JP7156145B2 - 密閉型ｘ線管およびｘ線発生装置 - Google Patents

Description

本発明は、密閉型Ｘ線管およびＸ線発生装置に関する。

従来、密閉型Ｘ線管が知られている（たとえば、特許文献１参照）。

上記特許文献１には、熱電子を放出するコイル状のフィラメントと、フィラメントからの熱電子を電子線に収束する集束電極を有する陰極と、陰極と対向して配置され、陰極からの電子線が衝突してＸ線を発生するターゲットを有する陽極と、陰極と陽極とを支持し、両電極を真空気密に内包する外囲器と、を備える密閉型Ｘ線管が開示されている。

上記特許文献１に開示されている密閉型Ｘ線管の外囲器は、胴体部と、陰極を支持する陰極支持体と、陰極支持体と胴体部とを接続する陰極接続部と、胴体部と陽極の陽極端とを接続する陽極接続部とから構成される。また、陰極支持体には、密閉型Ｘ線管の排気に用いられる排気管が結合されている。上記特許文献１には、排気管から排気した後に、排気管を封止切る（排気管を圧接し、切断する）ことにより、密閉型Ｘ線管を真空気密に保持する構成が開示されている。上記特許文献１に開示されている排気管は、銅などの柔らかい金属部材からなる肉厚の小さいパイプにより構成されている。

国際公開第２００７／０００９７１号

ここで、本願発明者らは、鋭意検討した結果、銅などの柔らかい金属部材からなる肉厚の小さいパイプにより封止管（排気管）が構成されている場合、封止管（排気管）から、Ｘ線が漏洩するということを発見した。

この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の１つの目的は、封止管から漏洩するＸ線が、外部に漏洩することを抑制することが可能な密閉型Ｘ線管およびＸ線発生装置を提供することである。

上記目的を達成するために、この発明の第１の局面における密閉型Ｘ線管は、電子が照射されることによりＸ線を発生させるターゲットと、ターゲットに対して電子を放出する電子放出部と、ターゲットおよび電子放出部を収容するとともに、内部が真空状態にされた真空筐体と、製造時において、真空筐体の内部を真空状態にするために排気された後に封止された封止部とを有する封止管と、重金属を含み、封止管の少なくとも封止部を覆うとともに、封止管から漏洩するＸ線の透過を抑制するＸ線透過抑制部材とを備え、真空筐体は、真空筐体の外表面から突出するように設けられた真空筐体を固定するためのフランジ部を有し、Ｘ線透過抑制部材は、真空筐体のフランジ部に締結されている。
この発明の第２の局面における密閉型Ｘ線管は、電子が照射されることによりＸ線を発生させるターゲットと、ターゲットに対して電子を放出する電子放出部と、ターゲットおよび電子放出部を収容するとともに、内部が真空状態にされた真空筐体と、製造時において、真空筐体の内部を真空状態にするために排気された後に封止された封止部とを有する封止管と、重金属を含み、封止管の少なくとも封止部を覆うとともに、封止管から漏洩するＸ線の透過を抑制するＸ線透過抑制部材とを備え、Ｘ線透過抑制部材は、凹形状を有する軽金属によって構成される封止部保護部と、封止部保護部の凹形状の内面側に設けられた重金属によって構成されるＸ線透過抑制部とを含む。

この発明の第３の局面におけるＸ線発生装置は、電子が照射されることによりＸ線を発生させるターゲットと、ターゲットに対して電子を放出する電子放出部と、製造時において、内部を真空状態にするために排気された後に封止された封止部を有する封止管と、を有する密閉型Ｘ線管と、密閉型Ｘ線管に電流を供給する電源装置と、外表面から密閉型Ｘ線管が突出するように配置されているとともに、電源装置が内部に配置された本体と、重金属を含み、封止管の封止部の延長線上の位置に配置されたＸ線透過抑制部材と、を備え、Ｘ線透過抑制部材は、本体の密閉型Ｘ線管が設けられている面において、密閉型Ｘ線管と並んで突出するとともに、封止部と対向する位置に設けられている。

本発明の第１および第２の局面による密閉型Ｘ線管では、上記のように、重金属を含み、封止管の少なくとも封止部を覆うとともに、封止管から漏洩するＸ線の透過を抑制するＸ線透過抑制部材を備える。ここで、封止部は、真空筐体を排気した後に、圧接などによって封止される。したがって、封止管において、封止部は、一般的に、他の部分よりも肉厚が小さい状態となる。そこで、重金属を含み、封止管の少なくとも封止部を覆うＸ線透過抑制部材を備えることにより、封止管内においてＸ線が漏洩しやすい封止部からＸ線が透過して漏洩するのを抑制することができる。その結果、封止管から漏洩するＸ線が、外部に漏洩することを抑制することが可能な密閉型Ｘ線管を提供することができる。

また、本発明の第３の局面におけるＸ線発生装置は、上記のように、重金属を含み、封止管の封止部の延長線上の位置に配置されたＸ線透過抑制部材を備える。これにより、封止部から漏洩するＸ線の照射方向にＸ線透過抑制部材を配置することができる。その結果、第１の局面における密閉型Ｘ線管と同様に、封止管から漏洩するＸ線が、外部に漏洩することを抑制することが可能なＸ線発生装置を提供することができる。

第１実施形態による密閉型Ｘ線管の全体構成を示したブロック図である。 第１実施形態による密閉型Ｘ線管を、Ｘ方向に沿った断面の模式図である。 第１実施形態による密閉型Ｘ線管を、Ｙ方向に沿った断面の模式図である。 第１実施形態による密閉型Ｘ線管をＺ２方向から見た模式図である。 第２実施形態によるＸ線発生装置を備える非破壊検査装置の構成を示したブロック図である。 第２実施形態によるＸ線発生装置の全体構成を示したブロック図である。 第２実施形態によるＸ線発生装置を、Ｘ方向に沿った断面の模式図である。 第２実施形態によるＸ線透過抑制部材をＸ２方向から見た模式図である。 第２実施形態によるＸ線発生装置をＺ２方向から見た模式図である。 第１実施形態の変形例による密閉型Ｘ線管のＸ方向に沿った断面の模式図である。 第２実施形態の第１変形例によるＸ線発生装置のＸ方向に沿った断面の模式図である。 第２実施形態の第２変形例によるＸ線発生装置が備えるＸ線透過抑制部材の模式図である。

以下、本発明を具体化した実施形態を図面に基づいて説明する。

［第１実施形態］
図１～図４を参照して、第１実施形態による密閉型Ｘ線管１の構成について説明する。

密閉型Ｘ線管１は、電源装置２０から電流が供給されることにより、Ｘ線を発生させるＸ線管である。

図１に示すように、密閉型Ｘ線管１は、ターゲット２と、電子放出部３と、真空筐体４と、封止管５と、Ｘ線透過抑制部材６と、窓７と、を備える。

ターゲット２は、電子が照射されることによりＸ線を発生させるように構成されている。ターゲット２は、たとえば、金属材料により構成されている。金属材料は、たとえば、銅、タングステン、モリブデン、コバルト、クロム、鉄、銀などを含む。

電子放出部３は、ターゲット２に対して電子を放出するように構成されている。具体的には、電子放出部３は、電源装置２０から電流が印加されることにより、電子を発生させる。また、電子放出部３は、発生させた電子を、高電圧を印加したターゲット２に対して放出するように構成されている。電子放出部３は、たとえば、重金属がコイル状または箔状に形成されたフィラメントを含む。フィラメントは、たとえば、タングステンなどによって構成されている。第１実施形態では、電子放出部３はコイル状に形成されたフィラメント３ａ（図３参照）によって構成されている。

