JP7166245B2 - Resin compositions, adhesives for electronic parts, semiconductor devices, and electronic parts - Google Patents

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本発明は、樹脂組成物、半導体装置、および電子部品に関する。特に、電子部品用接着剤に適した樹脂組成物、この樹脂組成物の硬化物を含む半導体装置、および電子部品に関する。 The present invention relates to resin compositions, semiconductor devices, and electronic components. In particular, the present invention relates to a resin composition suitable as an adhesive for electronic parts, a semiconductor device containing a cured product of this resin composition, and an electronic part.

現在、使用されている携帯端末等には、電子部品が内蔵されている。この携帯端末等には、耐落下衝撃性が要求される用途が、多くある。 Mobile terminals and the like currently in use have built-in electronic components. There are many uses for mobile terminals and the like that require drop impact resistance.

耐落下衝撃性の向上を目的として、エポキシ樹脂とその硬化剤を含有する熱硬化性エポキシ樹脂組成物において、マイクロシリコーンゲルビーズを含有することを特徴とする熱硬化性エポキシ樹脂組成物(特許文献1)が、報告されている。 A thermosetting epoxy resin composition containing microsilicone gel beads in a thermosetting epoxy resin composition containing an epoxy resin and its curing agent for the purpose of improving drop impact resistance (Patent Document 1: ) has been reported.

しかしながら、このマイクロシリコーンゲルビーズを含有することを特徴とする熱硬化性エポキシ樹脂組成物は、樹脂の粘弾性特性による改善であり、低温短時間で硬化しない、熱膨張係数が大きいという問題がある。このため、電子部品(例えば、ボイスコイルモーター(VCM、カメラのピント合わせ等に使用される)用接着剤や、バイブレーションモジュール向け用接着剤としての使用には、適さない。 However, the thermosetting epoxy resin composition characterized by containing these microsilicone gel beads is improved by the viscoelastic properties of the resin, and has the problems of not curing in a short time at low temperature and having a large coefficient of thermal expansion. For this reason, it is not suitable for use as an adhesive for electronic parts (for example, voice coil motors (VCM, used for camera focusing, etc.), or as an adhesive for vibration modules.

特開2015-887号公報JP-A-2015-887

本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたものであって、短時間での硬化が可能であり、硬化後の耐落下衝撃性に優れる樹脂組成物、この樹脂組成物の硬化物を含む半導体装置、および電子部品を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and provides a resin composition that can be cured in a short time and has excellent drop impact resistance after curing, and a cured product of this resin composition. An object of the present invention is to provide a semiconductor device and an electronic component including the above.

本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意検討を行い、(A)エポキシ樹脂、(B)チオール系硬化剤、および特定量の(C)タルクを含む樹脂組成物が、短時間での硬化が可能であり、硬化後の耐落下衝撃性に優れることを見出した。 The present inventors have made intensive studies to solve the above problems, and found that a resin composition containing (A) an epoxy resin, (B) a thiol-based curing agent, and a specific amount of (C) talc can be produced in a short time. can be cured, and the drop impact resistance after curing is excellent.

本発明は、以下の構成を有することによって上記問題を解決した樹脂組成物、電子部品用接着剤、半導体装置、および電子部品に関する。
〔1〕(A)エポキシ樹脂、
(B)チオール系硬化剤、および
(C)タルク
を含み、
(C)成分が、樹脂組成物100質量部に対して、5~20質量部であることを特徴とする、樹脂組成物。
〔2〕さらに、(D)炭酸カルシウムおよび/またはシリカを含む、上記〔1〕記載の樹脂組成物。
〔3〕(C)成分と(D)成分との合計が、樹脂組成物100質量部に対して、5~40質量部である、上記〔2〕記載の樹脂組成物。
〔4〕樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度(Tg)が、25℃~50℃である、上記〔1〕~〔3〕のいずれか記載の樹脂組成物。
〔5〕(B)成分が、分子中にエステル結合を有しないチオール化合物を含む、上記〔1〕~〔4〕のいずれか記載の樹脂組成物。
〔6〕上記〔1〕~〔5〕のいずれか記載の樹脂組成物を含む、電子部品用接着剤。
〔7〕(A)エポキシ樹脂、
(B)チオール系硬化剤、および
(C)タルク
を含み、
(C)成分が、樹脂組成物100質量部に対して、5~20質量部であることを特徴とする、樹脂組成物の硬化物。
〔8〕上記〔7〕記載の硬化物を含む、半導体装置。
〔9〕上記〔7〕記載の硬化物、または上記〔8〕記載の半導体装置を含む、電子部品。
The present invention relates to a resin composition, an adhesive for electronic parts, a semiconductor device, and an electronic part that solve the above problems by having the following constitutions.
[1] (A) epoxy resin,
(B) a thiol-based curing agent, and (C) talc,
A resin composition characterized in that component (C) is 5 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of the resin composition.
[2] The resin composition according to [1] above, which further contains (D) calcium carbonate and/or silica.
[3] The resin composition according to [2] above, wherein the total amount of component (C) and component (D) is 5 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.
[4] The resin composition according to any one of [1] to [3] above, wherein a cured product of the resin composition has a glass transition temperature (Tg) of 25°C to 50°C.
[5] The resin composition according to any one of [1] to [4] above, wherein component (B) contains a thiol compound having no ester bond in the molecule.
[6] An adhesive for electronic parts, comprising the resin composition according to any one of [1] to [5] above.
[7] (A) epoxy resin,
(B) a thiol-based curing agent, and (C) talc,
A cured product of a resin composition, wherein component (C) is 5 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of the resin composition.
[8] A semiconductor device comprising the cured product according to [7] above.
[9] An electronic component comprising the cured product of [7] above or the semiconductor device of [8] above.

本発明〔1〕によれば、短時間での硬化が可能であり、硬化後の耐落下衝撃性に優れる樹脂組成物を提供することができる。 According to the present invention [1], it is possible to provide a resin composition that can be cured in a short period of time and has excellent drop impact resistance after curing.

本発明〔7〕によれば、短時間での硬化が可能であり、硬化後の耐落下衝撃性に優れる樹脂組成物の硬化物を提供することができる。 According to the present invention [7], it is possible to provide a cured product of a resin composition that can be cured in a short period of time and has excellent drop impact resistance after curing.

本発明〔8〕によれば、短時間での硬化が可能であり、硬化後の耐落下衝撃性に優れる樹脂組成物の硬化物を含む信頼性の高い半導体装置を提供することができる。本発明〔9〕によれば、短時間での硬化が可能であり、硬化後の耐落下衝撃性に優れる樹脂組成物の硬化物を含む信頼性の高い電子部品を提供することができる。 According to the present invention [8], it is possible to provide a highly reliable semiconductor device containing a cured product of a resin composition that can be cured in a short time and has excellent drop impact resistance after curing. According to the present invention [9], it is possible to provide a highly reliable electronic component containing a cured product of a resin composition that can be cured in a short time and has excellent drop impact resistance after curing.

〔樹脂組成物〕
本発明の樹脂組成物は、
(A)エポキシ樹脂、
(B)チオール系硬化剤、および
(C)タルク
を含み、
(C)成分が、樹脂組成物100質量部に対して、5~20質量部であることを特徴とする。
[Resin composition]
The resin composition of the present invention is
(A) an epoxy resin,
(B) a thiol-based curing agent, and (C) talc,
Component (C) is characterized by being 5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.

(A)成分であるエポキシ樹脂は、樹脂組成物に、硬化性、耐熱性、接着性等を付与する。(A)成分としては、シロキサン変性エポキシ樹脂、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂、液状ビスフェノールF型エポキシ樹脂、液状ナフタレン型エポキシ樹脂、液状水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、液状脂環式エポキシ樹脂、液状アルコールエーテル型エポキシ樹脂、液状環状脂肪族型エポキシ樹脂、液状フルオレン型エポキシ樹脂、液状シロキサン系エポキシ樹脂等が、挙げられる。(A)成分としては、柔軟な骨格を有するエポキシ樹脂が好ましい。柔軟な骨格を有するエポキシ樹脂としては、例えば、シロキサン変性エポキシ樹脂が、挙げられる。ビスフェノール骨格を有するエポキシ樹脂(例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂)を使用する場合には、組み合わせる(B)成分が柔軟な骨格を有するチオール系硬化剤であると、好ましい。(A)成分、(B)成分の少なくとも一方が、柔軟な骨格を有することにより、樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度(Tg)を、25℃~50℃にすることができる。より具体的には、〔1〕(A)成分としてベンゼン環を含まないエポキシ樹脂を使用し、(B)成分として環状構造を有するチオール系硬化剤を使用する、〔2〕(A)成分としてベンゼン環を含むエポキシ樹脂を使用し、(B)成分として環状構造を有しないチオール系硬化剤を使用する、ことにより、樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度(Tg)を、25℃~50℃にすることができる。(A)成分として、ベンゼン環を含むエポキシ樹脂とベンゼン環を含まないエポキシ樹脂を併用したときには、その併用度合いに応じて、(B)成分を適宜選択すればよい。同様に、(B)成分として、環状構造を有するチオール硬化剤と環状構造を有しないチオール硬化剤とを併用したときには、その併用度合いに応じて、(A)成分を適宜選択すればよい。樹脂組成物の硬化物のTgが、25℃未満であると、シェア強度が低くなりやすく、50℃を超えると、シェア強度は高くなるが、ピール強度が低下しやすい。(A)成分の市販品としては、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製シロキサン変性エポキシ樹脂(品名:TSL9906)、新日鐵化学製ビスフェノールA型エポキシ樹脂(品名:YD-128)、新日鐵化学製ビスフェノールF型エポキシ樹脂(品名:YDF8170)、DIC製ナフタレン型エポキシ樹脂(品名:HP4032D)、三菱化学製アミノフェノール型エポキシ樹脂(グレード:JER630、JER630LSD)等が挙げられる。(A)成分は、単独でも2種以上を併用してもよい。 The epoxy resin, which is the component (A), imparts curability, heat resistance, adhesiveness, and the like to the resin composition. Component (A) includes siloxane-modified epoxy resin, liquid bisphenol A type epoxy resin, liquid bisphenol F type epoxy resin, liquid naphthalene type epoxy resin, liquid hydrogenated bisphenol type epoxy resin, liquid alicyclic epoxy resin, and liquid alcohol ether. type epoxy resin, liquid cycloaliphatic type epoxy resin, liquid fluorene type epoxy resin, liquid siloxane type epoxy resin, and the like. As component (A), an epoxy resin having a flexible skeleton is preferred. Examples of epoxy resins having a flexible skeleton include siloxane-modified epoxy resins. When using an epoxy resin having a bisphenol skeleton (e.g., bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin), it is preferable that the component (B) to be combined is a thiol-based curing agent having a flexible skeleton. At least one of the components (A) and (B) has a flexible skeleton, so that the cured product of the resin composition can have a glass transition temperature (Tg) of 25°C to 50°C. More specifically, [1] using an epoxy resin containing no benzene ring as the component (A), using a thiol-based curing agent having a cyclic structure as the component (B), [2] as the component (A) By using an epoxy resin containing a benzene ring and using a thiol-based curing agent having no cyclic structure as the component (B), the glass transition temperature (Tg) of the cured product of the resin composition can be reduced from 25°C to 50°C. °C. When an epoxy resin containing a benzene ring and an epoxy resin not containing a benzene ring are used together as component (A), component (B) may be appropriately selected according to the degree of combination. Similarly, when a thiol curing agent having a cyclic structure and a thiol curing agent not having a cyclic structure are used together as component (B), component (A) may be appropriately selected according to the degree of combination. When the Tg of the cured product of the resin composition is less than 25°C, the shear strength tends to be low, and when it exceeds 50°C, the shear strength is high but the peel strength tends to be low. Commercially available products of component (A) include Momentive Performance Materials Japan LLC siloxane-modified epoxy resin (product name: TSL9906), Nippon Steel Chemical bisphenol A type epoxy resin (product name: YD-128), new Nittetsu Chemical bisphenol F type epoxy resin (product name: YDF8170), DIC naphthalene type epoxy resin (product name: HP4032D), Mitsubishi Chemical aminophenol type epoxy resin (grade: JER630, JER630LSD) and the like. Component (A) may be used alone or in combination of two or more.

