに、前記荷電粒子ビームレットの入射方向に垂直な方向において前記基板をスキャンするように構成される基板台を備える、請求項1に記載のシステム。
- 基板をパターニングする方法であって、
プラズマ室内において荷電粒子を含むプラズマを生成するステップと、
複数の荷電粒子ビームレットを形成するために、前記プラズマから抽出プレートシステムの複数の開口を通じて前記荷電粒子を抽出するステップと、
前記複数の荷電粒子ビームレットのうちの少なくとも1つの荷電粒子ビームレットを、投影光学系を用いて基板へと導くステップと、
を有し、
前記抽出プレートシステムは、
前記複数の荷電粒子ビームレットを生成するように構成される第1の複数の開口を有する第1開口アレイを含む開口プレートと、
第2の複数の開口を有する第2開口アレイを含むブランキングプレートと
を含み、
前記第1の複数の開口は、前記第2の複数の開口と位置合わせされて、開口アレイを形成し、前記第2の複数の開口は、それぞれの複数の偏向電極を含み、前記開口プレート及び前記ブランキングプレートは、前記プラズマ室と前記投影光学システムとの間に配置される、方法。 - 誘導結合RF電源、容量結合RF電源、マイクロ波電源、およびアーク放電電源のうちの1つを用いて前記プラズマを生成するステップを有する、
請求項8に記載の方法。 - 前記プラズマから前記荷電粒子を抽出するステップは、前記抽出プレートシステムと前記プラズマ室との間に抽出電圧を生成するステップを有する、
請求項8に記載の方法。 - 前記抽出電圧を、前記プラズマ室に対する前記抽出プレートシステムの正バイアスとして与えるステップを有し、
前記荷電粒子ビームレットは、電子である、
請求項10に記載の方法。 - さらに、前記複数の荷電粒子ビームレットのうちの選択荷電粒子ビームレットが前記複数の開口のうちの選択開口を通過する際に、該選択荷電粒子ビームレットを偏向させるステップを有し、
該選択荷電粒子ビームレットは、前記基板に当たらない、
請求項8に記載の方法。 - 基板をパターニングするシステムであって、
プラズマ室と、
前記プラズマ室内においてプラズマを生成するための電源と、
複数の開口を含み、前記プラズマ室の一方側に沿って配置され、前記プラズマ室に対して抽出プレートシステムをバイアスする抽出電圧を受け取るように構成される抽出プレートシステムであって、前記複数の開口は、第1領域を定義する開口アレイに配列され、前記プラズマから複数のそれぞれの荷電粒子ビームレットを抽出するように構成され、それぞれの複数の偏向電極を含む、抽出プレートシステムであって、該抽出プレートシステムの前記複数の開口は、二次元アレイに配列され、前記複数の荷電粒子ビームレットを生成するように構成される第1の複数の開口を有する第1開口アレイを含む開口プレート内で形成され、かつ、二次元アレイに配列され、前記第1の複数の開口と位置合わせされる第2の複数の開口を有する第2開口アレイを含むブランキングプレート内で形成され、前記第2の複数の開口は、それぞれの複数の偏向電極を含む、抽出プレートシステムと、
前記複数の荷電粒子ビームレットを受け取り、該複数の荷電粒子ビームレットのうちの少なくとも1つを基板へと導くように構成され、前記複数の荷電粒子ビームレットを集束させて第2領域を定義するように構成される投影光学システムであって、前記第2領域に対する前記第1領域の比は、10,000以上である、投影光学システムと、
を備え、
前記開口プレート及び前記ブランキングプレートは、前記プラズマ室と前記投影光学システムとの間に配置される、システム。
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