真空筐体４は、ターゲット２および電子放出部３を収容するように構成されている。また、真空筐体４には、封止管５が設けられており、内部が真空状態にされている。

封止管５は、円筒形状を有している。封止管５は、たとえば、銅またはガラスによって構成されている。また、封止管５は、接続部５ａと、封止部５ｂとを有する。接続部５ａは、真空筐体４内に接続されている。封止部５ｂは、密閉型Ｘ線管１の製造時において、真空筐体４の内部を真空状態にするために排気された後に封止されることにより形成される。具体的には、ターボ分子ポンプなどの真空ポンプによって、真空筐体４の内部の気体が排気された後、封止管５が封止されることにより封止部５ｂが形成される。封止部５ｂは、たとえば、封止管５の接続部５ａとは反対側の所定の位置において、封止管５を両側から押しつぶすことにより、封止管５の内壁面を圧接することにより形成される。すなわち、封止部５ｂは、封止管５の接続部５ａとは反対側の所定の位置で圧接されることにより形成される。

Ｘ線透過抑制部材６は、重金属を含む。重金属とは、比重が４以上の金属のことである。Ｘ線透過抑制部材６に用いられる重金属は、少なくとも、金、銀、黄銅、タングステン、鉛のうちのいずれかを含む。なお、Ｘ線透過抑制部材６は、純金属から構成される必要はなく、Ｘ線の透過量を抑制することが可能であれば、上記重金属の合金で構成されていてもよい。本実施形態では、Ｘ線透過抑制部材６が、重金属として、黄銅を含む。黄銅は、たとえば、銅を主成分として５０％以上含み、鉛を１％以上含む。また、Ｘ線透過抑制部材６は、封止管５の少なくとも封止部５ｂを覆うように構成されている。また、Ｘ線透過抑制部材６は、Ｘ線透過抑制部材６を設けていない場合と比較して、封止管５から漏洩するＸ線の透過を抑制するように構成されている。

窓７は、ターゲット２において発生されたＸ線が透過するように構成されている。すなわち、密閉型Ｘ線管１は、ターゲット２および電子放出部３によって発生させたＸ線を、窓７から照射するように構成されている。窓７は、たとえば、ベリリウムによって構成されるベリリウム窓を含む。また、窓７は板状のカーボン窓でもよい。

図２に示すように、真空筐体４は、第１部材４ａおよび第２部材４ｂを含む。真空筐体４は、第１部材４ａおよび第２部材４ｂが接合されることにより形成される。第１部材４ａは、金属を含む。具体的には、第１部材４ａは、ステンレス鋼を含む。第２部材４ｂは、たとえば、ガラスを含む。

第１部材４ａは、Ｘ線の透過を抑制することが可能な厚みとなるように構成されている。一方、第２部材４ｂは、ガラスによって構成されているため、Ｘ線が透過する。しかしながら、密閉型Ｘ線管１は、一般的に、Ｘ線発生装置に取り付けられた状態で使用される。そのため、第２部材４ｂを透過したＸ線は、Ｘ線発生装置の筐体によって大部分が吸収されるため、Ｘ線発生装置の外部にＸ線が漏洩することが抑制される。すなわち、Ｘ線発生装置の筐体が、Ｘ線透過抑制部材６の役割を果たすため、第２部材４ｂから透過したＸ線の透過を抑制するためにＸ線透過抑制部材６を設けなくてもよい。

第１部材４ａは、第１フランジ部４０および側部４１を有している。第１フランジ部４０は、Ｘ線の照射方向（Ｚ方向）と直交する方向（Ｘ方向およびＹ方向）に突出するように第１部材４ａに設けられている。図２に示す例は、Ｘ方向に沿う断面図であるため、第１フランジ部４０のうち、Ｘ方向に突出する部分を図示している。側部４１は、Ｘ線の照射方向（Ｚ方向）に突出するように、第１部材４ａに設けられている。第１実施形態では、第１フランジ部４０は、側部４１のＺ２方向側の端部から、Ｘ方向に突出するように設けられている。なお、本明細書において、鉛直方向をＺ方向とし、上方向をＺ１方向、下方向をＺ２方向とする。水平方向で互いに直交する２方向をＸ方向およびＹ方向とする。Ｘ方向のうち、一方側をＸ１方向とし、他方側をＸ２方向とする。また、Ｙ方向のうち、一方側をＹ１方向とし、他方側をＹ２方向とする。図２に示す例では、Ｘ線の照射方向がＺ１方向となるように、密閉型Ｘ線管１が配置されている。

第１実施形態では、図２に示すように、第２部材４ｂは、Ｘ方向に沿う断面が凹形状を有している。また、第２部材４ｂは、凹形状の開口部分が、第１部材４ａの第１フランジ部４０のＺ２方向側の面に接合されている。

また、第１部材４ａには、封止管５が接続されている。具体的には、第１部材４ａには、開口部４２が形成されており、接続部５ａが、開口部４２にはまり込むことにより、封止管５が第１部材４ａに接続されている。図２に示す例では、封止管５は、Ｘ２方向側から第１部材４ａに接続している。

また、窓７は、第１部材４ａの側部４１のうち、Ｘ線の照射方向側（Ｚ１方向側）の端面４３に設けられている。

図３に示すように、ターゲット２は、第２部材４ｂに設けられている。具体的には、ターゲット２は、Ｚ方向に延びるように、第２部材４ｂに設けられている。また、ターゲット２のＺ１方向側の端部に傾斜面２ａが設けられている。窓７は、ターゲット２の傾斜面２ａの延長線上の位置となるように、第１部材４ａのＺ１方向側の端面４３に設けられている。電子放出部３は、ターゲット２の傾斜面２ａに対して電子を放出することが可能なように、第１部材４ａに設けられている。具体的には、電子放出部３は、Ｘ方向に延びるように、第１部材４ａに設けられている。電子放出部３は、破線８０に沿った方向（Ｘ方向）に電子を放出することにより、ターゲット２に対して電子を放出する。電子放出部３から放出された電子は、ターゲット２の傾斜面２ａにおいてターゲット２と衝突する。電子が衝突したことにより、ターゲット２の傾斜面２ａにおいて、Ｘ線が発生する。ターゲット２の傾斜面２ａにおいて発生したＸ線は、１点鎖線８１に示すように、Ｚ方向に沿って照射される。すなわち、ターゲット２の傾斜面２ａにおいて発生したＸ線は、窓７の方向に照射される。第１実施形態による密閉型Ｘ線管１は、電子放出部３から放出される電子の方向と、Ｘ線の照射方向とが異なる、いわゆる、反射型のＸ線管として構成されている。

図４に示すように、第１部材４ａのうち、ターゲット２が収容される部分は、平面視において正方形形状を有している。また、第１部材４ａのうち、電子放出部３が収容されている部分は、平面視において、Ｙ方向に長辺を有する長方形形状を有している。窓７が設けられる面４３は、平面視において、四角形形状（正方形形状）を有している。また、第１フランジ部４０は、平面視において、円形形状を有している。また、第１フランジ部４０は、ねじによってＸ線発生装置に固定可能なように、ねじ穴４０ａが設けられている。なお、第１部材４ａの形状は、図４に示した形状以外の形状であってもよい。たとえば、第１部材４ａのうち、ターゲット２が収容される部分は、平面視において長方形形状を有していてもよい。また、第１部材４ａのうち、電子放出部３が収容されている部分は、平面視において、長方形形状を有していなくてもよい。たとえば、第１部材４ａのうち、電子放出部３が収容されている部分は、平面視において、正方形形状または円形形状を有していてもよい。また、窓７は、平面視において、四角形形状を有していなくてもよい。たとえば、窓７は、平面視において、円形形状を有していてもよい。また、第１フランジ部４０は、平面視において、円形形状を有していなくてもよい。たとえば、第１フランジ部４０は、平面視において、四角形形状を有していてもよい。

ここで、ターゲット２において発生したＸ線のすべてが、窓７に向けて（１点鎖線８１の方向に沿って）照射されるわけではない。たとえば、図２の２点鎖線８２および破線８３に示すように、真空筐体４の側部４１の方向（Ｘ１方向）および封止部５ｂの方向（Ｘ２）方向に照射されるＸ線も存在する。