(B)成分であるチオール系硬化剤は、樹脂組成物に、低温短時間硬化性を付与する。(B)成分としては、耐湿性の観点から、一般式(1): The thiol-based curing agent, which is the component (B), imparts low-temperature short-time curability to the resin composition. As component (B), from the viewpoint of moisture resistance, general formula (1):

Figure 0007166245000001
Figure 0007166245000001

(式中、R、およびRは、それぞれ独立して、水素、炭素数1~10のアルキル基、またはフェニル基であり、nは、0~10の整数である)で表されるチオール化合物が好ましく、化学式(2)または化学式(3):(Wherein, R 1 and R 2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a phenyl group, and n is an integer of 0 to 10) A compound of formula (2) or formula (3) is preferred:

Figure 0007166245000002
Figure 0007166245000002

Figure 0007166245000003
Figure 0007166245000003

で表され、含窒素複素環化合物の4つの各窒素原子に、官能基である(-CH-CH―SH)または(-CH-CH-CH―SH)が結合した多官能の含窒素複素環化合物が、より好ましい。represented by, to each of the four nitrogen atoms of the nitrogen-containing heterocyclic compound, a functional group (—CH 2 —CH 2 —SH) or (—CH 2 —CH 2 —CH 2 —SH) is a polyfunctional is more preferred.

また、(B)成分は分子中にエステル結合を有しない他のチオール化合物であってもよい。この化合物は、一般式(4): Also, the component (B) may be another thiol compound that does not have an ester bond in its molecule. This compound has the general formula (4):

