JP7158813B2 - grinding wheel - Google Patents

grinding wheel Download PDF

Info

Publication number
JP7158813B2
JP7158813B2 JP2018122925A JP2018122925A JP7158813B2 JP 7158813 B2 JP7158813 B2 JP 7158813B2 JP 2018122925 A JP2018122925 A JP 2018122925A JP 2018122925 A JP2018122925 A JP 2018122925A JP 7158813 B2 JP7158813 B2 JP 7158813B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
grinding
grinding wheel
wheel
workpiece
recesses
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018122925A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2020001123A (en
Inventor
博之 小野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Corp filed Critical Disco Corp
Priority to JP2018122925A priority Critical patent/JP7158813B2/en
Publication of JP2020001123A publication Critical patent/JP2020001123A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7158813B2 publication Critical patent/JP7158813B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Description

本発明は、被加工物の研削に用いられる研削ホイールに関する。 The present invention relates to grinding wheels used for grinding workpieces.

IC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integration)等のデバイスが形成された半導体ウェーハに代表される板状の被加工物を分割予定ライン(ストリート)に沿って分割することにより、デバイスをそれぞれ含む複数のデバイスチップが得られる。このデバイスチップは様々な電子機器に内蔵されており、近年、電子機器の小型化、薄型化に伴いデバイスチップにも小型化、薄型化が求められている。そこで、被加工物を研削砥石で研削することによって薄くする手法が用いられている。 Each device is included by dividing a plate-shaped workpiece represented by a semiconductor wafer on which devices such as IC (Integrated Circuit) and LSI (Large Scale Integration) are formed along dividing lines (street). A plurality of device chips are obtained. This device chip is built in various electronic devices, and in recent years, along with the miniaturization and thinning of electronic devices, the device chip is also required to be small and thin. Therefore, a method of thinning the workpiece by grinding it with a grinding wheel is used.

被加工物の研削には、被加工物を保持するチャックテーブルと、チャックテーブルによって保持された被加工物を研削する研削ユニットとを備える研削装置が用いられる。研削装置の研削ユニットは、回転軸となるスピンドルの先端部に固定されたホイールマウントを備えており、ホイールマウントには被加工物を研削するための研削砥石を備えた研削ホイールが装着される(例えば、特許文献1参照)。この研削ホイールを回転させながら研削砥石の研削加工面を被加工物と接触させることにより、被加工物が研削される。 A grinding apparatus that includes a chuck table that holds the workpiece and a grinding unit that grinds the workpiece held by the chuck table is used for grinding the workpiece. The grinding unit of the grinding machine has a wheel mount fixed to the tip of a spindle that serves as a rotating shaft, and a grinding wheel equipped with a grinding wheel for grinding the workpiece is attached to the wheel mount ( For example, see Patent Document 1). The workpiece is ground by bringing the grinding surface of the grinding wheel into contact with the workpiece while rotating the grinding wheel.

特開2000-288881号公報JP-A-2000-288881

研削砥石で被加工物を研削すると、研削砥石の研削加工面と被加工物との接触によって摩擦熱が発生し、この摩擦熱によって研削砥石が消耗しやすくなる。また、研削加工によって生じた屑(研削屑)が研削砥石の研削加工面と被加工物との間に入り込むと、研削砥石が研削屑によって削られて消耗することがある。 When a workpiece is ground with a grinding wheel, frictional heat is generated due to contact between the grinding surface of the grinding wheel and the workpiece, and this frictional heat tends to wear out the grinding wheel. In addition, when debris (grinding debris) generated by the grinding process enters between the grinding surface of the grinding wheel and the workpiece, the grinding wheel may be scraped by the grinding debris and worn out.

そのため、一般的に研削加工は研削砥石に液体(研削液)を供給しながら実施される。この研削液により、研削砥石が冷却されるとともに研削屑が洗い流される。しかしながら、研削加工時には研削砥石の研削加工面の全体が被加工物に接触するため、研削加工面と被加工物との間には研削液が供給されにくい。そのため、研削砥石の冷却及び研削屑の排出が不十分になり、研削砥石が消耗しやすくなるという問題があった。 Therefore, grinding is generally performed while supplying a liquid (grinding fluid) to the grinding wheel. This grinding fluid cools the grinding wheel and washes away grinding dust. However, since the entire grinding surface of the grinding wheel contacts the workpiece during grinding, it is difficult to supply the grinding liquid between the grinding surface and the workpiece. As a result, the cooling of the grinding wheel and the discharge of the grinding dust become insufficient, resulting in the problem that the grinding wheel tends to wear out.

本発明はかかる問題に鑑みてなされたものであり、研削砥石の消耗を抑制可能な研削ホイールの提供を課題とする。 The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a grinding wheel capable of suppressing consumption of the grinding wheel.

本発明の一態様によれば、研削砥石の研削加工面で被加工物を研削する研削ホイールであって、基台と、該基台に環状に配列された複数の該研削砥石と、を備え、該研削砥石の該研削加工面側には、研削液の流路となる複数の凹部が該研削砥石の側面で露出するように形成されている研削ホイールが提供され、該研削砥石の長さと幅は異なり、該凹部は、該研削砥石の長手方向に沿って形成され、該研削砥石の長手方向と垂直な方向に沿って形成されていない研削ホイールが提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a grinding wheel for grinding a workpiece with a grinding surface of a grinding wheel, comprising a base and a plurality of grinding wheels arranged in a ring on the base. A grinding wheel is provided on the grinding surface side of the grinding wheel, in which a plurality of concave portions serving as channels for the grinding fluid are formed so as to be exposed on the side surface of the grinding wheel , and the length of the grinding wheel and the A grinding wheel is provided that has different widths and the recesses are formed along the longitudinal direction of the grinding wheel and not along the direction perpendicular to the longitudinal direction of the grinding wheel.

また、本発明の一態様において、該凹部の深さは10μm以上であり、該凹部の幅は120μm以上であってもよい。また、本発明の一態様において、該凹部の深さは1mm以上であってもよい。 In one aspect of the present invention, the recess may have a depth of 10 μm or more and a width of 120 μm or more. In one aspect of the present invention, the recess may have a depth of 1 mm or more.

本発明の一態様に係る研削ホイールは、研削加工面側に凹部が形成された研削砥石を備え、研削加工時に研削液が凹部を介して研削加工面と被加工物との間に供給されるように構成される。これにより、研削砥石と被加工物との接触による摩擦熱、又は研削によって発生する研削屑の残留に起因する研削砥石の消耗を抑制することができる。 A grinding wheel according to an aspect of the present invention includes a grinding wheel having recesses formed on the surface to be ground, and a grinding fluid is supplied between the surface to be ground and the workpiece through the recesses during grinding. configured as As a result, it is possible to suppress consumption of the grinding wheel caused by frictional heat due to contact between the grinding wheel and the workpiece or residual grinding dust generated by grinding.