Ｘ線がＸ１方向（破線８３の方向）に照射された場合には、真空筐体４においてＸ線の透過が抑制されるため、密閉型Ｘ線管１の外部に放射されて漏れ出るＸ線量は少なくなる。しかし、Ｘ線が２点鎖線８２の方向に照射された場合、Ｘ線は、封止管５を透過する。すなわち、本発明の発明者らは、封止管５から密閉型Ｘ線管１の外部にＸ線が漏洩することを発見した。

そこで、第１実施形態では、密閉型Ｘ線管１は、真空筐体４のうちの、封止管５から漏洩するＸ線の透過を抑制するため、Ｘ線透過抑制部材６を備えている。なお、封止管５から漏洩するＸ線の透過を抑制するとは、Ｘ線の線量が人体などに影響がない基準値の範囲内となるように、透過するＸ線を吸収することを含む概念である。すなわち、封止管５から漏洩するＸ線を完全に遮蔽することを意味しているわけではなく、基準値の範囲内であれば、封止管５からＸ線が漏洩することを許容する概念である。

封止部５ｂは、封止管５が圧接されることにより形成される。そのため、封止部５ｂの肉厚は、接続部５ａの肉厚よりも小さい。したがって、封止部５ｂは、接続部５ａよりも、透過するＸ線の線量が多くなる。そこで、第１実施形態では、Ｘ線透過抑制部材６は、接続部５ａから漏洩するＸ線の出射方向に設けられている。図２に示すように、封止部５ｂは、接続部５ａに照射されるＸ線の延長線上に位置している。したがって、接続部５ａから漏洩するＸ線の出射方向にＸ線透過抑制部材６を配置することにより、封止管５において、接続部５ａから透過するＸ線のみならず、接続部５ａよりも先端側（Ｘ２方向側）に位置する封止部５ｂから透過するＸ線についても、密閉型Ｘ線管１の外部に漏洩することを抑制することができる。

第１実施形態では、Ｘ線透過抑制部材６は、ターゲット２と接続部５ａとを結ぶ直線（２点鎖線８２）の接続部５ａ側の延長線上に配置されている。Ｘ線透過抑制部材６は、少なくとも、ターゲット２と接続部５ａとを結ぶ直線（２点鎖線８２）の接続部５ａ側の延長線上において、重金属を含む。

第１実施形態では、Ｘ線透過抑制部材６は、封止管５の封止部５ｂが配置される凹部６ｃを有している。重金属は、少なくとも、凹部６ｃの内面部分に設けられている。Ｘ線透過抑制部材６は、少なくとも、軽金属または樹脂によって構成される封止部保護部６０と、重金属によって構成されるＸ線透過抑制部６１とを含む。図２に示す例では、封止部保護部６０は、凹形状を有する軽金属によって形成されている。封止部保護部６０は、たとえば、アルミ鋼を含む。Ｘ線透過抑制部６１は、封止部保護部６０の内面側に設けられている。すなわち、Ｘ線透過抑制部材６の凹部６ｃの内面部分に設けられた重金属が、Ｘ線透過抑制部６１として機能する。なお、図２に示す例は、Ｘ方向に沿った断面図であるため、Ｘ線透過抑制部材６をコ字状に図示しているが、Ｘ線透過抑制部材６は、Ｙ方向の両側（Ｙ１方向側およびＹ２方向側）においても側面を有しており、封止管５の封止部５ｂを覆うようことが可能なように構成されている。

また、Ｘ線透過抑制部材６は、真空筐体４に固定されている。具体的には、Ｚ方向におけるＸ線透過抑制部材６の真空筐体４側の端部６ａには、第２フランジ部６ｂが設けられている。第２フランジ部６ｂには、貫通穴が設けられている。また、真空筐体４には、ねじ溝が設けられている。Ｘ線透過抑制部材６は、ねじ３０ａによってねじ締結されることにより、真空筐体４に固定されている。

また、第１実施形態では、Ｘ線透過抑制部材６の窓７側の端部６ｄは、窓７よりも、Ｘ線の照射方向の反対側に位置するように設けられている。言い換えると、Ｘ線の照射方向において、窓７は、Ｘ線透過抑制部材６よりも突出した位置に設けられている。

（第１実施形態の効果）
第１実施形態では、以下のような効果を得ることができる。

第１実施形態では、上記のように、密閉型Ｘ線管１は、電子が照射されることによりＸ線を発生させるターゲット２と、ターゲット２に対して電子を放出する電子放出部３と、ターゲット２および電子放出部３を収容するとともに、内部が真空状態にされた真空筐体４と、製造時において、真空筐体４の内部を真空状態にするために排気された後に封止された封止部５ｂとを有する封止管５と、重金属を含み、封止管５の少なくとも封止部５ｂを覆うとともに、封止管５から漏洩するＸ線の透過を抑制するＸ線透過抑制部材６と、を備えている。これにより、封止管５内においてＸ線が漏洩しやすい封止部５ｂからＸ線が透過して漏洩するのを抑制することができる。その結果、封止管５から漏洩するＸ線が、外部に漏洩することを抑制することが可能な密閉型Ｘ線管１を提供することができる。

また、第１実施形態では、上記のように、封止管５は、真空筐体４内に接続される接続部５ａを有しており、Ｘ線透過抑制部材６は、真空筐体４のうちの、接続部５ａから漏洩するＸ線の出射方向に設けられている。ここで、接続部５ａに照射されるＸ線の出射方向の延長線上には、封止部５ｂが設けられている。したがって、上記のように構成することにより、Ｘ線透過抑制部材６によって、接続部５ａから漏洩するＸ線の透過を抑制することができる。その結果、接続部５ａに照射されるＸ線の照射方向において、接続部５ａよりもＸ線の照射方向側に位置する封止部５ｂから漏洩するＸ線の透過を抑制することができる。

また、第１実施形態では、上記のように、Ｘ線透過抑制部材６は、少なくとも、ターゲット２と接続部５ａとを結ぶ直線の接続部５ａ側の延長線上において、重金属を含む。これにより、ターゲット２から接続部５ａに向かって照射されるＸ線の照射方向に、重金属を配置することができる。その結果、封止管５から漏洩するＸ線が出射される位置に、重金属を容易に配置することができる。

また、第１実施形態では、上記のように、Ｘ線透過抑制部材６は、封止管５の封止部５ｂが配置される凹部６ｃを有しており、重金属は、少なくとも、凹部６ｃの内面部分に設けられている。これにより、凹部６ｃによって封止部５ｂの周囲を覆うことが可能となるので、封止部５ｂの周囲に容易に重金属を配置することができる。その結果、封止部５ｂから漏洩するＸ線の透過量を容易に低減することができる。

また、第１実施形態では、上記のように、Ｘ線透過抑制部材６は、真空筐体４に固定されている。これにより、Ｘ線透過抑制部材６を真空筐体４に対して安定して配置することができる。その結果、Ｘ線透過抑制部材６に対して外部から衝撃が加わった場合でも、Ｘ線透過抑制部材６が封止管５とともに揺動することを抑制することが可能となり、Ｘ線透過抑制部材６を、封止部５ｂを保護する保護部材として機能させることができる。

また、第１実施形態では、上記のように、真空筐体４は、Ｘ線が透過する窓７を有しており、Ｘ線透過抑制部材６の窓７側の端部６ｄは、窓７よりも、Ｘ線の照射方向の反対側に位置するように設けられている。これにより、Ｘ線透過抑制部材６の窓７側の端部６ｄが、Ｘ線の照射方向（Ｚ方向）において、窓７よりも突出することを抑制することができる。その結果、たとえば、Ｘ線透過抑制部材６が窓７よりも突出している構成とは異なり、窓７から照射されるＸ線の一部が、Ｘ線透過抑制部材６によって、遮られることを抑制することができる。

また、第１実施形態では、上記のように、重金属は、少なくとも、金、銀、黄銅、タングステン、鉛のうちのいずれかを含む。これにより、Ｘ線透過抑制部材６において、Ｘ線が透過することを容易に抑制することができる。