Figure 0007166245000004
Figure 0007166245000004

(式中、R、R、RおよびRは、それぞれ独立して、水素またはC2nSH(nは2~6)であり、かつR、R、RおよびRの少なくとも1つは、CnH2nSH(nは2~6)である)で表される。一般式(4)のチオール化合物は、硬化性の観点から、nが2~4であることが好ましく、硬化物物性と硬化速度のバランスの観点から、nが3であるメルカプトプロピル基であることが好ましい。また、一般式(4)のチオール化合物は、メルカプトアルキル基の数が、単一でも異なるものの混合物であってもよい。一般式(4)のチオール化合物としては、硬化性の観点からがメルカプトプロピル基が2~4個のものが好ましく、硬化物物性と硬化速度のバランスの観点から、メルカプトプロピル基が3個のものが最も好ましい。このチオール化合物は、これ自身が十分に柔軟な骨格を持っているので、硬化物の弾性率を低くしたい場合に有効である。このチオール化合物を加えることにより、硬化物の弾性率をコントロールできるので、硬化後の接着強度(特に、ピール強度)を高くできる。式(4)で表される化合物の例には、ペンタエリスリトールトリプロパンチオール(商品名:PEPT、SC有機化学株式会社製)に加え、トリメチロールプロパンジプロパンチオール等が、含まれる。これらのうち、ペンタエリスリトールトリプロパンチオールが、特に好ましい。分子中にエステル結合を有しない他のチオール化合物としては、分子内にスルフィド結合を2つ以上有する3官能以上のポリチオール化合物を使用することもできる。このようなチオール化合物としては、例えば、1,2,3-トリス(メルカプトメチルチオ)プロパン、1,2,3-トリス(2-メルカプトエチルチオ)プロパン、1,2,3-トリス(3-メルカプトプロピルチオ)プロパン、4-メルカプトメチル-1,8-ジメルカプト-3,6-ジチアオクタン、5,7-ジメルカプトメチル-1,11-ジメルカプト-3,6,9-トリチアウンデカン、4,7-ジメルカプトメチル-1,11-ジメルカプト-3,6,9-トリチアウンデカン、4,8-ジメルカプトメチル-1,11-ジメルカプト-3,6,9-トリチアウンデカン、テトラキス(メルカプトメチルチオメチル)メタン、テトラキス(2-メルカプトエチルチオメチル)メタン、テトラキス(3-メルカプトプロピルチオメチル)メタン、1,1,3,3-テトラキス(メルカプトメチルチオ)プロパン、1,1,2,2-テトラキス(メルカプトメチルチオ)エタン、4,6-ビス(メルカプトメチルチオ)-1,3-ジチアン、1,1,5,5-テトラキス(メルカプトメチルチオ)-3-チアペンタン、1,1,6,6-テトラキス(メルカプトメチルチオ)-3,4-ジチアヘキサン、2,2-ビス(メルカプトメチルチオ)エタンチオール、3-メルカプトメチルチオ-1,7-ジメルカプト-2,6-ジチアヘプタン、3,6-ビス(メルカプトメチルチオ)-1,9-ジメルカプト-2,5,8-トリチアノナン、3-メルカプトメチルチオ-1,6-ジメルカプト-2,5-ジチアヘキサン、1,1,9,9-テトラキス(メルカプトメチルチオ)-5-(3,3-ビス(メルカプトメチルチオ)-1-チアプロピル)3,7-ジチアノナン、トリス(2,2-ビス(メルカプトメチルチオ)エチル)メタン、トリス(4,4-ビス(メルカプトメチルチオ)-2-チアブチル)メタン、テトラキス(2,2-ビス(メルカプトメチルチオ)エチル)メタン、テトラキス(4,4-ビス(メルカプトメチルチオ)-2-チアブチル)メタン、3,5,9,11-テトラキス(メルカプトメチルチオ)-1,13-ジメルカプト-2,6,8,12-テトラチアトリデカン、3,5,9,11,15,17-ヘキサキス(メルカプトメチルチオ)-1,19-ジメルカプト-2,6,8,12,14,18-ヘキサチアノナデカン、9-(2,2-ビス(メルカプトメチルチオ)エチル)-3,5,13,15-テトラキス(メルカプトメチルチオ)-1,17-ジメルカプト-2,6,8,10,12,16-ヘキサチアヘプタデカン、3,4,8,9-テトラキス(メルカプトメチルチオ)-1,11-ジメルカプト-2,5,7,10-テトラチアウンデカン、3,4,8,9,13,14-ヘキサキス(メルカプトメチルチオ)-1,16-ジメルカプト-2,5,7,10,12,15-ヘキサチアヘキサデカン、8-[ビス(メルカプトメチルチオ)メチル]-3,4,12,13-テトラキス(メルカプトメチルチオ)-1,15-ジメルカプト-2,5,7,9,11,14-ヘキサチアペンタデカン、4,6-ビス[3,5-ビス(メルカプトメチルチオ)-7-メルカプト-2,6-ジチアヘプチルチオ]-1,3-ジチアン、4-[3,5-ビス(メルカプトメチルチオ)-7‐メルカプト-2,6-ジチアヘプチルチオ]-6-メルカプトメチルチオ-1,3-ジチアン、1,1-ビス[4-(6-メルカプトメチルチオ)-1,3-ジチアニルチオ]-1,3-ビス(メルカプトメチルチオ)プロパン、1-[4-(6-メルカプトメチルチオ)-1,3-ジチアニルチオ]-3-[2,2-ビス(メルカプトメチルチオ)エチル]-7,9-ビス(メルカプトメチルチオ)-2,4,6,10-テトラチアウンデカン、1,5-ビス[4-(6-メルカプトメチルチオ)-1,3-ジチアニルチオ]-3-[2-(1,3-ジチエタニル)]メチル-2,4-ジチアペンタン、3-[2-(1,3-ジチエタニル)]メチル-7,9-ビス(メルカプトメチルチオ)-1,11-ジメルカプト-2,4,6,10-テトラチアウンデカン、9-[2-(1,3-ジチエタニル)]メチル-3,5,13,15-テトラキス(メルカプトメチルチオ)-1,17-ジメルカプト-2,6,8,10,12,16-ヘキサチアヘプタデカン、3-[2-(1,3-ジチエタニル)]メチル-7,9,13,15-テトラキス(メルカプトメチルチオ)-1,17-ジメルカプト-2,4,6,10,12,16-ヘキサチアヘプタデカン、3,7-ビス[2-(1,3-ジチエタニル)]メチル-1,9-ジメルカプト-2,4,6,8-テトラチアノナン等の脂肪族ポリチオール化合物;4,6-ビス{3-[2-(1,3-ジチエタニル)]メチル-5-メルカプト-2,4-ジチアペンチルチオ}-1,3-ジチアン、4,6-ビス[4-(6-メルカプトメチルチオ)-1,3-ジチアニルチオ]-6-[4-(6‐メルカプトメチルチオ)-1,3-ジチアニルチオ]-1,3-ジチアン、4-[3,4,8,9‐テトラキス(メルカプトメチルチオ)-11-メルカプト-2,5,7,10-テトラチアウンデシル]-5-メルカプトメチルチオ-1,3-ジチオラン、4,5-ビス[3,4-ビス(メルカプトメチルチオ)-6-メルカプト-2,5-ジチアヘキシルチオ]-1,3-ジチオラン、4-[3,4-ビス(メルカプトメチルチオ)-6-メルカプト-2,5-ジチアヘキシルチオ]-5-メルカプトメチルチオ-1,3-ジチオラン、4-[3-ビス(メルカプトメチルチオ)メチル-5,6-ビス(メルカプトメチルチオ)-8-メルカプト-2,4,7-トリチアオクチル]-5-メルカプトメチルチオ-1,3-ジチオラン、2-{ビス[3,4-ビス(メルカプトメチルチオ)-6-メルカプト-2,5-ジチアヘキシルチオ]メチル}-1,3-ジチエタン、2-[3,4-ビス(メルカプトメチルチオ)-6-メルカプト-2,5-ジチアヘキシルチオ]メルカプトメチルチオメチル-1,3-ジチエタン、2-[3,4,8,9-テトラキス(メルカプトメチルチオ)-11-メルカプト-2,5,7,10-テトラチアウンデシルチオ]メルカプトメチルチオメチル-1,3-ジチエタン、2-[3-ビス(メルカプトメチルチオ)メチル-5,6-ビス(メルカプトメチルチオ)-8-メルカプト-2,4,7-トリチアオクチル]メルカプトメチルチオメチル-1,3-ジチエタン、4,5-ビス{1-[2-(1,3-ジチエタニル)]-3-メルカプト-2-チアプロピルチオ}-1,3-ジチオラン、4-{1-[2-(1,3-ジチエタニル)]-3-メルカプト-2-チアプロピルチオ}-5-[1,2-ビス(メルカプトメチルチオ)-4-メルカプト-3-チアブチルチオ]-1,3-ジチオラン、2-{ビス[4-(5-メルカプトメチルチオ-1,3-ジチオラニル)チオ]メチル}-1,3-ジチエタン、4-[4-(5-メルカプトメチルチオ-1,3-ジチオラニル)チオ]-5-{1-[2-(1,3-ジチエタニル)]-3-メルカプト-2-チアプロピルチオ}-1,3-ジチオラン等の環式構造を有するポリチオール化合物が、挙げられる。(wherein R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are each independently hydrogen or C n H 2n SH (n is 2 to 6), and R 3 , R 4 , R 5 and R 6 is represented by CnH2nSH (where n is 2 to 6). The thiol compound of general formula (4) preferably has n of 2 to 4 from the viewpoint of curability, and is a mercaptopropyl group with n of 3 from the viewpoint of the balance between the physical properties of the cured product and the curing speed. is preferred. The thiol compound of general formula (4) may have a single mercaptoalkyl group or a mixture of those having different numbers of mercaptoalkyl groups. The thiol compound of general formula (4) preferably has 2 to 4 mercaptopropyl groups from the viewpoint of curability, and has 3 mercaptopropyl groups from the viewpoint of the balance between the physical properties of the cured product and the curing speed. is most preferred. Since this thiol compound itself has a sufficiently flexible skeleton, it is effective when it is desired to lower the elastic modulus of the cured product. By adding this thiol compound, the elastic modulus of the cured product can be controlled, so that the adhesive strength (especially peel strength) after curing can be increased. Examples of the compound represented by formula (4) include pentaerythritol tripropanethiol (trade name: PEPT, manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd.), trimethylolpropane dipropanethiol, and the like. Of these, pentaerythritol trippropanethiol is particularly preferred. As other thiol compounds having no ester bond in the molecule, tri- or higher functional polythiol compounds having two or more sulfide bonds in the molecule can also be used. Examples of such thiol compounds include 1,2,3-tris(mercaptomethylthio)propane, 1,2,3-tris(2-mercaptoethylthio)propane, 1,2,3-tris(3-mercapto propylthio)propane, 4-mercaptomethyl-1,8-dimercapto-3,6-dithiaoctane, 5,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiundecane, 4,7- dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiundecane, 4,8-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiundecane, tetrakis(mercaptomethylthiomethyl) Methane, tetrakis(2-mercaptoethylthiomethyl)methane, tetrakis(3-mercaptopropylthiomethyl)methane, 1,1,3,3-tetrakis(mercaptomethylthio)propane, 1,1,2,2-tetrakis(mercapto methylthio)ethane, 4,6-bis(mercaptomethylthio)-1,3-dithiane, 1,1,5,5-tetrakis(mercaptomethylthio)-3-thiapentane, 1,1,6,6-tetrakis(mercaptomethylthio )-3,4-dithiahexane, 2,2-bis(mercaptomethylthio)ethanethiol, 3-mercaptomethylthio-1,7-dimercapto-2,6-dithiaheptane, 3,6-bis(mercaptomethylthio)-1,9 -dimercapto-2,5,8-trithianone, 3-mercaptomethylthio-1,6-dimercapto-2,5-dithiahexane, 1,1,9,9-tetrakis(mercaptomethylthio)-5-(3,3-bis (mercaptomethylthio)-1-thiapropyl)3,7-dithianone, tris(2,2-bis(mercaptomethylthio)ethyl)methane, tris(4,4-bis(mercaptomethylthio)-2-thiabutyl)methane, tetrakis ( 2,2-bis(mercaptomethylthio)ethyl)methane, tetrakis(4,4-bis(mercaptomethylthio)-2-thiabutyl)methane, 3,5,9,11-tetrakis(mercaptomethylthio)-1,13-dimercapto -2,6,8,12-tetrathiatridecane, 3,5,9,11,15,17-hexakis(mercaptomethylthio)-1,19-dimercapto-2,6,8,12,14,18- Hexathianonadecane, 9-(2,2-bis(mercaptomethylthio)ethyl) -3,5,13,15-tetrakis(mercaptomethylthio)-1,17-dimercapto-2,6,8,10,12,16-hexathiaheptadecane, 3,4,8,9-tetrakis(mercaptomethylthio) )-1,11-dimercapto-2,5,7,10-tetrathiaundecane, 3,4,8,9,13,14-hexakis(mercaptomethylthio)-1,16-dimercapto-2,5,7, 10,12,15-hexathiahexadecane, 8-[bis(mercaptomethylthio)methyl]-3,4,12,13-tetrakis(mercaptomethylthio)-1,15-dimercapto-2,5,7,9,11 , 14-hexathiapentadecane, 4,6-bis[3,5-bis(mercaptomethylthio)-7-mercapto-2,6-dithiaheptylthio]-1,3-dithiane, 4-[3,5- Bis(mercaptomethylthio)-7-mercapto-2,6-dithiaheptylthio]-6-mercaptomethylthio-1,3-dithiane, 1,1-bis[4-(6-mercaptomethylthio)-1,3- dithianylthio]-1,3-bis(mercaptomethylthio)propane, 1-[4-(6-mercaptomethylthio)-1,3-dithianylthio]-3-[2,2-bis(mercaptomethylthio)ethyl]-7, 9-bis(mercaptomethylthio)-2,4,6,10-tetrathiaundecane, 1,5-bis[4-(6-mercaptomethylthio)-1,3-dithianylthio]-3-[2-(1, 3-dithietanyl)]methyl-2,4-dithiapentane, 3-[2-(1,3-dithietanyl)]methyl-7,9-bis(mercaptomethylthio)-1,11-dimercapto-2,4,6, 10-tetrathiaundecane, 9-[2-(1,3-dithietanyl)]methyl-3,5,13,15-tetrakis(mercaptomethylthio)-1,17-dimercapto-2,6,8,10,12 , 16-hexathiaheptadecane, 3-[2-(1,3-dithietanyl)]methyl-7,9,13,15-tetrakis(mercaptomethylthio)-1,17-dimercapto-2,4,6,10 , 12,16-hexathiaheptadecane, 3,7-bis[2-(1,3-dithietanyl)]methyl-1,9-dimercapto-2,4,6,8-tetrathianonan and other aliphatic polythiols Compound; 4,6-bis{3-[2-(1,3-dithietanyl)]methyl-5-mercapto-2,4-di Thiapentylthio}-1,3-dithiane, 4,6-bis[4-(6-mercaptomethylthio)-1,3-dithianylthio]-6-[4-(6-mercaptomethylthio)-1,3-dithianylthio ]-1,3-dithiane, 4-[3,4,8,9-tetrakis(mercaptomethylthio)-11-mercapto-2,5,7,10-tetrathiaundecyl]-5-mercaptomethylthio-1, 3-dithiolane, 4,5-bis[3,4-bis(mercaptomethylthio)-6-mercapto-2,5-dithiahexylthio]-1,3-dithiolane, 4-[3,4-bis(mercapto methylthio)-6-mercapto-2,5-dithiahexylthio]-5-mercaptomethylthio-1,3-dithiolane, 4-[3-bis(mercaptomethylthio)methyl-5,6-bis(mercaptomethylthio)- 8-mercapto-2,4,7-trithiaoctyl]-5-mercaptomethylthio-1,3-dithiolane, 2-{bis[3,4-bis(mercaptomethylthio)-6-mercapto-2,5-di Thiahexylthio]methyl}-1,3-dithietane, 2-[3,4-bis(mercaptomethylthio)-6-mercapto-2,5-dithiahexylthio]mercaptomethylthiomethyl-1,3-dithietane, 2 -[3,4,8,9-tetrakis(mercaptomethylthio)-11-mercapto-2,5,7,10-tetrathiaundecylthio]mercaptomethylthiomethyl-1,3-dithietane, 2-[3-bis (Mercaptomethylthio)methyl-5,6-bis(mercaptomethylthio)-8-mercapto-2,4,7-trithiaoctyl]mercaptomethylthiomethyl-1,3-dithiethane, 4,5-bis{1-[2 -(1,3-dithietanyl)]-3-mercapto-2-thiapropylthio}-1,3-dithiolane, 4-{1-[2-(1,3-dithietanyl)]-3-mercapto-2- Thiapropylthio}-5-[1,2-bis(mercaptomethylthio)-4-mercapto-3-thiabutylthio]-1,3-dithiolane, 2-{bis[4-(5-mercaptomethylthio-1,3- Dithiolanyl)thio]methyl}-1,3-dithietane, 4-[4-(5-mercaptomethylthio-1,3-dithiolanyl)thio]-5-{1-[2-(1,3-dithietanyl)]- Polythiol having a cyclic structure such as 3-mercapto-2-thiapropylthio}-1,3-dithiolane compounds are included.