研削装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a grinding apparatus. 研削ホイールを示す斜視図である。1 is a perspective view of a grinding wheel; FIG. 研削砥石の構成例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structural example of a grinding wheel. 研削砥石の構成例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structural example of a grinding wheel. 研削砥石の構成例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structural example of a grinding wheel. ウェーハの加工枚数と研削砥石の摩耗量との関係を示すグラフである。4 is a graph showing the relationship between the number of processed wafers and the amount of wear of a grinding wheel.

以下、添付図面を参照して本発明の実施形態を説明する。図1は、本実施形態に係る研削ホイールが装着される研削装置2の構成例を示す斜視図である。研削装置2は、IC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integration)等のデバイスが形成された半導体ウェーハに代表される板状の被加工物を研削砥石によって研削する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of a grinding device 2 to which a grinding wheel according to this embodiment is attached. The grinding device 2 grinds a plate-like workpiece, typically a semiconductor wafer on which devices such as ICs (Integrated Circuits) and LSIs (Large Scale Integrations) are formed, with a grinding wheel.

研削装置2は、研削装置2の各構成要素が搭載される基台4を備えており、基台4の後端には直方体状の支持構造6が設けられている。また、基台4の上面にはX軸方向(前後方向)に沿って開口4aが形成されている。 The grinding device 2 includes a base 4 on which each component of the grinding device 2 is mounted, and a rectangular parallelepiped support structure 6 is provided at the rear end of the base 4 . An opening 4a is formed in the upper surface of the base 4 along the X-axis direction (front-rear direction).

開口4aの内部には、ボールネジ式のX軸移動機構8と、X軸移動機構8の一部を覆う防塵防滴カバー10とが配置されている。X軸移動機構8はX軸移動テーブル8aを備えており、このX軸移動テーブル8aをX軸方向に移動させる。また、開口4aの前方には研削加工の条件等を入力するための操作パネル12が設置されている。 A ball-screw type X-axis moving mechanism 8 and a dust/splash proof cover 10 covering a part of the X-axis moving mechanism 8 are arranged inside the opening 4a. The X-axis moving mechanism 8 has an X-axis moving table 8a, and moves this X-axis moving table 8a in the X-axis direction. Further, in front of the opening 4a, an operation panel 12 for inputting grinding processing conditions and the like is installed.

X軸移動テーブル8a上には、被加工物を保持するチャックテーブル14が設けられており、チャックテーブル14の上面の一部は被加工物を吸引する吸引面14aを構成する。なお、図1では特に円盤状の被加工物の保持を想定してチャックテーブル14及び吸引面14aが上面視で円形に形成された例を示すが、チャックテーブル14及び吸引面14aの形状は、チャックテーブル14によって保持される被加工物の形状等に応じて適宜変更できる。 A chuck table 14 for holding a workpiece is provided on the X-axis moving table 8a, and a part of the upper surface of the chuck table 14 constitutes a suction surface 14a for sucking the workpiece. Note that FIG. 1 shows an example in which the chuck table 14 and the suction surface 14a are formed in a circular shape when viewed from above, assuming that a disk-shaped workpiece is held. It can be changed as appropriate according to the shape of the workpiece held by the chuck table 14 .

吸引面14aは、ポーラスセラミックス等によってポーラス状に形成され、チャックテーブル14の内部に形成された吸引路(不図示)を介して吸引源(不図示)と接続されている。被加工物を吸引面14aと接するように配置した状態で吸引源の負圧を吸引面14aに作用させることで、被加工物がチャックテーブル14によって吸引保持される。 The suction surface 14 a is formed in a porous shape by porous ceramics or the like, and is connected to a suction source (not shown) through a suction path (not shown) formed inside the chuck table 14 . The workpiece is sucked and held by the chuck table 14 by applying the negative pressure of the suction source to the suction surface 14a while the workpiece is placed in contact with the suction surface 14a.

チャックテーブル14はモータ等の回転駆動源(不図示)と連結されており、Z軸方向(鉛直方向)に対して概ね平行な回転軸の周りに回転する。また、チャックテーブル14はX軸移動テーブル8aとともにX軸方向に移動する。このチャックテーブル14の移動は、X軸移動機構8によって制御される。 The chuck table 14 is connected to a rotation drive source (not shown) such as a motor, and rotates around a rotation axis substantially parallel to the Z-axis direction (vertical direction). Also, the chuck table 14 moves in the X-axis direction together with the X-axis moving table 8a. Movement of the chuck table 14 is controlled by the X-axis movement mechanism 8 .

支持構造6の前面側には、Z軸移動機構16が設けられている。Z軸移動機構16は、長手方向がZ軸方向に沿うように配置された一対のZ軸ガイドレール18を備えており、この一対のZ軸ガイドレール18にはZ軸移動プレート20がZ軸方向に沿ってスライド可能な態様で取り付けられている。Z軸移動プレート20の後面側(裏面側)にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部にはZ軸ガイドレール18と概ね平行な方向に沿って配置されたZ軸ボールネジ22が螺合されている。 A Z-axis movement mechanism 16 is provided on the front side of the support structure 6 . The Z-axis moving mechanism 16 has a pair of Z-axis guide rails 18 arranged so that the longitudinal direction thereof extends along the Z-axis direction. It is mounted in a slidable manner along the direction. A nut portion (not shown) is provided on the rear surface side (rear surface side) of the Z-axis moving plate 20, and the Z-axis ball screw is arranged along a direction substantially parallel to the Z-axis guide rail 18 in this nut portion. 22 are screwed together.

Z軸ボールネジ22の一端部には、Z軸パルスモータ24が連結されている。Z軸パルスモータ24によってZ軸ボールネジ22を回転させると、Z軸移動プレート20はZ軸ガイドレール18に沿ってZ軸方向に移動する。 A Z-axis pulse motor 24 is connected to one end of the Z-axis ball screw 22 . When the Z-axis ball screw 22 is rotated by the Z-axis pulse motor 24, the Z-axis moving plate 20 moves along the Z-axis guide rail 18 in the Z-axis direction.

Z軸移動プレート20の前面側(表面側)には、前方に突出する支持具26が設けられている。支持具26は、被加工物に研削加工を施す研削ユニット28を支持している。研削ユニット28は、支持具26に固定されるスピンドルハウジング30を含み、スピンドルハウジング30には回転軸となるスピンドル32が回転可能な状態で収容されている。 A support 26 projecting forward is provided on the front side (front side) of the Z-axis movement plate 20 . The support 26 supports a grinding unit 28 for grinding the workpiece. The grinding unit 28 includes a spindle housing 30 fixed to the support 26, and a spindle 32 serving as a rotation shaft is rotatably accommodated in the spindle housing 30. As shown in FIG.