また、第１実施形態では、上記のように、Ｘ線透過抑制部材６は、少なくとも、軽金属または樹脂によって構成される封止部保護部６０と、重金属によって構成されるＸ線透過抑制部６１とを含む。これにより、Ｘ線透過抑制部材６が重金属のみによって構成されている場合と比較して、Ｘ線透過抑制部材６の重量が大きくなることを抑制することができる。その結果、Ｘ線透過抑制部材６を真空筐体４に取り付ける際に、Ｘ線透過抑制部材６の取り扱い（ハンドリング）を容易にすることができる。

［第２実施形態］
次に、図５～図９を参照して、第２実施形態によるＸ線発生装置１００の構成について説明する。

図５に示すように、第２実施形態におけるＸ線発生装置１００は、たとえば、非破壊検査装置２００に設けられる。非破壊検査装置２００は、被写体ＷのＸ線画像を撮像することにより、被写体Ｗの内部を検査する。

非破壊検査装置２００は、Ｘ線発生装置１００と、検出器１０１と、制御部１０２と、被写体Ｗが載置されるステージ１０３と、を備える。

Ｘ線発生装置１００は、検出器１０１に対してＸ線を照射するように構成されている。Ｘ線発生装置１００の詳細な構成については、後述する。

検出器１０１は、Ｘ線発生装置１００から照射されたＸ線を検出するように構成されている。検出器１０１は、たとえば、ＦＰＤ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｅｔｅｃｔｏｒ）を含む。検出器１０１は、複数の変換素子（図示せず）と複数の変換素子上に配置された画素電極（図示せず）とにより構成されている。複数の変換素子および画素電極は、所定の周期（画素ピッチ）で、検出面上においてアレイ状に配列されている。また、検出器１０１は、取得した画像信号を、制御部１０２に出力するように構成されている。

制御部１０２は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）およびＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）などを含んで構成されたコンピュータである。制御部１０２は、ＣＰＵが所定の制御プログラムを実行することにより、非破壊検査装置２００の各部を制御する制御部として機能する。

また、制御部１０２は、Ｘ線発生装置１００を制御することにより、Ｘ線を照射されるように構成されている。

また、制御部１０２は、検出器１０１から出力された画像信号に基づいて、被写体ＷのＸ線画像を生成するように構成されている。制御部１０２は、たとえば、ＧＰＵ（Ｇｒａｐｈｉｃｓ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）または画像処理用に構成されたＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ－Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｇａｔｅ Ａｒｒａｙ）などのプロセッサを含む。

ステージ１０３は、撮像する被写体Ｗを載置可能に構成されている。また、ステージ１０３は、制御部１０２の制御の下、所定の角度に傾動可能に構成されている。ステージ１０３は、平板形状を有している。ステージ１０３は、Ｙ方向に沿う方向の中心軸９０を中心に、傾動可能に構成されている。また、ステージ１０３は、Ｘ方向に沿う方向の中心軸線９１を中心に、傾動可能に構成されている。すなわち、ステージ１０３は、ＸＹ平面内において、Ｘ方向およびＹ方向を軸線とする２軸で傾動可能に構成されている。

Ｘ線発生装置１００は、ステージ１０３に対して、Ｚ２方向側からＺ１方向に対してＸ線を照射可能に、ステージ１０３のＺ２側に配置されている。

（Ｘ線発生装置の構成）
次に、図６～図９を参照して、第２実施形態によるＸ線発生装置１００の構成について説明する。

図６に示すように、Ｘ線発生装置１００は、密閉型Ｘ線管１０と、電源装置２０と、本体８と、Ｘ線透過抑制部材１６と、を備える。

密閉型Ｘ線管１０は、ターゲット２と、電子放出部３と、封止管５と、を有する。ターゲット２は、電子が照射されることによりＸ線を発生させるように構成されている。電子放出部３は、ターゲット２に対して電子を放出するように構成されている。封止管５は、製造時において、密閉型Ｘ線管１の内部を真空状態にするために排気された後に封止された封止部５ｂを有する。第２実施形態における密閉型Ｘ線管１０は、Ｘ線透過抑制部材６を備えていない点を除いて、上記第１実施形態による密閉型Ｘ線管１と同様の構成であるため、詳細な説明は省略する。

電源装置２０は、外部電源（図示せず）に接続されており、密閉型Ｘ線管１０に対して高圧電流を供給するように構成されている。電源装置２０は、たとえば、スイッチ、コンデンサ、および、抵抗器などから構成される電源回路を含む。

本体８には、本体８の外表面８ａから密閉型Ｘ線管１０が突出するように配置されている。また、本体８には、電源装置２０が内部に配置されている。本体８は、たとえば、金属材料によって構成されている。具体的には、本体８は、鉄鋼材によって構成されている。

Ｘ線透過抑制部材１６は、重金属を含む。重金属は、少なくとも、金、銀、黄銅、タングステン、鉛のうちのいずれかを含む。第２実施形態では、重金属は、黄銅を含む。

図７に示すように、第２実施形態では、密閉型Ｘ線管１０は、ねじ３０ｂによって、本体８にねじ締結されている。

封止管５は、本体８の外側において、密閉型Ｘ線管１０から突出して設けられている。具体的には、密閉型Ｘ線管１０は、本体８の外表面８ａから突出して、本体８に設けられている。Ｘ線透過抑制部材１６は、本体８の密閉型Ｘ線管１０が設けられている面８ａにおいて、保護部材９と対向する位置に設けられている。

また、第２実施形態では、密閉型Ｘ線管１０は、窓７が設けられる面４３と、窓７に対して直交する方向の側部４１とを有している。封止管５は、密閉型Ｘ線管１０のうちの側部４１に設けられている。なお、窓７が設けられる面４３は、密閉型Ｘ線管１のうち、本体８と反対側（Ｚ１方向側）の端面である。すなわち、窓７が設けられる面４３は、本体８の外表面８ａから突出する方向の端面である。

第２実施形態のよるＸ線発生装置１００は、封止管５の封止部５ｂを少なくとも保護する保護部材９を備える。保護部材９は、凹形状を有しており、凹状形状の内部に封止部５ｂが配置される。また、保護部材９の内部は、樹脂（図示せず）などによってモールドされている。

第２実施形態では、Ｘ線透過抑制部材１６は、封止管５の封止部５ｂの延長線上の位置に配置されている。具体的には、Ｘ線透過抑制部材１６は、少なくとも、ターゲット２と封止管５の封止部５ｂとを結ぶ直線（２点鎖線８２）の封止部５ｂ側の延長線上に配置されている。より具体的には、Ｘ線透過抑制部材１６は、少なくとも、ターゲット２と封止管５の封止部５ｂとを結ぶ直線（２点鎖線８２）の封止管５の前記封止部５ｂ側の延長線上において、重金属を含む。なお、図７に示す例では、Ｘ線透過抑制部材１６は、重金属（黄銅）のみで構成されている。

また、Ｘ線透過抑制部材１６は、本体８に設けられている。具体的には、Ｘ線透過抑制部材１６の窓７側の端部１６ａの反対側（Ｚ２方向側）の端部１６ｃには、第３フランジ部１６ｄが設けられている。第３フランジ部１６ｄには長穴１６ｅが設けられている。Ｘ線透過抑制部材１６は、長穴１６ｅを貫通するねじ３０ｃによって、第３フランジ部１６ｄを介して本体８にねじ締結されることにより固定されている。

図７に示すように、Ｘ線透過抑制部材１６は、封止管５から漏洩するＸ線の照射方向において、保護部材９の外側（Ｘ２方向側）に配置されている。

また、Ｘ線透過抑制部材１６の窓７側の端部１６ａは、窓７よりも、Ｘ線の照射方向の反対側（Ｚ２方向側）に位置するように設けられている。言い換えると、Ｘ線の照射方向において、窓７は、Ｘ線透過抑制部材１６よりも突出した位置に設けられている。