エステル結合を有さないチオール系硬化剤は、疎水性のため、疎水性のタルクとの濡れ性がよく、密着性に優れるため、好ましい。なお、従来のチオール系硬化剤(例えば、SC有機化学製ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)(商品名:PEMP)、SC有機化学製トリメチロールプロパントリス(3-メルカプトプロピオネート)(商品名:TMMP)、昭和電工製ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)(商品名:カレンズMT PE1)等)は、いずれもエステル結合を含み、このエステル結合が加水分解し易いため、耐湿性に劣る場合がある。これに対して、エステル結合を含有していない(B)成分は、耐湿性試験後の強度低下が抑制される。(B)成分中でエステル結合を有する化合物の割合は、(B)成分100質量部中、50質量部以下であることが、好ましい。(B)成分の市販品としては、四国化成工業製チオールグリコールウリル誘導体(商品名:TS-G(化学式(2)に相当、チオール当量:100g/eq)、C3 TS-G(化学式(3)に相当、チオール当量:114g/eq))や、SC有機化学製チオール化合物ペンタエリスリトールトリプロパンチオール(品名:PEPT(一般式(4)においてメルカプトプロピル基が3個のものに相当、チオール当量:124g/eq))が、挙げられる。なお、酸無水物系、アミン系であると、低温硬化が難しく、また、これらの系では、ガラス転移温度(Tg)が高くなる(おおよそ60℃以上)ため、ピール強度が低くなってしまう。(B)成分は、単独でも2種以上を併用してもよい。 A thiol-based curing agent having no ester bond is preferable because it is hydrophobic and has good wettability with hydrophobic talc and excellent adhesion. In addition, conventional thiol-based curing agents (for example, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate) (trade name: PEMP) manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd., trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate) manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd. ( (trade name: TMMP), Showa Denko pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate) (trade name: Karenz MT PE1), etc.) contain an ester bond, which is easily hydrolyzed, resulting in moisture resistance. may be inferior to On the other hand, the (B) component containing no ester bond suppresses the decrease in strength after the moisture resistance test. The ratio of the compound having an ester bond in component (B) is preferably 50 parts by mass or less per 100 parts by mass of component (B). Commercially available products of component (B) include Shikoku Kasei Co., Ltd.'s thiol glycol uril derivative (trade name: TS-G (corresponding to chemical formula (2), thiol equivalent: 100 g / eq), C3 TS-G (chemical formula (3) equivalent to , thiol equivalent: 114 g / eq)) and SC Organic Chemical thiol compound pentaerythritol trippropanethiol (product name: PEPT (corresponding to three mercaptopropyl groups in general formula (4), thiol equivalent: 124 g /eq)). Acid anhydride-based and amine-based adhesives are difficult to cure at low temperatures, and these systems have a high glass transition temperature (Tg) (approximately 60° C. or higher), resulting in low peel strength. Component (B) may be used alone or in combination of two or more.

(C)成分であるタルクは、樹脂組成物に、耐熱性、低熱膨張性、耐衝撃性を付与する。タルクは、ケイ酸塩鉱物に属する鉱物であり、形状は、板状で、アスペクト比が高く、層状構造を有している。鉱物は、特定の方向に割れる性質(劈開性)を有しており、タルクの場合、層間で劈開が起こる。このため、硬化物の破壊は、以下のように起こる。と考えられる。 Talc, which is the component (C), imparts heat resistance, low thermal expansion, and impact resistance to the resin composition. Talc is a mineral belonging to silicate minerals, and has a plate-like shape, a high aspect ratio, and a layered structure. Minerals have the property (cleavability) of cracking in a specific direction, and in the case of talc, cleavage occurs between layers. Therefore, destruction of the cured product occurs as follows. it is conceivable that.

硬化物を落下させ、強制的に破壊する試験終了後の硬化物の破面を観察すると、タルクが5質量部未満と少ない系では、破面が比較的フラットになっており、樹脂の脆性破壊が多いことがわかる。脆性破壊は。破壊が一気に進行した場合に見られるモードであることから、衝撃エネルギーを吸収できない、と考えられる。一方、本発明に係る樹脂組成物の硬化物は、耐落下衝撃性が良好であり、硬化物の破面を観察したところ、破面が非常に粗くなっている。これは、タルクが衝撃を吸収した際に層間で劈開し、この部分が、破壊の進行方向を分岐させ、破壊経路が長くなり、衝撃エネルギーを吸収できたため、耐落下衝撃性が向上した、と推測することができる。なお、本発明ではタルクを使用するため、(B)成分にエステル結合を含まないものを使用することが、好ましい。(B)成分にエステル結合を含む樹脂組成物の硬化物は、エステル結合が加水分解することにより、親水部が発生し、疎水性であるタルクとの密着性が低下しやすくなるからである。本発明において、耐落下衝撃性は、後述の実施例に記載する〈耐落下衝撃性の測定〉における落下高さが、450mm以上であることが好ましく、600mm以上であることがより好ましい。 Observing the fracture surface of the cured product after the test in which the cured product was dropped and forcibly destroyed, the fracture surface was relatively flat in the system with less than 5 parts by mass of talc, indicating brittle fracture of the resin. It can be seen that there are many brittle fracture. Since this mode is seen when the fracture progresses at once, it is considered that the impact energy cannot be absorbed. On the other hand, the cured product of the resin composition according to the present invention has good drop impact resistance, and when the fracture surface of the cured product is observed, the fracture surface is very rough. This is because when the talc absorbs the impact, it cleaves between the layers, and this part diverges the direction of the fracture progress, lengthens the fracture path, and absorbs the impact energy, so the drop impact resistance is improved. can guess. Since talc is used in the present invention, it is preferable to use component (B) that does not contain an ester bond. This is because a cured product of a resin composition containing an ester bond in the component (B) generates a hydrophilic portion due to hydrolysis of the ester bond, and the adhesiveness to the hydrophobic talc tends to decrease. In the present invention, the drop impact resistance is preferably 450 mm or more, more preferably 600 mm or more, in <measurement of drop impact resistance> described in Examples below.

(C)成分であるタルク粉末の形状は、板状、扁平状であると、好ましい。タルク粉末のアスペクト比は、5以上20以下であることが、好ましい。アスペクト比が5未満だと、上述の破壊経路が短くなり、衝撃エネルギーを充分に吸収できないため、耐落下衝撃性が劣る可能性がある。アスペクト比が20を超えると、樹脂組成物中に(C)成分を均一に分散させることが困難になるおそれがある。アスペクト比は、樹脂組成物の硬化物を500~600℃で加熱し、有機物が熱分解した硬化物の残部(灰分)を、走査型電子顕微鏡(SEM)にてタルク粉末50個を観察した際の長径の平均値と、厚さの平均値との比から求めることができる。タルク粉末の平均粒径(面方向の長さ)は、特に限定されないが、1~15μmであることが、樹脂組成物中への(C)成分の分散性、および樹脂組成物の低粘度化の観点から好ましく、1~10μmであることがより好ましい。1μm未満であると、樹脂組成物の粘度が上昇して、樹脂組成物の作業性が悪化するおそれがある。15μm超だと、樹脂組成物中に(C)成分を均一に分散させることが困難になるおそれがある。ここで、(C)成分の平均粒径は、レーザー回折法によって測定した体積基準のメジアン径をいう。他成分の平均粒径も、同様に測定する。市販品としては、松村産業製タルク(品名:5000PJ)等が、挙げられる。(C)成分は、単独でも2種以上を併用してもよい。なお、タルクと同じケイ酸塩鉱物である、〔1〕モンモリロナイトは、不純物濃度が高いため、電子材料として適さない、膨潤しやすい、〔2〕カオリナイトは、不純物濃度が高い、表面の状態が、親水性部と、反対側が疎水性部(シリケート)からなり、親水性部は、樹脂との濡れが悪くなる、〔3〕マイカは、タルクと似た構造(3層:疎水・親水・疎水)であるが、タルクが疎水性部同士の界面から劈開するのに対し、マイカは劈開が親水性層・疎水性層の界面から起こりやすい。このため親水部が界面に現れ樹脂との濡れ性が悪くなる。 The shape of the talc powder as the component (C) is preferably plate-like or flat. The aspect ratio of the talc powder is preferably 5 or more and 20 or less. If the aspect ratio is less than 5, the above-mentioned breaking path will be short, and the impact energy cannot be sufficiently absorbed, which may result in poor drop impact resistance. If the aspect ratio exceeds 20, it may become difficult to uniformly disperse the component (C) in the resin composition. The aspect ratio is obtained by heating the cured product of the resin composition at 500 to 600 ° C., and observing the remainder (ash) of the cured product after thermal decomposition of the organic matter with a scanning electron microscope (SEM) on 50 pieces of talc powder. It can be obtained from the ratio of the average value of the major axis and the average value of the thickness. The average particle diameter (length in the plane direction) of the talc powder is not particularly limited, but it is preferable that it is 1 to 15 μm, which is useful for dispersibility of component (C) in the resin composition and low viscosity of the resin composition. from the viewpoint of, more preferably 1 to 10 μm. If it is less than 1 μm, the viscosity of the resin composition may increase and the workability of the resin composition may deteriorate. If it exceeds 15 μm, it may be difficult to uniformly disperse the component (C) in the resin composition. Here, the average particle diameter of the component (C) refers to the volume-based median diameter measured by the laser diffraction method. The average particle diameters of other components are also measured in the same manner. Commercially available products include talc manufactured by Matsumura Sangyo (product name: 5000PJ). Component (C) may be used alone or in combination of two or more. Note that [1] montmorillonite, which is a silicate mineral similar to talc, is not suitable as an electronic material because of its high impurity concentration and tends to swell, and [2] kaolinite has a high impurity concentration and a poor surface condition. , The hydrophilic part and the opposite side consist of a hydrophobic part (silicate), and the hydrophilic part has poor wettability with the resin. [3] Mica has a structure similar to talc (three layers: hydrophobic, hydrophilic, hydrophobic ), whereas talc is cleaved from the interface between the hydrophobic portions, mica is more likely to be cleaved from the interface between the hydrophilic layer and the hydrophobic layer. As a result, the hydrophilic portion appears at the interface, and the wettability with the resin deteriorates.