スピンドル32の先端部(下端部)はスピンドルハウジング30の外部に露出しており、このスピンドル32の先端部には円盤状のホイールマウント34が固定される。また、ホイールマウント34の下面には、ホイールマウント34と概ね同径に構成された円盤状の研削ホイール36が装着される。 A tip (lower end) of the spindle 32 is exposed to the outside of the spindle housing 30 , and a disk-shaped wheel mount 34 is fixed to the tip of the spindle 32 . A disk-shaped grinding wheel 36 having approximately the same diameter as the wheel mount 34 is attached to the lower surface of the wheel mount 34 .

被加工物を研削する際は、チャックテーブル14によって被加工物を吸引保持した状態で、X軸移動機構8によってチャックテーブル14を移動させ、チャックテーブル14を研削ホイール36の下に位置付ける。そして、チャックテーブル14とスピンドル32とをそれぞれ所定の方向に所定の回転数で回転させながら研削ホイール36を所定の速度で下降させ、研削ホイール36を被加工物と接触させる。これにより、研削ホイール36は被加工物の一部を削り取るように加工(研削)し、被加工物が薄くなる。 When grinding the workpiece, the chuck table 14 is sucked and held, and the X-axis moving mechanism 8 moves the chuck table 14 to position the chuck table 14 under the grinding wheel 36 . Then, while rotating the chuck table 14 and the spindle 32 in predetermined directions at a predetermined number of revolutions, the grinding wheel 36 is lowered at a predetermined speed to bring the grinding wheel 36 into contact with the workpiece. As a result, the grinding wheel 36 processes (grinds) the workpiece so as to scrape off a portion of the workpiece, thereby thinning the workpiece.

図2は、本実施形態に係る研削ホイール36の構成例を示す斜視図である。研削ホイール36は、例えばステンレスやアルミニウム等の金属材料でなる円環状の基台40を備える。 FIG. 2 is a perspective view showing a configuration example of the grinding wheel 36 according to this embodiment. The grinding wheel 36 has an annular base 40 made of a metal material such as stainless steel or aluminum.

基台40は、ホイールマウント34に固定される第1面(固定端面)40aと、第1面と概ね平行に配置されホイールマウント34に固定されない第2面(自由端面)40bとを備える。また、基台40の中央部には、基台40を第1面40aから第2面40bまで貫通し、第1面40aから第2面40bに向かって径が拡大する円錐台状の開口40cが形成されている。 The base 40 has a first surface (fixed end surface) 40a that is fixed to the wheel mount 34, and a second surface (free end surface) 40b that is arranged substantially parallel to the first surface and is not fixed to the wheel mount 34. Further, in the central portion of the base 40, an opening 40c having a truncated cone shape that penetrates the base 40 from the first surface 40a to the second surface 40b and whose diameter increases from the first surface 40a toward the second surface 40b. is formed.

基台40の第2面40b側には、開口40cを囲む環状の溝40dが基台40の外周に沿って形成されている。この溝40dの内部には、直方体状に形成された複数の研削砥石42が環状に配列されている。なお、複数の研削砥石42はそれぞれ、その長手方向(長さ方向)が基台40の円周方向に沿うように概ね等間隔に固定されている。 An annular groove 40 d surrounding the opening 40 c is formed along the outer periphery of the base 40 on the second surface 40 b side of the base 40 . A plurality of rectangular parallelepiped grinding wheels 42 are arranged in a ring inside the groove 40d. The plurality of grinding wheels 42 are fixed at approximately equal intervals so that their longitudinal directions (longitudinal directions) extend along the circumferential direction of the base 40 .

研削砥石42は例えば、ダイヤモンド、CBN(Cubic Boron Nitride)等でなる砥粒を、メタルボンド、レジンボンド又はビトリファイドボンド等の結合材で固定することにより形成される。ただし、研削砥石42の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。また、基台40には任意の数の研削砥石42を固定できる。 The grinding wheel 42 is formed, for example, by fixing abrasive grains made of diamond, CBN (Cubic Boron Nitride) or the like with a bonding material such as metal bond, resin bond or vitrified bond. However, the material, shape, structure, size, etc. of the grinding wheel 42 are not limited. Also, any number of grinding wheels 42 can be fixed to the base 40 .

基台40に固定された研削砥石42は、基台40とは反対側に露出する矩形状の研削加工面42aを備える。研削加工面42aは研削加工時に被加工物と接触する面であり、研削加工面42aによって被加工物が研削される。 A grinding wheel 42 fixed to the base 40 has a rectangular grinding surface 42 a exposed on the side opposite to the base 40 . The ground surface 42a is a surface that comes into contact with the workpiece during grinding, and the workpiece is ground by the ground surface 42a.

なお、研削砥石42によって研削される被加工物の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。例えば、被加工物として半導体(シリコン、GaAs、InP、GaN、SiC等)、ガラス、セラミックス、樹脂、金属等の材料でなるウェーハを用いることができる。また、研削砥石42を構成する結合材や砥粒の材質等の条件は、被加工物の材質等に応じて適宜選択できる。 The material, shape, structure, size, etc. of the workpiece to be ground by the grinding wheel 42 are not limited. For example, wafers made of materials such as semiconductors (silicon, GaAs, InP, GaN, SiC, etc.), glass, ceramics, resins, and metals can be used as workpieces. Further, the conditions such as the materials of the bonding material and the abrasive grains constituting the grinding wheel 42 can be appropriately selected according to the material of the workpiece.

また、基台40には、第1面40aから第2面40bに向かって基台40を貫通する複数の研削液供給口40eが形成されている。研削液供給口40eは、第2面40bのうち開口40cと溝40dとの間に位置する領域に概ね等間隔に開口するように配列されている。研削砥石42によって被加工物を研削する際には、研削液供給口40eを介して研削砥石42に純水等の研削液が供給される。なお、研削液供給口40eの数に制限はない。 Further, the base 40 is formed with a plurality of grinding liquid supply ports 40e penetrating through the base 40 from the first surface 40a toward the second surface 40b. The grinding liquid supply ports 40e are arranged so as to open at approximately equal intervals in a region of the second surface 40b located between the opening 40c and the groove 40d. When grinding the workpiece with the grinding wheel 42, a grinding liquid such as pure water is supplied to the grinding wheel 42 through the grinding liquid supply port 40e. There is no limit to the number of grinding fluid supply ports 40e.

研削ホイール36は、スピンドル32の先端部に固定されたホイールマウント34に装着される(図1参照)。研削ホイール36の装着は、例えば、第1面40aがホイールマウント34の下面側と接触するように研削ホイール36を位置付け、ホイールマウント34と研削ホイール36とをボルト等を用いて固定することによって行う。 Grinding wheel 36 is mounted on a wheel mount 34 fixed to the distal end of spindle 32 (see FIG. 1). The grinding wheel 36 is mounted, for example, by positioning the grinding wheel 36 so that the first surface 40a is in contact with the lower surface side of the wheel mount 34, and fixing the wheel mount 34 and the grinding wheel 36 using bolts or the like. .