また、Ｘ線透過抑制部材１６のＸ線の照射方向側（窓７側）の端部１６ａには、Ｘ線の照射方向と反対側の方向（Ｚ２方向）において、窓７から離れるにつれて、窓７から離間する距離が大きくなる第１傾斜部１６ｂが設けられている。第１傾斜部１６ｂの傾斜面は、角度が一定となるように形成されている。

また、Ｘ線透過抑制部材１６の端部１６ｃのＸ１方向側には、切り欠き部１６ｆが設けられている。Ｘ線透過抑制部材１６において切り欠き部１６ｆを設けることにより、Ｘ線透過抑制部材１６と第１フランジ部４０とが干渉することを抑制することができる。したがって、Ｘ方向における切り欠き部１６ｆの長さｄ１分、Ｘ線透過抑制部材１６を保護部材９に近づけた位置に配置することができる。

図８に示すように、Ｘ線透過抑制部材１６には、Ｘ線の照射方向と反対側の方向（Ｚ２方向）において、窓７から離れるにつれて、窓７から離間する距離が大きくなる第２傾斜部１６ｇが設けられている。具体的には、第２傾斜部１６ｇは、Ｘ線透過抑制部材１６の窓７側の端部１６ａにおいて、Ｙ方向の両端部に設けられている。第２傾斜部１６ｇの傾斜面は、角度が一定となるように形成されている。

図９に示すように、第２実施形態におけるＸ線透過抑制部材１６は、第１傾斜部１６ｂおよび第２傾斜部１６ｇが設けられている。また、Ｘ線透過抑制部材１６には、切り欠き部１６ｆが設けられているため、Ｘ線透過抑制部材１６を保護部材９に隣接した位置に配置することができる。

また、図９に示すように、Ｘ線透過抑制部材１６は、Ｘ線透過抑制部材１６と保護部材９との間の長さｄ２が、封止管５の長さｄ３よりも小さくなる位置に設けられている。また、Ｘ線透過抑制部材１６は、Ｘ線透過抑制部材１６のＸ１方向側の端面が、保護部材９のＸ２方向側の端面と、第１フランジ部４０のＸ２方向側の端部との間の位置となるように配置されている。

なお、第２実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態と同様である。

（第２実施形態の効果）
第２実施形態では、以下のような効果を得ることができる。

第２実施形態では、上記のように、Ｘ線発生装置１００は、電子が照射されることによりＸ線を発生させるターゲット２と、ターゲット２に対して電子を放出する電子放出部３と、製造時において、内部を真空状態にするために排気された後に封止された封止部５ｂを有する封止管５と、を有する密閉型Ｘ線管１と、密閉型Ｘ線管１０に電流を供給する電源装置２０と、外表面８ａから密閉型Ｘ線管１０が突出するように配置されているとともに、電源装置２０が内部に配置された本体８と、重金属を含み、封止管５の封止部５ｂの延長線上の位置に配置されたＸ線透過抑制部材１６と、を備える。これにより、封止部５ｂから漏洩するＸ線の照射方向（Ｘ２方向）にＸ線透過抑制部材１６を配置することができる。その結果、上記第１実施形態における密閉型Ｘ線管１０と同様に、封止管５から漏洩するＸ線が、外部に漏洩することを抑制することが可能なＸ線発生装置１００を提供することができる。

また、第２実施形態では、上記のように、Ｘ線透過抑制部材１６は、少なくとも、ターゲット２と封止管５の封止部５ｂとを結ぶ直線の封止管５の封止部５ｂ側の延長線上において、重金属を含む。これにより、ターゲット２から接続部５ａに向かって照射されるＸ線の照射方向に、重金属を配置することができる。その結果、封止管５から漏洩するＸ線が出射される位置に、重金属を容易に配置することができる。

また、第２実施形態では、上記のように、Ｘ線透過抑制部材１６は、本体８に設けられている。これにより、Ｘ線透過抑制部材１６を密閉型Ｘ線管１０とは別個に本体８に配置することができる。その結果、密閉型Ｘ線管１０にＸ線透過抑制部材１６が一体形成されている構成とは異なり、密閉型Ｘ線管１０の交換時に、Ｘ線透過抑制部材１６を密閉型Ｘ線管１０とともに交換することなく、再利用することができる。また、Ｘ線透過抑制部材１６が設けられていない既存のＸ線発生装置に対してＸ線透過抑制部材１６を後から取り付ける（後付けする）ことにより、第２実施形態におけるＸ線発生装置１００と同様に、封止管５（封止部５ｂ）から漏洩するＸ線の透過を抑制することができる。

また、第２実施形態では、上記のように、封止管５の封止部５ｂを少なくとも保護する保護部材９をさらに備え、Ｘ線透過抑制部材１６は、封止管５から漏洩するＸ線の照射方向において、保護部材９の外側に配置されている。これにより、密閉型Ｘ線管１０を本体８に取り付ける際に、保護部材９によって封止部５ｂが破損することを抑制することが可能であるとともに、Ｘ線透過抑制部材１６によって封止部５ｂから漏洩するＸ線の透過を抑制することができる。

また、第２実施形態では、上記のように、封止管５は、本体８の外側において、密閉型Ｘ線管１０から突出して設けられており、Ｘ線透過抑制部材１６は、本体８の密閉型Ｘ線管１０が設けられている面８ａにおいて、保護部材９と対向する位置に設けられている。これにより、封止管５から漏洩するＸ線の透過を抑制することが可能な位置に、Ｘ線透過抑制部材１６を容易に配置することができる。

また、第２実施形態では、上記のように、密閉型Ｘ線管１０は、Ｘ線が透過する窓７を有しており、Ｘ線透過抑制部材１６の窓７側の端部１６ａは、窓７よりも、Ｘ線の照射方向の反対側に位置するように設けられている。これにより、Ｘ線透過抑制部材１６の窓７側の端部１６ａが、Ｘ線の照射方向（Ｚ方向）において、窓７よりも突出することを抑制することができる。その結果、たとえば、Ｘ線透過抑制部材１６が窓７よりも突出している構成とは異なり、窓７から照射されるＸ線の一部が、Ｘ線透過抑制部材１６によって、遮られることを抑制することができる。

また、第２実施形態では、上記のように、密閉型Ｘ線管１０は、窓７が設けられる面４３と、窓７に対して直交する方向の側部４１とを有しているとともに、封止管５は、側部４１に設けられており、Ｘ線透過抑制部材１６のＸ線の照射方向側の端部１６ａには、Ｘ線の照射方向と反対側の方向において、窓７から離れるにつれて、窓７から離間する距離が大きくなる第１傾斜部１６ｂおよび第２傾斜部１６ｇが設けられている。これにより、たとえば、密閉型Ｘ線管１０を、被写体Ｗを傾けて撮像するステージ１０３を備える非破壊検査装置２００などに搭載する際に、Ｘ線透過抑制部材１６が第１傾斜部１６ｂおよび第２傾斜部１６ｇを有していない構成と比較して、ステージ１０３の傾動角度が小さくなることを抑制することができる。その結果、非破壊検査装置２００などのステージ１０３の傾動角を大きくすることが可能なＸ線発生装置１００を提供することができる。

また、第２実施形態では、上記のように、Ｘ線透過抑制部材１６は、長穴１６ｅが設けられている。ここで、封止管５は、真空筐体４内を真空状態にした後、人手によって圧接され封止される。そのため、封止部５ｂの位置を精度よく製造することが難しい。そこで、上記のように構成することにより、Ｘ線透過抑制部材１６を本体８に取り付ける際に、長穴１６ｅによって、Ｘ線透過抑制部材１６を取り付ける位置の調整を行うことができる。その結果、封止部５ｂの位置精度が良くない場合でも、Ｘ線発生装置１００に対して、容易にＸ線透過抑制部材１６を取り付けることができる。