(A)成分は、樹脂組成物100質量部に対して、10~70質量部であると、樹脂組成物の粘度の観点から好ましい。 Component (A) is preferably 10 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition from the viewpoint of the viscosity of the resin composition.

(B)成分のチオール当量は、(A)成分のエポキシ1当量に対して、0.5~2.5当量であると好ましく、0.6~1.8当量であるとより好ましい。(B)成分のチオール当量は、(B)成分の分子量を1分子中のチオール基の数で割った数になる。(B)成分のチオール当量と(A)成分のエポキシ当量を上述の範囲内にすることにより、硬化後の樹脂組成物の硬度不足および靭性不足を防ぐことが可能となる。 The thiol equivalent of component (B) is preferably 0.5 to 2.5 equivalents, more preferably 0.6 to 1.8 equivalents, relative to 1 equivalent of epoxy component (A). The thiol equivalent of component (B) is the number obtained by dividing the molecular weight of component (B) by the number of thiol groups in one molecule. By setting the thiol equivalent weight of component (B) and the epoxy equivalent weight of component (A) within the ranges described above, it is possible to prevent insufficient hardness and insufficient toughness of the cured resin composition.

(C)成分は、樹脂組成物100質量部に対して、5~20質量部であり、好ましくは5~15質量部である。(C)成分が、5質量部未満であると、耐落下衝撃性が低下してしまう。また、耐落下衝撃性の観点からは、(C)成分は15質量部であれば効果があり、15質量部超であってもその効果は変わらないが、(C)成分が多くなるにつれ樹脂組成物の粘度が高くなる、経時変化に伴いチクソ性(揺変指数)が変化しやすくなる、といった問題が起こり、作業性が悪化し、実用性に乏しくなる。これは、(C)の形状が、板状や扁平状であることが原因である。このため、(C)成分は20質量部以下であり、好ましくは15質量以下である。 Component (C) is 5 to 20 parts by mass, preferably 5 to 15 parts by mass, per 100 parts by mass of the resin composition. If the component (C) is less than 5 parts by mass, the drop impact resistance will decrease. Also, from the viewpoint of drop impact resistance, component (C) is effective if it is 15 parts by mass, and the effect does not change even if it exceeds 15 parts by mass, but as component (C) increases, resin Problems such as the viscosity of the composition increasing and the thixotropy (thixotropic index) tending to change over time occur, resulting in poor workability and poor practicality. This is because the shape of (C) is plate-like or flat. Therefore, component (C) is 20 parts by mass or less, preferably 15 parts by mass or less.

樹脂組成物は、さらに、(D)炭酸カルシウムおよび/またはシリカを含むと、耐落下衝撃性向上の観点から、好ましい。粒子形状・特性の異なるフィラーを混練すると、単独でフィラーを分散するより、分散性が向上する場合がある。炭酸カルシウムおよび/またはシリカを併用することにより、樹脂組成物中のフィラーの分散状態が、タルク単独より均一になり、耐落下衝撃性が向上しやすくなる、と考えられる。耐湿性の観点から、(D)成分は、炭酸カルシウムであることが好ましい。なお、(D)成分として、炭酸カルシウムを含むときは、シリカを含む場合に比べ、耐湿試験(温度:85℃、湿度:85%、100時間)後のシェア強度が、著しく高くなる。これは、炭酸カルシウムが親水性であるため、(B)成分にエステル結合を含まないときの樹脂組成物の硬化物には、親水部が発生しないので、シェア強度試験時に、硬化物内に凝集破壊の起点ができやすいためである、と考えられる。これに対し、シリカは、炭酸カルシウムに比べて疎水性のため、樹脂との濡れ性が良好であり、シェア強度試験時に、被着体と硬化物との間で界面剥離が生じやすく、耐湿試験後のシェア強度が低くなる、と考えられる。市販の炭酸カルシウム粉末としては、宇部マテリアルズ製炭酸カルシウム粉末(品名:CS4ND)が、挙げられる。 It is preferable that the resin composition further contains (D) calcium carbonate and/or silica from the viewpoint of improving drop impact resistance. Mixing fillers with different particle shapes and properties may improve the dispersibility compared to dispersing the fillers alone. It is believed that the joint use of calcium carbonate and/or silica makes the dispersion state of the filler in the resin composition more uniform than that of talc alone, making it easier to improve drop impact resistance. From the viewpoint of moisture resistance, the component (D) is preferably calcium carbonate. When calcium carbonate is included as the component (D), the shear strength after a moisture resistance test (temperature: 85°C, humidity: 85%, 100 hours) is remarkably higher than when silica is included. This is because calcium carbonate is hydrophilic, and hydrophilic moieties do not occur in the cured product of the resin composition when component (B) does not contain an ester bond. It is considered that this is because the starting point of destruction is likely to be formed. On the other hand, silica is more hydrophobic than calcium carbonate, so it has good wettability with resin, and interfacial peeling easily occurs between the adherend and the cured product during the shear strength test. It is considered that the later shear strength becomes lower. Examples of commercially available calcium carbonate powder include calcium carbonate powder manufactured by Ube Materials (product name: CS4ND).

シリカ粉末としては、コロイダルシリカ、疎水性シリカ、微細シリカ、ナノシリカ等が、挙げられる。なお、シリカの添加により、硬化後の樹脂組成物の吸湿試験後のシェア強度が低下する場合があるので、注意を要する。 Examples of silica powder include colloidal silica, hydrophobic silica, fine silica, nanosilica, and the like. Note that the addition of silica may reduce the shear strength of the cured resin composition after a moisture absorption test, so caution is required.

(D)成分の平均粒径は、特に限定されないが、0.1~15μmであることが、樹脂組成物中への(D)成分の分散性、および樹脂組成物の低粘度化の観点から、好ましい。0.1μm未満だと、樹脂組成物の粘度が上昇して、樹脂組成物の作業性が悪化するおそれがある。15μm超だと、樹脂組成物中に(D)成分を均一に分散させることが困難になるおそれがある。市販の炭酸カルシウム粉末としては、(宇部マテリアルズ)製炭酸カルシウム粉末(品名:CS4ND、平均粒径:12μm)が、挙げられる。市販のシリカ粉末(シリカフィラー)としては、アドマテックス製シリカ(製品名:SO-E2、平均粒径:0.5μm)、龍森製シリカ(製品名:MP-8FS、平均粒径:0.7μm)、DENKA製シリカ(品名:FB-5D、平均粒径:5μm)等が挙げられる。(D)成分は、単独でも2種以上を併用してもよい。 The average particle size of component (D) is not particularly limited, but it is preferable that it is 0.1 to 15 μm from the viewpoint of dispersibility of component (D) in the resin composition and low viscosity of the resin composition. ,preferable. If it is less than 0.1 μm, the viscosity of the resin composition may increase and the workability of the resin composition may deteriorate. If it exceeds 15 μm, it may be difficult to uniformly disperse the component (D) in the resin composition. Examples of commercially available calcium carbonate powder include calcium carbonate powder (product name: CS4ND, average particle size: 12 μm) manufactured by Ube Materials. Commercially available silica powder (silica filler) includes Admatechs silica (product name: SO-E2, average particle size: 0.5 μm), Tatsumori silica (product name: MP-8FS, average particle size: 0.5 μm). 7 μm), DENKA silica (product name: FB-5D, average particle size: 5 μm), and the like. Component (D) may be used alone or in combination of two or more.

(C)成分と(D)成分との合計は、樹脂組成物100質量部に対して、5~40質量部であると、好ましい。(C)成分と(D)成分との合計が、5質量部未満だと、本発明の範囲外となり、硬化物の耐落下衝撃性が劣る。40質量部を超えると、樹脂組成物の粘度が高くなりやすく、硬化物のピール強度、耐落下衝撃性が低下し易くなる。 The total amount of component (C) and component (D) is preferably 5 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition. If the total amount of component (C) and component (D) is less than 5 parts by mass, it falls outside the scope of the present invention and the drop impact resistance of the cured product is poor. If it exceeds 40 parts by mass, the viscosity of the resin composition tends to increase, and the peel strength and drop impact resistance of the cured product tend to decrease.