研削ホイール36がホイールマウント34に装着された状態でスピンドル32を回転させると、研削ホイール36が回転する。そして、回転する研削ホイール36が備える研削砥石42の研削加工面42aをチャックテーブル14によって保持された被加工物の被研削面に押し当てることにより、被加工物が研削される。 Rotating the spindle 32 with the grinding wheel 36 mounted on the wheel mount 34 causes the grinding wheel 36 to rotate. The grinding surface 42a of the grinding wheel 42 provided on the rotating grinding wheel 36 is pressed against the grinding surface of the workpiece held by the chuck table 14, thereby grinding the workpiece.

研削砥石42によって被加工物を研削する際には、研削液供給口40eを介して研削砥石42に純水等の研削液が供給される。しかしながら、研削加工時は研削砥石42の研削加工面42aの全体が被加工物と接触しているため、研削加工面42aに研削液が供給されにくい。 When grinding the workpiece with the grinding wheel 42, a grinding liquid such as pure water is supplied to the grinding wheel 42 through the grinding liquid supply port 40e. However, since the entire grinding surface 42a of the grinding wheel 42 is in contact with the workpiece during grinding, it is difficult to supply the grinding fluid to the grinding surface 42a.

研削加工面42aへの研削液の供給が不足すると、研削砥石42の冷却が不十分となる。その結果、研削加工面42aと被加工物との摩擦から生じる摩擦熱によって研削砥石42の温度が上昇しやすくなり、研削砥石の消耗が早まる。 If the supply of the grinding liquid to the grinding surface 42a is insufficient, the grinding wheel 42 will be insufficiently cooled. As a result, the temperature of the grinding wheel 42 tends to rise due to the frictional heat generated by the friction between the grinding surface 42a and the workpiece, and the grinding wheel is quickly worn out.

また、研削加工時、研削によって生じた屑(研削屑)が研削砥石42の研削加工面42aと被加工物との間に入り込むことがある。このとき、研削加工面42aに十分な研削液が供給されないと、この研削屑が排出されずに残留しやすくなる。そして、研削加工面42aと被加工物との間に研削屑が残留したまま研削加工を実施すると、研削屑によって研削砥石42の結合材が削られて研削砥石が消耗することがある。 Also, during the grinding process, debris (grinding debris) generated by grinding may enter between the grinding surface 42a of the grinding wheel 42 and the workpiece. At this time, if sufficient grinding fluid is not supplied to the grinding surface 42a, the grinding chips are likely to remain without being discharged. If the grinding process is performed while the grinding dust remains between the grinding surface 42a and the workpiece, the grinding dust may scrape the binding material of the grinding wheel 42, resulting in wear of the grinding wheel.

本実施形態に係る研削ホイール36は、研削加工面42a側に凹部が形成された研削砥石42を備える。そして、研削加工時に研削砥石42の近傍に研削液を供給すると、研削加工面42a側に形成された凹部が研削液の流路となり、研削液が研削加工面42aの全体に供給されやすくなる。これにより、摩擦熱又は研削屑の残留に起因する研削砥石の消耗を抑制できる。以下、研削加工面42aに凹部が形成された研削砥石42の詳細について説明する。 The grinding wheel 36 according to this embodiment includes a grinding wheel 42 having a recessed portion on the grinding surface 42a side. When the grinding liquid is supplied to the vicinity of the grinding wheel 42 during grinding, the concave portion formed on the side of the grinding surface 42a serves as a channel for the grinding liquid, and the grinding liquid is easily supplied to the entire grinding surface 42a. As a result, it is possible to suppress consumption of the grinding wheel due to frictional heat or residual grinding dust. Details of the grinding wheel 42 having recesses formed in the grinding surface 42a will be described below.

図3は、研削砥石42の構成例を示す斜視図である。研削砥石42は、例えば長さと幅が異なる直方体状に形成され、研削加工面42aと、研削加工面42aと概ね平行で基台40(図2参照)に固定される装着面42bとを備える。 FIG. 3 is a perspective view showing a configuration example of the grinding wheel 42. As shown in FIG. The grinding wheel 42 is formed, for example, in a rectangular parallelepiped shape with different lengths and widths, and includes a grinding surface 42a and a mounting surface 42b that is substantially parallel to the grinding surface 42a and fixed to the base 40 (see FIG. 2).

研削加工面42aと装着面42bとはそれぞれ、研削砥石42の長手方向(長さ方向)に沿って互いに平行に配置された側面42c,42d、及び、研削砥石42の長手方向と垂直な方向(幅方向)に沿って互いに平行に配置された側面42e,42fと接続されている。ただし、研削砥石42は基台40に固定可能で被加工物と接触する研削加工面42aを備えていれば、その形状に制限はない。 The grinding surface 42a and the mounting surface 42b are respectively composed of side surfaces 42c and 42d arranged parallel to each other along the longitudinal direction (longitudinal direction) of the grinding wheel 42 and a direction perpendicular to the longitudinal direction of the grinding wheel 42 ( width direction) are connected to the side surfaces 42e and 42f arranged parallel to each other. However, the shape of the grinding wheel 42 is not limited as long as it can be fixed to the base 40 and has a grinding surface 42a that contacts the workpiece.

研削砥石42の研削加工面42a側には、側面42eから側面42fに至る複数の凹部42gが形成されている。複数の凹部42gはそれぞれ、研削砥石42の長手方向に沿って線状に形成されており、側面42e及び側面42fにおいて露出している。また、複数の凹部42gは、研削砥石42の長手方向と垂直な方向に沿って、互いに概ね平行となるように所定の間隔で配列されている。 A plurality of recesses 42g are formed on the grinding surface 42a side of the grinding wheel 42 from the side surface 42e to the side surface 42f. Each of the plurality of concave portions 42g is linearly formed along the longitudinal direction of the grinding wheel 42 and is exposed on the side surfaces 42e and 42f. The plurality of recesses 42g are arranged at predetermined intervals along the direction perpendicular to the longitudinal direction of the grinding wheel 42 so as to be generally parallel to each other.

なお、凹部42gは、その深さが研削砥石42の厚さ(研削加工面42aから装着面42bまでの距離)未満となるように形成される。また、複数の凹部42gによって区画された領域、すなわち研削砥石42の研削加工面42a側の凹部42gが形成されていない領域は、被加工物を研削する研削領域42hを構成している。 The recess 42g is formed so that its depth is less than the thickness of the grinding wheel 42 (the distance from the ground surface 42a to the mounting surface 42b). A region defined by the plurality of recesses 42g, that is, a region on the side of the grinding surface 42a of the grinding wheel 42 where the recesses 42g are not formed constitutes a grinding region 42h for grinding the workpiece.