また、第２実施形態では、上記のように、重金属は、少なくとも、金、銀、黄銅、タングステン、鉛のうちのいずれかを含む。これにより、Ｘ線透過抑制部材１６において、Ｘ線が透過することを容易に抑制することができる。その結果、Ｘ線が透過することを容易に抑制することが可能なＸ線発生装置１００を提供することができる。

なお、第２実施形態におけるその他の効果は、上記第１実施形態と同様である。

［変形例］
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更（変形例）が含まれる。

（第１実施形態の変形例）
たとえば、上記第１実施形態では、密閉型Ｘ線管１が反射型のＸ線管の例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、図１０に示す変形例による密閉型Ｘ線管１１０のように、透過型のＸ線管として構成されていてもよい。具体的には、密閉型Ｘ線管１１０は、第１実施形態による密閉型Ｘ線管１において窓７が設けられた位置に、薄膜型のターゲット１２が配置されている。電子放出部１３は、フィラメント１３ａを有している。密閉型Ｘ線管１１０では、電子放出部１３は、薄膜型のターゲット１２に対してＺ方向に電子を照射するように構成されている。電子放出部１３から照射された電子がターゲット１２に衝突することにより、ターゲット１２から１点鎖線８１の方向にＸ線が照射される。この際、２点鎖線８２の方向にもＸ線が照射される。そのため、密閉型Ｘ線管１１０がＸ線透過抑制部材６を備えることにより、封止管５から漏洩するＸ線の透過を抑制することができる。また、上記第２実施形態における密閉型Ｘ線管１０を、透過型の密閉型Ｘ線管として構成してもよい。

（第２実施形態の第１変形例）
また、上記第２実施形態では、第１傾斜部１６ｂの傾斜角度が一定である構成の例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、図１１に示す第２実施形態の第１変形例によるＸ線透過抑制部材２６のように、第１傾斜部２６ａは、傾斜角が変化してもよい。具体的には、第１傾斜部２６ａは、円弧形状を有するように構成されていてもよい。なお、第２実施形態の第１変形例によるＸ線透過抑制部材２６は、第４フランジ部２６ｂと、長穴２６ｃと、切り欠き部２６ｄとを有している。Ｘ線透過抑制部材２６が有する第４フランジ部２６ｂ、長穴２６ｃ、および、切り欠き部２６ｄは、それぞれ、上記第２実施形態によるＸ線透過抑制部材１６が有する第３フランジ部１６ｄ、長穴１６ｅ、および、切り欠き部１６ｆと同様の構成であるため、詳細な説明は省略する。

（第２実施形態の第２変形例）
また、上記第２実施形態では、第２傾斜部１６ｇの傾斜角度が一定である構成の例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、図１２に示す第２実施形態の第２変形例によるＸ線透過抑制部材３６のように、第２傾斜部３６ａは、傾斜角が変化してもよい。具体的には、第２傾斜部３６ａは、円弧形状を有するように構成されていてもよい。また、Ｘ線透過抑制部材１６は、上記第１傾斜部２６ａと、第２傾斜部３６ａとを有していてもよい。また、Ｘ線透過抑制部材１６は、第１傾斜部１６ｂ、第１傾斜部２６ａ、第２傾斜部１６ｇ、および、第２傾斜部３６ａを組み合わせた構成であってもよい。なお、第２実施形態の第２変形例によるＸ線透過抑制部材３６は、第５フランジ部３６ｂと、長穴３６ｃと、切り欠き部（図示せず）とを有している。Ｘ線透過抑制部材３６が有する第５フランジ部３６ｂ、長穴３６ｃ、および、切り欠き部は、それぞれ、上記第２実施形態によるＸ線透過抑制部材１６が有する第３フランジ部１６ｄ、長穴１６ｅ、および、切り欠き部１６ｆと同様の構成であるため、詳細な説明は省略する。

（その他の変形例）
また、上記第１実施形態では、接続部５ａから漏洩するＸ線の出射方向にＸ線透過抑制部材６を設ける構成の例を示したが、本発明はこれに限られない。Ｘ線透過抑制部材６は、接続部５ａから漏洩するＸ線の出射方向以外の位置に設けられていてもよい。たとえば、Ｘ線透過抑制部材６は、封止部５ｂから漏洩するＸ線の出射方向に設けられていてもよい。

また、上記第１および第２実施形態では、Ｘ線透過抑制部材６およびＸ線透過抑制部材１６が、ターゲット２と接続部５ａとを結ぶ直線（２点鎖線８２）の接続部５ａ側の延長線上において重金属を含む構成の例を示したが、本発明はこれに限られない。Ｘ線透過抑制部材６およびＸ線透過抑制部材１６は、ターゲット２と接続部５ａとを結ぶ直線（２点鎖線８２）の接続部５ａ側の延長線上以外の位置において重金属を含む構成であってもよい。たとえば、Ｘ線透過抑制部材６およびＸ線透過抑制部材１６は、ターゲット２と封止部５ｂとを結ぶ直線の封止部５ｂ側の延長線上以外の位置において重金属を含む構成であってもよい。

また、上記第１実施形態では、Ｘ線透過抑制部材６が凹部６ｃを有している構成の例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、Ｘ線透過抑制部材６は、凹部６ｃを有していなくてもよい。封止管５（封止部５ｂ）を保護することが可能であるとともに、封止管５から漏洩するＸ線の透過を抑制することが可能であれば、Ｘ線透過抑制部材６の形状は、どのような形状であってもよい。

また、上記第１実施形態では、Ｘ線透過抑制部材６が凹部６ｃの内面部分に重金属を含む構成の例を示したが、本発明はこれに限られない。Ｘ線透過抑制部材６は、封止管５から漏洩するＸ線の透過を抑制することが可能な位置に重金属を含んでいれば、凹部６ｃの内面部分の全体に重金属を含んでいなくてもよい。

また、上記第１実施形態では、Ｘ線透過抑制部材６が真空筐体４に固定される構成の例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、Ｘ線透過抑制部材６は、真空筐体４に固定されていなくてもよい。しかし、Ｘ線透過抑制部材６が真空筐体４に固定されていない場合、Ｘ線透過抑制部材６の位置が安定しないため、Ｘ線透過抑制部材６は真空筐体４に固定されていることが好ましい。

また、上記第１および第２実施形態では、Ｘ線透過抑制部材６の窓７側の端部６ｄおよびＸ線透過抑制部材１６の窓７側の端部１６ａが、窓７よりもＸ線の照射方向の反対側（Ｚ２方向側）に位置する構成の例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、Ｘ線透過抑制部材６の窓７側の端部６ｄおよびＸ線透過抑制部材１６の窓７側の端部１６ａは、Ｘ線照射方向において、窓７と同じ位置、または、窓７よりも突出する位置に配置されてもよい。しかしながら、Ｘ線透過抑制部材６の窓７側の端部６ｄおよびＸ線透過抑制部材１６の窓７側の端部１６ａが窓７よりも突出している場合、被写体Ｗを載置した状態で傾動するステージ１０３を備える非破壊検査装置２００のＸ線発生装置としてＸ線発生装置１００を組み込むと、ステージ１０３の傾動可能な角度範囲が狭くなる。したがって、Ｘ線透過抑制部材６の窓７側の端部６ｄおよびＸ線透過抑制部材１６の窓７側の端部１６ａは、窓７よりもＸ線の照射方向の反対側（Ｚ２方向側）に位置する構成のほうが好ましい。

また、上記第１および第２実施形態では、重金属が黄銅である例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、重金属は、金、銀、タングステン、および、鉛のうちのいずれかであってもよい。封止管５から漏洩するＸ線の透過を抑制することが可能であれば、重金属は、どのような金属であってもよい。

また、上記第１実施形態では、封止部保護部６０が、凹形状を有するアルミ鋼によって構成される例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、封止部保護部６０は、アルミ以外の軽金属、または、樹脂などによって構成されていてもよい。また、封止部保護部６０は、凹形状を有していなくてもよい。封止部保護部６０は、Ｌ字状形状であってもよい。封止部５ｂを保護することが可能であれば、封止部保護部６０は、どのような形状であってもよい。