樹脂組成物には、硬化促進剤の他、本発明の目的を損なわない範囲で、更に必要に応じ、安定化剤、(C)成分や(D)成分以外のフィラー(例えば、アルミナ)、安定化剤(例えば、有機酸、ホウ酸エステル、金属キレート)、カーボンブラック、チタンブラック、シランカップリング剤、イオントラップ剤、レベリング剤、酸化防止剤、消泡剤、搖変剤、その他の添加剤等を配合させることができる。また、樹脂組成物に、粘度調整剤、難燃剤、または溶剤等を配合させてもよい。 In addition to the curing accelerator, the resin composition may further contain stabilizers, fillers other than components (C) and (D) (e.g., alumina), and stabilizers, as long as the objects of the present invention are not impaired. agents (e.g. organic acids, borate esters, metal chelates), carbon black, titanium black, silane coupling agents, ion trapping agents, leveling agents, antioxidants, antifoaming agents, stabilizing agents, other additives etc. can be blended. Further, the resin composition may be blended with a viscosity modifier, a flame retardant, a solvent, or the like.

硬化促進剤としては、潜在性硬化剤が好ましい。潜在性硬化促進剤とは、室温では不活性の状態で、加熱することにより活性化して、硬化促進剤として機能する化合物であり、例えば、常温で固体のイミダゾール化合物;アミン化合物とエポキシ化合物との反応生成物(アミン-エポキシアダクト系)等の固体分散型アミンアダクト系潜在性硬化促進剤;アミン化合物とイソシアネート化合物または尿素化合物との反応生成物(尿素型アダクト系)等が、挙げられる。硬化促進剤は、(B)成分と組み合わせて、樹脂組成物を低温速硬化させることが、できる。 A latent curing agent is preferred as the curing accelerator. The latent curing accelerator is a compound that is inactive at room temperature and activated by heating to function as a curing accelerator. For example, an imidazole compound that is solid at room temperature; solid-dispersed amine adduct-based latent curing accelerators such as reaction products (amine-epoxy adduct); reaction products of amine compounds with isocyanate compounds or urea compounds (urea-type adducts); The curing accelerator can be combined with the component (B) to rapidly cure the resin composition at a low temperature.

樹脂組成物は、例えば、(A)成分~(C)成分およびその他添加剤等を同時にまたは別々に、必要により加熱処理を加えながら、撹拌、溶融、混合、分散させることにより得ることができる。これらの混合、撹拌、分散等の装置としては、特に限定されるものではないが、撹拌、加熱装置を備えたライカイ機、ヘンシェルミキサー、3本ロールミル、ボールミル、プラネタリーミキサー、ビーズミル等を使用することができる。また、これら装置を適宜組み合わせて使用してもよい。 The resin composition can be obtained, for example, by stirring, melting, mixing, and dispersing components (A) to (C) and other additives simultaneously or separately while optionally applying heat treatment. Equipment for mixing, stirring, dispersing, etc. is not particularly limited, but a Raikai machine equipped with a stirring and heating device, a Henschel mixer, a three-roll mill, a ball mill, a planetary mixer, a bead mill, or the like is used. be able to. Also, these devices may be used in combination as appropriate.

このようにして得られた樹脂組成物は、熱硬化性である。樹脂組成物の熱硬化は、60~90℃で、30~120分が好ましい。 The resin composition thus obtained is thermosetting. Thermal curing of the resin composition is preferably carried out at 60 to 90° C. for 30 to 120 minutes.

上述のように、ピール強度の観点からは樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度(Tg)は、25℃~50℃であると、好ましい。ただし、高ピール強度を求められない用途もあるので、本発明の範囲は、このTgに限られない。 As described above, from the viewpoint of peel strength, the glass transition temperature (Tg) of the cured product of the resin composition is preferably 25°C to 50°C. However, since there are applications where high peel strength is not required, the scope of the present invention is not limited to this Tg.

〔樹脂組成物の硬化物〕
本発明の樹脂組成物の硬化物は、(A)エポキシ樹脂、
(B)チオール系硬化剤、および
(C)タルク
を含み、
(C)成分が、樹脂組成物100質量部に対して、5~20質量部であることを特徴とする。
[Cured product of resin composition]
The cured product of the resin composition of the present invention comprises (A) an epoxy resin,
(B) a thiol-based curing agent, and (C) talc,
Component (C) is characterized by being 5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.

(A)成分、(B)成分、(C)成分については、上述のとおりであり、(D)成分やその他の成分を加えてよいことも、上述のとおりである。 Components (A), (B), and (C) are as described above, and it is also as described above that component (D) and other components may be added.

〔半導体装置、電子部品〕
本発明の半導体装置は、上述の樹脂組成物の硬化物を含むため、耐落下衝撃性に優れ、信頼性の高いものである。
[Semiconductor devices, electronic components]
Since the semiconductor device of the present invention contains the cured product of the resin composition described above, it has excellent drop impact resistance and high reliability.

本発明の電子部品は、上述の硬化物、または上述の半導体装置を含むため、耐落下衝撃性に優れ、信頼性の高いものである。 Since the electronic component of the present invention contains the above-described cured product or the above-described semiconductor device, it has excellent drop impact resistance and high reliability.

以下、本発明について、実施例により説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下の実施例において、部、%はことわりのない限り、質量部、質量%を示す。 EXAMPLES The present invention will be described below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. In addition, in the following examples, parts and % indicate parts by weight and % by weight unless otherwise specified.

(A)成分のシロキサン骨格エポキシ樹脂には、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製シロキサン骨格エポキシ樹脂(品名:TSL9906、エポキシ当量:181g/eq)を、
(A)成分のビスフェノールF型エポキシ樹脂には、新日鉄住金化学製ビスフェノールF型エポキシ樹脂(品名:YDF8170、エポキシ当量:158g/eq)を、
(B)成分のチオール1(C3 TS-G)には、四国化成工業製グリコールウリル誘導体(品名:C3 TS-G、チオール当量:114g/eq)を、
(B)成分のチオール2(PEMP)には、SC有機化学製ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)(商品名:PEMP、チオール当量:128g/eq)を、
(B)成分のチオール3(PEPT)には、SC有機化学製ペンタエリスリトールトリプロパンチオール(商品名:PEPT、チオール当量:124g/eq)を、
(B’)成分の酸無水物には、日立化成製酸無水物(品名:HN5500、酸無水当量:168g/eq)を、
(B’)成分のアミンには、日本化薬製アミン(品名:カヤハードAA、アミン当量:64g/eq)を、
(C)成分のタルクには、松村産業製タルク(品名:5000PJ、平均粒径:4μm)を、
(C’)成分のマイカには、ヤマグチマイカ製マイカ(品名:SJ-005、平均粒径:5μm)を、
(C’)成分の硫酸バリウムには、堺化学製硫酸バリウム(品名:H、平均粒径:8μm)を、
(D)成分の炭酸カルシウムには、宇部マテリアルズ製炭酸カルシウム(品名:CS4ND、平均粒径:12μm)を、シリカには、アドマテックス製シリカ(品名:SO-E2、平均粒径:0.5μm)を、
その他成分の硬化促進剤(ノバキュア)には、旭化成イーマテリアルズ製潜在性硬化剤(品名:HXA9322HP、2/3(質量比)が、ビスフェノールA型/F型混合エポキシ樹脂(エポキシ当量:180g/eq)の潜在性硬化剤、エポキシ当量:180×3/2g/eq)を、
使用した。
(A) Component siloxane skeleton epoxy resin is a siloxane skeleton epoxy resin (product name: TSL9906, epoxy equivalent: 181 g / eq) manufactured by Momentive Performance Materials Japan LLC.
For the bisphenol F type epoxy resin of component (A), Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. bisphenol F type epoxy resin (product name: YDF8170, epoxy equivalent: 158 g / eq),
(B) Component thiol 1 (C3 TS-G) is a glycoluril derivative manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd. (product name: C3 TS-G, thiol equivalent: 114 g / eq),
For the thiol 2 (PEMP) of component (B), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate) manufactured by SC Organic Chemical (trade name: PEMP, thiol equivalent: 128 g/eq),
(B) component thiol 3 (PEPT) is pentaerythritol trippropanethiol (trade name: PEPT, thiol equivalent: 124 g/eq) manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd.;
For the acid anhydride of the component (B'), Hitachi Chemical acid anhydride (product name: HN5500, acid anhydride equivalent: 168 g/eq),
(B') The amine of the component is Nippon Kayaku's amine (product name: Kayahard AA, amine equivalent: 64 g / eq),
The talc of the component (C) is Matsumura Sangyo talc (product name: 5000PJ, average particle size: 4 μm),
(C') Component mica is Yamaguchi Mica mica (product name: SJ-005, average particle size: 5 μm),
(C') Barium sulfate of the component is barium sulfate manufactured by Sakai Chemical (product name: H, average particle size: 8 μm),
Calcium carbonate (product name: CS4ND, average particle size: 12 μm) manufactured by Ube Materials was used as the component (D) calcium carbonate, and silica manufactured by Admatechs (product name: SO-E2, average particle size: 0.1 μm) was used as silica. 5 μm),
The curing accelerator (Novacure) of other components includes a latent curing agent manufactured by Asahi Kasei E-Materials (product name: HXA9322HP, 2/3 (mass ratio), bisphenol A type / F type mixed epoxy resin (epoxy equivalent: 180 g / eq) latent curing agent, epoxy equivalent weight: 180 x 3/2 g/eq),
used.

〔実施例1~12、比較例1~8〕
表1~3に示す配合で、原料を混合した後、室温で3本ロールミルを用いて分散し、実施例1~12、比較例1~8の樹脂組成物を作製した。
[Examples 1 to 12, Comparative Examples 1 to 8]
After mixing raw materials according to the formulations shown in Tables 1 to 3, the mixture was dispersed using a three-roll mill at room temperature to prepare resin compositions of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 8.