研削砥石42に凹部42gを形成する方法に制限はない。例えば凹部42gの形成には、研削砥石42を保持可能なチャックテーブルと、ダイヤモンド等の砥粒を金属等でなる結合材で固定して形成した円環状の切削ブレードが装着されたスピンドルと、を備えた切削装置を用いることができる。チャックテーブルによって研削砥石42を保持した状態で、切削ブレードを回転させて研削砥石42の研削加工面42a側に切り込ませることにより、切削ブレードの形状に対応した凹部42gが形成される。 The method of forming the recess 42g in the grinding wheel 42 is not limited. For example, to form the recess 42g, a chuck table capable of holding the grinding wheel 42 and a spindle equipped with an annular cutting blade formed by fixing abrasive grains such as diamond with a binding material such as metal are used. A cutting device provided can be used. With the grinding wheel 42 held by the chuck table, the cutting blade is rotated to cut into the grinding surface 42a of the grinding wheel 42, thereby forming a recess 42g corresponding to the shape of the cutting blade.

研削加工を行う際は、上記の研削砥石42が固定された研削ホイール36をホイールマウント34に装着するとともに(図1参照)、チャックテーブル14によって被加工物を保持する。そして、研削ホイール36とチャックテーブルとを回転させ、研削液供給口40eを介して研削砥石42の周辺に研削液を供給しながら研削加工面42aを被加工物と接触させる。このとき、研削砥石42の側面42e及び側面42fにおいて凹部42gが露出しているため、研削砥石42の周辺に供給された研削液が凹部42gに流れ込み、研削加工面42aの内部に研削液が供給される。 When performing the grinding process, the grinding wheel 36 to which the grinding wheel 42 is fixed is mounted on the wheel mount 34 (see FIG. 1), and the workpiece is held by the chuck table 14 . Then, the grinding wheel 36 and the chuck table are rotated, and the grinding surface 42a is brought into contact with the workpiece while supplying the grinding liquid around the grinding wheel 42 through the grinding liquid supply port 40e. At this time, since the recesses 42g are exposed on the side surfaces 42e and 42f of the grinding wheel 42, the grinding fluid supplied to the periphery of the grinding wheel 42 flows into the recesses 42g, and the grinding fluid is supplied to the inside of the grinding surface 42a. be done.

なお、研削砥石42は、長手方向が基台40の円周方向に沿うように固定される(図2参照)。そのため、図3に示す研削砥石42を基台40に配列すると、隣接する研削砥石42の側面42eと側面42fとが対向し、凹部42gが基台40の円周方向に沿うように配置された研削ホイール36が得られる。この研削ホイール36を用いると、研削液供給口40eから隣接する研削砥石42の間の隙間に供給された研削液を研削加工面42aの内部に効率的に取り込むことができる。 The grinding wheel 42 is fixed so that its longitudinal direction extends along the circumferential direction of the base 40 (see FIG. 2). Therefore, when the grinding wheel 42 shown in FIG. A grinding wheel 36 is obtained. By using the grinding wheel 36, the grinding fluid supplied from the grinding fluid supply port 40e to the gap between the adjacent grinding wheels 42 can be efficiently taken into the grinding surface 42a.

凹部42gの数、凹部42gの深さ、凹部42gの幅、研削領域42hの幅(凹部42gの間隔)は、研削液の供給量、被加工物の材質、研削砥石42の材質などの種々の加工条件を考慮して適宜設定できる。例えば、凹部42gの内部を研削液が円滑に流れるように、凹部42gの深さは10μm以上、凹部42gの幅は120μm以上とすることが好ましい。また、隣接する凹部42gの間隔に相当する研削領域42hの幅も適宜設定できる。 The number of the recesses 42g, the depth of the recesses 42g, the width of the recesses 42g, and the width of the grinding region 42h (interval between the recesses 42g) are determined by various factors such as the amount of grinding liquid supplied, the material of the workpiece, the material of the grinding wheel 42, and the like. It can be appropriately set in consideration of processing conditions. For example, it is preferable that the depth of the recess 42g is 10 μm or more and the width of the recess 42g is 120 μm or more so that the grinding fluid can flow smoothly inside the recess 42g. Also, the width of the grinding region 42h corresponding to the interval between the adjacent recesses 42g can be appropriately set.

なお、研削砥石42による被加工物の研削を続けると、研削砥石42の研削加工面42a側が摩耗して凹部42gの深さは徐々に減少する。よって、研削砥石42が摩耗した場合にも研削加工面42aに研削液を十分に供給するためには、凹部42gをより深く形成することが好ましい。例えば、凹部42gの深さは1mm以上、より好ましくは4mm以上とすることができる。 If the grinding of the workpiece by the grinding wheel 42 is continued, the grinding surface 42a side of the grinding wheel 42 is worn and the depth of the concave portion 42g gradually decreases. Therefore, in order to sufficiently supply the grinding fluid to the grinding surface 42a even when the grinding wheel 42 is worn, it is preferable to form the recess 42g deeper. For example, the depth of the recess 42g can be 1 mm or more, more preferably 4 mm or more.

なお、図3では複数の凹部が側面42eから側面42fに向かって形成された研削砥石42を示したが、凹部の態様はこれに限定されない。図4は、研削砥石42の他の構成例を示す斜視図である。 Although FIG. 3 shows the grinding wheel 42 in which a plurality of recesses are formed from the side surface 42e to the side surface 42f, the shape of the recesses is not limited to this. FIG. 4 is a perspective view showing another configuration example of the grinding wheel 42. As shown in FIG.

図4に示す研削砥石42の研削加工面42a側には、側面42cから側面42dに至る複数の凹部42iが形成されている。複数の凹部42iはそれぞれ、研削砥石42の長手方向と垂直な方向に沿って線状に形成されており、側面42c及び側面42dにおいて露出している。また、複数の凹部42iは、研削砥石42の長手方向に沿って、互いに概ね平行となるように所定の間隔で配列されている。なお、複数の凹部42iによって区画された領域は、被加工物を研削する研削領域42jを構成している。 A plurality of recesses 42i extending from the side surface 42c to the side surface 42d are formed on the grinding surface 42a side of the grinding wheel 42 shown in FIG. Each of the plurality of recesses 42i is linearly formed along a direction perpendicular to the longitudinal direction of the grinding wheel 42, and is exposed on the side surfaces 42c and 42d. The plurality of recesses 42i are arranged at predetermined intervals along the longitudinal direction of the grinding wheel 42 so as to be substantially parallel to each other. A region defined by the plurality of recesses 42i constitutes a grinding region 42j for grinding the workpiece.