また、上記第２実施形態では、保護部材９が軽金属または樹脂で構成される例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、保護部材９は、重金属を含むことでＸ線透過抑制の機能を有してもよい。すなわち、第１実施形態による密閉型Ｘ線管１と、第２実施形態によるＸ線発生装置１００とを組み合わせた構成であってもよい。

また、上記第１実施形態では、Ｘ線透過抑制部材６が、封止部保護部６０およびＸ線透過抑制部６１を含む構成の例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、Ｘ線透過抑制部材６は、Ｘ線透過抑制部６１のみから構成されていてもよい。すなわち、Ｘ線透過抑制部材６は、重金属のみによって構成されていてもよい。

また、上記第２実施形態では、Ｘ線透過抑制部材１６が本体８に設けられる構成の例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、Ｘ線透過抑制部材１６は、密閉型Ｘ線管１０の真空筐体４に設けられていてもよい。

また、上記第２実施形態では、Ｘ線発生装置１００が保護部材９を備える構成の例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、Ｘ線発生装置１００は、保護部材９を備えていなくてもよい。しかしながら、Ｘ線発生装置１００が保護部材９を備えていない場合、密閉型Ｘ線管１０を本体８に組付ける際などに、封止部５ｂが破損する可能性があるため、Ｘ線発生装置１００は、保護部材９を備えていたほうがよい。

また、上記第２実施形態では、Ｘ線透過抑制部材１６が第１傾斜部１６ｂおよび第２傾斜部１６ｇを有する構成の例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、Ｘ線透過抑制部材１６は、第１傾斜部１６ｂおよび第２傾斜部１６ｇのうち、いずれかのみを有する構成であってもよい。また、Ｘ線透過抑制部材１６は、第１傾斜部１６ｂおよび第２傾斜部１６ｇを有していなくてもよい。

また、上記第２実施形態では、Ｘ線透過抑制部材１６において、長穴１６ｅが設けられている構成の例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、本体８に長穴が設けられ、Ｘ線透過抑制部材１６は、長穴でない貫通穴が設けられていてもよい。また、Ｘ線透過抑制部材１６に長穴１６ｅが設けられているとともに、本体８においても長穴が設けられていてもよい。本体８にも長穴を設ける場合、互いの長穴が延びる方向を、それぞれ、Ｘ方向およびＹ方向とすることにより、Ｘ方向およびＹ方向において、Ｘ線透過抑制部材１６の位置調整を行うことができる。また、上記第１実施形態におけるＸ線透過抑制部材６においても、長穴を設けてもよい。また、Ｘ線透過抑制部材１６を配置する位置に合わせて本体８に穴を設ける場合、Ｘ線透過抑制部材１６は、長穴１６ｅを設けていなくてもよい。

また、上記第１実施形態では、Ｘ線透過抑制部材６が第２フランジ部６ｂを有する構成の例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、Ｘ線透過抑制部材６は、第２フランジ部６ｂを有していなくてもよい。Ｘ線透過抑制部材６が第２フランジ部６ｂを有していない場合、Ｘ線透過抑制部材６は、Ｘ線透過抑制部材６の真空筐体４側の端部６ａ、または、Ｘ線透過抑制部材６の窓７側の端部６ｄにおいて、Ｘ方向に貫通する貫通穴を設け、ねじ３０ａによって側部４１にねじ締結すればよい。

また、上記第１および第２実施形態では、Ｘ線透過抑制部材６およびＸ線透過抑制部材１６が、ねじ３０ａおよびねじ３０ｃのみによって固定される構成の例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、Ｘ線透過抑制部材６およびＸ線透過抑制部材１６は、ねじ３０ａおよびねじ３０ｃのみでなく、接着剤などを組み合わせて固定されていてもよい。

また、上記第２実施形態では、Ｘ線透過抑制部材１６が重金属のみで構成される例を示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、Ｘ線透過抑制部材１６は、少なくとも、封止管５（封止部５ｂ）側の表面に重金属を含んでいれば、Ｘ線透過抑制部材１６は、重金属と、軽金属または樹脂などとを組み合わせて構成されていてもよい。

［態様］
上述した例示的な実施形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。

（項目１）
電子が照射されることによりＸ線を発生させるターゲット２と、
前記ターゲット２に対して電子を放出する電子放出部３と、
前記ターゲット２および前記電子放出部３を収容するとともに、内部が真空状態にされた真空筐体４と、
製造時において、前記真空筐体４の内部を真空状態にするために排気された後に封止された封止部５ｂとを有する封止管５と、
重金属を含み、前記封止管５の少なくとも前記封止部５ｂを覆うとともに、前記封止管から漏洩するＸ線の透過を抑制するＸ線透過抑制部材６と、を備えた、密閉型Ｘ線管。

（項目２）
前記封止管５は、前記真空筐体４内に接続される接続部５ａを有しており、
前記Ｘ線透過抑制部材６は、前記真空筐体４のうちの、前記接続部５ａから漏洩するＸ線の出射方向に設けられている、項目１に記載の密閉型Ｘ線管。

（項目３）
前記Ｘ線透過抑制部材６は、少なくとも、前記ターゲット２と前記接続部５ａとを結ぶ直線の前記接続部５ａ側の延長線上において、前記重金属を含む、項目１または２に記載の密閉型Ｘ線管。

（項目４）
前記Ｘ線透過抑制部材６は、前記封止管５の前記封止部５ｂが配置される凹部６ｃを有しており、
前記重金属は、少なくとも、前記凹部６ｃの内面部分に設けられている、項目１～３のいずれか１項に記載の密閉型Ｘ線管。

（項目５）
前記Ｘ線透過抑制部材６は、前記真空筐体４に固定されている、項目１～４のいずれか１項に記載の密閉型Ｘ線管。

（項目６）
前記真空筐体４は、Ｘ線が透過する窓７を有しており、
前記Ｘ線透過抑制部材６の前記窓７側の端部６ｄは、前記窓７よりも、Ｘ線の照射方向の反対側に位置するように設けられている、項目１～５のいずれか１項に記載の密閉型Ｘ線管。

（項目７）
前記重金属は、少なくとも、金、銀、黄銅、タングステン、鉛のうちのいずれかを含む、項目１～６のいずれか１項に記載の密閉型Ｘ線管。

（項目８）
前記Ｘ線透過抑制部材６は、少なくとも、軽金属または樹脂によって構成される封止部保護部６０と、前記重金属によって構成されるＸ線透過抑制部６１とを含む、項目１～７のいずれか１項に記載の密閉型Ｘ線管。

（項目９）
電子が照射されることによりＸ線を発生させるターゲット２と、前記ターゲット２に対して電子を放出する電子放出部３と、製造時において、内部を真空状態にするために排気された後に封止された封止部５ｂを有する封止管５と、を有する密閉型Ｘ線管１０と、
前記密閉型Ｘ線管１０に電流を供給する電源装置２０と、
外表面から前記密閉型Ｘ線管１０が突出するように配置されているとともに、前記電源装置２０が内部に配置された本体８と、
重金属を含み、前記封止管５の封止部５ｂの延長線上の位置に配置されたＸ線透過抑制部材１６と、を備える、Ｘ線発生装置。

（項目１０）
前記Ｘ線透過抑制部材１６は、少なくとも、前記ターゲット２と前記封止管５の前記封止部５ｂとを結ぶ直線の前記封止管５の前記封止部５ｂ側の延長線上において、前記重金属を含む、項目９に記載のＸ線発生装置。

（項目１１）
前記Ｘ線透過抑制部材１６は、前記本体８に設けられている、項目９または１０に記載のＸ線発生装置。

（項目１２）
前記封止管５の前記封止部５ｂを少なくとも保護する保護部材９をさらに備え、
前記Ｘ線透過抑制部材１６は、前記封止管５から漏洩するＸ線の照射方向において、前記保護部材９の外側に配置されている、項目９～１１のいずれか１項に記載のＸ線発生装置。