〈シェア強度の測定〉
《シェア強度の測定に用いた部材》
・部材1:SUS基板
・部品2:アルミナチップ サイズ3mm×1.5mm×0.5mm
<Measurement of shear strength>
<<Members used for measuring shear strength>>
・Part 1: SUS substrate ・Part 2: Alumina chip Size 3mm x 1.5mm x 0.5mm

《シェア強度の測定方法》
(i)SUS基板の上に、調製した樹脂組成物(試料)を接着剤として塗布した。塗布サイズは、3mm×1.5mm×0.06mmとした。
(ii)塗布した試料の上にアルミナチップを載置して、試験片とした。
(iii)試験片を、80℃に加熱したオーブンに投入し、試料を30分間加熱硬化させた。
ただし、比較例7は、150℃60分間、加熱硬化させた。比較例8は、150℃120分間加熱硬化させた。
(iv)試料を加熱硬化させた後、オーブンから試験片を取り出し、万能型ボンドテスター(Dage社製)を用いて、室温で、シェア強度を測定した。
また、吸湿試験後のシェア強度は、試験片を、温度85℃、湿度(RH)85%にて100時間放置した後、室温でシェア強度を測定した。表1~3に、結果を示す。
<<Method for measuring shear strength>>
(i) The prepared resin composition (sample) was applied as an adhesive onto a SUS substrate. The application size was 3 mm×1.5 mm×0.06 mm.
(ii) An alumina chip was placed on the coated sample to obtain a test piece.
(iii) The test piece was placed in an oven heated to 80° C., and the sample was cured by heating for 30 minutes.
However, Comparative Example 7 was cured by heating at 150° C. for 60 minutes. Comparative Example 8 was cured by heating at 150° C. for 120 minutes.
(iv) After heat curing the sample, the test piece was taken out from the oven and the shear strength was measured at room temperature using a universal bond tester (manufactured by Dage).
The shear strength after the moisture absorption test was measured at room temperature after leaving the test piece at a temperature of 85° C. and a humidity (RH) of 85% for 100 hours. Tables 1-3 show the results.

〈ピール強度の測定〉
《ピール強度の測定に用いた部材》
・部材1:SUS基板
・部品2:SUSリボン、サイズ:5mm×15mm×0.02mm
<Measurement of peel strength>
<<Members used to measure peel strength>>
・Member 1: SUS substrate ・Part 2: SUS ribbon, size: 5 mm × 15 mm × 0.02 mm

《ピール強度の測定方法》
(i)SUS基板の上に調製した樹脂組成物(試料)を接着剤として塗布した。塗布サイズは、幅:5mm×長さ:15mm×厚さ:0.1mmとした。
(ii)塗布した試料の上に、SUSリボンを載置して、試験片とした。
(iii)試験片を、80℃に加熱したオーブンに投入し、試料を30分間加熱硬化させた。
ただし、比較例7は、150℃60分間加熱硬化させた。比較例8は、150℃120分間加熱硬化させた。
(iv)試料を加熱硬化させた後、オーブンから試験片を取り出し、室温で引張圧縮試験機(ミネベア社製)を用いてピール強度を測定した。ピール強度は1N/mm以上であることが好ましく、5N/mm以上であることがより好ましい。表1~3に、結果を示す。
<<Method for measuring peel strength>>
(i) The prepared resin composition (sample) was applied as an adhesive onto a SUS substrate. The coating size was width: 5 mm x length: 15 mm x thickness: 0.1 mm.
(ii) A SUS ribbon was placed on the coated sample to obtain a test piece.
(iii) The test piece was placed in an oven heated to 80° C., and the sample was cured by heating for 30 minutes.
However, Comparative Example 7 was cured by heating at 150° C. for 60 minutes. Comparative Example 8 was cured by heating at 150° C. for 120 minutes.
(iv) After heat curing the sample, the test piece was taken out from the oven and peel strength was measured at room temperature using a tensile compression tester (manufactured by Minebea Co., Ltd.). The peel strength is preferably 1 N/mm or more, more preferably 5 N/mm or more. Tables 1-3 show the results.

〈耐落下衝撃性の測定〉
《耐落下衝撃試験の測定に用いた部材》
・部材1:SUS基板
・部品2:Niコートブロック、サイズ:幅:9mm×長さ:9mm×厚さ:4mm
<Measurement of drop impact resistance>
<<Members used for measurement of drop impact resistance test>>
・Member 1: SUS substrate ・Part 2: Ni-coated block, size: width: 9 mm x length: 9 mm x thickness: 4 mm

《耐落下衝撃試験の測定方法》
(i)SUS基板の上に、調製した樹脂組成物(試料)を接着剤として塗布した。塗布サイズは、幅:9mm×長さ:9mm×厚さ:0.3mmとした。
(ii)塗布した試料の上に、Niコートブロックを載置して、試験片とした。
(iii)試験片を、80℃に加熱したオーブンに投入し、試料を30分間加熱硬化させた。
ただし、比較例7は、150℃60分間加熱硬化させた。比較例8は、150℃120分間加熱硬化させた。
(iv)試料を加熱硬化させた後、オーブンから試験片を取り出し、室温で落下衝撃試験機(日立テクノロジー&サービス社製)を用いて、NiコートブロックがSUS板から剥離する高さを、落下高さとした。落下高さは、200mmから始め、500mmまでは100mm毎に高さを上げていき、500mm以上は50mmずつ高さを上げて、試験を行った。なお、落下回数は、各高さで5回行い、剥離しなければ、次の高さで試験を行った。試験は、2サンプルで行った(N=2)。耐落下衝撃性は、450mm以上であることが好ましい。表1~3に、結果を示す。なお、表には、2サンプルの平均値の3桁目を四捨五入した数値を記載している。
<<Measuring method of drop impact resistance test>>
(i) The prepared resin composition (sample) was applied as an adhesive onto a SUS substrate. The coating size was width: 9 mm x length: 9 mm x thickness: 0.3 mm.
(ii) A Ni-coated block was placed on the coated sample to obtain a test piece.
(iii) The test piece was placed in an oven heated to 80° C., and the sample was cured by heating for 30 minutes.
However, Comparative Example 7 was cured by heating at 150° C. for 60 minutes. Comparative Example 8 was cured by heating at 150° C. for 120 minutes.
(iv) After heating and curing the sample, remove the test piece from the oven and use a drop impact tester (manufactured by Hitachi Technology & Service Co., Ltd.) at room temperature to drop the Ni-coated block from the SUS plate. height. The drop height was started from 200 mm, increased by 100 mm up to 500 mm, and increased by 50 mm from 500 mm to perform the test. In addition, the number of drops was five times at each height, and if no peeling occurred, the test was performed at the next height. Two samples were tested (N=2). The drop impact resistance is preferably 450 mm or more. Tables 1-3 show the results. In addition, in the table, the numerical value obtained by rounding the average value of two samples to the third digit is described.

〈ガラス転移温度(Tg)の測定〉
作製した樹脂組成物のガラス転移温度(Tg)を、動的粘弾性測定(DMA)を用いて、測定した。表面に離型剤を施したガラス板に、加熱硬化後の膜厚が250±100μmとなるように、樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、80℃で30分間加熱硬化させた。室温でこの塗膜をガラス板から剥がした後、カッターで所定寸法(5mm×40mm)に切り取った。なお、切り口はサンドペーパーで、滑らかに仕上げた。この塗膜を、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製DMS6100を用いて、測定を行った(昇温速度:3℃/min、測定範囲:-40~220℃)。tanδのピーク温度を読み取り、Tgとした。表1~3に、結果を示す。
<Measurement of glass transition temperature (Tg)>
The glass transition temperature (Tg) of the prepared resin composition was measured using dynamic viscoelasticity measurement (DMA). A coating film was formed by coating a resin composition on a glass plate having a release agent applied to the surface so that the film thickness after heat curing was 250±100 μm, and heat curing was performed at 80° C. for 30 minutes. After peeling off this coating film from the glass plate at room temperature, it was cut into a predetermined size (5 mm×40 mm) with a cutter. The cut end was smoothed with sandpaper. This coating film was measured using DMS6100 manufactured by SII Nanotechnology Co., Ltd. (heating rate: 3° C./min, measurement range: −40 to 220° C.). The peak temperature of tan δ was read and taken as Tg. Tables 1-3 show the results.