凹部42iが形成された研削砥石42を基台40(図2参照)に固定すると、研削砥石42は、側面42c又は側面42dが基台40の開口40c側に面し、凹部42iが基台40の径方向に沿うように配置される。そのため、研削ホイール36を回転させた際に、遠心力によって研削液供給口40eから基台40の径方向外側に向かって供給される研削液を、研削加工面42aの内側に効率的に取り込むことができる。 When the grinding wheel 42 formed with the recess 42i is fixed to the base 40 (see FIG. 2), the side 42c or the side 42d of the grinding wheel 42 faces the opening 40c of the base 40, and the recess 42i faces the base 40. are arranged along the radial direction of Therefore, when the grinding wheel 36 is rotated, the grinding fluid supplied radially outwardly of the base 40 from the grinding fluid supply port 40e by centrifugal force can be efficiently taken into the grinding surface 42a. can be done.

凹部42iの数、深さ及び幅は、凹部42g(図3参照)と同様に適宜設定できる。また、隣接する凹部42iの間隔に相当する研削領域42jの幅も適宜設定できる。 The number, depth and width of the recesses 42i can be appropriately set similarly to the recesses 42g (see FIG. 3). Also, the width of the grinding region 42j corresponding to the interval between adjacent recesses 42i can be set as appropriate.

また、図3及び図4では複数の凹部が一方向に沿って形成された研削砥石42を示したが、研削砥石42には複数の凹部が交差するように形成されていてもよい。図5は、研削砥石42の他の構成例を示す斜視図である。 3 and 4 show the grinding wheel 42 having a plurality of recesses formed along one direction, the grinding wheel 42 may be formed with a plurality of recesses intersecting each other. FIG. 5 is a perspective view showing another configuration example of the grinding wheel 42. As shown in FIG.

図5示す研削砥石42の研削加工面42a側には、側面42cから側面42dに至る複数の凹部42kと、側面42eから側面42fに至る複数の凹部42mとが形成されている。複数の凹部42kはそれぞれ、研削砥石42の長手方向と垂直な方向に沿って線状に形成されており、側面42c及び側面42dにおいて露出している。また、複数の凹部42kは、研削砥石42の長手方向に沿って、互いに概ね平行となるように所定の間隔で配列されている。 A plurality of recesses 42k extending from a side surface 42c to a side surface 42d and a plurality of recesses 42m extending from a side surface 42e to a side surface 42f are formed on the grinding surface 42a side of the grinding wheel 42 shown in FIG. Each of the plurality of recesses 42k is linearly formed along the direction perpendicular to the longitudinal direction of the grinding wheel 42, and is exposed at the side surfaces 42c and 42d. The plurality of recesses 42k are arranged at predetermined intervals along the longitudinal direction of the grinding wheel 42 so as to be substantially parallel to each other.

複数の凹部42mはそれぞれ、研削砥石42の長手方向に沿って線状に形成されており、側面42e及び側面42fにおいて露出している。また、複数の凹部42mは、研削砥石42の長手方向と垂直な方向に沿って、互いに概ね平行となるように所定の間隔で配列されている。 Each of the plurality of recesses 42m is linearly formed along the longitudinal direction of the grinding wheel 42 and exposed at the side surfaces 42e and 42f. The plurality of recesses 42m are arranged at predetermined intervals along the direction perpendicular to the longitudinal direction of the grinding wheel 42 so as to be substantially parallel to each other.

凹部42kと凹部42mとはそれぞれ互いに概ね垂直に交差しており、交差点において結合されている。このように凹部42k及び凹部42mを形成することにより、研削加工面42aに複数の凹部が格子状に形成された研削砥石42が得られる。また、複数の凹部42k及び複数の凹部42mによって区画された領域は、被加工物を研削する研削領域42nを構成している。 The recess 42k and the recess 42m intersect each other generally perpendicularly and are joined at the intersection. By forming the recesses 42k and 42m in this manner, the grinding wheel 42 having a plurality of recesses formed in a grid pattern on the grinding surface 42a can be obtained. A region defined by the plurality of recesses 42k and the plurality of recesses 42m constitutes a grinding region 42n for grinding the workpiece.

凹部42k及び凹部42mが形成された研削砥石42を基台40(図2参照)に固定すると、凹部42kが露出した側面42c又は側面42dが基台40の開口40c側に面する。また、凹部42mが露出した側面42e及び側面42fが、隣接する研削砥石42との間の隙間に面する。そのため、研削液供給口40eから基台40の径方向外側に向かって供給される研削液と、研削液供給口40eから隣接する研削砥石42の間の隙間に向かって供給された研削液との両方を、研削加工面42aの内側に効率的に取り込むことができる。 When the grinding wheel 42 having the recess 42k and the recess 42m is fixed to the base 40 (see FIG. 2), the side 42c or the side 42d where the recess 42k is exposed faces the opening 40c of the base 40. FIG. Moreover, the side surfaces 42e and 42f where the concave portion 42m is exposed face the gap between the grinding wheels 42 adjacent to each other. Therefore, the grinding fluid supplied from the grinding fluid supply port 40e toward the radially outer side of the base 40 and the grinding fluid supplied from the grinding fluid supply port 40e toward the gap between the adjacent grinding wheels 42 Both can be efficiently incorporated inside the ground surface 42a.

凹部42k及び凹部42mの数、深さ及び幅は、凹部42g(図3参照)と同様に適宜設定できる。また、研削砥石42の長手方向と垂直な方向における研削領域42nの幅、及び、研削砥石42の長手方向における研削領域42nの幅も、適宜設定できる。 The number, depth, and width of the recesses 42k and 42m can be appropriately set similarly to the recesses 42g (see FIG. 3). Also, the width of the grinding region 42n in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the grinding wheel 42 and the width of the grinding region 42n in the longitudinal direction of the grinding wheel 42 can be set as appropriate.

なお、凹部42k及び凹部42mが形成された研削砥石42を基台40(図2参照)に固定して被加工物を研削する場合、研削砥石42にはその長手方向に沿って摩擦力が作用する。そのため、研削砥石42の長手方向における研削領域42nの幅を、研削砥石42の長手方向と垂直な方向における研削領域42nの幅よりも大きく設定し、摩擦による研削領域42nの破損を生じにくくすることが好ましい。 When the grinding wheel 42 having the recess 42k and the recess 42m is fixed to the base 40 (see FIG. 2) to grind the workpiece, frictional force acts on the grinding wheel 42 along its longitudinal direction. do. Therefore, the width of the grinding region 42n in the longitudinal direction of the grinding wheel 42 is set larger than the width of the grinding region 42n in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the grinding wheel 42, so that the grinding region 42n is less likely to be damaged by friction. is preferred.

以上のように、本実施形態に係る研削ホイール34は、研削加工面42a側に凹部が形成された研削砥石42を備え、研削加工時に研削液が凹部を介して研削加工面42aと被加工物との間に供給されるように構成される。これにより、研削砥石42と被加工物との接触による摩擦熱、又は研削により発生する研削屑の残留に起因する研削砥石42の消耗を抑制することができる。 As described above, the grinding wheel 34 according to the present embodiment includes the grinding wheel 42 having a recessed portion formed on the grinding surface 42a side, and the grinding fluid flows through the recessed portion during the grinding process to the grinding surface 42a and the workpiece. is configured to be supplied between As a result, it is possible to suppress consumption of the grinding wheel 42 caused by frictional heat due to contact between the grinding wheel 42 and the workpiece or residual grinding debris generated by grinding.