（項目１３）
前記封止管５は、前記本体８の外側において、前記密閉型Ｘ線管１０から突出して設けられており、前記Ｘ線透過抑制部材１６は、前記本体８の前記密閉型Ｘ線管１０が設けられている面８ａにおいて、前記保護部材９と対向する位置に設けられている、項目１２に記載のＸ線発生装置。

（項目１４）
前記密閉型Ｘ線管１０は、Ｘ線が透過する窓７を有しており、
前記Ｘ線透過抑制部材１６の前記窓７側の端部６ｄは、前記窓７よりも、Ｘ線の照射方向の反対側に位置するように設けられている、項目９～１３のいずれか１項に記載のＸ線発生装置。

（項目１５）
前記密閉型Ｘ線管１０は、前記窓７が設けられる面４３と、前記窓７に対して直交する方向の側部４１とを有しているとともに、前記封止管５は、前記側部４１に設けられており、
前記Ｘ線透過抑制部材１６の前記Ｘ線の照射方向側の端部１６ａには、Ｘ線の照射方向と反対側の方向において、前記窓７から離れるにつれて、前記窓７から離間する距離が大きくなる傾斜部が設けられている、項目１４に記載のＸ線発生装置。

（項目１６）
前記Ｘ線透過抑制部材１６は、長穴１６ｅが設けられている、項目９～１５のいずれか１項に記載のＸ線発生装置。

（項目１７）
前記重金属は、少なくとも、金、銀、黄銅、タングステン、鉛のうちのいずれかを含む、項目９～１６のいずれか１項に記載のＸ線発生装置。

１、１０、１１０ 密閉型Ｘ線管
２、１２ ターゲット
３、１３ 電子放出部
４ 真空筐体
５ 封止管
５ａ 接続部
５ｂ 封止部
６、１６、２６、３６ Ｘ線透過抑制部材
６ｄ、１６ａ Ｘ線透過抑制部材の窓側の端部
７ 窓
８ 本体
８ａ 外表面、密閉型Ｘ線管が設けられている
９ 保護部材
１６ｅ、２６ｃ、３６ｃ 長穴
２０ 電源装置
４１ 側部
４３ 窓が設けられる面
６０ 封止部保護部
６１ Ｘ線透過抑制部
１００ Ｘ線発生装置

Claims (15)

1. 電子が照射されることによりＸ線を発生させるターゲットと、
   前記ターゲットに対して電子を放出する電子放出部と、
   前記ターゲットおよび前記電子放出部を収容するとともに、内部が真空状態にされた真空筐体と、
   製造時において、前記真空筐体の内部を真空状態にするために排気された後に封止された封止部とを有する封止管と、
   重金属を含み、前記封止管の少なくとも前記封止部を覆うとともに、前記封止管から漏洩するＸ線の透過を抑制するＸ線透過抑制部材とを備え、
   前記真空筐体は、前記真空筐体の外表面から突出するように設けられた前記真空筐体を固定するためのフランジ部を有し、
   前記Ｘ線透過抑制部材は、前記真空筐体の前記フランジ部に締結されている、密閉型Ｘ線管。
2. 前記封止管は、前記真空筐体内に接続される接続部を有しており、
   前記Ｘ線透過抑制部材は、前記真空筐体のうちの、前記接続部から漏洩するＸ線の出射方向に設けられている、請求項１に記載の密閉型Ｘ線管。
3. 前記Ｘ線透過抑制部材は、少なくとも、前記ターゲットと前記接続部とを結ぶ直線の前記接続部側の延長線上において、前記重金属を含む、請求項２に記載の密閉型Ｘ線管。
4. 前記Ｘ線透過抑制部材は、前記封止管の前記封止部が配置される凹部を有しており、
   前記重金属は、少なくとも、前記凹部の内面部分に設けられている、請求項１～３のいずれか１項に記載の密閉型Ｘ線管。
5. 前記真空筐体は、Ｘ線が透過する窓を有しており、
   前記Ｘ線透過抑制部材の前記窓側の端部は、前記窓よりも、Ｘ線の照射方向の反対側に位置するように設けられている、請求項１～４のいずれか１項に記載の密閉型Ｘ線管。
6. 前記重金属は、少なくとも、金、銀、黄銅、タングステン、鉛のうちのいずれかを含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の密閉型Ｘ線管。
7. 電子が照射されることによりＸ線を発生させるターゲットと、
   前記ターゲットに対して電子を放出する電子放出部と、
   前記ターゲットおよび前記電子放出部を収容するとともに、内部が真空状態にされた真空筐体と、
   製造時において、前記真空筐体の内部を真空状態にするために排気された後に封止された封止部とを有する封止管と、
   重金属を含み、前記封止管の少なくとも前記封止部を覆うとともに、前記封止管から漏洩するＸ線の透過を抑制するＸ線透過抑制部材とを備え、
   前記Ｘ線透過抑制部材は、凹形状を有する軽金属によって構成される封止部保護部と、前記封止部保護部の前記凹形状の内面側に設けられた前記重金属によって構成されるＸ線透過抑制部とを含む、密閉型Ｘ線管。
8. 電子が照射されることによりＸ線を発生させるターゲットと、前記ターゲットに対して電子を放出する電子放出部と、製造時において、内部を真空状態にするために排気された後に封止された封止部を有する封止管と、を有する密閉型Ｘ線管と、
   前記密閉型Ｘ線管に電流を供給する電源装置と、
   外表面から前記密閉型Ｘ線管が突出するように配置されているとともに、前記電源装置が内部に配置された本体と、
   重金属を含み、前記封止管の前記封止部の延長線上の位置に配置されたＸ線透過抑制部材と、を備え、
   前記Ｘ線透過抑制部材は、前記本体の前記密閉型Ｘ線管が設けられている面において、前記密閉型Ｘ線管と並んで突出するとともに、前記封止部と対向する位置に設けられている、Ｘ線発生装置。
9. 前記Ｘ線透過抑制部材は、少なくとも、前記ターゲットと前記封止管の前記封止部とを結ぶ直線の前記封止管の前記封止部側の延長線上において、前記重金属を含む、請求項８に記載のＸ線発生装置。
10. 前記封止管の前記封止部を少なくとも保護する保護部材をさらに備え、
    前記Ｘ線透過抑制部材は、前記封止管から漏洩するＸ線の照射方向において、前記保護部材の外側に配置されている、請求項８または９に記載のＸ線発生装置。
11. 前記封止管は、前記本体の外側において、前記密閉型Ｘ線管から突出して設けられており、前記Ｘ線透過抑制部材は、前記本体の前記密閉型Ｘ線管が設けられている面において、前記保護部材と対向する位置に設けられている、請求項１０に記載のＸ線発生装置。
12. 前記密閉型Ｘ線管は、Ｘ線が透過する窓を有しており、
    前記Ｘ線透過抑制部材の前記窓側の端部は、前記窓よりも、Ｘ線の照射方向の反対側に位置するように設けられている、請求項８～１１のいずれか１項に記載のＸ線発生装置。
13. 前記密閉型Ｘ線管は、前記窓が設けられる面と、前記窓に対して直交する方向の側部とを有しているとともに、前記封止管は、前記側部に設けられており、
    前記Ｘ線透過抑制部材の前記Ｘ線の照射方向側の端部には、Ｘ線の照射方向と反対側の方向において、前記窓から離れるにつれて、前記窓から離間する距離が大きくなる傾斜部が設けられている、請求項１２に記載のＸ線発生装置。
14. 前記Ｘ線透過抑制部材は、長穴が設けられている、請求項８～１３のいずれか１項に記載のＸ線発生装置。
15. 前記重金属は、少なくとも、金、銀、黄銅、タングステン、鉛のうちのいずれかを含む、請求項８～１４のいずれか１項に記載のＸ線発生装置。

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