Figure 0007166245000005
Figure 0007166245000005

Figure 0007166245000006
Figure 0007166245000006

Figure 0007166245000007
Figure 0007166245000007

表1~3からわかるように、(A)~(C)成分を含む樹脂組成物を用いた実施例1~12のすべてで、シェア強度、耐落下衝撃性が、良好であった。さらに、実施例1~9,11,12では、ピール強度が、高かった。なお、表1には、記載していないが、実施例5の耐湿試験(温度:85℃、湿度:85%、100時間)後のシェア強度は、100Nであり、実施例7のシェア強度は、30Nであり、実施例5の方が、高かった。また、(B)成分としてエステル結合を有するチオール化合物のみを使用した実施例12の耐湿試験後のシェア強度が、10Nであったのに対し、実施例1の耐湿試験後のシェア強度は60Nであり、実施例11の耐湿試験後のシェア強度は50Nであり、耐湿試験後にも、シェア強度が高かった。これに対して、(C)成分が少なすぎる比較例1は、耐落下衝撃性が悪かった。(C)成分が多すぎる比較例2は、揺変指数の経時変化率が大きすぎて実用性に乏しいと判断し、評価を行わなかった(表には記載してないが、24時間後の揺変指数の変化率が、50%であった)。(C)成分の代わりに、マイカを使用した比較例3は、ピール強度が低く、耐落下衝撃性も悪かった。(C)成分の代わりに、硫酸バリウムを使用した比較例4、(C)成分を使用せずに、(D)炭酸カルシウムを使用した比較例5は、耐落下衝撃性が悪かった。(C)成分を使用せずに、(D)シリカを使用した比較例6、(B)成分の代わりに、酸無水物を使用した比較例7、(B)成分の代わりに、アミンを使用した比較例8は、ピール強度が低く、硬化温度が高く、内部応力が大きい影響のためであるか耐落下衝撃性も悪かった。 As can be seen from Tables 1 to 3, all of Examples 1 to 12 using resin compositions containing components (A) to (C) exhibited good shear strength and drop impact resistance. Furthermore, in Examples 1 to 9, 11 and 12, the peel strength was high. Although not shown in Table 1, the shear strength after the moisture resistance test (temperature: 85 ° C., humidity: 85%, 100 hours) of Example 5 was 100 N, and the shear strength of Example 7 was , 30N, and Example 5 was higher. Further, the shear strength after the moisture resistance test of Example 12 using only a thiol compound having an ester bond as the component (B) was 10 N, while the shear strength after the moisture resistance test of Example 1 was 60 N. The shear strength of Example 11 after the moisture resistance test was 50 N, and the shear strength was high even after the moisture resistance test. On the other hand, Comparative Example 1, which contained too little component (C), had poor drop impact resistance. In Comparative Example 2, which contained too much component (C), the rate of change over time in the thixotropic index was too large, and was judged to be impractical. The rate of change of the thixotropic index was 50%). Comparative Example 3, in which mica was used instead of component (C), had low peel strength and poor drop impact resistance. Comparative Example 4 in which barium sulfate was used instead of component (C) and Comparative Example 5 in which calcium carbonate (D) was used without component (C) had poor drop impact resistance. Comparative Example 6 using (D) silica without using component (C), Comparative Example 7 using acid anhydride instead of component (B), using amine instead of component (B) In Comparative Example 8, the peel strength was low, the curing temperature was high, and the drop impact resistance was poor, possibly due to the effects of high internal stress.

本発明の樹脂組成物は、短時間での硬化が可能であり、硬化後の耐落下衝撃性に優れ、非常に有用である。また、この樹脂組成物の硬化物を含む半導体装置、電子部品は、耐落下衝撃性に優れ、高信頼性である。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The resin composition of the present invention is very useful because it can be cured in a short period of time and has excellent drop impact resistance after curing. In addition, semiconductor devices and electronic components containing the cured product of this resin composition are excellent in drop impact resistance and highly reliable.

Claims (8)

(A)エポキシ樹脂、
(B)一般式(1):
Figure 0007166245000008
(式中、R 、およびR は、それぞれ独立して、水素、炭素数1~10のアルキル基、またはフェニル基であり、nは、0~10の整数である)で表されるチオール化合物、
一般式(4):
Figure 0007166245000009
(式中、R 、R 、R およびR は、それぞれ独立して、水素またはC 2n SH(nは2~6)であり、かつR 、R 、R およびR の少なくとも1つは、C 2n SH(nは2~6)である)で表されるチオール化合物、および
分子中にエステル結合を有さず、分子内にスルフィド結合を2つ以上有する3官能以上のポリチオール化合物
からなる群より選択されるものを含み、エステル結合を有しないチオール系硬化剤、および
(C)タルク
を含み、
(C)成分が、樹脂組成物100質量部に対して、5~20質量部であることを特徴とする、電子部品用樹脂組成物。
但し、(B)成分が、下記式で示される構造を基本骨格とするオリゴマー:
Figure 0007166245000010
および1,3-ジメルカプトプロパンを除く。
(A) an epoxy resin,
(B) General formula (1):
Figure 0007166245000008
(Wherein, R 1 and R 2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a phenyl group, and n is an integer of 0 to 10) Compound,
General formula (4):
Figure 0007166245000009
(wherein R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are each independently hydrogen or C n H 2n SH (n is 2 to 6), and R 3 , R 4 , R 5 and R at least one of 6 is a thiol compound represented by C n H 2n SH (n is 2 to 6 ) ; and
Trifunctional or higher polythiol compound having two or more sulfide bonds in the molecule and no ester bond in the molecule
A thiol-based curing agent that does not have an ester bond, and (C) talc, including those selected from the group consisting of
A resin composition for electronic parts, wherein component (C) is 5 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of the resin composition.
However, the component (B) is an oligomer having a basic skeleton having a structure represented by the following formula:
Figure 0007166245000010
and 1,3-dimercaptopropane.
さらに、(D)炭酸カルシウムおよび/またはシリカを含み、(C)成分と(D)成分との合計が、樹脂組成物100質量部に対して、5~40質量部である、請求項1記載の電子部品用樹脂組成物。 Further, (D) contains calcium carbonate and/or silica, and the total amount of components (C) and (D) is 5 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition. The resin composition for electronic parts described above. 樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度(Tg)が、25℃~50℃である、請求項1または2記載の電子部品用樹脂組成物。 3. The resin composition for electronic parts according to claim 1 , wherein a cured product of the resin composition has a glass transition temperature (Tg) of 25.degree. C. to 50.degree. (B)成分が、化学式(3)で表されるチオール化合物および一般式(4)で表される分子中にエステル結合を有しないチオール化合物からなる群より選択されるものを含む、請求項1~のいずれか1項記載の電子部品用樹脂組成物。
Figure 0007166245000011
Claim 1, wherein the component (B) is selected from the group consisting of a thiol compound represented by the chemical formula (3) and a thiol compound having no ester bond in the molecule represented by the general formula (4). 4. The resin composition for electronic parts according to any one of 1 to 3 .
Figure 0007166245000011
請求項1~のいずれか1項記載の電子部品用樹脂組成物を含む、電子部品用接着剤。 An adhesive for electronic parts, comprising the resin composition for electronic parts according to any one of claims 1 to 4 . (A)エポキシ樹脂、
(B)一般式(1):
Figure 0007166245000012
(式中、R 、およびR は、それぞれ独立して、水素、炭素数1~10のアルキル基、またはフェニル基であり、nは、0~10の整数である)で表されるチオール化合物、
一般式(4):
Figure 0007166245000013
(式中、R 、R 、R およびR は、それぞれ独立して、水素またはC 2n SH(nは2~6)であり、かつR 、R 、R およびR の少なくとも1つは、C 2n SH(nは2~6)である)で表されるチオール化合物、および
分子中にエステル結合を有さず、分子内にスルフィド結合を2つ以上有する3官能以上のポリチオール化合物
からなる群より選択されるものを含み、エステル結合を有しないチオール系硬化剤、および
(C)タルク
を含み、
(C)成分が、樹脂組成物100質量部に対して、5~20質量部であることを特徴とする、電子部品用樹脂組成物の硬化物。
但し、(B)成分が、下記式で示される構造を基本骨格とするオリゴマー:
Figure 0007166245000014
および1,3-ジメルカプトプロパンを除く。
(A) an epoxy resin,
(B) General formula (1):
Figure 0007166245000012
(Wherein, R 1 and R 2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a phenyl group, and n is an integer of 0 to 10) Compound,
General formula (4):
Figure 0007166245000013
(wherein R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are each independently hydrogen or C n H 2n SH (n is 2 to 6), and R 3 , R 4 , R 5 and R at least one of 6 is a thiol compound represented by C n H 2n SH (n is 2 to 6 ) ; and
Trifunctional or higher polythiol compound having two or more sulfide bonds in the molecule and no ester bond in the molecule
A thiol-based curing agent that does not have an ester bond, and (C) talc, including those selected from the group consisting of
A cured product of a resin composition for electronic parts, wherein the component (C) is 5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.
However, the component (B) is an oligomer having a basic skeleton having a structure represented by the following formula:
Figure 0007166245000014
and 1,3-dimercaptopropane.
請求項記載の硬化物を含む、半導体装置。 A semiconductor device comprising the cured product according to claim 6 . 請求項記載の硬化物、または記載の半導体装置を含む、電子部品。 An electronic component comprising the cured product according to claim 6 or the semiconductor device according to claim 7 .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7217865B2 (en) * 2018-02-22 2023-02-06 味の素株式会社 Wafer level package encapsulation resin composition
JP6603004B1 (en) * 2019-08-21 2019-11-06 ナミックス株式会社 Epoxy resin composition
JP2021113263A (en) * 2020-01-17 2021-08-05 キヤノン株式会社 Epoxy resin composition
JP7394011B2 (en) 2020-04-17 2023-12-07 パナソニックホールディングス株式会社 Photocurable resin composition and liquid crystal display device using the same

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000046317A1 (en) 1999-02-08 2000-08-10 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Resin compositions
US20050032938A1 (en) 2003-08-04 2005-02-10 Flint Theodore R. Epoxy compositions
JP2014173007A (en) 2013-03-08 2014-09-22 Sekisui Chem Co Ltd Epoxy adhesive and lens-provided printed wiring board
JP2016169275A (en) 2015-03-12 2016-09-23 ナミックス株式会社 Resin composition
WO2017043405A1 (en) 2015-09-10 2017-03-16 ナミックス株式会社 Resin composition

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53133243A (en) * 1977-04-26 1978-11-20 Pentel Kk Epoxy resin adhesive
JPS5571763A (en) * 1978-11-24 1980-05-30 Dainippon Toryo Co Ltd Epoxy resin coating composition
JPS6021648B2 (en) * 1979-02-01 1985-05-29 三菱油化株式会社 Epoxy resin composition with excellent curability
JPS61162516A (en) * 1985-01-08 1986-07-23 Toray Ind Inc Composition for repairing urethane bumper
JPH07242798A (en) * 1994-03-08 1995-09-19 Sekisui Chem Co Ltd Coating composition for in-mold coating and molding

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000046317A1 (en) 1999-02-08 2000-08-10 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Resin compositions
US20050032938A1 (en) 2003-08-04 2005-02-10 Flint Theodore R. Epoxy compositions
JP2014173007A (en) 2013-03-08 2014-09-22 Sekisui Chem Co Ltd Epoxy adhesive and lens-provided printed wiring board
JP2016169275A (en) 2015-03-12 2016-09-23 ナミックス株式会社 Resin composition
WO2017043405A1 (en) 2015-09-10 2017-03-16 ナミックス株式会社 Resin composition

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