次に、本実施形態に係る研削ホイールの評価結果について説明する。本評価では、研削加工面に凹部が形成された研削砥石が装着された研削ホイールを用いて被加工物を研削し、そのときの研削砥石の消耗量を測定した。 Next, evaluation results of the grinding wheel according to this embodiment will be described. In this evaluation, the workpiece was ground using a grinding wheel equipped with a grinding wheel having recesses formed on the grinding surface, and the amount of consumption of the grinding wheel at that time was measured.

評価には、長さが20mm、幅が3mm、厚さ(高さ)が7mmの直方体状の研削砥石42を図2に示すように環状に配列した研削ホイール36を用いた(研削ホイールA)。この研削砥石42は、平均粒径が12μmのダイヤモンドでなる砥粒をビトリファイドボンドで固定することによって形成した。 For the evaluation, a grinding wheel 36 in which rectangular parallelepiped grinding wheels 42 having a length of 20 mm, a width of 3 mm, and a thickness (height) of 7 mm were arranged in a ring as shown in FIG. 2 was used (grinding wheel A). . This grinding wheel 42 was formed by fixing diamond abrasive grains with an average grain size of 12 μm with a vitrified bond.

また、研削砥石42の研削加工面42a側に、図5に示すような格子状の凹部(線状の凹部42k及び線状の凹部42m)を形成した。ただし、凹部42kの数は4本とし、凹部42mの本数は1本とした。4本の凹部42kは、研削加工面42aが略五等分されるように、研削砥石42の長手方向と垂直な方向に沿って形成した。また、1本の凹部42mは、研削加工面42aが略二等分されるように研削砥石42の長手方向に沿って形成した。なお、凹部42kの幅及び凹部42mの幅は120μmとし、凹部42kの深さ及び凹部42mの深さは4mmとした。 Also, on the grinding surface 42a side of the grinding wheel 42, grid-shaped recesses (linear recesses 42k and linear recesses 42m) as shown in FIG. 5 were formed. However, the number of recessed portions 42k was set to four, and the number of recessed portions 42m was set to one. The four recesses 42k were formed along a direction perpendicular to the longitudinal direction of the grinding wheel 42 so that the grinding surface 42a was divided into approximately five equal parts. One recess 42m is formed along the longitudinal direction of the grinding wheel 42 so that the grinding surface 42a is substantially divided into two halves. The width of the recess 42k and the width of the recess 42m were set to 120 μm, and the depth of the recess 42k and the depth of the recess 42m were set to 4 mm.

また、比較例として、研削加工面に凹部が形成されていない研削砥石を環状に配列した研削ホイール(研削ホイールB)を形成した。研削ホイールBの研削砥石の構成は、研削加工面に凹部が形成されていない点を除いては研削ホイールAの研削砥石と同様とした。 Further, as a comparative example, a grinding wheel (grinding wheel B) was formed in which grinding wheels having no recesses formed on the grinding surface were arranged in an annular shape. The structure of the grinding wheel of grinding wheel B was the same as that of grinding wheel A, except that no recesses were formed in the grinding surface.

そして、研削ホイールAを用いて直径8インチのシリコンウェーハを厚さ方向に50μm研削する作業を繰り返し、計75枚のシリコンウェーハを研削した。なお、研削は研削液として純水を供給しながら行った。また、各シリコンウェーハの研削が完了するごとに、研削砥石42の消耗量を測定した。研削砥石42の消耗量は、研削前後の研削砥石の厚さ(高さ)の差を測定することによって取得した。 Then, the grinding wheel A was used to grind a silicon wafer having a diameter of 8 inches by 50 μm in the thickness direction, and a total of 75 silicon wafers were ground. The grinding was performed while supplying pure water as a grinding fluid. Moreover, the consumption amount of the grinding wheel 42 was measured each time the grinding of each silicon wafer was completed. The amount of wear of the grinding wheel 42 was obtained by measuring the difference in thickness (height) of the grinding wheel before and after grinding.

また、上記のシリコンウェーハの研削及び消耗量の測定を、研削ホイールBについても同様に行った。そして、研削ホイールAと研削ホイールBとで研削砥石の消耗量を比較した。図6は、ウェーハの加工枚数と研削砥石の消耗量との関係を示すグラフである。なお、図6には、研削装置に備えられた測定器によって研削砥石の摩耗量を所定の精度で測定することによって得られた測定値を示している。 Further, the grinding wheel B was similarly subjected to the grinding of the silicon wafer and the measurement of the wear amount. Then, the grinding wheel A and the grinding wheel B were compared in terms of grinding wheel consumption. FIG. 6 is a graph showing the relationship between the number of processed wafers and the consumption of the grinding wheel. In addition, FIG. 6 shows measured values obtained by measuring the wear amount of the grinding wheel with a predetermined accuracy using a measuring device provided in the grinding apparatus.

図6に示すように、75枚のシリコンウェーハの研削後における研削ホイールAの研削砥石42(凹部あり)の摩耗量は、研削ホイールBの研削砥石(凹部なし)の摩耗量の2/3程度に抑えられている。これは、研削ホイールAでシリコンウェーハを研削する際、研削加工面42aに形成された凹部を介して研削液が研削加工面42aに十分に供給され、摩擦熱及び研削屑の残留による研削砥石42の消耗が抑制されたためであると考えられる。 As shown in FIG. 6, the wear amount of the grinding wheel 42 (with recesses) of the grinding wheel A after grinding 75 silicon wafers is about 2/3 of the wear amount of the grinding wheel B (without recesses). is suppressed to This is because, when grinding a silicon wafer with the grinding wheel A, the grinding fluid is sufficiently supplied to the grinding surface 42a through the recesses formed in the grinding surface 42a, and the frictional heat and the residual grinding dust cause the grinding wheel 42 to This is thought to be because the consumption of the

また、評価後の研削ホイールAでは、研削砥石42の破損は観察されず、研削砥石42は研削加工に必要な強度を備えていることが確認できた。 Moreover, no breakage of the grinding wheel 42 was observed in the grinding wheel A after the evaluation, and it was confirmed that the grinding wheel 42 had the strength necessary for grinding.

以上の評価より、研削加工面42a側に凹部が形成された研削砥石42を備える研削ホイールを用いることにより、研削砥石42の消耗を抑制できることが確認できた。 From the above evaluation, it was confirmed that the consumption of the grinding wheel 42 can be suppressed by using the grinding wheel provided with the grinding wheel 42 having the concave portion formed on the grinding surface 42a side.

なお、本実施形態では、図3から図5に示すように直線状の凹部が形成された研削砥石42を示したが、凹部の形状はこれに限定されない。例えば、研削砥石42には曲線状(正弦波状、円弧状など)、又は折れ線状(ジグザグ状、鋸歯状など)の凹部が形成されていてもよい。 In this embodiment, as shown in FIGS. 3 to 5, the grinding wheel 42 having linear concave portions is shown, but the shape of the concave portions is not limited to this. For example, the grinding wheel 42 may have curved (sinusoidal, arcuate, etc.) or polygonal (zigzag, sawtooth, etc.) recesses.

その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structures, methods, and the like according to the above-described embodiments can be modified as appropriate without departing from the scope of the present invention.

2 研削装置
4 基台
4a 開口
6 支持構造
8 X軸移動機構
8a X軸移動テーブル
10 防塵防滴カバー
12 操作パネル
14 チャックテーブル
14a 吸引面
16 Z軸移動機構
18 Z軸ガイドレール
20 Z軸移動プレート
22 Z軸ボールネジ
24 Z軸パルスモータ
26 支持具
28 研削ユニット
30 スピンドルハウジング
32 スピンドル
34 ホイールマウント
36 研削ホイール
40 基台
40a 第1面
40b 第2面
40c 開口
40d 溝
40e 研削液供給口
42 研削砥石
42a 研削加工面
42b 装着面
42c,42d,42e,42f 側面
42g,42i,42k,42m 凹部
42h,42j,42n 研削領域
2 Grinding device 4 Base 4a Opening 6 Support structure 8 X-axis movement mechanism 8a X-axis movement table 10 Dust and drip proof cover 12 Operation panel 14 Chuck table 14a Suction surface 16 Z-axis movement mechanism 18 Z-axis guide rail 20 Z-axis movement plate 22 Z-axis ball screw 24 Z-axis pulse motor 26 Support tool 28 Grinding unit 30 Spindle housing 32 Spindle 34 Wheel mount 36 Grinding wheel 40 Base 40a First surface 40b Second surface 40c Opening 40d Groove 40e Grinding liquid supply port 42 Grinding wheel 42a Grinded surface 42b Mounting surface 42c, 42d, 42e, 42f Side surface 42g, 42i, 42k, 42m Concave portion 42h, 42j, 42n Grinding area

Claims (3)

研削砥石の研削加工面で被加工物を研削する研削ホイールであって、
基台と、該基台に環状に配列された複数の該研削砥石と、を備え、
該研削砥石の該研削加工面側には、研削液の流路となる複数の凹部が該研削砥石の側面で露出するように形成され
該研削砥石の長さと幅は異なり、
該凹部は、該研削砥石の長手方向に沿って形成され、該研削砥石の長手方向と垂直な方向に沿って形成されていないことを特徴とする研削ホイール。
A grinding wheel for grinding a workpiece with a grinding surface of a grinding wheel,
A base and a plurality of grinding wheels arranged in a ring on the base,
A plurality of recesses serving as flow paths for a grinding fluid are formed on the grinding surface side of the grinding wheel so as to be exposed on the side surface of the grinding wheel ,
The grinding wheels have different lengths and widths,
A grinding wheel, wherein the recess is formed along the longitudinal direction of the grinding wheel and not along the direction perpendicular to the longitudinal direction of the grinding wheel.
該凹部の深さは10μm以上であり、The recess has a depth of 10 μm or more,
該凹部の幅は120μm以上であることを特徴とする請求項1記載の研削ホイール。2. The grinding wheel of claim 1, wherein the width of said recess is greater than 120 .mu.m.
該凹部の深さは1mm以上であることを特徴とする請求項1又は2記載の研削ホイール。3. A grinding wheel according to claim 1, wherein said recess has a depth of 1 mm or more.
JP2018122925A 2018-06-28 2018-06-28 grinding wheel Active JP7158813B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018122925A JP7158813B2 (en) 2018-06-28 2018-06-28 grinding wheel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018122925A JP7158813B2 (en) 2018-06-28 2018-06-28 grinding wheel

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020001123A JP2020001123A (en) 2020-01-09
JP7158813B2 true JP7158813B2 (en) 2022-10-24

Family

ID=69098059

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018122925A Active JP7158813B2 (en) 2018-06-28 2018-06-28 grinding wheel

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7158813B2 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040029501A1 (en) 2000-10-20 2004-02-12 Middleton Stephen Victor Segmented wafer polishing pad
JP2004330401A (en) 2003-05-12 2004-11-25 Noritake Co Ltd Super abrasive grain wheel and its manufacturing method
JP2009233846A (en) 2008-03-26 2009-10-15 Kobe Steel Ltd Wet type grinding device and grinding wheel segment for the same

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61144963U (en) * 1985-02-26 1986-09-06
JPH02311272A (en) * 1989-05-22 1990-12-26 Kurimoto Ltd Manufacture of grinding panel for ceramics green
JPH03131478A (en) * 1989-10-09 1991-06-05 Seiichiro Ichikawa Diamond wheel for polishing stone material
US5243790A (en) * 1992-06-25 1993-09-14 Abrasifs Vega, Inc. Abrasive member
JPH07266239A (en) * 1994-03-25 1995-10-17 Hitachi Koki Co Ltd Diamond core bit

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040029501A1 (en) 2000-10-20 2004-02-12 Middleton Stephen Victor Segmented wafer polishing pad
JP2004330401A (en) 2003-05-12 2004-11-25 Noritake Co Ltd Super abrasive grain wheel and its manufacturing method
JP2009233846A (en) 2008-03-26 2009-10-15 Kobe Steel Ltd Wet type grinding device and grinding wheel segment for the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020001123A (en) 2020-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5461104B2 (en) Holding table and grinding device
JP2008084976A (en) Grinding method of wafer
US11612979B2 (en) Polishing pad
JP6736367B2 (en) Spindle unit
JP7019241B2 (en) Cutting blade mounting mechanism
JP5632215B2 (en) Grinding tool
JP6192778B2 (en) Silicon wafer processing equipment
JP2022160807A (en) Workpiece processing method
JP6938087B2 (en) Cutting blade mounting mechanism
TWI397955B (en) The cutting device of the workpiece
JP7171128B2 (en) Grinding equipment
JP2009099870A (en) Processing method for wafer
JPH11347902A (en) Sheet machining and machining device thereof
JP7158813B2 (en) grinding wheel
JP2008109006A (en) Wafer grinding method
TW202220048A (en) Processing machine
JP2012006123A (en) Cleaning method
JP7351669B2 (en) spindle unit
JP6713195B2 (en) Chuck table
JP2019062148A (en) Protective member processing method
JP7171131B2 (en) Workpiece grinding method
JP2019062147A (en) Protective member processing method
JP2014091193A (en) Grinding wheel
US20230330807A1 (en) Spindle unit
JP6980341B2 (en) How to process the protective member

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210401

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220224

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220405

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220601

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20221011

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20221011

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7158813

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150